KR101009642B1 - 자화 방지용 마그네트론 부 이송 장치 및 이를 갖는마그네트론 스퍼터링 설비 - Google Patents

자화 방지용 마그네트론 부 이송 장치 및 이를 갖는마그네트론 스퍼터링 설비 Download PDF

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Abstract

본 발명은 자화 방지용 마그네트론 부 이송 장치를 제공한다. 상기 자화 방지용 마그네트론 부 이송 장치는 금속으로 이루어지는 타켓의 근방에 배치되며, 일정의 자장을 형성하는 마그네트론 부와, 상기 타켓에 형성되는 자장이 기설정되는 기준 자장의 범위에 포함되도록 상기 마그네트론 부와 상기 타켓과의 거리를 일정 거리 이격시키는 이동 유니트를 구비한다. 또한, 본 발명은 상기 자화 방지용 마그네트론 부 이송 장치를 갖는 마그네트론 스퍼터링 설비도 제공함으로써, 공정이 진행되지 않는 경우에 타켓의 자화를 방지할 수 있도록 타켓과 마그네트론을 서로 일정 거리 이격 시킬 수 있다.

Description

자화 방지용 마그네트론 부 이송 장치 및 이를 갖는 마그네트론 스퍼터링 설비{APPARATUS FOR ADJUSTING MAGNETIZATION DISTANCE AND MAGNETRON SPUTTERING EQUIPMENT HAVING THE SAME}
본 발명은 마그네트론 스퍼터링 설비에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 타켓의 자화를 방지할 수 있도록 타켓과 마그네트론을 서로 일정 거리 이격 시킬 수 있는 자화 방지용 마그네트론 부 이송 장치 및 이를 갖는 마그네트론 스퍼터링 설비에 관한 것이다.
통상적으로 마그네트론 스퍼터링 장치는 도 1에 도시된 바와 같이 진공 챔버(10)와, 상기 진공 챔버(10)에 접속된 아르곤과 같은 불활성 가스의 공급관(11)과, 상기 진공 챔버(10)에 배기관(12)을 통하여 접속된 진공 펌프(미도시)와, 상기 진공 챔버(10) 내에 서로 대향하여 배치한 척(20) 및 타켓(30)과, 상기 척(20)에 고주파를 인가하기 위한 고주파 전원(14)을 구비한 구조를 갖는다. 상기 고주파 전원(14)은 척(20)과 전극(13)을 통하여 연결된다.
또한, 상기 진공 챔버(10)의 내부에는 상기 타켓(30)에 공정에 필요한 자장을 제공할 수 있는 마그테트론 부(40)가 설치된다. 상기 마그네트론 부(40)는 자 석(42)과 자석(42)을 고정하는 고정 플레이트(41)로 구성되고, 상기 타켓(30)의 상부에 배치된다.
이에 더하여, 상기 타켓(30)과 상기 자석(42)과의 이격 거리는 설치시 미리 고정된 설정 거리(D)를 이룬다.
이와 같은 마그네트론 스퍼터링 장치에서, 우선 척(20)에 기판(21)을 안착하고, 공급관(11)으로부터 아르곤을 진공 챔버(10) 내에 공급하고, 진공 펌프를 구동하여 진공 챔버(10) 내의 가스를 진공 배기하여 진공 챔버(10)의 내부에 공정에서 요구되는 진공도를 형성 한다.
이어, 고주파 전원(14)으로부터 고주파를 척(20)에 인가함으로써 척(20)의 기판(21)과 타겟(30) 사이에서 플라즈마가 발생된다.
또한, 상기 척(20)에는 DC, AC, RF, pulsed DC, mid-frequency, VHF(Very High Frequency)등이 인가될 수 있다.
상기 플라즈마에 의해 아르곤이 활성화되고, 활성화된 아르곤은 접지 또는 부전압이 인가된 타겟(30)에 충돌하여 타겟(30)을 스퍼터링한다.
이에 더하여 타켓(30)에 형성되는 일정의 자장으로 인하여 스퍼터링 되는 타켓 재료의 입자는 방향성을 이루어 기판(21)의 표면으로 이동될 수 있다.
상기 스퍼터링되는 타겟 재료의 입자는 기판(21)의 표면에 퇴적됨으로써 타겟 재료의 막이 성막된다.
종래에는 금속 촉매를 사용하여 폴리 실리콘을 결정화하는 방법에 상기와 같이 스퍼터링을 사용한 방법을 주로 사용한다.
상기 스퍼터링 방법은 기판(21)의 대면적에 성막을 형성할 경우에 용이하고, 공정 제어에 따라서 니켈과 같은 금속 증착량의 제어가 용이한 장점을 갖는다.
그러나, SGS의 경우에 MIC 또는 MILC와 다르게 기판(21)의 표면에 일정 량 이하의 소량을 균일하게 증착하여야 하기 때문에 증착 균일도 및 증착 속도의 제어가 주 문제점을 이룬다.
종래의 마그네트론 스퍼터링 설비는 타켓(30)의 상부에 일정의 자장을 형성하는 마그네트론 부(40)를 갖는다.
또한, 상기 마그네트론 부(40)과 상기 타켓(30)은 서로 일정 거리(D)를 이룬다.
예컨대, 일반적으로 스퍼터링 공정이 진행되는 경우에, 마그네트론 부(40)은 타켓에 200 내지 800 가우스의 자장을 형성하면서 기판(21)으로의 타켓(30) 입자의 증착 균일도 및 증착 속도를 제어한다.
그러나, 스퍼터링 공정을 마친 이후에, 종래의 마그네트론 부(40)은 상기 타켓(30)과 설정된 거리(D)를 유지하기 때문에, 자성체 재료 또는 자화 가능한 재료로 형성되는 타켓(30)을 자화시키는 문제점을 갖는다.
상기와 같이 타켓(30)이 일정 가우스 이상으로 자화되는 경우에, 상기 공정 진행시 타켓(30)에 형성되는 자장의 왜곡 현상을 유발할 수 있다.
따라서, 종래에는 상기와 같이 타켓(30)의 자화로 인한 기판(21)으로의 타켓 재료 입자의 증착 균일도를 하락시키어 제품 품질을 저하시키는 문제점이 있다.
본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결할 수 있도록 안출된 것으로서, 본 발명의 목적은 스퍼터링 공정이 진행되지 않는 경우에 니켈과 같은 자성체의 재료로 이루어지는 타켓과 마그네트론 부와의 거리를 일정 거리로 이격시킴으로써 타켓이 자화되는 것을 미연에 방지할 수 있는 자화 방지용 마그네트론 부 이송 장치 및 이를 갖는 마그네트론 스퍼터링 설비를 제공함에 있다.
