KR100833941B1 - TBGA semiconductor package - Google Patents

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Abstract

티비지에이 반도체패키지를 개시한다. 본 발명은 소정의 캐비티를 가지는 필름과, 필름상에 패턴화된 회로패턴층과, 회로패턴층의 일부분에 형성되는 광솔더레지스터를 가지는 회로테이프;과, 회로패턴층이 형성된 필름의 반대면에 도전층 소재를 매개로 하여 전기도금으로 형성된 프레임;과, 필름에 형성된 캐비티에 실장되어 회로패턴층과 전기적으로 연결된 반도체칩;을 포함한다.A TV package is disclosed. The present invention is a circuit tape having a film having a predetermined cavity, a circuit pattern layer patterned on the film, and a photosolder register formed on a portion of the circuit pattern layer; and on the opposite side of the film on which the circuit pattern layer is formed. A frame formed by electroplating through a conductive layer material, and a semiconductor chip mounted on a cavity formed in the film and electrically connected to the circuit pattern layer.

Description

티비지에이 반도체 패키지{TBGA semiconductor package}TVA semiconductor package {TBGA semiconductor package}

도 1은 종래의 티비지에이 반도체 패키지를 개략적으로 도시한 단면도,1 is a cross-sectional view schematically showing a conventional TVA semiconductor package;

도 2는 도 1의 프레임에 대하여 회로테이프가 부착된 상태를 개략적으로 도시한 단면도,2 is a cross-sectional view schematically showing a state in which a circuit tape is attached to the frame of FIG. 1;

도 3은 도 2의 프레임과 회로테이프가 결합되는 과정을 단계적으로 도시한 순서도,3 is a flowchart illustrating a process of combining the frame and the circuit tape of FIG.

도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 티비지에이 반도체 패키지를 개략적으로 도시한 단면도,4 is a cross-sectional view schematically showing a TVA semiconductor package according to an embodiment of the present invention;

도 5a 내지 도 5f는 도 4의 프레임과 회로테이프를 단계별로 제조한 이후의 상태를 도시한 것으로서,5A to 5F illustrate a state after the frame and the circuit tape of FIG. 4 are manufactured step by step.

도 5a는 필름상에 금속박막이 형성된 이후의 상태를 도시한 단면도,5A is a cross-sectional view showing a state after a metal thin film is formed on a film;

도 5b는 도 5a의 필름에 포토레지스터를 도포하여 노광 및 현상한 이후의 상태를 도시한 단면도,5B is a cross-sectional view illustrating a state after the photoresist is applied to the film of FIG. 5A by exposure and development;

도 5c는 도 5b의 필름에 에칭 및 박리한 이후의 상태를 도시한 단면도,5C is a cross-sectional view illustrating a state after etching and peeling the film of FIG. 5B;

도 5d는 도 5c의 필름에 광솔더레지스터를 도포한 이후의 상태를 도시한 단면도, Figure 5d is a cross-sectional view showing a state after applying the photosolder register to the film of Figure 5c,

도 5e는 도 5d의 필름에 보호막층을 도포하고, 프레임을 형성한 이후의 상태 를 도시한 단면도,5E is a cross-sectional view showing a state after applying a protective film layer to the film of FIG. 5D and forming a frame;

도 5f는 도 5e의 보호막층을 제거한 이후의 상태를 도시한 단면도,5F is a cross-sectional view illustrating a state after removing the protective film layer of FIG. 5E;

도 6은 도 4의 회로테이프와 프레임이 결합되는 과정을 단계적으로 도시한 순서도. FIG. 6 is a flowchart illustrating a process of combining the circuit tape and the frame of FIG.

