KR100902994B1 - 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 스페이서 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 감광성 수지 조성물에 관한 것으로, 보다 상세하게는 알칼리 가용성 수지, 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 단량체, 광중합 개시제 및 용매를 포함하는 감광성 수지 조성물에 있어서, 반응성 작용기가 도입된 실리카 입자, 상기 반응성 작용기가 도입된 실리카 입자와 알칼리 가용성 수지의 공중합체 또는 이들의 혼합물을 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 감광성 수지 조성물에 관한 것이다.
본 발명에 따르면, 감광성 수지 조성물 내에 실리카 입자를 도입하여 스페이서 막의 기계적 특성을 향상시킴과 동시에 실리카 입자 표면에 반응성 작용기를 도입함으로써 상용성 및 결합력이 우수하고 현상성이 크게 향상된 감광성 수지 조성물 및 상기 감광성 수지 조성물을 적용함여 열공정과 조립공정에서의 소성 변형량이 적고, 표시 품질이 우수한 스페이서를 제공하는 효과가 있다.
감광성 수지, 액정표시 장치, 실리카 입자, 스페이서, 반응성 작용기

Description

감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 스페이서{PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND SPACER USING THE SAME}
본 발명은 감광성 수지 조성물에 관한 것으로, 보다 상세하게는 반응성 작용기가 도입된 실리카 입자를 포함하여 이루어져, 스페이서 막의 기계적 특성을 향상시킴과 동시에 상용성 및 결합력이 우수하고 현상성이 크게 향상된 감광성 수지 조성물에 관한 것이다.
일반적으로 스페이서(Spacer)는 액정표시 장치(Liquid Crystal Display, LCD) 제조공정에 있어서 엘씨디 패널(LCD Panel)의 액정 층의 두께를 균일하게 하기 위하여 사용하는 것으로, 액정 셀(Cell)이 갖는 특성 중 응답속도, 대비비, 시야각, 휘도 균일성 등은 액정 층의 두께와 밀접한 관련을 갖기 때문에 셀 갭(Cell Gap)을 일정하게 유지하는 것이 중요하다.
종래의 액정표시 장치 기술에 있어서는, 어레이(Array) 기판과 대향 기판 사이의 간격을 유지하기 위하여 실리카 비즈(silica beads), 플라스틱 비즈(plastic beads)등의 투명한 구상의 입자가 스페이서로 사용되어 왔다.
이 스페이서는 픽셀영역에 고르게 살포되는 것으로, 유효 픽셀 영역에 상기 스페이서가 존재한다면 빛 누출의 우려가 있고, 상기 스페이서 부근의 액정 분자의 배열이 혼란해질 수 있으며, 콘트라스트(contrast) 저하로 인하여 표시 품질이 저하되는 문제가 있다. 또한 대면적의 기판 제조 시 상기 스페이서로 균일한 기판 사이의 간격을 유지하면서 전체적으로 고르게 살포하고, 이를 유지하는 것이 어려운 문제가 있다.
이와 같은 문제를 해결하기 위하여 감광성 수지 조성물을 이용하여 포토리소그래피(photo lithography)의 방법으로 원하는 위치에 일정한 높이로 스페이서를 형성하는 방법이 제시되었다. 그러나 이러한 감광성 수지조성물은 열 공정 전후로 두께의 변화가 목격되고, 조립공정 시 고온고압 하에서 소성 변형량이 크다는 문제점이 있다.
최근에는 이러한 문제를 해결하기 위하여 감광성 수지조성물 내에 무기분체를 첨가하여 스페이서를 제조하는 방법 등이 제시되었으나, 감광성 수지 조성물과 무기분체와의 상용성의 저하와 기판과의 접착성 등에 의하여 야기되는 현상성 저하의 문제로 인하여 무기분체의 함량을 충분히 높일 수 없는 문제가 있으며, 결국 상기에 제시된 감광성 수지 조성물의 문제를 충분히 해결하지 못하는 결과를 초래하였다.
상기와 같은 종래기술의 문제점을 해결하고자, 본 발명은 감광성 수지 조성물 내에 반응성 작용기가 도입된 실리카 입자를 도입하여 스페이서 막의 기계적 특 성을 향상시킴과 동시에 상용성 및 결합력이 우수하고 현상성이 크게 향상된 감광성 수지 조성물을 제공하는 것을 목적으로 한다.
또한 본 발명은 상기 제조된 감광성 수지 조성물을 이용하여 제조한 스페이서를 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명의 상기 목적 및 기타 목적들은 하기 설명되는 본 발명에 의하여 모두 달성될 수 있다.
상기의 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은 알칼리 가용성 수지, 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 단량체, 광개시제 및 용매를 포함하는 감광성 수지 조성물에 있어서, 반응성 작용기가 도입된 실리카 입자를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 감광성 수지 조성물을 제공한다.
또한 본 발명은 상기의 감광성 수지 조성물을 이용하여 제조한 스페이서를 제공한다.
이하 본 발명을 상세하게 설명한다.
본 발명의 감광성 수지 조성물은 반응성 작용기가 도입된 실리카 입자를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.
상기 반응성 작용기가 도입된 실리카 입자는 감광성 수지 조성물에 단독으로 포함될 수 있으며, 상기 반응성 작용기가 도입된 실리카 입자와 알칼리 가용성 수지의 공중합체 또는 이들의 혼합물로 포함될 수 있다.
상기 감광성 수지 조성물은
a) 알칼리 가용성 수지 1 내지 20 중량부;
b) 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 단량체 0.5 내지 20 중량부;
c) 광중합 개시제 0.1 내지 5 중량부;
d) 반응성 작용기가 도입된 실리카 입자 5 내지 60 중량부; 및
e) 용매 10 내지 95 중량부;
를 포함하여 이루어진다.
(a) 알칼리 가용성 수지
상기 알칼리 가용성 수지는 산기를 포함하는 단량체와 상기 산기를 포함하는 단량체와 공중합 가능한 단량체의 공중합체이다.
