KR101110002B1 - Elastic contactor for test of semiconductor device and meathod for manufacturing the same - Google Patents

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Abstract

PURPOSE: An elastic contactor for test a semiconductor device and a manufacturing method thereof are provided to remarkably improve the lifetime and accuracy of a contactor as well as prevent the contamination and damage of a mixing conductive part by miniaturizing a gap between the conductive parts of the contactor. CONSTITUTION: A contactor body(100) is composed of a plate type test part(110) and a plurality of fixing parts(120). The fixing part includes a guide hole(121) and a coupling hole(122) around the test part in a radial shape. A conductive member is inserted into a conductive hole and the lower part of the conductive member is projected to the bottom surface of the test part. A conductive part fills a conductive mixture, in which the metal conductive material of powder and a silicon material are mixed, in the conductive hole. A protecting paper(400) is attached to the upper side of the test part and absorbs the conductive mixture on the contact surface with the conductive part.

Description

반도체 소자 테스트용 탄성 콘택터 및 그 제조방법{Elastic contactor for test of semiconductor device and meathod for manufacturing the same}Elastic contactor for test of semiconductor device and method of manufacturing the same {Elastic contactor for test of semiconductor device and meathod for manufacturing the same}

본 발명은 반도체 소자 테스트용 콘택터에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 전기적 도전부의 간격을 미세화 시키고, 도전부재에 의한 접촉방식을 구현함으로 정밀성 및 내구성을 한층 향상시킬 수 있으며, 콘택터 제작시 별도의 금형 등이 필요치 않아 콘택터 제작상의 간편함은 물론, 이로 인한 제작 원가의 절감을 가져올 수 있게 한 반도체 소자 테스트용 탄성 콘택터 및 그 제조방법에 관한 것이다.
The present invention relates to a contactor for testing a semiconductor device, and more particularly, to refine the spacing of the electrically conductive portion and to implement a contact method by the conductive member to further improve precision and durability, and to manufacture a separate mold such as a contactor. The present invention relates to an elastic contactor for testing a semiconductor device and a method of manufacturing the same, which may not only require the convenience of manufacturing a contactor but also reduce the manufacturing cost.

일반적으로 반도체 소자는 제조과정을 거친 후 전기적 성능의 양불을 판단하기 위한 검사를 수행하게 되는 것이다.In general, the semiconductor device is subjected to a test to determine the failure of the electrical performance after the manufacturing process.

이때, 반도체 소자의 양불 검사는 반도체 소자의 단자와 검사 장비의 검사 회로기판 사이에 전기적 중계 역할을 수행하는 콘택터를 삽입한 상태에서 그 콘택터를 통해 반도체 소자의 단자와 검사 회로기판 간의 전기적인 신호가 전달되는지를 판단하게 되는 것이다.At this time, the positive test of the semiconductor device is performed by the electrical signal between the terminal of the semiconductor device and the test circuit board through the contactor while the contactor that serves as an electrical relay is inserted between the terminal of the semiconductor device and the test circuit board of the inspection equipment. It will be judged if it is delivered.

이러한 반도체 소자 테스트용 콘택터에는 포고핀을 이용하는 포고된 콘택터 또는 실리콘 콘택터가 사용되고 있는 실정이다.Such a semiconductor device test contactor is a situation in which pogo pins or silicon contactors using pogo pins are used.

이중, 실리콘 콘택터는, 절연성 실리콘 소재로 형성된 본체에 수직 방향으로 관통된 홀 내부에 도전성 소재로 된 도전부를 형성하고, 본체를 별도의 고정용 평판에 고정 시킨 형상으로 구성되어 있다.Among them, the silicon contactor is formed in a shape in which a conductive portion made of a conductive material is formed in a hole penetrated in a vertical direction in a main body formed of an insulating silicon material, and the main body is fixed to a separate fixing plate.

한편, 근자에 들어 반도체 소자의 집적화 및 소형화 되는 추세에 따라 반도체 소자의 단자 크기 및 간격도 미세화되는 추세이고, 이에 따라 실리콘 콘택터의 도전부 역시 미세화에 대응하여야 하며 특히, 일회성이 아닌 다회성으로 사용되는 특성상 그 내구성의 향상이 필요한 것이다.On the other hand, in recent years, as the integration and miniaturization of semiconductor devices tend to be miniaturized, the terminal size and spacing of semiconductor devices are also miniaturized. Accordingly, the conductive parts of silicon contactors must also cope with miniaturization. Due to its characteristics, it is necessary to improve its durability.

한편, 종래의 콘택터를 살펴보면, 국내 공개 특허 제2002-0079350호 에서와 같이 액상 실리콘 사출에 의하여 수직방향의 관통홀을 갖는 절연 실리콘 본체를 형성하며, 상기 본체의 관통홀 내에는 실리콘 과 금속파우더가 혼합된 혼합 도전물을 충진하기 위하여 상.하판 금형에 자석에 의해 자력이 발생 되는 핀을 상호 대응 되게 설치하고, 상기한 실리콘과 금속파우더의 혼합 도전물을 주입 시키게 되면 자력에 의하여 도전 혼합물이 관통홀 내부에 모여들게 되며, 그 혼합 도전물을 경화 시킴으로 절연 실리콘 본체의 관통홀에 도전부가 형성된 콘택터 및 그 제조방법이 개시되어 있다.On the other hand, when looking at the conventional contactor, as in the Korean Patent Laid-Open No. 2002-0079350, by forming a liquid silicon injection to form an insulating silicon body having a vertical through hole, the silicon and metal powder in the through hole of the body In order to fill the mixed mixed conductor, upper and lower molds are installed with magnets generated by magnets to correspond to each other, and when the mixed conductive material of silicon and metal powder is injected, the conductive mixture penetrates by magnetic force. Disclosed are a contactor having a conductive portion formed in a through-hole of an insulated silicon body by gathering inside a hole and curing the mixed conductive material, and a manufacturing method thereof.

그러나, 상기와 같은 콘택터는, 절연 실리콘 본체와 이의 관통홀 내에 충진된 혼합 도전부 에는 반도체 테스트 과정 중에 반도체 소자 단자와 검사회로 기판에 의하여 다수의 가압력 및 실리콘 탄성 복원이 반복되는 것인바, 이때 외부로 그대로 노출된 혼합 도전부 표면이 반도체 소자 단자와 반복되는 접촉에 의하여 도전 입자가 탈락 및 찢김이 발생되는 등 혼합 도전부의 오염 및 파손으로 인한 전기적인 성능의 저하 및 수명이 단축되며, 이는 콘택터의 정밀성을 현저히 저하시켜 반도체 소자의 양불 테스트가 제대로 이루어 지지 못하는 매우 심각한 문제점을 내포하고 있는 것이다.However, in the above contactor, a plurality of pressing force and silicon elastic recovery are repeated in the insulating silicon main body and the mixed conductive part filled in the through hole thereof by the semiconductor device terminal and the test circuit board during the semiconductor test process. Deterioration and life of the electrical performance due to contamination and breakage of the mixed conductive portion, such as the falling of the conductive particles due to repeated contact of the surface of the mixed conductive portion exposed to the semiconductor device terminal with the semiconductor device terminal, which shortens the life of the contactor Remarkably deteriorating precision has a very serious problem that can not be properly tested the semiconductor device.

또한, 그 제조방법에 있어 절연 실리콘 본체를 형성하기 위해 반드시 사출 금형이 필요한 것인바, 다양한 반도체 소자의 형상 및 크기에 따라 대응하기 위해서 다양한 형상 및 크기를 갖는 사출 금형이 제작되어져야 함으로 콘택터 제작에 따른 제작단가의 상승을 가져오는 문제점이 있는 것이다.In addition, in the manufacturing method, an injection mold is necessary to form an insulated silicon body. In order to cope with the shapes and sizes of various semiconductor devices, injection molds having various shapes and sizes must be manufactured. There is a problem that leads to a rise in production cost.

