KR100954642B1 - 알칼리 금속 옥사이드를 포함하는 혼합 옥사이드 분말, 및상기 분말을 포함하는 실리콘 고무 - Google Patents

알칼리 금속 옥사이드를 포함하는 혼합 옥사이드 분말, 및상기 분말을 포함하는 실리콘 고무 Download PDF

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Abstract

BET 표면적이 100 내지 350 ㎡/g이고, 비표면적 ㎡ 당 DBP 수치로 표현되는 비(specific) DBP 수치가 단지 금속 옥사이드 성분만을 갖는 것보다 크거나 또는 동일하고, 일차 입자의 표면 상에 및 코어(core) 내에 분포된 1종 이상의 알칼리 금속 옥사이드를 0.005 내지 5 중량% 포함하는, 기공이 없는 일차 입자의 응집체 형태의 알칼리 금속 옥사이드-금속 옥사이드 혼합 옥사이드 분말을 제공한다. 알칼리 금속 옥사이드-금속 옥사이드 분말을 포함하는 실리콘 고무를 제공한다.
알칼리 금속 옥사이드-금속 옥사이드 혼합 옥사이드 분말, BET 표면적, DBP 수치, 알칼리 금속 옥사이드, 응집체

Description

알칼리 금속 옥사이드를 포함하는 혼합 옥사이드 분말, 및 상기 분말을 포함하는 실리콘 고무 {Mixed Oxide Powder Comprising Alkali Metal Oxide, And Silicone Rubber Comprising This Powder}
본 발명은 알칼리 금속 옥사이드로 도핑되고 고도로 구조화된 금속 옥사이드 분말, 및 이의 제조방법 및 용도에 관한 것이다. 본 발명은 또한 도핑되고 고도로 구조화된 금속 옥사이드 분말을 포함하는 실리콘 고무에 관한 것이다.
독일 특허 DE-A 제10065028호에는 금속 옥사이드 성분으로서 칼륨 옥사이드를 갖는 금속 혼합 옥사이드 분말이 개시되어 있다.
특히, 칼륨 옥사이드-규소 디옥사이드 분말이 공지되어 있다.
분말은 에어로졸을 불꽃 산화 또는 불꽃 가수분해의 방식에서 퓸드(fumed) 옥사이드의 제조용으로 공지되어 있는 유형의 불꽃으로 공급함으로써 제조된다. 에어로졸은 칼륨염 용액으로부터 수득되며 담체 기체에 의해서 히터로 도입된 후, 불꽃-산화 기체 혼합물 또는 불꽃-가수분해 기체 혼합물과 균일하게 혼합된다. 이어서 에어로졸-기체 혼합물은 불꽃에서 반응이 완결되게 하고, 생성된 칼륨-옥사이드-도핑된 분말이 기체 스트림으로부터 분리된다. 독일 특허 DE-A 제10065028호에는 에어로졸을 18O℃로 가열하는 것이 개시되어 있다. 에어로졸과 담체 기체를 혼 합하는 방법에 관해서는 개시되어 있지 않다.
생성된 분말은 전자 현미경 사진에서 상호 결합(accretion)이 매우 적은 구형의 둥근 일차 입자를 가지며, 이는 DBP 방법에 의해서 구조를 측정할 때 말단 지점이 식별되지 않는다는 사실로 인해서 인지된다. 또한, 분말은 일차 입자 직경 분포가 매우 좁고, 그것은 dn/da (여기서,dn은 일차 입자 직경의 수치 중간값이고 da는 표면적을 기준으로 계산된 일차 입자 직경의 중간값임)로 정의하는 경우 0.7 이상이다. 물 중의 4% 농도 분산액에서 측정하였을 경우 분말의 pH는 본 발명의 예에서 7.22 내지 7.96이다.
칼륨 옥사이드-규소 디옥사이드 분말은 낮은 결합도 및 좁은 일차 입자 크기 분포를 통해서 BET 표면적이 대등한 규소 디옥사이드 분말과 명백하게 상이하다.
