KR100872561B1 - 배향막 형성 전사판 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 배향막 형성 전사판에 관한 것으로, 인쇄된 배향제를 기판상에 도포하여 배향막을 형성하는 전사판에 있어서, 상기 전사판은 베이스 필름과 APR층으로 이루어지며, 상기 APR층에는 수개의 망점들이 규칙적으로 배열되어 있으며, 상기 기판의 액티브 영역 바깥쪽에 대응하는 외부 망점의 배열은 상기 기판의 액티브 영역 안쪽에 대응하는 내부 망점의 배열에 비하여 조밀한 것을 특징으로 하며, 액티브 영역 바깥쪽에 형성된 배향막의 끝 부분까지 두께를 균일하게 할 수 있으므로 결과적으로 균일 러빙에 의한 균일한 화질 특성을 얻을 수 있으며, 배향제 도포의 불균일에 의한 액뭉침 현상이 발생하지 않으므로 씰링 라인과의 겹침에 따른 셀 갭 불균일 문제를 해소할 수 있는 효과가 있는 것이다.

Description

배향막 형성 전사판{APR PLATE FOR COATING ORIENTING FILM}
도 1은 일반적인 배향막 도포 장치를 도시한 사시도.
도 2는 종래 기술에 따른 배향막 형성 전사판을 도시한 평면 및 정면도.
도 3은 종래 기술에 따른 배향막 형성 전사판을 이용한 배향막 형성을 도시한 단면도.
도 4는 본 발명에 따른 배향막 형성 전사판을 도시한 평면 및 정면도.
도 5는 본 발명에 따른 배향막 형성 전사판을 이용한 배향막 형성을 도시한 단면도.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 *
100; 기판 120; 액티브 영역
140; 배향막 600; 전사판
620; 베이스 필름 640; APR층
660; 내부 망점 670; 외부 망점
700; 가상선 800; 배향제
본 발명은 배향막 형성 전사판에 관한 것으로, 보다 상세하게는 배향막을 균일한 두께로 형성할 수 있는 배향막 형성 전사판에 관한 것이다.
일반적으로 LCD (Liquid Crystal Display)라고 지칭되는 액정 디스플레이 장치는 전압을 인가함에 따라 변화하는 액정의 광학 성질을 이용하여 상(Image)을 표현하는 것으로, 한 쌍의 글래스 기판과 글래스 기판 사이에 주입된 액정으로 이루어진 액정 패널과, 액정 패널에 전기 신호를 인가하기 위한 인쇄회로기판(PCB) 등으로 이루어져 있다.
액정 디스플레이 장치에 있어서 균일한 밝기와 높은 대비비(Contrast Ratio)를 얻기 위해서는 액정 패널내의 액정 분자들이 일정한 방향으로 배열되어야 한다. 이와 같이 액정 분자들을 일정한 방향으로 배열시키기 위한 목적으로 폴리이미드(Polyimide)와 같은 배향제를 기판위에 코팅하여 배향막을 형성한다.
기판위에 배향막을 형성하기 위하여는, 도 1에 도시된 바와 같이, 디스펜서(50;Dispenser)로 폴리이미드를 아니록스 롤(30;Anilox Roll)상에 배출한다. 배출된 폴리이미드는 닥터 블레이드(40;Doctor Blade)에 의해 아니록스 롤(30)상에 얇고 균일하게 도포된다. 도포된 폴리이미드는 미리 패터닝된 전사판(60;APR Plate)에 인쇄되고, 전사판(60)에 인쇄된 폴리이미드는 코팅 롤(20;Coating Roll)에 의해 기판(10)에 코팅되어 배향막이 형성된다.
이와 같이, 기판위에 배향막을 형성하기 위해서는 중합체 물질로 이루어진 전사판(APR plate;Asai Kasei Photosenstive Resin Plate)이 이용된다.
