KR100827554B1 - 산소에 대한 노출이 조절된 콘택트 렌즈의 제조방법 - Google Patents

산소에 대한 노출이 조절된 콘택트 렌즈의 제조방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은, 반응 혼합물의 반응을 방해하는 데 유용한 0.13×10-9 내지 2.6×10-9mole/㎠의 O2를 포함하는 광학 금형 표면을 포함하는 콘택트 렌즈 금형에 산소 민감성 반응 혼합물을 투입하는 단계를 포함하는 콘택트 렌즈의 제조방법을 제공한다. 또한, 본 발명은, 광학 금형 표면을 포함하는 콘택트 렌즈 금형에 반응 혼합물을 투입하는 단계 및 밀봉단계 직전에 0.5% 이상의 산소를 포함하는 기체 환경에 노출시킨 콘택트 렌즈 금형의 광학 표면과 반응 혼합물을 기체 환경으로부터 밀봉시키는 단계를 포함하는, 콘택트 렌즈의 제조방법을 제공한다.
광학 금형 표면, 콘택트 렌즈 금형, 산소 민감성 반응 혼합물, 밀봉, 산소 노출

Description

산소에 대한 노출이 조절된 콘택트 렌즈의 제조방법{Process of manufacturing contact lenses with measured exposure to oxygen}
본 발명의 목적 및 이점은 하기 명세서 및 첨부된 도면을 참조할 경우 더욱 더 명백해질 것이다:
도 1은 0이 금형 반분(半分) 두께의 중간을 나타내는 금형 반분의 두께를 교차하는 위치 함수로서, 두께가 0.6mm인 폴리스티렌 금형 반분 중의 O2 농도를 나타내는 그래프이다. 각 곡선은, 1초의 노출 시간을 나타내는 제1 라인(금형의 가장자리에서 가장 가까운 라인)을 제외하고, 산소 비함유 금형을 주위 공기에 노출시킨 후 1 내지 15분 동안 1분 간격으로 O2 농도를 나타낸다.
도 2 및 3은 다양한 산소 백분율(%)로 구성된 조절된 기체 환경에서의 노출 시간 함수로서, 두께 0.6mm의 폴리스티렌 금형 반분에 의해 흡수된 O2의 양을 나타내는 그래프이다. 도 2 및 3은 상이한 최대 노출 시간을 나타낸다.
도 4 및 5는 기체 환경에서의 산소 농도 및 콘택트 렌즈 금형의 기체 환경에 대한 노출 시간의 바람직한 작동 범위를 나타낸다.
도 6 및 7은 기체 환경에서의 산소 농도 및 콘택트 렌즈 금형의 기체 환경에 대한 노출 시간의 보다 바람직한 작동 범위를 나타낸다.
도 8 및 9는 기체 환경에서의 산소 농도 및 콘택트 렌즈 금형의 기체 환경에 대한 노출 시간의 가장 바람직한 작동 범위를 나타낸다.
본 특허원은, 1998년 12월 28일자로 출원되고 본원에서 참조 문헌으로 인용된 "주위 환경에서의 콘택트 렌즈의 제조방법(Process of Manufacturing Contact Lenses in Ambient Environment)"이란 표제의 미국 특허원 제222,266호의 부분 연속 출원이다.
본 발명은 콘택트 렌즈 재료가 반응하는 콘택트 렌즈 금형의 광학 표면에서 산소의 존재가 요구되는 환경하에서 중합체 콘택트 렌즈를 제조하는 방법에 관한 것이다.
친수성 콘택트 렌즈를 성형시키는 방법은 공지되어 있다. 본 발명의 양수인에게 모두가 양도된 라슨(Larsen)의 미국 특허 제4,495,313호, 라슨 등의 미국 특허 제4,640,489호, 라슨 등의 미국 특허 제4,680,336호, 라슨 등의 미국 특허 제4,889,664호 및 라슨 등의 미국 특허 제5,039,459호에 다양한 방법들이 기재되어 있다.
이러한 선행 기술 및 다른 참조문헌들은 일반적으로, 반응성 단량체 또는 예비중합체 혼합물일 수 있는 반응 혼합물로부터 각각의 렌즈를 성형시키는, 콘택트 렌즈의 제조방법을 기재하고 있다. 성형은, 중합시킬 혼합물을 종종 전방 곡면으로 불리는 제1 금형 반분 또는 부분에 넣은 다음, 종종 후방 곡면으로 불리는 제2 금형 반분 또는 부분을 제1 금형 반분 위에 조립하고, 조립된 금형 부분을 반응 혼합물을 중합시키거나 반응시키는 조건하에 적용시켜 두 금형의 반분 사이에 형성된 공동(cavity) 형태를 갖는 콘택트 렌즈를 형성시키는 캐스팅 공정에 의해 수행된다. 이들 금형 반분들은 통상적으로 자외선이 투과하는 열가소성 재료, 예를 들어, 폴리스티렌 또는 폴리프로필렌으로부터 형성된다.
