KR101102695B1 - 노광 장치 - Google Patents

노광 장치 Download PDF

Info

Publication number
KR101102695B1
KR101102695B1 KR1020050026939A KR20050026939A KR101102695B1 KR 101102695 B1 KR101102695 B1 KR 101102695B1 KR 1020050026939 A KR1020050026939 A KR 1020050026939A KR 20050026939 A KR20050026939 A KR 20050026939A KR 101102695 B1 KR101102695 B1 KR 101102695B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
exposure
lens
area
large area
small
Prior art date
Application number
KR1020050026939A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20060104624A (ko
Inventor
조용준
Original Assignee
엘지전자 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 엘지전자 주식회사 filed Critical 엘지전자 주식회사
Priority to KR1020050026939A priority Critical patent/KR101102695B1/ko
Publication of KR20060104624A publication Critical patent/KR20060104624A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101102695B1 publication Critical patent/KR101102695B1/ko

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70058Mask illumination systems
    • G03F7/70075Homogenization of illumination intensity in the mask plane by using an integrator, e.g. fly's eye lens, facet mirror or glass rod, by using a diffusing optical element or by beam deflection
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70058Mask illumination systems
    • G03F7/7015Details of optical elements
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70058Mask illumination systems
    • G03F7/70191Optical correction elements, filters or phase plates for controlling intensity, wavelength, polarisation, phase or the like

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

본 발명의 실시예에 의한 노광 장치는, 광원, 포토 마스크, 렌즈 시스템 및 노광 대상이 되는 기판이 올려지는 스테이지가 구비된 노광 장치에 있어서, 상기 렌즈 시스템은 한 쌍의 플라이 아이 렌즈가 소정 간격 이격 배열된 구조인 렌즈 모듈로 구성되며, 상기 노광 대상이 되는 상기 기판이 소면적인 경우 상기 한 쌍의 플라이 아이 렌즈 사이에 중간 렌즈가 삽입되어 초점 거리가 변경됨을 특징으로 한다.
이와 같은 본 발명에 의하면, 대면적 노광 및 소면적 노광을 수행할 때 렌즈 모듈의 교체 없이 대면적 또는 소면적 노광을 수행토록 함으로써, 대면적 노광이 셋업된 상태에서 소면적 노광을 수행할 때의 효율 저하를 극복하고, 별도의 렌즈 모듈을 사용하지 않아 비용 절감 효과를 얻을 수 있다는 장점이 있다.
또한, 이를 통해 향후 초 대형화되는 평판표시장치의 제품생산에 능동적으로 대처 가능하게 된다는 장점이 있다.

