KR100888380B1 - 계면 활성제를 이용한 유동성 입자의 제조방법 및 이로부터제조되는 유동성 입자 - Google Patents

계면 활성제를 이용한 유동성 입자의 제조방법 및 이로부터제조되는 유동성 입자 Download PDF

Info

Publication number
KR100888380B1
KR100888380B1 KR1020070128097A KR20070128097A KR100888380B1 KR 100888380 B1 KR100888380 B1 KR 100888380B1 KR 1020070128097 A KR1020070128097 A KR 1020070128097A KR 20070128097 A KR20070128097 A KR 20070128097A KR 100888380 B1 KR100888380 B1 KR 100888380B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
particles
resin
resins
particle
surfactant
Prior art date
Application number
KR1020070128097A
Other languages
English (en)
Inventor
전현애
이상국
최경호
박인
문인규
김현아
노지숙
안유선
이정희
Original Assignee
한국생산기술연구원
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 한국생산기술연구원 filed Critical 한국생산기술연구원
Priority to KR1020070128097A priority Critical patent/KR100888380B1/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100888380B1 publication Critical patent/KR100888380B1/ko

Links

Images

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J3/00—Processes of treating or compounding macromolecular substances
    • C08J3/12—Powdering or granulating
    • C08J3/126—Polymer particles coated by polymer, e.g. core shell structures
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J3/00—Processes of treating or compounding macromolecular substances
    • C08J3/12—Powdering or granulating
    • C08J3/16—Powdering or granulating by coagulating dispersions
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
    • C08K3/34—Silicon-containing compounds
    • C08K3/36—Silica
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00—Use of organic ingredients
    • C08K5/54—Silicon-containing compounds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L101/00—Compositions of unspecified macromolecular compounds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J2300/00—Characterised by the use of unspecified polymers

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Dispersion Chemistry (AREA)
  • Silicon Compounds (AREA)

Abstract

본 발명은 보다 단순화된 공정을 통해 경제적으로 유동성 입자를 제조할 수 있는 유동성 입자의 제조 방법 및 이로부터 제조되는 유동성 입자에 관한 것이다.
상기 유동성 입자의 제조 방법은 a) 고분자 수지를 포함하는 코어입자를 계면 활성제로 처리하여 친수화하는 단계; b) 상기 친수화된 코어입자, 실리카 전구체 및 촉매를 포함하는 분산액을 반응시켜 상기 코어입자의 표면에 습윤겔층이 형성된 습윤겔 입자를 제조하는 단계; 및 c) 상기 습윤겔 입자를 건조시키는 단계를 포함한다.
유동성, 입자, 전자종이, 계면 활성제, 친수화