종래 기술에 따른 배향막 형성 전사판은, 도 2에 도시된 바와 같이, 고무계 물질의 베이스 필름(62;Base Film)과 APR층(64)으로 이루어진 2층 구조이며, 전사판(60)의 망점선수는 인치당 약 400선이다. 여기서, 망점(66)의 지름(d)은 약 42㎛이고, 망점(66)간의 피치(p)는 약 62㎛ 정도로서, 가상선(70)으로 둘러싸인 액티브 영역 내부 및 외부 같은 규격이다.
도 3에 도시된 바와 같이, 폴리이미드와 같은 배향제(70)가 인쇄된 전사판(60)을 이용하여 기판(10)의 액티브 영역(12)에 배향제(70)를 코팅하여 배향막(14)을 형성한다.
그러나, 종래 기술에 따른 배향막 형성 전사판에 있어서는 다음과 같은 문제점이 있다.
종래 기술에 있어서, 기판상에의 배향막 형성시 전사판의 끝 부분에서 인압(Coating Pressure)이 크게 작용한다. 여기서, 인압이란 전사판과 기판간에 작용하는 힘으로 전사판이 기판에 눌리는 정도를 나타낸다.
따라서, 도 3에 도시된 바와 같이, 전사판(60)의 끝 부분에 해당하는 영역(A)에 형성되는 배향막(14)의 두께는 다른 부분과 달리 상대적으로 크게 된다. 이러한 현상이 진전되면 액뭉침으로 발전하게 되어 액티브 영역(12) 밖의 배향막(14) 끝 부분(A)과 씰링 라인(미도시)이 겹치는 영역에서는 셀 갭(Cell Gap)이 높아지게 되고, 결과적으로 셀 갭 불량을 초래하게 되는 문제점이 있다.
이에 본 발명은 상기한 종래 기술상의 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로, 본 발명의 목적은 액티브 영역 밖에 해당하는 전사판의 망점선수를 증가시켜 배향제 부피를 적게함으로써 전사판 끝 부분에 강한 인압이 작용하도라도 균일한 두께로 배향막을 형성할 수 있는 배향막 형성 전사판을 제공함에 있다.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 배향막 형성 전사판은, 인쇄된 배향제를 기판상에 도포하여 배향막을 형성하는 전사판에 있어서, 상기 전사판은 베이스 필름과 APR(Asai Kasei Photosensitive Resin)으로 이루어지며, 상기 APR(Asai Kasei Photosensitive Resin)층에는 수개의 망점들이 규칙적으로 배열되어 있으며, 상기 기판의 액티브 영역 바깥쪽에 대응하는 외부 망점의 배열은 상기 기판의 액티브 영역 안쪽에 대응하는 내부 망점의 배열에 비하여 망점간의 거리가 상대적으로 짧아지도록 조밀하게 배치된 것을 특징으로 한다.
본 발명에 의하면, 배향막의 두께는 액티브 영역 안쪽과 바깥쪽을 불문하고 균일하게 된다.
이하, 본 발명에 따른 배향막 형성 전사판을 첨부한 도면을 참조하여 상세히 설명한다.
도 4는 본 발명에 따른 배향막 형성 전사판을 도시한 평면 및 정면도이고, 도 5는 본 발명에 따른 배향막 형성 전사판을 이용한 배향막 형성을 도시한 단면도이다.
본 발명에 따른 배향막 형성 전사판은, 도 4에 도시된 바와 같이, 폴리에스테르(polyester) 재질의 베이스 필름(620;base film)과 불포화 폴리부타딘(polybutadine) 수지 재질의 ARP층(640)으로 이루어진 2층 구조이다. 상기 베이스 필름(620)의 두께는 약 0.25mm 정도이며, 상기 전사판(600)의 총두께는 약 2.85mm 정도이다.