조립 전에, 금형 반분들을 산소에 노출시키는 경우, 중합 공정은 콘택트 렌즈가 바람직한 물리적 특성을 갖지 않게 할 정도로 억제될 수 있다. 이는 플라스틱 금형 반분 위에 흡착되거나 그 속에 흡수된 O2 때문이라고 공지되어 있다. 플라스틱 반분 위 또는 그 속의 O2가 렌즈 재료의 중합에 역효과를 미치는 것으로 공지되어 있다. 광중합 공정에서의 O2의 효과는, O2가 라디칼-유도된 중합을 강력하게 억제하는 것이다. 중합은, O2가 라디칼과의 반응에 의해 소비되어, 단량체가 개시제 라디칼에 대해 O2와 성공적으로 경쟁할 수 있을 때까지 억제된다. 폐쇄형 및 개방형의 2가지 유형의 시스템이 확인되었다. 2가지 유형의 시스템 모두 본 발명에 적용시킨다.
폐쇄형 시스템에서는, 시스템 내에 O2가 부재하거나 고정된 양의 O2가 초기에 존재하고, O2가 라디칼에 의해 소비되는 동안인 유도 기간 후에 중합이 상당히 진행된다. 개방형 시스템에서는, O2가 시스템 중으로 확산되고, 충분한 라디칼이 생성되어 O2와 성공적으로 경쟁할 수 있을 때에만 중합이 발생한다. 전형적으로, 개방형 시스템은 공기에 개방된 시스템이다.
금형 반분들을 조립하기 전에, 금형 반분들을 O2에 노출시켜 중합 동안에 "폐쇄형-개방형" 시스템을 유도시킨다. 시스템이 개방되는 경우, O2가 금형의 표면 위에 흡수되고 또한 금형 속에 흡수되어, O2 저장소를 형성시킬 수 있다. 금형이 조립(폐쇄)된 경우에, 단량체 중의 O2 및 금형 반분들의 표면 위와 그 속의 O2가 소모되는 유도 기간 후, 중합이 렌즈 본체(lens bulk) 내에서 진행된다. 렌즈 특성에 대한 효과는 조립 전에 금형 속에 흡수된 O2의 양에 의존한다.
금형의 표면 및 그 속에 흡수된 O2가 반응 혼합물의 광중합에 미치는 영향은 렌즈 표면에서 중합을 억제하는 것, 즉 렌즈 본체에 비해 렌즈 표면에서 차별적인 중합을 야기시키는 것으로 예상된다. 이러한 억제로 O2에 의한 중합의 (성급한) 종결로 인해 표면에서 보다 불완전한 중합체 생성물을 형성시킬 수 있다. 렌즈의 표면에서 이러한 보다 짧은 쇄 중합체는, 가교 결합 밀도가 낮고, 쇄의 얽힘(chain entanglement)이 덜하고, 렌즈의 본체 내의 중합체 쇄보다 점착성이 높은 경향이 있다. 이러한 요인들로 인해, 렌즈 본체 내에서의 특성과 비교하여 렌즈 표면에서 기계적 강도가 감소되고 함수량이 증가된다.
산소 비함유 성형 조건하에서, 렌즈는 등방성이다. 중합 동안, O2가 렌즈 본체로가 아닌 렌즈 표면에 유입되기 때문에, 렌즈는 등방성이 감소되어 보다 이방성이 되며, 최종 렌즈 특성의 규정된 내성 범위 내에서의 조절능이 손상된다.
O2의 유해 효과를 감소시키기 위해, 콘택트 렌즈 제조를 감소된 O2 환경하에서 수행하고/하거나, 반응 혼합물을 중합 전에 처리하여, 용해된 O2를 제거한다. 이러한 제조과정에서, 이들은 공정의 물리적 폐쇄와 같은 기술의 사용과 조립체 및 예비-조립체 영역을 피복시키기 위한 다량의 질소의 사용을 야기시킨다. 이와 같이 보호되지 않는 경우, 플라스틱 표면 위에 가스 경계 층이 O2를 포함하기 때문에, 이러한 기술은 피복된 영역 내에 플라스틱 금형 반분들을 포함한다. 전형적으로, 플라스틱 금형 반분 주위의 대기 중의 O2 백분율을 모니터링하여 0.5% 이하로 유지시키고, 대기 중의 나머지 99.5%는 불활성 기체이다[예를 들어, 미국 특허 제5,555,504호 참조].