또한, 금형 내에 자력을 발생시키기 위한 투자성 핀을 설치하기 위해서는 제조장치의 구성이 복잡하여 지는 등 이 또한 제작단가의 상승을 가져오며, 특히, 도전부의 간격 축소가 곤란하여 반도체 소자의 미세화에 대응하지 못하는 문제점이 있는 것이다.
In addition, in order to install the investment-fining pin for generating magnetic force in the mold, the configuration of the manufacturing apparatus becomes complicated, which also increases the manufacturing cost. There is a problem that can not be.

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로, 콘택터의 도전부 사이의 간격을 미세화 시키고, 반도체 소자 단자와 검사회로 기판의 접촉시 간접 접촉 방식을 가지게 함으로 혼합 도전부의 오염 및 파손 방지하고, 이로 인한 콘택터의 수명 연장과 정밀성을 현저히 향상시킬 수 있게 한 반도체 소자 테스트용 탄성 콘택터 및 그 제조방법을 제공함에 본 발명의 목적이 있는 것이다.The present invention has been made to solve the above problems, to minimize the gap between the conductive portion of the contactor, and to have the indirect contact when contacting the semiconductor element terminal and the inspection circuit board to prevent contamination and breakage of the mixed conductive portion It is an object of the present invention to provide an elastic contactor for testing a semiconductor device and a method of manufacturing the same, which can significantly improve the lifespan and precision of the contactor.

또한, 콘택터 제조방법에 있어서도, 별도의 사출 금형이나 투자성 및 등 부가적인 부품이 필요 없이도 다양한 형상 및 크기로의 제작이 가능하여 제작에 따른 단가의 감소와 간격 축소의 용이함을 가져올 수 있게 한 반도체 소자 테스트용 탄성 콘택터 및 그 제조방법을 제공함에 본 발명의 다른 목적이 있는 것이다.
In addition, in the contactor manufacturing method, the semiconductor can be manufactured in various shapes and sizes without the need for a separate injection mold, investment property, or other additional parts, thereby reducing the unit cost and reducing the spacing. Another object of the present invention is to provide an elastic contactor for device testing and a method of manufacturing the same.

상기 목적을 달성하기 위한 구체적인 수단으로는, 반도체 소자의 단자와 반도체 장비의 검사회로 기판 사이에서 전기적 접속을 중계하여 반도체 소자의 양불을 검사하는 콘택터에 있어서,As a specific means for achieving the above object, in the contactor for inspecting the good or bad of the semiconductor element by relaying the electrical connection between the terminal of the semiconductor element and the inspection circuit board of the semiconductor equipment,

판형 검사부와 그 검사부의 둘레에 방사형으로 가이드공 및 결합공을 갖는 다수의 고정부로 구성되며, 상기 검사부에는 상.하 관통되는 다수의 도전홀이 형성된 양면 동박이 제거된 절연 PCB기판으로 된 콘택터 본체;It consists of a plate-shaped inspection portion and a plurality of fixed portions having a guide hole and a coupling hole radially around the inspection portion, wherein the inspection portion is made of an insulated PCB substrate from which double-sided copper foil is formed with a plurality of conductive holes penetrating up and down. main body;

상기 도전홀에 내입되어 하부가 검사부의 저면으로 소정 돌출되는 도전부재;A conductive member embedded in the conductive hole so that a lower portion of the conductive member protrudes to the bottom of the inspection unit;

상기 도전홀에 실리콘 소재와 분말상의 금속 도전성 소재가 혼합된 도전 혼합물을 충진하여 된 도전부; 및A conductive portion filled with a conductive mixture in which a silicon material and a powdered metal conductive material are mixed in the conductive hole; And

상기 검사부의 상부면에 부착되며, 상기 도전부와의 접촉 표면에 도전혼합물이 흡수되어 도전 접촉부를 이루는 보호지를 포함하여 구성하며,It is attached to the upper surface of the inspection portion, the conductive mixture is absorbed on the contact surface with the conductive portion comprises a protective paper forming a conductive contact,

검사부와 고정부를 가지며 양면의 동박이 제거된 절연 PCB기판을 구비하되, 기판 표면에 펀칭기 또는 레이져 홀 가공기로 된 천공수단을 이용하여 검사부에 해당하는 도전홀과 고정부에 해당하는 가이드공 및 결합공을 천공하는 기판 천공단계;An insulating PCB substrate having an inspection part and a fixing part and having copper foils of both sides removed thereon, using a punching means such as a punching machine or a laser hole processing machine on the surface of the substrate, and a guide hole and a coupling hole corresponding to the inspection part and the fixing part. A substrate punching step of punching a ball;

상기 PCB기판 천공단계에 의해 형성된 도전홀에 금속볼 또는 금속봉으로 된 금속성 도전부재를 내입하는 도전부재 삽입단계;A conductive member insertion step of inserting a metallic conductive member made of a metal ball or a metal rod into the conductive hole formed by the PCB substrate drilling step;

상기 도전부재가 삽입된 도전홀에 실리콘 소재와 분말상의 금속 도전성 소재가 혼합하여 된 도전 혼합물을 주입수단을 이용하여 충진 및 도전부재를 탄성 고정하여 도전부를 형성하는 도전 혼합물 충진단계; 및A conductive mixture filling step of forming a conductive portion by elastically fixing a filling and conductive member by using an injection means for a conductive mixture in which a silicon material and a powdered metal conductive material are mixed in the conductive hole into which the conductive member is inserted; And

상기 PCB기판 상부면에 절연성 메쉬 또는 부직포로 된 보호지를 절연성 접착제로 부착하되, 보호지의 도전홀에 해당하는 부분에 도전 혼합물이 흡수되어 도전성을 가지는 도전 접촉부를 형성하는 보호지 부착단계를 순차적으로 수행하여 콘택터를 제조함으로 달성할 수 있는 것이다.
A protective paper made of an insulating mesh or nonwoven fabric is attached to the upper surface of the PCB board with an insulating adhesive, and a protective paper attaching step of sequentially forming a conductive contact portion is formed by absorbing a conductive mixture in a portion corresponding to the conductive hole of the protective paper. It can be achieved by manufacturing the contactor.

이상과 같이 본 발명 반도체 소자 테스트용 탄성 콘택터 및 그 제조방법은, 도전 혼합물이 충진된 도전부 사이의 간격 미세화가 가능하고, 하부의 수지필름과 상부의 보호지에 의해 도전부를 보호하며, 반도체 소자 단자와 검사회로 기판과의 접촉을 보호지와 도전부재에 의한 접촉 방식을 가지게 함으로 도전부의 오염 및 파손을 방지함과 동시에 반도체 소자의 검사시 정밀성의 향상과 콘택터의 수명을 현격히 연장시킬 수 있는 효과를 얻을 수 있는 것이다. As described above, according to the present invention, the elastic contactor for testing a semiconductor device and a method of manufacturing the same can minimize the gap between the conductive parts filled with the conductive mixture, protect the conductive parts with the lower resin film and the upper protective paper, and the semiconductor device terminals. By contacting the test circuit board with the protective paper and the conductive member, it is possible to prevent the contamination and damage of the conductive part, and to improve the precision and greatly extend the life of the contactor during inspection of the semiconductor device. It can be.

