JPS63177978A - 圧延用ロ−ラの粗面化装置 - Google Patents
圧延用ロ−ラの粗面化装置Info
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- JPS63177978A JPS63177978A JP840287A JP840287A JPS63177978A JP S63177978 A JPS63177978 A JP S63177978A JP 840287 A JP840287 A JP 840287A JP 840287 A JP840287 A JP 840287A JP S63177978 A JPS63177978 A JP S63177978A
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- electron beam
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- roller
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Links
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 title claims description 21
- 238000007788 roughening Methods 0.000 title claims description 12
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims abstract description 21
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 8
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 4
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 3
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B21—MECHANICAL METAL-WORKING WITHOUT ESSENTIALLY REMOVING MATERIAL; PUNCHING METAL
- B21B—ROLLING OF METAL
- B21B27/00—Rolls, roll alloys or roll fabrication; Lubricating, cooling or heating rolls while in use
- B21B27/005—Rolls with a roughened or textured surface; Methods for making same
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Reduction Rolling/Reduction Stand/Operation Of Reduction Machine (AREA)
- Welding Or Cutting Using Electron Beams (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は例えば鋼板圧延用ローラにエネルギビームを
照射し表面にきめ細かい凹凸を加工する圧延用ローラの
粗面化装置に関するものである。
照射し表面にきめ細かい凹凸を加工する圧延用ローラの
粗面化装置に関するものである。
第8図は例えば特開昭55−94790 号公報に示
された従来の圧延用ローラ(以下ダルローラと略記する
)の粗面化装置の概略を示す斜視図であり、図において
(6)は被加工物であるダルローラ、(7)はレーザ発
振器、(8)はレーザ光、(9)は周囲にレーザ光(8
)を通過させる孔が欠切された反射表面を有する円板、
α0はレーザ光(9)を反射するためのミラー、(ロ)
は加工ヘッド@は、前記ダルローラ(6)、円板(9)
および加工ヘッドαυを同期駆動させるためのモータ、
(至)は支持体である。
された従来の圧延用ローラ(以下ダルローラと略記する
)の粗面化装置の概略を示す斜視図であり、図において
(6)は被加工物であるダルローラ、(7)はレーザ発
振器、(8)はレーザ光、(9)は周囲にレーザ光(8
)を通過させる孔が欠切された反射表面を有する円板、
α0はレーザ光(9)を反射するためのミラー、(ロ)
は加工ヘッド@は、前記ダルローラ(6)、円板(9)
および加工ヘッドαυを同期駆動させるためのモータ、
(至)は支持体である。
次に動作について説明する。連続出力のレーザ発振器(
7)から放射されたレーザ光(8)は高速で回転する円
板(9)の孔を通過したのちミラーαQを経由して加工
ヘッドαつにより細く絞られ、ダルローラ(6)にパル
ス状に照射される。ここで、上記ダルローラ(6)、円
板(9)および加工ヘッド(6)はモータ@により同期
駆動されており、それぞれ所定速度で矢印方向に回転あ
るいは移動するので、ダルローラ(6)表面に凹凸を所
望の分布状態に形成できる。第4図は上記動作の結果加
工されたダルローラ(6)の表面を触針式表面粗度計に
