KR100994507B1 - Substrate align apparatus - Google Patents

Substrate align apparatus Download PDF

Info

Publication number
KR100994507B1
KR100994507B1 KR1020080099391A KR20080099391A KR100994507B1 KR 100994507 B1 KR100994507 B1 KR 100994507B1 KR 1020080099391 A KR1020080099391 A KR 1020080099391A KR 20080099391 A KR20080099391 A KR 20080099391A KR 100994507 B1 KR100994507 B1 KR 100994507B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
substrate
pressure air
high pressure
alignment
air blower
Prior art date
Application number
KR1020080099391A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20100040346A (en
Inventor
임종구
Original Assignee
엘아이지에이디피 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 엘아이지에이디피 주식회사 filed Critical 엘아이지에이디피 주식회사
Priority to KR1020080099391A priority Critical patent/KR100994507B1/en
Publication of KR20100040346A publication Critical patent/KR20100040346A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR100994507B1 publication Critical patent/KR100994507B1/en

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/68Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for positioning, orientation or alignment
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/133354Arrangements for aligning or assembling substrates
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S414/00Material or article handling
    • Y10S414/135Associated with semiconductor wafer handling
    • Y10S414/136Associated with semiconductor wafer handling including wafer orienting means

Abstract

본 발명은 기판정렬장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 기판에 물리적 접촉을 하지 않고 기판을 정렬할 수 있는 기판정렬장치에 관한 것이다. The present invention relates to a substrate aligning apparatus, and more particularly, to a substrate aligning apparatus capable of aligning a substrate without making physical contact with the substrate.

본 발명에 의한 기판정렬장치는 기판을 지지하는 기판 지지대; 상기 기판의 제1변의 정렬 기준면을 제공하는 기준수단; 및 상기 기판의 제1변의 마주보는 변인 제2변의 측면에서 고압공기를 분사하는 적어도 1 이상의 에어블로워;를 포함한다. Substrate alignment apparatus according to the present invention includes a substrate support for supporting a substrate; Reference means for providing an alignment reference plane of the first side of the substrate; And at least one air blower for injecting high pressure air from a side of the second side, which is the opposite side of the first side of the substrate.

기판. 정렬. 에어 블로워. Board. Sort. Air blower.

Description

기판정렬장치{SUBSTRATE ALIGN APPARATUS}Substrate Alignment Device {SUBSTRATE ALIGN APPARATUS}

본 발명은 기판정렬장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 기판에 물리적 접촉을 하지 않고 기판을 정렬할 수 있는 기판정렬장치에 관한 것이다. The present invention relates to a substrate aligning apparatus, and more particularly, to a substrate aligning apparatus capable of aligning a substrate without making physical contact with the substrate.

반도체 또는 평판 디스플레이 패널을 제조하기 위하여는 다양한 공정을 진행하게 되는데, 이러한 다양한 공정을 진행하기 전에 웨이퍼 또는 글래스(이하, '기판'이라고 함)를 기판을 정렬하는 공정이 선행되어야 한다. In order to manufacture a semiconductor or flat panel display panel, various processes are performed, and a process of aligning a substrate with a wafer or glass (hereinafter, referred to as a substrate) must be preceded before the various processes can be performed.

도 1a 및 도 1b를 참조하여 종래의 기판 정렬방법을 설명한다. 먼저, 기판(S)을 정렬스테이지(또는 공정스테이지)에 재치한다. 한편, 기판이 재치되는 스테이지의 어느 일측에는 기판의 제1변의 정렬 기준면을 제공하는 한 쌍의 기준수단(11,12)이 구비된다(도 1a 참조). A conventional substrate alignment method will be described with reference to FIGS. 1A and 1B. First, the substrate S is placed on an alignment stage (or process stage). On the other hand, either side of the stage on which the substrate is placed is provided with a pair of reference means 11 and 12 for providing an alignment reference plane of the first side of the substrate (see FIG. 1A).

다음으로, 정렬수단인 한 쌍의 롤러(21,22)로 상기 기판의 제1변의 마주보는 변인 제2변의 측면을 밀어, 상기 제1변이 상기 한 쌍의 기준수단(11,12)에 접하게 함으로써 기판을 정렬할 수 있는 것이다(도 1b 참조). Next, the side of the second side, which is the opposite side of the first side of the substrate, is pushed by a pair of rollers 21 and 22 as alignment means, so that the first side is in contact with the pair of reference means 11 and 12. The substrate can be aligned (see FIG. 1B).

도 2는 종래의 정렬수단인 롤러(21)를 도시한 것이다. 상기 롤러(21)는 통상 Peek재질로 형성된다. 2 shows a roller 21 which is a conventional alignment means. The roller 21 is usually formed of a Peek material.

