KR100934402B1 - 알에프 스플리트 모니터링 시스템 - Google Patents

알에프 스플리트 모니터링 시스템 Download PDF

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Abstract

본 발명에 의하면, 고주파 RF 파워를 발생시키는 고주파발생부; 상기 고주파발생부로부터 공급되는 RF 파워의 플라즈마 임피던스를 매칭시키는 매칭네트워크부; 상기 매칭네트워크부에 의해 임피던스 매칭된 RF 파워를 복수개로 분할된 샤워헤드에 각각 균일하게 분배되도록 하는 분배네트워크부; 상기 분배네트워크부로부터 각각의 샤워헤드에 분배되는 RF 파워를 감시하는 센서부; 상기 센서부의 감시 결과 RF 파워가 각각의 샤워헤드에 균일하게 분배되지 않을 경우 RF 파워가 상기 임피던스 변화에 따라 조절되도록 임피던스를 가변시키는 션트부; 및 상기 구성부들에 전기적으로 접속되며 상기 센서부의 감시 결과를 토대로 션트부를 제어하여 상기 샤워헤드에 균일한 RF 파워가 분배되도록 하는 제어부를 포함하며, 상기 분배네트워크부는, 상기 복수개의 샤워헤드에 연결되어 상호간 RF 파워를 수신하는 RF 전극 역할을 하는 플레이트; 상기 플레이트에 복수개의 샤워헤드에 각각 대응되도록 구비되어 선택적으로 온/오프되는 RF 스위치; 상기 RF 스위치에 연결되는 커패시터와 인덕터로 구성된 동조회로; 및 상기 동조회로와 샤워헤드에 연결되는 케이블을 포함하며, 상기 센서부는, 상기 분배네트워크부의 RF 파워가 흐르는 케이블에 구비되어 RF 전압을 리딩하여 RF 파워를 감지하는 저압센서 및 전압감지보드, 코어를 이용하여 케이블에 흐르는 전류를 리딩하여 RF 파워를 감지하는 전류센서 및 상기 케이블과 샤워헤드를 연결한 상태에서 전압이나 전류를 리딩하여 RF 파워를 감지하는 Vpp 및 전류센서 중 적어도 어느 하나를 포함하며, 상기 션트부는, 상기 분 배네트워크부의 케이블에 연결되는 가변 커패시터와 상기 가변 커패시터를 조절하는 DC모터로 구성되는 알에프 스플리트 모니터링 시스템이 제공된다.
반도체, 웨이퍼, 플라즈마, 식각, 챔버, RF, 파워, 주파수, 정전용량, 분배, 샤워헤드

Description

알에프 스플리트 모니터링 시스템{RF split monitoring system}
본 발명은 알에프 스플리트 모니터링 시스템(RSMS : RF Split Monitoring System)에 관한 것으로, 보다 상세하게는 플라즈마 챔버 장비에 있어서 복수개로 분할되는 샤워헤드에 안정적인 RF 파워가 분배되도록 하여 웨이퍼 간에 균일도나 식각률 차이 발생을 방지할 수 있는 알에프 스플리트 모니터링 시스템에 관한 것이다.
일반적으로 가스 소스로부터 반응가스를 공급받아 챔버 내에서 플라즈마에 의한 처리를 진행하는 예로는 PECVD 공정, 건식각 공정 등이 있다. 종래에는 평행판 간에 RF 주파수의 전압을 인가하여 플라즈마를 발생시키는 방법은 낮은 압력으로 안정하게 방전시키는 것이 곤란하다. 따라서 수십 MHz 이상의 높은 주파수의 전원에 의하여 플라즈마를 생성하고, 수백 KHz 이하의 낮은 주파수로 웨이퍼의 바이어스 제어를 행하는 방식이 주로 사용되고 있다.
도 1은 종래의 플라즈마 챔버의 구성을 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 1에 도시된 바와 같이, 종래의 플라즈마 챔버는, 플라즈마 소스로 챔버벽이나 전극과의 사이에 있는 가스를 이온화시키기 위하여 13.56 MHz의 RF 파워를 사 용하는 고주파발생기(10)를 구비한다. 상기 고주파발생기(10)에서 인가된 RF 파워는 필터링을 위한 매칭네트워크(20)를 거친 후, 코일과 커패시터가 병렬 연결된 분배네트워크(30)를 통하여 각각의 샤워헤드(미도시)에 분배된다. 여기서, E1 - E6은 각 샤워헤드에 인가되는 전위를 의미한다. 그리고 250 KHz의 주파수를 가지고 내부에 임피던스 매칭 기능을 가지고 있는 LF 파워인 저주파발생기(40)도 구비한다. 상기 저주파발생기(40)는 고주파발생기(10)의 RF 파워에 의해 발생된 양이온들을 활성화시켜 샤워헤드 하단의 히터블록(미도시) 위에 놓여진 웨이퍼 쪽으로 가속시키는 역할을 한다.
