KR100942202B1

KR100942202B1 - 정보처리장치, 정보처리방법 및 컴퓨터 판독가능한 매체

Info

Publication number: KR100942202B1
Application number: KR1020080017106A
Authority: KR
Inventors: 다이스케 이타이
Original assignee: 캐논 가부시끼가이샤
Priority date: 2007-02-27
Filing date: 2008-02-26
Publication date: 2010-02-11
Also published as: US20080208498A1; TWI390415B; US8239152B2; TW200900983A; KR20080079612A

Abstract

정보처리장치는 노광장치에 의해 생성되는 정보를 처리한다. 정보처리장치는, 수집부와, 변환부를 구비한다. 수집부는, 기판 위에 정의된 제 1 배열을 구성하는 복수의 제 1 영역의 각각에 대해서 상기 노광장치의 동작을 통해서 노광장치에 의해 취득된 제 1 정보를 수집한다. 변환부는, 상기 수집부에 의해 상기 복수의 제 1 영역의 각각에 대해서 수집된 제 1 정보의 적어도 일부를, 제 2 배열을 구성하는 복수의 제 2 영역의 각각에 대해서의 제 2 정보로 변환한다.

정보처리, 노광장치, 정보수집, 광원, 조명 광학계

Description

정보처리장치, 정보처리방법 및 컴퓨터 판독가능한 매체{INFORMATION PROCESSING APPARATUS, INFORMATION PROCESSING METHOD AND COMPUTER READABLE MEDIUM}

본 발명은, 노광장치로 생성된 정보를 처리하는 정보처리장치, 정보처리방법 및 컴퓨터 판독가능한 매체에 관한 것이다.

반도체 디바이스의 제조에 있어서는, 패턴의 해상력의 향상과 중첩 정밀도의 향상이 항상 요구되고 있다. 최근에는, 노광 광의 파장의 단파장화도 한계에 근접하고 있고, 노광장치에 대한 성능의 요구도 높아지고 있다.

또한, 전자기기의 라이프 사이클이 짧아졌기 때문에, 단기간 내에 시험적인 생산, 양산 개시가 요구되는 다품종 소량생산으로 생산 형태가 시프트하고 있다. 생산성을 향상시키기 위해서도, 다품종 소량생산에서는 불량률을 감소시키는 것이 요구되고 있다.

상기한 바와 같은 요구를 달성하기 위해서는, 장치요인, 프로세스 요인, 웨이퍼 요인, 샷(shot) 요인으로 분리한 오차파악과 샷 레벨에서의 이상검출, 시간의 이상 변화검출이 필요해지고 있다. 그것들의 결과를 장치나 생산 공정, 또 디자인으로 피드백함으로써, 총체적인 생산성의 향상이 기대된다.

그러나, 현재의 상태에서는, 생산중에 노광장치로 계측되는 데이터는, 운용 파라미터의 차이나, 샷 영역 배열의 차이로부터 그들의 성능을 획일적으로 비교 및 판단하는 역할을 할 수 없다. 장치의 성능을 확인할 때는, 공통 파라미터 및 표준 샷 영역 배열을 이용해 평가용의 노광 잡(job)을 실행하고, 이 노광 잡에 있어서 필요로 하는 다양한 데이터를 측정하고 있다. 이와 같은 검사 방법은, 반도체 디바이스의 생산을 정지한 후에 실행할 필요가 있어, 생산 시간의 손실이 있었다.

본 발명은, 상기와 같은 배경에 의거하여 이루어진 것으로서, 노광장치의 동작을 통해서 노광장치에 의해 취득되는 정보를 효율적으로 이용하는 것을 예시적 목적으로 한다.

본 발명의 제 1의 측면에 따르면, 기판을 방사 에너지에 노광하는 노광장치로 생성된 정보를 처리하는 정보처리장치가 제공된다. 이 정보처리장치는, 기판 위에 정의된 제 1 배열을 구성하는 복수의 제 1 영역의 각각에 대해서 상기 노광장치의 동작을 통해 노광장치에 의해 취득된 제 1 정보를 수집하는 수집부와, 상기 수집부에 의해 상기 복수의 제 1 영역의 각각에 대해서 수집된 제 1 정보의 적어도 일부를, 제 2 배열을 구성하는 복수의 제 2 영역의 각각에 대해서의 제 2 정보로 변환하는 변환부를 구비한다.

본 발명의 제 2의 측면에 의하면, 기판을 방사 에너지에 노광하는 노광장치와, 상기 노광장치에 의해 생성된 정보를 처리하는 정보처리장치를 구비한 노광 시스템이 제공된다.

본 발명의 제 3의 측면에 의하면, 기판을 방사 에너지에 노광하는 노광장치에 의해 생성된 정보를 처리하는 방법이 제공된다. 이 방법은, 기판 위에 정의된 제 1 배열을 구성하는 복수의 제 1 영역의 각각에 대해서 상기 노광장치의 동작을 통해 상기 노광장치에 의해 취득된 제 1 정보를 수집하는 수집스텝과, 상기 수집스텝에서 상기 복수의 제 1 영역의 각각에 대해서 수집된 제 1 정보의 적어도 일부를, 제 2 배열을 구성하는 복수의 제 2 영역의 각각에 대해서의 제 2 정보로 변환하는 변환스텝을 포함한다.

