CN108614396B - 曝光机狭缝切换装置及切换方法 - Google Patents
曝光机狭缝切换装置及切换方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN108614396B CN108614396B CN201810439399.1A CN201810439399A CN108614396B CN 108614396 B CN108614396 B CN 108614396B CN 201810439399 A CN201810439399 A CN 201810439399A CN 108614396 B CN108614396 B CN 108614396B
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- slit
- unit
- loading platform
- exposure machine
- switching device
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 28
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims abstract description 6
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 claims description 3
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 claims description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 18
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 abstract description 8
- 230000004044 response Effects 0.000 abstract description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 17
- 230000008569 process Effects 0.000 description 16
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 9
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 9
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 239000000565 sealant Substances 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 230000002035 prolonged effect Effects 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
- G03F7/70091—Illumination settings, i.e. intensity distribution in the pupil plane or angular distribution in the field plane; On-axis or off-axis settings, e.g. annular, dipole or quadrupole settings; Partial coherence control, i.e. sigma or numerical aperture [NA]
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
本发明提供一种曝光机狭缝切换装置及切换方法。所述曝光机狭缝切换装置用于设于曝光机的光源下方，所述曝光机狭缝切换装置包括：固定轴、套设于所述固定轴上且能够围绕所述固定轴旋转的装载平台、固定于所述装载平台上且围绕所述装载平台的中心点均匀分布的多个不同型号的狭缝单元、与所述装载平台传动连接的旋转驱动器、安装于所述固定轴的顶部的对位感应器以及与所述旋转驱动器和对位感应器电性连接的控制单元，能够通过所述旋转驱动器带动所述装载平台旋转及通过所述对位感应器感应狭缝单元与曝光机的光源的对位偏差，从而根据生产需要自动切换狭缝单元，提高生产效率，降低人员进入曝光机的频率，避免曝光机的光学系统被污染。
Description
技术领域
本发明涉及显示技术领域，尤其涉及曝光机狭缝切换装置及切换方法。