상기 히터블록의 저주파발생기 연결부(40a) 반대편으로 다른 연결부(50a)에 의해 접속된 션트(Shunt)부(50)는 챔버의 플라즈마 발생으로 히터블록에 유기되는 RF 파워를 접지시켜 저주파발생기(40)에 잡음이 발생되는 것을 억제한다. 또한, 히터블록 내에는 웨이퍼들을 가열시키기 위한 히터(62,64)들이 내장된다. 상기 히터(62,64)들은 히터전원(66)에 연결된다.
그러나 상기와 같은 종래의 플라즈마 챔버는, 챔버 습식 세정 후에 매번 션트부(50)의 정전용량을 조절해야 하는 불편함이 있고, 챔버내의 생산매수 증가시 웨이퍼간의 균일도가 연속하여 일정 비율로 나빠지는 문제점이 있는데, 이는 상기 션트부(50)를 조절하여 저주파 축으로의 RF 필터 기능을 최적화해 놓은 상태가 고정되어 있는 반면, 챔버내 증착 또는 식각에 의해 발생되는 카본이나 폴리머 성분 등이 챔버 RF 세정 공정 중에도 100 % 제거되지 못하고 점차 누적되기 때문이다.
또한, 상기 저주파발생기(40)와 션트부(50)의 각 연결부(40a,50a)가 히터블 록의 양극단에 각각 치우쳐 있기 때문에 큰 챔버 용적에 비하여 파워 분배가 고르지 못하게 되어 상기 E1 - E6이 각기 다른 전위를 가지게 되고 이로 인하여 플라즈마 균일도 차이가 발생하게 되어 균일하지 못한 플라즈마가 웨이퍼에 유기되어 고품질의 CVD막 제조나 균일한 식각이 저해되는 문제점이 있다.
또한, RF 파워가 샤워헤드의 전영역을 통하여 고르게 분배되도록 할 뿐 선택적인 RF 파워의 분배를 제어할 수 없어 크기가 작은 웨이퍼의 식각시 불필요한 부분에까지 플라즈마가 유기되어 처리 조건이 변하게 되거나, 필요에 따라 웨이퍼의 선택적인 식각이 필요한 경우 샤워헤드로부터 웨이퍼에 선택적인 플라즈마 유기가 이루어지지 못하게 되는 문제점이 있다.
따라서 본 발명의 목적은 플라즈마 챔버 장비에 있어서 복수개로 분할되는 샤워헤드에 안정적인 RF 파워가 분배되도록 하여 웨이퍼 간에 균일도나 식각률 차이 발생을 방지할 수 있는 알에프 스플리트 모니터링 시스템을 제공하는 것이다.
또한, 본 발명의 다른 목적은 고주파발생기의 RF 파워를 복수개의 샤워헤드에 분배하는 분배네트워크로부터 분배되는 RF 파워를 감시한 후 임피던스의 변화시 션트부가 자동으로 안정적인 RF 파워가 분배되도록 커패시터를 가변시켜 안정적인 RF 파워 분배를 가능하게 할 수 있는 알에프 스플리트 모니터링 시스템을 제공하는 것이다.
또한, RF 파워가 복수개의 분할된 샤워헤드에 선택적으로 분배되도록 하여 샤워헤드가 선택적으로 연동되도록 하여 RF 파워의 손실과 처리 조건의 변화를 방지할 수 있는 알에프 스플리트 모니터링 시스템을 제공하는 것이다.