상기 산기를 포함하는 단량체로는 아크릴산, 메타아크릴산, 크로톤산, 이타콘산, 말레인산, 퓨마린산, 모노메틸말레인산, 이소프렌술폰산, 스티렌술폰산 또는 5-노보넨-2-카르복실산 등을 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.
상기 산기를 포함하는 단량체와 공중합 가능한 단량체로는 스티렌, 클로로스티렌, α-메틸스티렌, 비닐톨루엔, 메틸아크릴레이트, 메틸메타아크릴레이트, 에틸아크릴레이트, 에틸메타아크릴레이트, 벤질메타아크릴레이트, 부틸아크릴레이트, 부틸메타아크릴레이트, t-부틸아크릴레이트, t-부틸메타아크릴레이트, 시클로헥실아크릴레이트, 시클로헥실메타아크릴레이트, 2-페녹시에틸아크릴레이트, 2-페녹시에틸메타아크릴레이트, 테트라하이드로퍼프릴아크릴레이트, 테트라하이드로퍼프릴 메타아크릴레이트, 하이드록시에틸아크릴레이트, 하이드록시에틸메타아크릴레이트, 2-하이드록시프로필아크릴레이트, 2-하이드록시프로필메타아크릴레이트, 2-하이드록시-3-클로로프로필아크릴레이트, 2-하이드록시-3-클로로프로필메타아크릴레이트, 4-하이드록시부틸아크릴레이트, 4-하이드록시부틸메타아크릴레이트, 아실옥틸옥시-2-하이드록시프로필아크릴레이트, 아실옥틸옥시-2-하이드록시프로필메타아크릴레이트, 에틸헥실아크릴레이트, 에틸헥실메타아크릴레이트, 2-메톡시에틸아크릴레이트, 2-메톡시에틸메타아크릴레이트, 3-메톡시부틸아크릴레이트, 3-메톡시부틸메타아크릴레이트, 에톡시디에틸렌글리콜아크릴레이트, 에톡시디에틸렌글리콜메타아크릴레이트, 메톡시트리에틸렌글리콜아크릴레이트, 메톡시트리에틸렌글리콜메타아크릴레이트, 메톡시트리프로필렌글리콜아크릴레이트, 메톡시트리프로필렌글리콜메타아크릴레이트, 메톡시폴리에틸렌글리콜아크릴레이트, 메톡시폴리에틸렌글리콜메타아크릴레이트, 페녹시디에틸렌글리콜아크릴레이트, 페녹시디에틸렌글리콜메타아크릴레이트, p-노닐페녹시폴리에틸렌글리콜아크릴레이트, p-노닐페녹시폴리에틸렌글리콜메타아크릴레이트, p-노닐페녹시폴리프로필렌글리콜아크릴레이트, p-노닐페녹시폴리프로필렌글리콜메타아크릴레이트, 테트라플루오로프로필아크릴레이트, 1,1,1,3,3,3-헥사플루오로이소프로필아크릴레이트, 테트라플루오로프로필아크릴레이트, 1,1,1,3,3,3-헥사플루오로이소프로필메타아크릴레이트, 옥타플루오로펜틸아크릴레이트, 옥타플루오로펜틸메타아크릴레이트, 헵타데카플루오로프로필아크릴레이트, 헵타데카플루오로프로필메타아크릴레이트, 트리브로모페닐아크릴레이트, 트리브로모페닐메타아크릴레이트, 메틸α-하이드록시메틸아크릴레이트, 에틸α-하이 드록시메틸아크릴레이트, 프로필α-하이드록시메틸아크릴레이트, 부틸α-하이드록시메틸아크릴레이트, 글리시딜아크릴레이트, 글리시딜메타아크릴레이트 또는 N-비닐-2-피롤리돈 등을 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.
상기 알칼리 가용성 수지는 에폭시 또는 하이드록시기를 가지는 에틸렌성 불포화 화합물을 부가시킨 고분자 등을 더 포함할 수 있으며, 이것들로 한정되는 것은 아니다.
상기 알칼리 가용성 수지는 감광성 수지 조성물에 1 내지 20 중량부로 포함되는 것이 바람직하다. 상기 함량으로 포함되는 경우에는 현상공정에서 잔사가 남지 않고, 용액의 안정성이 우수하여 현상성이 향상되는 효과가 있다.
b) 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 단량체
상기 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 단량체는 에틸렌글리콜디아크릴레이트, 에틸렌글리콜디메타아크릴레이트, 에틸렌기의 수가 2 내지 14인 폴리에틸렌글리콜 디아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜 디메타아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리메타아크릴레이트, 펜타에리스리톨트리아크릴레이트, 펜타에리스리톨트리메타아크릴레이트, 펜타에리스리톨테트라아크릴레이트, 펜타에리스리톨테트라메타아크릴레이트, 프로필렌기의 수가 2 내지 14인 프로필렌글리콜디아크릴레이트, 프로필렌글리콜디메타아크릴레이트, 디펜타에리스리톨펜타아크릴레이트, 디펜타에리스리톨펜타메타아크릴레이트, 디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트 디펜타에리스리톨헥사메타아크릴레이트 등의 다가 알코올을 α,β-불포화 카르복실산에 에스테르화하여 얻어지는 화합물; 트리메틸올프로판 트리글리시딜에 테르아크릴산 부가물 또는 비스페놀 A 디글리시딜에테르아크릴산 부가물 등의 글리시딜기를 함유하는 화합물에 아크릴산 또는 메타아크릴산을 부가하여 얻어지는 화합물; β-히드록시에틸아크릴레이트 또는 β-히드록시에틸메타아크릴레이트의 프탈산에스테르, β-히드록시에틸아크릴레이트 또는 β-히드록시에틸메타아크릴레이트의 톨루엔디이소시아네이트의 부가물 등의 수산화기 또는 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 화합물과 다가 카르복실산과의 에스테르 화합물, 또는 폴리이소시아네이트와의 부가물; 메틸아크릴레이트, 메틸메타아크릴레이트, 에틸아크릴레이트, 에틸메타아크릴레이트, 부틸아크릴레이트, 부틸메타아크릴레이트, 2-에틸헥실아크릴레이트, 2-에틸헥실메타아크릴레이트 등의 아크릴산, 메타아크릴산, 알킬에스테르아크릴산, 알킬에스테르메타아크릴산, 또는 알킬에스테르 등을 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.
