CN101171455A - 气体燃烧设备 - Google Patents
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Abstract
描述了燃烧氨的方法，其中将包含变化的量的至少氨和氢的废气从室输送到连接到燃烧室(36)的燃烧喷嘴(34)。向室供给燃气以在室内形成燃烧火焰。取决于从室排放的氨和氢的相对量向废气添加氢，使得当废气包含氨时被火焰燃烧的气体包含至少预先确定的量的氢。
Description
技术领域
本发明涉及用于燃烧包括至少氨的废气的设备和方法。
背景技术
在半导体器件制造中的主要步骤是在半导体基片上通过蒸气前体的化学反应形成薄膜。用于在基片上沉积薄膜的一个已知技术是化学汽相沉积(CVD)。在此技术中，过程气被提供到容纳了基片的处理室且起反应以在基片的表面上形成薄膜。
通常沉积在基片上的材料的例子是氮化镓(GaN)。氮化镓和相关的材料合金(例如InGaN、AlGaN和InGaAlN)是用于制造绿色、蓝色和白色发光器件(例如LED和激光二极管)和功率器件(例如HBT和HEMT)的化合物半导体。这些化合物半导体通常使用CVD的形式来形成，通常已知为MOCVD(金属有机化学汽相沉积)。总之，此过程涉及氨与第三族金属Ga、In和/或Al的挥发性有机金属源，例如三甲基镓(TMG)、三甲基铟(TMI)和三甲基铝(TMA)在高温下的反应，以在合适的基片材料(例如Si、SiC、蓝宝石或AIN)的晶片上形成材料的薄膜。氢气一般也存在，从而提供了用于有机金属前体和其他过程气的载体气。
在处理室内进行的沉积过程后，通常有在包含在从处理室排放的气体内的提供到处理室内的气体的残余量。例如作为氨和氢的过程气如果排放到大气中则是高度危险的，且因此在废气被通风到大气前经常提供消除设备以处理废气，以将较危险的废气成分转化为可以例如通过常规的洗气而容易地从废气中去除的种类，和/或可以安全的排放到大气的种类。
消除设备的一个已知的类型在EP-A-0819887中描述。此消除设备包括燃烧室，燃烧室具有废气燃烧喷嘴以接收待处理的废气。环形燃烧喷嘴提供在废气喷嘴外侧，且燃料和空气的气体混合物被提供到环形燃烧喷嘴以在燃烧室内形成火焰来燃烧从处理室接收的废气，以销毁废气的有害成分。
消除设备的此形式一般地位于用于从处理室抽吸废气的泵送系统的下游。为防止当废气通过时对泵送系统的损坏，典型地将氮清洗气供给到泵送系统的一个或多个清洗口以与废气一起泵送。作为结果，由消除设备接收的气体通常也含有显著的氮量。
氮是安全的且不要求消除。通过例如在EP-A-0819887中描述的设备，发现对氢的销毁和去除效率(DRE)非常高，经常超过99.99％，而氨的DRE取决于进入消除设备的废气中包含的其他气体高度地变化。氨是高度地有毒的，具有25ppm的极限阈值或TLV，且发现从消除设备排放的氨量取决于在排气内包含的气体的化学组成和相对量可能高达2400ppm。
发明内容
本发明的至少优选实施例的目的是寻求提供与在包含氨的废气中存在的其他气体和其相对量无关的以一贯高的DRE来燃烧氨的方法和设备。
在第一方面中，本发明提供了燃烧氨的方法，方法包括如下步骤：将包含变化的量的至少氨和氢的废气从室输送到连接到燃烧室的燃烧喷嘴，向室供给燃气以在室内形成燃烧火焰，和取决于从室排放的氨和氢的相对量选择地向废气添加氢，使得当废气包含氨时，被火焰燃烧的气体包含至少预先确定的量的氢。
已发现当待由火焰燃烧的气体内存在的预先确定的量的氢时，氨的销毁和去除效率(DRE)显著地提高。当废气包含氨和不足量的氢时，通过选择地将氢添加到废气以实现氨的高DRE，可以将氨的DRE维持在一贯地高水平。
在一个优选实施例中，将氢输送到喷嘴以添加到废气，其中氢优选地从绕燃烧喷嘴延伸的多个缝隙喷射到燃烧室内。在另一个优选的实施例中，氢从燃烧喷嘴的上游添加到废气，因此促进了附加的氢与废气的混合。