칼륨 옥사이드-규소 디옥사이드 분말은 고도로 충전된 저점도의 분산액의 제조에 적합하다.
독일 특허 DE-A 제10242798호에는 또한 성분으로서 칼륨 옥사이드를 갖는 금속 혼합 옥사이드 분말이 개시되어 있다. DBP 방법에 의한 금속 혼합 옥사이드 분말에 대한 구조 측정 결과는, DBP 측정 동안 어떠한 말단 지점도 존재하지 않는다는 가정하에, 분말은 구조화 수준 (DBP 흡수로 표현됨)이 매우 낮거나 구조화 수준이 칼륨 옥사이드 성분이 존재하지 않는 금속 옥사이드 분말에 의해서 주어질 값의 85% 미만이다.
독일 특허 DE-A 제10242798호에 개시된 바와 같이, 칼륨 옥사이드-금속 옥사 이드 분말이 실리콘 고무의 제조에 사용될 수 있다. 칼륨 옥사이드-규소 디옥사이드 분말은 가소화도가 매우 낮은 실리콘 고무를 생성하지만, 그럼에도 불구하고 쇼어(Shore) 경도, 인장 강도 및 인열 파급 저항성은 칼륨 옥사이드 성분이 존재하지 않는 대등한 BET 표면적의 규소 디옥사이드 분말의 경우보다 낮다. 또한, 칼륨 옥사이드-규소 디옥사이드 분말로 제조된 실리콘 고무는 칼륨 옥사이드 성분이 존재하지 않는 규소 디옥사이드 분말을 포함하는 실리콘 고무보다 투명도가 높다 그러나, 많은 분야를 위해서 투명도가 보다 개선되는 것이 바람직할 것이다.
따라서 본 발명의 목적은 특히 실리콘 고무에서 다른 기계적 특성에 악영향을 미치지 않으면서 선행 기술에서 투명도를 높이기 위해서 지금까지 사용된 분말보다 현저하게 높은 투명도를 제공하는 금속 옥사이드 분말을 제공하는 것이다.
본 발명의 또다른 목적은 이러한 금속 옥사이드 분말의 제조 방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 또다른 목적은 특성이 개선된 실리콘 고무를 제공하는 것이다.
본 발명은
- BET 표면적이 100 내지 350 ㎡/g이고,
- 비표면적 ㎡ 당 DBP 수치로 표현되는 비(specific) DBP 수치가 단지 금속 옥사이드 성분만을 갖는 분말보다 크거나 또는 동일하고,
- 알칼리 금속 옥사이드가 일차 입자의 표면 상에 및 코어(core) 내에 분포된 것을 특징으로 하고, 1종 이상의 알칼리 금속 옥사이드를 0.005 내지 5 중량% 포함하는, 기공이 없는 일차 입자의 응집체 형태의 알칼리 금속 옥사이드-금속 옥사이드 혼합 옥사이드 분말을 제공한다.
일차 입자는 화학 결합의 파괴 없이는 더이상 쪼개질 수 없는 매우 작은 입자이다.
이들 일차 입자는 결합되어 응집체를 형성할 수 있다. 응집체의 특징은 응집체의 표면적이 이를 구성하고 있는 일차 입자의 총 표면적보다 작다. 또한, 응집체는 분산 동안 일차 입자를 제공하도록 완전히 분쇄되지는 않는다.
혼합 옥사이드 분말은 일차 입자 수준에서 또는 응집체 수준에서 알칼리 금속 옥사이드와 금속 옥사이드를 친밀하게 혼합한 분말이다. 본원에서 일차 입자는 알칼리 금속-O-금속 결합을 갖는다. 또한 일차 입자에는 금속 옥사이드와 나란하게 존재하는 알칼리 금속 옥사이드의 영역이 있다.
용어 "기공이 없는"는 질소에 의한 측정으로 어떠한 기공 부피도 감지할 수 없는 것을 의미한다. 용어 "기공이 없는"은 응집체 사이에 이따금 존재하는 부피에 관한 것은 아니다.