Description

계면 활성제를 이용한 유동성 입자의 제조방법 및 이로부터 제조되는 유동성 입자{METHOD OF PREPARING FLUENT PARTICLE USING SURFACTANT, AND FLUENT PARTICLE PREPARED THEREFROM}
본 발명은 보다 단순화된 공정을 통해 경제적으로 유동성 입자를 제조할 수 있는 계면 활성제를 이용한 유동성 입자의 제조 방법 및 이로부터 제조되는 유동성 입자에 관한 것이다.
종래부터 액정(LCD)을 대신하는 화상표시장치로서 전기영동 방식, 일렉트로크로믹 방식, 서멀 방식, 2 색 입자 회전방식 등의 기술을 사용한 화상표시장치가 제안되어 있다. 이들 화상표시장치는 LCD에 비하여 통상의 인쇄물에 가까운 넓은 시야각이 얻어지고, 소비전력이 작으며, 메모리 기능을 갖고 있는 등의 장점으로부터 차세대의 저렴한 화상표시장치에 사용할 수 있는 기술로 여겨져, 휴대단말용 화상표시, 전자페이퍼 등으로의 전개가 기대되고 있다.
특히 최근에는, 분산입자와 착색 용액으로 이루어지는 분산액을 마이크로 캡슐화하여, 이것을 대향하는 기판 사이에 배치하는 전기영동 방식이 제안되어 기대 가 모아지고 있다. 그러나, 전기영동 방식에서는 액 속을 입자가 영동하기 때문에 액의 점성저항에 의해 응답속도가 느리다는 문제가 있다. 또한, 저비중 용액 속에 산화티탄 등의 고비중 입자를 분산시키고 있기 때문에 침강되기 쉽고, 분산상태의 안정성 유지가 어려우며, 이로 인해 화상 반복 안정성이 부족하다는 문제를 안고 있다.
이와 같은 용액 속에서의 거동을 이용한 전기영동 방식에 대하여, 근래에는 용액을 사용하지 않고 적어도 일방이 투명한 2 장의 기판 사이에 색 및 대전특성이 다른 2 종류 이상의 입자를 봉입하고, 상기 기판의 일방 또는 양방에 형성한 전극으로 이루어지는 전극 쌍으로부터 상기 입자에 전계를 부여하고 쿨롱력에 의해 상기 입자를 비상 이동시켜 화상을 표시하는 화상표시장치가 제안되어 있다.
이와 같은 건식 표시 장치(충돌 대전형 표시장치라고도 함)의 동작 메커니즘은，색 및 대전 극성이 다른 2 종류의 입자를 혼합한 것을 전극 원판으로 끼워 넣고 전극 원판에 전압을 인가하는 것으로 극 원판 사이에 전계를 발생시켜서 극성이 다른 대전 입자를 다른 방향으로 비상시키는 것에 의해 표시 소자로서 사용하는 것이다．
이것들은 입자와 기판으로 이루어지고 기체 중에서의 입자 거동을 이용한 건식 표시 장치이며，용액을 전혀 이용하지 않기 때문에 전기영동 방식에서 문제가 되었던 입자의 침강，응집 등의 문제가 해결되고, 입자의 이동 저항이 작고 응답 속도가 빠르다는 장점이 있다．
그러나, 이와 같은 건식형 전자종이 표시소자에서 사용되는 건식형태의 입자 에서는 상호 반대 극성으로 대전된 입자들이 대전상태에 따라 혹은 주변의 환경의 영향에 의해 서로 응집하는 현상이 발생할 수 있다. 예를 들면, 양전극에 전계를 가할 경우, 양 전극방향으로 상하운동을 하던 입자들이 서로 접촉하여 전기적으로 중화되면서 서로 응집될 수가 있으며, 이로 인해 반사율, 콘트라스트 비율 감소 등 정상적인 표시 화면 구현에 문제점을 동반하게 된다.
특히, 충돌대전형 전자종이의 핵심소재인 유동성 입자(Fluent powder 또는 Liquid powder라고도 함)는 수십만 번의 구동에 의해서도 초기 물성을 유지하도록 하는 파우더의 내구성 확보가 가장 중요한 기술이다.
현재, 상기 유동성 입자의 제조를 위해 가장 널리 이용되는 방법은 고분자 입자, 하전제어제, 안료/염료 및 실리카 첨가제를 물리적으로 혼합하여, 상기 고분자 입자 표면에 작용 성분들을 외첨하는 방법인데, 이러한 방법은 전자종이의 구동 중에 외첨 입자의 이탈이 심각하여 유동성 입자의 내구성 확보가 어렵다는 단점이 있다.
이에 본 발명자는 고분자 코어-실리카 쉘 형태로 유동성 입자를 제조하여, 전자종이의 구동 중에 실리카 외첨제의 이탈을 억제하고 유동성 입자의 내구성을 향상시킨 기술을 제안한 바 있다(특허 출원 제 10-2007-0039835 호, 제 10-2007-0039833 호 및 제 10-2007-0037897 호).
이들 특허 출원에 따르면, 히드록시기, 아민기 또는 할로겐기 등의 친수성 작용기가 표면에 결합된 고분자 수지 입자(코어 입자)를 친수성 실리카 전구체와 반응시켜 상기 코어 입자의 표면에 습윤겔 층이 형성된 코어-쉘 입자를 제조하고, 이러한 코어-쉘 입자에 소수성 그룹을 도입하고 건조하여 전자종이용 유동성 입자를 얻을 수 있다.
그런데, 통상적으로 유화 중합, 분산중합 또는 현탁 중합에 의해 제조되어 상업화된 고분자 수지의 경우, 대부분이 친유성 표면 특성을 나타낸다. 따라서, 상기 친수성 작용기가 표면에 결합된 고분자 수지 입자를 얻기 위해서는, 상기 친수성 작용기의 도입을 위한 새로운 중합 방법을 적용해야 하는 어려움이 있다. 또한, 대부분의 상업화된 친유성 고분자 수지와는 달리, 상기 친수성 작용기가 결합된 고분자 수지를 상업적으로 얻기 위해서는 매우 높은 비용이 소요될 뿐만 아니라, 상업적으로 입수 가능한 수지의 종류도 극히 제한적이어서 다양한 형태의 유동성 입자를 얻는데 제한 요소로 작용한다.
이 때문에, 종래에는 상기 친수성 작용기가 표면에 결합된 고분자 수지를 얻기 위해, 별도의 중합 공정이나 매우 고가의 비용이 소요되었으므로, 유동성 입자의 제조 공정이 복잡해지고 경제적이지 않는 단점이 있었다.
이에 본 발명은 보다 단순화된 공정을 통해 경제적으로 유동성 입자를 제조할 수 있는 계면활성제를 이용한 유동성 입자의 제조 방법을 제공하기 위한 것이다.
또한, 본 발명은 상기 제조 방법에 의해 제조되는 유동성 입자를 제공하기 위한 것이다.
본 발명은 a) 고분자 수지를 포함하는 코어입자를 계면 활성제로 처리하여 친수화하는 단계; b) 상기 친수화된 코어입자, 실리카 전구체 및 촉매를 포함하는 분산액을 반응시켜 상기 코어입자의 표면에 습윤겔층이 형성된 습윤겔 입자를 제조하는 단계; 및 c) 상기 습윤겔 입자를 건조시키는 단계를 포함하는 유동성 입자의 제조 방법을 제공한다.
본 발명은 또한, 상기 제조 방법에 따라 제조되며, 고분자 수지를 포함하고 친수화된 코어 입자, 및 상기 친수화된 코어 입자의 외부를 감싸는 실리카 층을 포함하는 유동성 입자를 제공한다.
이하, 본 발명에 따른 유동성 입자의 제조 방법 및 이로부터 제조된 유동성 입자에 대해 보다 상세히 설명하기로 한다.
상기 유동성 입자의 제조 방법은, a) 고분자 수지를 포함하는 코어입자를 계 면 활성제로 처리하여 친수화하는 단계; b) 상기 친수화된 코어입자, 실리카 전구체 및 촉매를 포함하는 분산액을 반응시켜 상기 코어입자의 표면에 습윤겔층이 형성된 습윤겔 입자를 제조하는 단계; 및 c) 상기 습윤겔 입자를 건조시키는 단계를 포함한다.
이러한 제조 방법에서는, 친유성 표면 특성을 가진 고분자 수지 입자를 계면 활성제로 처리하여 친수성으로 개질한 후에, 이후의 통상적인 공정을 진행하여 유동성 입자를 제조한다. 따라서, 상기 고분자 수지 입자를 얻기 위해 친수성 작용기가 표면에 결합된 고분자 수지를 사용할 필요가 없고 친유성 표면 특성을 가진 임의의 고분자 수지를 사용하여 유동성 입자를 제조할 수 있다. 그러므로, 친수성 작용기가 결합된 고분자 수지를 얻기 위한 별도의 중합 공정을 진행할 필요도 없고, 경제적으로 입수 가능한 친유성 고분자 수지를 사용할 수 있으므로, 보다 단순화된 공정을 통해 경제적으로 유동성 입자를 제조할 수 있다.
한편, 상기 본 발명의 제조 방법에 따르면, 상기 계면 활성제로 친수화된 코어입자를 시드(seed)로 하여 그 표면에 실리카층을 형성시키는 방법에 따라 유동성 입자를 제조하며, 보다 구체적으로는, 실리카의 제조에 사용되는 전구체 및 코어 입자를 함께 분산매에 분산시킨 후, 유화액(emulsion), 분산액(dispersion) 또는 현탁액(suspension) 상태에서 졸-겔 반응을 실시하여, 상기 코어 입자 표면에 금속산화물의 3차원적 네트워크 구조를 형성하고 나서, 상기 3차원적 네트워크를 유지한 상태에서 용매 및 미반응 잔류물 등을 제거하는 방법으로 상기 유동성 입자를 제조할 수 있다.