상기 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 단량체는 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 단관능의 아크릴레이트계 화합물, 스티렌 또는 비닐톨루엔 등을 혼합하여 사용 할 수 있으며, 이것들로 한정되는 것은 아니다.
상기 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 단량체는 감광성 수지 조성물에 0.5 내지 20 중량부로 포함되는 것이 바람직하다. 상기 함량으로 포함되는 경우에는 현상공정에서 패턴 부분이 씻겨나가는 문제점이 없으며, 코팅성이 우수하여 막의 균일도가 향상되는 효과가 있다.
c) 광중합 개시제
상기 광중합 개시제는 그 종류에 특별히 제한은 없으며, 아세토페논류, 벤조 페논류, 미히라(Michler) 벤조일벤조에이트, α-아밀록심에스테르, 또는 티옥산톤류 등을 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.
상기 광중합 개시제는 감광성 수지 조성물에 0.1 내지 5 중량부로 포함되는 것이 바람직하다. 상기 함량으로 포함되는 경우에는 노광공정에서 패턴의 가교가 충분히 일어나며, 코팅성이 우수하여 막의 균일도가 향상되는 효과가 있다.
d) 반응성 작용기가 도입된 실리카 입자
① 반응성 작용기가 도입된 실리카 입자
상기 반응성 작용기가 도입된 실리카 입자는 통상의 실리카 입자 및 감광성 수지 조성물과 반응 가능한 작용기를 갖는 실란 단량체를 반응시켜 제조한다.
상기 반응성 작용기가 도입된 실리카 입자는 하기의 방법으로 제조할 수 있다. 상기 방법은 기계적 강도가 높은 실리카 입자를 먼저 합성한 후 일정량의 반응성 작용기를 실리카 표면에 도입하는 방법은 실리카 입자가 가지는 장점을 유지하면서 다른 반응성 수지와의 상용성을 높이는데 유용한 방법이다. 분자량이 수백 내지 수천인 실록산 올리고머에 반응성 작용기를 갖는 공중합체를 반응시키고 입자의 크기를 수십 내지 수백 nm로 키우는 방법이나 반응성 작용기 실란, 반응성 유기물, 실리카 제조용 실란을 혼합하여 입자를 제조하는 방법이 있으나, 실리카 입자 자체의 밀도가 떨어져 기계적 강도가 저하될 수 있고 반응성 작용기가 실리카 표면에만 존재하지 않아 반응 효율이 저하되는 문제점이 있다.
상기 반응성 작용기가 도입된 실리카 입자의 제조 시 실리카 입자는 시판되는 제품(Dupont 사의 콜로이달 실리카 시리즈)을 사용하거나 통상의 방법과 같이 실란 원재료인 물유리, 알콕시 실란 등을 염기 촉매를 사용한 수용액 조건에서 반응시키는 방법으로 제조할 수 있다. 상기 실리카 입자가 분산된 용액에 반응기를 가지는 실란 단량체를 첨가하여 실리카 입자 표면에 잔존하는 하이드록시기와의 축합반응을 진행하여 입자의 표면을 반응기로 처리할 수 있다. 이를 하기 반응식 1에 나타내었다.
[반응식 1]
Figure 112006012182318-pat00001
상기 축합반응 후 필요에 따라 용매 치환 등의 방법을 사용하여 다른 용매로 치환하고 반응시키는 방법을 사용할 수 있다.
상기 용매로는 메탄올, 에탄올, n-프로파놀, 이소프로판올, 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜 등의 알코올류; 아세톤, 메틸에틸케톤, 시클로헥사논, n-메틸-2-피롤리돈 등의 케톤류; 톨루엔, 크실렌, 테트라메틸벤젠 등의 방향족 탄화수소류; 셀로솔브, 메틸셀로솔브, 에틸셀로솔브, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜에틸에테르, 디프로필렌글리콜모노메틸에테르, 디프로필렌글리콜에틸에테르 등의 글리콜에테르류; 에틸아세테이트, 부틸아세테이트, 메톡시부틸아세테이트, 셀로솔브아세테이트, 에틸셀로솔브아세테이트, 부틸셀로솔브아세테이트, 프로필렌글 리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜에틸에테르아세테이트등의 아세테이트류; 등을 사용할 수 있다.
상기 입자의 표면을 반응기로 처리하는 반응 시 촉매가 더 사용될 수 있다.
상기 촉매는 산 촉매라면 크게 제한은 없으며, 염산, 질산, 황산, 인산 등의 무기산; 포름산, 아세트산 등의 일산(monoacid); 옥살산, 말론산, 숙신산 등의 이산(diacid); 등을 사용할 수 있다.
상기 실리카 입자의 표면 처리 반응 시 실리카 입자의 표면에 반응성 하이드록시기가 충분치 않을 경우에는 물을 더 사용할 수 있다.
상기 물은 사용하는 양에 크게 제한은 없지만, 표면 처리 반응하는 실란 단량체의 중량에 대하여 0.1 내지 1 중량부로 사용할 수 있다.
상기 반응 종료 후 사용되고 남은 물은 제거할 수 있다.
상기 물을 제거하는 방법으로는 통상의 물 제거 방법이 적용될 수 있으며, 감압증류기(Rotary Evaporation)를 이용하는 방법 또는 한외여과막(Ultrafiltration)을 이용하는 방법 등을 사용할 수 있다.
상기 실리카 입자는 통상의 콜로이달 실리카(Colloidal Silica) 입자로써 평균입경이 5 내지 100 nm인 것이 바람직하며, 보다 바람직하게는 5 내지 50 nm인 것이다. 상기 평균입경인 경우에는 감광성 수지 조성물과의 상용성이 우수하여 현상성이 향상될 뿐만 아니라, 형성된 막의 투명성이 우수하고, 실리카 입자의 분산성이 우수하며, 비용 측면에서도 경제적인 효과가 있다.