본 발명의 다른 목적은 니켈과 같은 자성체의 재료로 이루어지는 타켓으로의 자화를 방지함으로써 타켓 물질이 기판 상에 균일하게 증착시킬 수 있는 자화 방지용 마그네트론 부 이송 장치 및 이를 갖는 마그네트론 스퍼터링 설비를 제공함에 있다.
일측면에 있어서, 본 발명의 자화 방지용 마그네트론 부 이송 장치.는 금속으로 이루어지는 타켓의 근방에 배치되며, 일정의 자장을 형성하는 마그네트론 부와, 상기 타켓에 형성되는 자장이 기설정되는 기준 자장의 범위에 포함되도록 상기 마그네트론 부와 상기 타켓과의 거리를 일정 거리 이격시키는 이동 유니트를 포함한다.
여기서, 상기 이동 유니트는 상기 타켓의 일측 근방에 배치되며 상기 타켓에 형성되는 자장을 측정하는 자장 측정부와, 상기 마그네트론 부와 연결되어 상기 마그네트론 부를 일정 위치로 이동시키는 위치 이동부와, 상기 자장 측정부와 전기적 으로 연결되며 상기 측정되는 자장이 상기 기준 자장 범위에 포함되도록 상기 위치 이동부를 동작시키어 상기 마그네트론 부를 상기 타켓으로부터 일정 거리 이격시키는 제어부를 구비하는 것이 바람직하다.
그리고, 상기 위치 이동부는 상기 마그네트론 부와 연결되고 상기 제어부로부터 동작 신호를 받아 신축 동작을 하는 가변 실린더인 것이 바람직하다.
또한, 상기 위치 이동부는 상기 마그네트론 부와 연결되고 상기 제어부로부터 동작 신호를 받아 회전 동작을 하는 회전 유닛이고, 상기 회전 유닛은 상기 타켓과 평행하도록 상기 마그네트론 부의 양측부에 마련되고 일단이 일정 위치에 회전 지지되는 회전축과, 상기 회전축의 타단에 연결되어 상기 회전축을 회전시키는 회전 모터를 구비하는 것이 바람직하다.
또한, 상기 위치 이동부는 제 1위치 이동부와, 제 2위치 이동부와, 상기 제어부와 전기적으로 연결되는 선택부를 구비하되, 상기 제 1위치 이동부는 상기 마그네트론 부와 연결되고 상기 제어부로부터 동작 신호를 받아 신축 동작을 하는 가변 실린더이고, 상기 제 2위치 이동부는 상기 타켓과 평행하도록 상기 마그네트론 부의 양측부에 마련되고 일단이 일정 위치에 회전 지지되는 회전축과 상기 회전축의 타단에 연결되어 상기 회전축을 회전시키는 회전 모터를 갖는 회전 유닛이고, 상기 선택부는 상기 제 1위치 이동부와 상기 제 2위치 이동부 중 어느 하나를 동작시키도록 상기 제어부에 전기적 신호를 전송하는 것이 바람직하다.
또한, 상기 마그네트론 부를 경계로 일측에는 상기 타켓이 배치되는 제 1영역이 형성되고, 타측에는 제 2영역이 형성되되, 상기 마그네트론 부의 주위에는 상 기 제 1영역과 상기 제 2영역을 격리시키고 일정의 자장을 흡수하는 격리 플레이트가 더 설치되는 것이 바람직하다.
또한, 상기 자장 측정부는 상기 마그네트론 부와 마주보는 면과 반대측에 형성되는 면의 자장을 측징하는 것이 바람직하다.
또한, 상기 기설정되는 기준 자장의 범위는 0 내지 10 가우스의 범위를 이루는 것이 바람직하다.
또한, 상기 마그네트론 부는 고정 플레이트와, 상기 고정 플레이트의 일측에 배치되는 자석을 구비하는 것이 바람직하다.
다른 측면에 있어서, 본 발명의 마그네트론 스퍼터링 설비는 진공 챔버와, 외부로부터 고주파가 인가되며 상기 진공 챔버의 내부 저측에 배치되며 일정 크기의 기판이 안착되는 척과, 상기 척과 마주보도록 상기 진공 챔버의 내부 상측에 배치되는 금속 재질로 이루어지는 타켓과, 상기 타켓의 상부에 위치되도록 상기 진공 챔버의 내부 상측에 배치되며, 일정의 자장을 형성하는 자석과 상기 자석을 고정하는 고정 플레이트를 갖는 마그네트론 부와, 상기 타켓에 형성되는 자장이 기설정되는 기준 자장의 범위에 포함되도록 상기 마그네트론 부와 상기 타켓과의 거리를 일정 거리 이격시키는 이동 유니트를 포함한다.
여기서, 상기 이동 유니트는 상기 타켓의 일측 근방에 위치되도록 상기 진공 챔버의 내부에 배치되며 상기 척과 마주보는 상기 타켓의 일면에 형성되는 자장을 측정하는 자장 측정부와, 상기 고정 플레이트와 연결되어 상기 마그네트론 부를 일정 위치로 이동시키는 위치 이동부와, 상기 자장 측정부와 전기적으로 연결되며 상 기 측정되는 자장이 상기 기준 자장 범위에 포함되도록 상기 위치 이동부를 동작시키어 상기 마그네트론 부를 상기 타켓으로부터 일정 거리 이격시키는 제어부를 구비하는 것이 바람직하다.
그리고, 상기 위치 이동부는 상기 고정 플레이트와 연결되고 상기 제어부로부터 동작 신호를 받아 신축 동작을 하는 가변 실린더인 것이 바람직하다.
또한, 상기 위치 이동부는 상기 마그네트론 부와 연결되고 상기 제어부로부터 동작 신호를 받아 회전 동작을 하는 회전 유닛이고, 상기 회전 유닛은 상기 타켓과 평행하도록 상기 고정 플레이트의 양측부에 마련되고 일단이 상기 진공 챔버의 내측벽에 회전 지지되는 회전축과, 상기 회전축의 타단에 연결되어 상기 회전축을 회전시키는 회전 모터를 구비할 수도 있다.
또한, 상기 위치 이동부는 제 1위치 이동부와, 제 2위치 이동부와, 상기 제어부와 전기적으로 연결되는 선택부를 구비하되, 상기 제 1위치 이동부는 상기 고정 플레이트와 연결되고 상기 제어부로부터 동작 신호를 받아 신축 동작을 하는 가변 실린더이고, 상기 제 2위치 이동부는 상기 타켓과 평행하도록 상기 고정 플레이트의 양측부에 마련되고 일단이 상기 진공 챔버의 내측벽에 회전 지지되는 회전축과 상기 회전축의 타단에 연결되어 상기 회전축을 회전시키는 회전 모터를 갖는 회전 유닛이고, 상기 선택부는 상기 제 1위치 이동부와 상기 제 2위치 이동부 중 어느 하나를 동작시키도록 상기 제어부에 전기적 신호를 전송할 수도 있다.