상기 졸-겔 반응 후 용매 및 미반응 잔류물 등을 포함한 3차원 네트워크 구조 상태를 본 발명에서는 습윤겔이라 부르며, 습윤겔의 건조를 통해 실리카를 얻을 수 있다.
상기 실리카를 제조하기 위한 건조 공정으로는 (1) 초임계 공정을 이용한 건조, 또는 (2) 표면 소수화 및 용매 치환을 거친 습윤겔의 상압 건조 등이 이용될 수 있다.
이하, 첨부한 도면을 참고로 본 발명의 유동성 입자의 제조 방법을 각 단계별로 상술하기로 한다.
도 1은 본 발명의 유동성 입자의 제조 방법을 간략하게 나타낸 공정도이다.
도 1을 참조하면, 본 발명의 제조 방법에서는, 먼저, 고분자 수지를 포함하는 코어입자를 계면 활성제로 처리하여 친수화한다.
이때, 상기 코어 입자에 포함되는 고분자 수지의 예는 특별히 한정되지 않으며, 예를 들어, 우레탄 수지, 우레아 수지, 아크릴 수지, 폴리에스테르 수지, 아크릴우레탄 수지, 아크릴우레탄실리콘 수지, 아크릴우레탄불소 수지, 아크릴불소 수지, 실리콘 수지, 아크릴실리콘 수지, 에폭시 수지, 폴리스티렌 수지, 스티렌아크릴 수지, 폴리올레핀 수지, 부티랄 수지, 염화비닐리덴 수지, 멜라민 수지, 페놀 수지, 불소 수지, 폴리카보네이트 수지, 폴리술폰 수지, 폴리에테르 수지 및 폴리아미드 수지로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상으로 될 수 있다. 특히, 본 발명에서는 친수성 작용기가 표면 결합되지 않은 친유성 고분자 수지를 포함하는 코어 입자를 제한없이 사용할 수 있다.
또한, 상기 코어 입자는 분산성과 대전특성의 측면에서 0.5 ㎛ 내지 30 ㎛의 평균입경을 가지는 것이 바람직하며, 더 바람직하게는 1 ㎛ 내지 10㎛의 평균입경을 가질 수 있다.
그리고, 상기 코어 입자 내에는 필요에 따라 양(+)대전성 하전제어제 또는 음(-)대전성 하전제어제가 포함될 수 있고, 또한, 유기 착색제 또는 무기착색제가 추가적으로 포함될 수도 있다. 상기 하전제어제로는 니그로신 염료, 트리페닐메탄계 화합물, 4급암모늄염계 화합물, 폴리아민 수지 또는 이미다졸 유도체와 같은 양(+)대전성 하전제어제나, 살리실산 금속착체, 금속함유 아조염료, 금속함유(금속이온이나 금속원자를 포함함)의 유용성 염료, 4급암모늄염계 화합물, 칼릭스아렌 화합물, 붕소함유 화합물(벤질산붕소 착체) 또는 니트로이미다졸 유도체와 같은 음(-)대전성 하전제어제가 포함될 수 있고, 이외에도 전자종이용 유동성 입자에 사용 가능한 임의의 하전제어제가 포함될 수 있다. 또한, 상기 착색제로는 니그로신, 메틸렌블루, 퀴놀린옐로 또는 로즈벵갈과 같은 유기착색제나, 산화티탄, 아연화, 황화아연, 산화안티몬, 탄산칼슘, 연백(鉛白), 탈크, 실리카, 규산칼슘, 알루미나화이트, 카드뮴옐로, 카드뮴레드, 카드뮴오렌지, 티탄옐로, 감청, 군청, 코발트블루, 코발트그린, 코발트바이올렛, 산화철, 카본블랙, 망간페라이트블랙, 코발트페라이트블랙, 동(銅)분 또는 알루미늄분과 같은 무기착색제가 포함될 수 있고, 이외에도 다양한 착색제가 제한없이 포함될 수 있다.
한편, 상기 a) 단계에서는 계면 활성제로서 비이온계 계면 활성제 또는 양이온계 계면 활성제를 사용함이 바람직하다. 상기 코어 입자를 계면 활성제로 친수화 한 후에는, 이를 실리카 전구체와 반응시켜 상기 코어 입자의 표면에 습윤겔층을 형성하게 되는데, 이러한 반응 과정에서 상기 실리카 전구체는 대부분 음의 표면전하를 띄게 된다. 따라서, 이와 반응하는 코어 입자를 중성 또는 양의 표면전하를 띄게 개질하는 것이 상기 실리카 전구체와의 반응성의 측면에서 유리하다. 이로서, 상기 코어 입자의 표면에 균일한 습윤겔층이 형성되게 할 수 있다.
상기 양이온계 계면 활성제로는, 예를 들어, 세틸트리메틸 암모늄 클로라이드, 라우릴디메틸벤질 암모늄 클로라이드, 2-하이드록시세틸-2-하이드록시 디메틸 암모늄 클로라이드, 라우릴트리메틸 암모늄 클로라이드 또는 베헤닐트리메틸 암모늄 클로라이드 등의 상업화된 양이온계 계면 활성제를 사용할 수 있고, 이외에도 다양한 양이온계 계면 활성제를 제한없이 사용할 수 있다.
또한, 상기 비이온계 계면 활성제로는, 예를 들어, 폴리옥시에틸렌화된 p-노닐페놀, p-옥틸페놀, p-도데실페놀, 폴리옥시에틸렌화된 폴리옥시프로필렌 글리콜, 폴리옥시에틸렌화된 머르캅탄, 폴리옥시에틸렌화된 직쇄 알코올, 천연 지방산의 글리세릴 및 폴리글리세릴 에스테르, 폴리옥시에틸렌화된 소르비탈 에스테르 등의 통상적인 비이온계 계면 활성제를 사용할 수 있고, 이외에도 다양한 비이온계 계면 활성제를 제한없이 사용할 수 있다.
그리고, 상기 a) 단계는 상기 코어 입자를 수 분산시킨 상태에서 계면 활설제로 처리하는 방법으로 진행될 수 있고, 또한, 상기 코어 입자 : 계면 활성제의 중량비가 99.9 : 0.1 ~ 70 : 30로 되도록 상기 계면 활성제를 가하여 상기 코어 입자를 처리하는 방법으로 진행할 수 있다.
한편, 상기 a) 단계를 진행하면, 친유성 고분자 수지를 포함하는 코어 입자의 표면이 다음과 같은 원리로 친수성으로 개질된다. 즉, 상기 코어 입자를 수 분산시킨 상태에서 계면 활성제로 처리하면, 상기 계면 활성제의 친유성기는 상기 코어 입자의 고분자 결합 내로 들어가고 친수성기는 수용액 상으로 나오게 된다. 이로서, 상기 코어 입자의 표면이 친수성으로 개질되며, 이렇게 친수화된 코어 입자를 추후 공정에서 실리카 전구체와 반응시키면 실리카 전구체를 포함한 물 분자들이 계면 활성제의 친수성 결합 안에 갇히게 된다. 따라서, 상기 코어 입자의 표면에 별도의 친수성 작용기가 결합되어 있지 않더라도, 상기 코어 입자가 수용액에 잘 분산될 수 있고 친수성을 띄는 실리카 전구체와 코어 입자 표면의 반응이 촉진되어 상기 코어 입자 표면에 균일한 습윤겔층이 형성될 수 있다.
상술한 공정을 통해, 코어 입자를 친수화한 후에는, b) 상기 친수화된 코어 입자와 실리카 전구체를 반응시켜 상기 코어 입자의 표면에 습윤겔층이 형성된 습윤겔 입자를 제조한다. 보다 구체적으로, 상기 b) 단계는 상기 코어 입자, 실리카 전구체 및 촉매를 포함하는 분산액을 반응시키는 방법으로 진행할 수 있다.
이때, 상기 실리카 전구체로는 금속알콕사이드나 물유리 등이 사용될 수 있으나, 하기 화학식 1로 표시되는 실란화합물이나 Ti, Zr, Ce, Sn, 및 Al 중에서 선택되는 1종 이상의 금속을 포함하는 금속알콕사이드를 포함하는 전구체를 사용하는 것이 반응성 측면에서 바람직하다.
[화학식 1]
R1 xSiR2 (4-x)
상기 화학식 1에서, R1 은 히드록시기이고, R2는 C1-C5 알콕시기이고, x는 0 내지 4의 정수이다.
이러한 물질 이외에도, 상기 실리카 전구체로서 실리카 나노 입자를 사용할 수도 있다. 이러한 실리카 나노 입자는 pH 3 이상에서 음전하를 띄기 때문에, 염기성을 띄는 용액 하에서 상기 실리카 나노 입자를 가하면, 양의 표면전하를 띄는 코어 입자와 정전기적 인력을 나타내어 상기 코어 입자의 표면에 균일한 습윤겔층을 형성할 수 있다.
이러한 실리카 나노 입자로는 에어로실(Aerosil; 상업화된 실리카 나노 입자의 제품명)을 사용할 수 있고, 이외에도 상업화되거나 통상적인 실리카 나노 입자를 제한없이 사용할 수 있다.
또한, 상기 실리카 나노 입자는 5~100nm의 평균 입경을 가질 수 있으며, 이로서 상기 코어 입자의 표면에 균일한 습윱겔층을 효과적으로 형성할 수 있다.
한편, 상기 b) 단계의 촉매로는 통상적인 실리케이트 졸-겔 반응용 산 촉매 또는 염기 촉매를 사용할 수 있다.
이 때 사용 가능한 산 촉매로는 큰 제한이 없으며, 예를 들면 염산, 질산, 황산, 인산, 불산, 포름산, 아세트산, 프로피온산, 부탄산, 펜탄산, 헥산산, 모노클로로아세트산, 디클로로아세트산, 트리클로로아세트산, 트리플로로아세트산, 옥 살산, 말론산, 술폰산, 프탈산, 푸마르산, 구연산, 말레산, 올레산, 메틸말론산, 아디프산, p-아미노벤조산, 또는 p-톨루엔술폰산 등을 사용할 수 있다. 또한, 상기 염기 촉매 역시 다양한 염기를 사용할 수 있으나, 바람직하게는 암모니아수 또는 유기 아민을 사용할 수 있다.