DBP 수치 (DBP = 디부틸 프탈레이트)는 입자의 결합도의 측정치이다. DBP 흡수 과정 동안, DBP 측정 장치의 회전 날개의 토크 (Nm) 또는 상기 회전 날개 상에 적용되는 힘은 적정(titration)의 경우와 유사한 방식으로, 규정된 양의 DBP 첨가시 측정된다. DBP 수치가 높을수록 입자의 결합도가 높다. 본 발명의 혼합 옥사이드 분말의 경우 그 결과는 특정 양의 DBP가 첨가되었을 때, 매우 뽀족한 최대값에 이어서 감소된다.
본 발명의 분말의 비 DBP 수치는 바람직하게는 1.14 이상일 수 있다.
본 발명의 분말은 바람직하게는 0.05 내지 2 중량%의 알칼리 금속 옥사이드를 포함할 수 있다.
알칼리 금속 혼합 옥사이드 성분은 임의의 알칼리 금속 옥사이드를 포함한다. 그러나, 칼륨 또는 나트륨이 바람직하다.
본 발명의 분말의 금속 옥사이드 성분은 제한되지 않는다. 규소 디옥사이드가 본 발명의 목적을 위한 금속 옥사이드로서 바람직하다.
본 발명의 분말의 비표면적의 값은 100 내지 350 ㎡/g이다. 200 ± 25 ㎡/g 또는 300 ± 25 ㎡/g의 값이 바람직할 수 있다.
본 발명의 분말의 pH는 물 중의 4% 농도의 분산액에서 측정하였을 경우 바람직하게는 5보다 작을 수 있다. 3.5 내지 4.5의 범위가 특히 바람직하다.
본 발명은 또한
- 1종 이상의 금속염의 분산액 또는 용액의 분무를 통해 에어로졸을 제조하는 단계,
- 플레이트의 기저부에 장착된 노즐에 대해 측면으로 먼저 충돌하는 방식으로 향하는 담체 기체 스트림에 의해서 상기 에어로졸을 외부적으로 가열되는 라인을 통해 운반하여 100℃ 내지 12O℃로 가열하는 단계,
- 이어서 금속 성분이 에어로졸의 금속 성분과 상이한 1종 이상의 금속 화합물을 포함하고 연소 기체와 산소를 갖는 기체 혼합물과 상기 에어로졸을 균일하게 혼합하고, 여기서 기체 혼합물로 도입되는 에어로졸의 양은 후속 생성물이 0.005 내지 5 중량%의 에어로졸 유래 금속 옥사이드를 포함하도록 하는 단계,
- 에어로졸-기체 혼합물을 발화시켜 불꽃에서 반응이 완결되도록 하고 생성된 분말을 배기 기체 스트림으로부터 분리하는 단계
를 특징으로 하는, 금속 혼합 옥사이드 분말의 제조 방법을 제공한다.
본 발명의 방법은 알칼리 금속 옥사이드-금속 옥사이드 혼합 옥사이드 분말에 제한되지 않으며, 임의의 혼합 금속 옥사이드 분말에 대해 사용할 수 있다.
에어로졸이 수득되는 금속염은 바람직하게는 금속 성분으로서 알루미늄, 세륨 또는 망간을 가질 수 있다. 알칼리 금속염이 특히 바람직하다.
에어로졸의 제조를 위해 사용하는 금속염 용액의 농도는 바람직하게는 0.5 내지 25 중량%일 수 있다.
바람직한 혼합 옥사이드 성분은 규소, 알루미늄, 티타늄, 세륨 또는 지르코늄의 옥사이드일 수 있다.
본 발명은 또한 충전제, 지지 재료, 촉매적 활성 물질, 분산액 제조를 위한 출발 물질, 연마재 (CMP 분야), 및 일차 세라믹 물질로서 본 발명의 분말의 용도, 전자 산업, 화장품 산업에서의 본 발명의 분말의 용도, 및 액상계의 레올로지의 조정과 단열 안정화를 위한 본 발명의 분말의 용도 또는 코팅 산업에서의 본 발명의 분말의 용도를 제공한다.