또한, 상기 고정 플레이트를 경계로 일측에는 상기 타켓이 배치되는 제 1영역이 형성되고, 타측에는 제 2영역이 형성되되, 상기 고정 플레이트와 상기 진공 챔버의 내측벽 사이에는 상기 제 1영역과 상기 제 2영역을 격리시키고 일정의 자장을 흡수하는 격리 플레이트가 더 설치되는 것이 바람직하다.
또한, 상기 기설정되는 기준 자장의 범위는 0 내지 10 가우스의 범위를 이루는 것이 바람직하다.
본 발명은 스퍼터링 공정이 진행되지 않는 경우에 니켈과 같은 자성체의 재료로 이루어지는 타켓과 마그네트론 부와의 거리를 일정 거리로 이격시킴으로써 타켓이 자화되는 것을 미연에 방지할 수 있는 효과를 갖는다.
또한, 본 발명은 니켈과 같은 자성체의 재료로 이루어지는 타켓으로의 자화를 방지함으로써 타켓 물질이 기판 상에 균일하게 증착시킬 수 있는 효과를 갖는다.
이하, 첨부되는 도면들을 참조로 하여, 본 발명의 자화 방지용 마그네트론 부 이송 장치. 및 이를 갖는 마그네트론 스퍼터링 설비를 설명하도록 한다.
- 일 실시예 -
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따르는 마그네트론 스퍼터링 설비를 보여주는 단면도이다. 도 3는 도 2의 자화 방지용 마그네트론 부 이송 장치가 동작되는 것을 보여주는 단면도이다. 도 4는 도 2의 진공 챔버의 내부에 격리 플레이트가 설치된 것을 보여주는 단면도이다. 도 5는 도 2의 자화 방지용 마그네트론 부 이송 장치의 동작을 보여주는 흐름도이다.
본 발명의 일 실시예에 따르는 마그네트론 스퍼터링 설비는 일정의 진공이 형성될 수 있는 내부 공간을 이루는 진공 챔버(100)를 갖는다.
상기 진공 챔버(100)의 일측에는 불활성 가스를 진공 챔버(100)의 내부로 공급하는 가스 공급관(121)이 설치되고, 상기 진공 챔버(100)의 타측에는 일정의 공정 진행 이후에 상기 진공 챔버(100)의 내부에 잔류되는 공정 가스가 배기되는 가스 배출관(122)이 설치된다.
상기 진공 챔버(100)의 내부 하측부에는 일정 크기의 기판(111)이 안착되는 척(110)이 설치된다.
상기 진공 챔버(100)의 내부 상측부에는 상기 척(110)과 마주 보도록 금속의 재질로 이루어지는 타켓(130)이 설치된다.
상기 타켓(130)의 상부에 위치되도록 상기 진공 챔버(100)의 내부 상측에는 일정의 자장을 형성하는 자석(210)과 상기 자석(210)을 고정하는 고정 플레이트(220)를 갖는 마그네트론 부(200)가 설치된다.
도면에 도시되지는 않았지만, 본 발명은 상기 진공 챔버(100)에 배기관을 통하여 접속된 진공 펌프와, 상기 척(110)에 고주파를 인가하기 위한 고주파 전원을 구비한다.
그리고, 본 발명의 스퍼터링 설비는 상기 진공 챔버(100)의 내부에서 진행되는 스퍼터링 공정을 제어하는 공정 제어부(140)를 갖는다.
그리고, 본 발명은 타켓(130)에 형성되는 자장이 기설정되는 기준 자장의 범위에 포함되도록 상기 마그네트론 부(200)와 상기 타켓(130)과의 거리를 일정 거리 이격시키는 이동 유니트를 갖는다.
상기 이동 유니트의 구성을 설명하도록 한다.
상기 이동 유니트는 상기 타켓(130)의 일측 근방에 배치되며 상기 타켓(130)에 형성되는 자장을 측정하는 자장 측정부(300)와, 상기 마그네트론 부(200)와 연결되어 상기 마그네트론 부(200)를 일정 위치로 이동시키는 위치 이동부와, 상기 자장 측정부(300)와 전기적으로 연결되며 상기 측정되는 자장이 상기 기준 자장 범위에 포함되도록 상기 위치 이동부를 동작시키어 상기 마그네트론 부(200)를 상기 타켓(130)으로부터 일정 거리 이격시키도록 제어하는 제어부(500)로 구성된다. 상기 제어부(500)는 상기 공정 제어부(140)와 전기적으로 연결된다.
상기 제어부(500)에는 0 내지 10 가우스(G)의 범위를 이루는 기준 자장 범위(ΔGs)가 기설정된다. 상기 제어부(500)에는 스퍼터링 공정이 수행되는 공정 자장 범위(ΔGp), 200 내지 800 가우스의 범위가 기설정된다.
상기 자장 측정부(300)는 상기 진공 챔버(100)의 내측벽에 설치된다. 즉, 상기 자장 측정부(300)는 도 2에 도시된 바와 같이 타켓(130)의 저면 근방에 배치되는 것이 좋다.
상기 위치 이동부는 가변 실린더(410)이다. 상기 가변 실린더(410)는 제어부(500)와 전기적으로 연결되는 구동부(600)와 연결되고, 상기 구동부(600)로부터 구동력을 제공받아 구동된다.
상기 가변 실린더(410)는 마그네트론 부(200)의 고정 플레이트(210)의 상단에 체결되는 가변축(411)과, 상기 가변축(411)을 신장시키는 실린더 몸체(412)로 구성된다. 상기 가변 실린더(410)는 적어도 2개 이상으로 구성되는 것이 좋다.
한편, 도 4를 참조 하면, 상기 진공 챔버(100)의 내부에는 고정 플레이트(210)를 경계로 상측으로 제 1영역(a1)과, 하측으로 척(110)이 설치되는 제 2영역(a2)으로 구분될 수 있다.
상기 제 1영역(a1)과 상기 제 2영역(a2)을 구획 지음과 아울러 고정 플레이트(210)에 고정된 자석(220)으로 인하여 제 1영역(a1)에 형성될 수 있는 자장을 흡수할 수 있도록 상기 진공 챔버(100)의 내부에는 격리 플레이트(250)가 더 설치된다.
상기 격리 플레이트(250)는 고정 플레이트(210)의 양측 외주를 따라 진공 챔버(100)의 내측벽에 고정 설치될 수 있다.
