JP2015213399A - リニアモータ、ステージ装置、リソグラフィ装置、及び物品の製造方法 - Google Patents

リニアモータ、ステージ装置、リソグラフィ装置、及び物品の製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2015213399A
JP2015213399A JP2014095511A JP2014095511A JP2015213399A JP 2015213399 A JP2015213399 A JP 2015213399A JP 2014095511 A JP2014095511 A JP 2014095511A JP 2014095511 A JP2014095511 A JP 2014095511A JP 2015213399 A JP2015213399 A JP 2015213399A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
coil
pair
linear motor
attachment
magnet
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2014095511A
Other languages
English (en)
Inventor
浩 城井
Hiroshi Shiroi
浩 城井
是永 伸茂
Nobushige Korenaga
伸茂 是永
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Canon Inc filed Critical Canon Inc
Priority to JP2014095511A priority Critical patent/JP2015213399A/ja
Publication of JP2015213399A publication Critical patent/JP2015213399A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Electron Beam Exposure (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Linear Motors (AREA)

Abstract

【課題】組み立て及び保守のうち少なくとも一方に有利なリニアモータを提供する。【解決手段】長手方向としての第1方向に沿う2つの直線状部分を含むコイルと、前記2つの直線状部分を介して対向し、且つ、前記第1方向に沿って設けられた一対の冷却管と、前記コイル及び前記一対の冷却管が挿入される中空部が形成された磁石と、前記一対の冷却管に取り付けられ、前記一対の冷却管のための冷却剤の流路が形成されたアタッチメントと、を有し、前記一対の冷却管は、それぞれ、前記第1方向において、前記コイルから突出した突出部を含み、前記アタッチメントを取り付けた状態で前記コイル及び前記一対の冷却管が前記中空部に挿入可能であるように、前記アタッチメントが前記突出部に取り付けられていることを特徴とするリニアモータを提供する。【選択図】図4