본 발명은 또한 본 발명의 알칼리 금속 옥사이드-금속 옥사이드 혼합 옥사이드 분말을 포함하는 실리콘 고무를 제공한다. 실리콘 고무에 존재할 수 있는 추가 성분은 가교제, 충전제, 촉매, 착색 안료, 이형제, 가소제 및 접착 촉진제이다.
칼륨 옥사이드-규소 디옥사이드 분말을 포함하는 실리콘 고무가 바람직할 수 있다.
실리콘 고무는 HTV 실리콘 고무 또는 LSR 실리콘 고무일 수 있고, HTV 실리콘 고무가 바람직하다.
HTV 실리콘 고무는 점도가 15 내지 30 k Pas이고 사슬 길이가 약 10000 SiO 단위인 유리 투명성이고 점도가 높은 셀프 레벨링 실리콘 중합체이다. 액상 실리콘 고무 (LSR)는 실질적으로 HTV 고무와 동일한 분자 구조를 갖지만, 그것의 평균 분자 사슬 길이가 6배 만큼 낮고 이에 따라서 점도는 1000배 정도 낮다 (20 내지 40 Pas).
실리콘 고무는 많은 다양한 산업에서 사용된다. HTV 실리콘 고무는 가스켓, 호스, 프로파일(profile), 텍스타일 코팅, O형 고리, 고무 젖꼭지(pacifier) 또는 키보드로서 사용되며, 운송수단 및 항공기 구조물뿐만 아니라 에너지 공급 또는 설비 구조물 또는 스포츠 장비 형태에서 사용된다.
BET 표면적은 DIN 66131에 따라서 측정하였다.
DIN/ISO 787/II, ASTM D 280, JIS K 5101/21을 기준으로 하는 방법으로 건조시의 손실을 2시간 동안 105℃에서 측정하였다.
레오코드(RHEOCORD) 90 장비 (독일 카를스루에 소재의 하케사 (Haake) 제조)를 사용하여 디부틸 프탈레이트 흡수를 측정하였다. 이를 위해, 규소 디옥사이드 분말 16 g을 0.001 g의 오차범위내로 혼련 챔버에 충전하고, 이를 뚜껑으로 밀봉하 고, 디부틸 프탈레이트를 뚜껑의 구멍을 통해 0.0667 ml/s의 미리 정해진 공급 속도로 계량투입하였다. 혼련기를 125 rpm (분 당 회전수)의 모터 회전 속도로 작동시켰다. 토크 최대값에 도달하면, 혼련기 및 DBP 공급이 자동적으로 멈추게 하였다. 소모된 DBP의 양 및 입자의 출발 중량으로부터 하기 수학식에 따라서 DBP 흡수를 계산하였다.
DBP 수치 (g/100 g) = (DBP의 소모량 (g) / 입자의 출발 중량 (g)) x 100
실시예 P-1 (비교 실시예 )를 독일 특허 제19650500호에 기재된 바와 같이 수행하였다. 본 실시예에서는 4.44 kg/시간으로 SiCl4를 증발시키고 버너의 중심 튜브로 이송시켰다. 2.5 Nm3/시간으로 수소 및 7 Nm3/시간으로 공기를 또한 상기 튜브로 공급하였다. 이 기체 혼합물을 내부 버너 노즐에서 흘러나오게 하여 수 냉각 불꽃 튜브의 버너 공간에서 연소시켰다. 케이크화된 침전의 형성을 방지하기 위해서 0.3 Nm3/시간으로 제2 수소 및 0.2 Nm3/시간으로 질소를 또한 중앙 노즐 주변의 외부 노즐에 공급하였다. 또한 45 Nm3/시간으로 공기를 주변부로부터 대기압보다 약간 낮은 압력의 불꽃 튜브로 취입하였다.