将氢添加到废气可以根据向室供给的气体的循环来定时。替代地，添加到废气的氢量可以根据代表了来自室的废气的化学组成的变化的接收的数据调整。例如当供给到室的气体不包含足够的氢以实现高的氨DRE时，代表了废气的化学组成变化的数据由处理工具供给。替代地，气体传感器可以位于用于将废气输送到喷嘴的导管系统内，此传感器构造为供给数据。
氢优选地添加到废气，使得被火焰燃烧的氢与氨的体积比为至少1∶1。已发现，分别具有大致为1∶1∶1和2∶1∶1的比例的氢、氨和氮的混合物可以仅使用燃烧室的引导火焰在氨的TLV以下燃烧。引导火焰典型地由例如甲烷和空气的燃料和氧化剂的混合物形成，其体积比在1∶8至1∶12之间。因此，供给到室以形成燃烧火焰的甲烷或其他燃料的量可以显著地降低，因此降低了运行成本。
在第二方面中，本发明提供了用于燃烧废气的设备，设备包括：燃烧室，用于向室提供燃气以在室内形成燃烧火焰的装置，连接到燃烧室的燃烧喷嘴，用于将包含变化的量的至少氨和氢的废气从室输送到喷嘴的装置，和用于取决于从室排放的氨和氢的相对量选择地向废气添加氢的装置。
以上所述的涉及本发明的方法方面的特征等同地可应用于本发明的设备方面，且反之亦然。
附图说明
现在将参考附图描述本发明的优选特征，各图为：
图1图示了连接到根据本发明的一个实施例的燃烧设备的处理室；
图2图示了连接到图1的燃烧设备的燃烧室的多个废气燃烧喷嘴的截面视图；
图3图示了用于将氢供给到图2的连接到燃烧室的每个燃烧喷嘴的布置；
图4图示了用于控制供给到图2的每个燃烧喷嘴的氢量的控制系统；
图5图示了连接到根据本发明的另一个实施例的燃烧设备的处理室。
具体实施方式
参考图1，提供了燃烧设备10以用于处理从例如用于处理半导体器件、平板显示器件或太阳能电池板器件的处理室12排放的气体。室12接收多种过程气以用于在室内进行处理。在此例中，在处理室12内进行例如GaN的材料层的MOCVD(金属有机化学汽相沉积)。包括例如三甲基镓(TMG)、三甲基铟(TMI)和三甲基铝(TMA)的第三族金属Ga、In和/或铝的有机金属源、氨和氢的气体从它们各自的源14、16、18在高温下输送到处理室12，以在合适的基片材料(例如Si、SiC、蓝宝石或AIN)的晶片上形成材料薄膜。
废气从处理室12的出口通过泵送系统20抽出。在室内的处理期间，仅将消耗过程气的部分，且因此废气将包含供给到室的过程气和室内的处理的副产品的混合物。如在图1中图示，泵送系统20可以包括次级泵22，次级泵22典型地具有涡轮分子泵的形式，以从处理室抽出废气。涡轮分子泵22可以在处理室12内生成至少10-3毫巴的真空。气体典型地从涡轮分子泵22以大约1毫巴的压力排放。因此，泵送系统也包括主泵或前级泵24，以从涡轮分子泵22接收废气且将气体的压力升高到大约大气压的压力。为防止在从处理室12泵送气体期间对泵送系统20的损坏，氮清洗气从其源26供给到泵送系统20的一个或多个清洗口28、30。
来自泵送系统22的废气被输送到燃烧设备10的入口32。如在图2中图示，入口32包括至少一个连接到燃烧设备10的燃烧室36的废气燃烧喷嘴34。每个燃烧喷嘴34具有用于接收废气的入口38和废气从它进入燃烧室38的出口40。虽然图2图示了两个用于接收废气的燃烧喷嘴34，入口32可以包括任何合适的个数，例如四个、六个或更多的燃烧喷嘴34以接收废气。在优选实施例中，入口32包括四个燃烧喷嘴34。
本发明的此实施例中，每个燃烧喷嘴34包括氢入口42以从氢源44(在图3中图示)接收氢。环形间隙46限定在喷嘴34的外表面和绕喷嘴34延伸的套筒48的内表面之间，该环形间隙46允许氢从入口42输送到多个围绕喷嘴34的氢出口50，且氢从氢出口与废气同轴线地进入燃烧室36。
如在图2中示出，每个燃烧喷嘴34安装在第一环形增压室52内，第一环形增压室52具有用于接收燃料和氧化剂的第一气体混合物的入口54，例如接收甲烷和空气的混合物，从而提供了用于在燃烧室36内形成燃烧火焰的燃气，第一环形增压室52还具有多个出口56，燃气从出口56输送到燃烧室36内。如在图2中图示，燃烧喷嘴34安装在第一增压室52内，使得每个喷嘴34大体上同轴线地经过各出口56，使得燃气绕燃烧喷嘴34的套筒48输送到燃烧室36内。