다음은, 도 2 내지 도 5를 참조 하여, 본 발명의 자화 방지용 마그네트론 부 이송 장치. 및 이를 갖는 마그네트론 스퍼터링 설비의 작용을 설명하도록 한다.
진공 챔버(100)의 내부에서는 척(100) 상에 안착된 기판(111)에 대하여 스퍼터링 공정이 수행될 수 있다.
제어부(500)는 공정 제어부(140)로부터 전기적 신호를 실시간으로 전송 받을 수 있다(S100).
상기 제어부(500)는 진공 챔버(100)의 내부에서 스퍼터링 공정이 진행 중인지의 여부를 판단할 수 있다. 예컨대, 상기 공정 제어부(140)는 상기 공정이 진행되는 경우에 공정 진행 중임에 대한 신호를 제어부(500)로 전송하고, 공정이 중지된 상태인 경우에 공정이 중지임을 알리는 신호를 제어부(500)로 전송할 수 있다.
여기서, 상기 제어부(500)는 상기 공정 진행 또는 공정이 중지임을 알리는 신호를 사용하여 공정 진행 여부를 판단할 수 있다(S200).
예컨대, 공정이 진행되지 않는 경우에, 상기 제어부(500)는 자장 측정부(300)를 작동시킨다.
그리고, 상기 자장 측정부(300)는 진공 챔버(100)의 내부에 설치되는 타켓(130)의 저면 근방의 자장을 측정하여 제어부(500)로 전송할 수 있다.
이어, 상기 제어부(500)는 상기 측정된 자장(Gd)이 기설정된 기준 자장의 범위(ΔGs)에 포함되는 지의 여부를 판단할 수 있다(S220).
여기서, 상기 기준 자장의 범위(ΔGs)는 0 내지 10 가우스 일수 있다.
만일, 상기 측정된 자장(Gd)이 기준 자장의 범위(ΔGs)에 포함되지 않는 경우에, 상기 제어부(500)는 구동부(600)를 전기적 신호를 전송한다.
상기 구동부(600)는 도 2에 도시된 마그네트론 부(200)의 자석(220)과 타켓(130)과의 거리 L1을 도 3에 도시된 바와 같이 L1'로 이격시키도록 위치 이동부인 가변 실린더(410)를 구동시킨다(S221).
여기서, 상기 가변 실린더(410)의 가변축(411)은 마그네트론 부(200)의 고정 플레이트(210)의 상단을 끌어 올릴 수 있다.
이때, 상기 자장 측정부(300)는 실시간으로 상기 타켓(130) 저면의 자장을 측정하여 제어부(500)로 전송한다.
따라서, 상기 제어부(500)는 상기 측정되는 자장(Gd)이 기준 자장의 범위(ΔGs)에 포함될 때까지 상기 구동부(600)를 통하여 가변 실린더(410)를 작동시키어 상기 마그네트론 부(200)를 상승시킬 수 있다.
반면에, 상기 제어부(500)는 상기 측정되는 자장(Gd)이 기준 자장의 범위(ΔGs)에 포함되는 경우에, 상기 제어부(500)는 위치 이동부를 작동시키지 않고, 마그네트론 부(200)의 설정 위치를 그대로 유지한다(S230).
이어, 상기 제어부(500)는 공정 제어부(140)를 사용하여 공정이 대기되는 상태를 이루고(S240), 추후 공정이 있는지의 유무를 판단(S250)할 수 있다.
한편, 상기 제어부(500)는 공정이 진행되는 경우에, 자장 측정부(300)로부터 측정된 자장(Gd)을 전송 받고(S300), 측정되는 자장(Gd)이 공정 자장 범위(ΔGp)에 포함되는 지의 여부를 판단 할 수 있다(S400).
상기 측정되는 자장(Gd)이 공정 자장 범위(ΔGp)에 포함되지 않는 경우에, 상기 제어부(500)는 측정되는 자장이 200 내지 800 가우스의 범위를 갖는 공정 자장 범위(ΔGp)에 포함될 때까지 가변 실린더(410)를 사용하여 마그네트론 부(200)를 상승시킬 수 있다(S500).
반면에, 상기 측정되는 자장(Gd)이 공정 자장 범위(ΔGp)에 포함되는 경우에, 상기 제어부(500)는 위치 이동부를 작동시키지 않고, 마그네트론 부(200)의 설정 위치를 그대로 유지하고(S410), 공정 제어부(140)로 신호를 전송하여 공정을 진행하도록 할 수 있다(S420).
- 다른 실시예 -
도 6은 본 발명의 다른 실시예에 따르는 마그네트론 스퍼터링 설비를 보여주 는 단면도이다. 도 7은 도 6의 자화 방지용 마그네트론 부 이송 장치가 동작되는 것을 보여주는 단면도이다. 도 8은 도 6의 진공 챔버의 내부에 격리 플레이트가 설치된 것을 보여주는 단면도이다. 도 9는 도 8의 격리 플레이트의 배치 상태를 보여주는 평면도이다. 도 10은 도 6의 자화 방지용 마그네트론 부 이송 장치의 동작을 보여주는 흐름도이다.
본 발명의 다른 실시예에 따르는 마그네트론 스퍼터링 설비는 상기 일 실시예에서 언급된 진공 챔버(100)를 갖는다.
상기 다른 실시예를 따르는 마그네트론 스퍼터링 설비는 상기 일 실시예와 다른 위치 이동부를 갖는다.
도 6 및 도 7을 참조 하면, 본 발명에 따르는 자화 방지용 마그네트론 부 이송 장치.는 마그네트론 부(200)와, 이동 유니트로 구성된다.
상기 마그네트론 부(200)는 상기 일 실시예의 구성과 동일하다.
상기 이동 유니트는 자장 측정부(300)와, 위치 이동부와, 제어부(500)로 구성된다.
상기 위치 이동부는 회전 모터(421)와 회전축(422)으로 구성되는 회전 유닛(420)이다.
상기 회전 모터(421)는 마그네트론 부(200)의 고정 플레이트(210)의 일측에 위치되도록 진공 챔버(100)의 내측벽에 설치된다.
상기 회전축(422)은 고정 플레이트(210) 양측단에 돌출 형성된다. 상기 회전축(422)의 일단은 진공 챔버(100)의 내측벽에 힌지 연결되고, 타단은 상기 회전 모 터(421)에 연결된다.
상기 회전 모터(421)는 제어부(500)와 전기적으로 연결되는 구동부(600)로부터 구동력을 제공 받아 회전될 수 있다.
한편, 도 8 및 도 9를 참조 하면, 상기 진공 챔버(100)의 내부에는 고정 플레이트(210)를 경계로 상측으로 제 1영역(a1)과, 하측으로 척(110)이 설치되는 제 2영역(a2)으로 구분될 수 있다.
