KR101060340B1 - 기체 연소 장치 - Google Patents
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Abstract
다양한 양의 적어도 암모니아 및 수소를 함유하는 배출 기체를 챔버로부터 연소 챔버(36)와 연결된 연소 노즐(34)로 이송시키는 암모니아의 연소 방법이 기재된다. 챔버 내에서 연소 불꽃을 형성시키기 위한 연소 기체가 챔버에 공급된다. 배출 기체가 암모니아를 함유하는 경우 불꽃에 의해 연소된 기체가 적어도 미리 결정된 양의 수소를 함유하도록, 챔버로부터 배출된 암모니아 및 수소의 상대적인 양에 따라 수소가 배출 기체에 첨가된다.
Description
상기 연소 챔버에, 본 발명은 적어도 암모니아를 함유하는 배출 기체를 연소시키는 장치 및 방법에 관한 것이다.
반도체 디바이스의 제조시 주요 단계는 증기 전구체들의 화학 반응에 의해 반도체 기판 상에 박막을 형성시키는 것이다. 박막을 기판 상에 침적시키기 위한 공지된 기술 중 하나는 화학 증착(CVD)이다. 이 기술에서, 기판을 하우징하는 공정 챔버에 공정 기체가 공급되며, 서로 반응하여 기판의 표면에서 박막을 형성한다.
기판에 통상 침적되는 물질의 예는 질화갈륨(GaN)이다. GaN 및 관련 물질 합금(예컨대, InGaN, AlGaN 및 InGaAlN)은 녹색, 청색 및 백색 발광 디바이스(예컨대, LED 및 레이저 다이오드) 및 동력 디바이스(예컨대 HBT 및 HEMT)의 제조에 사용되는 컴파운드(compound) 반도체이다. 이들 컴파운드 반도체는 통상적으로 MOCVD(금속 유기 화학 증착)로서 통상 공지되어 있는 CVD 형태를 사용하여 형성된다. 개략적으로, 이 방법은 III족 금속, Ga, In 및/또는 Al의 휘발성 유기금속 공급원, 예컨대 트라이메틸 갈륨(TMG), 트라이메틸 인듐(TMI) 및 트라이메틸 알루미늄(TMA)을 승온에서 암모니아와 반응시켜서 적합한 기판 물질(예컨대 Si, SiC, 사파이어 또는 AlN)의 웨이퍼 상에 물질의 박막을 형성시키는 것을 포함한다. 또한 일반적으로는 유기금속 전구체를 위한 담체 기체 및 기타 공정 기체를 제공하는 수소 기체가 존재한다.
공정 챔버 내에서 실시되는 침적 공정에 따르면 전형적으로, 공정 챔버로부터 배출된 기체 중에 공정 챔버에 공급된 기체의 잔여량이 함유된다. 암모니아 및 수소와 같은 공정 기체는 대기 중에 배출되는 경우 크게 위험하며, 따라서 이러한 관점에서 배출 기체가 대기 중에 배출되기 전에, 흔히는 배출 기체의 보다 유해한 성분들을 예컨대 통상의 스크러빙(scrubbing)에 의해 배출 기체로부터 쉽게 제거될 수 있고/있거나 대기로 안전하게 배출될 수 있는 종류로 전환시키도록 배출 기체를 처리하는 경감(abatement) 장치가 제공된다.
경감 장치 중 공지된 하나의 유형이 EP-A-0 819 887호에 기재되어 있다. 이 경감 장치는 처리될 배출 기체를 수용하기 위한 배출 기체 연소 노즐을 갖는 연소 챔버를 포함한다. 고리형 연소 노즐이 배출 기체 노즐 외부에 제공되며, 연료와 공기의 기체 혼합물은 공정 챔버로부터 수용된 배출 기체를 연소시키기 위한 연소 챔버 내부에 불꽃을 형성시키는 고리형 연소 노즐로 공급되어서 배출 기체의 유해 성분들을 파괴한다.
이 유형의 경감 장치는 일반적으로 공정 챔버로부터 배출 기체를 유인하기 위한 펌프 시스템으로부터 하류에 위치한다. 배출 기체가 펌프 시스템을 통과함에 따라 그에 대한 손상을 방지하기 위해 전형적으로는 배출 기체를 펌핑하기 위한 펌프 시스템의 하나 이상의 퍼징 포트에 질소 퍼징 기체가 공급된다. 결과적으로, 경감 장치에 의해 수용된 기체는 통상적으로 유의적인 양의 질소를 추가로 함유한다.
