KR100912765B1 - 자기 분리 여과 정화 장치 - Google Patents

Abstract

본 발명의 과제는 소형인 자기 분리 여과 정화 장치를 제공하는 것이다.

회전식 자석(29)은 회전체(30)의 외면에 복수의 영구 자석체(31)를 고정한 것이다. 자석(29)은, 여과 수단인 회전 드럼(20)의 전공정에서, 자성 플럭(16)을 포함하는 처리 유체로부터 자성 플럭(16)을 흡인하는 동시에, 여과 수단의 후공정에서도, 여과된 처리 유체로부터 자성 플럭(16)을 자기 흡인한다. 자석(29)은 모터에 의해 회전된다. 회전 브러시(37) 및 주걱(38)은, 자석(29)에 의해 흡인된 자성 플럭(16)을 오니로서 회수한다.

자석, 회전체, 영구 자석체, 자성 플럭, 회전 브러시

Description

자기 분리 여과 정화 장치 {MAGNETIC SEPARATION FILTER RECTIFYING DEVICE}

본 발명은 수질 정화나 고액 분리 등을 목적으로 한 오수의 정화 장치에 관한 것으로, 특히, 막에 의한 자성 물질의 포착 및 포착물의 자기 분리를 행하는 자기 분리 여과 정화 장치에 관한 것이다.

고액 분리 등을 목적으로서, 미세한 금망(金網)이나 고분자 섬유로 직조된 망을 통수 분리막으로서 사용하고, 오탁 입자를 갖는 원수에 응집제와 자성분을 첨가하여 자성 플럭을 생성하고, 이 자성 플럭을 막으로 분리하고, 막에서 포집한 자성 플럭을 자장 발생 수단으로 자기 분리, 제거하여 고농도 슬러지를 회수하는 자기 분리 오수 정화 장치가 알려져 있다(예를 들어, 특허 문헌 1 참조).

이 막 분리 정화 장치는, 스테인레스강의 가는 선이나 폴리에스테르 섬유 등으로 망을 구성하고, 예를 들어 그 수십 마이크로미터 눈의 개구부를 갖는 막 분자부를 갖는다. 개구부의 투영 면적이나 투영 직경보다도 작은 미세한 오탁 물질을 분리하기 위해, 미리 원수에 예를 들어 응집제의 황산반토나 폴리염화알루미늄이나 폴리황산철과 자성분을 가하여 교반하고, 원수 중의 미세한 고형 부유물이나 조류(藻類), 균류, 미생물을 응축제에 의해 수백 마이크로미터 정도의 크기로 결합시킨 자성 플럭을 형성시킨다. 이 자성 플럭은, 수십 마이크로미터 눈을 갖는 개구부를 통과할 수 없어 높은 제거율로 포착 분리되고, 막을 투과한 물은 더욱 수질이 높은 정화수로 된다.

막 위에 포집된 자성 플럭은, 세정수로 막으로부터 씻어 내어진 후, 수면 근방에 정류하는 자성 플럭은, 상기 수면 근방에 정지 배치된 자석의 자기력으로 흡인하여 자기 분리되고, 슬러지 이송 수단으로 슬러지 회수조로 이송되어 배제된다. 슬러지는 최종적으로는, 통상 트럭으로 처분장이나 소각장으로 운반하거나, 퇴비화된다.

[특허 문헌 1] 일본 특허 공개 제2002-273261호 공보

종래의 자기 분리 오수 정화 장치에서는, 원수 중의 미세한 고형 부유물의 농도가 높은 경우, 대량의 자성 플럭이 생성된다. 이 자성 플럭이 막에 도달하면 막 전체면에 자성 플럭이 여과 포착되어, 막의 통수 능력이 극단적으로 저하되게 되어, 대량의 원수를 처리하는 경우 큰 여과 면적이 필요로 되어, 여과 수단의 구성 요소가 대형화되고, 정화 장치가 대형으로 되어 장치 비용이 증대된다는 문제가 생긴다. 또한, 여과 수단의 구성 요소가 대형화되면, 여과 수단을 복수개로 분할 배치하는 케이스가 생기고, 이 경우, 여과 수단으로부터 세정 박리된 자성 플럭을 자기 흡인하는 자석 요소의 배치 개수도 증가하고, 자석 요소가 대형화되어, 장치 비용이 증대된다는 문제가 생긴다.