背景技术
在显示技术领域，液晶显示器(Liquid Crystal Display，LCD)与有机发光二极管显示器(Organic Light Emitting Diode，OLED)等平板显示器已经逐步取代CRT显示器，广泛的应用于液晶电视、手机、个人数字助理、数字相机、计算机屏幕或笔记本电脑屏幕等。
通常液晶显示面板由彩膜基板(CF，Color Filter)、薄膜晶体管基板(TFT，ThinFilm Transistor)、夹于彩膜基板与薄膜晶体管基板之间的液晶(LC，Liquid Crystal)及密封胶框(Sealant)组成，其成型工艺一般包括：前段阵列(Array)制程(薄膜、黄光、蚀刻及剥膜)、中段成盒(Cell)制程(TFT基板与CF基板贴合)及后段模组组装制程(驱动IC与印刷电路板压合)。其中，前段Array制程主要是形成TFT基板，以便于控制液晶分子的运动；中段Cell制程主要是在TFT基板与CF基板之间添加液晶；后段模组组装制程主要是驱动IC压合与印刷电路板的整合，进而驱动液晶分子转动，显示图像。
在液晶显示器的Array制程等平板显示器的制程过程中，经常会用到曝光制程。通常曝光制程的具体过程为，先在涂有光刻胶的基板上方放置掩膜板，然后利用曝光机对基板进行曝光，具体的，曝光机通过开启超高压水银灯发出UV紫外光线，将掩膜板上的图像信息转移到涂有光刻胶的基板表面上，基于掩膜板的图案，光刻胶会有被曝光的部分和未被曝光的部分。再利用显影液对光刻胶进行显影，即可去除光刻胶被曝光的部分，保留光刻胶未被曝光的部分，或者去除光刻胶未被曝光的部分，保留光刻胶被曝光的部分，从而使光刻胶形成所需的图形。
上述的曝光制程中，基板的曝光量和照度是由曝光机中的狭缝单元(slit)来控制的。一般狭缝越宽，照度越强，曝光量越大，曝光所需时间越短，产能也越大。现有的曝光机中都只能装载一个狭缝单元，当生产需求的曝光量发生变化时，需要手动更换不同狭缝宽度的狭缝单元，这种更换方法，工作量大，工作效率低，影响产能的推进，并且人员频繁进出曝光机内部，容易污染对曝光机内的光学系统，影响曝光质量。而如果一直使用同一个狭缝单元(狭缝宽度不变)，生产时不进行更换，此时，为了获得高曝光量，就只能降低扫描速度(Scan Speed)，将曝光时间延长，以牺牲制程时间的方式来获得理想的曝光效果，这将导致生产效率被大大降低。
发明内容
本发明的目的在于提供一种曝光机狭缝切换装置，能够根据生产需要自动切换狭缝单元，提高生产效率，降低人员进入曝光机的频率，避免曝光机的光学系统被污染。
本发明的目的还在于提供一种曝光机狭缝切换方法，能够根据生产需要自动切换狭缝单元，提高生产效率，降低人员进入曝光机的频率，避免曝光机的光学系统被污染。
为实现上述目的，本发明提供一种曝光机狭缝切换装置，用于设于曝光机的光源下方，所述曝光机狭缝切换装置包括：固定轴、套设于所述固定轴上且能够围绕所述固定轴旋转的装载平台、固定于所述装载平台上且围绕所述装载平台的中心点均匀分布的多个不同型号的狭缝单元、与所述装载平台传动连接的旋转驱动器、安装于所述固定轴的顶部的对位感应器以及与所述旋转驱动器和对位感应器电性连接的控制单元；所述固定轴设于所述装载平台的中心点。
所述曝光机狭缝切换装置还包括：弹簧卡扣，所述弹簧卡扣设置在狭缝单元的边缘上；所述狭缝单元通过所述弹簧卡扣固定于所述装载平台上。
对应每一个狭缝单元设置两个弹簧卡扣，所述两个弹簧卡扣分别固定所述狭缝单元相对的两边。
所述狭缝单元包括：壳体以及贯穿所述壳体的狭缝。
所述装载平台上形成有分别对应多个狭缝单元的多个镂空区，每一个狭缝单元中的狭缝均与该狭缝单元对应的镂空区重合。
所述狭缝的形状为弧形、矩形、或圆形。
所述装载平台的形状为圆形，所述装载平台的材料为不锈钢。
所述旋转驱动器为伺服马达。
所述不同型号的狭缝单元的狭缝的尺寸不同。
本发明还提供一种曝光机狭缝切换方法，应用于上述的曝光机狭缝切换装置，包括如下步骤：
步骤S1、所述控制单元控制所述旋转驱动器带动所述装载平台旋转，使得待切换的狭缝单元旋转至与所述曝光机的光源相对的位置；
步骤S2、所述对位感应器感测待切换的狭缝单元与所述曝光机的光源之间对位偏差；
步骤S3、所述控制单元根据对位偏差控制所述旋转驱动器带动所述装载平台继续旋转，使得所述待切换的狭缝单元与所述曝光机的光源正确对位。
本发明的有益效果：本发明提供一种曝光机狭缝切换装置，所述曝光机狭缝切换装置用于设于曝光机的光源下方，所述曝光机狭缝切换装置包括：固定轴、套设于所述固定轴上且能够围绕所述固定轴旋转的装载平台、固定于所述装载平台上且围绕所述装载平台的中心点均匀分布的多个不同型号的狭缝单元、与所述装载平台传动连接的旋转驱动器、安装于所述固定轴的顶部的对位感应器以及与所述旋转驱动器和对位感应器电性连接的控制单元，能够通过所述旋转驱动器带动所述装载平台旋转及通过所述对位感应器感应狭缝单元与曝光机的光源的对位偏差，从而根据生产需要自动切换狭缝单元，提高生产效率，降低人员进入曝光机的频率，避免曝光机的光学系统被污染。本发明还提供一种曝光机狭缝切换方法，能够根据生产需要自动切换狭缝单元，提高生产效率，降低人员进入曝光机的频率，避免曝光机的光学系统被污染。