그러나 위와 같은 종래의 기판 정렬방법은 롤러로 기판의 측면을 물리적으로 접촉, 가압하여 정렬하기 때문에 롤러의 찍힘 또는 파손이 발생하여 주기적으로 교체해야 하는 문제점이 있다. 또한 이러한 물리적 접촉으로 기판이 손상되기도 한다. However, the conventional substrate alignment method as described above has a problem in that the rollers are cut or damaged due to physical contact and pressure alignment of the side surfaces of the substrate with rollers, and thus need to be replaced periodically. This physical contact also damages the substrate.

본 발명은 상술한 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 본 발명의 목적은 기판에 물리적 접촉을 하지 않고 기판을 정렬할 수 있는 기판정렬장치를 제공함에 있다. SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above problems, and an object of the present invention is to provide a substrate alignment apparatus capable of aligning a substrate without making physical contact with the substrate.

위와 같은 기술적 과제를 해결하기 위하여 본 발명에 의한 기판정렬장치는 기판을 지지하는 기판 지지대; 상기 기판의 제1변의 정렬 기준면을 제공하는 기준수단; 및 상기 기판의 제1변의 마주보는 변인 제2변의 측면에서 고압공기를 분사하는 적어도 1 이상의 에어블로워;를 포함한다. In order to solve the above technical problem, a substrate alignment apparatus according to the present invention includes a substrate support for supporting a substrate; Reference means for providing an alignment reference plane of the first side of the substrate; And at least one air blower for injecting high pressure air from a side of the second side, which is the opposite side of the first side of the substrate.

또한 상기 기판 지지대는 상기 기판을 부상시키도록 상기 기판의 하부에서 고압공기를 분사하는 분사수단이 더 구비되는 것이 바람직하다. In addition, the substrate support is preferably further provided with a spray means for injecting high pressure air from the lower portion of the substrate to float the substrate.

또한 상기 기준수단은 회전가능한 롤러인 것이 바람직하다. It is also preferred that the reference means is a rotatable roller.

또한 상기 에어블로워는 고압공기를 분사하는 적어도 1 이상의 분사홀이 구비되는 것이 바람직하다. In addition, the air blower is preferably provided with at least one injection hole for injecting high pressure air.

또한 상기 분사홀로부터 분사되는 고압공기의 분사경로는 상기 기판이 포함되는 평면과 일치되게 형성되는 것이 바람직하다. In addition, the injection path of the high-pressure air injected from the injection hole is preferably formed to match the plane containing the substrate.

또한 상기 제2변에 접하게 설치되는 플레이트가 더 구비되는 것이 바람직하다. In addition, the plate is preferably provided in contact with the second side.

또한 상기 분사홀로부터 분사되는 고압공기의 분사경로는 상기 기판이 포함 되는 평면과 소정각도 경사지게 형성되는 것이 바람직하다. In addition, the injection path of the high-pressure air injected from the injection hole is preferably formed to be inclined at a predetermined angle with the plane containing the substrate.

본 발명에 따르면, 기판에 물리적 접촉을 하지 않고 기판을 정렬할 수 있는 효과가 있다. According to the present invention, it is possible to align the substrate without making physical contact with the substrate.

따라서 기판의 파손을 방지하면서 정렬할 수 있게 된다. Therefore, the substrate can be aligned while preventing damage to the substrate.

이하에서는 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 의한 실시예의 구성 및 작용을 설명한다. Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described the configuration and operation of the embodiment according to the present invention.

도 3a를 참조하면, 본 실시예는 기판(S)을 지지하는 기판 지지대(미도시)와, 상기 기판(S)의 제1변의 정렬 기준면을 제공하는 기준수단인 한 쌍의 롤러(111,112)를 포함한다. 상기 롤러는 도 2에 도시된 롤러와 유사하게 형성할 수 있다. Referring to FIG. 3A, the present embodiment includes a pair of rollers 111 and 112 serving as a substrate support (not shown) for supporting the substrate S and reference means for providing an alignment reference plane of the first side of the substrate S. Referring to FIG. Include. The roller may be formed similarly to the roller shown in FIG.

특히, 상기 기판(S)의 제1변의 마주보는 변인 제2변의 측면에서 고압공기를 분사하는 한 쌍의 에어블로워(121,122)가 구비된다. In particular, a pair of air blowers 121 and 122 are provided to spray high-pressure air from the side of the second side, which is the opposite side of the first side of the substrate S.

도 3b를 참조하여 본 발명에 의한 작동상태를 설명한다. Referring to Figure 3b will be described the operating state according to the present invention.

