JP2008199876A - ステージ装置および露光装置 - Google Patents

Abstract

【課題】 磁石の反発力を利用してステージを加減速するステージ装置において、反発力を発生させる際に周囲に漏れる磁束による影響を抑制することを目的とする。
【解決手段】 ステージに設けられた第１磁石と、前記ステージの移動ストロークの端部に設けられ、前記端部において前記第１磁石と対向するように設けられる第２磁石とを有し、前記第１磁石と前記第２磁石との間に働く反発力を利用して前記ステージに力を付与する力付与手段と、
前記ステージを前記移動ストローク内で駆動する駆動手段とを備えたステージ装置において、
前記第２磁石の磁束を補強するための磁束補強手段と、
前記第２磁石からの磁束を遮蔽するための磁気シールドとを備える。
【選択図】 図２

Description

本発明は、対象物を位置決めするためのステージ装置に関する。また、このようなステージ装置を搭載した露光装置に関する。

走査型露光装置は、レチクルを移動させるためのステージ装置を備える。近年、露光装置のスループットを向上すべく、このステージ装置の駆動機構についていくつかの提案がされている。

図１３（ａ）は特許文献１において提案されるステージ装置を示す図である。レチクルステージ１０４はレチクル１０３を搭載して走査方向（Ｙ方向）に移動する。レチクルステージ１０４の両側にはリニアモータが設けられ、リニアモータは、ステージの両側に固定された永久磁石を含む可動子１０５と、不図示のベースに固定された複数のコイルを含む固定子１０６とを有する。

また、レチクルステージ１０４の移動方向前後には反発可動子１０７が設けられ、レチクルステージ１０４の移動ストローク両端には反発固定子１１０が設けられる。この反発可動子１０７と反発固定子１１０はそれぞれ永久磁石を備え、両者の永久磁石間に発生する反発力を利用してレチクルステージ１０４を加減速することができる。

図１３（ｂ）は反発可動子１０７と反発固定子１１０を示す図である。反発固定子１１０は、Ｎ極とＳ極が対向するように配置された一対の永久磁石１１２と、一対の永久磁石１１２間の磁束を側方経由で循環させるためのヨーク１１１，１１３を備える。反発可動子１０７は永久磁石１０９を備え、反発可動子が点線の位置にあるときには永久磁石１１２と永久磁石１０９は同極が対向する。この永久磁石１１２と永久磁石１０９の反発力を利用してステージの移動ストローク両端でステージに力を付与することができる。このような構成により、リニアモータの駆動によるコイルの発熱を抑えてレチクルステージ１０４を駆動するようにしている。
特開２００４−０７９６３９号公報

上述のように磁石の反発力を利用してステージに力を付与する構成において、反発力を発生させる際に大量の磁束が飛散して周囲に漏れてしまう。特に、高加速が必要なステージ装置においては、この漏れ磁束が大きいため、ステージの周囲に設けられた磁性体を引きつけてしまうことがある。

一般に、ステージ装置の周囲には計測センサや加工手段などが配置され、これらやこれらを支持する部材が引きつけられてしまうと、ステージの位置決め精度や、ステージに搭載した物体の加工精度を劣化させてしまう。特に露光装置においては、ステージ装置の周囲には照明光学系、投影光学系等が配置され、これらの支持部材が引きつけられてしまうと露光精度に影響を与えてしまう。

本発明は、上述の点に鑑みてなされたものであって、磁石の反発力を利用してステージを加減速するステージ装置において、反発力を発生させる際に周囲に漏れる磁束による影響を抑制することを目的とする。

本発明は、ステージに設けられた第１磁石と、前記ステージの移動ストロークの端部に設けられ、前記端部において前記第１磁石と対向するように設けられる第２磁石とを有し、前記第１磁石と前記第２磁石との間に働く反発力を利用して前記ステージに力を付与する力付与手段と、前記ステージを前記移動ストローク内で駆動する駆動手段とを備えたステージ装置において、前記第２磁石の磁束を補強するための磁束補強手段と、前記第２磁石からの磁束を遮蔽するための磁気シールドとを備えることを特徴としている。