附图说明
为了能更进一步了解本发明的特征以及技术内容，请参阅以下有关本发明的详细说明与附图，然而附图仅提供参考与说明用，并非用来对本发明加以限制。
附图中，
图1为本发明的曝光机狭缝切换装置的立体图；
图2为本发明的曝光机狭缝切换装置的侧视图；
图3为本发明的曝光机狭缝切换方法的流程图。
具体实施方式
为更进一步阐述本发明所采取的技术手段及其效果，以下结合本发明的优选实施例及其附图进行详细描述。
请参阅图1和图2，本发明提供一种曝光机狭缝切换装置，用于设于曝光机的光源下方，所述曝光机狭缝切换装置包括：固定轴10、套设于所述固定轴10上且能够围绕所述固定轴10旋转的装载平台20、固定于所述装载平台20上且围绕所述装载平台20的中心点均匀分布的多个不同型号的狭缝单元30、与所述装载平台20传动连接的旋转驱动器40、安装于所述固定轴10的顶部的对位感应器50以及与所述旋转驱动器40和对位感应器50电性连接的控制单元60。
具体地，如图1和图2所示，所述曝光机狭缝切换装置还包括：弹簧卡扣70，所述弹簧卡扣70与在狭缝单元30的边缘相连，所述狭缝单元30通过所述弹簧卡扣70固定于所述装载平台20上，对应每一个狭缝单元30设置两个弹簧卡扣70，所述两个弹簧卡扣70分别固定所述狭缝单元30相对的两边。当然这并不是对本发明的限制，必要时本发明也可以采用其他的固定方式将所述弹簧卡扣70固定于所述装载平台20上，这均不会影响本发明的实现。
具体地，如图1和图2所示，所述狭缝单元30包括：壳体31以及贯穿所述壳体31的狭缝32，不同型号的狭缝单元30具有不同尺寸的狭缝32，也即采用不同型号的狭缝单元30进行曝光制程时，相同曝光时间下具有不同的曝光量，能够通过切换不同型号的狭缝单元30满足不同的曝光量要求。
进一步地，为了避免装载平台20阻挡光源100的光线，在所述装载平台20上形成有分别对应多个狭缝单元30的多个镂空区21，每一个狭缝单元30中的狭缝32均与该狭缝单元30对应的镂空区21重合，从而所述光源100射出的光线能够穿过狭缝32和镂空区21照射到待曝光的基板上，实现对基板的曝光。
优选地，所述狭缝32的形状为弧形、矩形、或圆形，所述装载平台20的形状为圆形，当然这并不是对本发明的限制，所述狭缝32和所述装载平台20还可以选择其他的形状，这不会影响本发明的实现。
优选地，所述装载平台20采用耐辐照的不锈钢材料或其他合金材料制成。所述装载平台20的中心点套设于所述固定轴10上。
优选地，所述旋转驱动器40为高精度的伺服马达，能够带动所述装载平台20进行精确旋转，旋转方向可以为顺时钟或逆时针方向旋转。
举例来说，如图1所示，在本发明的优选实施例中，所述装载平台20上设有4个狭缝单元30，每相邻的两个狭缝单元30之间的夹角均为90°，所述4个狭缝单元30的型号按照顺时针方向依次为型号1、型号2、型号3及型号4。
在该优选实施例中，所述曝光机狭缝切换装置切换狭缝单元30的过程包括：首先，所述控制单元60接收一切换信号，所述切换信号用于指示所述控制单元60将当前正在使用的狭缝单元30切换为另一型号的狭缝单元30，例如将当前正在使用的型号1狭缝单元30切换为型号2狭缝单元30，随后，所述控制单元60根据切换信号控制所述旋转驱动器40带动装载平台20旋转，使得待切换的狭缝单元30旋转至与所述曝光机的光源100相对的位置，例如从型号1狭缝单元30切换为型号2狭缝单元30时，所述旋转驱动器40带动装载平台20旋转90°，该步骤为一个初步对位的过程，型号2的狭缝单元30旋转至与光源100相对的位置后，其型号2的狭缝单元30中狭缝32与光源100可能仍存在一定的偏差，此时还需要对所述型号2的狭缝单元30和光源100进行精确对位，即通过所述对位感应器50感测待切换的狭缝单元30与所述曝光机的光源100之间对位偏差，所述控制单元60根据对位偏差控制所述旋转驱动器40带动所述装载平台20继续旋转，使得所述待切换的狭缝单元30与所述曝光机的光源100正确对位，正确对位后，光源100能够正确通过狭缝单元30的狭缝32对基板进行曝光。
进一步地，所述对位感应器50在进行对位偏差的感测之前，还会对当前感测的狭缝单元30的型号进行感测，以确定当前感测的狭缝单元30的型号与待切换的狭缝单元30的型号是否一致，避免错误切换。