상기 선행 기술은, 산소에 대한 노출이 콘택트 렌즈 제조에 미치는 유해한 영향을 방지하기 위해, 산소 노출량을 제한하거나 배제하여야만 한다고 기술하고 있다. 콘택트 렌즈의 중합에 미치는 O2의 유해한 영향을 감소시키기 위한 다양한 기술들은 문헌[참조: 미국 특허 제5,362,767호(Herbrechtmeier, et al.), 미국 특허 제5,391,589호(Kiguchi, et al.), 미국 특허 제5,597,519호(Martin, et al.), 미국 특허 제5,656,210호(Hill, et al.) 및 미국 특허 제5,681,510호(Valint, Jr., et al.)]에서 찾아볼 수 있다.
유럽 특허원 제95937446.3호에는, 반응성 단량체 혼합물을 투입하기 전에 플라스틱 성형품을 처리하여 실질적으로 모든 O2를 제거하는 방법이 기술되어 있다. O2의 제거는 금형편을 불활성 기체와 접촉시키거나 진공을 이용함으로써 달성할 수 있다. O2 제거 처리를 하지 않은 성형품은 높은 비율의 결함을 갖는 콘택트 렌즈를 제공한다.
본 발명은, 결함으로 인해 거절되는 콘택트 렌즈의 비율을 감소시킴으로써 콘택트 렌즈 제조 라인에서 수율을 증가시킬 필요에 대해 다룬다.
발명의 간단한 설명
본 발명은, 반응 혼합물의 반응을 방해하는 데 유용한 0.13×10-9 내지 2.6×10-9mole/㎠의 O2를 포함하는 광학 금형 표면을 포함하는 콘택트 렌즈 금형에 산소 민감성 반응 혼합물을 투입하는 단계를 포함하는 콘택트 렌즈의 제조방법을 제공한다.
본 발명은, 광학 금형 표면을 포함하는 콘택트 렌즈 금형에 반응 혼합물을 투입하는 단계 및 밀봉단계 직전에 0.5% 이상의 산소를 포함하는 기체 환경에 노출시킨 콘택트 렌즈 금형의 광학 표면과 반응 혼합물을 기체 환경으로부터 밀봉시키는 단계를 포함하는, 콘택트 렌즈의 제조방법을 추가로 제공한다.
금형 부분이 노출되는 산소량이 이전에 엄격히 조절되고 0.5% 이하로 유지된 산소량 이상으로 증가되는 현행 제조 라인을 시험하는 동안, 콘택트 렌즈 금형 반분들의 O2에 대한 노출로 인해 콘택트 렌즈 중합체 특성에 유해한 영향이 발생하지 않으며, 놀랍게도 콘택트 렌즈 표면에 형성되는 표면 박리 부위의 수가 현저하게 감소되는 것을 발견하였다.
표면 박리 부위는 콘택트 렌즈의 표면에 형성된 결함이고, 콘택트 렌즈 재료가 전혀 존재하지 않는 표면 공극이다. 표면 박리 부위 또는 공극의 깊이는 통상적으로 5 내지 20㎛이고, 콘택트 렌즈 표면의 대부분을 피복할 수 있다. 콘택트 렌즈를 검사 공정 동안에 확대하여 이미지화시킬 경우, 표면 박리 부위는 퍼들(puddle)처럼 보여서, 이들을 퍼들로 칭할 수 있다. 퍼들은 콘택트 렌즈 중합체를 형성하기 위한 반응 혼합물, 예를 들어, 중합가능한 혼합물의 반응 또는 중합 동안에 형성된다. 퍼들은, 반응 혼합물이 반응하여 금형 부분의 표면으로부터 신속하게 수축될 때 형성되는 것으로 추측된다. 금형 부분이 반응 혼합물의 수축율을 다소 조절하도록 고안될 수 있으나, 반응 혼합물은 금형 부분이 조절할 수 있는 것보다 훨씬 빠르게 수축한다. 퍼들은, 이형단계 전에 발생하는 반응 혼합물의 중합 후에 콘택트 렌즈 위에 존재하기 때문에, 이형단계 동안(콘택트 렌즈를 콘택트 렌즈 금형으로부터 분리할 때) 형성된 결함이 아니다.
금형 부분 내부와 그 위에 존재하는 산소가 유익하다는 것을 발견한 후, 다양한 제조 조건의 시험을 수행하여, 감소된 퍼들을 제공하고 콘택트 렌즈 특성에 미치는 산소의 해로운 효과를 피하는 데 필요한 산소의 양을 정량화하였다.
