KR100917402B1 - 오존제거제 조성물 - Google Patents

오존제거제 조성물 Download PDF

Info

Publication number
KR100917402B1
KR100917402B1 KR1020090042405A KR20090042405A KR100917402B1 KR 100917402 B1 KR100917402 B1 KR 100917402B1 KR 1020090042405 A KR1020090042405 A KR 1020090042405A KR 20090042405 A KR20090042405 A KR 20090042405A KR 100917402 B1 KR100917402 B1 KR 100917402B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
ozone
exhaust gas
sodium
potassium
composition
Prior art date
Application number
KR1020090042405A
Other languages
English (en)
Inventor
김승겸
김기석
Original Assignee
주식회사 유니테크
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 유니테크 filed Critical 주식회사 유니테크
Priority to KR1020090042405A priority Critical patent/KR100917402B1/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100917402B1 publication Critical patent/KR100917402B1/ko

Links

Images

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
    • B01D53/34—Chemical or biological purification of waste gases
    • B01D53/46—Removing components of defined structure
    • B01D53/66—Ozone
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
    • B01D53/34—Chemical or biological purification of waste gases
    • B01D53/74—General processes for purification of waste gases; Apparatus or devices specially adapted therefor
    • B01D53/77—Liquid phase processes
    • B01D53/79—Injecting reactants
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D2251/00—Reactants
    • B01D2251/20—Reductants
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D2257/00—Components to be removed
    • B01D2257/10—Single element gases other than halogens
    • B01D2257/106—Ozone
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D2258/00—Sources of waste gases
    • B01D2258/02—Other waste gases
    • B01D2258/0216—Other waste gases from CVD treatment or semi-conductor manufacturing
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D2258/00—Sources of waste gases
    • B01D2258/02—Other waste gases
    • B01D2258/0275—Other waste gases from food processing plants or kitchens
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02A—TECHNOLOGIES FOR ADAPTATION TO CLIMATE CHANGE
    • Y02A50/00—TECHNOLOGIES FOR ADAPTATION TO CLIMATE CHANGE in human health protection, e.g. against extreme weather
    • Y02A50/20—Air quality improvement or preservation, e.g. vehicle emission control or emission reduction by using catalytic converters

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Biomedical Technology (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Treating Waste Gases (AREA)

Abstract

본 발명은 오존제거제 조성물 및 이를 이용한 배기가스 처리방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 나트륨 또는 칼륨의 황산염, 아황산염 및 황화물로 이루어진 군에서 1종 이상 선택된 황 화합물 5 내지 20 중량%; 분산제 1 내지 5 중량%; 및 동결방지제 1 내지 5 중량%를 포함하는 오존제거제 조성물을 제공한다.
오존, 플루오르 화합물, 배기가스, 아황산나트륨, 티오황산나트륨