磁石の反発力を利用してステージを加減速するステージ装置において、反発力を発生させる際に周囲に漏れる磁束による影響を抑制することができる。

（実施例１）
図１（ａ）は本発明の実施例１におけるステージ装置の平面図である。本実施例では露光装置において原版を搭載して移動するステージ装置の例を示すが、露光装置に限定されるものではなく、原版以外の位置決め対象物を搭載するようにしてもよい。

ステージ装置は、原版３を搭載して移動するステージ４と、気体軸受け１４を介してステージ４を案内するガイド２と、ステージ４をＹ方向（以下の記載における「移動方向」はこの方向をいうものとする）に駆動するリニアモータ（駆動手段）２３等を備える。ガイド２はベース１に固定され、案内面としてＸＹ平面を有する。気体軸受け１４は、ステージに要求される位置決め精度によってはその他の軸受けに置き換えてもよい。原版３はステージ４に固定された不図示のチャックによって保持される。チャックはたとえばメカニカルクランプ、真空吸着、静電吸着等のいずれかを利用して保持しうる。

またステージ４上に別途微動ステージを設けて、微動ステージ上に原版３を搭載してもよい。この場合、ステージ４に対して微動ステージを微小に駆動して原版３を高精度に位置決めできる。

リニアモータ２３は、ステージの両側に固定された永久磁石を含む可動子５と、ベース１に固定された複数のコイルを含む固定子６とを有する。コイルは移動方向に沿って並べられており、これらのコイルは支持部を介してベース１に固定される。可動子５の永久磁石はコイルと非接触で対向するように配置されており、永久磁石の磁束が通過するコイルに電流を流すことによって、ステージ４はＹ方向に移動ストローク内で駆動される。このようなリニアモータの構成については特開２００４−７９６３９号公報により公知であるため、詳細な説明は省略する。ここで、リニアモータに限らず別の駆動手段を用いてもよいが、精度の面から非接触に駆動できる電磁アクチュエータが好ましい。

ステージ４の位置は干渉計によって計測される。ステージ４に設けた反射ミラー１５に対して、ステージ外部に設けた光源から計測光が照射される。干渉計は、反射ミラー１５からの反射光と参照光とを干渉させることで位置を計測する。

次に、永久磁石の反発力を利用してステージ４に力を付与する力付与手段について図１（ｂ）を参照しつつ説明する。力付与手段は、反発可動子７と反発固定子１０とを備える。反発可動子７は永久磁石９（第１磁石）と、永久磁石９をステージ４に支持する支持部８とを備える。反発固定子１０は、一対の永久磁石１２ａ，１２ｂ（第２磁石）と、これらの永久磁石からの磁束を側方経由で循環させるヨーク１１，１３等を備える。図３に示すように、ヨーク１１，１３（磁束補強手段）を設けることによって、磁気回路（矢印の向き）を形成し、永久磁石１２ａ，１２ｂ間に流れる磁束を補強することができる。これにより力付与手段によって発生する反発力を増大することができる。

反発可動子１０はステージ４の移動方向前後に設けられる。反発固定子１５はステージ４から移動方向前後に離れた位置に配置され、さらにいうとステージのストローク両端に設けられる。ステージ４を移動方向に駆動すると、ステージのストローク両端の近傍で永久磁石９は一対の永久磁石１２ａ，１２ｂに非接触で挟まれた状態となる。

永久磁石９は板状であり、鉛直方向に着磁される。本実施例では、永久磁石９は上面がＮ極で下面がＳ極の単極永久磁石である。永久磁石１２ａ，１２ｂも板状であり、鉛直方向（Ｚ方向）に着磁される。永久磁石１２ａ，１２ｂは、永久磁石９と同じ極が対向するように着磁される。つまり、上側の永久磁石１２ａは下面がＮ極で、下側の永久磁石１２ｂは上面がＳ極の単極永久磁石である。

