KR100902994B1 - 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 스페이서 - Google Patents
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Abstract
Description
잔사 유무 | 강도 | |
실시예 1 | 무 | 0.47 GPa |
실시예 2 | 무 | 0.60 GPa |
실시예 3 | 무 | 0.43 GPa |
실시예 4 | 무 | 0.50 GPa |
비교예 1 | 무 | 0.36 GPa |
비교예 2 | 유 | 0.47 GPa |
Claims (17)
- 알칼리 가용성 수지, 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 단량체, 광중합 개시제 및 용매를 포함하는 감광성 수지 조성물에 있어서,반응성 작용기가 도입된 실리카 입자를 포함하여 이루어지되,상기 반응성 작용기가 도입된 실리카 입자는 콜로이달 실리카 용액에 반응성 실란 단량체를 첨가하여 콜로이달 실리카 입자 표면에 잔존하는 하이드록시기와 반응성 실란 단량체를 축합반응시켜 제조하고,상기 반응성 실란 단량체는 상기 콜로이달 실리카의 Si 원자 1 몰에 대하여 0.01 내지 0.2 몰인 것을 특징으로 하는감광성 수지 조성물.
- 제 1항에 있어서,상기 반응성 작용기가 도입된 실리카 입자는 단독, 상기 반응성 작용기가 도입된 실리카 입자와 알칼리 가용성 수지의 공중합체 또는 이들의 혼합물로 포함되는 것을 특징으로 하는 감광성 수지 조성물.
- 제 1항에 있어서,상기 감광성 수지 조성물 100 중량부를 기준으로a) 알칼리 가용성 수지 1 내지 20 중량부;b) 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 단량체 0.5 내지 20 중량부;c) 광중합 개시제 0.1 내지 5 중량부;d) 반응성 작용기가 도입된 실리카 입자 5 내지 60 중량부; 및e) 용매 10 내지 95 중량부;를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 감광성 수지 조성물.
- 제 1항에 있어서,상기 알칼리 가용성 수지는 산기를 포함하는 단량체와 상기 산기를 포함하는 단량체와 공중합 가능한 단량체의 공중합체인 것을 특징으로 하는 감광성 수지 조성물.
- 제 4항에 있어서,상기 산기를 포함하는 단량체는 아크릴산, 메타아크릴산, 크로톤산, 이타콘산, 말레인산, 퓨마린산, 모노메틸말레인산, 이소프렌술폰산, 스티렌술폰산 및 5-노보넨-2-카르복실산으로 이루어지는 군으로부터 1종 이상 선택되는 것을 특징으로 하는 감광성 수지 조성물.
- 제 4항에 있어서,상기 산기를 포함하는 단량체와 공중합 가능한 단량체는 스티렌, 클로로스티렌, α-메틸스티렌, 비닐톨루엔, 메틸아크릴레이트, 메틸메타아크릴레이트, 에틸아크릴레이트, 에틸메타아크릴레이트, 벤질메타아크릴레이트, 부틸아크릴레이트, 부틸메타아크릴레이트, t-부틸아크릴레이트, t-부틸메타아크릴레이트, 시클로헥실아크릴레이트, 시클로헥실메타아크릴레이트, 2-페녹시에틸아크릴레이트, 2-페녹시에틸메타아크릴레이트, 테트라하이드로퍼프릴아크릴레이트, 테트라하이드로퍼프릴메타아크릴레이트, 하이드록시에틸아크릴레이트, 하이드록시에틸메타아크릴레이트, 2-하이드록시프로필아크릴레이트, 2-하이드록시프로필메타아크릴레이트, 2-하이드록시-3-클로로프로필아크릴레이트, 2-하이드록시-3-클로로프로필메타아크릴레이트, 4-하이드록시부틸아크릴레이트, 4-하이드록시부틸메타아크릴레이트, 아실옥틸옥시-2-하이드록시프로필아크릴레이트, 아실옥틸옥시-2-하이드록시프로필메타아크릴레이트, 