또한, 콘택터 제조방법에 있어서도, 콘택터 본체를 얻기 위해 별도의 사출 금형을 포함한 부품 등이 추가 사용되지 않으므로, 반도체 소자의 형상 및 크기에 따른 콘택터 사용에 투자되는 제작비용의 현격한 절감 및 도전부의 간격축소의 제작이 용이한 효과를 얻을 수 있는 것이다.
In addition, in the contactor manufacturing method, since a part including a separate injection mold is not additionally used to obtain the contactor main body, a significant reduction in the manufacturing cost and the gap between the conductive parts invested in the use of the contactor according to the shape and size of the semiconductor element. It is possible to obtain an effect that can be easily reduced.

도 1은 본 발명 반도체 소자 테스트용 탄성 콘택터의 사시도.
도 2는 본 발명 반도체 소자 테스트용 탄성 콘택터 제1 실시예 단면도.
도 3은 본 발명 반도체 소자 테스트용 탄성 콘택터 제2 실시예 단면도.
도 4는 본 발명 반도체 소자 테스트용 탄성 콘택터 제조방법의 공정단계 순서도.
도 5는 본 발명 반도체 소자 테스트용 탄성 콘택터 제조방법의 콘택터의 기판 제조단계를 나타낸 단면도.
도 6a 및 6b는 본 발명 반도체 소자 테스트용 탄성 콘택터 제조방법의 수지필름 형성단계를 나타낸 단면도.
도 7은 본 발명 반도체 소자 테스트용 탄성 콘택터 제조방법의 도전부재 삽입 단계를 나타낸 단면도.
도 8은 본 발명 반도체 소자 테스트용 탄성 콘택터 제조방법의 도전 혼합물 충진단계를 나타낸 단면도.
도 9는 본 발명 반도체 소자 테스트용 탄성 콘택터 제조방법의 보호지 부착단계를 나타낸 단면도.
도 10은 본 발명 반도체 소자 테스트용 탄성 콘택터 제조방법의 도전 접촉부 코팅상태를 나타낸 단면도.
도 11은 본 발명 반도체 소자 테스트용 탄성 콘택터 제조방법의 기판 천공단계를 나타낸 다른 실시예도.
도 12는 본 발명 반도체 소자 테스트용 탄성 콘택터의 사용 상태를 나타낸 단면도.
1 is a perspective view of an elastic contactor for testing the semiconductor device of the present invention.
2 is a cross-sectional view of a first embodiment of the elastic contactor for testing semiconductor devices.
3 is a cross-sectional view of a second embodiment of the elastic contactor for testing semiconductor devices.
Figure 4 is a flow chart of the process steps of the method for manufacturing an elastic contactor for testing the semiconductor device of the present invention.
5 is a cross-sectional view showing a substrate manufacturing step of the contactor of the method for manufacturing an elastic contactor for testing a semiconductor device of the present invention.
Figure 6a and 6b is a cross-sectional view showing a resin film forming step of the method of manufacturing an elastic contactor for testing semiconductor device of the present invention.
7 is a cross-sectional view showing a conductive member insertion step of the method for manufacturing an elastic contactor for testing semiconductor devices of the present invention.
8 is a cross-sectional view showing a conductive mixture filling step of the method for manufacturing an elastic contactor for testing a semiconductor device of the present invention.
9 is a cross-sectional view showing a protective paper attaching step of the method for manufacturing an elastic contactor for testing a semiconductor device of the present invention.
10 is a cross-sectional view showing a conductive contact coating state of the method for manufacturing an elastic contactor for testing a semiconductor device of the present invention.
Figure 11 is another embodiment showing the substrate perforation step of the method for manufacturing the elastic contactor for testing the semiconductor device of the present invention.
12 is a cross-sectional view showing a state of use of the elastic contactor for testing a semiconductor device of the present invention.

본 명세서 및 청구범위에 사용된 용어나 단어는 통상적이거나 사전적인 의미로 한정해서 해석되어서는 아니 되며, 발명자는 그 자신의 발명을 가장 최선의 방법으로 설명하기 위해 용어의 개념을 적절하게 정의할 수 있다는 원칙에 입각하여 본 발명의 기술적 사상에 부합하는 의미와 개념으로 해석되어야만 한다.The terms or words used in this specification and claims are not to be construed as limiting in their usual or dictionary meanings, and the inventors may appropriately define the concept of terms in order to best explain their invention in the best way possible. It should be interpreted as meaning and concept corresponding to the technical idea of the present invention based on the principle that the present invention.

따라서, 본 명세서에 기재된 실시예와 도면에 도시된 구성은 본 발명의 가장 바람직한 일 실시예에 불과할 뿐이고, 본 발명의 기술적 사상을 모두 대변하는 것은 아니므로, 본 출원시점에 있어서 이들을 대체할 수 있는 다양한 균등물과 변형예들이 있을 수 있음을 이해하여야 한다.
Therefore, the embodiments described in the present specification and the configurations shown in the drawings are merely the most preferred embodiments of the present invention, and not all of the technical ideas of the present invention are described. Therefore, It should be understood that various equivalents and modifications may be present.

이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부된 도면을 참고하여 상세히 설명한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명 반도체 소자 테스트용 탄성 콘택터의 사시도 이고, 도 2는 본 발명 반도체 소자 테스트용 탄성 콘택터의 제1 실시예 단면도이고, 도 3은 본 발명 반도체 소자 테스트용 탄성 콘택터의 제2 실시예 단면도이다.1 is a perspective view of an elastic contactor for testing the semiconductor device of the present invention, FIG. 2 is a cross-sectional view of a first embodiment of the elastic contactor for testing the semiconductor device of the present invention, and FIG. 3 is a second embodiment of the elastic contactor for testing the semiconductor device of the present invention. It is a cross section.

도 1 및 도 2의 도시와 같이 본 발명 반도체 소자 테스트용 탄성 콘택터(1)는, 콘택터 본체(100)와, 도전부재(200)와, 도전부(300)와, 보호지(400)로 구성된 것이다.As shown in FIGS. 1 and 2, the elastic contactor 1 for testing a semiconductor device of the present invention is composed of a contactor main body 100, a conductive member 200, a conductive portion 300, and a protective paper 400. .

여기서, 상기 콘택터 본체(100)는, 절연 PCB기판으로 구성된 것이며, 그 PCB기판의 양면 동박이 제거된 상태로 구성된 것으로, 본체(100)는, 반도체 소자(10)의 단자(11)가 접촉되는 검사부(110)와, 본체(100)를 검사장비 및 검사회로 기판(20)에 고정키 위한 고정부(120)로 구성된 것이다.Here, the contactor main body 100 is composed of an insulated PCB substrate, and is formed in a state where the double-sided copper foil of the PCB substrate is removed, and the main body 100 is in contact with the terminals 11 of the semiconductor element 10. The inspection unit 110 and the main body 100 is composed of a fixing unit 120 for fixing the inspection equipment and the inspection circuit board 20.

이때, 상기 검사부(110)에는, 어느 하나의 반도체 소자(10)의 단자(11)의 배열과 대응되는 다수의 도전홀(111)이 상.하 관통되게 형성된 것이다.At this time, the inspection unit 110, the plurality of conductive holes 111 corresponding to the arrangement of the terminal 11 of any one of the semiconductor device 10 is formed so as to penetrate up and down.

고정부(120)에는, 본체(100)를 검사장비 및 검사회로 기판(20)에 고정키 위해 위치를 가이드 하는 가이드수단(도면중 미도시함)이 삽입되는 가이드공(121) 및 볼트 등의 결합수단(도면중 미도시함)에 의해 결합 고정키 위한 결합공(122)이 관통 형성된 것이다.The fixing part 120 includes a guide hole 121 and a bolt for inserting a guide means (not shown in the figure) to guide the position to fix the main body 100 to the inspection equipment and the inspection circuit board 20. The coupling hole 122 is formed through the coupling means (not shown in the figure) for the fixing fixing key.