<도면의 주요 부분에 대한 간단한 설명><Brief description of the main parts of the drawing>

10,40...반도체 패키지 11,41,51...회로테이프10,40 ... semiconductor package 11,41,51 ... circuit tape

12...접착부재 13,43,57...프레임12 ... adhesive 13,43,57 ... frame

14,44...반도체 칩 16,46...몰딩재14,44 ... semiconductor chip 16,46 ... molding material

17,47...솔더볼 41a...필름Solderball 41a Film

41b,54...회로패턴층 41c,55...광솔더레지스터41b, 54 Circuit pattern layer 41c, 55 Photosolder register

56...보호막층56.Protective layer

본 발명은 티비지에이 반도체 패키지에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 회로테이프와 이와 부착되는 프레임이 결합되는 방법과 이에 따른 구조가 개선된 티비지에이 반도체 패키지에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a TVA semiconductor package, and more particularly, to a method of combining a circuit tape and a frame attached thereto and a TVV semiconductor package having improved structure.

통상적으로, 티비지에이(TBGA, tape ball grid array) 반도체 패키지는 회로패턴층이 형성된 회로테이프가 열을 방출하는 방열판(heat sink)상에 직접적으로 부착되는 원피스형(one-piece type)과, 지지역할을 하는 스티프너(stiffener)와 방 열판으로 된 복수개의 프레임상에 부착되는 투피스형(two-piece type)으로 분류할 수 있다. In general, a tape ball grid array (TBGA) semiconductor package is a one-piece type in which a circuit tape on which a circuit pattern layer is formed is directly attached onto a heat sink for dissipating heat. It can be classified into a two-piece type that is attached to a plurality of frames of stiffeners and heat sinks.

이러한 티비지에이 반도체 패키지는 프레임에 형성된 캐비티(cavity)를 통하여 반도체 칩이 실장되고, 반도체 칩과, 회로테이프의 회로패턴층이 와이어에 의하여 전기적으로 접속되고, 회로패턴층에 형성된 솔더볼 랜드부에 솔더볼이 부착되는 구조이다. In the TVA semiconductor package, a semiconductor chip is mounted through a cavity formed in a frame, a semiconductor chip and a circuit pattern layer of a circuit tape are electrically connected by wires, and solder balls are formed on the solder ball land portion formed in the circuit pattern layer. This is the structure to be attached.

도 1은 종래의 원피스형 티비지에이 반도체 패키지(10)를 도시한 것이다.1 illustrates a conventional one-piece TVA semiconductor package 10.

도면을 참조하면, 상기 반도체 패키지(10)는 회로패턴층이 형성된 회로테이프(11)와, 상기 회로테이프(11)의 아랫면에 접착부재(12)를 매개로 하여 부착되는 프레임(13)과, 상기 프레임(13)에 형성된 캐비티(13a)에 실장되는 반도체 칩(14)과, 상기 회로테이프(11)와 반도체 칩(14)을 와이어본딩시키는 와이어(15)와, 와이어본딩되는 부분을 몰딩하는 몰딩재(16)와, 상기 회로테이프(11)에 부착되는 솔더볼(17)을 포함한다.Referring to the drawings, the semiconductor package 10 includes a circuit tape 11 having a circuit pattern layer formed thereon, a frame 13 attached to a lower surface of the circuit tape 11 via an adhesive member 12, and The semiconductor chip 14 mounted in the cavity 13a formed in the frame 13, the wire 15 for wire bonding the circuit tape 11 and the semiconductor chip 14, and a portion for molding the wire bonded portion are molded. A molding material 16 and a solder ball 17 attached to the circuit tape 11 is included.

상기 반도체 패키지(10)는 회로테이프(11)와, 프레임(13)을 각각 준비하여 라미네이팅시켜서, 프레임(13)에 대하여 회로테이프(11)를 부착시킨다.The semiconductor package 10 prepares and laminates the circuit tape 11 and the frame 13 to attach the circuit tape 11 to the frame 13.