具体地，所述对位感应器50包括型号识别单元和角度感测单元或距离感测单元，所述型号识别单元用于进行狭缝单元30的型号的感测，所述角度感测单元或距离感测单元用于进行狭缝单元30与光源100直接的对位偏差的感测。所述旋转控制器40和对位感应器50分别位于所述固定杆10的两端，位置和角度均固定，在装载平台20旋转时不随装载平台20一起发生转动。
请参阅图3，本发明还提供一种曝光机狭缝切换方法，其特征在于，应用于上述的曝光机狭缝切换装置，包括如下步骤：
步骤S1、所述控制单元60控制所述旋转驱动器40带动所述装载平台20旋转，使得待切换的狭缝单元30旋转至与所述曝光机的光源100相对的位置。
举例来说，如图1所示，在本发明的优选实施例中，所述装载平台20上设有4个狭缝单元30，每相邻的两个狭缝单元30之间的夹角均为90°，所述4个狭缝单元30的型号按照顺时针方向依次为型号1、型号2、型号3及型号4。
具体地，所述控制单元60控制旋转驱动器40旋转之前，会先接收一切换信号，所述切换信号用于指示所述控制单元60将当前正在使用的狭缝单元30切换为另一型号的狭缝单元30，例如将当前正在使用的型号1狭缝单元30切换为型号2狭缝单元30，随后，所述控制单元60再根据切换信号控制所述旋转驱动器40带动装载平台20旋转，使得待切换的狭缝单元30旋转至与所述曝光机的光源100相对的位置，例如从型号1狭缝单元30切换为型号2狭缝单元30时，所述旋转驱动器40带动装载平台20旋转90°。
进一步地，所述步骤S1为一个初步对位的过程，待切换的狭缝单元30旋转至与光源100相对的位置后，其狭缝32与光源100可能仍存在一定的偏差，需要进一步地调整。
步骤S2、所述对位感应器50感测待切换的狭缝单元30与所述曝光机的光源100之间对位偏差。
具体地，所述对位感应器50在进行对位偏差的感测之前，还会对当前感测的狭缝单元30的型号进行感测，以确定当前感测的狭缝单元30的型号与待切换的狭缝单元30的型号是否一致，避免错误切换。
步骤S3、所述控制单元60根据对位偏差控制所述旋转驱动器40带动所述装载平台20继续旋转，使得所述待切换的狭缝单元30与所述曝光机的光源100正确对位。
具体地，所述步骤S3为精确对位的步骤，能够修正步骤S1中存在的对位偏差，正确对位后，光源100能够正确通过狭缝单元30的狭缝32对基板进行曝光。
综上所述，本发明提供一种曝光机狭缝切换装置，用于设于曝光机的光源下方，所述曝光机狭缝切换装置包括：固定轴、套设于所述固定轴上且能够围绕所述固定轴旋转的装载平台、固定于所述装载平台上且围绕所述装载平台的中心点均匀分布的多个不同型号的狭缝单元、与所述装载平台传动连接的旋转驱动器、安装于所述固定轴的顶部的对位感应器以及与所述旋转驱动器和对位感应器电性连接的控制单元，能够通过所述旋转驱动器带动所述装载平台旋转及通过所述对位感应器感应狭缝单元与曝光机的光源的对位偏差，从而根据生产需要自动切换狭缝单元，提高生产效率，降低人员进入曝光机的频率，避免曝光机的光学系统被污染。本发明还提供一种曝光机狭缝切换方法，能够根据生产需要自动切换狭缝单元，提高生产效率，降低人员进入曝光机的频率，避免曝光机的光学系统被污染。
以上所述，对于本领域的普通技术人员来说，可以根据本发明的技术方案和技术构思作出其他各种相应的改变和变形，而所有这些改变和变形都应属于本发明权利要求的保护范围。
Claims (8)
1.一种曝光机狭缝切换装置，用于设于曝光机的光源(100)下方，其特征在于，包括：固定轴(10)、套设于所述固定轴(10)上且能够围绕所述固定轴(10)旋转的装载平台(20)、固定于所述装载平台(20)上且围绕所述装载平台(20)的中心点均匀分布的多个不同型号的狭缝单元(30)、与所述装载平台(20)传动连接的旋转驱动器(40)、安装于所述固定轴(10)的顶部的对位感应器(50)以及与所述旋转驱动器(40)和对位感应器(50)电性连接的控制单元(60)；
所述对位感应器(50)包括型号识别单元和角度感测单元或距离感测单元，所述型号识别单元用于进行狭缝单元(30)的型号的感测，所述角度感测单元或距离感测单元用于进行狭缝单元(30)与光源(100)之间的对位偏差的感测；
所述狭缝单元(30)包括：壳体(31)以及贯穿所述壳体(31)的狭缝(32)；
所述不同型号的狭缝单元(30)的狭缝(32)的尺寸不同。
2.如权利要求1所述的曝光机狭缝切换装置，其特征在于，还包括：弹簧卡扣(70)，所述狭缝单元(30)通过所述弹簧卡扣(70)固定于所述装载平台(20)上。
3.如权利要求2所述的曝光机狭缝切换装置，其特征在于，对应每一个狭缝单元(30)设置两个弹簧卡扣(70)，所述两个弹簧卡扣(70)分别固定所述狭缝单元(30)相对的两边。