Description

오존제거제 조성물{Ozone removal composition for treating off-gas}
본 발명은 오존제거제 조성물에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 각종 산업현장에서 배출될 수 있는 배기가스 중의 오존을 경제적이고 효과적으로 분해 및 제거하고 상기 오존의 환원반응에 의해 생성된 산소로 배기가스 중의 플루오르 화합물을 처리할 수 있는 오존제거제 조성물에 관한 것이다.
오존은 강력한 산화력을 가진 물질로서 상하수의 처리, 식품공장 등에 있어서의 살균처리, 반도체 산업의 웨이퍼 산화막 형성에 이용되고 있다. 예를 들면, 반도체 제조공정의 경우, 실리콘 웨이퍼에 포토레지스트 조성물을 코팅한 후, 소정의 패턴을 형성한 다음 에칭, 산화, 확산, 개질 등의 각종 처리를 수행한다. 이때 상기 산화 공정에서 단결정 실리콘막 또는 폴리실리콘막의 표면 등을 산화하며, 이러한 공정에서 통상적으로 오존 및/또는 플라즈마 가스 등이 이용되고 있다.
하지만 상기 오존은 그 강력한 산화력에 의하여 두통, 구토, 폐수종 등의 건강장해를 유발하기 때문에 이용된 후의 배기오존은 분해하여 무해화 시켜야 한다.
종래 오존을 분해하기 위한 방법으로는 오존을 포함하는 배기가스를 활성탄으로 처리하거나, 오존분해능을 가지는 금속을 담지시킨 제올라이트 등에 접촉 분 해 처리, 유기고분자 기재에 금속 또는 그 산화물을 담지시킨 촉매를 사용하여 분해하는 방법이 사용되고 있다. 그러나, 상기 방법 중 활성탄을 이용한 오존 처리는 배기가스중의 오존농도가 저농도인 경우에는 제거성능이 충분하지 않고 장시간 사용시 재생해서 사용해야 하는 번거로움 등 경제성이 떨어지는 단점을 갖고 있다. 또한 금속(망간, 아연, 니켈, 은, 코발트, 구리등)을 담지시킨 촉매법은 촉매를 제조하기 위하여 다수의 공정이 요구되어 촉매의 제조원가 측면에서 불리하고, 오존 처리를 위해 기존 설비에 추가적인 촉매탑등 설비 시설을 갖춰야 하며, 오존 분해를 위해 배기가스의 온도를 고온으로 유지해야 하는 단점이 있다.
본 발명의 목적은 저비용으로 유효하게 오존을 분해 및 제거할 수 있는 오존제거제 조성물을 제공하는 것이다.
또한 본 발명의 다른 목적은 산업현장에서 배출되는 오존 및 플루오르 화합물의 처리 공정에서 기존의 스크러버 설비를 이용하고 세정수에 본 발명의 약품을 적정농도로 희석하여 분사함으로써 간편하게 배기가스의 오존 및 플루오르 화합물을 처리할 수 있는 오존제거제 조성물을 제공하는 것이다.
본 발명의 또 다른 목적은 상기 오존제거제 조성물을 이용한 배기가스의 처리방법을 제공하는 것이다.
상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은
나트륨 또는 칼륨의 황산염, 아황산염 및 황화물로 이루어진 군에서 1종 이상 선택된 황 화합물 5 내지 20 중량%;
분산제 1 내지 5 중량%; 및
동결방지제 1 내지 5 중량%
를 포함하는 오존제거제 조성물을 제공한다.
또한 본 발명은 상기 오존제거제 조성물을 이용하여 오존 및 플루오르 화합물을 포함하는 배기가스로부터 오존을 분해하고 플루오르 화합물을 처리하는 단계 를 포함하는, 배기가스의 처리방법을 제공한다. 이때, 상기 오존제거제 조성물은 추가로 물을 포함하는 용액으로 제조하고, 오존 및 플로오르 화합물을 포함하는 배기가스를 상기 용액으로 통과시켜 처리할 수 있다.
이하에서 본 발명을 상세하게 설명한다.
본 발명은 반도체 제조 공정과 같은 각종 산업현장에서 배출되는 배기가스로부터 오존 및 플루오르 화합물을 포함하는 효과적으로 제거하기 위한 오존제거제 조성물과 이를 이용한 배기가스의 처리방법에 관한 것이다.
본 발명은 각종 반도체 제조공정에서 배출되는 오존 및 플루오르 화합물의 처리 공정에서 기존의 스크러버 설비를 이용하고 세정수에 본 발명의 약품을 적정농도로 희석하여 분사함으로써 간편하게 배기가스의 오존 및 플루오르 화합물을 처리할 수 있다.