상기 제 1영역(a1)과 상기 제 2영역(a2)을 구획 지음과 아울러 고정 플레이트(210)에 고정된 자석(220)으로 인하여 제 1영역(a1)에 형성될 수 있는 자장을 흡수할 수 있도록 상기 진공 챔버(100)의 내부에는 격리 플레이트(251)가 더 설치된다.
상기 격리 플레이트(251)는 고정 플레이트(210)의 양측 외주 및 회전축(422)의 외주를 따르는 홈(251a)이 형성되고, 상기 격리 플레이트(251)의 외주는 진공 챔버(100)의 내측벽에 형성되는 고정홈(100a)에 끼워져 고정 설치될 수 있다.
따라서, 고정 플레이트(210)가 회전축(422)을 회전 중심으로 회전되는 경우에, 상기 격리 플레이트(251)는 상기 회전되는 고정 플레이트(210)에 간섭되지 않을 수 있다.
다음은, 도 6 내지 도 10을 참조 하여, 본 발명의 자화 방지용 마그네트론 부 이송 장치 및 이를 갖는 마그네트론 스퍼터링 설비의 작용을 설명하도록 한다.
진공 챔버(100)의 내부에서는 척(110) 상에 안착된 기판에 스퍼터링 공정이 수행될 수 있다.
제어부(500)는 공정 제어부(140)로부터 전기적 신호를 실시간으로 전송 받을 수 있다(S100).
상기 제어부(500)는 진공 챔버(100)의 내부에서 스퍼터링 공정이 진행 중인지의 여부를 판단할 수 있다(S200).
예컨대, 상기 공정 제어부(140)는 공정이 진행되는 경우에 공정 진행 중임에 대한 신호를 제어부로 전송하고, 공정이 중지된 상태인 경우에 공정이 중지임을 알리는 신호를 제어부(500)로 전송할 수 있다.
따라서, 상기 제어부(500)는 공정 진행 여부를 판단할 수 있다.
여기서, 상기 제어부(500)는 상기 공정이 중지임을 알리는 신호를 전송 받으면, 자장 측정부(300)를 작동시킨다.
그리고, 상기 자장 측정부(300)는 진공 챔버(100)의 내부에 설치되는 타켓(130)의 저면 근방의 자장을 측정하여 제어부(500)로 전송할 수 있다(S210).
이어, 상기 제어부(500)는 상기 측정된 자장(Gd)이 기설정된 기준 자장의 범위(ΔGs)에 포함되는 지의 여부를 판단할 수 있다(S220).
여기서, 상기 기준 자장의 범위(ΔGs)는 0 내지 10 가우스 일수 있다.
만일, 상기 측정된 자장(Gd)이 기준 자장의 범위(ΔGs)에 포함되지 않는 경우에, 상기 제어부(500)는 구동부(600)를 전기적 신호를 전송한다.
상기 구동부(600)는 도 2에 도시된 마그네트론 부(200)의 자석(220)과 타켓(130)과의 거리 L2을 도 3에 도시된 바와 같이 L2'로 이격시키도록 회전 모터(421)와 회전축(422)으로 구성되는 위치 이동부를 구동시킨다(S230).
여기서, 상기 회전 모터(421)는 회전축(422)을 180도 회전시키어 마그네트론 부(200)의 고정 플레이트(210)를 회전시킬 수 있다.
이때, 상기 자장 측정부(300)는 실시간으로 상기 타켓(130) 저면의 자장을 측정하여 제어부(500)로 전송한다.
따라서, 상기 제어부(500)는 상기 측정되는 자장(Gd)이 기준 자장의 범위(ΔGs)에 포함될 때까지 상기 구동부(600)를 통하여 회전 모터(421)를 작동시키어 상기 고정 플레이트(210)에 고정된 자석(220)을 제 1영역(a1)에 위치시키도록 회전시킨다.
이때, 상기 제 1영역(a1)과 제 2영역(a2)이 격리 플레이트(251)를 통하여 서로 격리되고, 상기 격리 플레이트(251)가 자장을 흡수할 수 있는 재질로 이루어질 수 있기 때문에, 제 2영역(a2)으로 회전되어 위치된 자석(220)에서 발생되는 자장이 제 2영역(a2)에 위치되는 타켓(130)에 전달되는 것을 일정 이상으로 저지할 수도 있다.
반면에, 상기 제어부(500)는 상기 측정되는 자장(Gd)이 기준 자장의 범위(ΔGs)에 포함되는 경우에, 상기 제어부(500)는 위치 이동부를 작동시키지 않고, 마그네트론 부(200)의 설정 위치를 그대로 유지한다(S230).
이어, 상기 제어부(500)는 공정 제어부(140)를 사용하여 공정이 대기되는 상태를 이루고(S240), 추후 공정이 있는지의 유무를 판단할 수 있다(S250).
한편, 상기 제어부(500)는 공정이 진행되는 경우에, 자장 측정부(300)로부터 측정된 자장(Gd)을 전송 받고(S300), 측정되는 자장이 공정 자장 범위(ΔGp)에 포 함되는 지의 여부를 판단 할 수 있다(S400).
상기 측정되는 자장(Gd)이 공정 자장 범위(ΔGp)에 포함되지 않는 경우에, 상기 제어부(500)는 측정되는 자장(Gd)이 200 내지 800 가우스의 범위를 갖는 공정 자장 범위(ΔGp)에 포함될 때까지 회전 모터(421)를 사용하여 마그네트론 부(200)를 회전시킬 수 있다(S600).
반면에, 상기 측정되는 자장(Gd)이 공정 자장 범위(ΔGp)에 포함되는 경우에, 상기 제어부(500)는 위치 이동부를 작동시키지 않고, 마그네트론 부(200)의 설정 위치를 그대로 유지하고(S410), 공정 제어부(140)로 신호를 전송하여 공정을 진행하도록 할 수 있다(S420).
- 또 다른 실시예 -
도 11은 본 발명의 또 다른 실시예에 따르는 마그네트론 스퍼터링 설비를 보여주는 단면도이다. 도 12는 도 11의 자화 방지용 마그네트론 부 이송 장치의 제 1위치 이동부가 동작되는 것을 보여주는 단면도이다. 도 13은 도 11의 자화 방지용 마그네트론 부 이송 장치의 제 2위치 이동부가 동작되는 것을 보여주는 단면도이다. 도 14는 도 11의 진공 챔버의 내부에 격리 플레이트가 설치된 것을 보여주는 단면도이다. 도 15는 도 11의 자화 방지용 마그네트론 부 이송 장치의 동작을 보여주는 흐름도이다.