このような構成により、永久磁石９と永久磁石１２Ａ，１２ｂ間で磁気反発力が発生して、ステージにＹ方向の加減速力を与えることができる。ここで、加減速力を発生させる方向と永久磁石の着磁方向とが直交しているため、ステージが移動したとしても長い区間で反発力を発生させることができる。また、永久磁石１２ａ，１２ｂで挟み込む構成であるため、Ｚ方向に発生する反発力を相殺することができる。

ステージ４がストローク端部に位置しているときに、永久磁石９は図１（ｂ）の点線の位置まで永久磁石１２ａ，１２ｂ間に挿入される。このとき、反発可動子７は矢印の方向に反発力を受ける。そして点線の位置から矢印の方向に移動するにしたがって反発力は減少し、反発可動子７が反発固定子１０から十分離れると反発力はゼロになる。反発力がゼロになるまでの間に最大速度まで加速するように構成すれば、ステージ４はガイド２とは非接触であるので、そのままの速度で反対側のストローク端部まで移動する。ここで、反対側のストローク端部において反発可動子７と反発固定子１０が力を発生するまでステージ４の運動エネルギーは保存されるため、反対側のストローク端部においても図１（ｂ）と同じ量だけ永久磁石９は永久磁石１２ａ，１２ｂ間に挿入されて停止する。実際にはステージ４には空気抵抗や軸受による減速作用が働くが、リニアモータ２３によって速度を一定に維持するようにすればよい。そして、再び反発力によってステージ４を加速する。このようにしてステージ４を加減速して往復駆動させる。ここで、力付与手段によって大きな力を発生させることができるため、リニアモータ２３の駆動による発熱を大きく低減することができる。

上述のように永久磁石の反発力を利用してステージを加減速する構成において、反発力を発生させる際に大量の磁束が周囲に漏れてしまう。特に、高加速が必要なステージ装置においては、この漏れ磁束が大きいため、ステージの周囲に設けられた磁性体を引きつけてしまうことがある。

露光装置においては、例えば投影光学系２１としての複数のレンズを支持する鏡筒の一部に磁性体が用いられており、この磁性体が引きつけられることによって露光精度を劣化させてしまうことがある。また、鏡筒にかぎらず照明光学系や計測センサ等についても同様の問題が生じうる。

そこで、本実施例では磁石から周囲の空間に漏れた磁束を遮蔽する磁気シールド１６が設けられる。以下、磁気シールドについて詳細に説明する。

磁気シールド１６は反発固定子１０を取り囲むように、ガイド２上に設けられる。磁気シールド１６はステージ４の移動ストローク両端に１ユニットずつ配置される。磁気シールド１６と反発固定子１０との間には非磁性部材１７が配置され、非磁性部材１７によって反発固定子１０は支持される。また、反発固定子１０を磁気シールド１６とは別支持にして、両者の間に空隙を設けるようにしてもよい。磁気シールドの材質は透磁率が高いものがよく、例えばフェライト等が上げられる。

なお、磁気シールド１６は、力付与手段から漏れる磁束の影響を受けたくない部材との間に配置されることが好ましく、周囲を覆うように配置することがより好ましい。影響を受けたくない部材として、露光装置においては投影光学系２１を支持する鏡筒などが挙げられる。

ここで、反発固定子１０側に磁気シールド１６を設けることによって、ステージ（可動部）４に大きな磁気シールドを設ける必要がなくなるため、ステージ重量が増大するのを防止することができる。

図４は磁気シールドの長さを詳細に説明するための図である。図４は図１のステージ装置をα方向から見た図である。

図４（ａ），（ｂ）はともにステージ４が移動ストローク端部に位置している状態を表す。磁気シールド１６はステージ４の移動ストロークよりも大きいことが好ましい。本実施例において、磁気シールド１６のＹ方向長さをＡとし、ステージ４のＹ方向における最大移動距離と磁石のＹ方向長さとの和をＢとすると、
Ａ≧Ｂ
となるように磁気シールド１６の寸法は決定される。ここでステージ４のＹ方向における最大移動距離はステージが移動ストロークの一方の端部から他方の端部へ移動する際の移動距離である。このように磁気シールド１６を配置することで、磁気シールド１６によって反発可動子の磁石が単独で発生する磁束についても遮蔽することができる。