상기 콜로이달 실리카 입자는 pH 7 이하의 산성조건에서 안정한 상태로 존 재하는 것이 바람직하다. 상기 실리카 입자가 pH 7 이하에서 불안정하여 pH 7 초과하여 유지해야 하는 경우에는 통상적인 감광성 수지 조성물 내의 아크릴산(acrylic acid)과 반응하여 염을 형성하며 감광성 수지 조성물의 산가를 감소시키고, 현성상을 저하시키는 문제점이 있다.
상기 실란 단량체는 실리카 표면을 처리하기 위한 것으로, 광경화성 작용기를 갖는 실란 단량체와 열경화성 작용기를 갖는 실란 단량체를 사용할 수 있다.
상기 광경화성 작용기를 갖는 실란 단량체는 불포화 작용기를 갖는 실란 단량체이면 특별이 한정되지는 않으며, 트리메톡시실릴프로필아크릴레이트, 트리에톡시실릴프로필아크릴레이트, 트리메톡시실릴프로필메타아크릴레이트, 트리에톡시실릴프로필메타아크릴레이트, 비닐트리메톡시실란, 비닐트리에톡시실란, 알릴트리메톡시실란 또는 알릴트리에톡시실란 등을 사용할 수 있다.
상기 열경화성 작용기를 갖는 실란 단량체는 에폭시 이소시아네이트 작용기를 갖는 단량체로, 글리시딜옥시프로필트리메톡시실란, 글리시딜옥시프로필트리에톡시실란, 트리메톡시실릴프로필이소시아네이트 또는 트리에톡시실릴프로필이소시아네이트 등을 사용할 수 있으며, 이것들로 한정되는 것은 아니다.
상기 반응성 실란 단량체는 실리카 입자의 Si 원자 1 몰에 대하여 0.01 내지 0.2 몰로 사용되는 것이 바람직하다. 상기 함량으로 사용하는 경우에는 관능기가 충분하여 수지와의 반응성 및 현상성이 우수하며, 기계적 물성을 향상시키는 효과가 있다.
상기 반응성 실란 단량체는 실리카 입자의 표면 처리 반응 시 반응하지 않고 일부 미반응물로 존재 할 수 있다. 상기 미반응물 실란 단량체 화합물이 과량 존재 할 경우 현상성, 기계적 특성 등이 저하되는 문제점이 발생할 수 있어 한외여과막을 이용하여 제거하는 것이 바람직하다.
상기 반응성 작용기가 도입된 실리카 입자는 감광성 수지 조성물에 5 내지 60 중량부로 포함되는 것이 바람직하며, 보다 바람직하게는 10 내지 50 중량부이다. 상기 함량으로 포함되는 경우에는 현상성이 우수하며, 기계적 물성이 우수한 효과가 있다.
상기 반응성 작용기가 도입된 실리카 입자는 감광성 수지 조성물에 단독으로 포함되어 스페이서 제조 공정 중에 감광성 수지 조성물 내의 수지와 반응시킬 수 있으며, 또한 스페이서 제조 공정 전에 미리 감광성 수지 조성물의 반응성 수지인 알칼리 가용성 수지와 중합하여 공중합체로 사용할 수 있다.
② 반응성 작용기가 도입된 실리카 입자와 알칼리 가용성 수지의 공중합체
상기 ① 반응성 작용기가 도입된 실리카 입자는 감광성 수지 조성물을 구성하는 성분인 알칼리 가용성 수지와 중합하여 공중합체로 감광성 수지 조성물에 포함될 수 있다.
상기 반응성 작용기가 도입된 실리카 입자와 알칼리 가용성 수지의 공중합체는 상기 ① 반응성 작용기가 도입된 실리카 입자를 산기를 갖는 불포화 단량체 또는 이와 중합 가능한 단량체의 공중합체인 알칼리 가용성 수지와 공중합하여 유/무기 하이브리드 수지로 제조할 수 있으며, 이를 하기 반응식 2에 나타내었다.
[반응식 2]
Figure 112006012182318-pat00002
상기 반응성 작용기가 도입된 실리카 입자와 알칼리 가용성 수지의 공중합체는 감광성 수지 조성물에 반응성 작용기가 도입된 실리카 입자의 함량이 5 내지 60 중량부, 보다 바람직하게는 10 내지 50 중량부가 되도록 포함되는 것이 바람직하다. 이때, 감광성 수지 조성물을 구성하는 성분인 알칼리 가용성 수지 및 용매는 상기 반응성 작용기가 도입된 실리카 입자와 알칼리 가용성 수지의 공중합체에 포함된 함량을 제외한 잔류 범위 내의 함량으로 감광성 수지 조성물에 포함될 수 있다.
③ 반응성 작용기가 도입된 실리카 입자 및 반응성 작용기가 도입된 실리카 입자와 알칼리 가용성 수지의 공중합체의 혼합물
상기 ① 반응성 작용기가 도입된 실리카 입자는 상기 제조된 ② 반응성 작용기가 도입된 실리카 입자와 알칼리 가용성 수지의 공중합체와 혼합물로 감광성 수지 조성물에 포함될 수 있다.
상기 혼합물은 감광성 수지 조성물에 반응성 작용기가 도입된 실리카 입자의 함량이 5 내지 60 중량부, 보다 바람직하게는 10 내지 50 중량부가 되도록 포함되는 것이 바람직하다. 이때, 감광성 수지 조성물을 구성하는 성분인 알칼리 가용성 수지 및 용매는 상기 혼합물에 포함된 함량을 제외한 잔류 범위 내의 함량으로 감광성 수지 조성물에 포함될 수 있다.
e) 용매
상기 용매는 종류에 큰 제한은 없으며, 메탄올, 에탄올, n-프로파놀, 이소프로판올, 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜 등의 알코올류; 아세톤, 메틸에틸케톤, 시클로헥사논, n-메틸-2-피롤리돈 등의 케톤류; 톨루엔, 크실렌, 테트라메틸벤젠 등의 방향족 탄화수소류; 셀로솔브, 메틸셀로솔브, 에틸셀로솔브, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜에틸에테르, 디프로필렌글리콜모노메틸에테르, 디프로필렌글리콜에틸에테르 등의 글리콜에테르류; 에틸아세테이트, 부틸아세테이트, 셀로솔브아세테이트, 에틸셀로솔브아세테이트, 부틸셀로솔브아세테이트, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜에틸에테르아세테이트 등의 아세테이트류; 등을 사용할 수 있다.