상기 또 다른 실시예를 따르는 마그네트론 스퍼터링 설비는 상기 다른 실시예와 다른 위치 이동부를 갖는다.
도 6 및 도 7을 참조 하면, 본 발명에 따르는 자화 방지용 마그네트론 부 이송 장치.는 마그네트론 부와, 이동 유니트로 구성된다.
상기 마그네트론 부(200)는 상기 일 실시예 및 다른 실시예의 구성과 동일하다.
상기 이동 유니트는 자장 측정부(300)와, 위치 이동부와, 제어부(500) 및 선택부(450)로 구성된다.
상기 위치 이동부는 제 1위치 이동부와 제 2위치 이동부로 구성된다.
상기 제 1위치 이동부는 가변축(411)과 실린더 몸체(412)로 구성되는 가변 실린더(410)이고, 상기 제 2위치 이동부는 회전 모터(421)와 회전축(422)으로 구성되는 회전 유닛(420)이다.
도 11 및 도 12를 참조 하면, 고정 플레이트(210)의 양측단에는 회전축(422)이 돌출된다.
상기 고정 플레이트(210)의 일측단에 형성되는 회전축(422)은 회전 모터(421)와 연결된다.
그리고, 상기 고정 플레이트(210)의 상부에는 2개의 가변 실린더(410)가 설치된다.
하나의 가변 실린더(410)의 가변축(411)의 끝단은 고정 플레이트(210) 타측단에 형성되는 회전축(422)과 힌지(H) 연결된다.
다른 하나의 가변 실린더(410)의 가변축(411)의 끝단은 상기 회전 모터(421)에 고정된다.
한편, 도 14를 참조 하면, 상기 진공 챔버(100)의 내부에는 고정 플레이트(210)를 경계로 상측으로 제 1영역(a1)과, 하측으로 척(110)이 설치되는 제 2영역(a2)으로 구분될 수 있다.
상기 제 1영역(a1)과 상기 제 2영역(a2)을 구획 지음과 아울러 고정 플레이트(210)에 고정된 자석(220)으로 인하여 제 1영역(a1)에 형성될 수 있는 자장을 흡수할 수 있도록 상기 진공 챔버(100)의 내부에는 격리 플레이트(252)가 더 설치된다.
상기 격리 플레이트(252)는 고정 플레이트(210)의 상부에 배치될 수 있다. 상기 격리 플레이트(252)의 폭은 상기 가변 실린더들(410)의 가변축들(411)의 사이 거리에 포함된다.
또한, 상기 격리 플레이트(252)는 진공 챔버(100)의 내측 상단면에 스프링들(253)을 통하여 탄성 지지될 수 있다.
다음은, 도 11 내지 도 15를 참조 하여, 본 발명의 자화 방지용 마그네트론 부 이송 장치. 및 이를 갖는 마그네트론 스퍼터링 설비의 작용을 설명하도록 한다.
진공 챔버(100)의 내부에서는 척(110) 상에 안착된 기판(111)에 스퍼터링 공정이 수행될 수 있다.
제어부(500)는 공정 제어부(140)로부터 전기적 신호를 실시간으로 전송 받을 수 있다(S100).
상기 제어부(500)는 진공 챔버(100)의 내부에서 스퍼터링 공정이 진행 중인지의 여부를 판단할 수 있다. 예컨대, 상기 공정 제어부(140)는 공정이 진행되는 경우에 공정 진행 중임에 대한 신호를 제어부(500)로 전송하고, 공정이 중지된 상태인 경우에 공정이 중지임을 알리는 신호를 제어부(500)로 전송할 수 있다.
여기서, 상기 제어부(500)는 상기 공정이 중지임을 알리는 신호를 전송 받으면, 자장 측정부(300)를 작동시킨다.
그리고, 상기 자장 측정부(300)는 진공 챔버(100)의 내부에 설치되는 자장 측정부(300)는 타켓(130)의 저면 근방의 자장을 측정하여 제어부(500)로 전송할 수 있다(S210).
이어, 상기 제어부(500)는 상기 측정된 자장(Gd)이 기설정된 기준 자장의 범위(ΔGs)에 포함되는 지의 여부를 판단할 수 있다(S220).
여기서, 상기 기준 자장의 범위는 0 내지 10 가우스 일수 있다.
만일, 상기 측정된 자장(Gd)이 기준 자장의 범위(ΔGs)에 포함되지 않는 경우에, 선택부(450)를 통하여 위치 이동부를 선택한다(S260).
선택부(450)를 통하여 제 1위치 이동부가 선택되는 경우에(S270), 제어부(500)는 마그네트론 부(200)의 수직 위치를 조절할 수 있다(S271).
즉, 상기 측정된 자장(Gd)이 기준 자장의 범위(ΔGs)에 포함되지 않는 경우에, 상기 제어부(500)는 구동부(600)를 전기적 신호를 전송한다.
상기 구동부(600)는 도 11에 도시된 마그네트론 부(200)의 자석(220)과 타켓(130)과의 거리 L3을 도 12에 도시된 바와 같이 L3'로 이격시키도록 제 1위치 이동부인 가변 실린더(410)를 구동시킨다.
여기서, 상기 가변 실린더(410)의 가변축(411)은 마그네트론 부(200)의 고정 플레이트(210)의 상단을 끌어 올릴 수 있다.
이때, 상기 자장 측정부(300)는 실시간으로 상기 타켓(130) 저면의 자장을 측정하여 제어부(500)로 전송한다.
따라서, 상기 제어부(500)는 상기 측정되는 자장(Gd)이 기준 자장의 범위(ΔGs)에 포함될 때까지 상기 구동부(600)를 통하여 가변 실린더(410)를 작동시키어 상기 마그네트론 부(200)를 상승시킬 수 있다.
여기서, 도 14에 도시되 격리 플레이트(252)는 상승되는 고정 플레이트(210)의 상면에 접촉되어 상승될 수 있다.
또한, 상기 선택부(450)를 통하여 제 2위치 이동부가 선택되는 경우에(S280), 제어부(500)는 마그네트론 부(200)의 회전 위치를 조절할 수 있다(S281).
즉, 상기 제어부(500)는 구동부(600)를 전기적 신호를 전송한다.
상기 구동부(600)는 도 11에 도시된 마그네트론 부(200)의 자석(220)과 타켓(130)과의 거리 L3를 도 13에 도시된 바와 같이 L3로 이격시키도록 회전 모터(421)와 회전축(422)으로 구성되는 회전 유닛(420)인 제 2위치 이동부를 구동시킨다.
여기서, 상기 회전 모터(421)는 회전축(422)을 180도 회전시키어 마그네트론 부(200)의 고정 플레이트(210)를 회전시킬 수 있다.