ここで、反発可動子７が反発固定子１０に挿入または脱出する際に、反発可動子７と反発固定子１０の距離が変化するに伴い磁束漏れ量が動的に変化する。また、ステージ４が移動することによって磁気シールド１６に対して反発可動子７が相対的に移動し、磁気シールド１６を通過する反発可動子７からの磁束が変化する。そのため、磁気シールド１６に対して渦電流が発生し、発熱が生じてしまう。さらに、渦電流が発生する位置についてもステージ４の移動に伴い変化してしまう。

このような渦電流による発熱は、ステージ４の位置を計測するための干渉計の計測光路の空気ゆらぎを起こして計測誤差を招くことや、ステージの熱変形を招くことがあり、ステージの位置決め精度を劣化させうる。

上述の渦電流に対する対策の一つとして、本実施例では磁気シールド１６を冷却する冷却手段を設けている。図５（ａ）は冷却手段を示す図である。冷却手段は、磁気シールド１６に設けられ、冷媒を循環させるための流路１８と、流路１８に冷媒を供給するための供給口１９ａと、冷媒を流路から回収するための回収口１９ｂ等を備える。流路１８は、磁気シールド内に溝を形成したものでもよく、磁気シールド内または表面に配管を設けてもよい。供給口１９ａ、回収口１９ｂはそれぞれ複数ずつ設ける構成であってもよい。この場合、供給から回収までの管路抵抗が、各経路で等しくなるようにすることが好ましい。

ここで、流路１８、供給口１９ａ、回収口１９ｂの形状は図５のものに限られるものではなく、磁気シールドの熱を効率よく回収するために適宜形状を工夫しうる。

このように磁気シールドに冷却手段を設けることによって、磁気シールドに発生する渦電流に起因する発熱を低減することができる。特に、反発固定子側に磁気シールドを設けた構成において効果を奏する。なぜなら、反発可動子と反発固定子間で力を発生する際の磁束変化による渦電流に加えて、反発可動子が磁気シールドに対して移動することによって発生する磁束変化による渦電流も発生するためである。

また、渦電流に対する対策の一つとして、本実施例では磁気シールド１６を積層構造にしている。図６は磁気シールドの積層構造を示す図である。具体的には、磁気シールド１６は複数の部材を有し、これらの部材は、反発可動子の磁石と反発固定子の磁石が対向する面と平行な方向（ＸＹ平面と平行な方向）であって、かつ、ステージの移動方向（図中の矢印方向、Ｙ方向）と垂直な方向（Ｘ方向）に積層されている。
このように磁気シールド１６を積層構造とすることで、渦電流の発生量を低減することができる。

さらに、渦電流に対する対策の一つとして、本実施例では磁気シールドの材質を抵抗値が高いものにしている。また、上述のようにシールドとして透磁率が高いことも要求されるため、フェライトやＭＩＭ（Ｍｅｔａｌ Ｉｎｊｅｃｔｉｏｎ Ｍｏｌｄｉｎｇ）材などが好適に利用される。上述の対策のうち１つを施してもよく、複数の対策を併用してもよい。

なお、本実施例において力付与手段は、一対の永久磁石１２ａ，１２ｂ間に永久磁石９を挿入する構成を一例として挙げたが、この構成にかぎるものではない。また、力付与手段はステージの両端に設けられることが好ましいが、ステージの一端のみに設ける構成であってもよい。すなわち力付与手段は、ステージに設けられた第１磁石と、ステージの移動ストロークの端部に設けられ、この端部において第１磁石と対向するように設けられる第２磁石とを有し、第１磁石と第２磁石との間に働く反発力を利用して前記ステージに力を付与するものであればよい。

（実施例２）
図７（ｃ）は実施例２のステージ装置を示す図である。実施例１では反発固定子側にのみ磁気シールドを設けていたが、実施例２では反発固定子側と反発可動子側の両方に磁気シールドを設けている。実施例２において特に言及しない箇所については実施例１と同様であるものとする。