상기 APR층(640)에는 수개의 망점(670)(660)들이 규칙적으로 배열되어 있는데, 가상선(700)으로 둘러싸인 기판(미도시)의 액티브 영역 바깥쪽에 대응하는 외부 망점(670)의 배열은 상기 가상선(70)으로 둘러싸인 상기 기판(미도시)의 액티브 영역 안쪽에 대응하는 내부 망점(660)의 배열에 비하여 조밀하다.
상기 내부 망점(660)의 지름(D1)과 상기 외부 망점(670)의 지름(D2)이 모두 42㎛로 동일하지만, 상기 내부 망점(660)간의 피치(P1)는 약 62㎛인 반면에 상기 외부 망점(670)간의 피치(P2)는 약 45㎛ 정도 된다.
따라서, 상기 전사판(600)에 있어서 상기 기판(미도시)의 액티브 영역 바깥쪽은 액티브 영역의 안쪽보다 망점선수가 크게 되어 결과적으로 망점인 볼록부의 면적율은 크게 된다.
예를 들어, 상기 내부 망점(660)은 망점선수가 인치당 400선수 정도로 볼록부인 망점의 면적율은 약 36% 정도인 반면, 상기 외부 망점(670)은 망점선수가 인치당 400선수 이상 바람직하게는 560선수 정도로 볼록부인 망점의 면적율은 36% 이상 바람직하게는 68% 정도이다.
내부 망점선의 각도(θ1)와 외부 망점선의 각도(θ2)는 공히 아니록스 롤(미도시)과 액을 주고 받는 최적의 각도를 고려하여 약 75°정도이다.
한편, 액티브 영역 바깥쪽의 망점선이 조밀한 영역인 외부 망점(670) 영역은 액티브 영역에서부터 배향막 끝까지의 영역이다. 예를 들어 외부 망점 영역(670)은 1mm 이상 6mm 이하이거나, 전사판(600) 끝에서부터 액티브 영역쪽으로 1mm 미만일 수 있다.
도 5에 도시된 바와 같이, 폴리이미드와 같은 배향제(800)가 인쇄된 전사판(600)을 이용하여 기판(100)의 액티브 영역(120)에 배향제(800)를 코팅하여 배향막(140)을 형성한다.
상기와 같이 액티브 영역 내외의 망점선수가 차이가 나는 전사판(600), 즉 액티브 영역 바깥쪽의 외부 망점(670)간의 거리가 액티브 영역 안쪽의 내부 망점(660)간의 거리보다 짧아 상기 외부 망점(670)간에 채워지는 배향제(800) 양이 적게된다. 그결과, 상기 전사판(600)의 끝부분에 강한 인압이 걸리더라도 상기 기판(100)의 액티브 영역(120) 내외를 불문하고 거의 같은 양의 액이 기판(100)상에 전사된다. 따라서, 상기 기판(100)상에 형성되는 배향막(140)의 두께는 액티브 영역(120) 안쪽과 바깥쪽을 불문하고 균일하게 된다.
본 발명의 원리와 정신에 위배되지 않는 범위에서 여러 실시예는 당해 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 자명할 뿐만 아니라 용이하게 실시할 수 있다. 따라서, 본원에 첨부된 특허청구범위는 이미 상술된 것에 한정되지 않으며, 하기 특허청구범위는 당해 발명에 내재되어 있는 특허성 있는 신규한 모든 사항을 포함하며, 아울러 당해 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해서 균등하게 처리되는 모든 특징을 포함한다.
이상에서 설명한 바와 같이, 본 발명에 따른 배향막 형성 전사판에 의하면, 액티브 영역 바깥쪽에 형성된 배향막의 끝 부분까지 두께를 균일하게 할 수 있으므 로 결과적으로 균일 러빙에 의한 균일한 화질 특성을 얻을 수 있다.
또한, 배향제 도포의 불균일에 의한 액뭉침 현상이 발생하지 않으므로 씰링 라인과의 겹침에 따른 셀 갭 불균일 문제를 해소할 수 있는 효과가 있다.