상기 산 촉매 또는 염기 촉매는 1 종 또는 2 종 이상을 동시에 사용할 수 있으며, 산 촉매를 사용하는 경우에는 pH 범위를 1 내지 6으로 맞추는 것이 바람직하고, 염기 촉매를 사용하는 경우에는 pH 범위를 8 내지 12로 맞추는 것이 바람직하다.
상기 b) 단계에서 습윤겔 입자를 제조하는 반응 조건은 사용된 실리카 전구체의 종류와 투입량을 고려하여 통상적인 실리케이트 제조 공정 조건에 따라 용이하게 조절할 수 있는 것이므로 본 발명에서는 특별히 한정되지 않으나, 0 내지 100 ℃의 온도로 반응을 진행하는 것이 바람직하고, 15 내지 80 ℃의 온도로 반응을 진행하는 것이 더욱 바람직하다.
또한, 상기 습윤겔의 제조에 사용되는 분산액의 성분비는 특별히 한정되지 않으며, 최종 제조된 유동성 입자가 적당한 지름의 코어 입자 및 적당한 두께의 실리카층을 가질 수 있도록, 상기 코어 입자와 실리카 전구체의 함량비를 당업자가 자명하게 조절할 수 있다. 예를 들어, 상기 유동성 입자는 상기 실리카층의 평균 두께(d2)에 대한 코어 입자의 지름(d1)의 비율(d1/d2)이 3 내지 500으로 될 수 있는데, 상기 유동성 입자의 코어 입자 및 실리카층이 이러한 지름 vs 두께의 비 율(d1/d2)을 가질 수 있도록 상기 분산액에 포함된 코어 입자와 실리카 전구체의 함량비를 적절히 조절할 수 있다. 이로서, 코어 입자의 지름에 대한 실리카층의 두께가 바람직하게 조절되어 유동성 입자의 하전 성능, 내구성 및 유동성을 최적화할 수 있다.
그리고, 상기 분산액에 사용되는 분산매는 물, 유기용매, 또는 물과 유기용매의 혼합액일 수 있으며, 상기 유기용매의 예로는 n-펜탄, i-펜탄, n-헥산, i-헥산, 2,2,4-트리메틸펜탄, 시클로 헥산, 또는 메틸시클로 헥산 등의 지방족 탄화 수소계 용매; 벤젠, 톨루엔, 크실렌, 트리메틸 벤젠, 에틸 벤젠, 또는 메틸 에틸 벤젠 등의 방향족 탄화 수소계 용매; 메틸알콜, 에틸알콜, n-프로판올, i-프로판올, n-부탄올, i-부탄올, sec-부탄올, t-부탄올, 4-메틸 2-펜탄올, 시클로 헥사놀, 메틸시클로 헥사놀, 또는 글리세롤 등의 알코올계 용매; 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸-n-프로필케톤, 메틸-n-부틸케톤, 메틸-i-부틸케톤, 디에틸케톤, 시클로헥사논, 메틸시클로헥사논, 또는 아세틸아세톤 등의 케톤계 용매; 테트라하이드로퓨란, 2-메틸 테트라하이드로 퓨란, 에틸에테르, n-프로필에테르, i-프로필에테르, n-부틸에티르, 디글라임, 디옥신, 디메틸디옥신, 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 에틸렌글리콜-n-프로필에테르, 에틸렌글리콜 디메틸에테르, 에틸렌글리콜 디에틸에테르, 프로필렌글리콜 모노메틸에테르, 프로필렌글리콜 모노에틸에테르, 프로필렌글리콜 모노프로필에테르, 프로필렌글리콜 디메틸에테르, 프로필렌글리콜 디에틸에테르, 또는 프로필렌글리콜 디프로필에테르 등의 에테르계 용 매; 디에틸카보네이트, 메틸아세테이트, 에틸아세테이트, n-프로필아세테이트, i-프로필아세테이트, n-부틸아세테이트, 에틸락테이트, 에틸렌글리콜 모노메틸에테르아세테이트, 에틸렌글리콜 모노에틸아세테이트, 프로필렌글리콜 모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜 모노에틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜 모노프로필에테르아세테이트, 에틸렌글리콜 디아세테이트, 또는 프로필렌글리콜 디아세테이트 등의 에스테르계 용매; 또는 N-메틸피롤리돈, 포름아마이드, N-메틸포름아마이드, N-에틸포름아마이드, N,N-디메틸포름아마이드, N,N-디에틸포름아마이드, N-메틸아세트아마이드, N-에틸아세트아마이드, N,N-디메틸아세트아마이드, 또는 N,N-디에틸아세트아마이드 등의 아마이드계 용매 등이 있으나, 반드시 이에 한정되는 것은 아니다.
한편, 본 발명의 제조 방법에서는, 상기 습윤겔 입자를 제조하는 b) 단계 후에, 소수성 그룹을 도입하는 소수화 단계를 별도로 진행하지 않더라도 건조 공정만을 진행해 충분한 비표면적을 갖는 유동성 입자를 얻을 수 있다. 즉, 상기 b) 단계 후에 초임계 건조 공정 등을 통해 습윤겔 입자를 건조시키면, 별도의 소수화 단계를 진행하지 않더라도 습윤겔 입자가 서로 뭉치거나 습윤겔층의 3차원적 네트워크 구조가 붕괴하여 비표면적의 저하 또는 입자 크기 감소가 발생하는 것을 억제할 수 있으므로, 충분한 비표면적을 가지며 전자종이 등에 적절히 사용 가능한 유동성 입자를 얻을 수 있다.
다만, 상기 b) 단계 후에 통상적인 상압 건조 공정(예를 들어, 일반 오븐 건조) 등을 통해 습윤겔 입자를 건조시키는 경우에는, 이러한 건조 공정 중에 상기 비표면적의 저하 또는 입자 크기 감소가 일어날 수 있으므로, 이의 억제를 위해 상기 습윤겔 입자에 소수성 그룹을 도입하는 단계를 진행한 후 상기 건조 공정을 진행함이 좀 더 바람직하다. 또한, 상기 초임계 건조 공정을 진행하는 경우에도, 유동성 입자가 수분을 흡수하는 것을 더 억제해 상기 유동성 입자가 보다 향상된 내구성을 가지도록 하기 위해 상기 습윤겔 입자에 소수성 그룹을 도입하는 단계를 진행한 후에 상기 건조 공정을 진행함이 더 바람직하다.
이러한 소수화 반응 단계(소수성 그룹의 도입 단계)는 상기 b) 단계에서 얻어진 습윤겔 입자와 하기 화학식 2 또는 3으로 표시되는 실릴화제를 1종 이상 축합반응시키는 방법으로 진행할 수 있다.
[화학식 2]
R5 4-nSiX3 n
[화학식 3]
R6 3Si-O-SiR7 3
상기 화학식 2 및 3에서,
n은 1 내지 3의 정수이고,
R5는 C1-C10, 바람직하게는 C1-C5 알킬, C5-C20 아릴, C5-C20 헤테로아릴알킬 또는 수소이고,
R6 및 R7은 각각 독립적으로 C1-C10, 바람직하게는 C1-C5 알킬, C5-C20 아릴알킬, C5-C20 헤테로아릴알킬 또는 수소이고,
X3는 F, Cl, Br 및 I로부터 선택된 할로겐원소(바람직하게는 Cl), C1-C10, 바람직하게는 C1-C5 알콕시, C5-C20의 아릴알콕시 또는 C5-C20 헤테로아릴알콕시이다.
상기 실릴화제의 바람직한 예로는, 헥사메틸디실란, 에틸트리에톡시실란, 트리에틸메톡시실란, 트리에틸에톡시실란, 메틸트리메톡시실란, 에틸트리메톡시실란, 메톡시트리메틸실란, 트리메틸클로로실란 및 트리에틸클로로실란으로 구성되는 그룹으로부터 선택된 적어도 하나를 들 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
또한, 상기 소수화 반응은 물, 유기용매, 또는 물과 유기용매의 혼합물을 매질로 하여 진행될 수 있으며, 상기 유기용매의 예는 앞서 기재한 b) 단계의 유기용매의 예와 동일하다.
그리고, 상기 소수화 반응에서도 b) 단계에서와 같은 산 촉매 또는 염기 촉매를 사용할 수 있으며, 상기 소수화 반응 조건도 통상적인 실리케이트 제조 공정 조건에 따라 용이하게 조절할 수 있는 것이므로 본 발명에서는 특별히 한정되지 않으나, 매질로 사용된 용매를 가열 환류(flux)시키는 방법으로 진행하는 것이 더욱 바람직하다.
한편, 상기 b) 단계 또는 상기 소수화 반응 단계를 진행한 후에는, c) 상기 습윤겔 입자를 건조하여 용매 및 미반응 잔류물 등을 제거한다. 이러한 c) 단계를 진행함으로서 습윤겔을 건조해 실리카를 얻고 유동성 입자를 제조할 수 있다.
상기 실리카를 얻기 위한 건조 공정으로는 (1) 초임계 공정을 이용한 건조, 또는 (2) 표면 소수화 및 용매 치환을 거친 습윤겔의 상압 건조(예를 들어, 일반 오븐 건조) 등이 이용될 수 있다.