한편, 본 발명의 목적은 이상에서 언급한 목적으로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 다른 목적들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
이를 위하여, 본 발명에 의하면, 고주파 RF 파워를 발생시키는 고주파발생부; 상기 고주파발생부로부터 공급되는 RF 파워의 플라즈마 임피던스를 매칭시키는 매칭네트워크부; 상기 매칭네트워크부에 의해 임피던스 매칭된 RF 파워를 복수개로 분할된 샤워헤드에 각각 균일하게 분배되도록 하는 분배네트워크부; 상기 분배네트워크부로부터 각각의 샤워헤드에 분배되는 RF 파워를 감시하는 센서부; 상기 센서부의 감시 결과 RF 파워가 각각의 샤워헤드에 균일하게 분배되지 않을 경우 RF 파워가 상기 임피던스 변화에 따라 조절되도록 임피던스를 가변시키는 션트부; 및 상기 구성부들에 전기적으로 접속되며 상기 센서부의 감시 결과를 토대로 션트부를 제어하여 상기 샤워헤드에 균일한 RF 파워가 분배되도록 하는 제어부를 포함하며, 상기 분배네트워크부는, 상기 복수개의 샤워헤드에 연결되어 상호간 RF 파워를 수신하는 RF 전극 역할을 하는 플레이트; 상기 플레이트에 복수개의 샤워헤드에 각각 대응되도록 구비되어 선택적으로 온/오프되는 RF 스위치; 상기 RF 스위치에 연결되는 커패시터와 인덕터로 구성된 동조회로; 및 상기 동조회로와 샤워헤드에 연결되는 케이블을 포함하며, 상기 센서부는, 상기 분배네트워크부의 RF 파워가 흐르는 케이블에 구비되어 RF 전압을 리딩하여 RF 파워를 감지하는 저압센서 및 전압감지보드, 코어를 이용하여 케이블에 흐르는 전류를 리딩하여 RF 파워를 감지하는 전류센서 및 상기 케이블과 샤워헤드를 연결한 상태에서 전압이나 전류를 리딩하여 RF 파워를 감지하는 Vpp 및 전류센서 중 적어도 어느 하나를 포함하며, 상기 션트부는, 상기 분배네트워크부의 케이블에 연결되는 가변 커패시터와 상기 가변 커패시터를 조절하는 DC모터로 구성되는 알에프 스플리트 모니터링 시스템이 제공된다.
따라서 본 발명에 의하면, 복수개로 분할되는 샤워헤드에 안정적인 RF 파워가 분배되도록 하여 웨이퍼 간에 균일도나 식각률 차이 발생을 방지할 수 있다.
또한, 고주파발생부의 RF 파워를 복수개의 샤워헤드에 분배하는 분배네트워크로부터 분배되는 RF 파워를 개별적으로 감시한 후 임피던스의 변화시 션트부가 자동으로 안정적인 RF 파워가 분배되도록 커패시터를 가변시켜 안정적인 RF 파워 분배를 가능하게 할 수 있다.
또한, RF 파워가 복수개의 분할된 샤워헤드에 선택적으로 분배되도록 하여 샤워헤드가 선택적으로 연동되도록 하여 RF 파워의 손실과 처리 조건의 변화를 방지할 수 있다.
한편, 본 발명의 효과는 이상에서 언급한 효과로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 다른 효과들은 청구범위의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
이하, 첨부된 도면을 참조하면서 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 상세히 설명하기로 한다.
도 2는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 알에프 스플리트 모니터링 시스템의 구성을 개략적으로 나타낸 도면이고, 도 3은 도 2의 알에프 스플리트 모니터링 시스템에 있어서 분배네트워크와 샤워헤드 사이의 RF 파워 감시를 위한 센서부를 발췌한 도면이며, 도 4는 도 2의 알에프 스플리트 모니터링 시스템에 있어서 분배네트워크와 샤워헤드 사이의 임피던스 가변을 위한 션트부의 구성을 나타낸 도면이다.
도 2 내지 도 4에 도시된 바와 같이, 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 알에프 스플리트 모니터링 시스템(RSMS)은, 고주파 RF 파워를 발생시키는 고주파발생부(110), 상기 고주파발생부(110)로부터 공급되는 RF 파워의 플라즈마 임피던스를 매칭시키는 매칭네트워크부(120), 상기 매칭네트워크부(120)에 의해 임피던스 매칭된 RF 파워를 복수개로 분할된 샤워헤드(130)에 각각 균일하게 분배되도록 하는 분배네트워크부(140), 상기 분배네트워크부(140)로부터 각각의 샤워헤드(130)에 분배되는 RF 파워를 감시하는 센서부(150), 상기 센서부(150)의 감시 결과 RF 파워가 각각의 샤워헤드(130)에 균일하게 분배되지 않을 경우 RF 파워가 상기 임피던스 변화에 따라 조절되도록 임피던스를 가변시키는 션트부(160) 및 상기 구성부들에 전기적으로 접속되며 상기 센서부(150)의 감시 결과를 토대로 션트부(160)를 제어하거나 고주파발생부(110)의 주파수를 제어하여 상기 샤워헤드(130)에 균일한 RF 파워가 분배되도록 하는 제어부(170)를 포함한다.