상기 용매는 감광성 수지 조성물에 10 내지 95 중량부로 포함되는 것이 바람직하다.
본 발명의 감광성 수지 조성물은 첨가제로 광증감제 0.1 내지 5 중량부를 더 포함할 수 있다.
상기 광증감제로는 n-부틸아민, 트리에틸아민 또는 트리-n-부틸호스파인 등을 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.
본 발명의 반응성 작용기가 도입된 실리카 입자를 패턴 스페이서에 도입하는 방법은 반응성 작용기가 도입된 실리카 입자를 베이크(bake) 공정 중에 감광성 수 지 조성물과 반응시키는 방법과 반응성 작용기가 도입된 실리카 입자를 반응성 수지와 중합하여 가교결합된 공중합체를 사용하는 방법이다.
본 발명의 스페이서는 상기 반응성 작용기가 도입된 실리카 입자를 포함하는 감광성 수지 조성물을 도포하여 건조하고, 포토 마스크를 이용하여 노광을 행하고 현상하여 스페이서 패턴을 형성한 후, 열처리하여 제조한다.
상기 스페이서는 제조 시 감광성 수지 조성물에 포함된 실리카 입자의 반응성 작용기와 기타의 수지들이 얇은 막을 형성한 후, 그 상태에서 자외선에 의하여 불포화 이중결합의 반응이 일어나는 것을 특징으로 한다.
상기 감광성 수지 조성물을 도포하는 방법으로는 롤 코팅법(roll coating), 커튼 코팅법(curtain coating) 또는 스핀 코팅법(spin coating) 등을 사용할 수 있다.
상기 감광성 수지 조성물을 경화시키기 위한 광원으로는 파장이 250 내지 450 ㎚인 광을 발산하는 수은증기 아크(Arc), 탄소 아크 또는 크세논(Xe) 아크 등을 사용할 수 있다.
이하, 본 발명의 이해를 돕기 위하여 바람직한 실시예를 제시하나, 하기 실시예는 본 발명을 예시하는 것일 뿐 본 발명의 범위가 하기 실시예 에 한정되는 것은 아니다.
[실시예]
실시예 1
<반응성 작용기가 도입된 실리카 입자(A) 제조>
1 g의 수산화나트륨(NaOH)이 녹아있는 1.3 L의 증류수를 80 ℃로 가열한 후, 이 온도를 유지하면서 161 g의 테트라에톡시실란(TEOS)을 천천히 가하였다. 용액의 온도를 90 ℃로 올려주고, 이 온도에서 1 시간 반응하여 수용액에 분산된 10 ㎚ 크기의 콜로이달 실리카(colloidal silica) 입자를 제조하였다. 반응이 종료된 후, 용액의 온도를 상온으로 낮추고, 양이온 교환수지(SK-1BH)를 이용한 이온교환을 통하여 나트륨 이온을 제거하여 1530 g의 콜로이달 실리카 용액을 수득하였다. 상기 용액의 pH는 3.2 였다.
상기 콜로이달 실리카 용액을 한외여과막을 통과시켜 과량의 물을 제거하여 용액의 양을 250 g으로 낮추고, 9.06 g의 트리메톡시실릴프로필아크릴레이트를 첨가하여 상온에서 20 시간 교반하여 에틸렌 불포화성 작용기가 도입된 콜로이달 실리카 입자를 제조하였다.
상기 작용기가 도입된 콜로이달 실리카 입자 수용액을 한외여과막을 이용하여 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트로 용매 치환하여 30 중량%의 작용기가 도입된 실리카 입자(A)가 30 % 함유된 용액 219 g을 수득하였다. 상기 용액은 투명하고 안정하였으며, 별다른 후처리 없이 감광성 수지 조성물의 제조에 사용하였다.
<감광성 수지 조성물(1)의 제조>
알칼리 가용성 수지로 벤질메타아크릴레이트-스티렌-메타아크릴산의 공중합체 10 g, 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 단량체로 디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트 8 g, 광중합 개시제로 Irgacure369(Ciba 제조) 2 g, 상기 제조한 작용기가 도입된 실리카 입자가 30 % 함유된 용액 30 g 및 용매로 메톡시부틸아세테이트-프로 필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트-디프로필렌글리콜모노메틸에테르의 혼합 용매 71 g을 사용하여 감광성 수지 조성물(1)을 제조하였다.
<스페이서 제조>
상기 제조된 감광성 수지 조성물(1)을 유리 기판상에 스핀 코팅법(spin coating)에 의하여 도포하고, 100 ℃ 핫플래이트(hot plate)에서 90 초간 건조하여 용매를 증발시켰다. 상기 건조된 필름을 포토 마스크(photo mask)를 이용하여 200 mJ/㎠ 의 노광량으로 노광을 행하고, 현상하여 스페이서 패턴을 형성한 후, 220 ℃에서 30 분간 열처리를 하여 제조하였다.
상기 형성된 스페이서 패턴은 잔사가 남지 않았고, 강도는 0.47 GPa로 우수하였다.
실시예 2
<반응성 작용기가 도입된 실리카 입자(B) 제조>
상기 실시예 1에서 28 중량%의 수산화암모늄(NH4OH) 수용액 3.14 g을 사용하여 형성시킨 12 ㎚ 크기의 콜로이달 실리카(colloidal silica) 입자를 65 %의 질산수용액 5.7 g으로 중화하고 한외여과막을 이용하여 과량의 물과 부산물을 제거하여 pH가 2.6인 250 g의 콜로이달 실리카 입자 수용액을 수득하였으며, 상기 수용액에 9.6 g의 트리메톡시실릴프로필메타아크릴레이트를 첨가하여 작용기가 도입된 실리카 입자(B)가 30 % 함유된 용액 221 g을 수득한 것을 제외하고는 상기 실시예 1과 동일하게 실시하였다.
