KR100876987B1 - 이중관 노즐을 가지는 글라스 식각 장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 이중관 노즐을 가지는 글라스 식각 장치에 관한 것으로, 화면표시장치용 글라스에 인쇄 또는 증착을 통해 회로소자 및 단자 등의 패턴 형성 공정 후, 불필요한 부분을 에칭액을 분사하여 식각 하도록 된 화면표시장치용 글라스 식각 장치에 있어서, 에칭액을 공급하는 에칭액 공급관(110)과, 상기 에칭액 공급관(110)에 양 말단이 연결되어 있으며, 표면에 에칭액 유출공(211)이 다수 형성되어 있는 외측부(210)와, 상기 외측부(210)를 서로 연결하며 상기 외측부보다 작은 내경을 가지고 상기 에칭액 유출공(211)보다 작은 구경을 가지는 중앙 에칭액 유출공(221)이 상기 에칭액 유출공(211)보다 더 넓은 간격을 가지며 표면에 다수 형성되어 있는 중앙부(220)로 구성되는 내부관(inner-pipe)(200)과, 상기 내부관(200)과 동심축을 가지며 상기 내부관(200)의 외측에 설치되며, 직상부에 슬릿(310)이 형성되어 있는 외부관(outer-pipe)(300)와, 상기 외부관(300)의 직하방에 결합하며, 상기 외부관(300)의 상기 슬릿(310)에서 흘러나온 에칭액이 부드럽게 식각하고자 하는 글라스(glass)(600)로 유도되어 흘러가도록 하는 노즐 블레이드(nozzle-blade)(400)와, 상기 내부관(200)과 외부관(300)의 양 말단을 결합하여 고정시키는 고정판(510)을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 이중관 노즐을 가지는 글라스 식각 장치(100)에 관한 것이다.
본 발명에 의하면, 외측부와, 외측부보다 작은 내경을 가지며, 더 작은 구경 의 유출공이 더 먼 간격으로 배치된 중앙부로 구성되는 내부관과 외부관으로 이루어진 이중관 노즐 구조에 의해 이중관 노즐의 중앙과 외측에서의 유량과 유속의 차이 없이 전체적으로 균일한 유량과 유속을 가지는 에칭액이 노즐 블레이드를 통해 식각하고자 하는 글라스의 양 표면을 균일하게 흐르게 되어, 글라스의 양표면을 신속하고 균일하게 원하는 두께로 가공할 수 있다는 장점이 있다.
글라스, 식각, 노즐, 이중관

Description

이중관 노즐을 가지는 글라스 식각 장치 {Glass Etching System with Co-axial Pipe Nozzle}
본 발명은 이중관 노즐을 가지는 글라스 식각 장치에 관한 것으로, 화면표시장치용 글라스에 인쇄 또는 증착을 통해 회로소자 및 단자 등의 패턴 형성 공정 후, 불필요한 부분을 에칭액을 분사하여 식각 하도록 된 화면표시장치용 글라스 식각 장치에 있어서, 에칭액을 공급하는 에칭액 공급관(110)과, 상기 에칭액 공급관(110)에 양 말단이 연결되어 있으며, 표면에 에칭액 유출공(211)이 다수 형성되어 있는 외측부(210)와, 상기 외측부(210)를 서로 연결하며 상기 외측부보다 작은 내경을 가지고 상기 에칭액 유출공(211)보다 작은 구경을 가지는 중앙 에칭액 유출공(221)이 상기 에칭액 유출공(211)보다 더 넓은 간격을 가지며 표면에 다수 형성되어 있는 중앙부(220)로 구성되는 내부관(inner-pipe)(200)과, 상기 내부관(200)과 동심축을 가지며 상기 내부관(200)의 외측에 설치되며, 직상부에 슬릿(310)이 형성되어 있는 외부관(outer-pipe)(300)와, 상기 외부관(300)의 직하방에 결합하며, 상기 외부관(300)의 상기 슬릿(310)에서 흘러나온 에칭액이 부드럽게 식각하고자 하는 글라스(glass)(600)로 유도되어 흘러가도록 하는 노즐 블레이드(nozzle-blade)(400)와, 상기 내부관(200)과 외부관(300)의 양 말단을 결합하여 고정시키는 고정판(510)을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 이중관 노즐을 가지는 글라스 식각 장치(100)에 관한 것이다.