질소는 안전하며, 경감시킬 필요는 없다. EP-A-0 819 887호에 기재된 것과 같은 장치에서, 본 출원인은, 수소의 파괴와 제거 효율(destruction and removal efficiency; DRE)이 매우 높아 흔히 99.99%를 초과하지만, 암모니아의 DRE가 경감 장치 내에 유입하는 배출 기체 중에 함유된 다른 기체에 따라 크게 변하는 것을 밝혀냈다. 25ppm의 역치 한계 값(threshold limit value; TLV)을 갖는 암모니아는 매우 독성이며, 본 출원인은 경감 장치로부터 배출된 암모니아의 양이 배출 기체 중에 함유된 기체의 화학과 상대량에 따라 2400ppm만큼 높을 수 있음을 밝혀냈다.
본 발명의 적어도 바람직한 실시양태의 목적은, 암모니아가 함유된 배출 기체 중에 존재하는 다른 기체 및 그의 상대량과 무관하게 일정하게 높은 DRE로 암모니아를 연소시키는 방법 및 그의 장치를 밝혀내는 것이다.
본 발명은, 적어도 암모니아 및 수소를 다양한 양으로 함유하는 배출 기체를 챔버로부터 연소 챔버와 연결된 연소 노즐로 이송시키는 단계, 챔버 내에서 연소 불꽃을 형성시키기 위한 연소 기체를 상기 챔버로 공급하는 단계, 및 챔버로부터 배출된 암모니아 및 수소의 상대적인 양에 따라 선택적으로 수소를 배출 기체에 첨가하여서, 배출 기체가 암모니아를 함유하는 경우 불꽃에 의해 연소된 기체가 적어도 미리 결정된 양의 수소를 함유하도록 하는 단계를 포함하는 암모니아의 연소 방법에 관한 것이다.
본 발명에 의해, 배출 기체가 암모니아를 함유하지만 충분한 양의 수소를 함유하지 않는 경우 암모니아의 높은 DRE를 달성하도록 수소를 선택적으로 배출 기체에 첨가함으로써, 암모니아의 DRE는 일정하게 높은 수준으로 유지될 수 있다.
도 1은 본 발명의 하나의 실시양태에 따라 연소 장치에 연결된 공정 챔버를 도시한다.
도 2는 도 1의 연소 장치의 연소 챔버에 연결된 다수의 배출 기체 연소 노즐의 단면도를 도시한다.
도 3은 도 2의 연소 챔버에 연결된 각각의 연소 노즐에 수소를 공급하기 위한 배열을 도시한다.
도 4는 도 2의 각 연소 노즐에 공급되는 수소의 양을 제어하기 위한 제어 시스템을 도시한다.
도 5는 본 발명의 다른 실시양태에 따라 연소 장치에 연결된 공정 챔버를 도시한다.
도 2는 도 1의 연소 장치의 연소 챔버에 연결된 다수의 배출 기체 연소 노즐의 단면도를 도시한다.
도 3은 도 2의 연소 챔버에 연결된 각각의 연소 노즐에 수소를 공급하기 위한 배열을 도시한다.
도 4는 도 2의 각 연소 노즐에 공급되는 수소의 양을 제어하기 위한 제어 시스템을 도시한다.
도 5는 본 발명의 다른 실시양태에 따라 연소 장치에 연결된 공정 챔버를 도시한다.
제 1 양태에서, 본 발명은, 적어도 암모니아 및 수소를 다양한 양으로 함유하는 배출 기체를 챔버로부터 연소 챔버와 연결된 연소 노즐로 이송시키는 단계, 챔버 내에서 연소 불꽃을 형성시키기 위한 연소 기체를 상기 챔버로 공급하는 단계, 및 챔버로부터 배출된 암모니아 및 수소의 상대적인 양에 따라 선택적으로 수소를 배출 기체에 첨가하여서, 배출 기체가 암모니아를 함유하는 경우 불꽃에 의해 연소된 기체가 적어도 미리 결정된 양의 수소를 함유하도록 하는 단계를 포함하는 암모니아의 연소 방법을 제공한다.
본 출원인은 미리 결정된 양의 수소가 불꽃에 의해 연소되는 기체 중에 존재하는 경우 암모니아의 DRE가 유의적으로 향상된다는 것을 밝혀냈다. 배출 기체가 암모니아를 함유하지만 충분한 양의 수소를 함유하지 않는 경우 암모니아의 높은 DRE를 달성하도록 수소를 선택적으로 배출 기체에 첨가함으로써, 암모니아의 DRE는 일정하게 높은 수준으로 유지될 수 있다.