도 2는 상기 회로테이프(11)와, 프레임(13)이 상호 부착된 상태를 도시한 것이고, 도 3은 이러한 결합과정을 단계별로 도시한 순서도를 도시한 것이다.FIG. 2 illustrates a state in which the circuit tape 11 and the frame 13 are attached to each other, and FIG. 3 illustrates a flow chart showing the coupling process step by step.

여기서, 앞서 도시된 도면에서와 동일한 참조번호는 동일한 기능을 하는 동일한 부재를 가리킨다.Here, the same reference numerals as in the above-described drawings indicate the same members having the same function.

도 2 및 도 3을 참조하여, 종래의 회로테이프(11)와, 프레임(13)의 제조과정 을 살펴보면 다음과 같다.Referring to Figures 2 and 3, the manufacturing process of the conventional circuit tape 11 and the frame 13 as follows.

우선, 폴리이미드와 같은 고분자 필름(11a)을 마련하고, 상기 필름(11a)상에 제1 접착부재(21)를 매개로 금속 호일을 부착시킨다.(S10) 이어서, 상기 금속 호일을 통상적인 포토리소그래피 공정을 통하여 패턴화시켜서 회로패턴층(11b)을 형성시킨다. 회로패턴층(11b)이 형성된 필름(11a)상에는 상기 회로패턴층(11b)이 형성된 이외의 부분에 광솔더레지스터(PSR,photo solder resistor,11c)를 형성시킨다.(S20) 이에 따라, 회로패턴층(11b)이 형성된 회로테이프(11)가 완성된다. 이어서, 상기 필름(11a)의 일면, 즉, 회로패턴층(11b)이 형성된 반대면에는 제2 접착부재(12)을 부착시킨다.(S30)First, a polymer film 11a such as polyimide is prepared, and a metal foil is attached onto the film 11a via a first adhesive member 21. (S10) Next, the metal foil is coated with a conventional photo. The circuit pattern layer 11b is formed by patterning through a lithography process. On the film 11a on which the circuit pattern layer 11b is formed, a photo solder resistor (PSR) 11c is formed on a portion other than the circuit pattern layer 11b. (S20) Accordingly, the circuit pattern The circuit tape 11 on which the layer 11b is formed is completed. Subsequently, the second adhesive member 12 is attached to one surface of the film 11a, that is, the opposite surface on which the circuit pattern layer 11b is formed.

한편, 상기 회로테이프(11)와 결합되는 프레임(13), 예컨대 방열판이나 스티프너가 마련된다. 상기 프레임(13)은 회로테이프(11)와 부착시 위치정렬을 위한 가이드 홀등이 다수개 형성된 스트립 상태로 제공되고, 그 상부에는 반도체 칩이 실장될 부분에 해당되는 캐비티가 하프에칭등에 의하여 형성되어 있다.(S40)On the other hand, the frame 13 is coupled to the circuit tape 11, for example, a heat sink or a stiffener is provided. The frame 13 is provided in a strip state in which a plurality of guide holes, etc. for position alignment when attached to the circuit tape 11 are provided, and a cavity corresponding to a portion where the semiconductor chip is to be mounted is formed by half etching, etc., on the upper portion thereof. (S40)

이렇게 각각 마련된 상기 회로테이프(11)와, 프레임(13)은 상기 프레임(13)에 대하여 회로테이프(11)를 테이핑하고, 소정의 압력을 인가하여 롤링하고, 프레싱하여 상호 라미네이팅시키게 된다.(S50)Each of the circuit tapes 11 and the frame 13 thus provided tapes the circuit tape 11 to the frame 13, rolls by applying a predetermined pressure, and presses the laminate to laminate each other (S50). )

이후 공정으로는, 널리 알려진 바대로, 반도체 칩을 캐비티에 실장하고, 와이어본딩하고, 이를 몰딩하고, 솔더볼을 부착하여 하나의 티비지에이 반도체 패키지를 완성하게 된다. Subsequently, as is widely known, a semiconductor chip is mounted in a cavity, wire bonded, molded, and solder balls are attached to complete a TV package.