본 발명의 목적은 소형인 자기 분리 여과 정화 장치를 제공하는 데 있다.

(1) 상기 목적을 달성하기 위해, 본 발명은, 자성 물질, 혹은 비자성의 피제거물과 자성체를 응집시킨 자성 물질, 또는 화학 반응에 의해 발생시킨 자성 물질을 포함하는 처리 유체로부터 자성 물질을 흡인하는 제1 자장 발생 수단과, 상기 제1 자장 발생 수단의 표면에 설치되고 상기 제1 자장 발생 수단으로부터 오니를 회수하는 제1 오니 회수 수단과, 상기 제1 자장 발생 수단에 의해 자성 물질이 흡인된 상기 처리 유체를 여과하는 여과 수단과, 상기 여과 수단에 의해 여과된 자성 물질을 자기 흡인하는 제2 자장 발생 수단과, 상기 제2 자장 발생 수단의 표면에 설치되고 상기 제2 자장 발생 수단으로부터 오니를 회수하는 제2 오니 회수 수단과, 상기 제1 자장 발생 수단을 회전시키는 제1 자장 회전 수단과, 상기 제2 자장 발생 수단을 회전시키는 제2 자장 회전 수단을 구비하도록 한 것이다.

이러한 구성에 의해, 자기 분리 여과 정화 장치를 소형화할 수 있는 것으로 된다.

(2) 상기 (1)에 있어서, 바람직하게는, 상기 제1 자장 발생 수단과 제1 자장 회전 수단 및 제2 자장 발생 수단과 제2 자장 회전 수단은 동일한 자장 발생 수단과 자장 회전 수단에 의해 구성되고, 또한 제1 및 제2 오니 회수 수단은 동일한 오니 회수 수단에 의해 구성되고, 상기 제1 자장 회전 수단 및 제2 자장 회전 수단은 동일한 자장 회전 수단에 의해 구성되는 것이다.

(3) 상기 (2)에 있어서, 바람직하게는, 상기 자장 발생 수단은, 복수의 영구 자석과, 이들 영구 자석을 고정하는 회전체와, 상기 복수의 영구 자석을 수밀 보호하는 보호통으로 구성되고, 상기 회전체는, 상기 보호통에 체결 수단으로 고정되는 것이다.

(4) 상기 (1)에 있어서, 바람직하게는, 상기 자성 물질을 포함하는 피처리 유체의 유동 속도에 맞추어, 상기 제1 자장 발생 수단을 회전시키는 제1 자장 회전 수단의 회전 속도를 제어하는 제어 수단을 구비하도록 한 것이다.

본 발명에 따르면, 자기 분리 여과 정화 장치를 소형화할 수 있다.

이하, 도1 내지 도3을 이용하여, 본 발명의 일 실시 형태에 따른 자기 분리 여과 정화 장치의 구성에 대해 설명한다.

도1은 본 발명의 일 실시 형태에 따른 자기 분리 여과 정화 장치의 전체 구성을 도시하는 시스템 구성도이다. 도2는 본 발명의 일 실시 형태에 따른 자기 분리 여과 정화 장치에 이용하는 막 분리 장치의 확대 단면도이다. 도3은 도2의 A-A 단면도이다.

도1에 도시하는 바와 같이, 원수 저장조(1)의 내부에, 수 밀리미터의 큰 먼지를 제거한 피처리수인 원수(2)를 저류한다. 저류한 원수(2)는, 펌프(3)에 의해 소정의 양을 배관(4)에 송수된다. 씨딩제 조정 장치(5)는, 사산산화철 등의 자성분과, pH 조정제와, 폴리염화알루미늄이나 염화철이나 황산제2철 등의 수용액 등의 알루미늄 이온이나 철 이온을 제공하는 응집제나 고분자 보강제 등을, 도관(6)을 통해 배관(4)의 내부에 가한다. 교반조(7)에서는, 모터(8)로 회전 구동되는 교반 블레이드(9)에 의해 고속도로 교반하여, 수백 마이크로미터의 자성 마이크로 플럭을 생성한다.