콘택트 렌즈 금형 반분이 노출되는 시간 및/또는 기체 혼합물 중의 O2의 농도를 조절함으로써, 퍼들 결함을 갖는 콘택트 렌즈의 백분율(%)이 몇몇 경우에 40% 초과로부터 1% 미만으로 감소시켰다. 퍼들 결함을 갖는 콘택트 렌즈는 이들의 제조 동안 검사단계에서 폐기된다. 폐기되는 렌즈가 감소하면 수율이 증가하며, 이는 콘택트 렌즈당 제조 비용에 상당한 영향을 미친다. 추가로, 제조 라인 중의 밀폐된 공간 내에 존재하는 산소의 양을 본 발명에 의해 규정된 수준으로 증가시킬 경우, 불활성 기체인 N2 또는 기타 불활성 기체의 양은 감소할 것이며, 이는 또한 비용을 절감시킨다.
본 발명은 금형에서 중합체성 콘택트 렌즈를 제조하는 방법에 관한 것이다. 본 발명은, 금형 부분 또는 반분들이 규정된 범위 내의 산소량에 노출되고/되거나 규정된 범위 내의 산소량을 흡수하거나, 규정된 O2 농도를 포함하는 기체 환경에 노출되는 방법을 제공한다. 금형 내부 및 금형 표면 위의 산소는 금형 속에서 콘택트 렌즈를 형성시키는 콘택트 렌즈 반응 혼합물(반응성 단량체, 중합 혼합물 또는 예비중합체 혼합물)의 반응을 유익하게 방해하여, 콘택트 렌즈에서 표면 박리 부위의 발생을 감소시킨다. 산소가 반응을 느리게 하여 재료가 금형의 광학 표면으로부터 신속하게 수축하지 않는 것으로 추측된다.
본 발명에 사용되는 콘택트 렌즈 금형은 하나 이상의 금형의 부분품일 수 있다. 간략하게, 바람직한 양태는 본원에 기재될 것이지만, 콘택트 렌즈 금형은 어떠한 형태라도 취할 수 있다. 바람직한 양태에서, 콘택트 렌즈 금형은 전형적으로 플라스틱, 예를 들어, 폴리스티렌, 폴리프로필렌 등으로 제조된 전방 곡면과 후방 곡면을 포함한다. 폴리스티렌이 바람직한 플라스틱이다. 일괄적으로 금형 부분으로 지칭되는 전방 곡면과 후방 곡면은 바람직하게는 사출 성형 금형 중의 하나 이상의 사출 성형기에서 제조된다. 전방 곡면과 후방 곡면을 제조한 후, 전방 곡면과 후방 곡면을 함께 조립(폐쇄)하여 렌즈 금형 조립 부품을 형성시키는 경우에 형성되는 공동 속에서 렌즈를 캐스팅 성형시킨다. 전방 곡면과 후방 곡면은 렌즈를 형성하는 반응 혼합물과 함께 공동 속에서 조립한다. 전형적으로 광중합인 반응 혼합물의 중합을 조립된 전방 곡면으로 수행한 후, 렌즈 금형 조립 부품을 개방하여 렌즈를 분리한다. 조립 및 예비 조립 공정은 표준 처리 온도, 예를 들면, 50 내지 98℉에서 수행한다.
또 다른 선택적인 양태에서, 금형은 유리 또는 중합체와 같은 내구재로부터 제조된 재사용가능한 금형일 수 있다.
본 발명의 방법에서 콘택트 렌즈를 형성하기 위해 사용되는 반응 혼합물은 산소 민감성 반응, 예를 들어, 유리 라디칼 반응을 수행하는 임의의 렌즈용의 중합가능하거나 가교결합가능한 재료를 포함하는 임의의 반응성 단량체 혼합물 또는 예비중합체 물질일 수 있다. 반응 혼합물을 탈기시키거나 탈기시키지 않을 수 있다. 예를 들어, 아크릴산 또는 메타크릴산 모노에스테르와 소량의 아크릴산 또는 메타크릴산의 디에스테르와의 배합물인, 미국 특허 등록번호 제27,401호의 아크릴계 또는 메타크릴계 단량체 시스템을 본 발명에서 사용할 수 있다. 또한, 미국 특허 등록번호 제27,401호에는 아크릴산 또는 메타크릴산과 다가 알콜의 친수성 하이드록시 에스테르인 모노에스테르가 기재되어 있다. 유사하게는, 비닐, 아크릴계 또는 메타크릴계 단량체가 하이드록시에틸 아크릴레이트, 비닐 피롤리돈, 아크릴아미드 등과 같은 물질과 공중합되는 중합 시스템을 사용할 수 있다. 예로서, 폴리비닐 알콜, 하이드록시에틸메타크릴레이트, 메틸메타크릴레이트, 하이드록시프로필메타크릴레이트, 글리시딜메타크릴레이트, 디아세톤아크릴아미드 또는 비닐 아세테이트를 아크릴아미드, 하이드록시에틸아크릴레이트, 아크릴산 또는 글리세릴메타크릴레이트, 및 디메틸아미노 에틸 아크릴레이트와 배합하여 사용할 수 있다.