한편, 도 2의 도시와 같이 상기 본체(100)의 검사부(110) 저면에 절연 수지필름(500)을 부착하여 구성하되, 그 수지필름(500)에는 상기 도전홀(111)과 연통되는 부분에 그 도전홀(111)의 직경보다 작은 직경을 갖는 관통홀(510)을 형성할 수 있는 것이다.Meanwhile, as illustrated in FIG. 2, an insulating resin film 500 is attached to the bottom of the inspection unit 110 of the main body 100, but the resin film 500 is connected to the conductive hole 111. The through hole 510 having a diameter smaller than that of the conductive hole 111 can be formed.

또한, 검사부(110)의 도전홀(111)은, 도 3의 도시와 같이 상부로부터 본체(100)의 두께를 기준으로 하여 비교적 두껍고 큰 직경을 갖는 확장홀(112)과, 그 확장홀(112)의 하부로 비교적 얇고 좁은 직경을 갖는 축소홀(113)로 된 다단홀로 구성할 수 있는 것이다.In addition, the conductive hole 111 of the inspection unit 110 is an expansion hole 112 having a relatively thick and large diameter based on the thickness of the main body 100 from the top, as shown in FIG. 3, and the expansion hole 112. It can be configured as a multi-stage hole made of a reduction hole 113 having a relatively thin and narrow diameter to the bottom of the).

상기 도전부재(200)는, 상기 도전홀(111)에 내입되어 검사부(110)의 저면으로 소정 돌출되게 구성된 것이다.The conductive member 200 is embedded in the conductive hole 111 and is configured to protrude to the bottom surface of the inspection unit 110.

이때, 상기 도전부재(200)는, 도전성 금속구로 구성하거나, 하부가 반구형을 이루는 금속봉으로 구성할 수 있는 것이며, 상기 도전홀(111)의 직경보다 작은 직경을 가지게 구성함이 바람직한 것이다.At this time, the conductive member 200 may be composed of a conductive metal sphere, or may be composed of a metal rod forming a hemispherical shape of the lower portion, it is preferable to have a diameter smaller than the diameter of the conductive hole 111.

또한, 도전부재(200)는, 프라스틱, 유리, 세라믹, 고무 중 어느 하나의 재질로 된 구(Ball) 또는 봉(Bar)으로 구성할 수 있는 것으로, 이때, 그 표면에 도전 물질이 코팅되어 도전성을 가지는 금속구 또는 금속봉을 이루게 구성할 수 있는 것이다.In addition, the conductive member 200 may be formed of a ball or a bar made of any one of plastic, glass, ceramic, and rubber. In this case, a conductive material is coated on the surface of the conductive member 200 to conduct conductivity. It can be configured to have a metal sphere or a metal rod.

한편, 도 2의 도시와 같이 도전부재(200)가 도전홀(111)에 삽입되어 수지필름(500)의 관통홀(510) 상부면에 안착 및 도전부재(200)의 하부가 관통홀(510)의 저면으로 소정 돌출되게 구성할 수 있는 것이다.Meanwhile, as shown in FIG. 2, the conductive member 200 is inserted into the conductive hole 111 so that the conductive member 200 is seated on the upper surface of the through hole 510 of the resin film 500 and the lower portion of the conductive member 200 is formed in the through hole 510. It can be configured to protrude to the bottom of the predetermined).

또한, 상기 도전부재(200)는, 도 3의 도시와 같이 도전부재(200)가 확장홀(112)에 삽입되어 축소홀(113)의 상부면에 안착 및 도전부재(200)의 하부가 축소홀(113)의 저면으로 소정 돌출되게 구성할 수 있는 것이다.In addition, the conductive member 200, the conductive member 200 is inserted into the expansion hole 112 as shown in Figure 3 seated on the upper surface of the reduction hole 113 and the lower portion of the conductive member 200 is reduced It can be configured to project a predetermined surface to the bottom of the hole (113).

이때, 하부로 돌출되는 도전부재(200)는, 약 0.05~0.1mm로 돌출되게 구성함이 바람직한 것이다.At this time, the conductive member 200 protruding downward is preferably configured to protrude to about 0.05 ~ 0.1mm.

상기 도전부(300)는, 상기 도전홀(111)에 도전 혼합물을 충진하여 된 것으로, 도전 혼합물은 실리콘 소재와 분말상의 금속 도전성 소재가 혼합하여 구성된 것이다.The conductive portion 300 is formed by filling a conductive mixture in the conductive hole 111. The conductive mixture is formed by mixing a silicon material and a powdered metal conductive material.

즉, 도전 혼합물에 의해 도전홀(111)을 충진 및 도전부재(200)를 고정시키며, 실리콘 소재가 혼합된 특성상 도전부재(200)에 소정의 탄성 유동성을 가지게 구성된 것이다.That is, the conductive hole 111 is filled and the conductive member 200 is fixed by the conductive mixture, and the silicon material is mixed to have a predetermined elastic fluidity in the conductive member 200.

상기 보호지(400)는, 검사부(110)의 상부면에 부착되며, 상기 도전부(300)와 접촉 표면에 도전 혼합물이 흡수되어 도전 접촉부(410)를 이루게 구성된 것으로, 보호지(400)에 의해 도전 혼합물에 포함된 도전성 소재 입자가 외부로 탈락 되는 것을 방지할 수 있게 구성된 것이다.The protective paper 400 is attached to the upper surface of the inspection unit 110, the conductive mixture is absorbed on the contact surface with the conductive portion 300 to form a conductive contact portion 410, the conductive paper 400 is conductive It is configured to prevent the conductive material particles contained in the mixture from falling off to the outside.

이때, 상기 보호지(400)는 전기가 통하지 않고 흡수력이 좋은 절연재 메쉬 또는 부직포로 구성할 수 있는 것이다.In this case, the protective paper 400 may be made of an insulating material mesh or nonwoven fabric having good absorption without electricity.

또한, 상기 보호지(400)의 도전 접촉부(410)의 표면을 금, 은, 주석, 니켈, 전도성 금속, 중 어느 하나로 코팅된 도전코팅층(420)을 형성하되, 이는 도전 접촉부(410)의 도전성을 한층 향상시키기 위해 구성된 것이다.
In addition, a conductive coating layer 420 coated with any one of gold, silver, tin, nickel, and a conductive metal is formed on the surface of the conductive contact portion 410 of the protective paper 400, which is used to improve the conductivity of the conductive contact portion 410. It is configured to further improve.

이하, 상기와 같은 구성을 갖는 반도체 소자 테스트용 탄성 콘택터의 제조방법을 살펴보면,Hereinafter, a method of manufacturing an elastic contactor for testing a semiconductor device having the above configuration will be described.

도 4는 본 발명 반도체 소자 테스트용 탄성 콘택터 제조방법의 공정단계 순서도이다.Figure 4 is a flow chart of the process steps of the method for manufacturing an elastic contactor for testing semiconductor devices.

도 4의 도시와 같이 본 발명 반도체 소자 테스트용 탄성 콘택터 제조방법은 기판 천공단계(S100)와, 수지층 형성단계(S200)와, 도전부재 삽입단계(S300)와, 도전 혼합물 충진단계(S400)와, 보호지 부착단계(S500)를 수행함으로 가능한 것이다.As shown in FIG. 4, the method for manufacturing an elastic contactor for testing a semiconductor device according to the present invention includes a substrate drilling step (S100), a resin layer forming step (S200), a conductive member insertion step (S300), and a conductive mixture filling step (S400). And, it is possible by performing the protective paper attachment step (S500).