그 후, 고분자제 조정 장치(11)는, 고분자 보강제 등을, 도관(12)을 통해 배관(10)의 내부에 가한다. 교반조(13)에서는, 모터(14)로 회전 구동되는 교반 블레이드(15)로 저속도로 천천히 교반하고, 수 밀리미터 정도의 크기의 자성 플럭[도2에 도시하는 자성 플럭(16)]을 포함하는 전처리수(17)를 생성한다.

이와 같이 생성한 전처리수(17)는, 도관(18)을 통해 자기 분리 및 막 분리 장치(19)에 통수된다. 자기 분리 및 막 분리 장치(19)는 여과용 회전 드럼(20)과, 자석(29)을 구비한다.

여기서, 도2 및 도3을 이용하여, 자기 분리 및 막 자기 분리 장치(19)의 구조에 대해 설명한다.

도1에 도시한 회전 드럼(20)의 외주면에, 도2에 도시하는 바와 같이, 망(21)을 설치한다. 망(21)은, 스테인레스강의 가는 선이나 구리의 가는 선이나 폴리에스테르 섬유 등으로 이루어지고, 수 마이크로미터 내지 수십 마이크로미터 눈을 갖는 개구부를 갖는 막으로 된다.

한편, 도1에 도시한, 자기 분리의 자장 발생 수단으로서 사용하는 회전식 자석(29)은, 도2에 도시하는 바와 같이, 비자성체 재료로 제작한 회전체(30)의 외면의 복수개의 홈에 복수의 영구 자석체(31)를 접착제 등으로 고정하고, 그 주위를 수밀을 확보하는 보호통(32)으로 덮은 구조로 되어 있다. 회전체(30)는, 도3에 도시하는 모터(72)로 회전수가 제어되어 회전한다. 회전축(70)은 수밀 베어링(71)으로 지지되어 있다.

도1에 있어서, 수조(22)에 유입된 전처리수(17)는, 격벽(33)으로 구성되는 유로(34)(도2)의 내부를 유동하고, 도2에 도시하는 바와 같이, 격벽(35)으로 수조(22)의 내부와 격리되는 유로(36)의 내부에 유입된다. 유로(36)는, 전처리수의 유동 방향으로, 대략 흐름과 동일한 속도로 회전하는 영구 자석체(31)에 근거리에 배치된 유로이다. 유로(36)에 유입된 전처리수 내, 자성 플럭(16)의 대부분은 여기서 자기 흡인되어, 수밀 보호통(32)의 표면에 포착되어 전처리수로부터 자기 분리된다.

도2에 있어서, 자성 플럭(16)의 대부분이 자기 분리된 전처리수는, 유로(36)의 출구로부터 수조(22)의 내부에 배출된다. 여기서, 전처리수는 회전 드럼(20)의 망(21)을 외부로부터 내부에 통과하고, 이때, 전처리수 중에 잔존하는 자성 플럭(16)은 망(21)의 내면에 포착되어, 망(21)을 통과하여 자성 플럭(16)이 분리된 물은 정화수로 되어, 도1에 도시하는 개구부(23)로부터 배출되고, 배관(24)을 통해 정화 수조(25)에 저류되어, 배관(80)을 통해 시스템 밖으로 방류된다.

여기서, 도2에 도시하는 바와 같이, 전처리수(17)가 망(21)을 통과하는 동력은, 전처리수(17)와 드럼(20) 내의 정화수와의 액면위차이다. 망(21)에 도달하지 않은 자성 플럭은 수조(22)의 바닥 방향으로 침강하고자 하므로, 수조 내에 설치한 회전축(37)(회전 구동부는 기재하지 않음)에 장착한 교반 블레이드(38)에 의해 생기는 교반 흐름으로 망(21)의 근방으로 이동시키고, 여과의 물 흐름에 태워 여과 포착시킨다. 도2에 있어서, 반시계 방향으로 회전하는 망(21)의 외면에 여과되어 부착된 자성 플럭(16)은, 퇴적물로 되어 액면 위의 대기부에 노출된다.

도1에 있어서, 정화 수조(25)의 내부의 정화수는 펌프(26)로 가압되어, 도관(27)으로부터 샤워관(28)으로 보내진다. 도2에 도시하는 바와 같이, 샤워관(28)의 구멍으로부터 샤워수가, 망(21)의 내표면으로부터 외면측으로 내뿜어진다. 망(21)의 외표면에 축적된 자성 플럭(16)은 샤워수로 박리되고, 망(21)의 면은 재생된다. 씻어 내어진 자성 플럭(16)은, 수조(22) 내의 전처리수(17)의 수면 위에 정류한다.