일반적으로, FPD(flat pannel display)용으로 사용되는 TFT(thin film transister) LCD(liquid crystal display),PDP(Plasma Display)는 하판에 해당하는 TFT/Pattern 과 상판에 해당하는 CF(color filter)사이에 LCD의 경우 액정, PDP의 경우 불활성 가스가 삽입되어 셀(cell) 형태로 제조된다.
상기, 하판을 제조하기 위하여 TFT/PDP Pattern 공정진행 중 글라스는 불필요 영역의 표면을 엷게 가공(제거)할 필요가 있다. 즉, TFT, PDP 공정 진행 중 불필요 영역의 패턴(Pattern)를 식각(Ettching)하여야 하는데, 기존의 글라스 식각 방법이나 그 장치는 다음과 같은 여러 가지 문제점을 내포하고 있다. 먼저, TFT LCD, PDP용 글라스를 식각하고자 하는 경우에는 그 글라스 표면을 균일하게 식각하여야 하는데, 종래 글라스 식각 장치는 대부분 글라스 상부면에 에칭액을 스프레이 방식으로 도포하므로, 글라스의 기울기가 일정치 않으면 Etching액이 특정부위에 고임으로 인해 Etching량이 일정치 않아 균일한 식각이 이루어지지 않게 되는 가장 큰 문제점이 있었다.
이와 같은 문제점을 보완하기 위해 글라스의 처짐을 방지하도록 중간에 지지 롤러를 설치하여 사용하게 되는데, 이러한 경우는 글라스 표면의 지지에 따른 표면 손상을 가져오는 문제점이 있었다.
한편, 상기한 문제점을 해결하기 위하여, 도 1에 도시한 것과 같이 측면으로 기울어진 상태에서 글라스를 이송하며 에칭액을 노즐(22)을 통하여 분사하며, 롤러에 의한 글라스 표면의 손상을 방지하고자 에어/디에어 지지핀(31)을 통하여 글라스를 지지하도록 하는 장치가 제안되었다.(국내 등록특허 10-0562724) 그러나 이러한 기존의 장치는 글라스의 경사에 의한 에칭액의 흘러내림을 감안하여 글라스 표면에 균일한 에칭액 도포를 위하여 경사의 상부에 위치하는 노즐과 하부에 위치하는 노즐의 분사량을 일일히 조절하여 분사하여야 한다는 문제점이 있었다. 또한, 개개의 노즐이 배치된 구조상의 문제로 인하여, 노즐의 분사 방향의 직하방과 그 주변에는 에칭액이 전달되는 유량에 차이가 발생할 수밖에 없으며, 이를 방지하기 위해 아무리 다수의 노즐을 서로 조밀하게 배치한다 하여도 장치의 복잡도와 제조 단가를 상승시키기만 할 뿐이라는 문제점이 있었다. 더욱, 기존의 발명은 한 공정에서 글라스 표면의 한 쪽 면을 식각하는 것 만이 가능하여 식각 공정의 속도와 효율에 많은 문제가 있었으며, 양면 식각을 위하여 글라스의 상부에도 다수의 노즐을 설치한다 하여도 설치되는 노즐의 수가 많아 장치가 대단히 복잦해 지며, 더우기 각각의 노즐의 유량을 조절하여야 하기에 그 제조 및 운용이 대단히 복잡하다는 문제점이 있었다.