바람직한 실시양태에서, 수소는 배출 기체에 첨가하기 위한 노즐로 이송되며, 여기서 수소는 바람직하게는 연소 노즐 주위로 연장하는 다수의 세공들로부터 연소 챔버 내로 주입된다. 다른 바람직한 실시양태에서, 수소는 연소 노즐 상류의 배출 기체에 첨가되며, 이로 인해 추가 수소와 배출 기체의 혼합이 촉진된다.
배출 기체로의 수소 첨가는 챔버로의 기체 공급 사이클에 따라 시간이 조절될 수 있다. 다르게는, 배출 기체에 첨가된 수소의 양은, 챔버로부터 배출된 기체의 화학적 변동을 나타내는 데이터의 접수에 응답하여 조정될 수 있다. 배출 기체의 화학적 변동을 나타내는 데이터는 예컨대 챔버로 공급된 기체가 높은 암모니아 DRE를 달성하기에는 충분한 수소를 함유하지 않는 경우 공정 도구에 의해 공급된다. 다르게는, 기체 센서가 배출 기체를 노즐로 이송시키기 위한 도관 시스템 내에 위치할 수 있되, 이 센서는 데이터를 공급하도록 구성된다.
수소는 수소 대 불꽃에 의해 연소된 암모니아의 부피 비율이 1:1 이상이 되도록 배출 기체에 첨가되는 것이 바람직하다. 본 출원인은, 연소 챔버의 파일롯 불꽃만을 사용하여 암모니아의 TLV 미만으로, 1:1:1 및 2:1:1의 각각의 근사치 비율의 수소, 암모니아 및 질소의 혼합물이 연소될 수 있음을 밝혔다. 파일롯 불꽃은 전형적으로 연료와 산화제의 혼합물, 예컨대 메테인과 공기로부터 1:8 내지 1:12의 부피 비율로 형성된다. 결과적으로, 챔버로 공급되어 연소 불꽃을 형성하는 메테인 또는 다른 연료가 크게 감소될 수 있으며, 이로 인해 작업 비용이 감소된다.
제 2 양태에서, 본 발명은, 연소 챔버, 챔버 내에서 연소 불꽃을 형성시키기 위한 연소 기체를 상기 챔버로 공급하는 수단, 연소 챔버와 연결된 연소 노즐; 적어도 암모니아 및 수소를 다양한 양으로 함유하는 배출 기체를 챔버로부터 노즐로 이송시키는 수단, 및 챔버로부터 배출된 암모니아 및 수소의 상대적인 양에 따라 선택적으로 수소를 배출 기체에 첨가하는 수단을 포함하는 배출 기체의 연소 장치를 제공한다.
발명의 방법 양태들과 관련하여 앞서 기재된 특징들은 발명의 장치 양태에 동등하게 적용 가능하며, 그 반대도 가능하다.
이하, 본 발명의 바람직한 특징들은 첨부된 도면을 참고하여 설명될 것이다.
우선 도 1을 참고하면, 예컨대 반도체 디바이스, 평탄 판넬 디스플레이 디바이스 또는 태양광 판넬 디바이스를 가공하기 위한 공정 챔버(12)로부터 배출하는 기체를 처리하기 위해 연소 장치(10)가 제공된다. 챔버(12)는 상기 챔버 내에서 가공을 실시하는데 사용하기 위한 다양한 공정 기체를 수용한다. 이 예에서는, 공정 챔버(12) 내에서 GaN과 같은 물질 층의 MOCVD(금속 유기 화학 증착)가 실시된다. 각각의 공급원(14,16,18)으로부터 III족 금속, Ga, In 및/또는 Al의 유기금속 공급원, 예컨대 트라이메틸 갈륨(TMG), 트라이메틸 인듐(TMI) 및 트라이메틸 알루미늄(TMA)이 포함된 기체가 승온에서 공정 챔버(12)로 이송되어서 적합한 기판 물질(예컨대 Si, SiC, 사파이어 또는 AlN)의 웨이퍼 상에 물질의 박막을 형성시킨다.