상기 고주파발생부(110)는, 리액턴스가 거의 없는 50 Ω의 출력임피던스를 가지는 RF 발생기를 포함한다.
상기 매칭네트워크부(120)는, 전형적으로 상기 고주파발생부(110)의 RF 발생기가 리액턴스가 거의 없는 50 Ω의 출력임피던스를 가지고 있으나, 실제 상기 분배네트워크부(140)에 구비되는 커패시터와 인덕터에 의해 샤워헤드(130)에 제공되는 입력 임피던스는 통상적으로 50 Ω이 아닌 실질적인 리액턴스를 가져 실제 임피던스 매칭이 되지 않으므로 RF 전압과 전류 사이에 제로 위상각을 유지하도록 집중(Lumped) 반응성 소자를 가지는 RF 매칭회로를 제공한다.
여기서, 상기 매칭네트워크부(120)에 의한 임피던스 매칭은, 직렬 인덕터 중 어느 한쪽 측면 상에 한 쌍의 병렬 커패시터로 이루어지는 통상적인 파이 네트워크에 의해 제공될 수 있으며, 이는, RF 파워 입력단에서 종래의 방향성 결합기를 통해 순방향 전압, 역방향 전압 및 전류/전압 위상각을 모니터링하고 네트워크 모델을 사용하여 상기 세가지 파라미터로부터 각각의 가변 커패시턴스 회로의 커패시턴스에 대한 교정을 계산하고 RF 파워 출력단에서 상기 커패시턴스 값에서 요구되는 교정을 위한 가변 커패시터의 제어 신호를 발생을 통해 이루어진다.
상기 샤워헤드(130)는, 복수개로 분할되는데 바람직하게는, 일정 간격으로 내측으로부터 외측으로 순차적으로 4개의 영역으로 분할되어 대용량의 CVD막의 제조를 가능하게 할 수 있다.
상기 분배네트워크부(140)는, 상기 매칭네트워크부(120)로부터 임피던스 매칭된 상태로 공급되는 RF 파워가 복수개의 영역으로 분할된 샤워헤드(130) 각각에 균일하게 공급되도록 하기 위한 것으로, 상기 복수개의 샤워헤드(130)에 연결되어 상호간 RF 파워를 수신하는 RF 전극 역할을 하는 플레이트(141), 상기 플레이트(141)에 복수개의 샤워헤드(130)에 각각 대응되도록 구비되어 선택적으로 온/오프되는 RF 스위치(142), 상기 RF 스위치(142)에 연결되는 커패시터(C)와 인덕터(L)로 구성된 동조회로(143) 및 상기 동조회로(143)와 샤워헤드(130)에 연결되는 케이블(144) 등을 포함한다.
여기서, 상기 분배네트워크부(140)는, 상기 매칭네트워크부(120)에 의해 임피던스 매칭된 RF 파워 전달시 상기 RF 스위치(142)의 선택적인 동작에 따라 상기 RF 파워가 상기 동조회로(143)를 통과하면서 소정의 주파수 범위 내의 동조된 상태를 가지면서 샤워헤드(130)에 분배되도록 함으로써, 상기 샤워헤드(130)의 개별적인 연동을 가능하게 하고 불필요한 RF 파워 손실을 방지하며 챔버 내부의 처리 조건 변화를 방지한다.
상기 센서부(150)는, 상기 분배네트워크부(140)로부터 각각의 샤워헤드(130)에 분배되는 RF 파워를 감시하기 위한 것으로, 상기 분배네트워크부(140)의 RF 파워가 흐르는 케이블(144)에 구비되어 RF 전압을 리딩하여 RF 파워를 감지하는 저압센서 및 전압감지보드, 또는 코어를 이용하여 케이블(144)에 흐르는 전류를 리딩하여 RF 파워를 감지하는 전류센서를 포함하거나, 상기 케이블(144)과 샤워헤드(130)를 연결한 상태에서 전압이나 전류를 리딩하여 RF 파워를 감지하는 Vpp 및 전류센서를 포함한다.