본 발명은 상기한 기존 발명의 문제점을 해결하기 위하여, 화면표시장치용 글라스에 인쇄 또는 증착을 통해 회로소자 및 단자 등의 패턴 형성 공정 후, 불필요한 부분을 에칭액을 분사하여 식각 하도록 된 화면표시장치용 글라스 식각 장치에 있어서, 에칭액을 공급하는 에칭액 공급관(110)과, 상기 에칭액 공급관(110)에 양 말단이 연결되어 있으며, 표면에 에칭액 유출공이 다수 형성되어 있는 내부관(inner-pipe)(200)과, 상기 내부관(200)과 동심축을 가지며 상기 내부관(200)의 외측에 설치되며, 직상부에 슬릿(310)이 형성되어 있는 외부관(outer-pipe)(300)와, 상기 외부관(300)의 직하방에 결합하며, 상기 외부관(300)의 상기 슬릿(310)에서 흘러나온 에칭액이 부드럽게 식각하고자 하는 글라스(glass)(600)로 유도되어 흘러가도록 하는 노즐 블레이드(nozzle-blade)(400)와, 상기 내부관(200)과 외부관(300)의 양 말단을 결합하여 고정시키는 고정판(510)을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 이중관 노즐을 가지는 글라스 식각 장치(100)를 제공하여, 식각 공정 중 글라스를 이송할 필요가 없어 글라스 표면의 손상의 염려가 없고, 수직으로 위치한 글라스의 상부 전체에 외측부와, 외측부보다 작은 내경을 가지며, 더 작은 구경의 유출공이 더 먼 간격으로 배치된 중앙부로 구성되는 내부관과 외부관으로 이루어진 이중관 노즐 구조에 의해, 이중관 노즐의 중앙과 외측에서의 유량과 유속의 차이 없이 내부관을 통하여 균일한 흐름을 가지며 외부관의 슬릿을 통하여 균일한 에칭액이 공급되어 신속하고 균일한 양면 가공이 가능하도록 하는 것을 그 과 제로 한다.
상기한 과제를 달성하기 위하여, 본 발명은 화면표시장치용 글라스에 인쇄 또는 증착을 통해 회로소자 및 단자 등의 패턴 형성 공정 후, 불필요한 부분을 에칭액을 분사하여 식각 하도록 된 화면표시장치용 글라스 식각 장치에 있어서, 에칭액을 공급하는 에칭액 공급관(110)과, 상기 에칭액 공급관(110)에 양 말단이 연결되어 있으며, 표면에 에칭액 유출공(211)이 다수 형성되어 있는 외측부(210)와, 상기 외측부(210)를 서로 연결하며 상기 외측부보다 작은 내경을 가지고 상기 에칭액 유출공(211)보다 작은 구경을 가지는 중앙 에칭액 유출공(221)이 상기 에칭액 유출공(211)보다 더 넓은 간격을 가지며 표면에 다수 형성되어 있는 중앙부(220)로 구성되는 내부관(inner-pipe)(200)과, 상기 내부관(200)과 동심축을 가지며 상기 내부관(200)의 외측에 설치되며, 직상부에 슬릿(310)이 형성되어 있는 외부관(outer-pipe)(300)와, 상기 외부관(300)의 직하방에 결합하며, 상기 외부관(300)의 상기 슬릿(310)에서 흘러나온 에칭액이 부드럽게 식각하고자 하는 글라스(glass)(600)로 유도되어 흘러가도록 하는 노즐 블레이드(nozzle-blade)(400)와, 상기 내부관(200)과 외부관(300)의 양 말단을 결합하여 고정시키는 고정판(510)을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 슬릿(slit)(310)의 양 측면은 톱니 형상을 가지도록 성형되는 것 을 특징으로 한다.