배출 기체를 펌핑 시스템(20)에 의해 공정 챔버(12)의 유출구로부터 유인한다. 챔버 내에서 가공하는 동안, 공정 기체의 일부만을 소모시키며, 이로 인해 배출 기체는 챔버에 공급된 공정 기체와 챔버 내의 공정으로부터의 부산물의 혼합물을 함유할 것이다. 도 1에 도시된 바와 같이, 펌핑 시스템(20)은 공정 챔버로부터 배출 기체를 유인하기 위해 터보분자 펌프(turbomolecular pump)의 형태로 전형적으로 존재하는 제 2 펌프(22)를 포함할 수 있다. 터보분자 펌프(22)는 공정 챔버(12) 내에 10- 3밀리바아 이상의 진공을 생성시킬 수 있다. 기체는 전형적으로 터보분자 펌프(22)로부터 약 1밀리바아의 압력으로 배출된다. 이 관점에서, 펌핑 시스템은 또한 터보분자 펌프(22)로부터 배출된 기체를 수용하고 상기 기체의 압력을 대기압과 유사한 압력까지 상승시키기 위한 제 1 펌프 또는 백킹 펌프(24)를 포함한다. 공정 챔버(12)로부터 기체를 펌핑시키는 동안 펌핑 시스템(20)에 대한 손상을 방지하기 위해, 질소 퍼징 기체가 그의 공급원(26)으로부터 펌핑 시스템(20)의 하나 이상의 퍼징 포트(28,30)에 공급된다.
펌핑 시스템(20)으로부터 배출된 기체는 연소 장치(10)의 유입구(32)로 이송된다. 도 2에 도시된 바와 같이, 유입구(32)는 연소 장치(10)의 연소 챔버(36)에 연결된 하나 이상의 배출 기체 연소 노즐(34)을 포함한다. 각각의 연소 노즐(34)은 배출 기체를 수용하기 위한 유입구(38), 및 배출 기체가 연소 챔버(36) 내로 유입되는 유출구(40)를 갖는다. 도 2는 배출 기체를 수용하기 위한 2개의 연소 노즐(34)을 도시하고 있지만, 유입구(32)는 배출 기체를 수용하기 위해 임의의 적합한 수, 예컨대 6개 이상의 연소 노즐(34)을 포함할 수 있다. 바람직한 실시양태에서, 유입구(32)는 4개의 연소 노즐(34)을 포함한다.
본 발명의 이 실시양태에서, 각각의 연소 노즐(34)은 공급원(44)(도 3에 도시됨)으로부터 수소를 수용하기 위해 수소 유입구(42)를 포함한다. 노즐(34)의 외부 표면과 상기 노즐(34) 주위로 연장하는 슬리브(48)의 내부 표면 사이로 한정된 고리형 갭(46)은, 수소를 유입구(42)로부터 노즐(34) 주변의 다수의 수소 유출구(50)까지 이송시키며, 여기서 수소는 배출 기체와 동축방향으로 연소 챔버(36) 내에 유입된다.
도 2에 도시된 바와 같이, 각각의 연소 노즐(34)은, 연료와 산화제의 제 1 기체 혼합물, 예컨대 메테인과 공기의 혼합물을 수용하고, 연소 챔버(36) 내에서 연소 불꽃을 형성하기 위한 연소 기체를 제공하기 위한 유입구(54), 및 연소 기체가 연소 챔버(36) 내로 이송되는 다수의 유출구(56)를 갖는 제 1 고리형 플리넘(plenum) 챔버(52)에 설치된다. 도 2에 도시된 바와 같이, 연소 노즐(34)은 각각의 노즐(34)이 각각의 유출구(56)를 통해 실질적으로 동축방향으로 통과하도록 제 1 플리넘 챔버(52) 내에 설치되어서, 연소 기체가 연소 노즐(34)의 슬리브(48) 주위의 연소 챔버(36)로 이송된다.
또한 도 2에 도시된 바와 같이, 제 1 플리넘 챔버(52)는 연소 챔버(36) 내에서 파일롯 불꽃을 형성하기 위해 연료와 산화제의 제 2 파일롯 기체 혼합물, 예컨대 메테인과 공기의 다른 혼합물을 수용하기 위한 유입구(60)를 갖는 제 2 고리형 플리넘 챔버(58) 주위에 위치한다. 도 2에 도시된 바와 같이, 제 2 고리형 플리넘 챔버(58)는 제 1 플리넘 챔버(52)로부터의 유출구(56)와 동축방향이고 연소 노즐(34)이 연소 챔버(36) 내로 연장하는 다수의 제 1 세공(62), 및 상기 제 1 세공(62) 주변의 다수의 제 2 세공(64)을 포함한다. 제 2 세공(64)은 파일롯 기체 혼합물을 연소 챔버(36)로 유입시켜서, 연소 기체를 인화시켜 연소 챔버(36) 내에서 연소 불꽃을 형성시키는 파일롯 불꽃을 형성시키게 한다. 경감 장치를 파일롯에서만 작동시키는 경우, 제 1 플리넘 챔버(52) 내로의 연소 기체의 공급은 불연속적일 수 있다. 그 다음, 세공(64)에서 형성된 파일롯 불꽃은 노즐(34)로 공급된 배출 기체와 임의의 추가 수소를 인화시키는데 사용된다.