이러한 본 발명의 오존제거제 조성물은 황 화합물 5 내지 20 중량%; 분산제 1 내지 5 중량%; 및 동결방지제 1 내지 5 중량%를 포함하는 것이 바람직하다. 또한, 본 발명의 오존제거제 조성물은 물을 추가로 포함할 수 있다.
본 발명의 오존제거제 조성물에 있어서, 상기 황 화합물은 나트륨 또는 칼륨의 황산염, 아황산염, 황화물 등이 사용될 수 있고, 이들은 단독 또는 2가지 이상 혼합해서 사용이 가능하다. 황화합물의 예를 들면, 아황산나트륨, 티오황산나트륨, 황화나트륨, 차아황산나트륨, 메타중아황산나트륨, 과황산나트륨, 중아황산나트륨, 아황산칼륨, 티오황산칼륨, 황화칼륨, 차아황산칼륨, 메타중아황산칼륨, 과황산칼 륨 및 중아황산칼륨으로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상을 사용할 수 있다. 바람직하게는, 본 발명에서는 황화나트륨과 아황산나트륨을 혼합해서 사용하는 것이 좋다. 오존제거제 조성물 중에서 상기 황 화합물의 함량은 전체 조성물에 대하여 5 내지 20 중량%로 사용한다. 상기 황 화합물의 함량이 5 중량% 미만이면 오존 분해의 효율이 저하되는 문제가 있고, 20 중량%를 초과하면 저온에서 석출되는 문제가 있다.
본 발명에서 사용하는 분산제는 입자간의 응집을 방지하기 위한 통상적으로 당업계에 알려진 것을 사용할 수 있으나, 폴리카르복실계 폴리머, 폴리아크릴계 폴리머로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상을 사용하는 것이 바람직하다. 상기 분산제의 함량은 전체 조성물에 대하여 1 내지 5 중량%로 사용하며, 그 함량이 1 중량% 미만이면 분산 기능이 저하되는 문제가 있고, 5 중량%를 초과해도 분산력이 증가되지는 않으므로 효과적이지 못하다.
본 발명에서 사용하는 동결방지제 또한 통상적으로 당업계에 알려진 것을 사용할 수 있으나, 에틸렌 글리콜, 디에틸렌 글리콜 및 프로필렌 글리콜로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상을 사용하는 것이 바람직하다. 상기 동결방지제의 함량은 전체 조성물에 대하여 1 내지 5 중량%로 사용하며, 그 함량이 1 중량% 미만이면 동결방지 기능이 저하되는 문제가 있고, 5 중량%를 초과해도 효과가 증가되지는 않으므로 비경제적이다.
본 발명에서 사용하는 물은 이온교환수를 사용하는 것이 바람직하며, 전체 조성물에 대하여 잔부로 사용할 수 있다.
또한 본 발명은 상기 오존제거제 조성물을 이용하여 오존 및 플루오르 화합물을 포함하는 배기가스로부터 오존을 분해하고 플루오르 화합물을 처리하는 단계를 포함하는, 배기가스의 처리방법을 제공한다.
본 발명의 오존제거제 조성물은 세정수에 적절히 희석하여 사용하므로, 추가적으로 물을 포함하는 용액으로 제조하여 사용한다.
또한, 각종 산업현장에서 배출되는 배기가스에 포함된 오존 및 플루오르 화합물은 세정탑의 세정수를 통과하는 동안 본 발명의 오존제거제 조성물과 반응하여 제거된다. 바람직하게, 상기 세정수의 희석농도는 0.1 내지 2% 일 수 있다.
상기 배기가스는 상하수의 처리, 식품공장 등에 있어서의 살균처리, 및 반도체 제조공정의 실리콘 웨이퍼 산화막 형성에서 사용된 후 배출되는 오존 및 플루오르 화합물을 포함하는 배기가스를 포함할 수 있다. 바람직하게, 본 발명의 오존제거제 조성물은 반도체 제조공정에서 배출되는 배기가스의 오존 및 플루오르 화합물 처리에 사용될 수 있다. 상기 플루오르 화합물은 하이드로겐플루오라이드(HF), 불소(F2), 실리콘 테트라플루오라이드(SiF4), 트리플루오르메탄(CHF3) 등이 포함될 수 있다.
바람직한 일례를 들면, 본 발명의 오존제거제 조성물을 이용한 오존 및 플루오르 화합물을 포함하는 배기가스의 처리방법에 따른 반응은 아래와 같다.