본 발명의 제 4의 측면에 의하면, 기판을 방사 에너지에 노광하는 노광장치에 의해 생성된 정보의 처리를 컴퓨터에 실행시키는 프로그램을 기억한 컴퓨터 판독가능한 매체가 제공된다. 상기 프로그램은 컴퓨터에, 기판 위에 정의된 제 1 배열을 구성하는 복수의 제 1 영역의 각각에 대해서 상기 노광장치의 동작을 통해 상기 노광장치에 의해 취득된 제 1 정보를 수집하는 수집스텝과, 상기 수집스텝에서 상기 복수의 제 1 영역의 각각에 대해서 수집된 제 1 정보의 적어도 일부를, 제 2 배열을 구성하는 복수의 제 2 영역의 각각에 대해서의 제 2 정보로 변환하는 변환스텝을 실행시킨다.

본 발명의 그 외의 특징들은 첨부된 도면을 참조하면서 이하의 예시적인 실 시 예의 설명으로부터 밝혀질 것이다.

본 발명에 의하면, 예를 들면 노광장치의 노광 동작에 의해 취득된 정보를 효율적으로 이용할 수 있다.

도 1은, 본 발명의 바람직한 실시 예에 따른 노광장치의 구성을 개략적으로 도시한 도면이다. 이 실시 예의 노광장치(100)는, 주사형 노광장치이다. 그렇지만, 본 발명에 있어서, 노광장치는, 주사형 노광장치에 한정되는 것은 아니다.

노광장치(100)에 있어서, 광원(1)으로부터 방출되는 광속은, 조명 광학계(2)를 통해서 슬릿으로 정형되는 동시에 광량 분포가 조정되며, 레티클 스테이지(6)에 유지된 레티클(3)을 조명한다. 레티클(3)의 패턴은, 웨이퍼 스테이지(7)에 유지되고 감광제(레지스트)가 도포된 웨이퍼(기판;5)에 전사된다. 이에 따라, 감광제에 잠상 패턴이 형성된다. 잠상 패턴은, 현상 공정에서 마스크 패턴(레지스트 패턴)으로 현상된다.

조명 광학계(2)는, 코히어런스 팩터 σ의 값을 설정하기 위해 면적이 서로 다른 복수의 원형 개구를 포함하는 개구 조리개 등을 구비할 수 있다. 조명 광학계(2)는, 또한 띠 모양의 조명용의 링 형상 조리개, 4중극의 조리개, 조명 광량을 조정하기 위한 기구(예를 들면, 복수의 ND 필터 및 그것을 전환하는 기구)를 구비할 수 있다. 조명 광학계(2)는, 또한 광량을 계측하는 광량 검출기, 슬릿형의 조명 범위를 확보하기 위해서 레티클(3)과 공역한 위치에 삽입된 블라인드 및 그것을 구 동하는 구동기구를 구비할 수 있다. 투영 광학계(4)는, 개구수를 설정하기 위한 개구수 설정 기구와, 수차를 보정하기 위한 렌즈 구동기구를 구비할 수 있다.

레티클(3)의 패턴의 슬릿형 조명 영역을 조명하고 그것에 의해 반사되는 빛은, 투영 광학계(4)를 거쳐서 웨이퍼(5)에 투영된다. 레티클 스테이지(6)(결과적으로, 레티클(3))의 위치는, 레티클 스테이지 위치 계측계(10)에 의해 계측되고, 레티클 스테이지 제어계(11)에 의해 제어된다.

웨이퍼(5)의 위치는, 웨이퍼 스테이지 위치 계측계(12) 및 포커스/레벨링 계측계(14)에 의해 계측될 수 있다. 웨이퍼 스테이지 위치 계측계(12)는, 예를 들면 투영 광학계(4)의 광축 방향(즉, Z방향), 상기 광축에 직교하는 면 내에 있어서의 직교하는 2개의 축방향(즉, X, Y방향), 및 X축, Y축 및 Z축 주위의 회전방향에 있어서의 웨이퍼(5)의 위치를 계측한다. 포커스/레벨링 계측계(14)는, 투영 광학계(4)의 광축 방향(Z방향)에 있어서의 웨이퍼(5)의 표면위치를 계측한다. 포커스/레벨링 계측계(14)는, 웨이퍼(5)의 노광시에 웨이퍼(5)의 표면위치를 계측할 수 있다. 웨이퍼 스테이지 제어계(13)는, 웨이퍼 스테이지 위치 계측계(12) 및 포커스/레벨링 계측계(14)로부터 제공되는 정보에 의거하여 웨이퍼 스테이지(7)의 위치를 제어한다. 포커스/레벨링 계측계(14)에 의한 계측값을 이하에서는 포커스/레벨링 계측값이라고 한다. 노광장치(100)는 투영 광학계(4)의 광축방향에 있어서의 레티클 스테이지(6)(레티클(3))의 위치를 계측하기 위한 계측계를 더 구비해도 된다.

슬릿형의 조명 광속으로 레티클(3)의 모든 패턴을 웨이퍼(5)에 전사하기 위해서, 레티클 스테이지(6)에 의해 유지된 레티클(3)은, 도 1에 표시된 "주사 방향" 으로 구동된다. 그것과 동시에, 웨이퍼 스테이지(7)에 의해 유지된 웨이퍼(5)도 도 1에 표시된 "주사 방향"으로 구동된다. 여기에서, 레티클(3)과 웨이퍼(5)는, 투영 광학계(4)의 투영 배율에 적합한 속도비로 구동된다. 레티클(3)과 웨이퍼(5)와의 상대 위치가 어긋나면, 웨이퍼(5)에 변형된 패턴이 전사된다. 이 상황을 피하기 위해서, 상대 위치 제어계(15)는, 레티클(3)과 웨이퍼(5)와의 상대 위치 어긋남을 계산하고, 그 상대 위치 어긋남이 제로가 되도록 레티클 스테이지 제어계(11) 및 웨이퍼 스테이지 제어계(13)를 제어한다.