도 4는 각각의 연소 노즐(34)로의 수소 공급을 제어하기 위한 제어 시스템을 도시한다. 제어 시스템은, 공정 챔버(12)로부터 방출되며 이로 인해 연소 노즐(34)에 공급되는 배출 기체의 화학적 변동을 나타내는 신호(72) 데이터를 수신하기 위한 제어기(70)를 포함한다. 각각의 신호(72)는 도 1에 도시된 바와 같이 밸브(75)를 사용하여 공정 챔버(12)로의 기체 공급을 제어하는 공정 도구(74)로부터 직접 수신될 수 있다. 다르게는, 신호(72)는, 제어기(70) 및 공정 도구(74)의 제어기가 일부를 형성하는 국지 네트워크의 호스트 컴퓨터로부터 수신될 수 있고, 상기 호스트 컴퓨터는 공정 챔버에 공급된 기체의 화학과 관련하여 공정 도구의 제어기로부터의 정보를 수신하고 그에 응답하여 신호(72)를 제어기(70)로 출력시키도록 구성된다. 다른 대안으로서, 신호(72)는 공정 챔버(12)의 유출구와 연소 노즐(34) 사이에 위치하는 기체 센서로부터 수신될 수 있다.
수신된 신호(72) 중에 포함된 데이터에 응답하여, 제어기(70)는 각각의 연소 노즐(34)로의 수소의 공급을 선택적으로 제어할 수 있다. 도 3 및 4에서, 제어 시스템은, 수소 공급원(44)과 각각의 수소 유입구(42) 사이에 각각 존재하여 제어기(70)로부터 수신된 신호(78)에 응답하여 개방 위치와 폐쇄 위치간을 이동할 수 있는 다수의 가변형 유동 제어 장치, 예컨대 밸브(76)를 포함한다. 각각의 수소 유입구(42)로의 수소 공급률을 한정하기 위해 각각의 밸브(76)와 각각의 수소 유입구(42) 사이에, 쵸킹된(chocked) 유동 오리피스가 제공될 수 있다. 다르게는, 연소 장치(10)의 유입구(32)를 제공하는 각각의 연소 노즐(34)로의 수소 공급을 제어하기 위해, 단일 밸브(76)가 사용될 수도 있다.
밸브(76)가 개방될 때, 수소는 수소 공급원(44)으로부터 각각의 수소 유입구(42)까지 이송된다. 수소는 고리형 갭(42) 내에서 (도시된 바와 같이) 하향으로 통과하며, 배출 기체와의 연소를 위해 수소 유출구(50)로부터 연소 챔버(36) 내로 방출된다.
수소를 연소 챔버(36) 내에서 연소된 기체에 선택적으로 첨가함으로써, 제어기(70)는 연소 챔버(36) 내에서 연소된 암모니아와 수소의 상대량을 미리 결정된 값들 또는 그 주변 값들, 예컨대 적어도 1:1로 유지시킬 수 있으며, 이로 인해 암모니아의 높은 DRE가 유지된다. 실험을 통해 본 출원인은, 연소 챔버의 파일롯 불꽃만을 사용하여 암모니아의 TLV 미만으로, 1:1:1 및 2:1:1의 각각의 근사치 비율의 수소, 암모니아 및 질소의 혼합물이 연소될 수 있음을 밝혀내었으며, 더욱 낮은 양의 수소를 갖는 혼합물의 연소가 유사하게 달성될 수 있을 것으로 기대된다. 따라서, 적어도 암모니아의 연소를 위해 더 이상 연소 기체를 연소 챔버(36)로 제공할 필요가 없으므로, 연료 소모가 크게 감소될 수 있다.