도2에 있어서, 씻어 내어져 수면 근방에 정류하는 자성 플럭(16)의 군(群) 은, 이미 유로(36) 내에서 자기 흡인에 의해 포착한 자성 플럭(16)을 포착한 상태로, 시계 방향으로 회전하는 영구 자석체(31)의 자장에 의해 자석측에 흡인되어 이동하고, 영구 자석체(31)의 외측을 회전하는 보호통(32)의 외표면에 포착되어 부착한 후, 영구 자석체(31)의 회전에 수반하여, 대기 중에 노출된다. 대기 중에 있어서, 자성 플럭(16)의 군 중의 여분의 수분은 중력에 의해 흘러내려, 수조(22)의 내부로 복귀되고, 자성 플럭(16)의 군은 더 농축된다. 여기서, 자성 플럭의 함수율은 약 97 ％ 정도까지 저하된다. 보호통(32)의 면 위의 농축된 자성 플럭(16)의 군은 보호통(32)의 회전에 의해 이동한다.

따라서, 본 예의 구조에 의해, 여과하는 정화의 전공정에서 대부분의 자성 플럭을 자기 분리함으로써, 여과 수단의 여과의 부하를 대폭 저감시킬 수 있으므로 후단의 여과 수단을 대형화하는 일없이 대량의 원수를 정화할 수 있다. 또한, 여과에 의해 제거한 자성 플럭을 세정수로 여과막으로부터 박리시키고 자석으로 자기 분리할 수 있으므로, 고속으로 자성 플럭을 장치 밖으로 배제할 수 있다. 그 결과, 장치를 소형화할 수 있다. 또한, 자기 분리하는 자석을 따로따로 설치하는 일없이, 동일 자석(29)[영구 자석체(31)]에 의해, 유로(36) 내의 자성 플럭과 막(21)의 세정수 중의 자성 플럭을 동시에 자기 분리할 수 있으므로, 장치를 소형화할 수 있는 동시에 장치 비용을 저감시킬 수 있다.

도2에 도시하는 바와 같이, 자성 플럭(16)의 군은, 긁어내기용으로 수조(22)에 일부에 지지된 회전 브러시(37)와 주걱(38)에 의해, 보호통(32)의 면 위로부터 박리되어, 슬러지 회수조(39)에 중력에 의해 낙하하여, 슬러지로서 분리 포집된다.

도1에 있어서, 슬러지 회수조(39)에 배출된 슬러지는, 배관(40)을 통해 원심 분리기나 벨트 프레스 등의 탈수 장치(41)에 도입되어, 운반시에 슬러지로부터 물이 누설되지 않도록 함수율을 약 85 ％ 이하로, 또한 퇴비시의 유기물을 분해하는 미생물의 활성화를 도모할 수 있는 함수율을 약 75 ％로 농축된 고농도 슬러지는, 배관(42)을 통해 슬러지조(43)에 저장된다. 슬러지는 트럭으로 처분장이나 소각장이나 퇴비 처리장에 운반된다.

탈수 장치에서 탈수된 처리 오수는, 배관(44)을 통해 처리 오수조(45)로 들어가고, 배관(47)을 통해, 펌프(46)로 가압된 후, 배관(48)을 통해 원수조(1)로 복귀되고, 다시 전처리 공정에 도입된다.

도1에 있어서, 센서(49)는, 원수의 액면, 탁도, 온도, pHm치 등을 계측하고, 그 정보를 운전 제어 장치(48)에 신호선(50)으로 송신한다. 운전 제어 장치(48)는, 그 정보를 기초로 하여, 양호한 자성 플럭을 생성하는 데 최적인 약제(pH 조정제, 자성분, 응집제)의 첨가량을, 미리 입력한 최적량 산출 프로그램으로 계산하고, 그 제어 정보를 약제조(5)에 신호선(51)을 경유하여 송신하고, 최적량을 첨가한다.