주제어계(16)는, 노광장치(100)의 구성요소, 예를 들면 상대 위치 제어계(15), 레티클 스테이지 제어계(11), 웨이퍼 스테이지 제어계(13), 조명 광학계(2) 등을 제어한다.

노광장치(100)의 주사 노광 동작에 관하여 설명한다. 우선, 주제어계(16)는, 통신 인터페이스(17)를 거쳐서, 노광장치(100)의 노광 동작을 정의하는 설정 파라미터를 취득한다. 설정 파라미터는, 각 샷 영역의 위치, 노광 화각(각 샷 영역의 치수), 노광 주사 속도, 노광 주사 방향, 포커스/레벨링 목표치, 샷 얼라인먼트 목표치를 포함한다.

다음에, 주제어계(16)는, 상기의 설정 파라미터에 의거하여 노광장치(100)의 각 구성요소를 제어하고, 웨이퍼 상의 복수의 샷 영역을 스텝 앤드 스캔 방식으로 노광한다.

주 제어계(16)는, 각 샷 영역의 주사 노광 동작시에 있어서의 노광장치(100)의 성능을 나타내는 디자인 의존 장치 정보(제 1 정보)를 통신 인터페이스(17)를 거쳐서 (후술하는) 정보처리장치(202)에 송신하는 기능을 갖는다. 디자인 의존 장치 정보(제 1 정보)는, 웨이퍼 위에 정의되는 샷 영역 배열(제 1 배열)을 구성하는 복수의 샷 영역을 노광해서 얻은 복수의 샷 영역 정보(제 1 영역 정보)를 포함할 수 있다. 샷 영역 배열은, 제조해야 할 디바이스마다, 그것의 디자인 패턴(예를 들면 치수), 즉 그것의 프로세스에 따라 정의될 수 있다. 각 샷 영역 정보는, 동기 정밀도, 포커스/레벨링 계측값, 및, 포커스/레벨링 추종성 등의 노광장치(100)의 제어와 관련된 정보를 포함한다. 동기 정밀도는, 주사 노광 동작시의 레티클(3)(레티클 스테이지(6))과 웨이퍼(5)(웨이퍼 스테이지(7))와의 동기 이동(동기 주사)의 정밀도와 관련된 정보다. 웨이퍼(5) 상의 각 샷 영역을 노광할 때에 있어서의 레티클 스테이지(6) 및 웨이퍼 스테이지(7)의 위치 정보에 의거하여 주사 노광시에 있어서의 웨이퍼 스테이지(7)에 대한 레티클 스테이지(6)의 추종 오차(X, Y)에 관한 정보를 얻을 수 있다. 이 정보에 의거하여, 동기 정밀도로서, 이동 평균치 MA와 이동 표준 편차값 MSD을 산출할 수 있다.

포커스/레벨링 계측값은, 웨이퍼 표면의 위치 또는 형상을 나타내는 정보다. 포커스/레벨링 추종성은, 목표 포커스/레벨링 위치에 대한 포커스/레벨링 계측값의 오차다.

도 2는, 본 발명의 바람직한 실시 예에 따른 노광 시스템의 구성을 개략적으로 도시한 도면이다. 노광 시스템은, 노광장치(100)와, 상기 노광장치(100)에 통신 인터페이스(201)를 거쳐서 접속된 정보처리장치(202)를 구비할 수 있다. 정보처리장치(202)는, 노광장치(100)를 관리하는 관리장치 또는 관리 시스템으로서의 역할 을 할 수도 있다.

정보처리장치(202)는, 노광장치(100)로부터 제공되는 디자인 의존 장치 정보(제 1 정보)를 처리하도록 구성된다. 이하에 설명하는 특유의 기능을 정보처리장치(202)가 지니면, 이 정보처리장치(202)는, 예를 들면 범용의 컴퓨터에 프로그램을 인스톨하는 것으로 구성될 수 있다. 상기 프로그램을 정보처리장치(202)에 인스톨함으로써, 정보처리장치(202)는, 예를 들면 데이터베이스(231), 정보수집부(221), 필터링부(222), 변환부(223), 통계처리부(224), 입력부(232), 출력부(233), 관리부(230)를 구비하는 장치로서 동작한다. 이러한 정보처리장치에 있어서의 정보처리방법은, 정보수집스텝, 필터링 스텝, 변환스텝, 통계처리스텝, 입력스텝, 출력스텝, 관리스텝을 포함할 수 있다.

정보수집부(221)는, 통신 인터페이스(201)를 거쳐서, 노광장치(100)의 제어와 관련된 디자인 의존 장치 정보(제 1 정보)를 수집해서 데이터베이스(DB;231)에 저장한다.