따라서 상기 센서부(150)에 의하면, 고정된 매칭 회로 사용에 따라 챔버 내 부의 임피던스가 변화시 플라즈마를 균일하게 유지시키는 RF 파워가 변화되는 것을 연속적으로 감지할 수 있다.
상기 션트부(160)는, 상기 센서부(150)의 감시 결과 RF 파워가 각각의 샤워헤드(130)에 균일하게 분배되지 않을 경우 RF 파워가 상기 임피던스 변화에 따라 조절되도록 임피던스를 가변시키기 위한 것으로, 상기 분배네트워크부(140)의 케이블(144)에 연결되는 가변 커패시터(VC)와 상기 가변 커패시터(VC)를 조절하는 DC모터(M)로 구성된다.
상기 제어부(170)는, 상기 구성부들에 전기적으로 접속되어, 상기 센서부(150)로부터 RF 파워의 변화에 대응되는 신호의 전달시 상기 션트부(160)의 DC모터(M)를 통하여 가변 커패시터(VC)의 정전용량을 가변시켜 RF 파워가 미리 입력된 설정값에 대응되도록 가변시킨다. 즉, 챔버 내부에 폴리머 등의 증착에 의해 정전 용량이 변화할 경우 상황에 맞게 자동적으로 정전 용량을 변화시켜 항상 일정한 값을 가지도고 하여 생산 매수에 따른 폴리머 증착이 문제되더라도 균일도 개선으로 챔버 습식 세정 주기를 연장할 수 있고 공정 산포도 개선시킬 수 있다.
또한, 상기 제어부(170)는, 상기 센서부(150)로부터 RF 파워가 변화되었다는 신호의 전달시 상기 고주파발생부(110)의 주파수를 서보잉하여 RF 파워가 미리 입력된 설정값에 대응되도록 가변시킬 수도 있다.
여기서, 상기 제어부(170)에 의한 고주파발생부(110)의 주파수 서보는, 상기 센서부(150)를 통하여 상기 케이블(144)에 흐르는 전류 또는 그의 시간에 따른 변화율 또는 RF 파워의 주파수와 그의 곱 또는 웨이퍼 받침대(히팅블록) 전압 또는 받침대 전압의 소정 퓨리에 성분과 같은 측정 파라미터들 중 하나 또는 복수개의 파라미터를 최적화시키는 것에 의해 조정되는 공지의 방식에 따른다.
한편, 상기 본 발명에 따른 알에프 스플리트 모니터링 시스템은, 상기 센서부(150)에 의해 감시되는 각 샤워헤드별 RF 파워를 관리자가 확인할 수 있도록 디스플레이하는 디스플레이수단(미도시)을 더 포함하는 것이 바람직하다.
이하, 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 알에프 스플리트 모니터링 시스템의 작용과 효과에 대해 설명하기로 한다.
먼저, 고주파발생부(110)로부터 발생된 RF 파워가 매칭네트워크부(120)에 의해 임피던스 매칭되어 분배네트워크부(140)에 전달되고, 상기 분배네트워크부(140)로부터 복수개로 분할된 샤워헤드(130) 각각에 균일한 RF 파워가 분배되게 되고, 웨이퍼 받침대(또는 히팅블록) 상의 웨이퍼에 플라즈마가 유기된다.
이때, 상기 분배네트워크부(140)의 케이블(144)을 통하여 샤워헤드(130)에 분배되는 RF 파워가 센서부(150)에 의해 주기적 또는 연속적으로 감시되게 되고, 상기 센서부(140)의 감시 결과 상기 RF 파워가 미리 설정된 입력값과 다를 경우 이에 대한 신호를 제어부(170)에 전달하게 된다.
이후, 상기 제어부(170)는 션트부(160)의 DC모터(M)를 제어하여 가변 커패시터(VC)의 정전 용량을 가변시켜 상기 RF 파워가 미리 설정된 입력값과 대응되게 한다.
이때, 상기 제어부(170)는 필요에 따라 상기 분배네트워크부(140)의 RF 스위치(142)를 제어하여 복수개의 샤워헤드(130)가 선택적으로 연동되도록 하여 크기가 작은 웨이퍼의 식각을 가능하게 하고 불필요한 RF 파워 손실을 방지하며 챔버 내부의 처리 조건이 변화되는 것을 방지할 수 있다.