Description

노광 장치{exposure apparatus}
도 1은 종래의 노광 장치를 나타내는 사시도.
도 2a 및 도 2b는 서로 다른 초점거리를 갖는 플라이 아이 렌즈의 레이 트레이싱을 나타내는 도면.
도 3은 본 발명의 실시예에 의한 노광장치의 개략적인 사시도.
도 4a 및 도 4b는 본 발명의 실시에에 의한 렌즈 시스템 내부 구조를 나타내는 도면.
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>
110 : 광원 130 : 포토 마스크
150 : 렌즈 시스템 152 : 센서
170 : 스테이지
본 발명은 LCD, PDP 등의 제조 공정에 사용되는 생산장비 중 노광 장치에 관한 것으로, 특히 초점 거리를 조절할 수 있는 렌즈 시스템이 구비된 노광장치에 관한 것이다.
최근 각광 받고 있는 액정표시장치(Liquid Crystal Display : LCD) 및 플라즈마 디스플레이 패널(Plasma Display Panel : PDP) 등과 같은 평판표시장치(Flat Panel Display : FPD)가 점차 대형화됨에 따라 상기 제품의 대면적화에 대응할 수 있는 생산장비의 개발이 요구되고 있다.
그 중 상기 평판표시장치의 미세한 구조와 고집적화를 가능하게 하는 공정으로 노광 공정을 들 수 있는데, 상기 노광 공정 및 그에 따르는 식각 공정은 광화학 반응과 화학 반응들이 복잡하고 미세한 패턴을 가진 반도체 장치 등을 결정적으로 가능하게 하는 공정이라 할 수 있다.
그에 따라 상기 노광 공정을 진행하도록 제작된 노광 공정 설비는 반도체장치 제작에 관건이 되는 설비이고 정렬이나 초점을 맞출 때 정확한 작업이 되도록 엄격히 관리되어야 한다.
도 1은 종래의 노광 장치를 나타내는 사시도이다.
도 1을 참조하면, 이는 종래의 노광장치의 스태퍼에 대한 사시도로서, 이는 일반적으로 사용되는 노광 설비인 스테퍼에서 하부에는 노광의 대상이 되는 기판이 스테이지(17)에 고정된 상태로 놓여 있으며, 상기 기판 위쪽으로는 노광을 위한 광원과 셔터로 된 광원 시스템(11), 포토 마스크(13), 렌즈 시스템(15)이 일정 위치에 차례로 설치되어 있다.
그리고 스테이지(17)가 단계적으로 횡과 종으로 움직이면서 스텝퍼는 기판에 노광을 하여 소정의 노광 공정을 수행하게 된다.
종래의 경우 상기 노광 장치를 통해 노광을 수행함에 있어, 소면적을 노광할 때와, 대면적을 노광할 때 각각 초점거리가 서로 다른 플라이 아이 렌즈를 교체하여 사용하였다. 즉, 소면적 노광 및 대면적 노광에 따라 2가지 타입의 렌즈 모듈을 사용하였다.
도 2a 및 도 2b는 서로 다른 초점거리를 갖는 플라이 아이 렌즈의 레이 트레이싱을 나타내는 도면이다.
종래의 경우 상기 렌즈 시스템(15) 내에 구비된 렌즈의 구성에 따라 초점거리가 달라지는데, 대면적을 노광할 경우에는 도 2a에 도시된 바와 같이 유효 초점거리가 120mm이고, 렌즈의 곡률이 251mm 인 것을 사용하였으며, 소면적을 노광할 경우에는 유효 초점거리가 100mm이고, 렌즈의 곡률이 103.6mm 인 것을 사용하였다.
그러나, 이와 같은 종래의 노광장치 즉, 종래의 노광장치에 구비된 렌즈 시스템은 소면적 또는 대면적의 노광을 위해 별도의 초점거리가 다른 별도의 렌즈 모듈을 사용함으로써, 제작 비용이 많이 소요된다는 단점이 있다.
또한, 소면적 노광시 대면적에서와 동일한 램프와 타원경을 적용함에 있어서 효율(조도)의 저하를 가져오며, 대면적을 기준으로 렌즈 시스템을 셋업(setup)한 후에 소면적 노광을 적용할 경우 렌즈 모듈을 리셋해야 하는 번거롭다는 단점이 있다.
본 발명은 노광장치에 구비된 렌즈 시스템에 있어서, 대면적 노광 및 소면적 노광을 수행할 때 렌즈 모듈의 교체 없이 대면적 또는 소면적 노광을 수행토록 함으로써, 대면적 노광이 셋업된 상태에서 소면적 노광을 수행할 때의 효율 저하를 극복하고, 별도의 렌즈 모듈을 사용하지 않아 비용 절감 효과를 얻을 수 있는 노광 장치를 제공함에 그 목적이 있다.
상기 목적을 달성하기 위하여 본 발명의 실시예에 의한 노광 장치는, 광원, 포토 마스크, 렌즈 시스템 및 노광 대상이 되는 기판이 올려지는 스테이지가 구비된 노광 장치에 있어서, 상기 렌즈 시스템은 한 쌍의 플라이 아이 렌즈가 소정 간격 이격 배열된 구조인 렌즈 모듈로 구성되며, 상기 노광 대상이 되는 상기 기판이 소면적인 경우 상기 한 쌍의 플라이 아이 렌즈 사이에 중간 렌즈가 삽입되어 초점 거리가 변경됨을 특징으로 한다.