필터링부(222)는, 데이터베이스(231)에 저장된 디자인 의존 장치 정보로부터 입력부(232)로부터 제공되는 필터링 조건(225)을 충족한 정보를 추출하고, 추출한 정보를 변환부(223)에 제공한다. 변환부(223)는, 데이터베이스(231)에 저장되어 있는 디자인 의존 장치 정보 또는 상기 디자인 의존 장치 정보로부터 필터링부(222)에 의해 추출된 정보를 변환 조건(226)에 따라서 표준화 장치 정보(제 2 정보)로 변환한다. 다시 말해, 변환부(223)는, 정보수집부(221)에 의해 수집된 제 1 정보의 적어도 일부를 표준화 장치 정보(제 2 정보)로 변환한다. 표준화 장치 정보는, 표준영역배열(제 2 배열)을 구성하는 복수의 표준영역(제 2 영역)의 각각에 관한 복수의 표준영역정보(제 2 영역정보)를 포함한다. 변환 조건(226)은, 입력부(232)로부터 변환부(223)에 제공될 수 있다. 변환 조건(226)은, 예를 들면 상기의 제 2 배열의 정의를 포함한다.

제 1 샷 영역 배열에 따른 노광 동작과, 제 2 샷 영역 배열을 따르는 노광 동작을 실행하는 경우를 생각한다. 변환부(223)는, 제 1 샷 영역 배열을 따르는 노광 동작으로 얻은 제 1 디자인 의존 장치 정보를 표준영역배열을 따르는 제 1 표준화 장치 정보로 변환한다. 변환부(223)는 또한 제 2 샷 영역 배열을 따르는 노광 동작으로 얻은 제 2 디자인 의존 장치 정보를 상기 표준영역배열을 따르는 제 2 표준화 장치 정보로 변환한다. 이 제 1 표준화 장치 정보는, 제 2 배열을 구성하는 복수의 표준영역의 각각에 관한 복수의 표준영역정보를 포함한다. 제 2 표준화 장치 정보도 해당 복수의 표준영역의 각각에 관한 복수의 표준영역정보를 포함한다. 따라서, 제 1 표준화 장치 정보를 구성하는 표준영역정보도, 제 2 표준화 장치 정보를 구성하는 표준영역정보도, 공통의 표준영역에 관한 정보이므로, 용이하게 통계처리를 행할 수 있다.

통계 처리부(224)는, 변환부(223)에 의해 변환된 복수의 표준화 장치 정보를 통계 처리한다. 출력부(233)는, 출력 디바이스로서, 예를 들면 표시 디바이스 및/또는 기억 디바이스를 포함하고, 통계처리부(224)에 의한 처리 결과를 출력 디바이스에 출력한다.

관리부(230)는, 정보처리장치(202)의 구성요소, 다시 말해, 데이터베이 스(231), 정보수집부(221), 필터링부(222), 변환부(223), 통계처리부(224), 입력부(232), 및 출력부(233)를 관리(제어)한다.

도 3a 내지 3e는, 정보수집부(221)에 의해 수집되는 1개의 샷 영역 정보(302)의 일례를 도시한 도면이다. 디자인 의존 장치 정보는, 복수의 샷 영역의 각각에 관한 샷 영역 정보(302)를 포함하므로, 복수의 샷 영역의 개수와 같은 개수의 샷 영역 정보(302)를 포함한다. 각 샷 영역 정보(302)는, 샷 영역의 특정 정보(321)와, 샷 영역의 설정 정보(322)와, 샷 영역의 노광 제어 정보(323)와, 샷 영역의 노광 제어 결과(324)를 포함할 수 있다.

샷 영역의 특정 정보(321)는, 예를 들면 노광장치의 인식번호, 로트의 인식번호, 프로세스 명칭, 웨이퍼 번호, 샷 번호 등을 포함한다.

샷 영역의 설정 정보(322)는, 예를 들면 샷 영역의 중심위치(X좌표), 샷 영역의 중심위치(Y좌표), 샷 영역의 X방향에 있어서의 범위, 샷 영역의 Y방향에 있어서의 범위를 포함한다.

샷 영역의 노광 제어 정보(323)는, 예를 들면 주사 방향, 주사 속도, 포커스/레벨링 목표치, X목표치(X방향의 목표위치), Y목표치(Y방향의 목표위치)를 포함한다.

샷 영역의 노광 제어 결과(324)는, 예를 들면 샷 영역 내에 있어서의 포커스/레벨링 계측값의 최대값, 최소값, 평균값, 표준편차를 포함할 수 있다. 제어 결과(324)는, 또한, 예를 들면 샷 영역 내에 있어서의 X, Y 계측값의 최대값, 최소값, 평균값, 표준편차를 포함할 수 있다. 또, 제어결과(324)는, 예를 들면 샷 영역 내에 있어서의 포커스/레벨링 추종성의 최대값, 최소값, 평균값, 표준편차를 포함할 수 있다. 또, 제어결과(324)는, 예를 들면 X, Y 추종성(X방향에 있어서의 위치제어의 추종성, Y방향에 있어서의 위치제어의 추종성)의 최대값, 최소값, 평균값, 표준편차를 포함할 수 있다. 제어 결과(324)는, 예를 들면 샷 영역 내에 있어서의 X, Y, θ방향에 있어서의 이동 평균 MA와 X, Y, θ방향에 있어서의 이동 표준편차 MSD의 최대값, 최소값, 평균값, 표준편차를 포함할 수 있다.

도 4는, 변환부(223)에 의한 변환 처리의 예를 개략적으로 도시한 도면이다. 샷 영역의 배열이 서로 다른 복수의 디자인 패턴 401, 402, 403에 관한 노광 동작을 실행해 복수의 노광장치정보 404, 405, 406을 얻는 것으로 가정한다. 변환부(223)에는, 변환 조건(226)으로서, 복수의 표준영역 SA으로 구성되는 표준영역배열이 제공된다.