<감광성 수지 조성물(2)의 제조>
상기 실시예 1에서 벤질메타아크릴레이트-스티렌-메타아크릴산의 공중합체 7.2 g, 디펜타에스리톨헥사아크릴레이트 6.8 g, Irgacure369(Ciba 제조) 2 g, 상기 제조한 작용기가 도입된 실리카 입자(B) 30 %가 함유된 용액 46.7 g 및 메톡시부틸아세테이트-프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트-디프로필렌글리콜모노메틸에테르의 혼합 용매 70 g을 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 실시하였다.
<스페이서 제조>
상기 실시예 1에서 상기 감광성 수지 조성물(2)를 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 실시하였다.
상기 형성된 스페이서 패턴은 잔사가 남지 않았고, 강도는 0.60 GPa로 우수하였다.
실시예 3
<작용기가 도입된 실리카 함유 알칼리 가용성 수지 용액(C) 제조>
상기 실시예 2에서 제조한 에틸렌 불포화성 작용기가 도입된 실리카 입자(B) 30 %가 함유된 용액 75 g, 벤질메타아크릴레이트 11 g, 스티렌 5.5 g, 메타아크릴산 11 g, 머캅토프로피온산(3-mercaptopropionic acid) 1 g, 아조비스이소부티로니트릴(azobis(isobutyronitrile)) 1.3 g 및 메톡시부틸아세테이트-프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트-디프로필렌글리콜모노메틸에테르의 혼합 용매 147.7 g을 60 ℃ 온도에서 12 시간 공중합하여 알칼리 가용성 수지 용액(C)를 제조하였다.
<감광성 수지 조성물(3) 제조>
상기 실시예 1에서 상기 제조한 반응성 작용기가 도입된 실리카를 포함한 알칼리 가용성 수지 용액(C) 80 g, 디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트 13.5 g, Irgacure369(Ciba 제조) 2 g 및 메톡시부틸아세테이트-프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트-디프로필렌글리콜모노메틸에테르의 혼합 용매 30 g을 사용한 것을 제외하고는 상기 실시예 1과 동일하게 실시하였다.
<스페이서 제조>
상기 실시예 1에서 상기 감광성 수지 조성물(3)을 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 실시하였다.
상기 형성된 스페이서 패턴은 잔사가 남지 않았고, 강도는 0.43 GPa로 우수하였다.
실시예 4
<감광성 수지 조성물(4) 제조>
상기 실시예 1에서 상기 실시예 3에서 제조한 알칼리 가용성 수지 용액(c) 65 g, 디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트 11 g, Irgacure369(Ciba 제조) 2 g, 상기 실시예 1에서 제조한 작용기가 도입된 실리카 입자(A) 30 %가 함유된 용액 17.3 g 및 메톡시부틸아세테이트-프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트-디프로필렌글리콜모노메틸에테르의 혼합 용매 30 g을 사용한 것을 제외하고는 상기 실시예 1과 동일하게 실시하였다.
<스페이서 제조>
상기 실시예 1에서 상기 감광성 수지 조성물(4)를 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 실시하였다.
상기 형성된 스페이서 패턴은 잔사가 남지 않았고, 강도는 0.50 GPa로 우수하였다.
비교예 1
<감광성 수지 조성물(5) 제조>
상기 실시예 1에서 작용기가 도입된 실리카 입자를 사용하지 않고, 벤질메타아크릴레이트-스티렌-메타아크릴산의 공중합체 14 g, 디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트 13 g, Irgacure369(Ciba 제조) 2 g 및 용매로 메톡시부틸아세테이트-프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트-디프로필렌글리콜모노메틸에테르의 혼합 용매 71 g을 사용한 것을 제외하고는 상기 실시예 1과 동일하게 실시하였다.
<스페이서 제조>
상기 실시예 1에서 상기 감광성 수지 조성물(5)를 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 실시하였다.
상기 형성된 스페이서 패턴은 잔사가 남지 않았고, 강도는 0.36 GPa로 취약하였다.
비교예 2
<작용기가 도입되지 않은 실리카 입자(D) 제조>
상기 실시예 1에서 실리카 입자 제조 시 트리메톡시실릴프로필아크릴레이트를 첨가하지 않은 콜로이달 실리카 입자(D) 30 %가 함유된 용액을 제조한 것을 제 외하고는 상기 실시예 1과 동일하게 실시하였다.
<감광성 수지 조성물(6) 제조>
상기 실시예 1에서 벤질메타아크릴레이트-스티렌-메타아크릴산의 공중합체 10 g, 디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트 8 g, Irgacure369(Ciba 제조) 2 g, 상기 제조한 콜로이달 실리카 입자(D) 30 %가 함유된 용액 30 g 및 메톡시부틸아세테이트-프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트-디프로필렌글리콜모노메틸에테르의 혼합 용매 71 g을 사용한 것을 제외하고는 상기 실시예 1과 동일하게 실시하였다.
<스페이서 제조>
상기 실시예 1에서 상기 감광성 수지 조성물(6)을 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 실시하였다.
상기 형성된 스페이서 패턴은 부분적으로 형성이 불량하였고, 강도는 0.47 GPa이었다.
상기 실시예 및 비교예에 따라 제조한 스페이서 패턴을 하기의 방법으로 물성을 측정하고, 그 결과를 하기 표 1에 나타내었다.
* 잔사 유무 - 유리 기판상의 스페이서 패턴을 5cm×5cm 크기로 하여 광학 현미경으로 관찰하여 확인하였다.
* 강도 - MTS사의 나도인덴테이션을 사용하여 측정하였다.