현재, 중합가능한 아크릴계 단량체는 바람직하게는 하이드록시 에틸 메타크릴레이트(HEMA)이고, 가장 바람직하게는 소량의 또 다른 단량체, 바람직하게는 메타크릴산(MAA)과 혼합된 대부분의 HEMA의 배합물이다.
관능가가 2 이상인 가교결합제 소량을 단량체 또는 단량체 혼합물에 가할 수 있다. 바람직한 가교결합제의 예는 에틸렌 글리콜 디메타크릴레이트 및 1,1,1-트리메틸로일 프로판 트리메타크릴레이트(TMPTMA)이다. 또한, 반응 혼합물은 바람직하게는 광개시제, 예를 들어, 2-하이드록시-2-메틸-1-페닐-프로판-1-온을 포함한다. 본 발명의 방법에 의해 제조된 콘택트 렌즈는 바람직하게는 물 40 내지 75%를 포함하는 하이드로겔이다.
가장 중요한 O2의 양은 중합 동안에 금형 반분들의 광학 표면에 인접한 반응 혼합물의 표면을 중합화하는데 유용할 수 있는 O2의 양이다. 콘택트 렌즈 금형의 광학 표면은 콘택트 렌즈의 형태를 한정하는 금형의 내부 표면이며, 콘택트 렌즈 반응 혼합물과 인접한다.
본 발명에 이르러, 금형 반분 투입 및 밀봉단계, 및 투입 및 밀봉단계에 이은 수송단계(들) 또는 사이의 수송단계(들)는 바람직하게는, 콘택트 렌즈 금형의 광학 표면이 밀봉단계에서 금형을 폐쇄하기 직전에 초기 제조단계에서 제공된 것보다는 많지만, 기준 곡면 치수가 규정을 벗어날 정도의 많은 양은 아닌 O2를 흡수하도록 하는 기체 환경에서 수행하여야 하는 것으로 밝혀졌다. 즉, 제조된 콘택트 렌즈에 감소된 퍼들을 제공하지만, 콘택트 렌즈의 기준 곡면에 부정적인 영향을 주지 않는, 콘택트 렌즈 금형의 광학 표면에 존재하는 산소 범위가 있다.
전형적으로, 중합체성 금형 부분은 사출 성형기에서 형성된다. 한 양태에서, 금형 부분을 콘택트 렌즈 제조 라인으로부터 떨어진 위치에서 제조한다. 콘택트 렌즈를 제조하기 위한 제조 라인으로 도입하기 전에, 금형 부분을, 예를 들어, 8시간 진공 사이클에 의해 산소를 제거하기 위해 처리한다. 선택적인 양태에서, 금형 부분을 성형 직전에 사출 성형시켜, 바람직하게는 O2를 배출시키기 위한 진공 사이클에 대한 필요성을 제거하나, 사출 성형기는 조절된 기체 환경에 의해 밀폐될 수 있거나 밀폐되지 않을 수도 있다.
바람직하게는 각각의 양태에서, O2에 대한 노출(O2 노출 시간)은, 금형의 광학 금형 표면 및 바람직하게는 반응 혼합물이 주위 기체 환경(공기 또는 기타)으로부터 밀봉될 때까지, 금형 반분을 제조하는 데 사용되는 사출 금형의 개방, 또는 O2를 포함하는 기체 환경에 금형 부분을 노출시키는 진공 처리로부터의 금형 반분의 제거로부터 설정된다. 양태에 따라, 기체 환경은, 제조 장치의 적어도 일부가 밀폐되는 경우에는 주위 공기, 불활성 및 O2 기체 혼합물일 수 있으며, 제조 장치의 적어도 일부는 밀폐되나, 사출 성형기는 밀폐되지 않는 경우에는 주위 공기 및 이후 불활성 기체 및 O2 혼합물일 수 있다. 금형 부분이 노출된 기체 환경은, 제조 장치를 밀폐시킴으로써 불활성 기체 혼합물일 수 있다. 밀폐구조는, 하나 이상의 기체의 농도가 조절된 폐쇄된 환경을 형성시키는 플렉시글래스(plexiglass)를 이용하고, 농도를 측정하여 기체 저장 용기 위의 밸브를 조절하는 기구를 사용하여 제조할 수 있다. 바람직하게는, 금형 부분은 사출 성형기가 공기에 노출되는 경우에, 주위 공기 및 조절된 기체 환경의 배합물에 노출될 수 있다. 바람직하게는, 금형 부분은 불활성 기체 혼합물을 포함하는 조절된 환경으로 신속하게 왕복한다. 또 다른 양태에서, 금형 부분을 사출 성형기에서 제조하여, 광학 금형 표면 및 반응 재료가 기체 환경으로부터 밀봉될 때까지 70초 미만, 보다 바람직하게는 1 내지 70초 미만 동안 주위 공기에 노출시킬 수 있다. 이러한 공정은 어떠한 조절된 불활성 기체 환경도 필요로 하지 않으며, 또한 모출원인 미국 특허 제222,266호에 기재되어 있다.