도 1을 참고하면, 연소 챔버(36) 내의 배출 기체의 연소로부터의 부산물은 도 1에 도시된 바와 같이 습식 스크러버, 고체 반응 매체 또는 다른 제 2 경감 장치(80)로 이송될 수 있다. 경감 장치(80)를 통과시킨 후, 배출 기체는 안전하게 대기 중으로 배출될 수 있다.
도 5는 추가 수소가 연소 장치(10)의 유입구(32)로부터 상류에서 배출 기체에 이송되는 제 2 실시양태를 도시한다. 이 실시양태에서, 제 1 도관 시스템(82)은, 수소 공급원(44)으로부터 수소를, 펌핑 시스템(20)으로부터의 배출 기체를 연소 장치(10)의 유입구(32)까지 이송시키기 위한 제 2 도관 시스템(84)까지 이송시킨다. 도시된 바와 같이, 단일 밸브(76)가 제 1 도관 시스템(82) 중에 제공되고, 공정 도구(74)의 제어기로부터 수신된 신호(72)에 응답하여 제어기(70)에 의해, 수소를 수소 공급원(44)으로부터 제 2 도관 시스템(84) 내의 배출 기체까지 선택적으로 이송시키도록 제어된다. 배출 기체로의 수소 공급 속도를 제한하기 위해, 밸브(76)와 제 2 도관 시스템(84) 사이에 쵸킹된 유동 오리피스가 제공될 수도 있다. 따라서 이 실시양태에서는 각각의 연소 노즐(34)의 수소 유입구(42)와 슬리브(48)가 존재하지 않을 수도 있다.
Claims (24)
- 적어도 암모니아 및 수소를 다양한 양으로 함유하는 배출 기체를, 공정 챔버로부터, 연소 챔버와 연결된 연소 노즐로 이송시키는 단계,
상기 연소 챔버 내에서 연소 불꽃을 형성시키기 위한 연소 기체를 상기 연소 챔버에 공급하는 단계, 및
상기 배출 기체가 암모니아를 함유하는 경우 불꽃에 의해 연소된 기체가 적어도 미리 결정된 양의 수소를 함유하도록, 상기 공정 챔버로부터 배출된 암모니아 및 수소의 상대적인 양에 따라 선택적으로 수소를 연소 챔버 상류의 배출 기체에 첨가하는 단계
를 포함하는, 암모니아의 연소 방법. - 제 1 항에 있어서,
상기 수소를 배출 기체에 첨가하기 위한 노즐로 이송시키는, 암모니아의 연소 방법. - 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 수소를 연소 노즐 주위로 연장되는 다수의 세공들로부터 연소 챔버 내로 주입하는, 암모니아의 연소 방법. - 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 배출 기체에 첨가되는 수소의 양을, 공정 챔버로부터 배출되는 기체의 화학적 변동을 나타내는 데이터의 수신에 응답하여 조정하는, 암모니아의 연소 방법. - 제 4 항에 있어서,
상기 배출 기체가 공정 도구(tool)의 공정 챔버로부터 배출되고, 상기 공정 도구에 의해, 상기 배출 기체의 화학적 변동을 나타내는 데이터가 공급되는, 암모니아의 연소 방법. - 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 수소를, 불꽃에 의해 연소된 수소 대 암모니아의 부피 비율이 1:1 이상이 되도록 배출 기체에 첨가하는, 암모니아의 연소 방법. - 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 연소 기체가 연료와 산화제의 혼합물을 포함하는, 암모니아의 연소 방법. - 제 7 항에 있어서,
상기 연료가 메테인을 포함하는, 암모니아의 연소 방법. - 제 7 항에 있어서,
상기 산화제가 공기를 포함하는, 암모니아의 연소 방법. - 제 7 항에 있어서,
상기 연소 기체 중의 연료 대 산화제의 부피 비율이 1:8 내지 1:12인, 암모니아의 연소 방법. - 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 연소 기체를 배출 기체와 동축방향으로 연소 챔버에 공급하는, 암모니아의 연소 방법. - 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 배출 기체가 추가로 질소를 포함하는, 암모니아의 연소 방법. - 연소 챔버,
상기 연소 챔버 내에서 연소 불꽃을 형성시키기 위한 연소 기체를 상기 연소 챔버에 공급하는 수단,
상기 연소 챔버와 연결된 연소 노즐,
적어도 암모니아 및 수소를 다양한 양으로 함유하는 배출 기체를 공정 챔버로부터 상기 노즐로 이송시키는 수단; 및
상기 공정 챔버로부터 배출된 암모니아 및 수소의 상대적인 양에 따라 선택적으로 상기 연소 챔버 상류의 배출 기체에 수소를 첨가하는 수단
을 포함하는, 배출 기체의 연소 장치. - 제 13 항에 있어서,
상기 수소 첨가 수단이, 추가 수소를 배출 기체에 첨가하기 위한 연소 노즐로 이송시키도록 구성된, 배출 기체의 연소 장치. - 제 14 항에 있어서,
상기 수소 첨가 수단이, 추가 수소를 수용하고 상기 추가 수소를 연소 챔버로 이송시키기 위한, 노즐 주위로 연장되는 슬리브를 포함하는, 배출 기체의 연소 장치. - 제 13 항 내지 제 15 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 수소 첨가 수단이, 추가 수소를 연소 챔버 내에 주입하는 연소 노즐 주위로 연장되는 다수의 세공들을 포함하는, 배출 기체의 연소 장치. - 제 13 항 내지 제 15 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 수소 첨가 수단이, 공정 챔버로부터 배출된 기체의 화학적 변동을 나타내는 데이터를 수신하고 그에 응답하여 배출 기체에 첨가되는 수소의 양을 조정하는 수단을 포함하는, 배출 기체의 연소 장치. - 제 17 항에 있어서,