잔사 유무 강도
실시예 1 무 0.47 GPa
실시예 2 무 0.60 GPa
실시예 3 무 0.43 GPa
실시예 4 무 0.50 GPa
비교예 1 무 0.36 GPa
비교예 2 유 0.47 GPa
상기에서 살펴본 바와 같이, 본 발명의 감광성 수지 조성물은 스페이서에 적용함에 있어 감광성 수지 조성물 내에 실리카 입자를 도입하여 스페이서 막의 기계적 특성을 향상시킴과 동시에, 실리카 입자 표면에 반응성 작용기를 도입함으로써 감광성 수지 조성물과의 상용성과 결합력을 높이고 현상성을 크게 향상시킴으로써 열공정과 조립공정에서의 소성 변형량이 적고, 표시 품질이 우수한 스페이서를 제공하는 효과가 있다.
이상에서 본 발명의 기재된 구체예를 중심으로 상세히 설명하였지만, 본 발명의 범주 및 기술사상 범위 내에서 다양한 변경 및 수정이 가능함은 당업자에게 있어서 명백한 것이며, 이러한 변형 및 수정이 첨부된 특허청구범위에 속하는 것도 당연한 것이다.

Claims (17)

  1. 알칼리 가용성 수지, 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 단량체, 광중합 개시제 및 용매를 포함하는 감광성 수지 조성물에 있어서,
    반응성 작용기가 도입된 실리카 입자를 포함하여 이루어지되,
    상기 반응성 작용기가 도입된 실리카 입자는 콜로이달 실리카 용액에 반응성 실란 단량체를 첨가하여 콜로이달 실리카 입자 표면에 잔존하는 하이드록시기와 반응성 실란 단량체를 축합반응시켜 제조하고,
    상기 반응성 실란 단량체는 상기 콜로이달 실리카의 Si 원자 1 몰에 대하여 0.01 내지 0.2 몰인 것을 특징으로 하는
    감광성 수지 조성물.
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 반응성 작용기가 도입된 실리카 입자는 단독, 상기 반응성 작용기가 도입된 실리카 입자와 알칼리 가용성 수지의 공중합체 또는 이들의 혼합물로 포함되는 것을 특징으로 하는 감광성 수지 조성물.
  3. 제 1항에 있어서,
    상기 감광성 수지 조성물 100 중량부를 기준으로
    a) 알칼리 가용성 수지 1 내지 20 중량부;
    b) 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 단량체 0.5 내지 20 중량부;
    c) 광중합 개시제 0.1 내지 5 중량부;
    d) 반응성 작용기가 도입된 실리카 입자 5 내지 60 중량부; 및
    e) 용매 10 내지 95 중량부;
    를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 감광성 수지 조성물.
  4. 제 1항에 있어서,
    상기 알칼리 가용성 수지는 산기를 포함하는 단량체와 상기 산기를 포함하는 단량체와 공중합 가능한 단량체의 공중합체인 것을 특징으로 하는 감광성 수지 조성물.
  5. 제 4항에 있어서,
    상기 산기를 포함하는 단량체는 아크릴산, 메타아크릴산, 크로톤산, 이타콘산, 말레인산, 퓨마린산, 모노메틸말레인산, 이소프렌술폰산, 스티렌술폰산 및 5-노보넨-2-카르복실산으로 이루어지는 군으로부터 1종 이상 선택되는 것을 특징으로 하는 감광성 수지 조성물.
  6. 제 4항에 있어서,
    상기 산기를 포함하는 단량체와 공중합 가능한 단량체는 스티렌, 클로로스티렌, α-메틸스티렌, 비닐톨루엔, 메틸아크릴레이트, 메틸메타아크릴레이트, 에틸아크릴레이트, 에틸메타아크릴레이트, 벤질메타아크릴레이트, 부틸아크릴레이트, 부틸메타아크릴레이트, t-부틸아크릴레이트, t-부틸메타아크릴레이트, 시클로헥실아크릴레이트, 시클로헥실메타아크릴레이트, 2-페녹시에틸아크릴레이트, 2-페녹시에틸메타아크릴레이트, 테트라하이드로퍼프릴아크릴레이트, 테트라하이드로퍼프릴메타아크릴레이트, 하이드록시에틸아크릴레이트, 하이드록시에틸메타아크릴레이트, 2-하이드록시프로필아크릴레이트, 2-하이드록시프로필메타아크릴레이트, 2-하이드록시-3-클로로프로필아크릴레이트, 2-하이드록시-3-클로로프로필메타아크릴레이트, 4-하이드록시부틸아크릴레이트, 4-하이드록시부틸메타아크릴레이트, 아실옥틸옥시-2-하이드록시프로필아크릴레이트, 아실옥틸옥시-2-하이드록시프로필메타아크릴레이트, 에틸헥실아크릴레이트, 에틸헥실메타아크릴레이트, 2-메톡시에틸아크릴레이트, 2-메톡시에틸메타아크릴레이트, 3-메톡시부틸아크릴레이트, 3-메톡시부틸메타아크릴레이트, 에톡시디에틸렌글리콜아크릴레이트, 에톡시디에틸렌글리콜메타아크릴레이트, 메톡시트리에틸렌글리콜아크릴레이트, 메톡시트리에틸렌글리콜메타아크릴레이트, 메톡시트리프로필렌글리콜아크릴레이트, 메톡시트리프로필렌글리콜메타아크릴레이트, 메톡시폴리에틸렌글리콜아크릴레이트, 메톡시폴리에틸렌글리콜메타아크릴레이트, 페녹시디에틸렌글리콜아크릴레이트, 페녹시디에틸렌글리콜메타아크릴레이트, p-노닐페녹시폴리에틸렌글리콜아크릴레이트, p-노닐페녹시폴리에틸렌글리콜메타아크릴레이트, p-노닐페녹시폴리프로필렌글리콜아크릴레이트, p-노닐페녹시폴리프로필렌글리콜메타아크릴레이트, 테트라플루오로프로필아크릴레이트, 1,1,1,3,3,3-헥사플루오로이소프로필아크릴레이트, 테트라플루오로프로필아크릴레이트, 1,1,1,3,3,3-헥사플루오로이소프로필메타아크릴레이트, 옥타플루오로펜틸아크릴레이트, 옥타플루오로펜틸메타아크릴레이트, 헵타데카플루오로프로필아크릴레이트, 헵타데카플루오로프로필메타아크릴레이트, 트리브로모페닐아크릴레이트, 트리브로모페닐메타아크릴레이트, 메틸α-하이드록시메틸아크릴레이트, 에틸α-하이드록시메틸아크릴레이트, 프로필α-하이드록시메틸아크릴레이트, 부틸α-하이드록 시메틸아크릴레이트, 글리시딜아크릴레이트, 글리시딜메타아크릴레이트 및 N-비닐-2-피롤리돈으로 이루어지는 군으로부터 1종 이상 선택되는 것을 특징으로 하는 감광성 수지 조성물.