변환부(223)는, 노광장치정보를 구성하는 복수의 샷 영역에 관한 각각의 정보를, 표준영역배열을 구성하는 복수의 표준영역의 각각에 관한 표준영역정보로 변환하여, 표준화 장치 정보(409)를 생성한다.

변환부(223)는, 각종 방법에 따라 변환 처리를 실행할 수 있다. 도 5a∼5f는, 변환부(223)에 의한 변환 처리의 제 1 예를 개략적으로 도시한 도면이다. 제 1 예에서는, 표준영역배열을 구성하는 각 표준영역에 관한 정보로서, 해당 표준영역의 중심위치를 포함한 샷 영역에 관한 정보가 사용된다. 예를 들면, 도 5a에 나타낸 바와 같이 배열된 복수의 샷 영역의 각각에 관한 샷 영역정보 A1∼A6‥·은, 도 5c와 같은 표준영역배열(503)에 따라 도 5d와 같이 변환된다. 예를 들면, 도 5b에 나타나 있는 바와 같이 배열된 복수의 샷 영역의 각각에 관한 샷 영역정보 B1∼B4‥·은, 도 5c와 같은 표준영역배열(503)에 따라 도 5e와 같이 변환된다.

도 5a에 나타낸 샷 영역 배열을 따르는 노광에 의해 얻은 디자인 의존 장치 정보와 도 5b에 나타낸 샷 영역배열을 따르는 노광에 의해 얻은 디자인 의존 장치 정보를 변환부(223)에 의해 변환하여, 도 5f에 나타나 있는 바와 같은 표준화 장치 정보를 얻는다. 표준영역(506)에 대해서는, 2개의 표준영역정보 A3, B1을 취득해, 통계 처리할 수 있다. 또한, 표준영역정보를 취득할 수 없는 표준영역(507)에 대해서는, 다른 표준영역, 예를 들면 그 주변의 표준영역에 관한 표준영역정보에 의거하여 표준영역정보를 생성할 수 있다.

도 6a∼6f는, 변환부(223)에 의한 변환 처리의 제 2 예를 개략적으로 도시한 도면이다. 제 2 예에서는, 샷 영역 배열을 구성하는 각 샷 영역에 관한 정보가 해당 샷 영역의 중심위치를 포함한 표준영역에 관한 정보로서 사용된다.

예를 들면, 도 6c에 나타나 있는 바와 같은 표준영역배열(603)을 사용해서 노광장치정보를 표준영역정보로 변환하는 경우를 가정한다. 이 경우, 예를 들면 도 6a에 나타나 있는 바와 같은 샷 영역 배열의 샷 영역 601a, 601b에 관한 정보 A1, A3은, 도 6d에 나타나 있는 바와 같이, 샷 영역 602a 및 602b의 각 중심위치를 포함한 표준영역(652)에 관한 정보로서 사용된다. 예를 들면, 도 6b의 샷 영역배열의 샷 영역 602a, 602b에 관한 정보 B1, B2은, 도 6e에 나타나 있는 바와 같이, 샷 영역 602a 및 602b의 중심위치를 각각 포함한 표준영역 652 및 표준영역 653에 관한 정보로서 사용된다.

도 6a에 예시한 샷 영역 배열에 따른 노광으로 얻은 노광장치정보와 도 6b에 예시한 샷 영역배열에 따른 노광으로 얻는 노광장치정보를 변환부(223)에 의해 변환해서, 도 6f에 나타나 있는 바와 같은 표준영역정보를 얻는다. 표준영역(652)에 대해서는, 3개의 정보 A1, A3, B1을 얻어, 통계 처리할 수 있다. 또한, 정보를 취득할 수 없는 표준영역에 대해서는, 다른 표준영역, 예를 들면 그 주변의 표준영역에 관한 정보에 근거해서 정보를 생성할 수 있다.

도 7은, 도 2에 나타낸 정보처리장치(202)에 의한 디자인 의존 장치 정보(제 1 정보)의 해석 처리의 시퀀스를 예시하는 플로차트다.

우선, 스텝 701(수집 스텝)에서, 정보수집부(221)는, 통신 인터페이스(201) 및 노광장치의 통신 인터페이스(17)를 거쳐서 노광장치(100)로부터 디자인 의존 장치 정보를 취득해서 데이터베이스(231)에 저장한다.

다음에, 스텝 702(필터링 스텝)에서는, 필터링부(222)는, 데이터베이스(231)에 저장된 디자인 의존 장치 정보를 필터링 조건(225)에 따라 필터링해서, 필요한 정보를 추출한다. 이것은, 지정한 조건에 있어서의 노광장치의 동작을 해석하는데 유용하다. 예를 들면, 주사 방향마다의 정보를 추출해서 통계 처리함으로써, 주사 방향마다의 노광장치의 동작을 특정하고, 주사 방향마다 보정 파라미터를 산출할 수 있다.

필터링 조건(225)은, 노광장치정보에 포함된 정보군으로부터 적어도 1개의 정보를 추출하도록 설정될 수 있다. 필터링 조건(225)은, 추출해야 할 정보가 수치를 포함하는 경우에는, 수치 또는 수치범위를 포함할 수 있다. 필터링 조건(225) 은, 예를 들면 주사 방향을 포함할 수 있다. 주사 방향은, 예를 들면 업 방향 및 다운 방향으로서 정의될 수 있다. 필터링 조건(225)은, 입력부(232)를 거쳐서 설정될 수 있다. 초기 조건이 미리 필터링 조건(225)으로 설정되어 있어도 된다. 또한, 필터링 조건(225)은, 미리 준비된 복수의 조건 중의 하나를 선택함으로써 설정되어도 좋다.