Description

本発明は、リニアモータ、ステージ装置、リソグラフィ装置、及び物品の製造方法に関する。
描画装置、露光装置、インプリント装置などのリソグラフィ装置では、基板を保持して移動可能なステージとして、例えば、メカガイドがなく、全軸を磁気アクチュエータで駆動される磁気浮上ステージなどの精密ステージが用いられうる。このような精密ステージには、より高精度な制御を実現するため、ローレンツ力を利用した磁気アクチュエータが用いられうる(特許文献1参照)。
特許文献1には、リニアモータを含むステージ装置が開示されている。但し、このようなステージ装置は、リニアモータの発熱が問題となる。そこで、特許文献1に開示されたステージ装置は、リニアモータを冷却するための冷却機構を備えている。具体的には、板状のコイルユニットの端部にアタッチメントを取り付け、かかるアタッチメントに、コイルユニットの支持部材に形成された流路に冷媒を供給する供給管が接続されている(即ち、アタッチメントから供給管を引き出している)。
特許第2510874号公報
しかしながら、特許文献1に開示されたステージ装置では、可動子である磁石ユニットよりもアタッチメントが出っ張っているため、アタッチメントを取り付けた状態でコイルユニットを磁石ユニットに挿入することができない。従って、コイルユニットを磁石ユニットに挿入した後に、コイルユニットにアタッチメントを取り付けなければならず、組み立て作業やメンテナンス(保守)作業が煩雑になってしまう。
本発明は、組み立て及び保守のうち少なくとも一方に有利なリニアモータを提供することを例示的目的とする。
上記目的を達成するために、本発明の一側面としてのリニアモータは、長手方向としての第1方向に沿う2つの直線状部分を含むコイルと、前記2つの直線状部分を介して対向し、且つ、前記第1方向に沿って設けられた一対の冷却管と、前記コイル及び前記一対の冷却管が挿入される中空部が形成された磁石と、前記一対の冷却管に取り付けられ、前記一対の冷却管のための冷却剤の流路が形成されたアタッチメントと、を有し、前記一対の冷却管は、それぞれ、前記第1方向において、前記コイルから突出した突出部を含み、前記アタッチメントを取り付けた状態で前記コイル及び前記一対の冷却管が前記中空部に挿入可能であるように、前記アタッチメントが前記突出部に取り付けられていることを特徴とする。
本発明の更なる目的又はその他の側面は、以下、添付図面を参照して説明される好ましい実施形態によって明らかにされるであろう。
本発明によれば、例えば、組み立て及び保守のうち少なくとも一方に有利なリニアモータを提供することができる。
本発明の一側面としての描画装置の構成を示す概略図である。 図1に示す描画装置における磁気ステージの構成を示す図である。 図1に示す描画装置における磁気ステージの構成を示す図である。 図1に示す描画装置におけるZ駆動コイル及びZ駆動磁石の構成を示す斜視図である。
以下、添付図面を参照して、本発明の好適な実施の形態について説明する。なお、各図において、同一の部材については同一の参照番号を付し、重複する説明は省略する。
図1は、本発明の一側面としての描画装置1の構成を示す概略図である。図1(a)は、描画装置1の上面図であり、図1(b)は、描画装置1の正面図であり、図1(c)は、描画装置1における描画時のステージの移動軌跡を示す図である。描画装置1は、パターンを基板に形成するリソグラフィ装置であって、荷電粒子線で基板に描画を行う。なお、荷電粒子線は、電子線に限定されるものではなく、例えば、イオンビームなどであってもよい。描画装置1は、荷電粒子光学系10と、真空チャンバ20と、ベース30と、X移動体402及びY移動体404を含むステージ装置40とを有する。
荷電粒子光学系10は、真空チャンバ20に支持され、パターンを形成するための荷電粒子線を基板に照射する。真空チャンバ20の内部、具体的には、真空チャンバ20の底面にはベース30が設けられている。また、ベース30の上には、ベース30に対してX軸方向に移動するX移動体(Xステージ)402が設けられ、X移動体402の上には、ベース30に対してY軸方向に移動するY移動体(Yステージ)404が設けられている。
Y移動体404は、物体としての基板を保持する。また、Y移動体404の上には、Xバーミラー406及びYバーミラー408が設けられており、干渉計(不図示)によってY移動体404の6軸方向の位置を計測することが可能になっている。Y移動体404は、後述するように、磁気浮上し、6軸方向に位置制御される。描画時には、図1(c)に示すように、基板上の数μmから数十μmの幅を描画しながらY移動体404をY方向に高速で移動させ(スキャンし)、Y方向への移動が終了したらY移動体404を数μmから数十μmだけX方向に移動させることを繰り返す。このような移動を実現するために、Y移動体404は、磁気浮上して磁気ガイドされている。