또한, 동시에, 운전 제어 장치(48)는, 교반 모터의 회전수를 산출하고, 그 제어 정보를 모터(8)에 신호선(52)을 경유하여 송신하고, 최적 회전수로 교반 블레이드(9)를 회전시킨다. 또한, 운전 제어 장치(48)는, 교반조에서의 정류 시간을 산출하고, 신호선(53)을 경유하여 송신하고, 교반조에서의 정류 시간을 확정하는 펌프(3)의 토출량을 제어한다.

또한, 운전 제어 장치(48)는, 양호한 자성 플럭을 생성하는 데 최적인 약제(고분자 폴리머)의 첨가량을, 미리 입력한 최적량 산출 프로그램으로 계산하고, 그 제어 정보를 약제조(11)에 신호선(54)을 경유하여 송신하고, 최적량을 첨가한다.

또한, 동시에, 운전 제어 장치(48)는, 교반 모터의 회전수를 산출하고, 그 제어 정보를 모터(14)에 신호선(55)을 경유하여 송신하고, 최적 회전수에서 교반 블레이드(15)를 회전시킨다.

한편, 막 분리 장치(19)에서는, 수조(22)의 내부 전처리수(17)의 액면을 센서(56)로 계측하고, 그 정보를 운전 제어 장치(48)에 신호선(57)으로 송신한다. 운전 제어 장치(48)는, 그 정보를 기초로 하여, 전처리수의 액면 위치가, 자석(29)의 설치 위치의 대략 중앙부, 즉 자석(29)이 발생하는 자장의 평균치가 최대의 위치에 오도록, 회전 드럼(20)의 최적인 회전수 및 자성 플럭(16)의 군의 회수 속도의 적정 속도를, 미리 입력한 최적량 산출 프로그램으로 계산하고, 그 제어 신호를 회전 드럼의 회전 모터(도시하지 않음)에 신호선(58)을 경유하여 송신하고, 또한, 신호선(59)을 경유하여 회전 자석용 모터(72)(도3)에 송신하고, 각각 최적인 회전수로 제어한다.

또한, 수조(22) 내의 전처리수의 액면이, 망(21)의 회전수의 부족 등에 의해 망(21)에서의 여과량이 유입량보다 저하된 경우 등에 생기는, 수조(22) 내의 전처리수의 액면이 상승한 경우, 수조(22) 내의 전처리수측으로부터 슬러지 회수조(39) 내에 전처리수가 벽(60)을 넘어 월류하지 않도록, 월류수 회수조(61)를 설치하고, 월류수는 배관(62)을 통해, 처리 오수조(45)로 복귀하고, 펌프(46)로 가압된 후, 배관(47)을 통해 원수조(1)로 복귀된다.

본 구조에 의해, 수조(22) 내의 전처리수의 액면이 상승하고, 도2에 도시하는 벽(60)을 넘은 전처리수(17)는, 슬러지조(39)에 유입되지 않고 월류수 회수조(61)로 유입된다. 따라서, 슬러지조(39)에 회수한 고농도의 슬러지가 전처리수의 유입에 의해 물의 함수율이 상승하고, 저농도가 되어 슬러지 체적이 증가하여, 슬러지 처리 비용의 증가를 방지한다.

이상 설명한 바와 같이, 본 실시 형태에 의해, 유로(36) 내에서 전처리수 내의 자성 플럭(16)의 약 90 ％는 회전 자석(29)으로 자기 분리되므로, 여과용 회전 드럼(20)이 여과하는 자성 플럭은 약 10 ％로 되어, 대폭 부하가 적어지고, 회전 드럼의 막(21)의 면적이 적어져, 여과 수단을 소형화할 수 있다. 또한, 여과에 의해 제거한 자성 플럭을 세정수로 여과막으로부터 박리시키고 자석으로 자기 분리할 수 있으므로, 고속으로 자성 플럭을 장치 밖으로 배제할 수 있다. 그 결과, 장치를 소형화할 수 있다. 또한, 자기 분리하는 자석을 따로따로 설치하는 일없이, 동일한 자석(29)에 의해, 유로(36) 내의 자성 플럭과 막(21) 세정수 중의 자성 플럭을 동시에 자기 분리할 수 있으므로, 장치를 소형화할 수 있는 동시에 장치 비용을 저감시킬 수 있다.