상술한 내용 이외의 유동성 입자의 제조 방법에 관한 일반 상세 내용은 본 출원인이 기 출원한 출원번호 제10-2006-98634호, 제10-2007-0003528호 및 제10-2007-29234호의 기재 내용에 준한다.
본 발명은 또한, 상술한 본 발명의 제조 방법에 따라 제조된 유동성 입자를 제공한다. 이러한 유동성 입자는 고분자 수지를 포함하고 계면 활성제로 친수화된 코어 입자와, 상기 친수화된 코어 입자를 감싸는 실리카층을 포함한다.
이러한 유동성 입자는 충분한 비표면적을 가질 뿐 아니라, 상기 실리카층이 계면활성제로 친수화된 코어 입자 상에 단단히 결합하여 우수한 내구성을 가지며, 뛰어난 하전 성능 및 유동성을 가진다. 따라서, 상기 유동성 입자는 건식형 전자종이 표시장치의 화상 표시 입자로 사용되기에 매우 적합한 특성을 가진다.
한편, 상기 유동성 입자에서, 상기 실리카층의 평균 두께(d2)에 대한 코어 입자의 지름(d1)의 비율(d1/d2)은 3 내지 500 인 것이 바람직하다. 만약 d1/d2가 3보다 작으면, 실리카층이 너무 두꺼워, 하전 성능 등을 조절하기가 어렵고, d1/d2가 500 보다 크면, 실리카층의 두께가 너무 얇아서 입자의 내구성과 입자 유동성 확보 측면에서 바람직하지 않다.
도 2는 본 발명의 유동성 입자를 포함하는 전자종이 표시장치의 일 예를 개략적으로 나타낸 단면도이다
도 2에서 보는 것과 같이, 상기 전자종이 표시장치(40)는 기본적으로 서로 대향 배치되는 제1기판(41) 및 제2기판(45); 상기 제2기판에 대향되는 제1기판 상에 순차적으로 형성되는 제1전극(42), 및 제1절연층(43); 상기 제1기판에 대향되는 제2기판 상에 순차적으로 형성되는 제2전극(46), 및 제2절연층(47); 상기 제1기판과 제2기판의 사이에 다수의 셀을 구획하도록 배치되는 격벽(44); 및 상기 격벽에 의해 구획된 셀 내에 존재하는 상기 유동성 입자(48a, 48b)를 포함하며, 상기 제1기판(41), 제1전극(42) 및 제1절연층(47)을 포함하는 제1기판 그룹과 상기 제2기판(45), 제2전극(46) 및 제2절연층(47)을 포함하는 제2기판 그룹 중 적어도 한쪽의 그룹은 투명한 것이 바람직하다.
이 때, 상기 전자종이 표시장치는 각각의 셀 내에 양(+)대전성 유동성 입자(48a)와 음(-)대전성 유동성입자(48b)를 포함하며, 상기 양(+)대전성 유동성 입자와 음(-)대전성 유동성 입자의 색깔이 서로 상이한 것이 바람직하고, 상기 양(+)대전성 유동성 입자와 음(-)대전성 유동성 입자의 색깔이 흑색과 백색 또는 백색과 흑색의 대비를 이루는 것이 바람직하다.
도 3은 본 발명의 유동성 입자가 적용된 전자종이 표시장치의 구동 상태의 일 예를 개략적으로 나타낸 단면도이다. 도 4의 전자종이 표시장치의 제1전극(42)과 제2전극(46) 사이에 전압을 인가하면, 도 5에 나타내는 것과 같이, 쿨롱력에 의해 양대전성 유동성 입자(48a)는 제1전극(41) 측으로 비상 이동하고, 음대전성 유 동성 입자(48b)는 제2전극(45) 측으로 이동한다. 이 경우, 제1기판 그룹이 투명하다고 할 때에 상기 제1기판(41) 측에서 보는 표시면은 양대전성 유도성 입자(48a)의 색으로 보인다. 또한, 상기 제1전극과 제2전극 사이에 전하를 반대로 걸어주게 되면, 양대전성 유동성 입자(48a)와 음대전성 유동성 입자(48b)가 반대 방향으로 이동하여 상기 제1기판(41) 측에서 보는 표시면은 음대전성 유동성 입자(48b)의 색으로 보이게 된다.
이와 같이 본 발명의 전자종이 표시장치에서는 전원의 전위를 반전시키는 것만으로 가역적으로 색을 변화시킬 수 있으며, 입자의 색은 자유롭게 선정할 수 있다. 예를 들어, 음대전성 유동성 입자(48b)를 백색으로 하고 양대전성 유동성 입자(48a)를 흑색으로 하거나, 음대전성 유동성 입자(48b)를 흑색으로 하고 양대전성 유동성 입자(48a)를 백색으로 하면, 표시는 백색과 흑색 사이의 가역표시가 된다. 이 방식에서, 각 입자는 한번 전극에 Van Der Waals 힘에 의해 부착된 상태에 있기 때문에, 전원을 끈 후에도 표시화상은 장기적으로 보전되어 메모리 보전성이 좋다.
본 발명에서는 각 대전성 입자는 기체 속을 비상하기 때문에 화상표시의 응답속도가 빠르고, 액정표시소자와 같이 배향막이나 편광판 등이 불필요하며, 구조가 단순하고, 저비용이며 대면적이 가능하다.
또한, 온도변화에 대해서도 안정적으로 저온에서 고온까지 사용 가능하며, 시야각이 없고, 고반사율, 반사형이고 밝은 곳에서도 보기 쉬우며, 소비전력이 낮다. 메모리성도 있어 화상을 보전하는 경우에 전력을 소비하지 않는다.
상술한 바와 같이, 본 발명에 따르면 보다 단순화된 공정을 통해 경제적으로 유동성 입자를 제조할 수 있다.
이러한 유동성 입자는 표면 윤활성이 좋고, 거칠기가 높으며, 기계적 물성이 우수한 실리카 층이 코어입자 전체를 감싸고 있으므로 전자종이 등에 바람직하게 적용될 수 있다.
이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 기재한다. 다만, 하기의 실시예는 본 발명의 바람직한 일 실시예일 뿐, 본 발명이 하기 실시예에 의해 한정되는 것은 아니다.
[실시예]
실시예 1
(유동성 입자의 제조)
폴리스티렌(Polystyrene, PS) 입자 (5g, 평균입경 5㎛)을 물 90cc에 첨가한 후, 양이온계 계면활성제인 세틸트리메틸 암모늄 클로라이드 (25wt% in water, Aldrich) 4cc를 넣고 균일하게 분산될 때까지 교반하여 약 5 중량%의 고형분을 포함하는 수성에멀젼을 제조하였다.
또한, 테트라에틸오르소실리케이트(Testraethyl-ortho-silicate, TEOS) 30g, 물 10g 및 12N의 염산 3g을 첨가한 후, 상온에서 30분간 교반하여 TEOS를 가수분해하였다.
상기 제조된 TEOS 가수분해 생성물 43g과 PS 에멀젼 100 g을 혼합하고, 암모늄 하이드록사이드를 첨가하여 pH 11로 조절하여 1시간 정도 반응을 진행시켰다. 반응이 종료된 후, 반응물을 원심분리기에 넣고 약 4000rpm의 속도로 돌려서 습윤겔 입자를 얻었다.
에탄올 95 중량%와 에톡시트리메틸실란(ethoxytrimethylsilane, ETMS) 5 중량%를 포함하는 ETMS 용액에 염산(HCl)을 첨가하여 pH 2로 조절하고, 상기 습윤겔 입자가 충분히 잠기도록 상기 ETMS 용액을 붓고 4시간 동안 환류(reflux)시켜 소수화 반응을 진행하였다.
상기 소수화 반응을 거친 습윤겔 입자를 필터링하여 얻은 후, 90℃의 오븐에서 5시간 이상 충분히 건조하여 본 발명의 유동성 입자를 제조하였다.
실시예 2
에톡시트리메틸실란(ethoxytrimethylsilane, ETMS)을 이용한 소수화 반응을 진행하지 않은 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 유동성 입자를 제조하였다.
실시예 3
비이온계 계면활성제인 폴리옥시에틸렌 소르비탄 모노라우레이트를 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 유동성 입자를 제조하였다.
실시예 4
폴리스티렌(Polystyrene, PS) 입자 (5g, 평균입경 5㎛)을 물 90cc에 첨가한 후, 양이온계 계면활성제인 세틸트리메틸 암모늄 클로라이드 (25wt% in water, Aldrich) 4cc를 넣고 균일하게 분산될 때까지 교반하여 약 5 중량%의 고형분을 포함하는 수성에멀젼을 제조하였다.
이 용액의 pH가 9로 되도록 NaOH를 첨가한 후에 실리카 나노 파티클을 약 0.5g 첨가하고 상온에서 10분간 잘 혼합하였다. 상기 입자를 필터링하여 얻은 후, 90℃의 오븐에서 5시간 이상 충분히 건조하여 본 발명의 유동성 입자를 제조하였다.
도 1은 본 발명의 유동성 입자의 제조 방법을 간략하게 나타낸 공정도이다.
도 2는 본 발명의 유동성 입자가 적용된 전자종이 표시장치의 일 예를 개략적으로 나타낸 단면도이다
도 3은 본 발명의 유동성 입자가 적용된 전자종이 표시장치의 구동 상태의 일 예를 개략적으로 나타낸 단면도이다.