또한, 상기 렌즈 시스템을 구성하는 렌즈 모듈에 상기 중간 렌즈가 삽입되는 것은, 상기 스테이지에 올려지는 기판이 대면적 또는 소면적 여부를 센서를 통해 미리 파악하고, 상기 파악된 정보를 통해 상기 중간 렌즈의 삽입 여부가 자동으로 결정됨을 특징으로 한다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 보다 상세히 설명하도록 한다.
도 3은 본 발명의 실시예에 의한 노광장치의 개략적인 사시도이다.
도 3을 참조하면, 이는 본 발명의 실시예에 의한 노광장치의 스태퍼에 대한 사시도로서, 이는 스테퍼에서 하부에는 노광의 대상이 되는 기판이 스테이지(170)에 고정된 상태로 놓여 있으며, 상기 기판 위쪽으로는 노광을 위한 광원과 셔터로 된 광원 시스템(110), 포토 마스크(130), 렌즈 시스템(150)이 일정 위치에 차례로 설치되어 있으며, 상기 스테이지(170)가 단계적으로 횡과 종으로 움직이면서 스텝퍼는 기판에 노광을 하여 소정의 노광 공정을 수행하게 된다.
종래의 경우 상기 노광 장치를 통해 노광을 수행함에 있어, 소면적을 노광할 때와, 대면적을 노광할 때 각각 초점거리가 서로 다른 플라이 아이 렌즈를 교체하여 사용하였다. 즉, 소면적 노광 및 대면적 노광에 따라 2가지 타입의 렌즈 모듈을 사용하였다.
이에 반해 본 발명은 상기 노광장치에 구비되는 렌즈 시스템에 있어서, 대면적 노광 및 소면적 노광을 수행할 때 상기 렌즈 시스템를 구성하는 렌즈 모듈에 소정의 곡률을 갖는 중간 렌즈를 삽입시켜 렌즈 모듈의 교체 없이 대면적 또는 소면적 노광을 수행토록 함으로써, 대면적 노광이 셋업된 상태에서 소면적 노광을 수행할 때의 효율 저하를 극복하고, 별도의 렌즈 모듈을 사용하지 않아 비용 절감 효과를 얻을 수 있도록 함을 그 특징으로 한다.
또한, 본 발명의 경우 상기 렌즈 시스템를 구성하는 렌즈 모듈에 상기 중간 렌즈가 삽입되는 것은, 노광 장치의 스테이지(170)에 올려지는 기판이 대면적 또는 소면적 여부를 센서(152)를 통해 미리 파악하고, 상기 파악된 정보를 통해 상기 중간 렌즈의 삽입 여부가 자동으로 결정됨으로써, 대면적 노광 및 소면적 노광을 수행할 때 렌즈 모듈의 교체 없이 대면적 또는 소면적 노광을 자동으로 수행될 수 있게 됨을 그 특징으로 한다.
도 4a 및 도 4b는 본 발명의 실시에에 의한 렌즈 시스템 내부 구조를 나타내는 도면으로서, 중간 렌즈 삽입을 통해 서로 다른 초점거리를 갖는 플라이 아이 렌 즈의 레이 트레이싱을 나타내는 도면이다.
즉, 도 4a는 본 발명에 의한 렌즈 시스템의 대면적 노광을 수행하기 의한 렌즈 모듈의 렌즈 배열을 나타내는 도면이고, 도 4b는 본 발명에 의한 렌즈 시스템의 소면적 노광을 수행하기 위한 렌즈 모듈의 렌즈 배열을 나타내는 도면이다.
도시된 바와 같이 도 4a에 도시된 렌즈 모듈의 렌즈 배열은 대면적 노광을 위한 플라이 아이 렌즈 배열로 유효 초점거리가 100mm가 되도록 한 쌍의 플라이 아이 렌즈(40)가 소정 간격으로 배열되어 있다.
상기 배열을 갖는 렌즈 모듈을 이용하여 소면적 노광을 수행하고자 하면, 본 발명의 경우 도 4b에 도시된 바와 같이 상기 한 쌍의 플라이 아이 렌즈(40) 사이에 특정 렌즈 즉, 소정의 곡률을 갖는 렌즈(42)를 삽입함으로써, 소면적에 대응 가능한 정도의 초점거리를 갖는 즉, 유효 초점거리가 120mm가 되도록 상기 대면적 노광을 위한 렌즈 배열 내에 렌즈가 삽입됨을 특징으로 한다.
또한, 본 발명의 경우 상기 렌즈 시스템를 구성하는 렌즈 모듈에 상기 중간 렌즈가 삽입되는 것은, 노광 장치의 스테이지에 올려지는 기판이 대면적 또는 소면적 여부를 센서를 통해 미리 파악하고, 상기 파악된 정보를 통해 상기 중간 렌즈의 삽입 여부가 자동으로 결정됨으로써, 대면적 노광 및 소면적 노광을 수행할 때 렌즈 모듈의 교체 없이 대면적 또는 소면적 노광을 자동으로 수행될 수 있게 됨을 그 특징으로 한다.
이와 같은 본 발명에 의하면, 대면적 노광 및 소면적 노광을 수행할 때 렌즈 모듈의 교체 없이 대면적 또는 소면적 노광을 수행토록 함으로써, 대면적 노광이 셋업된 상태에서 소면적 노광을 수행할 때의 효율 저하를 극복하고, 별도의 렌즈 모듈을 사용하지 않아 비용 절감 효과를 얻을 수 있다는 장점이 있다.
또한, 이를 통해 향후 초 대형화되는 평판표시장치의 제품생산에 능동적으로 대처 가능하게 된다는 장점이 있다.