그런데, 종래의 티비지에이 반도체 패키지의 제조과정은 다음과 같은 문제점 을 가지고 있다.However, the manufacturing process of the conventional TVA semiconductor package has the following problems.

상술한 바대로, 회로테이프를 제작하는 공정과, 프레임을 제작하는 공정과, 회로테이프에 접착부재를 부착시키는 공정과, 프레임에 대하여 회로테이프를 부착시키는 공정으로 크게 분류할 수 있고, 각각의 공정에는 포토리소그래피 공정이나, 테이핑 공정이나, 롤링 공정이나, 프레싱 공정등의 세부적인 공정이 추가적으로 포함되어 있으므로 제조공정이 복잡하다.As described above, the process can be broadly classified into a process of manufacturing a circuit tape, a process of manufacturing a frame, a process of attaching an adhesive member to the circuit tape, and a process of attaching a circuit tape to the frame. The manufacturing process is complicated because the photolithography process, the taping process, the rolling process, and the pressing process further include detailed processes.

또한, 상기 회로테이프(11)와 프레임(13) 사이에는 접착부재(12)가 개재되어 있어서, 반도체 패키지의 구동중에 발생되는 열이 방출되는 경로가 길어지게 되어서 열방출 효율이 저하된다.In addition, since the adhesive member 12 is interposed between the circuit tape 11 and the frame 13, a path for dissipating heat generated during driving of the semiconductor package is lengthened, thereby reducing heat dissipation efficiency.

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 회로테이프의 일면에 결합되는 프레임을 전기도금법으로 형성시켜 제조공정이 단순화되고, 열방출효율이 향상된 티비지에이 반도체 패키지를 제공하는데 그 목적이 있다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned problems, and an object thereof is to provide a TVA semiconductor package in which a manufacturing process is simplified and heat dissipation efficiency is improved by forming a frame coupled to one surface of a circuit tape by electroplating.

상기와 같은 목적을 달성하기 위하여 본 발명의 일 측면에 따른 티비지에이 반도체 패키지는,In order to achieve the above object, the TV package semiconductor package according to an aspect of the present invention,

소정의 캐비티를 가지는 필름과, 상기 필름상에 패턴화된 회로패턴층과, 상기 회로패턴층의 일부분에 형성되는 광솔더레지스터를 가지는 회로테이프;A circuit tape having a film having a predetermined cavity, a circuit pattern layer patterned on the film, and an optical solder register formed on a portion of the circuit pattern layer;

상기 회로패턴층이 형성된 필름의 반대면에 도전층 소재를 매개로 하여 전기도금으로 형성된 프레임; 및 A frame formed by electroplating on the opposite surface of the film on which the circuit pattern layer is formed via a conductive layer material; And                     

상기 필름에 형성된 캐비티에 실장되어 상기 회로패턴층과 전기적으로 연결된 반도체칩;을 포함하는 것을 특징으로 한다.And a semiconductor chip mounted on the cavity formed in the film and electrically connected to the circuit pattern layer.

게다가, 상기 도전층 소재는 상기 필름의 일면에 형성된 금속재나 도전성을 가지는 폴리머 소재중 선택된 어느 하나인 것을 특징으로 한다.In addition, the conductive layer material is any one selected from a metal material or a conductive polymer material formed on one surface of the film.

나아가, 상기 프레임은 0.02 내지 0.7 밀리미터의 두께를 가지는 것을 특징으로 한다.Further, the frame is characterized in that it has a thickness of 0.02 to 0.7 millimeters.

이하에서 첨부된 도면을 참조하면서 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 티비지에이 반도체 패키지와 이의 제조방법을 상세하게 설명하고자 한다.Hereinafter, a TVA semiconductor package and a method of manufacturing the same according to a preferred embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 티비지에이 반도체 패키지(40)를 도시한 것이다.4 illustrates a TVA semiconductor package 40 according to an embodiment of the present invention.