또한, 상기 내부관(200)과 상기 외부관(300) 사이에는 2개소 이상에 상기 내부관(200)과 상기 외부관(300)을 더욱 안정적으로 고정시켜 주는 기능을 하며, 중앙에 상기 내부관(200)이 삽입될 수 있는 원형 구멍이 형성되어 있고, 상기 외부관(300)의 내경과 같은 외경을 갖는 스페이서(spacer)(410)가 설치되는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 스페이서(spacer)(410)는 직상부에 상기 슬릿(310)에 대응하여 에칭액이 자연스럽게 흘러나갈 수 있도록 하는 유출홈(411)이 형성되어 있고, 양 측면에는 결합홈(412)이 형성되어 있고, 상기 스페이서(spacer)(410)의 상기 결합홈(412)에는 전체 표면에 유통공(432)이 형성되어 있고 상기 스페이서(410)와 결합할 수 있는 결합 홈(431)이 형성되어 있는 분리판(430)이 결합 되는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 분리판(430)에서 상기 내부관(200)의 중앙부(220)에 대응하는 부분에는 유통공(432) 대신 외부관(300)쪽으로 2개 이상의 유통 홈(433)이 형성되는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 스페이서(spacer)(410)의 상기 유출홈(411)과 상기 결합홈(412) 이 형성되어 있는 부위를 제외한 부분에는 에칭액이 자유롭게 유통될 수 있도록 개구부(420)가 형성되어 있는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 노즐 블레이드(400)의 표면은 에칭액의 유속을 빠르게 하기 위하여 안으로 파여진 형상의 만곡부(401)가 형성된 것을 특징으로 한다.
또한, 작동 중 에칭액의 흐름을 외부와 차단하며, 상기 외부관(300)과 상기 노즐 블레이드(400)를 외부에서 감싸는 형상을 가지며, 아래에는 식각하고자 하는 글라스(600)와 글라스 고정 지그(610)가 삽입될 수 있는 개구부가 형성된 가이드(500); 를 더 포함하여 구성되는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 에칭액 유출공(211)은 10mm의 구경을 가지고 25mm 간격으로 배치되며, 상기 중앙 에칭액 유출공(221)은 5mm의 구경을 가지고 50mm 간격으로 배치되는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 의하는 경우, 수직으로 고정된 글라스의 상부 전체에 이중관 노즐의 중앙과 양 외측에서의 유량과 유속의 차이 없이 전체적으로 내부관을 통하여 균일한 흐름을 가지며 외부관의 슬릿을 통하여 균일한 에칭액이 공급되는 이중관 노즐을 이용하여, 글라스의 양 표면을 신속하고 균일하게 원하는 두께로 가공하는 것이 가능하다는 장점이 있다.
또한, 식각 공정 중 글라스를 이송할 필요가 없어 글라스 표면의 손상의 염려가 없어, 가공된 글라스의 품질 및 수율을 향상시킬 수 있다는 장점이 있다.
이하에서는 첨부된 도면을 참조로 하여, 본 발명의 일 실시 예에 따른 이중관 노즐을 가지는 글라스 식각 장치를 상세히 설명한다. 우선, 도면들 중, 동일한 구성요소 또는 부품들은 가능한 한 동일한 참조부호로 나타내고 있음에 유의하여야 한다. 본 발명을 설명함에 있어, 관련된 공지 기능 혹은 구성에 관한 구체적인 설명은 본 발명의 요지를 모호하지 않게 하기 위하여 생략한다.
본 발명은 도 2에 도시한 것과 같이 크게 에칭액 공급 관(110), 내부 관(200), 외부 관(300), 및 노즐 블레이드(400)를 포함하여 구성된다.
먼저, 에칭액 공급 관(110)에 관하여 설명한다. 상기 에칭액 공급 관(110)은 도 2 및 도 3에 도시한 것과 같이, 후술할 내부 관(200)의 양 말단에 에칭액을 공급하기 위하여 두 갈래로 갈라진 형상을 가진다.