에틸헥실아크릴레이트, 에틸헥실메타아크릴레이트, 2-메톡시에틸아크릴레이트, 2-메톡시에틸메타아크릴레이트, 3-메톡시부틸아크릴레이트, 3-메톡시부틸메타아크릴레이트, 에톡시디에틸렌글리콜아크릴레이트, 에톡시디에틸렌글리콜메타아크릴레이트, 메톡시트리에틸렌글리콜아크릴레이트, 메톡시트리에틸렌글리콜메타아크릴레이트, 메톡시트리프로필렌글리콜아크릴레이트, 메톡시트리프로필렌글리콜메타아크릴레이트, 메톡시폴리에틸렌글리콜아크릴레이트, 메톡시폴리에틸렌글리콜메타아크릴레이트, 페녹시디에틸렌글리콜아크릴레이트, 페녹시디에틸렌글리콜메타아크릴레이트, p-노닐페녹시폴리에틸렌글리콜아크릴레이트, p-노닐페녹시폴리에틸렌글리콜메타아크릴레이트, p-노닐페녹시폴리프로필렌글리콜아크릴레이트, p-노닐페녹시폴리프로필렌글리콜메타아크릴레이트, 테트라플루오로프로필아크릴레이트, 1,1,1,3,3,3-헥사플루오로이소프로필아크릴레이트, 테트라플루오로프로필아크릴레이트, 1,1,1,3,3,3-헥사플루오로이소프로필메타아크릴레이트, 옥타플루오로펜틸아크릴레이트, 옥타플루오로펜틸메타아크릴레이트, 헵타데카플루오로프로필아크릴레이트, 헵타데카플루오로프로필메타아크릴레이트, 트리브로모페닐아크릴레이트, 트리브로모페닐메타아크릴레이트, 메틸α-하이드록시메틸아크릴레이트, 에틸α-하이드록시메틸아크릴레이트, 프로필α-하이드록시메틸아크릴레이트, 부틸α-하이드록 시메틸아크릴레이트, 글리시딜아크릴레이트, 글리시딜메타아크릴레이트 및 N-비닐-2-피롤리돈으로 이루어지는 군으로부터 1종 이상 선택되는 것을 특징으로 하는 감광성 수지 조성물.
- 제 1항에 있어서,상기 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 단량체는 에틸렌글리콜디아크릴레이트, 에틸렌글리콜디메타아크릴레이트, 에틸렌기의 수가 2 내지 14인 폴리에틸렌글리콜 디아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜 디메타아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리메타아크릴레이트, 펜타에리스리톨트리아크릴레이트, 펜타에리스리톨트리메타아크릴레이트, 펜타에리스리톨테트라아크릴레이트, 펜타에리스리톨테트라메타아크릴레이트, 프로필렌기의 수가 2 내지 14인 프로필렌글리콜디아크릴레이트, 프로필렌글리콜디메타아크릴레이트, 디펜타에리스리톨펜타아크릴레이트, 디펜타에리스리톨펜타메타아크릴레이트, 디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트 또는 디펜타에리스리톨헥사메타아크릴레이트의 다가 알코올을 α,β-불포화 카르복실산에 에스테르화하여 얻어지는 화합물; 트리메틸올프로판 트리글리시딜에테르아크릴산 부가물 또는 비스페놀 A 디글리시딜에테르아크릴산 부가물의 글리시딜기를 함유하는 화합물에 아크릴산 또는 메타아크릴산을 부가하여 얻어지는 화합물; β-히드록시에틸아크릴레이트 또는 β-히드록시에틸메타아크릴레이트의 프탈산에스테르, β-히드록시에틸아크릴레이트 또는 β-히드록시에틸메타아크릴레이트의 톨루엔디이소시아네이트 부가물의 수산화기 또는 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 화합물과 다가 카르복실산과의 에스테르 화합물, 또는 폴리이소시아네이트와의 부가물; 메틸아크릴레이트, 메틸메타아크릴레이트, 에틸아크릴레이트, 에틸메타아크릴레이트, 부틸아크릴레이트, 부틸메타아크릴레이트, 2-에틸헥실아크릴레이트, 2-에틸헥실메타아크릴레이트의 아크릴산, 메타아크릴산, 알킬에스테르아크릴산 또는 알킬에스테르메타아크릴산의 알킬에스테르로 이루어지는 군으로부터 1종 이상 선택되는 것을 특징으로 하는 감광성 수지 조성물.