より計測した結果を示す特性図で、ダルローラ(6)表
面は中央部のくぼみが深く、またくぼみ周囲の凸部が鋭
く尖った形状となっていた。
7)から放射されたレーザ光(8)は高速で回転する円
板(9)の孔を通過したのちミラーαQを経由して加工
ヘッドαつにより細く絞られ、ダルローラ(6)にパル
ス状に照射される。ここで、上記ダルローラ(6)、円
板(9)および加工ヘッド(6)はモータ@により同期
駆動されており、それぞれ所定速度で矢印方向に回転あ
るいは移動するので、ダルローラ(6)表面に凹凸を所
望の分布状態に形成できる。第4図は上記動作の結果加
工されたダルローラ(6)の表面を触針式表面粗度計に
より計測した結果を示す特性図で、ダルローラ(6)表
面は中央部のくぼみが深く、またくぼみ周囲の凸部が鋭
く尖った形状となっていた。
ダルローラの加工には実用上40KH,程度の高速発振
が必要とされている。一方、加工用レーザ(例えばCO
□レーザ)では高い周波数の発振ができなかった。その
ため従来例のダルローラの粗面化装置に示すようにメカ
ニカルチョッパ方式で数チヘルツの周波数を得ていた。
が必要とされている。一方、加工用レーザ(例えばCO
□レーザ)では高い周波数の発振ができなかった。その
ため従来例のダルローラの粗面化装置に示すようにメカ
ニカルチョッパ方式で数チヘルツの周波数を得ていた。
ところが、この装置では、被加工物(ダルローラ)に照
射されるレーザ光の照射時間やパルス波形を任意に設定
できないうえ、熱源としてレーザ光を用いており、被加
工物の吸収率が低い場合は余剰エネルギを必要としてい
た。
射されるレーザ光の照射時間やパルス波形を任意に設定
できないうえ、熱源としてレーザ光を用いており、被加
工物の吸収率が低い場合は余剰エネルギを必要としてい
た。
結果として、被加工物表面は第4図に示されるように中
央部の凹みが深く、また凹み周囲の凸部が鋭く尖った形
状となっていた。浅い加工ができなかった。このため、
鋼板の圧延に際して凸部の消耗が著しく、耐久性に欠け
るなどの問題点があった。
央部の凹みが深く、また凹み周囲の凸部が鋭く尖った形
状となっていた。浅い加工ができなかった。このため、
鋼板の圧延に際して凸部の消耗が著しく、耐久性に欠け
るなどの問題点があった。
こ発明は上記のような問題点を解消するためになされた
もので、熱源を最適にコントロールすることにより耐久
性に富む表面加工ができる圧延用ローラの粗面化装置を
得ることを目的とする。
もので、熱源を最適にコントロールすることにより耐久
性に富む表面加工ができる圧延用ローラの粗面化装置を
得ることを目的とする。
この発明の圧延用ローラの粗面化装置は圧延用ローラの
表面を粗面化する電子ビームのパルス出力波形パターン
を発生するパターン発生部、このパターン発生部に入力
された波形に対応して電圧を出力する電源制御部、及び
この電源制御部により出力される電圧に対応してパルス
状の電子ビームを発生する電子ビーム発生部を備えたも
のである。
表面を粗面化する電子ビームのパルス出力波形パターン
を発生するパターン発生部、このパターン発生部に入力
された波形に対応して電圧を出力する電源制御部、及び
この電源制御部により出力される電圧に対応してパルス
状の電子ビームを発生する電子ビーム発生部を備えたも
のである。
この発明におけるパターン発生部は電子ビームの照射時
間やパルス波形を任意に設定でき、また一方電子ビーム
はレーザ光より被加工物への吸収率が高く、高周波パル
スを容易に取り出せ、任意のパターンに自由に制御され
る。従ってこの発明の装置は施工条件裕度が高く、耐久
性に富む圧延用ローラ表面を形成できる。
間やパルス波形を任意に設定でき、また一方電子ビーム
はレーザ光より被加工物への吸収率が高く、高周波パル
スを容易に取り出せ、任意のパターンに自由に制御され
る。従ってこの発明の装置は施工条件裕度が高く、耐久
性に富む圧延用ローラ表面を形成できる。
以下、この発明の一実施例を図について説明する。第1
図のブロック西において、(11は任意の波形を発生可
能なパターン発生部、(2)はパターン発生部(1)か
らの信号を受けて加速電源を含む高圧電源を制御し波形
に対応した電圧を出力する電源制御部、(3)は」隙制
御部(2)により出力される電圧に対応してパルス状の
電子ビーム(4)を発生する電子ビーム発生部、(5)
は電子ビーム(4)をダルローラ(6)の表面近傍に焦
点を結ばせるための集束レンズである。
図のブロック西において、(11は任意の波形を発生可
能なパターン発生部、(2)はパターン発生部(1)か
らの信号を受けて加速電源を含む高圧電源を制御し波形
に対応した電圧を出力する電源制御部、(3)は」隙制
御部(2)により出力される電圧に対応してパルス状の
電子ビーム(4)を発生する電子ビーム発生部、(5)
は電子ビーム(4)をダルローラ(6)の表面近傍に焦
点を結ばせるための集束レンズである。
次に動作について説明する。電子ビーム(4)がパター
ン発生部(1)より入力された波形に対応して出力する
ように、電源制御部(8)及びビーム発生部(8)がコ
ントロールされ、集束レンズ(5)によってダルローラ
(6)の表面近傍に焦点を結ぶ。またダルローラ(6)
は図中矢印で示す方向に所定の速度で回転及び移動して