상기 배출 기체가 공정 도구의 공정 챔버로부터 배출되고, 상기 공정 도구에 의해, 상기 배출 기체의 화학적 변동을 나타내는 데이터가 공급되는, 배출 기체의 연소 장치. - 제 13 항 내지 제 15 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 수소 첨가 수단이, 불꽃에 의해 연소된 수소 대 암모니아의 부피 비율이 1:1 이상이 되도록 수소를 배출 기체에 첨가하도록 구성된, 배출 기체의 연소 장치. - 제 13 항 내지 제 15 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 연소 기체가 연료와 산화제의 혼합물을 포함하는, 배출 기체의 연소 장치. - 제 20 항에 있어서,
상기 연료가 메테인을 포함하는, 배출 기체의 연소 장치. - 제 20 항에 있어서,
상기 산화제가 공기를 포함하는, 배출 기체의 연소 장치. - 제 20 항에 있어서,
상기 연소 기체 중의 연료 대 산화제의 부피 비율이 1:8 내지 1:12인, 배출 기체의 연소 장치. - 제 13 항 내지 제 15 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 연소 기체 공급 수단이, 연소 기체를 배출 기체와 동축방향으로 연소 챔버에 공급하도록 구성된, 배출 기체의 연소 장치.
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| GB0902221D0 (en) * | 2009-02-11 | 2009-03-25 | Edwards Ltd | Pilot |
| GB2477277B (en) * | 2010-01-27 | 2012-02-01 | Rifat Al Chalabi | Improvements in thermal oxidisers |
| JP2012255420A (ja) * | 2011-06-10 | 2012-12-27 | Nippon Shokubai Co Ltd | ガスタービンシステム |
| WO2013018576A1 (ja) * | 2011-07-29 | 2013-02-07 | エドワーズ株式会社 | 排ガス燃焼装置 |
| JP5622686B2 (ja) * | 2011-08-19 | 2014-11-12 | 大陽日酸株式会社 | 燃焼除害装置 |
| JP2013063384A (ja) * | 2011-09-16 | 2013-04-11 | Taiyo Nippon Sanso Corp | 排ガス処理方法および排ガス処理装置 |
| US10077402B2 (en) * | 2011-10-18 | 2018-09-18 | Air Products And Chemicals, Inc. | Production of synthesis gas |
| JP6174316B2 (ja) * | 2012-12-27 | 2017-08-02 | エドワーズ株式会社 | 除害装置 |
| JP5785979B2 (ja) * | 2013-04-24 | 2015-09-30 | 大陽日酸株式会社 | 排ガス処理装置 |
| GB2544552A (en) * | 2015-11-20 | 2017-05-24 | Siemens Ag | A gas turbine system |
| KR101839847B1 (ko) * | 2017-08-25 | 2018-03-19 | 단국대학교 산학협력단 | 유증기 연소처리장치 |
| GB2579197B (en) * | 2018-11-22 | 2021-06-09 | Edwards Ltd | Abatement method |
| DE102019117331A1 (de) * | 2019-06-27 | 2020-12-31 | Das Environmental Expert Gmbh | Brenner zur Erzeugung einer Flamme für die Verbrennung von Prozessgas und Abgasbehandlungsvorrichtung mit einem Brenner |
| GB2588775A (en) | 2019-11-05 | 2021-05-12 | Edwards Ltd | Optimising operating conditions in an abatement apparatus |
| JP7037697B1 (ja) | 2021-09-29 | 2022-03-16 | 三菱重工パワーインダストリー株式会社 | 燃焼設備 |
| CN115899726B (zh) * | 2023-02-10 | 2024-01-19 | 北京中科富海低温科技有限公司 | 氢气燃烧池的氢气点燃装置及氢气燃烧系统 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3490843B2 (ja) | 1996-06-19 | 2004-01-26 | 日本エドワーズ株式会社 | 排ガス燃焼方法及びその装置 |