実施例２においても反発固定子側には磁気シールド１６が設けられているため、反発可動子７と反発固定子１０との間で力を発生する際の磁束の多くはこの磁気シールド１６で遮蔽され、反発可動子側の磁気シールド２０を極端に大きくしなくてもよい。

実施例１の構成において反発可動子側の磁気シールドを付加してもよいが、特に移動ストロークが大きな図７（ｃ）のような構成に好適に用いられる。以下、移動ストロークについて説明する。

図７（ａ）では、ステージ４のＹ方向における最大移動距離Ｂが、ステージの移動ストロークにおけるストローク端とストローク中心間の距離Ｃ／２よりも長くなっている。

このような場合に、実施例１のようにストローク両端に設けた磁気シールド１６の長さＡを最大移動距離Ｂよりも長くすると（図７（ｂ）は一方の磁気シールドの長さを長くした図）、２つの磁気シールドが互いに干渉してしまう。また、露光装置に用いられるレチクルステージでは、ステージの移動ストローク中心付近においてステージに搭載されたレチクルに露光光が照射されるため、磁気シールド１６の長さを移動ストロークの端部と中心との間の距離Ｃ／２よりも長くしてしまうと、露光光を遮ってしまう。

そこで図７のように、磁気シールド１６の長さＡは、移動ストロークの端部と中心との間の距離Ｃ／２よりも短くしている。

本実施例では反発可動子側に磁気シールド２０を設けることによって、ステージ３が移動したときに反発可動子の永久磁石９が磁気シールド１６から外れてしまっても、永久磁石９からの磁束が周囲に与える影響を低減することができる。

具体的には、ステージ４に設けられた永久磁石９を取り囲むように磁気シールド２０が設けられる。磁気シールド２０は、永久磁石９と、永久磁石９の磁力によって引きつけられたくない部材（例えば鏡筒）との間に配置されることが好ましく、さらに永久磁石９の周囲を覆うように配置することがより好ましい。

また、磁気シールド２０には渦電流が発生するが実施例１と同様の方法によって発熱の影響を低減することができる。

（実施例３）
図８は実施例３のステージ装置を示す上面図、図９は図８のα方向から見た正面図である。実施例１および２では反発固定子１０及び磁気シールド１６をガイド２の両端に設けていたが、実施例３では反発固定子１０および磁気シールド１６を一軸方向に移動可能なカウンタマス２２上の両端に配置した。実施例３において特に言及しない箇所については実施例１および２と同様であるものとする。

ステージ装置は、原版３を搭載するステージ４がベース上で移動可能に支持されている。ステージ４の姿勢は、ベース１の上面とステージ４の下面との間に配置される軸受け１４で規制される。反発可動子７に対応して、ステージ４に加減速力を与える反発固定子１０がカウンタマス２２上に固定されている。反発固定子１０はカウンタマス２２のストロークの両端に１ユニットずつ設けられる。カウンタマス２２は一軸方向に移動可能であり、カウンタマス２２の姿勢は、本体ベース１の上面とカウンタマス２２の下面との間に配置される軸受け１４で規制される。反発固定子１０は、一軸方向に移動可能なカウンタマ１９上に固定されているので、ステージ駆動の反力で反発可動子とは反対方向に移動する。このように、磁石反発加速により大加速でステージ４を駆動した際の反力を、反発固定子１０を固定したカウンタマス２２を駆動することでキャンセルできる。磁気シールド１６は反発固定子１０を取り囲むようにカウンタマス２２上に設けられる。磁気シールド１６はカウンタマス２２の両端に１ユニットずつ配置される。

このように、磁石反発加速手段によりステージを大加速で駆動しても本体ベース１に伝わる反力をキャンセルして装置全体を振動させない為にカウンタマス構成した場合にも、磁気シールド１６を適用することができる。

本発明によれば、カウンタマス上の両端に反発固定子および磁気シールド１６を配置することで、反発力を発生させる際に周囲に漏れる磁束を遮蔽することができる。

（ステージ装置を適用した露光装置の例）
以下、本発明のステージ装置が適用される例示的な露光装置を説明する。露光装置は図１０に示すように、照明装置２０１、レチクルを搭載したレチクルステージ２０２、投影光学系２０３、ウエハを搭載したウエハステージ２０４とを有する。露光装置は、レチクルに形成された回路パターンをウエハに投影露光するものであり、ステップアンドリピート投影露光方式またはステップアンドスキャン投影露光方式であってもよい。