  7. 제 1항에 있어서,
    상기 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 단량체는 에틸렌글리콜디아크릴레이트, 에틸렌글리콜디메타아크릴레이트, 에틸렌기의 수가 2 내지 14인 폴리에틸렌글리콜 디아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜 디메타아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리메타아크릴레이트, 펜타에리스리톨트리아크릴레이트, 펜타에리스리톨트리메타아크릴레이트, 펜타에리스리톨테트라아크릴레이트, 펜타에리스리톨테트라메타아크릴레이트, 프로필렌기의 수가 2 내지 14인 프로필렌글리콜디아크릴레이트, 프로필렌글리콜디메타아크릴레이트, 디펜타에리스리톨펜타아크릴레이트, 디펜타에리스리톨펜타메타아크릴레이트, 디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트 또는 디펜타에리스리톨헥사메타아크릴레이트의 다가 알코올을 α,β-불포화 카르복실산에 에스테르화하여 얻어지는 화합물; 트리메틸올프로판 트리글리시딜에테르아크릴산 부가물 또는 비스페놀 A 디글리시딜에테르아크릴산 부가물의 글리시딜기를 함유하는 화합물에 아크릴산 또는 메타아크릴산을 부가하여 얻어지는 화합물; β-히드록시에틸아크릴레이트 또는 β-히드록시에틸메타아크릴레이트의 프탈산에스테르, β-히드록시에틸아크릴레이트 또는 β-히드록시에틸메타아크릴레이트의 톨루엔디이소시아네이트 부가물의 수산화기 또는 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 화합물과 다가 카르복실산과의 에스테르 화합물, 또는 폴리이소시아네이트와의 부가물; 메틸아크릴레이트, 메틸메타아크릴레이트, 에틸아크릴레이트, 에틸메타아크릴레이트, 부틸아크릴레이트, 부틸메타아크릴레이트, 2-에틸헥실아크릴레이트, 2-에틸헥실메타아크릴레이트의 아크릴산, 메타아크릴산, 알킬에스테르아크릴산 또는 알킬에스테르메타아크릴산의 알킬에스테르로 이루어지는 군으로부터 1종 이상 선택되는 것을 특징으로 하는 감광성 수지 조성물.
  8. 삭제
  9. 제 1항에 있어서,
    상기 실리카 입자는 평균입경이 5 내지 100 nm인 것을 특징으로 하는 감광성 수지 조성물.
  10. 삭제
  11. 제 1항에 있어서,
    상기 반응성 실란 단량체는 광경화성 작용기인 불포화 작용기를 갖는 실란 단량체 또는 열경화성 작용기인 에폭시 이소시아네이트 작용기를 갖는 실란 단량체인 것을 특징으로 하는 감광성 수지 조성물.
  12. 제 11항에 있어서,
    상기 광경화성 작용기인 불포화 작용기를 갖는 실란 단량체는 트리메톡시실릴프로필아크릴레이트, 트리에톡시실릴프로필아크릴레이트, 트리메톡시실릴프로필메타아크릴레이트, 트리에톡시실릴프로필메타아크릴레이트, 비닐트리메톡시실란, 비닐트리에톡시실란, 알릴트리메톡시실란 및 알릴트리에톡시실란으로 이루어진 군으로부터 1종 이상 선택되는 것을 특징으로 하는 감광성 수지 조성물.
  13. 제 11항에 있어서,
    상기 열경화성 작용기인 에폭시 이소시아네이트기를 작용기를 갖는 실란 단량체는 글리시딜옥시프로필트리메톡시실란, 글리시딜옥시프로필트리에톡시실란, 트리메톡시실릴프로필이소시아네이트 및 트리에톡시실릴프로필이소시아네이트로 이루어진 군으로부터 1종 이상 선택되는 것을 특징으로 하는 감광성 수지 조성물.
  14. 제 2항에 있어서,
    상기 반응성 작용기가 도입된 실리카 입자와 알칼리 가용성 수지의 공중합체는 상기 반응성 작용기가 도입된 실리카 입자를 상기 알칼리 가용성 수지의 제조에 사용되는 산기를 갖는 불포화 단량체 또는 이와 중합 가능한 단량체와 중합하여 공중합체로 제조한 유/무기 하이브리드 수지인 것을 특징으로 하는 감광성 수지 조성물.
  15. 제 1항에 있어서,
    상기 감광성 수지 조성물은 첨가제로 n-부틸아민, 트리에틸아민 및 트리-n-부틸호스파인으로 이루어지는 군으로부터 1종 이상 선택되는 광증감체 0.1 내지 5 중량부를 더 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 감광성 수지 조성물.
  16. 제 1항 내지 제 7항, 제 9항 및 제 11항 내지 제 15항 중 어느 한 항의 감광성 수지 조성물로부터 제조되는 것을 특징으로 하는 스페이서.
  17. 제 16항에 있어서,
    상기 스페이서는 감광성 수지 조성물에 포함된 실리카 입자의 반응성 작용기와 기타 수지들이 얇은 막을 형성한 후, 그 상태에서 자외선에 의하여 불포화 이중결합의 반응이 일어나 제조되는 것을 특징으로 하는 스페이서.
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