- 삭제
- 제 1항에 있어서,상기 실리카 입자는 평균입경이 5 내지 100 nm인 것을 특징으로 하는 감광성 수지 조성물.
- 삭제
- 제 1항에 있어서,상기 반응성 실란 단량체는 광경화성 작용기인 불포화 작용기를 갖는 실란 단량체 또는 열경화성 작용기인 에폭시 이소시아네이트 작용기를 갖는 실란 단량체인 것을 특징으로 하는 감광성 수지 조성물.
- 제 11항에 있어서,상기 광경화성 작용기인 불포화 작용기를 갖는 실란 단량체는 트리메톡시실릴프로필아크릴레이트, 트리에톡시실릴프로필아크릴레이트, 트리메톡시실릴프로필메타아크릴레이트, 트리에톡시실릴프로필메타아크릴레이트, 비닐트리메톡시실란, 비닐트리에톡시실란, 알릴트리메톡시실란 및 알릴트리에톡시실란으로 이루어진 군으로부터 1종 이상 선택되는 것을 특징으로 하는 감광성 수지 조성물.
- 제 11항에 있어서,상기 열경화성 작용기인 에폭시 이소시아네이트기를 작용기를 갖는 실란 단량체는 글리시딜옥시프로필트리메톡시실란, 글리시딜옥시프로필트리에톡시실란, 트리메톡시실릴프로필이소시아네이트 및 트리에톡시실릴프로필이소시아네이트로 이루어진 군으로부터 1종 이상 선택되는 것을 특징으로 하는 감광성 수지 조성물.
- 제 2항에 있어서,상기 반응성 작용기가 도입된 실리카 입자와 알칼리 가용성 수지의 공중합체는 상기 반응성 작용기가 도입된 실리카 입자를 상기 알칼리 가용성 수지의 제조에 사용되는 산기를 갖는 불포화 단량체 또는 이와 중합 가능한 단량체와 중합하여 공중합체로 제조한 유/무기 하이브리드 수지인 것을 특징으로 하는 감광성 수지 조성물.
- 제 1항에 있어서,상기 감광성 수지 조성물은 첨가제로 n-부틸아민, 트리에틸아민 및 트리-n-부틸호스파인으로 이루어지는 군으로부터 1종 이상 선택되는 광증감체 0.1 내지 5 중량부를 더 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 감광성 수지 조성물.
- 제 1항 내지 제 7항, 제 9항 및 제 11항 내지 제 15항 중 어느 한 항의 감광성 수지 조성물로부터 제조되는 것을 특징으로 하는 스페이서.
- 제 16항에 있어서,상기 스페이서는 감광성 수지 조성물에 포함된 실리카 입자의 반응성 작용기와 기타 수지들이 얇은 막을 형성한 후, 그 상태에서 자외선에 의하여 불포화 이중결합의 반응이 일어나 제조되는 것을 특징으로 하는 스페이서.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020060016103A KR100902994B1 (ko) | 2006-02-20 | 2006-02-20 | 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 스페이서 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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KR1020060016103A KR100902994B1 (ko) | 2006-02-20 | 2006-02-20 | 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 스페이서 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20070082973A KR20070082973A (ko) | 2007-08-23 |
KR100902994B1 true KR100902994B1 (ko) | 2009-06-15 |
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Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
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Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR100902994B1 (ko) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101187881B1 (ko) | 2010-06-04 | 2012-10-05 | 성균관대학교산학협력단 | 컬럼 스페이서용 감광성 수지 조성물 및 이를 구비한 화상표시장치 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101235254B1 (ko) * | 2009-12-31 | 2013-02-20 | 주식회사 삼양사 | 고내열성 음성 레지스트 조성물 |
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KR20220165556A (ko) * | 2021-06-08 | 2022-12-15 | 덕산네오룩스 주식회사 | 무기 입자를 포함한 광경화 조성물 |
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---|---|
KR20070082973A (ko) | 2007-08-23 |
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