도면을 참조하면, 상기 반도체 패키지(40)는 회로테이프(41)와, 상기 회로테이프(41)의 아랫면에 형성되는 프레임(43)과, 상기 프레임(43)에 형성된 캐비티(43a)에 실장되는 반도체 칩(44)을 포함한다.Referring to the drawings, the semiconductor package 40 is mounted on a circuit tape 41, a frame 43 formed on the bottom surface of the circuit tape 41, and a cavity 43a formed on the frame 43. And a semiconductor chip 44.

상기 회로테이프(41)는 폴리이미드와 같은 고분자 필름(41a)과, 상기 필름(41a)상에 패턴화된 회로패턴층(41b)과, 상기 회로패턴층(41b)이 형성되지 않은 부분에 형성되는 광솔더레지스터(41c)를 포함한다.The circuit tape 41 is formed on a polymer film 41a such as polyimide, a circuit pattern layer 41b patterned on the film 41a, and a portion where the circuit pattern layer 41b is not formed. And a photosolder register 41c.

상기 반도체 칩(44)은 회로패턴층(41b)과 제1 와이어(45a)에 의하여 와이어본딩되어 있다. 와이어본딩되는 부분을 포함한 반도체 칩(44)은 몰딩재(46)로 몰딩되어 있다. 그리고, 상기 프레임(43)에는 접지용 패드(48)가 형성되어 반도체 칩(44)은 제2 와이어(45b)에 의하여 연결되어 있다. The semiconductor chip 44 is wire bonded by the circuit pattern layer 41b and the first wire 45a. The semiconductor chip 44 including the wire bonded portion is molded with the molding material 46. In addition, a ground pad 48 is formed in the frame 43, and the semiconductor chip 44 is connected by the second wire 45b.                     

한편, 상기 회로패턴층(41b) 상에는 외부회로기판와 전기적으로 접속되는 솔더볼(47)이 부착되어 있다. On the other hand, a solder ball 47 is attached on the circuit pattern layer 41b to be electrically connected to an external circuit board.

본 발명의 특징에 따르면, 상기 프레임(43)은 전기도금법으로 회로테이프(41)의 일면에 형성되어 있다.According to a feature of the invention, the frame 43 is formed on one surface of the circuit tape 41 by the electroplating method.

보다 상세하게는 다음과 같다.In more detail as follows.

도 5a 내지 도 5f는 회로테이프와 프레임을 제조하는 과정을 단계별로 도시한 것이고, 도 6은 이를 순차적으로 도시한 순서도이다. 5A through 5F illustrate a step of manufacturing a circuit tape and a frame step by step, and FIG. 6 is a flowchart sequentially illustrating the process.

우선, 폴리이미드와 같은 고분자 수지로 된 필름(51)이 마련된다. 상기 필름(51)의 양면에는 금속박막, 예를 들면 구리로 된 제1 도전층(52a)과 제2 도전층(52b)이 형성되어 있다. 상기 제1 및 제2 도전층(52a)(52b)은 상기 필름(51)상에 스퍼터링법이나 캐스팅에 의하여 형성될 수 있을 것이다. 또한, 상기 필름(51)의 일면에는 도전층 대신에 전도성을 가지는 폴리머 소재를 코팅할 수도 있을 것이다.(도 5a,T10)First, a film 51 made of a polymer resin such as polyimide is provided. The first conductive layer 52a and the second conductive layer 52b made of a metal thin film, for example, copper are formed on both surfaces of the film 51. The first and second conductive layers 52a and 52b may be formed on the film 51 by sputtering or casting. In addition, one surface of the film 51 may be coated with a conductive polymer material instead of the conductive layer. (FIGS. 5A and T10).