여기서 상기 기판 천공단계(S100)는, 도 5의 도시와 같이 검사부와 고정부를 가지며, 양면의 동박이 제거된 절연 PCB기판을 구비하되, 그 PCB기판 표면에 기판 표면에 펀칭기 또는 레이져 홀 가공기 등으로 된 천공수단을 이용하여 검사부(110)에 는 어느 하나의 반도체 소자(10)의 단자(11)의 배열과 대응되는 다수의 도전홀(111)을 상.하 관통되게 형성하며, 고정부(120)에는 콘택터 본체(100)를 검사 장비 및 검사회로 기판(20)에 고정키 위해 위치를 가이드 하는 가이드수단이 삽입되는 가이드공(121) 및 볼트 등의 결합수단이 체결되는 결합공(122)을 관통 형성하게 되는 것이다.Wherein the substrate drilling step (S100), as shown in Figure 5, having an inspection part and a fixed part, and having an insulated PCB substrate from which copper foil on both sides is removed, such as punching machine or laser hole processing machine on the surface of the PCB substrate The plurality of conductive holes 111 corresponding to the arrangement of the terminals 11 of any one of the semiconductor devices 10 are formed to penetrate up and down in the inspection unit 110 by using a puncturing means, and the fixing unit ( In the 120, the coupling hole 122 is coupled to the coupling means such as a guide hole 121 and the bolt is inserted into the guide means for guiding the position to fix the contactor body 100 to the inspection equipment and the inspection circuit board 20 Will penetrate through.

이후, 수지층 형성단계(S200)를 수행하되,Thereafter, while performing the resin layer forming step (S200),

수지층 형성단계(S200)는, 도 6a의 도시와 같이 PCB기판의 저면에 합성수지재의 절연 수지필름(500)을 절연성 접착제로 부착하고, 도 6b의 도시와 같이 부착된 절연 수지필름(500)에 상기 검사부(110)의 도전홀(111)과 연통되는 관통홀(510)을 천공 형성하게 되는 것으로, 그 관통홀(510)은, 상기 도전홀(111)보다 작은 직경을 가지게 천공함이 바람직한 것으로, 도전홀(111)과 관통홀(510)은 다단 형성되는 것이다.In the resin layer forming step (S200), the insulating resin film 500 of the synthetic resin material is attached to the bottom surface of the PCB substrate with an insulating adhesive as shown in FIG. 6A, and the insulating resin film 500 is attached as shown in FIG. 6B. The through hole 510 is formed to be in communication with the conductive hole 111 of the inspection unit 110, the through hole 510 is to be drilled to have a smaller diameter than the conductive hole 111 The conductive holes 111 and the through holes 510 are formed in multiple stages.

이후, 도전부재 삽입단계(S300)를 수행하되,Thereafter, the conductive member insertion step (S300) is performed,

도전부재 삽입단계(S300)는, 도 7의 도시와 같이 상기 PCB기판 천공단계(S100)에 의해 형성된 도전홀에 금속볼 또는 금속봉으로 된 금속성 도전부재를 내입하면 되는 것이다.Inserting the conductive member (S300), as shown in Figure 7 is to insert the metallic conductive member made of a metal ball or metal rod in the conductive hole formed by the PCB substrate drilling step (S100).

이때, 도전부재(200)는 도전홀(111)에 내입 되어 수용되고, 절연 수지필름의 관통홀 상부에 안착 및 관통홀(510)의 저면으로 0.05~0.1mm 돌출되게 내입함이 바람직한 것이다.At this time, the conductive member 200 is embedded in the conductive hole 111 is accommodated, it is preferable to be embedded in the upper surface of the through hole of the insulating resin film and protrude 0.05 ~ 0.1mm to the bottom surface of the through hole 510.

이후, 도전 혼합물 충진단계(S400)를 수행하되,Thereafter, the conductive mixture filling step (S400) is performed,

도전 혼합물 충진단계(S400)는, 도 8의 도시와 같이 상기 도전부재(200)가 삽입된 도전홀(111)에 실리콘 소재와 분말상의 금속 도전성 소재가 혼합하여 된 도전 혼합물을 충진하여 일정한 탄력을 가지는 도전부(300)를 형성하게 되는 것이다.In the conductive mixture filling step (S400), as shown in FIG. 8, the conductive mixture filled with a silicon material and a powdered metal conductive material is filled in the conductive hole 111 into which the conductive member 200 is inserted, thereby providing a constant elasticity. The branches form the conductive portion 300.

이때, 상기 도전 혼합물은 도전홀(111)에 충진 됨과 동시에 도전홀(111)에 내입된 도전부재(200)를 고정하게 되는 것으로, 그 도전부재(200)는 탄력을 갖는 도전부(300)에 의해 외력이 부여시 소정의 탄성을 가지게 고정되는 것이다.At this time, the conductive mixture is filled in the conductive hole 111 and at the same time to fix the conductive member 200 embedded in the conductive hole 111, the conductive member 200 to the conductive portion 300 having elasticity By the external force is to be fixed to have a predetermined elasticity.

이후, 보호지 부착단계(S500)를 수행하되,After that, the protective paper attaching step (S500) is performed,

보호지 부착단계(S500)는, 도 9의 도시와 같이 상기 PCB기판 상부면에 절연성 메쉬 또는 부직포로 된 보호지(400)를 부착하되, 보호지(400)의 도전홀(111)에 해상하는 부분에는 도전 혼합물이 흡수되어 도전성을 가지는 도전 접촉부(410)가 형성되게 되는 것이다.In the protective paper attaching step (S500), as shown in FIG. 9, a protective paper 400 made of an insulating mesh or a nonwoven fabric is attached to the upper surface of the PCB substrate, but the conductive paper 111 is attached to the conductive hole 111 of the protective paper 400. The mixture is absorbed to form a conductive contact portion 410 having conductivity.

여기서, 보호지(400)를 부착시 절연성 접착제를 사용하면 되는 것으로, 그 접착은 흡수력이 뛰어난 메쉬 또는 부직포의 특성을 이용하여 보호지(400)를 PCB기판의 상부면에 가부착 한 상태에서 도전홀(111)부를 제외한 부분에 도포함으로 보호지(400)에 형성된 도전 접촉부(410)의 도전성을 보호할 수 있는 것이다.Here, when the protective paper 400 is attached, an insulating adhesive may be used, and the adhesion may be performed by using a conductive hole in a state in which the protective paper 400 is temporarily attached to the upper surface of the PCB substrate by using a characteristic of a mesh or nonwoven fabric having excellent absorbency. It is possible to protect the conductivity of the conductive contact portion 410 formed on the protective paper 400 by applying to portions other than 111.

또한, 도 10의 도시와 같이 보호지(400)의 표면 도전 접촉부(410) 표면에 금, 은, 주석, 니켈, 전도성 금속 중 어느 하나로 된 코팅액을 코팅하여 도전코팅층(420)을 형성하는 코팅층 형성단계(S600)를 더 수행할 수 있는 것으로, 이는 도전 접촉부(410)의 도전성을 한층 향상시킬 수 있게 수행되는 것이다.In addition, the coating layer forming step of forming a conductive coating layer 420 by coating a coating liquid of any one of gold, silver, tin, nickel, conductive metal on the surface of the surface conductive contact portion 410 of the protective paper 400 as shown in FIG. (S600) may be further performed, which is performed to further improve the conductivity of the conductive contact portion 410.

한편, 도 11의 도시와 같이 기판 천공단계(S100)에서 도전홀(111)을 형성시 PCB기판을 기준으로 하여 상부로부터 비교적 두껍게 형성되는 큰 직경을 갖는 확장홀(112)과, 상기 확장홀(112)의 하부로 연통되는 비교적 얇게 형성되는 작은 직경을 갖는 축소홀(113)을 다단으로 형성할 수 있는 것이다.Meanwhile, as shown in FIG. 11, when the conductive hole 111 is formed in the substrate drilling step S100, an expansion hole 112 having a large diameter formed relatively thickly from an upper side of the PCB substrate, and the expansion hole ( It is possible to form a multi-stage reduction hole 113 having a relatively small diameter formed in communication with the lower portion of the 112.