초음파 분사(nebulization)를 사용하여 2.48 % 농도의 수성 염화칼륨 용액으로부터 에어로졸을 제조하였고, 이때 사용한 분사 속도는 에어로졸 204 g/시간이었다. 3.5 Nm3/시간으로 담체 기체 (공기) 스트림을 염화칼륨 용액의 용기의 기체 공간으로 통과시켜, 에어로졸을 용기로부터 운반하여 외부적으로 가열되는 라인에 통과시켜서, 16O℃로 가열시켰다. 이어서 에어로졸을 내부 노즐로부터 방출하고 규소 테트라클로라이드, 수소 및 산소로 구성된 기체 혼합물과 균일하게 혼합하였다. 불꽃 가수분해 후, 반응 기체 및 생성된 분말을 대기압보다 낮은 압력을 적용하여 냉각 시스템으로 취입시켰고, 그곳에서 입자-기체 스트림이 약 100 내지 16O℃로 냉각되었다. 고형물을 여과기 또는 싸이클론에서 배기 기체 스트림으로부터 분리하였다. 추가 단계에서, 400 내지 700℃의 온도에서 수증기를 포함하는 공기로 처리하여 규소 디옥사이드 분말로부터 임의의 잔여 부착 염산 잔류물을 제거하였다. 이와 같이 수득한 분말은 백색의 미립자 분말 P-1이었다.
실시예 P-2 (비교 실시예 )를 실시예 1에서와 같이 수행하였다. 표 1에 변경된 출발 물질 양 및 설정을 나타내었다.
실시예 P-3 (본 발명): 85 kg/시간으로 SiCl4를 증발시키고 독일 특허 제19650500호에 기재된 바와 같은 버너의 중심 튜브로 이송시켰다. 40 Nm3/시간으로 수소 및 124 Nm3/시간으로 공기를 또한 상기 튜브로 공급하였다. 이 기체 혼합물을 내부 버너 노즐에서 흘러나오게 하여 수 냉각 불꽃 튜브의 버너 공간에서 연소시켰다. 케이크화된 침전의 형성을 방지하기 위해서 4 Nm3/시간으로 제2 수소를 또한 중앙 노즐 주변의 외부 노즐에 공급하였다.
용기의 기저부에 장착된 이중-플루이드 노즐을 사용하여 5% 농도의 수성 염화칼륨 용액으로부터 에어로졸을 제조하였다. 본 실시예에서는 1100 g/시간으로 에어로졸을 생성시켰다. 플레이트의 기저부에 장착된 이중-플루이드 노즐에 대해 측면으로 먼저 충돌하는 방식으로 향하는 18 Nm3/시간의 담체 기체 (공기) 스트림을 사용하여, 에어로졸을 외부적으로 가열되는 라인을 통해 운반하여 12O℃로 가열하였다. 이어서 에어로졸/지지 기체 혼합물을 내부 노즐로부터 방출하고 규소 테트라클로라이드, 수소 및 산소로 구성된 기체 혼합물과 균일하게 혼합하였다. 불꽃 가수분해 후, 반응 기체 및 생성된 분말을 대기압보다 낮은 압력을 적용하여 냉각 시스템으로 취입시켜, 입자-기체 스트림을 약 100 내지 16O℃로 냉각시켰다. 고형물을 여과기 또는 싸이클론에서 배기 기체 스트림으로 분리하였다. 추가 단계에서, 400 내지 700℃의 온도에서 수증기를 포함하는 공기로 처리하여 규소 디옥사이드 분말로부터 임의의 잔여 부착 염산 잔류물을 제거하였다. 이와 같이 수득한 분말은 백색의 미립자 분말이었다.
본 발명의 실시예 P-4 내지 P-8은 실시예 P-3에서와 같이 수행하였다. 표 1에 변경된 출발 물질의 양 및 설정을 나타내었다.
또한 표 1에 실시예 1 내지 8의 분말에 대한 분석 데이터를 나타내었다.
HTV 실리콘 고무
분말 P1 내지 P5 40부 및 가공 조제로서의 Si 200 실리콘 오일 (GE 바이엘 실리콘스 (GE Bayer Silicones)) 6부를 사용하여 이중 롤 밀에서, 컴파운딩된 물질을 제조하였다. 혼합물을 7일 후에 DCLBP 퍼옥사이드로 가교시켰다.