也如在图2中图示，第一增压室52位于第二环形增压室58上方，第二环形增压室58具有用于接收燃料和氧化剂的第二引导气体混合物的入口60，第二引导气体混合物例如是甲烷和空气的另一个混合物，以在燃烧室36内形成引导火焰。如在图2中图示，第二增压室58包括多个与来自第一增压室52的且燃烧喷嘴34通过它而延伸到燃烧室36内的出口56同轴线的第一缝隙62，和多个围绕第一缝隙62的第二缝隙64。第二缝隙64允许引导气体混合物进入燃烧室36以形成引导火焰，用于点燃燃气，以在燃烧室36内形成燃烧火焰。在消除设备仅以引导运行的情况中，到第一增压室52的燃气供给则可以中断。在缝隙64处形成的引导火焰则用于点燃废气和任何供给到喷嘴34的附加的氢。
图4图示了用于控制到燃烧喷嘴34的每个的氢供给的控制系统。控制系统包括控制器70以接收指示了从处理室12输出且因此供给到燃烧喷嘴34的废气的化学组成的变化的信号72数据。信号72的每个可以直接从处理工具74接收，处理工具74使用阀75控制了到处理室12的气体供给，如在图1中图示。替代地，信号72可以从局域网的主机接收，控制器70和处理工具74的控制器形成了局域网的部分，主机构造为接收来自处理工具的控制器的关于供给到处理室的气体的化学组成的信息，且响应于此输出信号72到控制器70。作为另一个替代，信号72可以从位于处理室12的出口和燃烧喷嘴34之间的气体传感器接收。
响应于接收到的信号72内包含的数据，控制器70可以选择地控制到每个燃烧喷嘴34的氢供给。参考图3和图4，控制系统包括多个可变流量控制器件76，例如阀76，它们每个位于氢源44和各氢入口42之间，且响应于从控制器70接收的信号78在打开和关闭位置之间可移动。填塞流量孔可以提供在每个阀76和各氢入口42之间，以限制向每个氢入口42的氢供给速度。替代地，单阀76可以用于控制向燃烧喷嘴34的每个的氢供给，从而提供了燃烧设备10的入口32。
当阀76打开时，氢从氢源44输送到每个氢入口42。氢向下游(如所图示)在环形间隙46内通过，且从氢出口50输出到燃烧室36内以与废气燃烧。
通过向燃烧室36内燃烧的气体选择地添加氢，控制器70可以维持在燃烧室36内燃烧的氨和氢的相对量为预先确定的值或大约预先确定的值，例如至少1∶1，因此维持氨的高DRE。已实验地发现，氢、氨和氮的分别具有大致1∶1∶1和2∶1∶1的比例的混合物可以仅使用燃烧室的引导火焰在氨的TLV以下燃烧，且预期的是，以较低的氢量的混合物的燃烧将类似地可实现。因为不再存在任何对于提供燃气到燃烧室36以至少使氨燃烧的要求，可以显著地降低燃料消耗。
转到图1，来自燃烧室36内的废气的燃烧的副产品可以被输送到湿洗气器、固体反应介质或其他次级消除设备80，如在图1中图示。废气在通过消除设备80后可以安全的通风到大气。
图5图示了第二实施例，其中附加的氢在燃烧设备10的入口32上游输送到废气。在此实施例中，第一导管系统82将氢从氢源44输送到用于将废气从泵送系统20输送到燃烧设备10的入口32的第二导管系统84。如所图示，单阀76可以提供在第一导管系统82内且由控制器70响应于从处理工具74的控制器接收的信号72来控制，以选择地将氢从氢源74输送到第二导管系统84内的废气。填塞流量孔可提供在阀76和第二导管系统84之间，以限制氢向废气的供给速度。因此，在此实施例中，可以省略每个燃烧喷嘴34的氢入口42和套筒48。
Claims (26)
1.一种燃烧氨的方法，该方法包括如下步骤：将包含变化的量的至少氨和氢的废气从室输送到连接到燃烧室的燃烧喷嘴，向室供给燃气以在室内形成燃烧火焰，和取决于从室排放的氨和氢的相对量选择地向废气添加氢，使得当废气包含氨时，被火焰燃烧的气体包含至少预先确定的量的氢。
2.根据权利要求1所述的方法，其中将氢输送到喷嘴以添加到废气。
3.根据权利要求1或2所述的方法，其中氢从绕燃烧喷嘴延伸的多个缝隙喷射到燃烧室内。