밀봉 또는 밀폐단계는 통상적으로 금형 부분을 조립하고, 한 부분을 다른 부분 위에 위치시키고, 금형 부분을 함께 가압함으로써 수행되지만, 밀봉단계는 또 다른 방식으로 달성될 수 있다. 밀봉단계에 대한 유일한 요건은 콘택트 렌즈 금형의 광학 표면이 산소를 포함하는 기체 환경에 더 이상 노출되지 않아야 한다는 것이므로, 예를 들면, 투입단계가, 예를 들어, 반응 혼합물의 유입을 위한 소형 개구부를 갖는 일체형 금형에 대해서는 밀봉단계일 수도 있다. 전형적으로는, 광학 금형 표면 및 바람직하게는 중합 혼합물을 기체 환경으로부터 밀봉 또는 밀폐시키기 전에, 중합 혼합물은 금형 반분들 속에 위치시키거나 투입한다. 바람직한 양태에서, 중합 혼합물은 전방 곡면(금형 반분)으로 투입하고, 후방 곡면(금형 반분)은 내부에 함유된 반응 혼합물과 함께 콘택트 렌즈 금형을 밀폐시키는 전방 곡면 위에 위치시켜 렌즈 금형 조립 부품을 형성시킨다. 렌즈 금형 조립 부품을 폐쇄하는 경우에, 중합 혼합물 및 2개의 광학 금형 표면은 기체 환경에 더 이상 노출되지 않는다. 본 발명에 이르러, 금형 부분의 광학 표면에 의해 흡수되는 O2의 양이 신중하게 조절되고 O2의 양이 이전에 선행 기술에 기재된 양보다 많은 경우, 콘택트 렌즈 표면에 존재하는 퍼들의 수가 상당히 감소하는 것으로 밝혀졌다. O2의 양은 당해 방법에서는 바람직하게는 콘택트 렌즈 금형을 밀봉단계 직전에 규정된 농도의 O2에 노출시킴으로써 조절한다. 밀봉단계 직전이란, 밀봉단계가 노출 직후에 수행됨을 의미하고, 바람직하게는 밀봉단계는 금형이 노출되는 규정된 농도의 O2를 갖는 동일한 기체 환경 내에서 일어난다. 그렇지 않은 경우, 밀봉단계는 바람직하게는 규정된 농도의 O2를 포함하는 기체 환경에 당해 금형을 노출시킨 지 10초 이내, 보다 바람직하게는 5초 이내에 수행한다.
본 발명은, 콘택트 렌즈 금형의 광학 표면이 당해 금형의 광학 표면에 인접한 반응 혼합물의 반응 속도를 감소시키는 데 유용한 0.13×10-9 내지 2.6×10-9mole/㎠ O2, 보다 바람직하게는 0.17×10-9 내지 2.4×10-9mole/㎠ O2, 가장 바람직하게는 0.37×10-9 내지 2.1×10-9mole/㎠ O2를 포함하는, 콘택트 렌즈의 제조방법을 제공한다.
또한, 본 발명은, 콘택트 렌즈 금형의 광학 표면을 금형 부분의 밀봉단계 직전에 O2를 0.5% 이상, 바람직하게는 0.6% 이상, 또는 바람직하게는 0.5 내지 20 또는 21%, 보다 바람직하게는 0.6 내지 20 또는 21%, 보다 바람직하게는 0.8 내지 20%, 가장 바람직하게는 0.8 내지 15% 포함하는 기체 환경에 노출시켜, 금형 부분의 광학 표면에 흡수되기에 충분한 O2의 흡수율을 제공하여 반응 혼합물의 경화 또는 반응 동안에 콘택트 렌즈 표면 위의 퍼들 형성을 방지하는, 콘택트 렌즈의 제조방법을 제공한다. 처리 속도 및/또는 금형 부분 재료의 흡수 특성이 퍼들 형성을 목적하는 대로 감소시키기 위해 보다 높은 백분율의 O2를 필요로 하는 경우는, 본 발명의 이점을 제공하기 위해 O2를 21% 이상 포함하는, 즉 주위 환경에 존재하는 것보다 많은 양의 O2를 포함하는 기체 환경이 필요하다.