도 8은, 필터링부(222)에 의한 필터링 처리의 예를 개략적으로 도시한 도면이다. 디자인 의존 장치 정보 801, 802, 803, 804, 805는, 복수의 로트의 노광을 통해서 취득된다. 디자인 의존 장치 정보 801, 802 , 803, 804, 805는, 스텝 701에 있어서 정보수집부(221)에 의해 수집된다.

필터링부(222)는, 지정된 필터링 조건(225)을 충족하는 정보를 디자인 의존 장치 정보 801, 802, 803, 804, 805의 각각에서 추출한다. 예를 들면, 샷 영역 노광 시간을 필터링 조건으로서 설정할 때, 추출해야 할 시간의 범위를 필터링 조건으로서 지정할 수 있다. 이 경우, 각 웨이퍼 상의 각 샷 영역의 노광 시간이 필터링 조건으로서 지정된 시간의 범위 내에 있는지의 여부가 판정된다. 지정된 시간의 범위 내에서 노광된 샷 영역에 관한 정보 807 및 808이 추출된다. 또한, 필터링을 실행하지 않는 경우에는, 데이터베이스(231)에 저장된 모든 디자인 의존 장치 정보가 변환부(223)에 의해 변환되고, 통계처리부(224)에 의해 통계 처리된다.

스텝 703(변환 스텝)에서는, 변환부(223)는 지정된 변환 조건(226)에 따라 디자인 의존 장치 정보(제 1 정보)를 표준화 장치 정보(제 2 정보)로 변환한다. 변환 조건(226)은, 입력부(232)를 거쳐서 설정될 수 있다. 또한, 초기 조건이 미리 변환 조건(226)으로 설정되어 있어도 된다. 또한, 변환 조건(226)은, 필요에 따라 미리 준비된 복수의 조건 중 하나를 선택됨으로써 설정되어도 된다.

스텝 704(통계처리 스텝)에서, 통계처리부(224)는, 스텝 703에 있어서의 변환 처리에 의해 취득된 표준화 장치 정보에 포함된 표준영역정보를 통계 처리하여, 통계 결과정보(708)를 출력한다. 이 통계처리는, 전형적으로 표준영역마다 이루어진다. 통계처리조건(227)은, 입력부(232)를 거쳐서 설정될 수 있다. 또한, 초기 조건이 미리 통계처리조건(227)으로 설정되어 있어도 된다. 또한, 통계처리조건(227)은, 필요에 따라, 미리 준비된 복수의 조건 중 하나를 선택됨으로써 설정되어도 된다.

통계처리부(224)는, 예를 들면 통계처리결과로서, 최대값, 최소값, 평균값, 표준편차를 산출한다.

통계처리부(224)는, 예를 들면 샷 영역의 노광 제어 정보(323)의 항목마다, 통계처리를 실행할 수 있다.

통계결과정보(708)는, 다양한 방법으로 각종 디바이스 또는 장치에 출력될 수 있다. 통계결과정보(708)는, 예를 들면 표준영역 배열 정보를 합성해서 표시될 수 있다. 이 경우에 있어서, 통계 결과로서의 수치의 범위마다 서로 다른 색(예를 들면 계조 레벨)을 할당할 수 있다.

이상과 같이, 본 발명의 바람직한 실시 예에 의하면, 각종 디자인 패턴의 디바이스를 제조하기 위한 각종 노광 잡(job) 또는 각종 샷 영역 배열에 따른 노광 동작으로 취득한 디자인 의존 장치 정보에 의거하여 노광장치의 상태를 파악할 수 있다.

이하, 상기의 실시 예의 응용 예를 설명한다.

(장치 임계값)

표준영역마다의 통계처리결과에 따라, 표준영역마다 최적의 이상검출 임계값이 산출 가능하다. 예를 들면, 노광장치의 특성이나, 파라미터 설정에 의존해 특정위치에서 동기 정밀도나 포커스 정밀도가 나빠질 것이다. 이 경우에도, 본 발명의 바람직한 실시 예에 의하면, 표준영역마다의 통계처리결과에 따라, 특정 위치와, 그 위치에서의 동기 정밀도나 포커스 정밀도를 추정하고, 그 위치에서 이상검출 임계값을 변경하는 것이 가능하다.

(프로세스 임계값)

프로세스에 의해, 특정 위치에서 동기 정밀도나 포커스 정밀도가 나빠지는 경우가 있다. 이것은, 웨이퍼 표면 상태, 웨이퍼 외주에 위치하는 샷 영역, 어떤 종류의 공정에 의해 웨이퍼에 이물질이 붙기 쉬운 웨이퍼의 부분 등이 프로세스에 따라 변화하는 것에 의한다고 생각된다. 표준영역마다의 통계처리결과에 따라, 특정 위치와, 그 위치에서의 동기 정밀도나 포커스 정밀도를 추정하고, 프로세스마다 그 위치에서 이상 검출 임계값을 변경하는 것이 가능하다.