Claims (10)

  1. a) 고분자 수지를 포함하는 코어입자를 계면 활성제로 처리하여 친수화하는 단계;
    b) 상기 친수화된 코어입자, 실리카 전구체 및 촉매를 포함하는 분산액을 반응시켜 상기 코어입자의 표면에 습윤겔층이 형성된 습윤겔 입자를 제조하는 단계; 및
    c) 상기 습윤겔 입자를 건조시키는 단계를 포함하는 유동성 입자의 제조 방법.
  2. 제1항에 있어서, 상기 b) 단계와 c) 단계 사이에 상기 습윤겔 입자에 소수성 그룹을 도입시키는 단계를 더 포함하는 유동성 입자의 제조 방법.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 계면 활성제는 비이온계 계면 활성제 또는 양이온계 계면 활성제를 포함하는 유동성 입자의 제조 방법.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 코어입자는 우레탄 수지, 우레아 수지, 아크릴 수지, 폴리에스테르 수지, 아크릴우레탄 수지, 아크릴우레탄실리콘 수지, 아크릴우레탄불소 수지, 아크릴 불소 수지, 실리콘 수지, 아크릴실리콘 수지, 에폭시 수지, 폴리스티렌 수지, 스티렌아크릴 수지, 폴리올레핀 수지, 부티랄 수지, 염화비닐리덴 수지, 멜라민 수지, 페놀 수지, 불소 수지, 폴리카보네이트 수지, 폴리술폰 수지, 폴리에테르 수지 및 폴리아미드 수지로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상의 고분자 수지를 포함하는 유동성 입자의 제조 방법.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 코어입자는 0.5 내지 30 ㎛의 평균입경을 가지는 유동성 입자의 제조 방법.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 실리카 전구체는 하기 화학식 1로 표시되는 실란화합물 또는 실리카 나노 입자를 포함하는 유동성 입자의 제조 방법:
    [화학식 1]
    R1 xSiR2 (4-x)
    상기 화학식 1에서, R1은 히드록시기이고, R2는 C1-C5 알콕시기이고, x는 0 내지 4의 정수이다.
  7. 제1항에 있어서,
    상기 촉매는 산 촉매 또는 염기 촉매인 유동성 입자의 제조방법.
  8. 제2항에 있어서,
    상기 소수성 그룹의 도입 단계에서는 상기 습윤겔 입자에 하기 화학식 2 또는 3으로 표시되는 실릴화제를 1종 이상 축합반응시키는 유동성 입자의 제조방법:
    [화학식 2]
    R5 4-nSiX3 n
    [화학식 3]
    R6 3Si-O-SiR7 3
    상기 화학식 2 및 3에서,
    n은 1 내지 3의 정수이고,
    R5는 C1-C10 알킬, C5-C20 아릴, C5-C20 헤테로아릴알킬 또는 수소이고,
    R6 및 R7은 각각 독립적으로 C1-C10 알킬, C5-C20 아릴알킬, C5-C20 헤테로아릴알킬 또는 수소이고,
    X3는 F, Cl, Br 및 I로부터 선택된 할로겐원소, C1-C10 알콕시, C5-C20 아릴알콕시 또는 C5-C20 헤테로아릴알콕시이다.
  9. 삭제
  10. 삭제
KR1020070128097A 2007-12-11 2007-12-11 계면 활성제를 이용한 유동성 입자의 제조방법 및 이로부터제조되는 유동성 입자 KR100888380B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020070128097A KR100888380B1 (ko) 2007-12-11 2007-12-11 계면 활성제를 이용한 유동성 입자의 제조방법 및 이로부터제조되는 유동성 입자