図2(a)乃至図2(c)、及び、図3を参照して、Y移動体404を含む磁気ステージの構成について説明する。図2(a)は、Y移動体404を含む磁気ステージの全体の上面図であり、図2(b)は、Y移動体404を含む磁気ステージの全体の正面図であり、図2(c)は、図2(a)に示す磁気ステージのA−A矢視図である。図3は、Y移動体404を含む磁気ステージの全体の拡大正面図である。
X移動体402の上には、固定部材によって、第1Y駆動コイル420a、第2Y駆動コイル420b、第1Z駆動コイル430a、第2Z駆動コイル430b、第3Z駆動コイル430c、第4Z駆動コイル430d及びX駆動コイル440が固定されている。また、これらの各々を囲むように、第1Y駆動磁石450a、第2Y駆動磁石450b、第1Z駆動磁石460a、第2Z駆動磁石460b、第3Z駆動磁石460c、第4Z駆動磁石460d、X駆動磁石470が設けられている。
第1Y駆動コイル420a及び第2Y駆動コイル420bのそれぞれは、複数の多相のコイルで構成されている。第1Y駆動磁石450aは、図3に示すように、中間部材452を介して、第1Y駆動コイル420aを上下から一対のヨーク454及び磁石456で挟み込む構造を有する。また、第2Y駆動磁石450bは、第1Y駆動磁石450aと同様に、第2Y駆動コイル420bを挟み込む構造を有する。磁石456は、図3の紙面に垂直な方向、図2(a)のY軸方向に多極の磁石を配列することで構成されており、位置に応じて駆動コイルの電流位相制御を行うことでY軸方向の長ストローク移動を可能にしている。
第1Z駆動コイル430a乃至第4Z駆動コイル430d及びX駆動コイル440は、単相の長円形コイルで構成されている。これらの駆動コイルに対応する磁石は各長円形コイルの2つの直線部分に逆の磁場を与えるように構成され、かかる駆動コイルに電流を流すことで長円形コイルの扁平面内において直線部分に直交する方向の力が発生する。
X駆動磁石470は、図3に示すように、中間部材472を介して、X駆動コイル440を上下から一対のヨーク474及び磁石476で挟み込む構造を有する。磁石476は、水平方向に磁化方向が逆となる磁石を配列すること、即ち、二極で構成されており、各極がX駆動コイル440(長円形コイル)の直線部分に逆方向の磁場を与える。
第1Z駆動磁石460aは、図3に示すように、中間部材462を介して、第1Z駆動コイル430aを左右から一対のヨーク464、第1磁石466及び第2磁石468で挟み込む構造を有する。第1磁石466と第2磁石468とは、逆方向に着磁されており、第1Z駆動コイル430a(長円形コイル)の直線部分に逆方向の磁場を与える。また、第2Z駆動磁石460b、第3Z駆動磁石460c及び第4Z駆動磁石460dのそれぞれは、第1Z駆動磁石460aと同様に、第2Z駆動コイル430b、第3Z駆動コイル430c及び第4Z駆動コイル430dを挟み込む構造を有する。
Y移動体404のY軸方向の位置制御及びZ軸周りの位置制御は、第1Y駆動磁石450a、第1Y駆動コイル420a、第2Y駆動磁石450b及び第2Y駆動コイル420bを用いて行う。また、Y移動体404のX軸周り及びY軸周りの位置制御は、第1Z駆動磁石460a乃至第4Z駆動磁石460d、及び、第1Z駆動コイル430a乃至第4Z駆動コイル430dを用いて行う。
Y移動体404の磁気浮上は、固定浮上ユニット480と可動浮上ユニット490との間に働く永久磁石の吸引力によって行う。固定浮上ユニット480は、磁性体で構成され、可動浮上ユニット490は、磁性体492と、磁性体492の上に設けられ、互いに鉛直逆方向に着磁された第1永久磁石494及び第2永久磁石496とで構成されている。従って、固定浮上ユニット480と第1永久磁石494及び第2永久磁石496とが空隙を介して対面することで吸引力が発生する。
このような構成において、Z駆動コイル(第1Z駆動コイル430a乃至第4Y駆動コイル430d)は、主に、Z軸方向の位置及びチルトの制御に用いられる。このため、Z駆動コイルには、微弱な電流しか流れないため、巻き数の少ない薄型のコイル、本実施形態では、単相の長円形コイルが用いられる。従って、Z駆動コイルに溶接又は接着され、かかるZ駆動コイルを冷却する冷却管の断面積も小さくなる。
図4は、本実施形態におけるZ駆動コイル430及びZ駆動磁石460の構成を示す斜視図である。本実施形態では、Z駆動コイル430及びZ駆動磁石460は、後述する冷却管500及びアタッチメント540と協同してリニアモータを構成している。
Z駆動コイル430は、Y軸方向(第1方向)を長手方向とし、Z軸方向(第2方向)を短手方向とする板状のコイルユニットであって、図3に示すように、Y軸方向に沿う2つの直線状部分を含む。Z駆動コイル430は、上述したように、単相の長円形コイルで構成されている。