(임계값 이식)

도 9는, 복수의 노광장치(100)를 관리 시스템이 관리하는 응용 예를 도시한 블록도다. 정보처리장치(관리 시스템;202)는, 복수의 노광장치(100)로부터 제공되는 디자인 의존 장치 정보에 의거하여 상기 복수의 노광장치(100)를 관리한다. 이 관리 시스템은, 표준영역마다 복수의 노광장치(100) 사이의 차이를 조사할 수 있다. 예를 들면, 표준영역마다의 장치 차이를 프로세스의 표준영역마다의 이상 검출 임계값에 가산함으로써 어떤 노광장치에서 사용하고 있는 어떤 프로세스의 표준영역마다의 이상 검출 임계값을, 다른 노광장치로 이식할 수 있다.

(이상 피드백)

도 10은, 1개 또는 복수의 노광장치(100)와 다른 장치를 관리 시스템에서 관리하는 응용 예를 도시한 도면이다. 정보처리장치(관리 시스템;202)는, 표준영역마다의 통계처리결과에 의거하여 표준영역마다 결정되는 이상 검사 임계값(229)에 따라 이상 검출 처리부(228)에 의해 표준영역마다 이상을 검출한다. 정보처리장치(202)는, 이상검출결과를 통신 인터페이스(201)를 거쳐서 검사장치(206)에 피드백한다. 검사장치(206)는, 예를 들면 이상이 검출된 개소를 선택적으로 검사하고, 이상이 검출되지 않은 개소에서는 검사 계측 샘플수를 삭감한다. 이에 따라 효율적인 검사 공정이 가능해 진다.

(이상 요인 해석)

노광장치에는, 이상 요인에 의존해, 동기 정밀도나 포커스 정밀도가 악화하는 영역이 있다. 과거의 이상발생시에 있어서의 표준영역마다의 통계처리결과를 패턴으로서 저장하고, 이상요인해석에 의해 패턴을 비교해서, 이상 원인을 특정할 수 있다.

(장치 설정으로의 피드백)

어떤 영역에서 동기 정밀도나 포커스 정밀도의 상태가 양호하지 않은 등, 수 정의 필요가 있는 경우에 있어서, 그 영역에 관한 장치동작과 관계된 장치 제어 파라미터를 변경하도록 이 영역에 있어서의 이상 검출 결과를 장치 설정으로 피드백할 수 있다. 이 경우, 다른 장치에 있어서의 동일영역의 상태와 해당 장치 제어 파라미터를 비교하여, 최적의 파라미터를 산출해도 된다.

예를 들면, 주사 방향과 주사 속도를 필터링 조건으로서 설정하여, 영역마다 통계처리를 행함으로써, 영역 간의 비교, 또는, 복수장치에 있어서의 동일영역 간의 비교에 의거하여 주사방향 오프셋이나 주사 속도를 설정한다.

(프로세스 설정으로의 피드백)

특정의 프로세스에 있어서, 어떤 영역에서 동기 정밀도나 포커스 정밀도의 상태가 양호하지 않은 등, 수정의 필요가 있는 경우, 그 영역에 관한 장치동작과 관계된 프로세스 파라미터를 변경하도록 이 영역에 있어서의 이상 검출 결과를 프로세스 설정으로 피드백할 수 있다. 이 경우에, 다른 프로세스에 있어서의 동일영역의 상태와 프로세스 파라미터를 비교하여, 최적의 파라미터를 산출해도 된다.

또한, 노광장치를 이용하는 공정 이외의 공정으로, 그 영역에 대한 처리동작을 변경하도록 어떤 영역에 있어서의 이상 검출 결과를 프로세스 설정으로 패드백하는 것도 가능하다.

(장기 감시)

도 11에 예시한 바와 같이, 영역마다의 동기 정밀도나 포커스 정밀도의 통계처리결과를 일정 기간마다 그래프 형태로 기록하여, 감시한다. 이것에 의해, 이상의 조기발견이나, 장치 상태의 변화 트렌드에 의거해 이상의 예측이 가능해 진다.

(재변환)

도 12에 예시한 바와 같은 표준영역배열에 따라 변환되는 표준화 장치 정보(1201)를 또 다른 표준영역배열을 따르는 표준화 장치 정보(1202)로 변환하는 것도 가능하다. 변환 방법은, 예를 들면 상술한 제 1 예 또는 제 2 예를 따를 수 있다.

(샷 영역보다도 작은 영역의 정의)

노광장치에 있어서 샷 영역마다 정보를 발생하는 것 대신에, 샷 영역보다도 작은 영역을 정의하여, 그 정의된 영역마다 정보를 발생해도 된다.

(프로세스의 샷 영역 배열로의 재변환)

도 13에 예시한 것 같이, 표준화 장치 정보(1301)를 임의의 샷 영역 배열을 따르는 장치 정보(1302)로 변환하는 것도 가능하다. 변환 방법은, 예를 들면 상기의 제 1 예 또는 제 2 예를 따를 수 있다.

또한, 샷 영역 배열과 같은 배열에 따라 표준화 장치 정보를 변환하여, 그 변환 결과에 의거하여 어떤 샷 영역에 있어서의 포커스 정밀도나 동기 정밀도를 산출해도 된다. 또한, 그 샷 영역에 있어서의 최적의 파라미터를 산출하여, 그 파라미터에 의거해 노광장치의 제어를 변경하도록 이상 검출 결과를 설정으로 피드백한다. 또한, 노광장치를 사용하는 공정 이외의 공정으로, 그 샷 영역에 대한 처리 동작을 변경하도록 이상 검출 결과를 설정으로 피드백해도 된다.