照明装置２０１は回路パターンが形成されたレチクルを照明し、光源部と照明光学系とを有する。光源部は、例えば、光源としてレーザを使用する。レーザは、波長約１９３ｎｍのＡｒＦエキシマレーザ、波長約２４８ｎｍのＫｒＦエキシマレーザ、波長約１５３ｎｍのＦ２エキシマレーザなどを使用することができるが、レーザの種類はエキシマレーザに限定されず、例えば、ＹＡＧレーザを使用してもよいし、そのレーザの個数も限定されない。光源にレーザが使用される場合、レーザ光源からの平行光束を所望のビーム形状に整形する光束整形光学系、コヒーレントなレーザ光束をインコヒーレント化するインコヒーレント化光学系を使用することが好ましい。また、光源部に使用可能な光源はレーザに限定されるものではなく、一又は複数の水銀ランプやキセノンランプなどのランプも使用可能である。

照明光学系はマスクを照明する光学系であり、レンズ、ミラー、ライトインテグレーター、絞り等を含む。

投影光学系２０３は、複数のレンズ素子のみからなる光学系、複数のレンズ素子を少なくとも一枚の凹面鏡とを有する光学系（カタディオプトリック光学系）、複数のレンズ素子と少なくとも一枚のキノフォームなどの回折光学素子とを有する光学系、全ミラー型の光学系等を使用することができる。

レチクルステージ２０２およびウエハステージ２０４は、たとえばリニアモータによって移動可能である。ステップアンドスキャン投影露光方式の場合には、それぞれのステージは同期して移動する。また、レチクルのパターンをウエハ上に位置合わせするためにウエハステージおよびレチクルステージの少なくともいずれかに別途アクチュエータを備える。

このような露光装置は、半導体集積回路等の半導体デバイスや、マイクロマシン、薄膜磁気ヘッド等の微細なパターンが形成されたデバイスの製造に利用されうる。

（露光装置を適用したデバイス製造方法の例）
次に、図１１及び図１２を参照して、上述の露光装置を利用したデバイス製造方法の実施例を説明する。図１１は、デバイス（ＩＣやＬＳＩなどの半導体チップ、ＬＣＤ、ＣＣＤ等）の製造を説明するためのフローチャートである。ここでは、半導体チップの製造方法を例に説明する。

ステップＳ１（回路設計）では半導体デバイスの回路設計を行う。ステップＳ２（マスク製作）では設計した回路パターンに基づいてマスクを製作する。ステップＳ３（ウエハ製造）ではシリコン等の材料を用いてウエハを製造する。ステップＳ４（ウエハプロセス）は前工程と呼ばれ、マスクとウエハを用いて、上記の露光装置によりリソグラフィ技術を利用してウエハ上に実際の回路を形成する。ステップＳ５（組み立て）は、後工程と呼ばれ、ステップＳ４によって作製されたウエハを用いて半導体チップ化する工程であり、アッセンブリ工程（ダイシング、ボンディング）、パッケージング工程（チップ封入）等の組み立て工程を含む。ステップＳ６（検査）では、ステップＳ５で作製された半導体デバイスの動作確認テスト、耐久性テスト等の検査を行う。こうした工程を経て半導体デバイスが完成し、それが出荷（ステップＳ７）される。

図１２は、ステップ４のウエハプロセスの詳細なフローチャートである。ステップＳ１１（酸化）では、ウエハの表面を酸化させる。ステップＳ１２（ＣＶＤ）では、ウエハの表面に絶縁膜を形成する。ステップＳ１３（電極形成）では、ウエハ上に電極を蒸着によって形成する。ステップＳ１４（イオン打ち込み）では、ウエハにイオンを打ち込む。ステップＳ１５（レジスト処理）では、ウエハに感光剤を塗布する。ステップＳ１６（露光）では、露光装置によってマスクの回路パターンをウエハに露光する。ステップＳ１７（現像）では、露光したウエハを現像する。ステップＳ１８（エッチング）では、現像したレジスト像以外の部分を削り取る。ステップＳ１９（レジスト剥離）では、エッチングが済んで不要となったレジストを取り除く。これらのステップを繰り返し行うことによってウエハ上に多重に回路パターンが形成される。