다음으로, 내부관(200)에 관하여 설명한다. 상기 내부 관(200)은 도 2 및 도 5에 도시한 것과 같이 양 말단이 상기 에칭액 공급 관(110)에 연결되어 에칭액 을 공급받으며, 표면에 에칭액 유출공(211)이 다수 형성되어 있는 외측부(210)와, 상기 외측부(210)를 서로 연결하며 상기 외측부보다 작은 내경을 가지고 상기 에칭액 유출공(211)보다 작은 구경을 가지는 중앙 에칭액 유출공(221)이 상기 에칭액 유출공(211)보다 더 넓은 간격을 가지며 표면에 다수 형성되어 있는 중앙부(220)로 구성된다. 이러한 상기 내부관(200)의 구성은, 양 말단에서 유입된 에칭액이 상기 내부관(200)의 양 말단에서 중앙으로 흐르는 동안 에칭액 유출공(211)에서 에칭액이 흘러 나가는데 따라 상기 내부관(200)의 중앙으로 갈수록 에칭액의 유량이 감소하는 현상을 고려한 것으로, 상기한 구성의 외측부(210)와 중앙부(220)의 구조를 통해 상기 내부관(200) 전체를 통하여 유출되는 에칭액의 유량과 유속을 균일하게 유지하는 것이 가능하다. 이러한 구조를 가지는 상기 내부관(200)의 일 실시 예로, 상기 에칭액 유출공(211)은 10mm의 구경을 가지고 25mm 간격으로 배치되며, 상기 중앙 에칭액 유출공(221)은 5mm의 구경을 가지고 50mm 간격으로 배치되는 것이 바람직하다.
다음으로, 외부관(300)에 관하여 설명한다. 상기 외부관(300)은 도 2 및 도 6에 도시한 것과 같이 상기 내부 관(200)과 동심축을 가지며 상기 내부관(200)의 외측에 설치되며, 직상부에 에칭액이 균일하게 유출될 수 있는 슬릿(310)이 형성되어 있다. 상기 슬릿(slit)(310)의 양 측면은, 균일한 라미나 플로우(laminar-flow)의 경우 유출구로부터 어느 정도 이상의 거리를 흐를 경우 통제되지 않은 불규칙한 난류성분이 발생하여 흐름이 균일하지 않게 될 우려가 있는 현상을 고려하여, 의도 적으로 에칭액의 흐름에 통제된 무수히 많은 작은 터뷸런스(turbulence)가 형성되어 에칭액이 흘러내리는 거리에 상관 없이 에칭액이 식각하고자 하는 글라스(600) 전체에 걸쳐 더욱 균일하게 유출되도록 하기 위하여, 도 6에 도시한 것과 같이 톱니 형상을 가지도록 성형되는 것이 바람직하다. 이러한 상기 내부관(200)과 외부관(300)의 양 말단에는, 도 2 및 도 9에 도시한 것과 같이 상기 내부관(200)과 외부관(300)의 양 말단을 결합하여 고정시키는 고정판(510)이 결합한다.
한편, 상기 내부관(200)과 상기 외부관(300) 사이에는 2개소 이상에 상기 내부관(200)과 상기 외부관(300)을 더욱 안정적으로 고정시켜 주는 기능을 하며, 도 7에 도시한 것과 같이 중앙에 상기 내부관(200)이 삽입될 수 있는 원형 구멍이 형성되어 있고, 상기 외부관(300)의 내경과 같은 외경을 갖는 스페이서(spacer)(410)가 설치되는 것이 바람직하다. 이 경우, 상기 스페이서(spacer)(410)에는 도 7에 도시한 것과 같이 직상부에 상기 슬릿(310)에 대응하여 에칭액이 자연스럽게 흘러나갈 수 있도록 하는 유출홈(411)이 형성되어 있고, 도 7에 도시한 상기 스페이서(spacer)(410)의 상기 결합홈(412)에는, 도 8에 도시한 것과 같이 양 측면에는 결합홈(412)이 형성되어 있고 전체 표면에 유통공(432)이 형성되어 있으며 상기 스페이서(410)와 결합할 수 있는 결합 홈(431)이 형성되어 있는 분리판(430)이 결합 되어, 에칭액이 자연스러운 흐름을 가지고 균일하게 유출되면서 상기 내부관(200) 과 상기 외부 관(300)을 단단히 고정하도록 하는 것이 바람직하다. 한편, 상기한 바와 같이 상기 내부관(200)의 중앙으로 갈수록 에칭액의 유량이 감소하는 현상을 고려할 때, 상기 분리판(430)은 도 8에 도시한 것과 같이 상기 분리판(430)에서 상기 내부관(200)의 중앙부(220)에 대응하는 부분에는 유통공(432) 대신 외부관(300)쪽으로 2개 이상의 유통 홈(433)이 형성되는 것이 바람직하다. 또한, 상기 스페이서(spacer)(410)의 상기 유출홈(411)과 상기 결합홈(412)이 형성되어 있는 부위를 제외한 부분에는 도 7에 도시한 것과 같이 에칭액이 자유롭고 원활하게 유통될 수 있도록 개구부(420)가 형성되어 있는 것이 바람직하다.