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020070128097A KR100888380B1 (ko) 2007-12-11 2007-12-11 계면 활성제를 이용한 유동성 입자의 제조방법 및 이로부터제조되는 유동성 입자

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR100888380B1 true KR100888380B1 (ko) 2009-03-13

Family

ID=40698137

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020070128097A KR100888380B1 (ko) 2007-12-11 2007-12-11 계면 활성제를 이용한 유동성 입자의 제조방법 및 이로부터제조되는 유동성 입자

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR100888380B1 (ko)

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2012002737A2 (ko) * 2010-06-29 2012-01-05 주식회사 이미지앤머터리얼스 전기영동 입자, 이를 포함하는 전기영동 매체 및 전기영동 디스플레이
WO2012002735A2 (ko) * 2010-06-29 2012-01-05 주식회사 이미지앤머터리얼스 전기영동 입자, 이를 포함하는 전기영동 매체 및 전기영동 디스플레이
KR20130061887A (ko) * 2011-12-02 2013-06-12 엘지디스플레이 주식회사 전기영동 입자, 이를 포함하는 전기영동 소자 및 전기영동 표시장치
KR20130061886A (ko) * 2011-12-02 2013-06-12 엘지디스플레이 주식회사 전기영동 입자, 이를 포함하는 전기영동 소자 및 전기영동 표시장치
KR20130074946A (ko) * 2011-12-27 2013-07-05 엘지디스플레이 주식회사 컬러 전기영동 입자와, 이를 이용한 전기영동 표시소자 및 그 제조 방법
KR101897746B1 (ko) 2011-12-02 2018-10-05 엘지디스플레이 주식회사 전기영동표시장치의 하전입자의 제조방법
KR101905800B1 (ko) * 2017-02-13 2018-10-08 충남대학교산학협력단 고분자-나노실리카 복합체 및 그의 제조방법