또한, 예시적인 실시 예를 참조하면서 본 발명을 설명했지만, 본 발명은 이들 예시적인 실시 예에 한정되는 것이 아니다. 이하의 특허청구범위는 본 발명의 범주를 벗어나지 않고 다양한 변경 및 변형이 가능하다.

도 1은, 본 발명의 바람직한 실시 예에 따른 노광장치의 구성을 개략적으로 도시한 블록도다.

도 2는, 본 발명의 바람직한 실시 예에 따른 노광 시스템의 구성을 개략적으로 도시한 블록도다.

도 3a∼3e는, 정보수집부에 의해 수집되는 1개의 샷 영역정보의 예를 도시한 도면이다.

도 4는, 변환부에 의한 변환 처리의 예를 개략적으로 도시한 도면이다.

도 5a∼5f는, 변환부에 의한 변환 처리의 제 1의 예를 개략적으로 도시한 도면이다.

도 6a∼6f는, 변환부에 의한 변환 처리의 제 2의 예를 개략적으로 도시한 도면이다.

도 7은, 본 발명의 바람직한 실시 예에 따른 디자인 의존 장치 정보(제 1 정보)의 해석 처리의 시퀀스를 예시하는 플로차트다.

도 8은, 필터링부에 의한 필터링 처리의 예를 개략적으로 도시한 도면이다.

도 9는, 복수의 노광장치를 관리 시스템에서 관리하는 응용 예를 도시한 도면이다.

도 10은, 1개 또는 복수의 노광장치와 다른 장치를 관리 시스템으로 관리하는 응용 예를 도시한 도면이다.

도 11은, 영역마다의 통계처리결과의 장기감시를 도시한 그래프다.

도 12는, 장치 정보의 재변환의 예를 설명하는 도면이다.

도 13은, 샷 영역 배열로의 장치 정보의 재변환을 설명하는 도면이다.

Claims

기판을 방사 에너지에 노광하는 노광장치에 의해 생성된 정보를 처리하는 정보처리장치로서,

상기 기판 위에 정의된 제 1 배열을 구성하는 복수의 제 1 영역의 각각에 대해서 상기 노광장치의 동작을 통해 노광장치에 의해 취득된 제 1 정보를 수집하는 수집부와,

상기 수집부에 의해 상기 복수의 제 1 영역의 각각에 대해서 수집된 상기 제 1 정보의 적어도 일부를, 제 2 배열을 구성하는 복수의 제 2 영역의 각각에 대해서의 제 2 정보로 변환하는 변환부를 구비한 것을 특징으로 하는 정보처리장치.
제 1 항에 있어서,

상기 제 1 정보로부터 필터링 조건을 충족하는 정보를 추출하고, 추출한 정보를 상기 변환부에 제공하는 필터링부를 더 구비한 것을 특징으로 하는 정보처리장치.
제 1 항에 있어서,

상기 제 2 정보를 통계 처리하는 통계처리부를 더 구비한 것을 특징으로 하는 정보처리장치.
제 1 항에 있어서,

상기 제 1 영역은 샷 영역을 포함한 것을 특징으로 하는 정보처리장치.
제 1 항에 있어서,

상기 수집부는, 기판 위에 정의된 제 3 배열을 구성하는 복수의 제 3 영역의 각각에 대해서 상기 노광장치의 동작을 통해 상기 노광장치에 의해 취득된 제 3 정보를 수집하고,

상기 변환부는, 상기 수집부에 의해 상기 복수의 제 3 영역의 각각에 대해서 수집된 제 3 정보의 적어도 일부를, 상기 복수의 제 2 영역의 각각에 대해서의 정보로 변환하는 것을 특징으로 하는 정보처리장치.
기판을 방사 에너지에 노광하는 노광장치와,

상기 노광장치에 의해 생성된 정보를 처리하는 청구항 1에 기재된 정보처리장치를 구비한 것을 특징으로 하는 노광 시스템.
기판을 방사 에너지에 노광하는 노광장치에 의해 생성된 정보를 처리하는 방법으로서,

상기 기판 위에 정의된 제 1 배열을 구성하는 복수의 제 1 영역의 각각에 대해서 상기 노광장치의 동작을 통해 상기 노광장치에 의해 취득된 제 1 정보를 수집하는 수집스텝과,

상기 수집스텝에서 상기 복수의 제 1 영역의 각각에 대해서 수집된 상기 제 1 정보의 적어도 일부를, 제 2 배열을 구성하는 복수의 제 2 영역의 각각에 대해서의 제 2 정보로 변환하는 변환스텝을 포함한 것을 특징으로 하는 정보처리방법.
기판을 방사 에너지에 노광하는 노광장치에 의해 생성된 정보의 처리를 컴퓨터에 실행시키는 프로그램을 기억한 컴퓨터 판독가능한 매체로서, 상기 프로그램이 상기 컴퓨터에,

상기 기판 위에 정의된 제 1 배열을 구성하는 복수의 제 1 영역의 각각에 대해서 상기 노광장치의 동작을 통해 상기 노광장치에 의해 취득된 제 1 정보를 수집하는 수집스텝과,

상기 수집스텝에서 상기 복수의 제 1 영역의 각각에 대해서 수집된 상기 제 1 정보의 적어도 일부를, 제 2 배열을 구성하는 복수의 제 2 영역의 각각에 대해서의 제 2 정보로 변환하는 변환스텝을 실행시키는 것을 특징으로 하는 컴퓨터 판독가능한 매체.