다음으로, 노즐 블레이드(400)에 관하여 설명한다. 상기 노즐 블레이드(400)는 도 2 및 도 3에 도시한 것과 같이 상기 외부관(300)의 직하방에 결합하며, 상기 외부관(300)의 상기 슬릿(310)에서 흘러나온 에칭액이 부드럽게 식각하고자 하는 글라스(glass)(600)로 유도되어 흘러가도록 하는 기능을 가진다. 상기 노즐 블레이드(400)의 표면은 에칭액의 유속을 빠르게 하기 위하여, 도 3 및 도 9에 도시한 것과 같이 안으로 파여진 형상의 만곡부(401)가 형성되는 것이 바람직하다.
한편, 본 발명의 이중관 노즐을 가지는 글라스 식각 장치(100)에는 작동 중 에칭액의 흐름을 외부와 차단하는 기능을 가지고, 상기 외부관(300)과 상기 노즐 블레이드(400)를 외부에서 감싸는 형상을 가지며, 아래에는 식각하고자 하는 글라스(600)와 글라스 고정 지그(610)가 삽입될 수 있는 개구부가 형성된 가이드(500) 를 더 포함하여 구성되는 것이 바람직하다.
이하에서는 본 발명의 일 실시 예에 의한 이중관 노즐을 가지는 글라스 식각 장치(100)의 작동에 관하여 설명한다.
먼저, 도 2 및 도 9에 도시한 것과 같이 글라스 고정 지그(610)에 고정된 식각 대상 글라스(600)가 이중관 노즐을 가지는 글라스 식각 장치(100)의 직하방에 이송되어 글라스(600)가 수직으로 위치하도록 한다.
이후 에칭액 공급관(110)을 통하여 내부 관(200)으로 에칭액이 공급되면, 외측부(210)와 중앙부(220)의 구조에 의해 상기 내부관(200) 전체에 걸쳐 에칭액이 일차적으로 균일한 흐름을 가지며 외부 관(300)과 내부 관(200) 사이의 공간으로 유출된다. 이러한 에칭액의 흐름은 분리판(430)의 유통공(432)과 스페이서(410)의 개구부(420)를 통과하며 더욱 균일해진다. 이렇게 균일해진 에칭액의 흐름은 외부관(300)의 슬릿(310)을 통과하며 도 2 및 도 9에 도시한 것과 같이 외부관(300)의 외부 표면을 타고 흐르며 노즐 블레이드(400)의 표면을 따라 균일하게 흘러내린다. 이 경우, 슬릿(310)에 형성된 톱니 형상(310)은 의도적으로 에칭액의 흐름에 통제된 무수히 많은 작은 터뷸런스(turbulence)가 형성되도록 하여, 에칭액이 흘러내리는 거리에 상관없이 에칭액이 식각하고자 하는 글라스(600) 전체에 걸쳐 더욱 균일하게 흘러가도록 한다.
상기한 과정을 거쳐, 수직으로 고정된 글라스의 상부 전체에 내부관을 통하 여 균일한 흐름을 가지며 외부관의 슬릿을 통하여 균일한 에칭액이 공급되는 이중관 노즐을 이용하여 글라스의 양 표면을 신속하고 균일하게 원하는 두께로 가공하는 것이 가능하며, 식각 공정 중 글라스를 이송할 필요가 없어 글라스 표면의 손상의 염려가 없어, 가공된 글라스의 품질 및 수율을 향상시킬 수 있다.
이상에서는 도면과 명세서에서 최적 실시 예들이 개시되었다. 여기서 특정한 용어들이 사용되었으나, 이는 단지 본 발명을 설명하기 위한 목적에서 사용된 것이지 의미 한정이나 특허청구범위에 기재된 본 발명의 범위를 제한하기 위하여 사용된 것은 아니다. 그러므로 본 기술분야의 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시 예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서 본 발명의 진정한 기술적 보호범위는 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상에 의해 정해져야 할 것이다.