4.根据权利要求1所述的方法，其中氢在燃烧室上游添加到废气。
5.根据任何前述权利要求所述的方法，其中添加到废气的氢量响应于代表了来自室的废气的化学组成的变化的数据的接收调整。
6.根据权利要求5所述的方法，其中废气从处理工具的室排放，数据代表了由处理工具供给的废气的化学组成的变化。
7.根据任何前述权利要求所述的方法，其中将氢添加到废气，使得被火焰燃烧的氢与氨的体积比为至少1∶1。
8.根据任何前述权利要求所述的方法，其中燃气包括燃料和氧化剂的混合物。
9.根据权利要求8所述的方法，其中燃料包括碳氢化合物，优选地为甲烷。
10.根据权利要求8或9所述的方法，其中氧化剂包括空气。
11.根据权利要求8至10的任何项所述的方法，其中燃气内燃料和氧化剂的体积比在1∶8至1∶12之间。
12.根据任何前述权利要求所述的方法，其中燃气大体上与废气同轴线地供给到室。
13.根据任何前述权利要求所述的方法，其中废气包括氨、氢和氮的至少一个。
14.一种用于燃烧废气的设备，该设备包括：燃烧室，用于向室提供燃气以在室内形成燃烧火焰的装置，连接到燃烧室的燃烧喷嘴，用于将包含变化的量的至少氨和氢的废气从室输送到喷嘴的装置，和用于取决于从室排放的氨和氢的相对量选择地向废气添加氢的装置。
15.根据权利要求14所述的设备，其中氢添加装置构造为将附加的氢输送到燃烧喷嘴以添加到废气。
16.根据权利要求15所述的设备，其中氢添加装置包括绕喷嘴延伸的套筒以接收附加的氢且将附加的氢输送到燃烧室。
17.根据权利要求14至16的任何项所述的设备，其中氢添加装置包括绕燃烧喷嘴延伸的多个缝隙，附加的氢从该缝隙喷射到燃烧室内。
18.根据权利要求14所述的设备，其中氢添加装置构造为在燃烧室上游将氢添加到废气。
19.根据权利要求14至18的任何项所述的设备，其中氢添加装置包括用于接收代表了来自室的废气的化学组成的变化的数据和用于响应于该数据调整添加到废气的氢量的装置。
20.根据权利要求19所述的设备，其中废气从处理工具的室排放，由处理工具供给代表了废气的化学组成的变化的数据。
21.根据权利要求14至20的任何项所述的设备，其中氢添加装置构造为将氢添加到废气，使得由火焰燃烧的氢与氨的体积比至少为1∶1。
22.根据权利要求14至21的任何项所述的设备，其中燃气包括燃料和氧化剂的混合物。
23.根据权利要求22所述的设备，其中燃料包括碳氢化合物，优选地为甲烷。
24.根据权利要求22或23所述的设备，其中氧化剂包括空气。
25.根据权利要求22至24的任何项所述的设备，其中燃气内燃料和氧化剂的体积比在1∶8至1∶12之间。
26.根据权利要求14至25的任何项所述的设备，其中燃气供给装置构造为将燃气大体上与废气同轴线地供给到室。
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Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102317686A (zh) * | 2009-02-11 | 2012-01-11 | 爱德华兹有限公司 | 处理废气流的方法 |
| CN102317685B (zh) * | 2009-02-11 | 2014-06-25 | 爱德华兹有限公司 | 引燃器 |
| CN104121589A (zh) * | 2013-04-24 | 2014-10-29 | 大阳日酸株式会社 | 排气处理装置 |
| CN115899726A (zh) * | 2023-02-10 | 2023-04-04 | 北京中科富海低温科技有限公司 | 氢气燃烧池的氢气点燃装置及氢气燃烧系统 |