이어서, 상기 제1 도전층(52a)은 포토리소그래피 공정을 통하여 회로패턴층을 형성시키게 된다.(T20) 즉, 상기 제1 도전층(52a)상에 포토레지스터(53)를 도포하고, 노광 및 현상하여 패턴을 형성시킨다.(도 5b) Subsequently, the first conductive layer 52a forms a circuit pattern layer through a photolithography process (T20), that is, a photoresist 53 is coated on the first conductive layer 52a, and the exposure and It develops and forms a pattern (FIG. 5B).

다음으로, 소정의 에칭액을 이용하여 에칭공정을 수행하게 되어서, 상기 필름(51)의 윗면에 회로패턴층(54)을 형성시키고, 이후 잔류하는 포토레지스터(53)를 박리하게 된다. 이로써, 상기 필름(51)의 윗면에는 일정한 설계규칙으로 형성된 회로패턴층(54)이 완성된다.(도 5c) Next, an etching process is performed using a predetermined etching solution to form the circuit pattern layer 54 on the upper surface of the film 51, and then peel off the remaining photoresist 53. As a result, a circuit pattern layer 54 formed under a predetermined design rule is completed on the upper surface of the film 51. (FIG. 5C).                     

상기 회로패턴층(54)이 완성된 다음에는, 상기 필름(51) 상에 회로패턴층(54)이 형성되지 않은 영역에 광솔더레지스터(55)를 형성시킨다. 즉, 광솔더레지스터 원소재를 상기 필름(51)상에 인쇄하고, 노광, 현상 및 건조하여서 회로패턴층(54) 이외의 부분에 광솔더레지스터(55)를 형성하게 된다.(도 5d)After the circuit pattern layer 54 is completed, the photosolder register 55 is formed in a region where the circuit pattern layer 54 is not formed on the film 51. That is, the photosolder resistor raw material is printed on the film 51, exposed, developed, and dried to form the photosolder register 55 in a portion other than the circuit pattern layer 54 (FIG. 5D).

이어서, 상기 회로패턴층(54)이 형성된 부분에 보호막층(56)을 형성시킨다. 상기 보호막층(56)은 추후 도금공정을 수행시 상기 회로패턴층(54)을 포함한 상기 필름(51)의 상부를 보호하기 위하여 형성시키는 것이다. 이러한 보호막층(56)으로는 PET와 같은 고분자 수지가 바람직하며, 이는 필름이나 페이스트 형태로 형성시킬 수 있을 것이다.(T30)Subsequently, the protective film layer 56 is formed on the portion where the circuit pattern layer 54 is formed. The passivation layer 56 is formed to protect the upper portion of the film 51 including the circuit pattern layer 54 during a later plating process. The protective layer 56 is preferably a polymer resin such as PET, which may be formed in a film or paste form. (T30)

상기 보호막층(56)이 형성된 다음에는, 회로테이프, 즉, 상기 회로패턴층(54)이 형성된 필름(51)을 전해욕에 침지시켜서 전기도금법을 수행하게 된다. 상기 필름(51)의 일면, 회로패턴층(54)이 형성된 반대면에는 제2 도전층(52b)이 형성되어 있다. 이에 따라, 전해욕내의 전해질속에 제2 도전층(52b)을 음극으로 하고, 적당한 금속을 양극으로 하여 전기화학반응을 일으키면, 상기 제2 도전층(52b)에는 환원반응에 의하여 소정 두께의 도금층이 형성된다. After the protective film layer 56 is formed, an electroplating method is performed by immersing the circuit tape, that is, the film 51 on which the circuit pattern layer 54 is formed, in an electrolytic bath. The second conductive layer 52b is formed on one surface of the film 51 and the opposite surface on which the circuit pattern layer 54 is formed. As a result, when the second conductive layer 52b is used as the cathode and the appropriate metal is used as the anode in the electrolyte in the electrolytic bath, an electrochemical reaction occurs. The plating layer having a predetermined thickness is formed on the second conductive layer 52b by reduction. Is formed.