따라서 상술한 바에 의하면, 복수개로 분할되는 샤워헤드에 안정적인 RF 파워가 분배되도록 하여 웨이퍼 간에 균일도나 식각률 차이 발생을 방지할 수 있다.
또한, 고주파발생부의 RF 파워를 복수개의 샤워헤드에 분배하는 분배네트워크로부터 분배되는 RF 파워를 개별적으로 감시한 후 임피던스의 변화시 션트부가 자동으로 안정적인 RF 파워가 분배되도록 커패시터를 가변시켜 안정적인 RF 파워 분배를 가능하게 할 수 있다.
또한, RF 파워가 복수개의 분할된 샤워헤드에 선택적으로 분배되도록 하여 샤워헤드가 선택적으로 연동되도록 하여 RF 파워의 손실과 처리 조건의 변화를 방지할 수 있다.
이상 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 설명하였지만, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 기술적 사상이나 필수적인 특징을 벗어나지 않는 범위 내에서 여러 가지로 치환, 변형 및 변경이 가능하므로 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다.
도 1은 종래의 플라즈마 챔버의 구성을 개략적으로 나타낸 도면;
도 2는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 알에프 스플리트 모니터링 시스템의 구성을 개략적으로 나타낸 도면;
도 3은 도 2의 알에프 스플리트 모니터링 시스템에 있어서 분배네트워크와 샤워헤드 사이의 RF 파워 감시를 위한 센서부를 발췌한 도면; 및
도 4는 도 2의 알에프 스플리트 모니터링 시스템에 있어서 분배네트워크와 샤워헤드 사이의 임피던스 가변을 위한 션트부의 구성을 나타낸 도면이다.

Claims (4)

  1. 고주파 RF 파워를 발생시키는 고주파발생부(110);
    상기 고주파발생부(110)로부터 공급되는 RF 파워의 플라즈마 임피던스를 매칭시키는 매칭네트워크부(120);
    상기 매칭네트워크부(120)에 의해 임피던스 매칭된 RF 파워를 복수개로 분할된 샤워헤드(130)에 각각 균일하게 분배되도록 하는 분배네트워크부(140);
    상기 분배네트워크부(140)로부터 각각의 샤워헤드(130)에 분배되는 RF 파워를 감시하는 센서부(150);
    상기 센서부(150)의 감시 결과 RF 파워가 각각의 샤워헤드(130)에 균일하게 분배되지 않을 경우 RF 파워가 상기 임피던스 변화에 따라 조절되도록 임피던스를 가변시키는 션트부(160); 및
    상기 고주파발생부(110), 매칭네트워크부(120), 분배네트워크부(140), 센서부(150) 및 션트부(160)에 각각 전기적으로 접속되며 상기 센서부(150)의 감시 결과를 토대로 션트부(160)를 제어하여 상기 샤워헤드(130)에 균일한 RF 파워가 분배되도록 하는 제어부(170)를 포함하며,
    상기 분배네트워크부(140)는,
    상기 복수개의 샤워헤드(130)에 연결되어 상호간 RF 파워를 수신하는 RF 전극 역할을 하는 플레이트(141);
    상기 플레이트(141)에 복수개의 샤워헤드(130)에 각각 대응되도록 구비되어 선택적으로 온/오프되는 RF 스위치(142);
    상기 RF 스위치(142)에 연결되는 커패시터(C)와 인덕터(L)로 구성된 동조회로(143); 및
    상기 동조회로(143)와 샤워헤드(130)에 연결되는 케이블(144)을 포함하고,
    상기 센서부(150)는,
    상기 분배네트워크부(140)의 RF 파워가 흐르는 케이블(144)에 구비되어 RF 전압을 리딩하여 RF 파워를 감지하는 저압센서 및 전압감지보드, 코어를 이용하여 케이블(144)에 흐르는 전류를 리딩하여 RF 파워를 감지하는 전류센서 및 상기 케이블(144)과 샤워헤드(130)를 연결한 상태에서 전압이나 전류를 리딩하여 RF 파워를 감지하는 Vpp 및 전류센서 중 적어도 어느 하나를 포함하며,
    상기 션트부(160)는,
    상기 분배네트워크부(140)의 케이블(144)에 연결되는 가변 커패시터(VC)와 상기 가변 커패시터(VC)를 조절하는 DC모터(M)로 구성되는 것을 특징으로 하는 알에프 스플리트 모니터링 시스템.
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