이는, 도전부재 삽입단계(S300)에서 도전부재(200)가 확장홀(112)에 내입 되어 축소홀(113)의 상부에 안착 및 축소홀(113)의 저면으로 0.05~0.1mm 돌출되게 내입시켜 수행할 수 있는 것으로, 이때, 다단 형성된 확장홀(112) 및 축소홀(113)로 된 도전홀(111)은, 수지층 형성단계(S200)를 수행하지 않은 상태에서도 도전홀(111)에 내입되는 도전부재(200)가 검사부(110)의 하부로 돌출 형성시킬 수 있는 것이다.This, by inserting the conductive member 200 in the conductive member insertion step (S300) is inserted into the expansion hole 112 to be seated on the top of the reduction hole 113 and protruded 0.05 ~ 0.1mm into the bottom surface of the reduction hole 113. In this case, the conductive holes 111 including the multi-stage expansion holes 112 and the reduction holes 113 may be embedded in the conductive holes 111 even without performing the resin layer forming step S200. The conductive member 200 is to be formed to protrude to the lower portion of the inspection unit (110).

이상과 같은 일련의 과정에 의해 제조된 반도체 소자 테스트용 탄성 콘택터는 상부로부터 도전 접촉부(410), 도전부(300), 도전부재(200)에 의해 수직 방향으로 전기적 통전이 이루어지게 되는 것이다.
The elastic contactor for testing a semiconductor device manufactured by the above series of processes is to conduct electrical conduction in the vertical direction by the conductive contact portion 410, the conductive portion 300, and the conductive member 200 from the top.

이하, 상기와 같이 제조된 반도체 소자 테스트용 탄성 콘택터의 작용을 첨부된 도면을 참고하여 상세히 설명한다.Hereinafter, the operation of the elastic contactor for testing a semiconductor device manufactured as described above will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

먼저, 본 발명 콘택터(1)의 설치관계를 살펴보면,First, looking at the installation relationship of the contactor 1 of the present invention,

도 12의 도시와 같이 콘택터(1)를 사용하여 반도체 소자(10)의 양불을 검사하기 위해서는 그 콘택터(1)를 검사장비 및 검사회로 기판(20)에 설치하면 되는 것인바, 이때 별도 구비되는 가이드수단 및 고정수단에 의해 본 발명 콘택터(1)를 검사회로 기판(20)의 상부면에 안착 및 고정하게 되는 것이다.As illustrated in FIG. 12, the contactor 1 may be installed on the test equipment and the test circuit board 20 in order to inspect the good or weakness of the semiconductor device 10 using the contactor 1. The contactor 1 of the present invention is seated and fixed to the upper surface of the test circuit board 20 by the guide means and the fixing means.

이때, 안착 고정되는 콘택터(1)는, 그 하부로 노출 형성된 도전부재(200)가 검사회로 기판(20)의 상부면에 면접되게 설치되는 것이다.In this case, the contactor 1 to be seated and fixed is installed such that the conductive member 200 exposed to the lower portion is interviewed on the upper surface of the test circuit board 20.

이후, 상기 콘택터(1)의 상부에는 검사하고자 하는 반도체 소자(10)가 안착되는 것으로, 반도체 소자(10)는 그 하부에 형성된 각각의 단자(11)가 콘택터(1)의 상부 각각의 도전 접촉부(410)에 면접되게 하면 되는 것이다.Subsequently, the semiconductor device 10 to be inspected is mounted on the contactor 1, and each terminal 11 formed at the lower part of the semiconductor device 10 has a conductive contact portion formed at an upper portion of the contactor 1. The interview can be made at 410.

이후, 통상적인 검사 방범에 따라 상기 검사회로 기판(20) 및 반도체 소자(10)에 전기적인 신호를 보냄과 동시에 반도체 소자(10) 상부에서 일정한 가압력을 가하게 되는 것으로, 이때, 콘택터(1)는 반도체 소자(10)와 검사회로 기판(20) 사이에서 전기적인 신호의 중계 역할을 함으로 그 전기적인 신호의 통전 여부에 따라 반도체 소자(10)의 양불이 판정되는 것이다.Subsequently, the electrical signal is sent to the inspection circuit board 20 and the semiconductor element 10 according to a conventional inspection, and at the same time, a constant pressing force is applied to the upper portion of the semiconductor element 10. By acting as an electrical signal relay between the semiconductor device 10 and the test circuit board 20, the good or bad of the semiconductor device 10 is determined according to whether the electrical signal is energized.

즉, 반도체 소자(10)와 검사회로 기판(20)에 전기적인 신호가 전달될 시 본 발명 콘택터(1)는, 상부로부터 반도체 소자(10)의 단자(11)와 접촉되는 도전 접촉부(410)와, 그 도전 접촉부(410)의 하부 도전부(300)와, 그 도전부(300)의 하부에서 검사부(110)의 하부로 노출 및 돌출 형성된 도전부재(200)에 의해 수직 방향으로 전기적인 신호가 전달되어 각각의 반도체 소자(10) 단자(11)와 검사회로 기판(20) 간의 전기적인 신호가 전달되는 지를 판단하게 되는 것이다.That is, when an electrical signal is transmitted to the semiconductor element 10 and the test circuit board 20, the contactor 1 of the present invention contacts the terminal 11 of the semiconductor element 10 from the top thereof. And electrical signals in the vertical direction by the lower conductive portion 300 of the conductive contact portion 410 and the conductive member 200 exposed and protruding from the lower portion of the conductive portion 300 to the lower portion of the inspection portion 110. Is transmitted to determine whether an electrical signal is transmitted between the terminal 11 of each semiconductor element 10 and the test circuit board 20.

이때, 상기 검사회로 기판(20)과 접촉되는 도전부재(200)는 일정한 탄력을 갖는 도전부(300)에 의해 소정의 탄성력이 발생하는 것인바, 그 탄성력에 의해 반도체 소자(10) 및 검사회로 기판(20)에 가압력이 가해 지더라도 반도체 소자(10) 및 검사회로 기판(20)에 전해지는 압력의 조절이 가능한 것이다.At this time, the conductive member 200 in contact with the test circuit board 20 is a predetermined elastic force is generated by the conductive portion 300 having a predetermined elasticity, the semiconductor element 10 and the test circuit by the elastic force Even if a pressing force is applied to the substrate 20, the pressure transmitted to the semiconductor element 10 and the test circuit board 20 can be adjusted.

이상과 같이 본 발명 반도체 소자 테스트용 탄성 콘택터 및 그 제조방법은, As described above, the elastic contactor for testing the semiconductor device of the present invention and the manufacturing method thereof,

일련의 제조방법에 의해 도전 혼합물이 충진된 도전부 사이의 간격을 미세화 시킬 수 있고, 제조 단가의 현저한 절감을 가져올 수 있으며, 그 성능에 있어서도, 금속구 및 보호지에 의한 접촉 방식을 가짐으로 콘택터의 내구성 및 정밀성을 향상시킬 수 있는 것이다.
By a series of manufacturing methods, the gap between the conductive parts filled with the conductive mixture can be miniaturized, and the manufacturing cost can be remarkably reduced. Also, in terms of the performance, the contactor by the metal sphere and the protective paper can be used. The durability and precision can be improved.