Claims (2)

  1. 광원, 포토 마스크, 렌즈 시스템 및 노광 대상으로서 대면적 또는 소면적으로 구분되는 기판이 올려지는 스테이지가 구비된 노광 장치에 있어서,
    상기 렌즈 시스템은 대면적 노광을 위한 한 쌍의 플라이 아이 렌즈가 소정 간격 이격 배열된 구조인 렌즈 모듈로 구성되며,
    상기 스테이지에 올려지는 기판이 대면적 또는 소면적 여부를 센서를 통해 미리 파악하고, 상기 파악된 정보를 통해 상기 노광 대상이 되는 상기 기판이 소면적인 경우 상기 한 쌍의 플라이 아이 렌즈 사이에 소정의 곡률을 갖는 중간 렌즈가 삽입되어 소면적 노광을 수행할 수 있도록 초점 거리가 변경됨을 특징으로 하는 노광 장치.
  2. 삭제
KR1020050026939A 2005-03-31 2005-03-31 노광 장치 KR101102695B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020050026939A KR101102695B1 (ko) 2005-03-31 2005-03-31 노광 장치

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020050026939A KR101102695B1 (ko) 2005-03-31 2005-03-31 노광 장치

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20060104624A KR20060104624A (ko) 2006-10-09
KR101102695B1 true KR101102695B1 (ko) 2012-01-05

Family

ID=37634654

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020050026939A KR101102695B1 (ko) 2005-03-31 2005-03-31 노광 장치

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101102695B1 (ko)

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001135560A (ja) * 1999-11-04 2001-05-18 Nikon Corp 照明光学装置、該照明光学装置を備えた露光装置、および該露光装置を用いたマイクロデバイス製造方法
KR20030034044A (ko) * 2002-08-14 2003-05-01 에이에스엠엘 유에스, 인크. 사진석판술에 사용하기 위한 줌 조명 시스템

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001135560A (ja) * 1999-11-04 2001-05-18 Nikon Corp 照明光学装置、該照明光学装置を備えた露光装置、および該露光装置を用いたマイクロデバイス製造方法
KR20030034044A (ko) * 2002-08-14 2003-05-01 에이에스엠엘 유에스, 인크. 사진석판술에 사용하기 위한 줌 조명 시스템

Also Published As

Publication number Publication date
KR20060104624A (ko) 2006-10-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6465591B2 (ja) 描画装置
JP2005215686A (ja) 露光装置
JP5210052B2 (ja) 半導体デバイスの製造方法
CN106483773B (zh) 投影曝光装置、投影曝光方法以及掩模版
JP2004302043A (ja) 露光装置及び露光方法
US6195153B1 (en) Scanning type exposure device having individually adjustable optical modules and method of manufacturing same
CN103257530A (zh) 接近式曝光装置、曝光光形成方法、面板基板的制造方法
US8072580B2 (en) Maskless exposure apparatus and method of manufacturing substrate for display using the same
KR101102695B1 (ko) 노광 장치
US20150362841A1 (en) Method and Apparatus for Exposing a Structure on a Substrate
US7206061B2 (en) Mask supporting apparatus using vacuum and light exposing system, and method using the same
JP2010161246A (ja) 伝送光学系、照明光学系、露光装置、露光方法、およびデバイス製造方法
US8977990B2 (en) Exposure monitoring key to determine misalignment between blind and reticle
KR101131442B1 (ko) 마스크리스 노광기의 디지털 미러 디바이스 정렬방법
JP2006253529A (ja) 照明光学装置、露光装置、および露光方法
CN108614396B (zh) 曝光机狭缝切换装置及切换方法
JP2004119570A (ja) 露光量設定方法、露光方法およびこれを用いた露光装置
JP2005140936A (ja) 露光用シャッター、露光装置、露光方法、及び基板製造方法
CN106933039B (zh) 一种硅片边缘保护装置及方法
JP5394320B2 (ja) 光源ユニット、光源ユニットの光軸調整方法、プロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置の露光光照射方法、及び表示用パネル基板の製造方法
KR102096851B1 (ko) 광학계 및 이를 포함하는 노광장치
KR20080068170A (ko) 노광용 기준 마크를 형성하는 장치와 방법, 및 표시패널용 기판의 제조 방법
KR100588053B1 (ko) 유리기판용 노광장치
JP6631655B2 (ja) 露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法及びデバイスの製造方法
JP4994417B2 (ja) 露光装置、露光方法、及び基板製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20141124

Year of fee payment: 4

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20151124

Year of fee payment: 5

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20161124

Year of fee payment: 6

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20171124

Year of fee payment: 7