[반응식 1]
Figure 112009029167749-pat00001
상기 반응식에 나타낸 바와 같이, 조성물 중에 포함된 아황산나트륨과 티오황산나트륨은 오존과 환원반응하여 산소를 생성한다. 이후, 이 과정에서 생성된 산소는 다시 플루오르 화합물과 반응하여 배기가스로부터 유해물질을 분해 및 제거할 수 있다.
본 발명의 배기가스의 처리방법에서 사용되는 장치는 특별히 한정되지 않는다. 예를 들면, 각종 산업현장에서 배출된 배기가스를 모으기 위한 저장조, 상기 저장조에 연결 설치되고 배기가스를 처리하기 위한 세정탑 및 상기 세정탑으로부터 처리된 결과물을 배출하기 위한 벤트(vent)를 구비한 장치를 포함할 수 있다. 상기 세정탑에는 오존제거제 조성물을 투입하기 위한 투입구 및 상기 오존제거제 조성물을 희석하기 위한 희석탱크가 연결 설치되어 있다. 또한 상기 세정탑에는 배기가스 투입구 및 배기가스 출구가 설치될 수 있다.
따라서, 본 발명의 배기가스의 처리방법은 도 1에 도시된 과정에 따라 세정 탑에서 오존과 불소화합물을 제거할 수 있다. 즉, 도 1은 본 발명의 오존제거제 조성물을 이용한 배기가스의 처리방법을 간략히 나타낸 것이다. 도 1에서 도면부호 10은 희석탱크이고, 도면부호 20은 세정탑이다.
본 발명에 따르면 기존의 스크러버 설비를 이용하고 세정수에 본 발명의 오존제거제 조성물을 적정농도로 희석하여 분사함으로써 기존 활성탄을 사용하거나 촉매를 사용하는 방법보다 간편하게 각종 산업현장에서 배출된 배기가스 증의 오존을 효과적으로 분해 및 제거할 수 있다. 또한, 본 발명은, 오존의 환원반응으로 생성된 산소로 배기가스 중의 플루오르 화합물도 처리할 수 있다.
이하 본 발명을 하기의 실시 예, 비교 예를 통하여 보다 상세히 설명하기로 한다. 단 다음에 제시되는 실시 예들은 본 발명을 보다 쉽게 이해하기 위하여 제공되는 것이지 본 발명이 이들 실시 예에 한정되는 것은 아니다.
<실시예 1>
아황산나트륨 15 중량%, 황화나트륨 5 중량%, 분산제 2 중량%, 동결방지제 2 중량% 및 물 76 중량%를 혼합하여 오존제거제 조성물을 제조하였다. 상기 분산제는 폴리옥시에틸렌 올레일 에스테르(Polyoxyethylene Oleyl ester) (EO 20몰 부가품)을 사용하였고, 동결방지제는 에틸렌 글리콜을 사용하였다.
<실시예 2>
아황산나트륨 20 중량%, 분산제 2 중량%, 동결방지제 2 중량% 및 물 76 중량%를 혼합하여 오존제거제 조성물을 제조하였다. 상기 분산제는 폴리옥시에틸렌 올레일 에스테르(Polyoxyethylene Oleyl ester)(EO 20몰 부가품)을 사용하였고, 동결방지제는 에틸렌 글리콜을 사용하였다.
<실험예>
상기 실시예 1 내지 2의 조성물을 각각 반도체 제조과정에서 발생된 오존 및 HF를 포함하는 배기가스가 공급되는 세정탑으로 투입하여 배기가스를 처리하였고 결과는 표 1 및 2에 나타내었다.
이때, 실시예 1 내지 2의 조성물은 희석탱크에서 1% 용액으로 희석하여 세정수로 공급되도록 하였다.
[표 1]
입구 오존 농도 출구 오존 농도 오존 제거율
실시예 1 15 ppm 0.5 ppm 96.7%
실시예 2 15 ppm 0.7 ppm 95.3%
[표 2]
입구 HF 농도 출구 HF 농도 HF 제거율
실시예 1 45 ppm 0.4 ppm 99.1%
실시예 2 45 ppm 0.3 ppm 99.3%
그 결과, 실시예 1 내지 2는 배기가스 중의 오존을 0.7ppm 이하로 분해하였고, 출구 HF 농도를 0.4 ppm 이하로 처리하는 우수한 효율을 나타냈다.
도 1은 본 발명의 오존제거제 조성물을 이용한 배기가스의 처리방법을 간략히 나타낸 것이다.
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>
10: 희석탱크 20: 세정탑