| TWI817017B (zh) * | 2019-06-27 | 2023-10-01 | 德商達斯環境專家有限責任公司 | 用於產生針對程序氣體燃燒之火焰的燃燒器及具有燃燒器之廢氣處理裝置 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| WO2009105434A2 (en) * | 2008-02-18 | 2009-08-27 | Applied Materials, Inc. | Apparatus and methods for supplying fuel employed by abatement systems to effectively abate effluents |
| WO2010036877A2 (en) * | 2008-09-26 | 2010-04-01 | Air Products And Chemicals, Inc. | Combustion system with precombustor for recycled flue gas |
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|---|---|---|---|---|
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| FR2612606B1 (fr) * | 1987-03-18 | 1990-09-14 | Air Liquide | Procede et dispositif de destruction d'effluents gazeux toxiques |
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| JPH0344993Y2 (zh) * | 1988-11-21 | 1991-09-24 | ||
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| US7736599B2 (en) * | 2004-11-12 | 2010-06-15 | Applied Materials, Inc. | Reactor design to reduce particle deposition during process abatement |
| US7682574B2 (en) | 2004-11-18 | 2010-03-23 | Applied Materials, Inc. | Safety, monitoring and control features for thermal abatement reactor |
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Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102317686A (zh) * | 2009-02-11 | 2012-01-11 | 爱德华兹有限公司 | 处理废气流的方法 |
| CN102317685B (zh) * | 2009-02-11 | 2014-06-25 | 爱德华兹有限公司 | 引燃器 |
| CN104121589A (zh) * | 2013-04-24 | 2014-10-29 | 大阳日酸株式会社 | 排气处理装置 |
| TWI817017B (zh) * | 2019-06-27 | 2023-10-01 | 德商達斯環境專家有限責任公司 | 用於產生針對程序氣體燃燒之火焰的燃燒器及具有燃燒器之廢氣處理裝置 |
| CN115899726A (zh) * | 2023-02-10 | 2023-04-04 | 北京中科富海低温科技有限公司 | 氢气燃烧池的氢气点燃装置及氢气燃烧系统 |
| CN115899726B (zh) * | 2023-02-10 | 2024-01-19 | 北京中科富海低温科技有限公司 | 氢气燃烧池的氢气点燃装置及氢气燃烧系统 |
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