4.如权利要求1所述的曝光机狭缝切换装置，其特征在于，所述装载平台(20)上形成有分别对应多个狭缝单元(30)的多个镂空区(21)，每一个狭缝单元(30)中的狭缝(32)均与该狭缝单元(30)对应的镂空区(21)重合。
5.如权利要求1所述的曝光机狭缝切换装置，其特征在于，所述狭缝(32)的形状为弧形、矩形、或圆形。
6.如权利要求1所述的曝光机狭缝切换装置，其特征在于，所述装载平台(20)的形状为圆形，所述装载平台(20)的材料为不锈钢，所述装载平台(20)的中心点套设于所述固定轴(10)上。
7.如权利要求1所述曝光机狭缝切换装置，其特征在于，所述旋转驱动器(40)为伺服马达。
8.一种曝光机狭缝切换方法，其特征在于，应用于如权利要求1至7任一项所述的曝光机狭缝切换装置，包括如下步骤：
步骤S1、所述控制单元(60)控制所述旋转驱动器(40)带动所述装载平台(20)旋转，使得待切换的狭缝单元(30)旋转至与所述曝光机的光源(100)相对的位置；
步骤S2、所述对位感应器(50)感测待切换的狭缝单元(30)与所述曝光机的光源(100)之间对位偏差；
步骤S3、所述控制单元(60)根据对位偏差控制所述旋转驱动器(40)带动所述装载平台(20)继续旋转，使得所述待切换的狭缝单元(30)与所述曝光机的光源(100)正确对位。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201810439399.1A CN108614396B (zh) | 2018-05-09 | 2018-05-09 | 曝光机狭缝切换装置及切换方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201810439399.1A CN108614396B (zh) | 2018-05-09 | 2018-05-09 | 曝光机狭缝切换装置及切换方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN108614396A CN108614396A (zh) | 2018-10-02 |
| CN108614396B true CN108614396B (zh) | 2021-03-02 |
Family
ID=63662517
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN201810439399.1A Active CN108614396B (zh) | 2018-05-09 | 2018-05-09 | 曝光机狭缝切换装置及切换方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN108614396B (zh) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN110928145A (zh) * | 2019-11-18 | 2020-03-27 | Tcl华星光电技术有限公司 | 截止滤光装置 |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4804978A (en) * | 1988-02-19 | 1989-02-14 | The Perkin-Elmer Corporation | Exposure control system for full field photolithography using pulsed sources |
| JPH09204050A (ja) * | 1995-11-24 | 1997-08-05 | Sanei Denki Seisakusho:Kk | 光照射装置 |
| JP2009289910A (ja) * | 2008-05-28 | 2009-12-10 | Mejiro Precision:Kk | 光照射装置 |
| CN102096325B (zh) * | 2009-12-10 | 2013-01-16 | 上海微电子装备有限公司 | 光强衰减装置及其衰减方法 |
| CN107885038A (zh) * | 2016-09-30 | 2018-04-06 | 上海微电子装备（集团）股份有限公司 | 照明均匀性校正装置、校正方法以及一种曝光投影系统 |
-
2018
- 2018-05-09 CN CN201810439399.1A patent/CN108614396B/zh active Active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN108614396A (zh) | 2018-10-02 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US8023093B2 (en) | Display panel, multi-layer display element, and method of fabricating the same | |