본 실시예에서는 상기 제2 도전층(52b)의 아랫면에 구리 도금층을 형성시킨다. 이러한 도금층을 적당한 두께, 이를테면, 0.02 내지 0.7 밀리미터정도가 되도록 형성시키게 되면, 프레임(57)이 완성하게 된다. 바람직하게는, 상기 프레임(57)의 두께가 0.5 밀리미터가 되도록 형성시키는 것이 열방출성이나, 반도체 패키지의 변형방지등에 유리하다고 할 수 있을 것이다. In this embodiment, a copper plating layer is formed on the lower surface of the second conductive layer 52b. When such a plating layer is formed to have a suitable thickness, such as about 0.02 to 0.7 millimeter, the frame 57 is completed. Preferably, forming the frame 57 so that the thickness of the frame 57 is 0.5 millimeter may be advantageous to heat dissipation or to prevent deformation of the semiconductor package.                     

즉, 별도로 마련된 금속호일을 상기 필름(51)의 아랫면에 부착시키는 것이 아니라, 도전층(52b)이 형성된 필름(51)의 아랫면에 전기도금법으로 프레임(57)을 형성시키는 것이다. 이때, 상기 제2 도전층(52b)은 도전성을 가진 금속 소재나 폴리머 소재중 선택하여 사용할 수 있을 것이다. 그리고, 상기 프레임(57)은 추후 어셈블리 공정에서 반도체 칩이 실장될 정도의 두께 이상을 가지도록 전기도금을 수행하는 것이 바람직하다.(도 5e,T40)In other words, the metal foil provided separately is not attached to the bottom surface of the film 51, but the frame 57 is formed on the bottom surface of the film 51 on which the conductive layer 52b is formed by electroplating. In this case, the second conductive layer 52b may be selected from conductive metal materials or polymer materials. In addition, the frame 57 is preferably electroplated to have a thickness that is greater than or equal to that of the semiconductor chip in an assembly process (FIGS. 5E and T40).

상기 프레임(57)이 완성되고 나면, 상기 필름(51)의 상부에 회로패턴층(54)에 도금이 되는 것을 방지하기 위하여 형성시킨 보호막층(56)을 박리하여 회로테이프의 하부에 프레임(57)의 형성을 완료하게 된다.(도 5f,T50)After the frame 57 is completed, the protective film layer 56 formed to prevent plating on the circuit pattern layer 54 on the upper portion of the film 51 is peeled off to form the frame 57 under the circuit tape. ) Is completed. (FIG. 5F, T50).

여기에서, 칩이 실장되는 캐비티의 형성은 필름(51)상에 회로패턴층(54)이 만들어진 이후에 캐비티 영역에 대하여 필름(51)을 에칭하여 냄으로써, 상부의 회로패턴층(54)과 하부의 제2 도전층(52b)이 남게 된다. 이후에, 상기 제2 도전층(52b)상에 프레임(57)을 형성시키는 공정으로 진행을 하여 반도체칩이 캐비티 내부로 들어가게 형성할 수도 있다.Here, the formation of the cavity in which the chip is mounted is performed by etching the film 51 with respect to the cavity area after the circuit pattern layer 54 is formed on the film 51, thereby forming the upper circuit pattern layer 54 and the lower part. The second conductive layer 52b of is left. Thereafter, the process may be performed to form the frame 57 on the second conductive layer 52b so that the semiconductor chip may be formed into the cavity.

이처럼, 필름(51)에 형성된 캐비티에 반도체 칩을 실장하고, 상기 회로패턴층(54)과 반도체 칩을 와이어본딩하고, 와이어본딩된 부분을 포함한 반도체 칩을 몰딩재로 몰딩하고, 회로패턴층(54)에 형성된 솔더볼 랜드부에 솔더볼을 부착시켜 티비지에이 반도체 패키지를 완성하게 된다.In this way, the semiconductor chip is mounted in the cavity formed in the film 51, the circuit pattern layer 54 and the semiconductor chip are wire-bonded, the semiconductor chip including the wire-bonded part is molded with a molding material, and the circuit pattern layer ( A solder ball is attached to the solder ball land formed in 54 to complete the TV package.