Family Cites Families (23)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3508868A (en) * | 1965-07-03 | 1970-04-28 | Mitsui Toatsu Chemicals | Method of treating exhaust gases containing sulfur dioxide |
| US4113838A (en) * | 1976-12-30 | 1978-09-12 | Mitsubishi Chemical Industries, Ltd. | Method of treating combustion exhaust gas containing nitrogen oxides |
| GB8409635D0 (en) * | 1984-04-13 | 1984-05-23 | Exxon Research Engineering Co | Surface dressing of roads |
| US4555389A (en) * | 1984-04-27 | 1985-11-26 | Toyo Sanso Co., Ltd. | Method of and apparatus for burning exhaust gases containing gaseous silane |
| JPS6387519A (ja) * | 1986-09-29 | 1988-04-18 | Mitsubishi Jushi Eng Kk | 半導体製造装置の排ガス燃焼方法 |
| FR2612606B1 (fr) * | 1987-03-18 | 1990-09-14 | Air Liquide | Procede et dispositif de destruction d'effluents gazeux toxiques |
| JPS649551A (en) | 1987-07-02 | 1989-01-12 | Tokyo Electric Co Ltd | Memory controller |
| JPH0195214A (ja) * | 1987-10-06 | 1989-04-13 | Toyo Sanso Kk | 特殊材料ガスの燃焼方法 |
| JPH0277433A (ja) | 1988-09-14 | 1990-03-16 | Nissan Motor Co Ltd | 硬質保護膜を有する着色樹脂成形体 |
| JPH0344993Y2 (ko) * | 1988-11-21 | 1991-09-24 | ||
| US4988287A (en) * | 1989-06-20 | 1991-01-29 | Phillips Petroleum Company | Combustion apparatus and method |
| JP3486022B2 (ja) | 1995-10-16 | 2004-01-13 | ジャパン・エア・ガシズ株式会社 | 排ガス処理装置 |
| JPH10110926A (ja) * | 1996-08-14 | 1998-04-28 | Nippon Sanso Kk | 燃焼式除害装置 |
| JPH10141648A (ja) * | 1996-11-08 | 1998-05-29 | Toshiba Mach Co Ltd | ガス窒化排ガス処理方法およびその装置 |
| GB0026697D0 (en) | 2000-11-01 | 2000-12-20 | Boc Group Plc | Removal of noxious substances from gas streams |
| DE10128414A1 (de) * | 2001-06-12 | 2002-12-19 | Daimler Chrysler Ag | Abgasreinigungsanlage mit Reduktionsmittelversorgung |
| JP3924150B2 (ja) * | 2001-10-26 | 2007-06-06 | 三菱重工業株式会社 | ガス燃焼処理方法およびその装置 |
| JP2004012049A (ja) * | 2002-06-07 | 2004-01-15 | Nippon Sanso Corp | 除害装置 |
| JP2004112049A (ja) | 2002-09-13 | 2004-04-08 | Fujitsu Ltd | 通信端末装置及びサーバ装置 |
| JP2004207025A (ja) * | 2002-12-25 | 2004-07-22 | Nissan Motor Co Ltd | 触媒燃焼器および燃料電池システム |
| JP2005003331A (ja) | 2003-06-16 | 2005-01-06 | Japan Pionics Co Ltd | 有害ガスの燃焼式除害装置 |
| US7736599B2 (en) * | 2004-11-12 | 2010-06-15 | Applied Materials, Inc. | Reactor design to reduce particle deposition during process abatement |
| US7682574B2 (en) | 2004-11-18 | 2010-03-23 | Applied Materials, Inc. | Safety, monitoring and control features for thermal abatement reactor |
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2005
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Patent Citations (1)
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