ゆく。この時のビーム出力波形の一例を第2図falの
ビーム出力波形図に示す。図中縦軸は出力を、横軸は時
間を表わす。このように、ビーム出カバターンを晰減波
形とし、ビーム照射時間(パルス巾)を1m5ec以下
、この場合は10μ860に設定することで、ダルロー
ラ(6)表面は例えば第2図fb) (o)に示される
断面形状に加工される。第2図(bl (atは触針式
表面粗度計で計測した結果を示す特性図である。なお加
速電圧は実用上5QKV〜100KVの範囲が望ましく
、パルス巾1m5ec以下が望ましい。この場合は出力
80KV、パルス巾10μseaで行ったところ第2図
fb) (clに示されるような高低差が7〜8μmの
丸みを帯びた凸形状もしくは高低差5μ程の中央に凸部
を有する断面形状のダルローラ表面が得られ、鋼板の圧
延に際して極めて長寿命である。また電子ビームは被加
工物への吸収率が高いこと、さらに出カバターンなどの
制御が容易であることから比較的弱いエネルギであって
もきめ細かい凹凸を安定に形成できる。
ン発生部(1)より入力された波形に対応して出力する
ように、電源制御部(8)及びビーム発生部(8)がコ
ントロールされ、集束レンズ(5)によってダルローラ
(6)の表面近傍に焦点を結ぶ。またダルローラ(6)
は図中矢印で示す方向に所定の速度で回転及び移動して
ゆく。この時のビーム出力波形の一例を第2図falの
ビーム出力波形図に示す。図中縦軸は出力を、横軸は時
間を表わす。このように、ビーム出カバターンを晰減波
形とし、ビーム照射時間(パルス巾)を1m5ec以下
、この場合は10μ860に設定することで、ダルロー
ラ(6)表面は例えば第2図fb) (o)に示される
断面形状に加工される。第2図(bl (atは触針式
表面粗度計で計測した結果を示す特性図である。なお加
速電圧は実用上5QKV〜100KVの範囲が望ましく
、パルス巾1m5ec以下が望ましい。この場合は出力
80KV、パルス巾10μseaで行ったところ第2図
fb) (clに示されるような高低差が7〜8μmの
丸みを帯びた凸形状もしくは高低差5μ程の中央に凸部
を有する断面形状のダルローラ表面が得られ、鋼板の圧
延に際して極めて長寿命である。また電子ビームは被加
工物への吸収率が高いこと、さらに出カバターンなどの
制御が容易であることから比較的弱いエネルギであって
もきめ細かい凹凸を安定に形成できる。
以上のように、この発明によれば、圧延ローラの表面を
粗面化する電子ビームのパルス出力波形パターンを発生
するパターン発生部、このパターン発生部に入力された
波形に対応して電圧を出力する電源制御部、及びこの電
源制御部により出力される電圧に対応してパルス状の電
子ビームを発生する電子ビーム発生部を備れたものにす
ることにより、耐久性に富む表面加工ができる圧延用ロ
ーラの粗面化装置が得られる効果がある。
粗面化する電子ビームのパルス出力波形パターンを発生
するパターン発生部、このパターン発生部に入力された
波形に対応して電圧を出力する電源制御部、及びこの電
源制御部により出力される電圧に対応してパルス状の電
子ビームを発生する電子ビーム発生部を備れたものにす
ることにより、耐久性に富む表面加工ができる圧延用ロ
ーラの粗面化装置が得られる効果がある。
第1図はこの発明の一実施例の圧延用ローラの粗面化装
置を示すブロック図、第2図(alはこの発明の一実施
例に係わるビーム出力波形区、同fbl telはこの
発明により得られた圧延用ローラ表面を触針式表面粗度
計で測定した結果を示す特性図、第8図は従来の圧延用
ローラの粗面化装置を示す特性図、第4図は従来例によ
り得られた圧延用ローラ表面の測定結果を示す特性図で
ある。 図において、(1)はパターン発生部、(2)は電源制
御部、(3)は電子ビーム発生部、(6)は圧延用ロー
ラである。 なお、図中、同一符号は同−又は相当部分を示す。 第1図 4:電子ヒパ−ム Z°圧圧用用ロー ラ2図 (Q) (b) /QO)を訛 (C) 、fy−−tJ /QOPrrt
置を示すブロック図、第2図(alはこの発明の一実施
例に係わるビーム出力波形区、同fbl telはこの
発明により得られた圧延用ローラ表面を触針式表面粗度
計で測定した結果を示す特性図、第8図は従来の圧延用
ローラの粗面化装置を示す特性図、第4図は従来例によ
り得られた圧延用ローラ表面の測定結果を示す特性図で
ある。 図において、(1)はパターン発生部、(2)は電源制
御部、(3)は電子ビーム発生部、(6)は圧延用ロー
ラである。 なお、図中、同一符号は同−又は相当部分を示す。 第1図 4:電子ヒパ−ム Z°圧圧用用ロー ラ2図 (Q) (b) /QO)を訛 (C) 、fy−−tJ /QOPrrt
Claims (1)
- 圧延用ローラの表面を粗面化する電子ビームのパルス出
力波形パターンを発生するパターン発生部、このパター
ン発生部に入力された波形に対応して電圧を出力する電
源制御部、及びこの電源制御部により出力される電圧に
対応してパルス状の電子ビームを発生する電子ビーム発