먼저, 도 3a와 같이 비 정렬상태의 기판(S)의 제2변의 측면에서 한 쌍의 에어블로워(121,122)를 이용하여 고압공기를 분사한다. 이로 인해, 상기 기판(S)은 도면상 우측으로 이동하면서 제1변이 한 쌍의 롤러(111,112)에 접하게 됨으로써, 정렬하게 되는 것이다. First, as shown in FIG. 3A, high-pressure air is sprayed using a pair of air blowers 121 and 122 at the side of the second side of the substrate S in an unaligned state. For this reason, the first side is in contact with the pair of rollers 111 and 112 while the substrate S moves to the right in the drawing, thereby being aligned.

도 4는 본 실시예의 에어블로워(121)를 도시한 것이다. 도시된 바와 같이, 상기 에어블로워(121)는 복수의 분사홀(121a)이 형성되어 있다. 4 shows the air blower 121 of the present embodiment. As shown, the air blower 121 has a plurality of injection holes 121a.

도 5를 참조하면, 기판(S)의 하부에서 고압공기를 분사하여 기판을 부상시킨 상태에서 기판을 정렬하는 것을 알 수 있다. Referring to FIG. 5, it can be seen that the substrate is aligned in a state where the substrate is floated by spraying high pressure air from the lower portion of the substrate S. Referring to FIG.

또한 상기 에어블로워(121)에서 분사되는 고압공기의 분사경로는 상기 기판이 포함되는 평면과 일치되게 분사된다. 따라서 고압공기에 의해 기판이 효율적으로 이동되기 위하여 기판(S)의 제2변에 접하면서 공기저항을 받는 플레이트(130)가 더 구비되는 것을 알 수 있다. 따라서 에어블로워(121)에서 분사되는 고압공기는 상기 플레이트(130)에 작용하게 되고, 상기 플레이트(130)의 공기저항으로 상기 기판(S)이 이동되어 정렬되는 것이다. In addition, the injection path of the high-pressure air is injected from the air blower 121 is sprayed to match the plane containing the substrate. Therefore, it can be seen that the plate 130 which receives air resistance while contacting the second side of the substrate S is further provided to efficiently move the substrate by the high pressure air. Therefore, the high pressure air injected from the air blower 121 acts on the plate 130, and the substrate S is moved and aligned by the air resistance of the plate 130.

도시되지는 아니하였으나, 상기 에어블로워에서 분사되는 고압공기의 분사경로는 상기 기판이 포함되는 평면과 소정각도 경사지게 형성될 수도 있다. 즉, 기판의 제2측면에서 기판의 측면에 비스듬하게 분사함으로써 기판을 효율적으로 이동시킬 수 있는 것이다. Although not shown, the injection path of the high-pressure air injected from the air blower may be formed to be inclined at a predetermined angle with a plane including the substrate. That is, the substrate can be moved efficiently by inclining the side surface of the substrate from the second side of the substrate.

도 1a 및 도 1b는 종래 기판 정렬장치 및 방법을 개략적으로 나타낸 것이다.1A and 1B schematically illustrate a conventional substrate alignment apparatus and method.

도 2는 종래 기판 정렬장치의 요부를 나타낸 것이다. Figure 2 shows the main part of the conventional substrate alignment apparatus.

도 3a 및 도 3b는 본 발명에 의한 기판 정렬장치 및 방법을 개략적으로 나타낸 것이다.3A and 3B schematically illustrate a substrate alignment apparatus and method according to the present invention.

도 4 및 도 5는 본 발명에 의한 기판 정렬장치를 나타낸 것이다. 4 and 5 show a substrate alignment apparatus according to the present invention.

**도면의 주요부분에 대한 부호의 설명**DESCRIPTION OF REFERENCE NUMERALS

111, 112: 기준수단 121, 122: 에어블로워111, 112: reference means 121, 122: air blower

130: 플레이트 130: plate

Claims (7)