Z駆動コイル430には、Y軸方向に延在する冷却管500が溶接又は接着を介して固定されている。冷却管500は、冷却剤が流れる流路510を含み、Z駆動コイル430の2つの直線状部分を介して対向し、且つ、Y軸方向に沿って設けられた一対の冷却管、即ち、第1冷却管500a及び第2冷却管500bで構成されている。冷却剤は、Z駆動コイル430を冷却するための液体又は気体(クーラント)である。第1冷却管500a及び第2冷却管500bは、それぞれ、Y軸方向において、Z駆動コイル430から突出した突出部520を含む。また流路510の端部には、流路510を閉じる栓530が取り付けられている。
Z駆動磁石460は、上述したように、中間部材462を介して、Z駆動コイル430を左右から一対のヨーク464、第1磁石466及び第2磁石468で挟み込む構造を有する。このように、Z駆動磁石460は、Z駆動コイル430及び冷却管500が挿入される中空部469が形成された(即ち、筒状の)磁石ユニットを構成する。また、上述したように、第1磁石466と第2磁石468とは、逆方向に着磁されており、Z駆動コイル430(長円形コイル)の直線部分に逆方向の磁場を与える。
ここで、上述したように、冷却管500の断面積は小さく、冷却剤を供給する供給装置の供給管を流路510に直接接続することができない。そこで、本実施形態では、冷却剤を冷却管500の流路510に導入するためのアタッチメント540を冷却管500に取り付けている。具体的には、アタッチメント540を取り付けた状態でZ駆動コイル430及び冷却管500がZ駆動磁石460の中空部469に挿入可能であるように、アタッチメント540が冷却管500の突出部520に取り付けられている。換言すれば、アタッチメント540を、冷却管500の端面とZ駆動コイル430の端面に接し、Z駆動コイル430の厚さを超えない空間(冷却管500の2つの突出部520の間)に配置している。また、アタッチメント540のY軸方向の長さは、冷却管500のY軸方向の長さより短く、Y軸方向において、冷却管500から突出しないように構成されている。なお、アタッチメント540と冷却管500の突出部520とは、取り付けの際に、溶接又は接着される。
アタッチメント540は、冷却管500と同程度の厚さである(即ち、断面積が小さい)ため、Y軸方向において、その端面に冷却剤を供給する供給装置の供給管を直接接続することができない。そこで、アタッチメント540は、Y軸方向及びZ軸方向に平行な面(即ち、Z駆動コイル430の2つの直線状部分を含む面)542を有し、かかる面542に、冷却剤を供給する供給装置の供給管が接続される接続口544を有する。アタッチメント540には、接続口544を介して冷却管500の流路510に連通する連通路(不図示)が形成されており、供給装置からの冷却剤を流路510に導入することができる。
このように、冷却管500の断面積が小さい場合でも、アタッチメント540を取り付けることで、Z駆動コイル430の長手方向(Y軸方向)の寸法を拡大することが可能となる。従って、接続口544の内側の寸法(内径)を、冷却管500のそれぞれの流路510の内側の寸法(内径)より大きくするこができ、十分な連通路用の断面積を確保することができる。
本実施形態によれば、アタッチメント540を冷却管500に取り付けた状態でZ駆動コイル430をZ駆動磁石460に挿入することができるため、組み立て作業やメンテナンス(保守)作業が簡便になる。また、冷却剤を供給する供給装置の供給管は、全てを組み立てた後でアタッチメント540の接続口544に、例えば、ねじ締結などで接続すればよい。
描画装置1は、例えば、半導体デバイス等のマイクロデバイスや微細構造を有する素子等の物品を製造するのに好適である。物品の製造方法は、基板に塗布された感光剤に描画装置1を用いてパターンを形成する工程(基板に描画を行う工程)と、かかる工程でパターンを形成された基板を処理(現像)する工程とを含む。更に、かかる製造方法は、他の周知の工程(酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージング等)を含みうる。本実施形態の物品の製造方法は、従来の方法に比べて、物品の性能・品質・生産性・生産コストの少なくとも1つにおいて有利である。
以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明はこれらの実施形態に限定されないことはいうまでもなく、その要旨の範囲内で種々の変形及び変更が可能である。例えば、本実施形態では、単相の長円形コイルを用いるリニアモータへの適用例を説明したが、本発明は、複数の多相のコイルを用いるリニアモータにも適用可能である。また、本発明は、リソグラフィ装置を描画装置に限定するものではなく、露光装置やインプリント装置などのリソグラフィ装置にも適用することができる。ここで、露光装置は、光や荷電粒子等のビームを用い、レチクル又はマスク及び投影光学系を介して基板を露光するリソグラフィ装置である。また、インプリント装置は、基板上のインプリント材(樹脂など)をモールド(型)により成形してパターンを基板に形成するリソグラフィ装置である。
1:描画装置 430:Z駆動コイル 460:Z駆動磁石 469:中空部 500:冷却管 510:流路 520:突出部 540:アタッチメント