100 : 본체 110 : 검사부
111 : 도전홀 112 : 확장홀
113 : 축소홀 120 : 고정부
121 : 가이드공 122 : 결합공
200 : 도전부재 300 : 도전부
400 : 보호지 410 : 도전 접촉부
500 : 수지필름 510 : 도전 접촉부
520 : 도전코팅층
S100 : 기판 천공단계 S200 : 도전부재 삽입단계
S300 : 도전 혼합물 충진단계 S400 : 보호지 부착단계
S500 : 수지층 형성단계 S600 : 코팅층 형성단계
100: main body 110: inspection unit
111: conductive hole 112: expansion hole
113: reduction hole 120: fixed portion
121: guide ball 122: coupling hole
200: conductive member 300: conductive part
400: protective paper 410: conductive contact
500: resin film 510: conductive contact
520: conductive coating layer
S100: substrate drilling step S200: conductive member insertion step
S300: conductive mixture filling step S400: protective paper attaching step
S500: resin layer forming step S600: coating layer forming step

Claims (11)

반도체 소자의 단자와 반도체 장비의 검사회로 기판 사이에서 전기적 접속을 중계하여 반도체 소자의 양불을 검사하는 콘택터에 있어서,
판형 검사부(110)와 그 검사부(110)의 둘레에 방사형으로 가이드공(121) 및 결합공(122)을 갖는 다수의 고정부(120)로 구성되며, 상기 검사부(110)에는 상.하 관통되는 다수의 도전홀(111)이 형성된 양면 동박이 제거된 절연 PCB기판으로 된 콘택터 본체(100);
상기 도전홀(111)에 내입되어 하부가 검사부(110)의 저면으로 돌출되는 도전부재(200);
상기 도전홀(111)에 실리콘 소재와 분말상의 금속 도전성 소재가 혼합된 도전 혼합물을 충진하여 된 도전부(300); 및
상기 검사부(110)의 상부면에 부착되며, 상기 도전부(300)와의 접촉 표면에 도전혼합물이 흡수되어 도전 접촉부(410)를 이루는 보호지(400)를 포함하여 구성함을 특징으로 하는 반도체 소자 테스트용 탄성 콘택터.
In the contactor for inspecting the good or bad of the semiconductor element by relaying the electrical connection between the terminal of the semiconductor element and the inspection circuit board of the semiconductor device,
It consists of a plurality of fixing parts 120 having a guide hole 121 and a coupling hole 122 radially around the plate-shaped inspection unit 110 and the inspection unit 110, the upper and lower through the inspection unit 110. A contactor body 100 made of an insulated PCB substrate from which a double-sided copper foil having a plurality of conductive holes 111 formed thereon is removed;
A conductive member 200 inserted into the conductive hole 111 and having a lower portion protruding to the bottom of the inspection unit 110;
A conductive part 300 filled with a conductive mixture in which a silicon material and a powdered metal conductive material are mixed in the conductive hole 111; And
A semiconductor device test, comprising a protective paper 400 attached to an upper surface of the inspection unit 110 and absorbing a conductive mixture on a contact surface with the conductive portion 300 to form a conductive contact portion 410. Elastic contactor.
제 1항에 있어서,
상기 본체(100)의 검사부(110) 저면에 부착되며, 상기 도전홀(111)과 연통되되, 도전홀(111)의 직경보다 작은 직경의 관통홀(510)이 형성된 절연 수지필름(500)을 포함하여 구성하되,
상기 도전부재(200)가 도전홀(111)에 삽입되어 수지필름(500)의 관통홀(510) 상부면에 안착 및 도전부재(200)의 하부가 관통홀(510)의 저면으로 돌출되게 구성함을 특징으로 하는 반도체 소자 테스트용 탄성 콘택터.
The method of claim 1,
The insulating resin film 500 is attached to the bottom surface of the inspection unit 110 of the main body 100 and communicates with the conductive hole 111 and has a through hole 510 having a diameter smaller than that of the conductive hole 111. Including but not limited to
The conductive member 200 is inserted into the conductive hole 111 to be seated on the upper surface of the through hole 510 of the resin film 500 and configured so that the lower portion of the conductive member 200 protrudes to the bottom surface of the through hole 510. An elastic contactor for testing a semiconductor device, characterized in that.
제 1항에 있어서,
상기 검사부(110)의 도전홀(111)은, 상부에 확장홀(112)을 형성하고, 하부는 상기 확장홀(112) 보다 좁은 직경을 갖는 축소홀(113)로 된 다단홀로 구성하되,
상기 도전부재(200)가 확장홀(112)에 삽입되어 축소홀(113)의 상부면에 안착 및 도전부재(200)의 하부가 축소홀(113)의 저면으로 돌출되게 구성함을 특징으로 하는 반도체 소자 테스트용 탄성 콘택터.
The method of claim 1,
The conductive hole 111 of the inspection unit 110, the expansion hole 112 is formed in the upper portion, the lower portion is composed of a multi-stage hole consisting of a reduction hole 113 having a narrower diameter than the expansion hole 112,
The conductive member 200 is inserted into the expansion hole 112 is seated on the upper surface of the reduction hole 113 and the lower portion of the conductive member 200 is characterized in that configured to project to the bottom surface of the reduction hole 113 Elastic contactor for testing semiconductor devices.
제 1항에 있어서,
상기 도전부재(200)는, 도전성 금속구 또는 하부가 반구형을 이루는 금속봉 중 어느 하나로 구성함을 특징으로 하는 반도체 소자 테스트용 탄성 콘택터.
The method of claim 1,
The conductive member 200 is a conductive contactor for the semiconductor device test, characterized in that composed of any one of the conductive metal sphere or the metal rod of the lower hemisphere.
제 4항에 있어서,
상기 도전부재(200)는, 프라스틱, 유리, 세라믹, 고무 중 어느 하나의 재질로 된 구(Ball) 또는 봉(Bar) 중 어느 하나의 형상으로 구성하되,
도전부재(200) 표면에 도전 물질이 코팅되어 도전성을 가지는 금속구 또는 금속봉을 이루게 구성함을 특징으로 하는 반도체 소자 테스트용 탄성 콘택터.
The method of claim 4, wherein
The conductive member 200 is composed of any one of a ball or a bar made of any one material of plastic, glass, ceramic, rubber,
An electrically conductive contactor for semiconductor device testing, characterized in that the conductive material is coated on the surface of the conductive member 200 to form a conductive metal sphere or a metal rod.
제 1항에 있어서,
상기 보호지(400)는, 전기가 통하지 않는 절연 메쉬 또는 부직포 중 어느 하나로 구성함을 특징으로 하는 반도체 소자 테스트용 탄성 콘택터.
The method of claim 1,
The protective paper 400, the elastic contactor for testing a semiconductor device, characterized in that composed of any one of the non-electric insulating mesh or nonwoven fabric.
제 1항에 있어서,
상기 보호지(400)의 표면 도전 접촉부(410)의 표면에 금, 은, 주석, 니켈, 전도성 금속, 중 어느 하나로 코팅된 도전코팅층(420)을 형성함을 특징으로 하는 반도체 소자 테스트용 탄성 콘택터.
The method of claim 1,
Elastic contactor for testing a semiconductor device, characterized in that to form a conductive coating layer 420 coated with any one of gold, silver, tin, nickel, conductive metal, on the surface of the surface conductive contact portion 410 of the protective paper (400).
반도체 소자의 단자와 반도체 장비의 검사회로 기판 사이에서 전기적 접속을 중계하여 반도체 소자의 양불을 검사하는 콘택터의 제조방법에 있어서,
검사부와 고정부를 가지며 양면의 동박이 제거된 절연 PCB기판을 구비하되, 기판 표면에 펀칭기 또는 레이져 홀 가공기로 된 천공수단을 이용하여 검사부에 해당하는 도전홀과 고정부에 해당하는 가이드공 및 결합공을 천공하는 기판 천공단계(S100);
상기 PCB기판 천공단계(S100)에 의해 형성된 도전홀에 금속볼 또는 금속봉으로 된 금속성 도전부재를 내입하는 도전부재 삽입단계(S300);
상기 도전부재가 삽입된 도전홀에 실리콘 소재와 분말상의 금속 도전성 소재가 혼합하여 된 도전 혼합물을 주입수단을 이용하여 충진 및 도전부재를 탄성 고정하여 도전부를 형성하는 도전 혼합물 충진단계(S400); 및
상기 PCB기판 상부면에 절연성 메쉬 또는 부직포로 된 보호지를 절연성 접착제로 부착하되, 보호지의 도전홀에 해당하는 부분에 도전 혼합물이 흡수되어 도전성을 가지는 도전 접촉부를 형성하는 보호지 부착단계(S500)를 순차적으로 수행하여 됨을 특징으로 하는 반도체 소자 테스트용 탄성 콘택터 제조방법.
In the manufacturing method of the contactor which inspects the good or bad of a semiconductor element by relaying an electrical connection between the terminal of a semiconductor element, and the test circuit board of a semiconductor device,
An insulating PCB substrate having an inspection part and a fixing part and having copper foils of both sides removed thereon, using a punching means such as a punching machine or a laser hole processing machine on the surface of the substrate, and a guide hole and a coupling hole corresponding to the inspection part and the fixing part. A substrate puncturing step (S100) for puncturing a ball;
A conductive member insertion step (S300) of inserting a metallic conductive member made of a metal ball or a metal rod into the conductive hole formed by the PCB substrate drilling step (S100);
A conductive mixture filling step (S400) of forming a conductive part by elastically fixing a filling and conductive member by using an injection means for a conductive mixture in which a silicon material and a powdered metal conductive material are mixed in the conductive hole into which the conductive member is inserted; And
Protective paper attaching step (S500) of attaching a protective paper made of an insulating mesh or non-woven fabric to the upper surface of the PCB substrate with an insulating adhesive, the conductive mixture is absorbed in a portion corresponding to the conductive hole of the protective paper to form a conductive contact portion having conductivity Method of manufacturing an elastic contactor for testing a semiconductor device, characterized in that performed by.
제 8항에 있어서,
기판 천공단계(S100) 다음 단계로,
PCB기판의 저면에 절연 수지필름을 절연성 접착제로 부착하고, 부착된 절연 수지필름에 도전홀 보다 작은 직경을 갖는 관통홀을 천공수단에 의해 도전홀과 연통되게 천공하는 수지층 형성단계(S200)를 더 수행하되,
도전부재 삽입단계(S300)에서 도전부재가 도전홀에 내입 되어 절연 수지필름의 관통홀 상부에 안착 및 관통홀의 저면으로 0.05~0.1mm 돌출되게 내입 시켜 됨을 특징으로 하는 반도체 소자 테스트용 탄성 콘택터 제조방법.
The method of claim 8,
Substrate punching step (S100) Next step,
Attaching an insulating resin film to the bottom of the PCB substrate with an insulating adhesive, and forming a resin layer (S200) for drilling a through hole having a diameter smaller than the conductive hole in communication with the conductive hole by means of a drilling means; Do more,
In the conductive member inserting step (S300), the conductive member is embedded in the conductive hole, so that it is seated on the upper part of the through-hole of the insulating resin film and inserted into the bottom surface of the through-hole so as to protrude from 0.05 to 0.1 mm. .
제 8항에 있어서,
기판 천공단계(S100)에서
도전홀은, PCB기판을 기준으로 하여 상부로부터 형성되는 확장홀과, 상기 확장홀의 하부로 연통되는 작은 직경을 갖는 축소홀을 다단으로 형성하되,
도전부재 삽입단계(S300)에서 도전부재가 확장홀에 내입 되어 축소홀의 상부에 안착 및 축소홀의 저면으로 0.05~0.1mm 돌출되게 내입시켜 됨을 특징으로 하는 반도체 소자 테스트용 탄성 콘택터 제조방법.
The method of claim 8,
In the substrate drilling step (S100)
The conductive hole may include an expansion hole formed from an upper portion of the PCB substrate and a reduction hole having a small diameter communicating with the lower portion of the expansion hole in multiple stages.
In the conductive member insertion step (S300), the conductive member is embedded in the expansion hole is seated in the upper part of the shrinking hole and the elastic contactor manufacturing method for the semiconductor device test, characterized in that it is inserted into the bottom of the shrinking hole to protrude 0.05 ~ 0.1mm.
제 8항에 있어서,
보호지 부착단계(S500)에서,
보호지(400)의 도전 접촉부의 표면에 금, 은, 주석, 니켈, 전도성 금속, 중 어느 하나를 원료로 한 코팅액을 코팅하여 도전 코팅층을 형성하는 코팅층 형성단계(S600)를 더 수행하여 됨을 특징으로 하는 반도체 소자 테스트용 탄성 콘택터 제조방법.
The method of claim 8,
In the protective paper attachment step (S500),
The coating layer forming step (S600) of forming a conductive coating layer is further performed by coating a coating liquid made of any one of gold, silver, tin, nickel, and a conductive metal on the surface of the conductive contact portion of the protective paper 400. An elastic contactor for manufacturing a semiconductor device test.
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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101237896B1 (en) 2011-11-28 2013-02-27 에이케이이노텍주식회사 Contactor having antistatic function for testing semiconductor device
KR20180031106A (en) * 2016-09-19 2018-03-28 (주)티에스이 Test socket for semiconductor
KR20180103450A (en) * 2017-03-10 2018-09-19 주식회사 파인디앤씨 A test socket for semiconductor
WO2018182327A1 (en) * 2017-03-31 2018-10-04 정상후 Semiconductor package test socket and method for manufacturing same
CN112041689A (en) * 2018-04-13 2020-12-04 黄东源 Contact for testing semiconductor device and test socket
EP4275058A4 (en) * 2021-01-08 2024-07-03 Leeno Ind Inc Test socket and method of manufacturing the same