도 1: 기존 발명의 일 실시 예에 의한 글라스 식각장치의 구성 사시도
도 2: 본 발명의 일 실시 예에 의한 이중관 노즐을 가지는 글라스 식각 장치의 전체 외관 사시도
도 3: 본 발명의 일 실시 예에 의한 이중관 노즐을 가지는 글라스 식각 장치의 정면도
도 4: 본 발명의 일 실시 예에 의한 이중관 노즐을 가지는 글라스 식각 장치의 외관 측면도
도 5: 본 발명의 일 실시 예에 의한 이중관 노즐을 가지는 글라스 식각 장치의 내부 관 정면도
도 6: 본 발명의 일 실시 예에 의한 이중관 노즐을 가지는 글라스 식각 장치의 외부 관 삼면도
도 7: 본 발명의 일 실시 예에 의한 이중관 노즐을 가지는 글라스 식각 장치의 스페이서 정면도
도 8: 본 발명의 일 실시 예에 의한 이중관 노즐을 가지는 글라스 식각 장치의 분리판 정면도
도 9: 본 발명의 일 실시 예에 의한 이중관 노즐을 가지는 글라스 식각 장치의 작동 측면도
도 10: 본 발명의 일 실시 예에 의한 이중관 노즐을 가지는 글라스 식각 장치의 주요 작동부 측면도
<도면의 주요부에 사용된 기호의 설명>
100: 이중관 노즐을 가지는 글라스 식각 장치
110: 에칭액 공급관
200: 내부 관(inner-pipe)
210: 외측부 211: 에칭액 유출공
220: 중앙부 221: 중앙 에칭액 유출공
300: 외부 관(outer-pipe)
310: 슬릿(slit) 320: 톱니 형상
400: 노즐 블레이드(nozzle blade)
401: 만곡부
410: 스페이서 411: 유출 홈
412: 결합 홈
420: 개구부
430: 분리판 431: 결합 홈
432: 유통공 433: 유통홈
500: 가이드 510: 고정판
600: 글라스(glass)
610: 글라스 고정 지그

Claims (9)

  1. 화면표시장치용 글라스에 인쇄 또는 증착을 통해 회로소자 및 단자 등의 패턴 형성 공정 후, 불필요한 부분을 에칭액을 분사하여 식각 하도록 된 화면표시장치용 글라스 식각 장치에 있어서,
    에칭액을 공급하는 에칭액 공급관(110);
    상기 에칭액 공급관(110)에 양 말단이 연결되어 있으며, 표면에 에칭액 유출공(211)이 다수 형성되어 있는 외측부(210)와, 상기 외측부(210)를 서로 연결하며 상기 외측부보다 작은 내경을 가지고 상기 에칭액 유출공(211)보다 작은 구경을 가지는 중앙 에칭액 유출공(221)이 상기 에칭액 유출공(211)보다 더 넓은 간격을 가지며 표면에 다수 형성되어 있는 중앙부(220)로 구성되는 내부관(inner-pipe)(200);
    상기 내부관(200)과 동심축을 가지며 상기 내부관(200)의 외측에 설치되며, 직상부에 양 측면은 톱니 형상(320)을 가지도록 성형되어 있는 슬릿(310)이 형성되어 있는 외부관(outer-pipe)(300);
    상기 외부관(300)의 직하방에 결합하며, 상기 외부관(300)의 상기 슬릿(310)에서 흘러나온 에칭액이 부드럽게 식각하고자 하는 글라스(glass)(600)로 유도되어 흘러가도록 하는 노즐 블레이드(nozzle-blade)(400);
    상기 내부관(200)과 외부관(300)의 양 말단을 결합하여 고정시키는 고정판(510); 을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 이중관 노즐을 가지는 글라스 식각 장치(100).