이상의 설명에서와 같이, 본 발명의 티비지에이 반도체 패키지와 이의 제조 방법은 다음과 같은 효과를 얻을 수 있다.As described above, the TVA semiconductor package of the present invention and a method of manufacturing the same can obtain the following effects.

첫째, 필름의 하부에 전기도금법으로 프레임을 형성하게 됨으로써, 회로패턴층과 프레임간의 거리가 짧아지게 되어 열방출 효율이 향상된다.First, by forming a frame in the lower portion of the film by the electroplating method, the distance between the circuit pattern layer and the frame is shortened to improve heat dissipation efficiency.

둘째, 회로테이프를 제작하는 공정과, 프레임을 제작하는 공정과, 이들을 하나로 결합시키는 공정이 일원화가 가능하게 됨으로써, 제조공정이 단순화되고, 제조공정중 발생될 수 있는 오차를 현격히 줄일 수 있다.Second, the process of manufacturing the circuit tape, the process of manufacturing the frame, and the process of combining them into one can be centralized, thereby simplifying the manufacturing process and significantly reducing errors that may occur during the manufacturing process.

셋째, 프레임이 박막의 호일이 아니라 도금으로 형성시킴으로써 제조원가측면에서 유리하다고 볼 수 있다.Third, it can be seen that it is advantageous in terms of manufacturing cost by forming the frame by plating rather than foil of a thin film.

넷째, 반도체 패키지의 설계에 따라서는 회로패턴층과 프레임이 직접적으로 연결이 가능하게 되어서 전기적 및 열적 성능이 향상된다.Fourth, according to the design of the semiconductor package, the circuit pattern layer and the frame can be directly connected, thereby improving electrical and thermal performance.

본 발명은 도면에 도시된 일 실시예를 참고로 설명되었으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 본 기술분야의 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변화 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서, 본 발명의 진정한 기술적 보호범위는 첨부된 등록청구범위의 기술적 사상에 의해 정해져야 할 것이다. Although the present invention has been described with reference to one embodiment shown in the drawings, this is merely exemplary, and it will be understood by those skilled in the art that various changes and equivalent other embodiments are possible. Therefore, the true technical protection scope of the present invention will be defined by the technical spirit of the appended claims.

Claims (3)

소정의 캐비티를 가지는 필름과, 상기 필름상에 패턴화된 회로패턴층과, 상기 회로패턴층의 일부분에 형성되는 광솔더레지스터를 가지는 회로테이프;A circuit tape having a film having a predetermined cavity, a circuit pattern layer patterned on the film, and an optical solder register formed on a portion of the circuit pattern layer; 상기 회로패턴층이 형성된 필름의 반대면에 도전층 소재를 매개로 하여 전기 도금으로 형성된 프레임; 및A frame formed by electroplating on the opposite surface of the film on which the circuit pattern layer is formed via a conductive layer material; And 상기 필름에 형성된 캐비티에 실장되어 상기 회로패턴층과 전기적으로 연결된 반도체칩;을 포함하는 것을 특징으로 하는 티비지에이 반도체 패키지.And a semiconductor chip mounted in a cavity formed in the film and electrically connected to the circuit pattern layer. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 도전층 소재는 상기 필름의 일면에 형성된 금속재나 도전성을 가지는 폴리머 소재중 선택된 어느 하나인 것을 특징으로 하는 티비지에이 반도체 패키지.The conductive layer material is TVS semiconductor package, characterized in that any one selected from a metal material or conductive polymer material formed on one surface of the film. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 프레임은 0.02 내지 0.7 밀리미터의 두께를 가지는 것을 특징으로 하는 티비지에이 반도체 패키지.And the frame has a thickness of 0.02 to 0.7 millimeters.
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