금형 부분을 주위 공기에 노출시키는 방법의 경우, 렌즈의 특성을 손상시키지 않으면서 퍼들을 갖는 콘택트 렌즈의 백분율을 감소시키기 위해, 금형 부분이 주위 공기에 노출되는 시간은 70초 미만, 바람직하게는 1 내지 70초, 보다 바람직하게는 2 내지 57초, 가장 바람직하게는 3 내지 45초이어야 한다.
금형 부분을 사출 성형기로 제조하고 사출 성형기로부터 제거한 후 15초 내에, 보다 바람직하게는 10초 미만내에 바로 조절된 밀봉 기체 환경에 위치시키는 한 양태에서, 금형 부분 주위의 폐쇄환경 내에 존재하는 또 다른 불활성 기체 환경에 존재하는 O2 백분율은 0.6% 이상, 가장 바람직하게는 1 내지 5%이다. 대략 2% O2로 이루어진 기체 환경을 갖는 이러한 양태에서, 노출 시간은 바람직하게는 20초 이상, 보다 바람직하게는 30 내지 4,000초, 가장 바람직하게는 80 내지 4000초이다. 1% O2로 이루어진 기체 환경을 갖는 동일한 양태에서는, 노출 시간은 바람직하게는 80초 이상, 보다 바람직하게는 125 내지 10,000초, 가장 바람직하게는 160 내지 3,600초이다.
금형 부분을 사출 성형기로 제조한 또 다른 양태의 경우, 흡수 및 흡착된 O2를 제거하기 위해 (진공하에) 처리하고, 처리한 후 3초 내에, 보다 바람직하게는 1초 미만에 바로 조절된 밀봉 기체 환경에 위치시킨다. 금형 부분 주위의 폐쇄환경내에 존재하는 또 다른 불활성 기체 환경에 존재하는 O2 백분율은 0.5% 이상이고, 보다 바람직하게는 0.6 내지 2%이며, 가장 바람직하게는 0.6 내지 1%이다. 0.6 내지 1% O2로 이루어진 기체 환경을 갖는 이러한 양태에서는, 노출 시간은 바람직하게는 80초 이상, 보다 바람직하게는 100 내지 4,000초, 가장 바람직하게는 200 내지 4,000초이다.
임의의 양태의 경우, 기체 환경이 2 내지 5% 산소인 경우, 금형의 광학 표면의 노출 시간은 20 내지 1300초, 보다 바람직하게는 30 내지 800초이어야 한다. 기체 환경이 5 내지 10% 산소인 경우, 금형의 광학 표면의 노출 시간은 40 내지 300초, 보다 바람직하게는 60 내지 190초이어야 한다. 임의의 양태의 경우, 기체 환경이 0.6 내지 4% 산소, 보다 바람직하게는 0.6 내지 3% 산소, 가장 바람직하게는 0.6 내지 2.5% 산소인 경우, 콘택트 렌즈 금형의 광학 표면의 노출 시간은 콘택트 렌즈 파라미터에 불리한 영향을 주지 않으면 제한되지 않을 수 있다.
본 발명에 따라서 제조된 콘택트 렌즈에 감소된 표면 박리 부위를 제공하는 본 발명의 작동 범위는 도 4 및 5에 제시된 선영(線影) 영역에 존재한다. 작동 범위는 콘택트 렌즈 금형이 금형을 밀봉하기 직전에 노출되는 기체 환경 중의 O2 농도 및 당해 O2 농도에 상응하는 노출 시간이다. 바람직한 작동 범위는 도 6 및 7에 제시되고, 가장 바람직한 작동 범위는 도 8 및 9에 제시된다. 도 4 및 5를 생성시키는 데 사용되는 데이터 점(data points)은 시간 축이 상이하다는 점을 제외하고는 동일하다. 도 5는 0 내지 500초 사이의 곡선을 보다 상세히 제시한다. 다른 도면 쌍인 도 6과 도 7, 및 도 8과 도 9도 또한 시간 축만이 상이하다.
본원에서 규정된 작동 범위를 결정하기 위해, 다수의 실험을 수행했다. 실험 결과와 실험의 일부 특성은 하기 표에 제시한다. 시행(run)이라 칭하는 각각의 실험에서 3가지의 상이한 유형의 제조 라인에서 에타필콘(Etafilcon) A 콘택트 렌즈의 제조를 나타낸다. 제조된 에타필콘 A 콘택트 렌즈 중의 1가지 유형은, 사용된 다른 2종의 중합 혼합물에서 사용된 광개시제의 함량의 3배를 함유하는 중합 혼합물을 사용했다. 다른 경우, 중합 혼합물들은 유사했다. 반응 혼합물에서 보다 높은 수준의 광개시제를 함유하는 제조된 콘택트 렌즈는 제조된 다른 콘택트 렌즈보다 콘택트 렌즈 금형 내에서 또는 금형 위에서 산소에 대해 덜 민감한 것으로 나타났다.