| KR20080061774A (ko) | 액정표시장치의 마스크를 정렬하는 장치 및 방법 | |
| US9798181B2 (en) | Display apparatus and method for producing a marker in the display apparatus | |
| CN103412428A (zh) | 一种对位系统 | |
| KR20090017585A (ko) | 노광 방법 및 노광 장치 | |
| JP2017503219A5 (zh) | ||
| CN107991803A (zh) | 一种黑色矩阵的制作方法 | |
| US6502324B2 (en) | Method of alignment between sheet materials, method of alignment, substrate assembling method and aligning apparatus | |
| KR20160025441A (ko) | 묘화 장치 | |
| CN108614396B (zh) | 曝光机狭缝切换装置及切换方法 | |
| EP3200011B1 (en) | Alignment device and aligning method | |
| US20090136856A1 (en) | Photo-mask and thin-film transistor substrate | |
| US7206061B2 (en) | Mask supporting apparatus using vacuum and light exposing system, and method using the same | |
| JP6097551B2 (ja) | 液晶表示装置の製造方法および配向膜印刷装置 | |
| JPH0619106A (ja) | 画像露光方法及び画像露光装置 | |
| US20200103759A1 (en) | Exposure method and method of manufacturing display apparatus using the same | |
| US9250539B2 (en) | Blind, exposure apparatus having the blind and method of driving the exposure apparatus | |
| US7538853B2 (en) | Exposure process and apparatus using glass photomasks | |
| CN109375472A (zh) | 曝边机及基板曝边方法 | |
| CN213934538U (zh) | 曝光装置 | |
| JP2006261163A (ja) | 露光装置及び電気光学装置 | |
| KR100806810B1 (ko) | 노광기 | |
| KR100588053B1 (ko) | 유리기판용 노광장치 | |
| KR101102695B1 (ko) | 노광 장치 | |
| KR100503130B1 (ko) | 스캔 방식 노광 설비의 마스크 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| CB02 | Change of applicant information | ||
| CB02 | Change of applicant information |
Address after: 9-2 Tangming Avenue, Guangming New District, Shenzhen City, Guangdong Province Applicant after: TCL China Star Optoelectronics Technology Co.,Ltd. Address before: 9-2 Tangming Avenue, Guangming New District, Shenzhen City, Guangdong Province Applicant before: Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co.,Ltd. |
|
| GR01 | Patent grant | ||
| GR01 | Patent grant |