실시예 SK-1: 실리콘 중합체 400 g을 이중-롤 밀에 충전시켰다. 균일하게 밀링된 시트가 슬레이브 롤(slave roll) (신속 회전식 롤(faster-rolling roll))에 형성되자마자, 분말 P-1 160 g을 첨가하였다. 분말을 2개의 롤 사이에 천천히 나누어 첨가하였다. 약 50%의 분말을 첨가한 후, 가공 조제 24 g을 도입하였다. 이어서 스크래퍼(scrapper)를 사용하여 롤로부터 컴파운딩된 물질을 제거하고 그것을 회전시켰다. 이어서 나머지 50%의 분말을 첨가하였다.
분말의 분산 및 균일화를 위해서 도입 후에 추가로 5분 동안 계속 롤링하였다. 본 방법에서는 혼합물을 5회 더 회전시켰다. 생성된 혼합물을 1 주일 동안 저장하였다.
저장 후, 균일하게 밀링된 시트가 생성될 때까지 가소화를 위해서 컴파운딩된 물질을 롤 밀에서 혼합하였다. 이어서 DCLBP 퍼옥사이드 2.8 g을 첨가하였다. 퍼옥사이드의 분산 및 균일화를 위해서 추가로 8분 동안 롤링을 계속하였고, 여기서 스크래퍼를 사용하여 롤로부터 혼합물을 제거하고 그것을 8회 회전시켰다. 다시 한번 더 실온에서 24시간 동안 저장하였다 (유리하게는 PE 포일 내에서).
가황 전에, 컴파운딩된 물질을 다시 이중 롤 밀에서 가소화시켰다. 가열 압력은 14O℃로 예비가열하였다. 4개의 2 mm 실리콘 시트 (압착 시간 7분, 컴파운딩된 물질 4 x 50 g) 및 16 mm 실리콘 시트 (압착 시간 10분, 컴파운딩된 물질 120 g)을 크롬강 플레이트 사이에서 가황시켰다.
퍼옥사이드 절단 생성물을 제거하기 위해서, 시트를 고온 공기 오븐에서 6시간 동안 200℃로 후 가황 처리하였다. 가황물에서 시험 시편을 절단하고 표준 조건의 온도 및 습도하에서 저장하였다.
분말 P2, P3, P4 및 P5로부터 각각 상응하게 실리콘 고무 SR-2, SR-3, SR-4 및 SR-5를 수득하였다.
표 2에 실리콘 고무의 기계적 특성을 나타내었다. 의도하는 비교는 각각 SR-1과 SR-3, 및 SR-3 및 SR-4과 SR-2이었다.
특히 이로는 특징은 비교 시편과 비교하였을 때 생성물 SR-3, SR-4, SR-5의 쇼어 A 경도가 현저하게 높다는 것이었다. 광학 특성에 관해서는, 투명도가 특히 강조되어야 한다. SR-3, SR-4 및 SR-5는 비교 시편에 비해서 투명도가 현저하게 높았다.
선행 기술과 비교하여 본 발명의 중요한 차이점 및 이점은 하기와 같다.
본 발명의 분말은 응집체의 결합도가 높다는 면에서 선행 기술의 분말과 특히 뚜렷하게 상이하다. 예를 들면, 이것은 데구사(Degussa)의 에어로실(Aerosil)® 300 규소 디옥사이드 분말의 투과 전자 현미경 사진 (도 1A)과 본 발명의 분말 P-6의 투과 전자 현미경 사진 (도 1B)에 의해 증명된다. 또한, 본 발명의 분말의 pH 값은 선행 기술의 금속 혼합 옥사이드 분말의 pH보다 낮다.
또한, 본 발명의 분말의 일차 입자 직경 분포는 dn/da (여기서, dn은 일차 입자 직경의 수치 중간값이고 da는 표면적을 기준으로 계산된 일차 입자 직경의 중간값임)으로서 정의하였을 경우 0.7 미만이다. 선행 기술에서는 dn/da의 비율이 0.7 이상인 칼륨-옥사이드-도핑된 SiO2 입자만이 개시되어 있다.