Claims (5)

  1. 인쇄된 배향제를 기판상에 도포하여 배향막을 형성하는 전사판에 있어서,
    상기 전사판은 베이스 필름과 APR(Asai Kasei Photosensitive Resin)으로 이루어지며, 상기 APR(Asai Kasei Photosensitive Resin)층에는 볼록부인 수개의 망점들이 동일한 크기와 망점선 각도로 규칙적으로 배열되어 있으며,
    상기 기판의 액티브 영역 바깥쪽에 대응하는 외부 망점의 배열은, 상기 기판의 액티브 영역 안쪽에 대응하는 내부 망점의 배열에 비하여 망점 간의 피치가 작게 설정됨으로 인해 망점간의 거리가 상대적으로 짧아지도록 조밀하게 배치됨으로써, 액티브 영역 바깥쪽에 대응하는 외부 망점 사이에 채워지는 배향제의 양이 액티브 영역 안쪽에 대응하는 내부 망점 사이에 채워지는 배향제의 양보다 적어지도록 한 것을 특징으로 하는 배향막 형성 전사판.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 내부 망점은 인치당 400선수이고, 상기 외부 망점은 인치당 560선수인 것을 특징으로 하는 배향막 형성 전사판.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 내부 망점은 지름이 42㎛이고 내부 망점간의 피치는 62㎛이며, 상기 외부 망점은 지름이 42㎛이고 외부 망점간의 피치는 45㎛인 것을 특징으로 하는 배향막 형성 전사판.
  4. 제2항에 있어서,
    상기 내부 망점 및 외부 망점의 망점선 각도는 75°인 것을 특징으로 하는 배향막 전사판.
  5. 제2항에 있어서,
    상기 외부 망점 영역은 상기 기판의 액티브 영역에서 배향막의 끝 부분까지의 영역에 대응하는 것을 특징으로 하는 배향막 형성 전사판.
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Families Citing this family (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20050118445A (ko) * 2004-06-14 2005-12-19 비오이 하이디스 테크놀로지 주식회사 액정 표시 장치용 러빙 장치
JP4260219B2 (ja) 2006-05-16 2009-04-30 シャープ株式会社 表示パネルの製造方法、表示パネルの製造装置、及び表示パネル
KR101394571B1 (ko) 2007-12-31 2014-05-13 엘지디스플레이 주식회사 배향막 형성용 전사판
JP5305262B2 (ja) * 2008-07-17 2013-10-02 株式会社ジャパンディスプレイ 液晶表示装置
CN102627042A (zh) * 2011-07-01 2012-08-08 京东方科技集团股份有限公司 一种制作取向膜的装置和方法以及该装置的制造方法
CN102375268A (zh) * 2011-11-18 2012-03-14 南京中电熊猫液晶显示科技有限公司 配向版和使用该配向版形成配向膜层的方法
JP6035137B2 (ja) 2012-12-19 2016-11-30 株式会社ジャパンディスプレイ 配向膜印刷版および液晶表示装置の製造方法
CN103698941B (zh) * 2013-12-19 2016-03-02 合肥京东方光电科技有限公司 一种定向液转印的方法及转印装置
CN104317109A (zh) * 2014-11-17 2015-01-28 合肥鑫晟光电科技有限公司 一种配向版
CN104317110B (zh) * 2014-11-21 2017-06-30 合肥京东方光电科技有限公司 一种转印版
KR102323241B1 (ko) * 2015-04-29 2021-11-08 삼성디스플레이 주식회사 배향막 제조 장치 및 이를 이용한 액정 표시 장치의 제조 방법
CN104849914B (zh) * 2015-05-26 2017-12-01 京东方科技集团股份有限公司 一种转印版
CN105137662B (zh) * 2015-10-15 2018-01-02 京东方科技集团股份有限公司 基板及其制作方法、显示装置
JP6278942B2 (ja) * 2015-10-21 2018-02-14 日本航空電子工業株式会社 フレキソ印刷による絶縁膜の形成方法
JP6255462B2 (ja) * 2016-10-31 2017-12-27 株式会社ジャパンディスプレイ 配向膜印刷版
CN106773339A (zh) * 2017-01-22 2017-05-31 京东方科技集团股份有限公司 一种转印板、转印板的转印方法及显示面板
CN106707625A (zh) * 2017-01-23 2017-05-24 武汉华星光电技术有限公司 配向膜印刷版及其制作方法
CN108008578B (zh) * 2017-11-28 2020-06-09 深圳市华星光电技术有限公司 一种用于在基板上涂布配相膜的转印板及液晶显示面板
CN111190309B (zh) * 2020-02-27 2021-05-07 武汉华星光电技术有限公司 显示面板及其制备方法、转印装置

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0358385A (ja) * 1989-07-25 1991-03-13 Fujitsu Ltd 半導体装置
JPH09281494A (ja) * 1996-04-12 1997-10-31 Matsushita Electron Corp 配向膜印刷版

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3620754A1 (de) * 1986-06-20 1987-12-23 Porsche Ag Brennkraftmaschine fuer ein kraftfahrzeug
JPH06305115A (ja) * 1993-04-27 1994-11-01 Matsushita Electric Ind Co Ltd 配向膜溶液転写版
US5894799A (en) * 1997-10-01 1999-04-20 E. I. Du Pont De Nemours And Company Element for cushioning a flexographic printing plate
US6382099B1 (en) * 1999-05-17 2002-05-07 Mark L. Herrmann Printing apparatus and method for preventing barring or banding on a printed substrate
DE19929901A1 (de) * 1999-06-29 2001-01-04 Sandy Screen Ag Zug Form eines Druckelements beim Offset-Druckverfahren

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0358385A (ja) * 1989-07-25 1991-03-13 Fujitsu Ltd 半導体装置
JPH09281494A (ja) * 1996-04-12 1997-10-31 Matsushita Electron Corp 配向膜印刷版

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