Claims (11)

  1. 長手方向としての第1方向に沿う2つの直線状部分を含むコイルと、
    前記2つの直線状部分を介して対向し、且つ、前記第1方向に沿って設けられた一対の冷却管と、
    前記コイル及び前記一対の冷却管が挿入される中空部が形成された磁石と、
    前記一対の冷却管に取り付けられ、前記一対の冷却管のための冷却剤の流路が形成されたアタッチメントと、を有し、
    前記一対の冷却管は、それぞれ、前記第1方向において、前記コイルから突出した突出部を含み、
    前記アタッチメントを取り付けた状態で前記コイル及び前記一対の冷却管が前記中空部に挿入可能であるように、前記アタッチメントが前記突出部に取り付けられていることを特徴とするリニアモータ。
  2. 前記アタッチメントは、
    前記2つの直線状部分を含む面を有し、
    前記冷却剤のための管が接続される接続口を前記面に有することを特徴とする請求項1に記載のリニアモータ。
  3. 前記アタッチメントは、2つの前記突出部の間に配置されていることを特徴とする請求項1又は2に記載のリニアモータ。
  4. 前記アタッチメントの前記第1方向の長さは、前記突出部の前記第1方向の長さより短いことを特徴とする請求項1乃至3のうちいずれか1項に記載のリニアモータ。
  5. 前記コイルは、単相の長円形コイルを含むことを特徴とする請求項1乃至4のうちいずれか1項に記載のリニアモータ。
  6. 前記接続口の内側の寸法は、前記一対の冷却管それぞれの内側の寸法より大きいことを特徴とする請求項2に記載のリニアモータ。
  7. 前記アタッチメントと前記突出部とは、溶接又は接着されていることを特徴とする請求項1乃至6のうちいずれか1項に記載のリニアモータ。
  8. 前記コイルと前記一対の冷却管とは、溶接又は接着を介して固定されていることを特徴とする請求項1乃至7のうちいずれか1項に記載のリニアモータ。
  9. 物体を保持するステージと、
    前記ステージを移動させる請求項1乃至8のうちいずれか1項に記載のリニアモータと、
    を有することを特徴とするステージ装置。
  10. パターンを物体に形成するリソグラフィ装置であって、
    前記物体を移動させる請求項9に記載のステージ装置を有することを特徴とするリソグラフィ装置。
  11. 請求項10に記載のリソグラフィ装置を用いてパターンを基板に形成する工程と、
    前記工程で前記パターンを形成された前記基板を処理する工程と、
    を含むことを特徴とする物品の製造方法。
JP2014095511A 2014-05-02 2014-05-02 リニアモータ、ステージ装置、リソグラフィ装置、及び物品の製造方法 Pending JP2015213399A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014095511A JP2015213399A (ja) 2014-05-02 2014-05-02 リニアモータ、ステージ装置、リソグラフィ装置、及び物品の製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014095511A JP2015213399A (ja) 2014-05-02 2014-05-02 リニアモータ、ステージ装置、リソグラフィ装置、及び物品の製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2015213399A true JP2015213399A (ja) 2015-11-26

Family

ID=54697364

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2014095511A Pending JP2015213399A (ja) 2014-05-02 2014-05-02 リニアモータ、ステージ装置、リソグラフィ装置、及び物品の製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2015213399A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI775326B (zh) * 2020-03-06 2022-08-21 南韓商埃爾帕特克股份有限公司 精密線性馬達平台

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI775326B (zh) * 2020-03-06 2022-08-21 南韓商埃爾帕特克股份有限公司 精密線性馬達平台

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US8212435B2 (en) High efficiency voice coil motor
US6339266B1 (en) Planar motor device, stage unit, exposure apparatus and its making method, and device and its manufacturing method
US8053937B2 (en) Linear motor, stage apparatus and exposure apparatus
US6271606B1 (en) Driving motors attached to a stage that are magnetically coupled through a chamber
JP2000106344A (ja) ステ―ジ装置、露光装置およびデバイス製造方法ならびにステ―ジ駆動方法
JP2011501396A (ja) 三次元動作移動体とその制御方法
TW201223085A (en) Variable reluctance device, stage apparatus, lithographic apparatus and device manufacturing method
JP2004364392A (ja) リニアモータ、及びこれを備えるステージ装置、露光装置並びにデバイス製造方法
JP2007258356A (ja) ステージ装置
JPWO2006035835A1 (ja) 磁界発生装置、電磁アクチュエータ、ステージ装置、露光装置、及びデバイスの製造方法
JP2015213399A (ja) リニアモータ、ステージ装置、リソグラフィ装置、及び物品の製造方法
JP2001008430A (ja) モータ装置、ステージ装置、及び露光装置
US7253576B2 (en) E/I core actuator commutation formula and control method
JP2004153151A (ja) 位置決め装置
US6593997B1 (en) Stage assembly including a reaction assembly
JP7189847B2 (ja) 磁気浮上ステージ装置、および、それを用いた荷電粒子線装置または真空装置
US6713900B2 (en) Linear motors and stages comprising same that produce reduced magnetic fields at an optical axis for charged-particle-beam lithography
US7034474B2 (en) Auto-calibration of attraction-only type actuator commutations
US20130135603A1 (en) C-core actuator for moving a stage
JP2004334790A (ja) 位置決め装置
JP2006179893A (ja) 電磁場フォーカシング装置及びそれを採用した電子ビームリソグラフィシステム
JP2008199876A (ja) ステージ装置および露光装置
JP2002272087A (ja) 電機子ユニット、モータ、ステージ装置、露光装置、および、デバイスの製造方法
JP2000014119A (ja) リニアモータ
KR102708009B1 (ko) 리니어 모터, 스테이지 장치, 리소그래피 장치 및 물품의 제조 방법