본 실시예는 또한 에어로졸 제조 방법의 특성 및 에어로졸 온도가 얻어진 본 발명의 분말을 위해 중요함을 나타낸다.
또한, 본 발명의 분말로 얻어진 실리콘 고무는 동일한 제조 조건을 사용하여 선행 기술의 금속 혼합 옥사이드 분말로 얻어진 것보다 현저하게 더 높은 투명도를 나타내었다.
Figure 112007089984919-pct00001
Figure 112007089984919-pct00002

Claims (12)

  1. - BET 표면적이 100 내지 350 ㎡/g이고,
    - 비표면적 ㎡ 당 DBP 수치로 표현되는 비(specific) DBP 수치가 단지 금속 옥사이드 성분만을 갖는 분말보다 크거나 또는 동일하고,
    - 알칼리 금속 옥사이드가 일차 입자의 표면 상에 및 코어(core) 내에 분포된 것을 특징으로 하고, 1종 이상의 알칼리 금속 옥사이드를 0.005 내지 5 중량% 포함하는, 기공이 없는 일차 입자의 응집체 형태의 알칼리 금속 옥사이드-금속 옥사이드 혼합 옥사이드 분말.
  2. 제1항에 있어서, 비표면적 ㎡ 당 DBP 수치가 1.14를 초과하는 것을 특징으로 하는 알칼리 금속 옥사이드-금속 옥사이드 혼합 옥사이드 분말.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 칼륨 또는 나트륨이 혼합 옥사이드 성분인 것을 특징으로 하는 알칼리 금속 옥사이드-금속 옥사이드 혼합 옥사이드 분말.
  4. 제1항 또는 제2항에 있어서, 규소 디옥사이드가 금속 옥사이드 분말인 것을 특징으로 하는 알칼리 금속 옥사이드-금속 옥사이드 혼합 옥사이드 분말.
  5. 제1항 또는 제2항에 있어서, 비표면적이 200 ± 25 ㎡/g 또는 300 ± 25 ㎡/g인 것을 특징으로 하는 알칼리 금속 옥사이드-금속 옥사이드 혼합 옥사이드 분말.
  6. 제1항 또는 제2항에 있어서, 물 중의 4 % 분산액의 pH가 5 미만인 것을 특징으로 하는 알칼리 금속 옥사이드-금속 옥사이드 혼합 옥사이드 분말.
  7. 제1항 또는 제2항에 있어서, 알칼리 금속 옥사이드의 함량이 0.05 내지 0.3 중량%인 것을 특징으로 하는 알칼리 금속 옥사이드-금속 옥사이드 혼합 옥사이드 분말.
  8. - 1종 이상의 금속염의 분산액 또는 용액의 분무를 통해 에어로졸을 제조하는 단계,
    - 플레이트의 기저부에 장착된 노즐에 대해 측면으로 먼저 충돌하는 방식으로 향하는 담체 기체 스트림에 의해서 상기 에어로졸을 외부적으로 가열되는 라인을 통해 운반하여 100℃ 내지 12O℃로 가열하는 단계,
    - 이어서 금속 성분이 에어로졸의 금속 성분과 상이한 1종 이상의 금속 화합물을 포함하고 연소 기체와 산소를 갖는 기체 혼합물과 상기 에어로졸을 균일하게 혼합하고, 여기서 기체 혼합물로 도입되는 에어로졸의 양은 후속 생성물이 0.005 내지 5 중량%의 에어로졸 유래 금속 옥사이드를 포함하도록 하는 단계,
    - 에어로졸-기체 혼합물을 발화시켜 불꽃에서 반응이 완결되도록 하고 생성된 분말을 배기 기체 스트림으로부터 분리하는 단계
    를 특징으로 하는, 금속 혼합 옥사이드 분말의 제조 방법.
  9. 제8항에 있어서, 금속염이 알칼리 금속염인 것을 특징으로 하는 방법.
  10. 제9항에 있어서, 금속염 용액의 농도가 0.5 내지 25 중량%인 것을 특징으로 하는 방법.