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1131877A (en) 1997-07-10 1999-02-02 Fujitsu Ltd Method for testing printed wiring board and electric parts
KR20050034759A (en) * 2003-01-17 2005-04-14 제이에스알 가부시끼가이샤 Anisotropic conductive connector and production method therefor and inspection unit for circuit device
KR20100099598A (en) * 2009-03-03 2010-09-13 광주과학기술원 Silicon contactor and method for treating surface thereof

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1131877A (en) 1997-07-10 1999-02-02 Fujitsu Ltd Method for testing printed wiring board and electric parts
KR20050034759A (en) * 2003-01-17 2005-04-14 제이에스알 가부시끼가이샤 Anisotropic conductive connector and production method therefor and inspection unit for circuit device
KR20100099598A (en) * 2009-03-03 2010-09-13 광주과학기술원 Silicon contactor and method for treating surface thereof

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101237896B1 (en) 2011-11-28 2013-02-27 에이케이이노텍주식회사 Contactor having antistatic function for testing semiconductor device
KR20180031106A (en) * 2016-09-19 2018-03-28 (주)티에스이 Test socket for semiconductor
KR101895002B1 (en) * 2016-09-19 2018-09-05 (주)티에스이 Test socket for semiconductor
KR20180103450A (en) * 2017-03-10 2018-09-19 주식회사 파인디앤씨 A test socket for semiconductor
KR101949844B1 (en) * 2017-03-10 2019-02-19 주식회사 파인디앤씨 A test socket for semiconductor
WO2018182327A1 (en) * 2017-03-31 2018-10-04 정상후 Semiconductor package test socket and method for manufacturing same
CN112041689A (en) * 2018-04-13 2020-12-04 黄东源 Contact for testing semiconductor device and test socket
CN112041689B (en) * 2018-04-13 2024-03-12 黄东源 Contact and test socket for testing semiconductor device
EP4275058A4 (en) * 2021-01-08 2024-07-03 Leeno Ind Inc Test socket and method of manufacturing the same

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