기판을 지지하는 기판 지지대;A substrate support for supporting a substrate; 상기 기판의 제1변의 정렬 기준면을 제공하는 기준수단; Reference means for providing an alignment reference plane of the first side of the substrate; 상기 기판의 제1변의 마주보는 변인 제2변의 측면에서 고압공기를 분사하는 적어도 1 이상의 에어블로워;및At least one air blower for injecting high pressure air at a side of a second side of the substrate, the second side being an opposite side; and 상기 기판의 제2변에 접하게 설치되는 플레이트를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판정렬장치. And a plate installed in contact with the second side of the substrate. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 기판 지지대는 상기 기판을 부상시키도록 상기 기판의 하부에서 고압공기를 분사하는 분사수단이 더 구비되는 것을 특징으로 하는 기판정렬장치. And the substrate support further comprises spraying means for spraying high pressure air from the lower portion of the substrate to float the substrate. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 기준수단은 회전가능한 롤러인 것을 특징으로 하는 기판정렬장치. And said reference means is a rotatable roller. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 에어블로워는 고압공기를 분사하는 적어도 1 이상의 분사홀이 구비되는것을 특징으로 하는 기판정렬장치. And the air blower is provided with at least one injection hole for injecting high pressure air. 제4항에 있어서,The method of claim 4, wherein 상기 분사홀로부터 분사되는 고압공기의 분사경로는 상기 기판이 포함되는 평면과 일치되게 형성되는 것을 특징으로 하는 기판정렬장치. And a spray path of the high pressure air sprayed from the spray hole is formed to coincide with a plane including the substrate. 삭제delete 제4항에 있어서,The method of claim 4, wherein 상기 분사홀로부터 분사되는 고압공기의 분사경로는 상기 기판이 포함되는 평면과 소정각도 경사지게 형성되는 것을 특징으로 하는 기판정렬장치. And a spray path of the high pressure air sprayed from the spray hole is formed to be inclined at a predetermined angle with a plane including the substrate.
KR1020080099391A 2008-10-10 2008-10-10 Substrate align apparatus KR100994507B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020080099391A KR100994507B1 (en) 2008-10-10 2008-10-10 Substrate align apparatus

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020080099391A KR100994507B1 (en) 2008-10-10 2008-10-10 Substrate align apparatus

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20100040346A KR20100040346A (en) 2010-04-20
KR100994507B1 true KR100994507B1 (en) 2010-11-15

Family

ID=42216444

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020080099391A KR100994507B1 (en) 2008-10-10 2008-10-10 Substrate align apparatus

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR100994507B1 (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101413708B1 (en) * 2012-11-26 2014-06-30 하이디스 테크놀로지 주식회사 Apparatus for aligning substrate

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104084730A (en) * 2014-04-02 2014-10-08 太原风华信息装备股份有限公司 Cell positioning mechanism of solar cell serial welding machine
KR102185034B1 (en) * 2018-06-27 2020-12-01 세메스 주식회사 Module for aligning bonding tool and die bonding apparatus having the same
KR102288925B1 (en) * 2018-06-27 2021-08-12 세메스 주식회사 Module for aligning bonding tool and die bonding apparatus having the same

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000100896A (en) * 1998-09-21 2000-04-07 Rohm Co Ltd Method and device for carrying wafer
JP2004031799A (en) * 2002-06-27 2004-01-29 Orc Mfg Co Ltd Temporarily positioning mechanism of work and method for temporarily positioning work

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000100896A (en) * 1998-09-21 2000-04-07 Rohm Co Ltd Method and device for carrying wafer
JP2004031799A (en) * 2002-06-27 2004-01-29 Orc Mfg Co Ltd Temporarily positioning mechanism of work and method for temporarily positioning work

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101413708B1 (en) * 2012-11-26 2014-06-30 하이디스 테크놀로지 주식회사 Apparatus for aligning substrate

Also Published As

Publication number Publication date
KR20100040346A (en) 2010-04-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100994507B1 (en) Substrate align apparatus
JP2007238287A (en) Work conveying device and work conveying method
TW200607012A (en) A substrate processing apparatus and method
KR101010310B1 (en) Scribing apparatus, and apparatus and method for cutting substrate using the same
KR20070016576A (en) Panel display clamping apparatus and transfering and inspecting apparatuses having the same
US10442101B2 (en) Method for aligning substrate and apparatus for cutting substrate using the same
KR100733729B1 (en) Substrates Aligning Apparatus
KR20080085646A (en) Substrate transfering apparatus
KR100691473B1 (en) Air knife module for drying substrate and drying device using thereof
KR101134655B1 (en) Substrate cutting apparatus
KR20090128081A (en) Scribing apparatus
KR20160038245A (en) Floating coater apparatus with high accuracy of substrate alignment
KR101413708B1 (en) Apparatus for aligning substrate
KR100691216B1 (en) Apparatus for transfering substrate
KR20100036785A (en) Apparatus and method of scribing object
KR100700293B1 (en) Apparatus for drying substrates
KR20090128083A (en) Scribing apparatus
JP2007022848A (en) Scribing apparatus and method of cutting substrate using the same
KR20100120525A (en) Apparatus for breaking substrate
KR100751235B1 (en) Scribing apparatus
KR101053996B1 (en) Substrate processing apparatus and substrate processing method using the same
KR20210138349A (en) Apparatus for processing substrate and method for processing substrate
KR20100138459A (en) Apparatus for removing particle from photomask
KR101786800B1 (en) Apparatus for transferring substrate
KR20090130500A (en) Apparatus for aligning a substrate

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20131108

Year of fee payment: 4

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20141111

Year of fee payment: 5

LAPS Lapse due to unpaid annual fee