이때, 상기 자장 측정부(300)는 실시간으로 상기 타켓(130) 저면의 자장을 측정하여 제어부(500)로 전송한다.
따라서, 상기 제어부(500)는 상기 측정되는 자장(Gd)이 기준 자장의 범위(ΔGs)에 포함될 때까지 상기 구동부(600)를 통하여 회전 모터(421)를 작동시키어 상기 고정 플레이트(210)에 고정된 자석(220)을 제 1영역(a1)에 위치시키도록 회전시킨다.
이때, 도 14를 참조 하면, 회전되어 위치되는 자석(220)은 격리 플레이트(252)와 마주 보도록 위치될 수 있다.
그리고, 상기 격리 플레이트(252)가 자장을 흡수할 수 있는 재질로 이루어질 수 있기 때문에 상기 회전되어 위치된 자석(220)에서 발생되는 자장은 격리 플레이트(252)에서 일정 이상으로 흡수되고, 타켓(130)으로 전달되지 않을 수 있다.
반면에, 상기 제어부(500)는 상기 측정되는 자장(Gd)이 기준 자장의 범위(ΔGs)에 포함되는 경우에, 상기 제어부(500)는 위치 이동부를 작동시키지 않고, 마그네트론 부의 설정 위치를 그대로 유지한다(S230).
이어, 상기 제어부(500)는 공정 제어부(140)를 사용하여 공정이 대기되는 상태를 이루고(S240), 추후 공정이 있는지의 유무를 판단할 수 있다(S250).
한편, 상기 제어부(500)는 공정이 진행되는 경우에, 자장 측정부(300)로부터 측정된 자장을 전송 받고, 측정되는 자장(Gd)이 공정 자장 범위(ΔGp)에 포함되는 지의 여부를 판단 할 수 있다(S400).
상기 측정되는 자장(Gd)이 공정 자장 범위(ΔGp)에 포함되지 않는 경우에, 상기 제어부(500)는 선택부(450)를 통하여 상기에 언급된 바와 같이 제 1위치 이동부를 선택하거나(S800), 제 2위치 이동부를 선택할 수 있다(S900).
따라서, 상기 제 1위치 이동부가 선택되는 경우에(S800), 상기 측정되는 자장(Gd)이 기설정된 공정 자장의 범위(ΔGp) 내에 포함될 때까지 가변 실린더(410)를 사용하여 마그네트론 부(200)의 수직 위치를 조절한다(S810).
또한, 상기 제 2위치 이동부가 선택되는 경우에(S900), 상기 측정되는 자장(Gd)이 기설정된 공정 자장의 범위(ΔGp) 내에 포함될 때까지 회전 유닛(420)을 사용하여 마그네트론 부(200)를 회전 조절할 수 있다(S910).
도 1은 종래의 마그네트론 스퍼터링 설비를 보여주는 도면이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따르는 마그네트론 스퍼터링 설비를 보여주는 단면도이다.
도 3는 도 2의 자화 방지용 마그네트론 부 이송 장치가 동작되는 것을 보여주는 단면도이다.
도 4는 도 2의 진공 챔버의 내부에 격리 플레이트가 설치된 것을 보여주는 단면도이다.
도 5는 도 2의 자화 방지용 마그네트론 부 이송 장치의 동작을 보여주는 흐름도이다.
도 6은 본 발명의 다른 실시예에 따르는 마그네트론 스퍼터링 설비를 보여주는 단면도이다.
도 7은 도 6의 자화 방지용 마그네트론 부 이송 장치가 동작되는 것을 보여주는 단면도이다.
도 8은 도 6의 진공 챔버의 내부에 격리 플레이트가 설치된 것을 보여주는 단면도이다.
도 9는 도 8의 격리 플레이트의 배치 상태를 보여주는 평면도이다.
도 10은 도 6의 자화 방지용 마그네트론 부 이송 장치의 동작을 보여주는 흐름도이다.
도 11은 본 발명의 또 다른 실시예에 따르는 마그네트론 스퍼터링 설비를 보 여주는 단면도이다.
도 12는 도 11의 자화 방지용 마그네트론 부 이송 장치의 제 1위치 이동부가 동작되는 것을 보여주는 단면도이다.
도 13은 도 11의 자화 방지용 마그네트론 부 이송 장치의 제 2위치 이동부가 동작되는 것을 보여주는 단면도이다.
도 14는 도 11의 진공 챔버의 내부에 격리 플레이트가 설치된 것을 보여주는 단면도이다.
도 15는 도 11의 자화 방지용 마그네트론 부 이송 장치의 동작을 보여주는 흐름도이다.
*도면의 주요부분에 대한 부호설명*
100 : 진공 챔버
130 : 타켓
200 : 마그네트론 부
250, 251, 252 : 격리 플레이트
300 : 자장 측정부
410 : 가변 실린더
420 : 회전 유닛
450 : 선택부
500 : 제어부
600 : 구동부

Claims (16)

  1. 금속으로 이루어지는 타켓의 근방에 배치되며, 일정의 자장을 형성하는 마그네트론 부;
    상기 타켓에 형성되는 자장이 기설정되는 기준 자장의 범위에 포함되도록 상기 마그네트론 부와 상기 타켓과의 거리를 일정 거리 이격시키는 이동 유니트; 및
    상기 마그네트론 부를 경계로 일측에는 상기 타켓이 배치되는 제 1영역이 형성되고, 타측에는 제 2영역이 형성되며, 상기 마그네트론 부의 주위에 설치되어 상기 제 1영역과 상기 제 2영역을 격리시키고 일정의 자장을 흡수하는 격리 플레이트
    를 포함하는 자화 방지용 마그네트론 부 이송 장치.
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 이동 유니트는 상기 타켓의 일측 근방에 배치되며 상기 타켓에 형성되는 자장을 측정하는 자장 측정부와, 상기 마그네트론 부와 연결되어 상기 마그네트론 부를 일정 위치로 이동시키는 위치 이동부와, 상기 자장 측정부와 전기적으로 연결되며 상기 타겟에 형성되는 자장이 상기 기준 자장 범위에 포함되도록 상기 위치 이동부를 동작시키어 상기 마그네트론 부를 상기 타켓으로부터 일정 거리 이격시키는 제어부를 구비하는 자화 방지용 마그네트론 부 이송 장치.
  3. 제 2항에 있어서,
    상기 위치 이동부는 상기 마그네트론 부와 연결되고 상기 제어부로부터 동작 신호를 받아 신축 동작을 하는 가변 실린더인 것을 특징으로 하는 자화 방지용 마그네트론 부 이송 장치.