  2. 삭제
  3. 청구항 1에 있어서,
    상기 내부관(200)과 상기 외부관(300) 사이에는 2개소 이상에 상기 내부관(200)과 상기 외부관(300)을 더욱 안정적으로 고정시켜 주는 기능을 하며, 중앙에 상기 내부관(200)이 삽입될 수 있는 원형 구멍이 형성되어 있고, 상기 외부관(300)의 내경과 같은 외경을 갖는 스페이서(spacer)(410)가 설치되는 것을 특징으로 하는 이중관 노즐을 가지는 글라스 식각 장치(100).
  4. 청구항 3에 있어서,
    상기 스페이서(spacer)(410)는 직상부에 상기 슬릿(310)에 대응하여 에칭액이 자연스럽게 흘러나갈 수 있도록 하는 유출홈(411)이 형성되어 있고, 양 측면에는 결합홈(412)이 형성되어 있고,
    상기 스페이서(spacer)(410)의 상기 결합홈(412)에는 전체 표면에 유통 공(432)이 형성되어 있고 상기 스페이서(410)와 결합할 수 있는 결합 홈(431)이 형성되어 있는 분리판(430)이 결합 되는 것을 특징으로 하는 이중관 노즐을 가지는 글라스 식각 장치(100).
  5. 청구항 4에 있어서,
    상기 분리판(430)에서 상기 내부관(200)의 중앙부(220)에 대응하는 부분에는 유통공(432) 대신 외부관(300)쪽으로 2개 이상의 유통 홈(433)이 형성되는 것을 특징으로 하는 이중관 노즐을 가지는 글라스 식각 장치(100).
  6. 청구항 5에 있어서,
    상기 스페이서(spacer)(410)의 상기 유출홈(411)과 상기 결합홈(412)이 형성되어 있는 부위를 제외한 부분에는 에칭액이 자유롭게 유통될 수 있도록 개구부(420)가 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 이중관 노즐을 가지는 글라스 식각 장치(100).
  7. 청구항 6에 있어서,
    상기 노즐 블레이드(400)의 표면은 에칭액의 유속을 빠르게 하기 위하여 안 으로 파여진 형상의 만곡부(401)가 형성된 것을 특징으로 하는 이중관 노즐을 가지는 글라스 식각 장치(100).
  8. 청구항 7에 있어서,
    작동 중 에칭액의 흐름을 외부와 차단하며, 상기 외부관(300)과 상기 노즐 블레이드(400)를 외부에서 감싸는 형상을 가지며, 아래에는 식각하고자 하는 글라스(600)와 글라스 고정 지그(610)가 삽입될 수 있는 개구부가 형성된 가이드(500); 를 더 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 이중관 노즐을 가지는 글라스 식각 장치(100).
  9. 청구항 8에 있어서,
    상기 에칭액 유출공(211)은 10mm의 구경을 가지고 25mm 간격으로 배치되며,
    상기 중앙 에칭액 유출공(221)은 5mm의 구경을 가지고 50mm 간격으로 배치되는 것을 특징으로 하는 이중관 노즐을 가지는 글라스 식각 장치(100).
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Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1083982A (ja) 1996-08-16 1998-03-31 Lg Semicon Co Ltd ウェーハの洗浄装置
KR0176734B1 (ko) * 1995-12-20 1999-04-15 조장연 고압분사식 에칭법 및 그 장치
KR20030056530A (ko) * 2001-12-28 2003-07-04 엘지.필립스 엘시디 주식회사 액체분사 노즐
KR20060083634A (ko) * 2005-01-18 2006-07-21 삼성전자주식회사 기판의 처리방법과 장치

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR0176734B1 (ko) * 1995-12-20 1999-04-15 조장연 고압분사식 에칭법 및 그 장치
JPH1083982A (ja) 1996-08-16 1998-03-31 Lg Semicon Co Ltd ウェーハの洗浄装置
KR20030056530A (ko) * 2001-12-28 2003-07-04 엘지.필립스 엘시디 주식회사 액체분사 노즐
KR20060083634A (ko) * 2005-01-18 2006-07-21 삼성전자주식회사 기판의 처리방법과 장치

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