다음에, 도4 및 도5를 이용하여, 본 발명의 다른 실시 형태에 따른 자기 분리 여과 정화 장치의 구성에 대해 설명한다. 본 실시 형태에 따른 자기 분리 여과 정화 장치의 전체 구성은, 도1에 도시한 것과 마찬가지이다.

도4는 본 발명의 다른 실시 형태에 따른 자기 분리 여과 정화 장치에 이용하 는 막 분리 장치의 확대 단면도이다. 도5는 도4의 A-A 단면도이다. 또한, 도1 내지 도3과 동일한 부호는, 동일 부분을 나타내고 있다.

본 실시 형태가, 도2 및 도3에 나타낸 실시 형태와 다른 점은, 회전식 자석(68)의 회전체(67)와 보호통(69)을 분리하고, 회전체(67)를 대기측으로부터 탈착할 수 있도록 한 점에 있다. 또한, 회전식 자석(68)은, 회전식 자석(68)과, 회전체(67)에 고정된 영구 자석(66)으로 구성된다.

보호통(69)은, 내측을 최대한 크게 한 것으로, 모터(72)에 의해 소정의 방향으로 회전한다. 회전축(70)은 수밀 베어링(71)으로, 보호통(69)은 수밀 베어링(75)으로 지지되어 있다. 회전식 자석(68)은 볼트(76) 등의 체결 수단으로 보호통(69)에 고정되어, 보호통(69)과 일체로 되어 회전한다.

본 구조에 의해, 운전 중에 물속에 존재하는 중의 예를 들어 미세 철편 먼지가 자기 흡인되어 보호통(69)의 외면에 포착되고, 이것이 막(21)에 접촉하여, 회전 운전이 되는 경우, 회전식 자석(68)을 볼트(76)를 제거하여 장치 밖으로 뽑아내고, 자기력을 없애서 미세 철편 먼지를 보호통(69)의 외면으로부터 이탈시킬 수 있다. 또한, 회전식 자석(68)측에 회전 구동계를 설치하지 않고도 회전식 자석(68)에 볼트 등으로 일체화하는 것에 의해 회전 기능을 얻을 수 있으므로, 따로따로 회전 구동 수단을 설치하는 경우에 비해 장치 비용을 저감시킬 수 있다.

또한, 본 실시 형태에서는, 유로(36) 내부의 유속과 회전식 자석(31)의 주속(周速)의 속도차를 없애는 쪽이, 유로(36) 내를 물 흐름과 대략 동일한 속도로 유동하는 자성 플럭(16)을 자기 흡인하는 효율이 향상된다. 유로(36) 내의 유속 은, 원수의 유량에 의해 변동한다. 따라서, 도1에 도시한 운전하는 펌프(3)의 운전 조건 혹은 유량계(도시하지 않음)로부터 유량을 운전 제어 장치(48)에서 구하고, 유로(36)의 치수로부터 산출된 단면적을 기초로 하여 평균 유속을 구하고, 회전식 자석(29)의 보호통(32)의 외경 치수로부터 상기 평균 유속과 대략 일치하는 주속을 얻을 수 있는 회전수를 산출하고, 신호선(59)을 통해 모터(72)를 회전수 제어하는 것에 의해 상기 속도차를 없앨 수 있어, 자성 플럭(16)을 자기 흡인하는 효율이 향상된다. 따라서, 여과하는 정화의 전공정에서 자성 플럭의 자기 분리 효율을 향상시키는 것에 의해, 여과 수단의 여과의 부하를 더 저감시킬 수 있으므로, 후단의 여과 수단을 더욱 소형화할 수 있다.

또한 이상에서는, 자장 발생 수단으로서 영구 자석을 사용한 경우를 나타냈지만, 상전도 전자석이나 냉동기 등에서 냉각한 초전도 전자석을 사용해도, 마찬가지의 효과가 생긴다.

또한, 이상의 실시 형태에서는, 망(21)을 드럼 형상으로 형성한 경우에 대해 설명했지만, 망(21)을 디스크 형상으로 구성하여, 이 디스크를 종방향으로 복수매 배치하여 장치를 구성한 경우라도 마찬가지의 효과가 생긴다.