  4. 제 2항에 있어서,
    상기 위치 이동부는 상기 마그네트론 부와 연결되고 상기 제어부로부터 동작 신호를 받아 회전 동작을 하는 회전 유닛이고,
    상기 회전 유닛은 상기 타켓과 평행하도록 상기 마그네트론 부의 양측부에 마련되고 일단이 일정 위치에 회전 지지되는 회전축과, 상기 회전축의 타단에 연결되어 상기 회전축을 회전시키는 회전 모터를 구비하는 것을 특징으로 하는 자화 방지용 마그네트론 부 이송 장치.
  5. 제 2항에 있어서,
    상기 위치 이동부는 제 1위치 이동부와, 제 2위치 이동부와, 상기 제어부와 전기적으로 연결되는 선택부를 구비하되,
    상기 제 1위치 이동부는 상기 마그네트론 부와 연결되고 상기 제어부로부터 동작 신호를 받아 신축 동작을 하는 가변 실린더이고,
    상기 제 2위치 이동부는 상기 타켓과 평행하도록 상기 마그네트론 부의 양측부에 마련되고 일단이 일정 위치에 회전 지지되는 회전축과 상기 회전축의 타단에 연결되어 상기 회전축을 회전시키는 회전 모터를 갖는 회전 유닛이고,
    상기 선택부는 상기 제 1위치 이동부와 상기 제 2위치 이동부 중 어느 하나를 동작시키도록 상기 제어부에 전기적 신호를 전송하는 것을 특징으로 하는 자화 방지용 마그네트론 부 이송 장치.
  6. 제 2항에 있어서,
    상기 자장 측정부는 상기 마그네트론 부와 마주보는 면과 반대측에 형성되는 면의 자장을 측정하는 것을 특징으로 하는 자화 방지용 마그네트론 부 이송 장치.
  7. 제 1항에 있어서,
    상기 기설정되는 기준 자장의 범위는 0 내지 10 가우스의 범위를 이루는 것을 특징으로 하는 자화 방지용 마그네트론 부 이송 장치.
  8. 제 1항에 있어서,
    상기 마그네트론 부는 고정 플레이트와, 상기 고정 플레이트의 일측에 배치되는 자석을 구비하는 것을 특징으로 하는 자화 방지용 마그네트론 부 이송 장치.
  9. 진공 챔버;
    외부로부터 고주파가 인가되며 상기 진공 챔버의 내부 저측에 배치되며 일정 크기의 기판이 안착되는 척;
    상기 척과 마주보도록 상기 진공 챔버의 내부 상측에 배치되는 금속 재질로 이루어지는 타켓;
    상기 타켓의 상부에 위치되도록 상기 진공 챔버의 내부 상측에 배치되며, 일정의 자장을 형성하는 자석과 상기 자석을 고정하는 고정 플레이트를 갖는 마그네트론 부;
    상기 타켓에 형성되는 자장이 기설정되는 기준 자장의 범위에 포함되도록 상기 마그네트론 부와 상기 타켓과의 거리를 일정 거리 이격시키는 이동 유니트; 및
    상기 마그네트론 부를 경계로 일측에는 상기 타켓이 배치되는 제 1영역이 형성되고, 타측에는 제 2영역이 형성되며, 상기 마그네트론 부의 주위에 설치되어 상기 제 1영역과 상기 제 2영역을 격리시키고 일정의 자장을 흡수하는 격리 플레이트
    를 포함하는 자화 방지용 마그네트론 부 이송 장치를 갖는 마그네트론 스퍼터링 설비.
  10. 제 9항에 있어서,
    상기 이동 유니트는 상기 타켓의 일측 근방에 위치되도록 상기 진공 챔버의 내부에 배치되며 상기 척과 마주보는 상기 타켓의 일면에 형성되는 자장을 측정하는 자장 측정부와, 상기 고정 플레이트와 연결되어 상기 마그네트론 부를 일정 위치로 이동시키는 위치 이동부와, 상기 자장 측정부와 전기적으로 연결되며 상기 타겟의 일면에 형성되는 자장이 상기 기준 자장 범위에 포함되도록 상기 위치 이동부를 동작시키어 상기 마그네트론 부를 상기 타켓으로부터 일정 거리 이격시키는 제어부를 구비하는 것을 특징으로 하는 자화 방지용 마그네트론 부 이송 장치를 갖는 마그네트론 스퍼터링 설비.
  11. 제 10항에 있어서,
    상기 위치 이동부는 상기 고정 플레이트와 연결되고 상기 제어부로부터 동작 신호를 받아 신축 동작을 하는 가변 실린더인 것을 특징으로 하는 자화 방지용 마그네트론 부 이송 장치를 갖는 마그네트론 스퍼터링 설비.
  12. 제 10항에 있어서,
    상기 위치 이동부는 상기 마그네트론 부와 연결되고 상기 제어부로부터 동작 신호를 받아 회전 동작을 하는 회전 유닛이고,
    상기 회전 유닛은 상기 타켓과 평행하도록 상기 고정 플레이트의 양측부에 마련되고 일단이 상기 진공 챔버의 내측벽에 회전 지지되는 회전축과, 상기 회전축의 타단에 연결되어 상기 회전축을 회전시키는 회전 모터를 구비하는 것을 특징으로 하는 자화 방지용 마그네트론 부 이송 장치를 갖는 마그네트론 스퍼터링 설비.
  13. 제 10항에 있어서,
    상기 위치 이동부는 제 1위치 이동부와, 제 2위치 이동부와, 상기 제어부와 전기적으로 연결되는 선택부를 구비하되,
    상기 제 1위치 이동부는 상기 고정 플레이트와 연결되고 상기 제어부로부터 동작 신호를 받아 신축 동작을 하는 가변 실린더이고,
    상기 제 2위치 이동부는 상기 타켓과 평행하도록 상기 고정 플레이트의 양측부에 마련되고 일단이 상기 진공 챔버의 내측벽에 회전 지지되는 회전축과 상기 회전축의 타단에 연결되어 상기 회전축을 회전시키는 회전 모터를 갖는 회전 유닛이고,
    상기 선택부는 상기 제 1위치 이동부와 상기 제 2위치 이동부 중 어느 하나를 동작시키도록 상기 제어부에 전기적 신호를 전송하는 것을 특징으로 하는 자화 방지용 마그네트론 부 이송 장치를 갖는 마그네트론 스퍼터링 설비.
  14. 제 9항에 있어서,
    상기 기설정되는 기준 자장의 범위는 0 내지 10 가우스의 범위를 이루는 것을 특징으로 하는 자화 방지용 마그네트론 부 이송 장치를 갖는 마그네트론 스퍼터링 설비.
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