  11. 제1항 또는 제2항에 있어서, 충전제, 지지 재료, 촉매적 활성 물질, 분산액 제조를 위한 출발 물질, 연마재 (CMP 분야), 및 일차 세라믹 물질로서, 또는 전자 산업, 화장품 산업에서, 또는 액상계의 레올로지의 조정과 단열 안정화를 위해, 또는 코팅 산업에서 사용되는 것을 특징으로 하는 알칼리 금속 옥사이드-금속 옥사이드 혼합 옥사이드 분말.
  12. 제1항 또는 제2항에 따른 알칼리 금속 옥사이드-금속 옥사이드 혼합 옥사이드 분말을 포함하는 실리콘 고무.
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Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102006027302A1 (de) 2006-06-13 2008-01-10 Evonik Degussa Gmbh Verfahren zur Herstellung von Mischoxidpulvern
US7837888B2 (en) * 2006-11-13 2010-11-23 Cabot Microelectronics Corporation Composition and method for damascene CMP
DE102007025685A1 (de) * 2007-06-01 2008-12-04 Evonik Degussa Gmbh RTV-Zweikomponenten-Silikonkautschuk
DE102007049743A1 (de) * 2007-10-16 2009-04-23 Evonik Degussa Gmbh Silicium-Titan-Mischoxidpulver, Dispersion hiervon und daraus hergestellter titanhaltiger Zeolith
KR100918063B1 (ko) * 2008-01-16 2009-09-22 삼성모바일디스플레이주식회사 유기발광 표시장치
EP2538416B1 (de) * 2011-06-24 2017-08-30 ContiTech Elastomer-Beschichtungen GmbH Isolationsmaterial
CN113336616B (zh) * 2020-02-18 2023-05-05 中国石油化工股份有限公司 一种阻聚剂及其制备方法和热裂解石油烃以增产丙烯的方法

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19650500A1 (de) * 1996-12-05 1998-06-10 Degussa Dotierte, pyrogen hergestellte Oxide
DE10065028A1 (de) * 2000-12-23 2002-07-18 Degussa Mit Kalium dotierte pyrogene Oxide

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2628975A1 (de) * 1976-06-28 1977-12-29 Degussa Faellungskieselsaeure
JPS61215638A (ja) * 1985-03-22 1986-09-25 Bridgestone Corp シリカ配合ゴム組成物
JPH0721018B2 (ja) * 1985-07-05 1995-03-08 東燃料株式会社 オレフイン重合用触媒成分の製造方法
DE19530339A1 (de) * 1995-08-18 1997-02-20 Degussa Pyrogene Kieselsäure, Verfahren zu ihrer Herstellung und Verwendung
IN191468B (ko) * 1996-03-29 2003-12-06 Degussa
JP2001316115A (ja) * 2000-03-28 2001-11-13 Degussa Ag ドーピングされた二酸化チタン
DE10065027A1 (de) * 2000-12-23 2002-07-04 Degussa Wäßrige Dispersion, Verfahren zu deren Herstellung und Verwendung
DE10203047A1 (de) * 2002-01-26 2003-08-07 Degussa Kationische Mischoxid-Dispersion, Streichfarbe und tintenaufnehmendes Medium
DE10358449A1 (de) * 2003-01-22 2004-08-05 Degussa Ag Höchstdispergierbare Silicas für Gummianwendungen
DE10312970A1 (de) * 2003-03-24 2004-10-14 Degussa Ag Pyrogenes Siliciumdioxidpulver und Dispersion hiervon
JP2005053744A (ja) * 2003-08-05 2005-03-03 Dsl Japan Co Ltd 高吸油性非晶質シリカ粒子
JP4405849B2 (ja) * 2004-05-13 2010-01-27 住友ゴム工業株式会社 タイヤトレッド用ゴム組成物およびそれを用いたタイヤ

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19650500A1 (de) * 1996-12-05 1998-06-10 Degussa Dotierte, pyrogen hergestellte Oxide
DE10065028A1 (de) * 2000-12-23 2002-07-18 Degussa Mit Kalium dotierte pyrogene Oxide

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