또한, 이상의 실시 형태에서는, 비자성 재료로 제작한 회전체(30)를 드럼 형상으로 작성하고, 그 원주 상에 영구 자석체(31)를 접착제 등으로 고정하고, 그 주위를 보호통(32)으로 덮은 구조로 하고 있지만, 회전체(30)를 디스크 형상으로 하여, 그 원주면 위 및 양 측면 위에 복수의 영구 자석을 접착제 등으로 고정하고, 그 주위를 보호통(32) 대신에 덮개 형상의 보호체로 덮은 구조로 하고, 이것을 소 정의 간격으로 복수매 적층하여 디스크군체로서 차륜군과 같이 구성하여 유로(36)에 배치하고, 자성 플럭(16)을 회전하는 디스크군체의 원주 상 및 양 측면 면 위에 고정한 영구 자석군의 자기력에 의해 포착하고, 디스크군체의 원주 상 및 양 측면 면 위의 보호체를 따라 배치된 소정의 주걱으로 포착된 슬러지를 긁어내도록 구성한 경우라도 마찬가지의 효과가 생긴다.

도1은 본 발명의 일 실시 형태에 따른 자기 분리 여과 정화 장치의 전체 구성을 도시하는 시스템 구성도.

도2는 본 발명의 일 실시 형태에 따른 자기 분리 여과 정화 장치에 이용하는 막 분리 장치의 확대 단면도.

도3은 도2의 A-A 단면도.

도4는 본 발명의 다른 실시 형태에 따른 자기 분리 여과 정화 장치에 이용하는 막 분리 장치의 확대 단면도.

도5는 도4의 A-A 단면도.

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>

16 : 자성 플럭

17 : 전처리수

20 : 회전 드럼

21 : 망

22 : 수조

29, 31 : 자석

30 : 회전체

32, 69 : 보호통

36 : 유로

37 : 회전 브러시

38 : 주걱

48 : 운전 제어 장치

68 : 회전식 자석

76 : 볼트

72 : 모터

Claims (4)

1. 자성 물질, 혹은 비자성의 피제거물과 자성체를 응집시킨 자성 물질, 또는 화학 반응에 의해 발생시킨 자성 물질을 포함하는 처리 유체로부터 자성 물질을 흡인하는 제1 자장 발생 수단과,

   상기 제1 자장 발생 수단의 표면에 설치되고, 상기 제1 자장 발생 수단으로부터 오니를 회수하는 제1 오니 회수 수단과,

   상기 제1 자장 발생 수단에 의해 자성 물질이 흡인된 상기 처리 유체를 여과하는 여과 수단과,

   상기 여과 수단에 의해 여과된 자성 물질을 자기 흡인하는 제2 자장 발생 수단과,

   상기 제2 자장 발생 수단의 표면에 설치되고, 상기 제2 자장 발생 수단으로부터 오니를 회수하는 제2 오니 회수 수단과,

   상기 제1 자장 발생 수단을 회전시키는 제1 자장 회전 수단과,

   상기 제2 자장 발생 수단을 회전시키는 제2 자장 회전 수단을 구비하는 것을 특징으로 하는 자기 분리 여과 정화 장치.
2. 제1항에 있어서, 상기 제1 자장 발생 수단과 제1 자장 회전 수단 및 제2 자장 발생 수단과 제2 자장 회전 수단은, 동일한 자장 발생 수단과 자장 회전 수단에 의해 구성되고,

   또한 제1 및 제2 오니 회수 수단은 동일한 오니 회수 수단에 의해 구성되고,

   상기 제1 자장 회전 수단 및 제2 자장 회전 수단은 동일한 자장 회전 수단에 의해 구성되는 것을 특징으로 하는 자기 분리 여과 정화 장치.
3. 제2항에 있어서, 상기 자장 발생 수단은, 복수의 영구 자석과, 이들 영구 자석을 고정하는 회전체와, 상기 복수의 영구 자석을 수밀 보호하는 보호통으로 구성되고,

   상기 회전체는, 상기 보호통에 체결 수단으로 고정되는 것을 특징으로 하는 자기 분리 여과 정화 장치.
4. 제1항에 있어서, 상기 자성 물질을 포함하는 피처리 유체의 유동 속도에 맞추어, 상기 제1 자장 발생 수단을 회전시키는 제1 자장 회전 수단의 회전 속도를 제어하는 제어 수단을 구비하는 것을 특징으로 하는 자기 분리 여과 정화 장치.

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