Claims (7)

  1. 나트륨 또는 칼륨의 황산염, 아황산염 및 황화물으로 이루어진 군에서 1종 이상 선택된 황 화합물 5 내지 20 중량%;
    분산제 1 내지 5 중량%; 및
    동결방지제 1 내지 5 중량%
    를 포함하는 오존제거제 조성물.
  2. 제1항에 있어서, 상기 조성물은 물을 추가로 포함하는 오존제거제 조성물.
  3. 제1항에 있어서, 상기 황 화합물이 아황산나트륨, 티오황산나트륨, 황화나트륨, 차아황산나트륨, 메타중아황산나트륨, 과황산나트륨, 중아황산나트륨, 아황산칼륨, 티오황산칼륨, 황화칼륨, 차아황산칼륨, 메타중아황산칼륨, 과황산칼륨 및 중아황산칼륨으로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상인, 오존제거제 조성물.
  4. 제1항에 있어서, 상기 분산제는 폴리카르복실계 폴리머 및 폴리아크릴계 폴리머로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상이고,
    상기 동결방지제는 에틸렌 글리콜, 디에틸렌 글리콜 및 프로필렌 글리콜로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상인, 오존제거제 조성물.
  5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 따른 오존제거제 조성물을 이용하여 오존 및 플루오르 화합물을 함유하는 배기가스를 처리하는 단계
    를 포함하는, 배기가스의 처리방법.
  6. 제5항에 있어서, 상기 오존제거제 조성물은 추가로 물을 포함하는 용액으로 제조하고, 오존 및 플루오르 화합물을 포함하는 배기가스를 상기 용액으로 통과시켜 처리하는 것인, 배기가스의 처리방법.
  7. 제5항에 있어서, 상기 배기가스는 반도체 제조공정, 상하수 처리 또는 식품공장으로부터 배출되는 것을 포함하는, 배기가스의 처리방법.
KR1020090042405A 2009-05-15 2009-05-15 오존제거제 조성물 KR100917402B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020090042405A KR100917402B1 (ko) 2009-05-15 2009-05-15 오존제거제 조성물

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020090042405A KR100917402B1 (ko) 2009-05-15 2009-05-15 오존제거제 조성물

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR100917402B1 true KR100917402B1 (ko) 2009-09-14

Family

ID=41355761

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020090042405A KR100917402B1 (ko) 2009-05-15 2009-05-15 오존제거제 조성물

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR100917402B1 (ko)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108097040A (zh) * 2017-12-26 2018-06-01 北京北方节能环保有限公司 一种提高废水处理中臭氧尾气破坏效率的方法

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2731125B2 (ja) 1995-04-11 1998-03-25 日本ポリエステル株式会社 オゾンの除去方法

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2731125B2 (ja) 1995-04-11 1998-03-25 日本ポリエステル株式会社 オゾンの除去方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108097040A (zh) * 2017-12-26 2018-06-01 北京北方节能环保有限公司 一种提高废水处理中臭氧尾气破坏效率的方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN1096311C (zh) 采用连续化学处理制造电子元件的湿处理方法
EP0867924B1 (en) Method for removing organic contaminants from a semiconductor surface
US6551409B1 (en) Method for removing organic contaminants from a semiconductor surface
CN1139970C (zh) 光刻胶残渣去除剂
JP3546160B2 (ja) 水銀除去方法
EP0962247A2 (en) Removal of NOx and SOx emissions from gaseous effluents
JP2000147793A (ja) フォトレジスト膜除去方法およびそのための装置
JP2005528210A (ja) 亜塩素酸ナトリウムを用いる廃ガスストリーム中のｎｏｘを減少させる方法
TWI740505B (zh) 用於清除廢硫酸內的過氧化氫的活性碳催化劑分解方法
TWI555702B (zh) 回收廢硫酸溶液的方法與裝置
CN1214444C (zh) 用于半导体生产设备的净化气
CN109794155A (zh) 处理VOCs及恶臭气体的方法
KR100917402B1 (ko) 오존제거제 조성물
JPWO2007058286A1 (ja) 基板の洗浄方法及び洗浄装置
JP4224817B2 (ja) １，４−ジオキサンの処理方法
JP3129945B2 (ja) 半導体製造排ガスの処理方法
JP2000216130A (ja) 電子材料用洗浄水及び電子材料の洗浄方法
Verhaverbeke et al. Organic contamination removal
EP3384975A1 (en) Method for treating exhaust gas containing elemental fluorine
JP2008103431A (ja) 半導体装置の製造方法および半導体装置の製造装置
KR102036352B1 (ko) 광촉매 재료에 의한 토양 오염수의 처리 방법
JP2006231105A (ja) 酸化性ガスの除去方法
JP2001185520A (ja) 半導体素子形成用基板表面処理方法
JPH06335688A (ja) アンモニア含有水の処理方法
JP2018061946A (ja) 排ガスおよび排液の処理方法

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
A302 Request for accelerated examination
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20120906

Year of fee payment: 4

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20130902

Year of fee payment: 5

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20150903

Year of fee payment: 7

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20160906

Year of fee payment: 8

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20170905

Year of fee payment: 9

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20180905

Year of fee payment: 10

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20190903

Year of fee payment: 11