ステージ装置および反発固定子を示す図 ステージ装置の断面図 反発固定子の磁気回路を示す図 移動ストロークと磁気シールドの長さの関係を示す図 磁気シールドの冷却機構を示す図 磁気シールドの積層構造を示す斜視図 実施例２における移動ストロークと磁気シールドの長さの関係を示す図 カウンタマスを設けたステージ装置を示す平面図 カウンタマスを設けたステージ装置の正面図 ステージ装置を適用した露光装置を示す図 露光装置を使用したデバイスの製造を説明するためのフローチャート 図１１に示すフローチャートのステップ４のウェハプロセスの詳細なフローチャート 従来技術を示す図

符号の説明

１ ベース
２ ガイド
３ 原版
４ ステージ
５ リニアモータ可動子
６ リニアモータ固定子
７ 反発可動子
８ 支持部
９ 永久磁石
１０ 反発固定子
１１，１３ ヨーク
１２ａ，１２ｂ 永久磁石
１４ 軸受
１５ 反射ミラー
１６，２０ 磁気シールド
１８ 流路
１９ａ 供給口
１９ｂ 回収口
２１ 投影光学系
２２ カウンタマス

Claims (10)

1. ステージに設けられた第１磁石と、前記ステージの移動ストロークの端部に設けられ、前記端部において前記第１磁石と対向するように設けられる第２磁石とを有し、前記第１磁石と前記第２磁石との間に働く反発力を利用して前記ステージに力を付与する力付与手段と、
   前記ステージを前記移動ストローク内で駆動する駆動手段とを備えたステージ装置において、
   前記第２磁石の磁束を補強するための磁束補強手段と、
   前記第２磁石からの磁束を遮蔽するための磁気シールドとを備えることを特徴とするステージ装置。
2. 前記磁気シールドは、前記第２磁石に対して間隙または非磁性の支持部材を介して配置されることを特徴とする請求項１に記載のステージ装置。
3. 前記磁気シールドの前記ステージ移動方向の寸法が前記第１磁石の最大移動距離より長いことを特徴とする請求項１または２に記載に記載のステージ装置。
4. 前記磁気シールドを冷却するための冷却手段を備えることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載のステージ装置。
5. 前記第１磁石と前記第２磁石は、前記ステージに力を付与するときに、互いの面が対向するように配置され、
   前記磁気シールドは、前記対向する面と平行な方向であって、かつ、前記ステージの移動方向と垂直な方向に積層された複数の部材からなることを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載のステージ装置。
6. 前記ステージに設けられ、前記第１磁石からの磁束を遮蔽するための第２の磁気シールドをさらに備えることを特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載のステージ装置。
7. ステージの移動方向前後に設けられた第１磁石と、前記ステージの移動ストローク両端に設けられ、各々が対向する一対の磁石を含む第２磁石とを備え、前記第１磁石と前記第２磁石との間に働く反発力を利用して前記ステージに力を付与する力付与手段と、
   前記ステージを前記移動ストローク内で駆動する駆動手段とを備えたステージ装置において、
   前記一対の磁石間に流れる磁束を補強するための磁束補強手段と、
   前記第２磁石からの磁束を遮蔽するための磁気シールドとを備えることを特徴とするステージ装置。
8. 原版のパターンを基板に投影する投影光学系を備え、
   請求項１乃至７のいずれかに記載のステージ装置を用いて原版を移動させることを特徴とする露光装置。
9. 前記磁気シールドの少なくとも一部が、投影光学系を支持する鏡筒と前記第２磁石との間に配置されることを特徴とする請求項８に記載の露光装置。
10. 請求項８または９に記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、
    露光された基板を現像する工程とを備えることを特徴とするデバイス製造方法。

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