生部を備えた圧延用ローラの粗面化装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP840287A JPS63177978A (ja) | 1987-01-16 | 1987-01-16 | 圧延用ロ−ラの粗面化装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP840287A JPS63177978A (ja) | 1987-01-16 | 1987-01-16 | 圧延用ロ−ラの粗面化装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63177978A true JPS63177978A (ja) | 1988-07-22 |
Family
ID=11692180
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP840287A Pending JPS63177978A (ja) | 1987-01-16 | 1987-01-16 | 圧延用ロ−ラの粗面化装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63177978A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1992005911A1 (de) * | 1990-10-05 | 1992-04-16 | Linotype-Hell Ag | Verfahren und vorrichtung zur herstellung von texturwalzen |
WO1992005910A1 (de) * | 1990-10-05 | 1992-04-16 | Linotype-Hell Ag | Verfahren und vorrichtung zur herstellung einer texturwalze |
WO1992005909A1 (de) * | 1990-10-05 | 1992-04-16 | Linotype-Hell Ag | Verfahren und vorrichtung zur herstellung einer texturwalze |
KR100982529B1 (ko) | 2008-08-26 | 2010-09-16 | 한국생산기술연구원 | 전자빔을 이용한 대면적 패턴형성장치 및 그 제어방법 |
WO2011074775A3 (en) * | 2009-12-15 | 2011-10-20 | Korea Electro Technology Research Institute | Cylindrical magnetic levitation stage and lithography |
-
1987
- 1987-01-16 JP JP840287A patent/JPS63177978A/ja active Pending
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1992005911A1 (de) * | 1990-10-05 | 1992-04-16 | Linotype-Hell Ag | Verfahren und vorrichtung zur herstellung von texturwalzen |
WO1992005910A1 (de) * | 1990-10-05 | 1992-04-16 | Linotype-Hell Ag | Verfahren und vorrichtung zur herstellung einer texturwalze |
WO1992005909A1 (de) * | 1990-10-05 | 1992-04-16 | Linotype-Hell Ag | Verfahren und vorrichtung zur herstellung einer texturwalze |
US5438179A (en) * | 1990-10-05 | 1995-08-01 | Linotype-Hell Ag | Method and apparatus for manufacturing texture drums |
KR100982529B1 (ko) | 2008-08-26 | 2010-09-16 | 한국생산기술연구원 | 전자빔을 이용한 대면적 패턴형성장치 및 그 제어방법 |
WO2011074775A3 (en) * | 2009-12-15 | 2011-10-20 | Korea Electro Technology Research Institute | Cylindrical magnetic levitation stage and lithography |
KR101117199B1 (ko) | 2009-12-15 | 2012-03-07 | 한국전기연구원 | 원통형 자기부상 스테이지 및 노광장치 |
US8964167B2 (en) | 2009-12-15 | 2015-02-24 | Korea Electrotechnology Research Institute | Cylindrical magnetic levitation stage and lithography |
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