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR0149054B1 (ko) * 1994-12-20 1998-10-15 강박광 소수성 고분자 표면의 친수화방법
KR20010042547A (ko) * 1998-04-09 2001-05-25 유란드 인터내셔날 에스.피.아. 소수성 폴리머로 코팅된 코어를 갖는 습윤성 마이크로캡슐
US6475603B1 (en) 2000-08-31 2002-11-05 Eastman Kodak Company Ink jet recording element
KR20030064126A (ko) * 2002-01-26 2003-07-31 한국화학연구원 졸-겔 반응을 이용한 실리카 마이크로캡슐의 제조방법

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR0149054B1 (ko) * 1994-12-20 1998-10-15 강박광 소수성 고분자 표면의 친수화방법
KR20010042547A (ko) * 1998-04-09 2001-05-25 유란드 인터내셔날 에스.피.아. 소수성 폴리머로 코팅된 코어를 갖는 습윤성 마이크로캡슐
US6475603B1 (en) 2000-08-31 2002-11-05 Eastman Kodak Company Ink jet recording element
KR20030064126A (ko) * 2002-01-26 2003-07-31 한국화학연구원 졸-겔 반응을 이용한 실리카 마이크로캡슐의 제조방법

Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2012002737A2 (ko) * 2010-06-29 2012-01-05 주식회사 이미지앤머터리얼스 전기영동 입자, 이를 포함하는 전기영동 매체 및 전기영동 디스플레이
WO2012002735A2 (ko) * 2010-06-29 2012-01-05 주식회사 이미지앤머터리얼스 전기영동 입자, 이를 포함하는 전기영동 매체 및 전기영동 디스플레이
KR101133071B1 (ko) * 2010-06-29 2012-04-04 주식회사 이미지앤머터리얼스 전기영동 입자, 이를 포함하는 전기영동 매체 및 전기영동 디스플레이
WO2012002737A3 (ko) * 2010-06-29 2012-04-12 주식회사 이미지앤머터리얼스 전기영동 입자, 이를 포함하는 전기영동 매체 및 전기영동 디스플레이
WO2012002735A3 (ko) * 2010-06-29 2012-05-18 주식회사 이미지앤머터리얼스 전기영동 입자, 이를 포함하는 전기영동 매체 및 전기영동 디스플레이
KR101171873B1 (ko) * 2010-06-29 2012-08-07 주식회사 이미지앤머터리얼스 전기영동 입자, 이를 포함하는 전기영동 매체 및 전기영동 디스플레이
KR20130061887A (ko) * 2011-12-02 2013-06-12 엘지디스플레이 주식회사 전기영동 입자, 이를 포함하는 전기영동 소자 및 전기영동 표시장치
KR20130061886A (ko) * 2011-12-02 2013-06-12 엘지디스플레이 주식회사 전기영동 입자, 이를 포함하는 전기영동 소자 및 전기영동 표시장치
KR101897746B1 (ko) 2011-12-02 2018-10-05 엘지디스플레이 주식회사 전기영동표시장치의 하전입자의 제조방법
KR101906425B1 (ko) * 2011-12-02 2018-10-11 엘지디스플레이 주식회사 전기영동 입자, 이를 포함하는 전기영동 소자 및 전기영동 표시장치
KR101937998B1 (ko) * 2011-12-02 2019-01-14 엘지디스플레이 주식회사 전기영동 입자, 이를 포함하는 전기영동 소자 및 전기영동 표시장치
KR20130074946A (ko) * 2011-12-27 2013-07-05 엘지디스플레이 주식회사 컬러 전기영동 입자와, 이를 이용한 전기영동 표시소자 및 그 제조 방법
KR101901250B1 (ko) * 2011-12-27 2018-09-27 엘지디스플레이 주식회사 컬러 전기영동 입자와, 이를 이용한 전기영동 표시소자 및 그 제조 방법
KR101905800B1 (ko) * 2017-02-13 2018-10-08 충남대학교산학협력단 고분자-나노실리카 복합체 및 그의 제조방법

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100888380B1 (ko) 계면 활성제를 이용한 유동성 입자의 제조방법 및 이로부터제조되는 유동성 입자
JP3937113B2 (ja) 有機−無機複合導電性ゾル及びその製造法
US20050168799A1 (en) Electrophoretic media and processes for the production thereof
US9102836B2 (en) Anti-reflection coating composition and process for preparing the same
CN102898833B (zh) 取向膜材料、取向膜及其制造方法、液晶显示装置
JP2010164659A (ja) 電気泳動液、画像表示媒体及び画像表示装置
JP6360836B2 (ja) シロキサン化合物を含む反射防止コーティング組成物、それを用いて表面エネルギーが調節された反射防止フィルム
CN102053425B (zh) 液晶显示元件的制造方法、聚合物组合物以及液晶显示元件
JP2009137833A (ja) 粘土分散液及びその製造方法、ならびに粘土薄膜
US7597820B2 (en) Liquid crystal-containing composition, method of producing the same, the liquid crystal display device including the same
TWI634074B (zh) 中空型矽酸鋁粒子及其製備方法
KR100872135B1 (ko) 유동성 입자 및 이를 포함하는 충돌 대전형 전자 종이 표시장치
KR100857838B1 (ko) 유동성 입자의 제조방법 및 이로부터 제조되는 유동성 입자
CN101101400B (zh) 液晶显示盒
JP4578270B2 (ja) 電気泳動表示用液、それを用いた表示媒体及び表示装置
KR20130076936A (ko) 잉크 조성물, 그 제조 방법 및 이를 함유하는 디스플레이 패널
JP2012042959A (ja) メソ多孔性粒子を用いた切替可能な画像装置
JP3914011B2 (ja) 液晶表示セルおよび該液晶表示セル用塗布液
JP3456485B2 (ja) 球状積層粒子および液晶表示装置
KR100857837B1 (ko) 유동성 입자 및 이를 포함하는 충돌 대전형 전자 종이 표시장치
US7130106B2 (en) Sol-gel nanocoated particles for magnetic displays
Ivanova et al. Chemistry and manufacturing technology of electronic ink for electrophoretic displays (a review)
Lee et al. Microencapsulation and characterization of poly (vinyl alcohol)-coated titanium dioxide particles for electrophoretic display
JP4055869B2 (ja) 黒色ポリオルガノシロキサン微粒子の製造方法
KR101039127B1 (ko) 유동성 입자 조성물 및 이를 이용한 유동성 입자의 제조방법

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20111121

Year of fee payment: 4

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20130111

Year of fee payment: 5

LAPS Lapse due to unpaid annual fee