실시예
에타필콘 A를 포함하는 콘택트 렌즈는 하기 표에서 제조 라인 A, B 및 C라고 나타낸 3가지 유형의 제조 라인에서 제조했다.
제조 라인 A
금형 부분은 제조업자에 의해 제조되어, 포장되고, 비스타콘(Vistakon)에 수송된다. 사용하기 전에, 금형 부분을 진공에 최소 8시간 동안 노출시켜 실질적으로 모든 분자 산소를 금형 부분으로부터 제거한 다음, 금형을 질소 환경에 위치시킨다. 금형 부분을 제조 라인에 투입한 후에만 산소를 유입시켰다. 산소 수준은 하기 표에 기록한다.
금형 부분을 제조 라인에 투입한 후, 표에 기재된 수준의 산소로 표에 나타낸 시간 동안 노출시킨다. 모든 시행 동안, 256개의 경화된 금형 조립 부품을 공정 내, 즉 경화 터널에서 배출된 후 퍼들에 대해 샘플링하고 퍼들을 갖는 렌즈의 백분율을 계산한다. 또한, 시행당 50개의 렌즈 샘플을 모든 제조단계, 즉 투입, 밀봉, 경화, 이형, 수화 및 포장단계 후의 기준 곡면, 배율, 중심 두께 및 직경에 대해 분석한다. 모든 경우에, 렌즈는 규정된 파라미터 요건을 만족시켰다.
제조 라인 B
렌즈 금형 부분을 사출 성형시키고 산소 수준이 투입과 조립 밀봉단계 전에 및 이들 단계를 통해 조절된 밀폐 환경으로 이송시킨다. 금형 부분을 밀폐 환경으로 이송되는 동안에 대기 산소에 최대 15초 동안 노출시킨다. 이어서, 금형 부분을 표에 기록된 바와 같은 조절된 환경 중의 산소 수준에 노출시킨다.
모든 시행에서, 128개 또는 256개의 경화된 금형 조립 부품을 공정 내(터널 검사) 퍼들에 대해 샘플링하고 퍼들을 갖는 렌즈의 백분율을 계산하고, 시행당 투입, 밀봉, 경화, 이형, 수화 및 포장단계를 거친 50개의 최종 렌즈 샘플을 기준 곡면, 배율, 중심 두께 및 직경에 대해 검사한다. 모든 경우에, 렌즈는 규정된 파라미터 요건을 만족시켰다.
제조 라인 C
렌즈 금형 부분을 사출 성형시키고, 투입, 밀봉, 경화, 이형 및 수화단계로 이송시킨다. 금형 부분을 표에 규정된 시간 동안 공기에 노출시킨다. 시행당 50개의 최종 렌즈를 퍼들에 대해 검사하고, 기준 곡면, 배율, 중심 두께 및 직경에 대해 측정한다. 모든 경우에, 최종 렌즈에는 퍼들이 전혀 존재하지 않으며, 렌즈는 규정된 파라미터 요건을 만족시켰다. 터널 검사는 수행하지 않았다.
실시예의 결과는 하기 표에 나타낸다.
제조 라인 O2 수준 추정된 O2 노출 시간 최소 O2 양 (mole/㎠x109) 최대 O2 양 (mole/㎠x109) 관찰된 샘플의 퍼들 백분율
A 0.0% 200-1200초 · 0.0 87.5%
A 0.1% 200-1200초 · <0.1 41.4%
A 0.3% 200-1200초 · <0.1 6.3%
A 0.5% 200-1200초 0.11 0.25 3.9%
A 0.6% 200-1200초 0.13 0.30 0.8%
A 0.8% 200-1200초 0.17 0.40 0.0%
A 1.0% 200-1200초 0.21 0.50 0.0%
A 1.0% 200-1200초 0.21 0.50 0.0%
A 1.0% 3720-4800초 0.69 0.70 0.0%
A 1.2% 200-1200초 0.27 0.60 0.0%
A 1.4% 200-1200초 0.30 0.70 0.0%
A 1.6% 200-1200초 0.34 0.80 0.0%
A 1.8% 200-1200초 0.39 0.90 0.0%
A 2.0% 200-1200초 0.43 1.00 0.0%
A 2.0% 3720-4800초 1.37 1.40 0.0%
B <0.5% 160-378초 · <0.15 18.8%
B <0.5% 160-378초 · <0.15 31.8%
B <0.5% 160-378초 · <0.15 46.4%
B 1.0% 160-378초 0.2 0.3 2.6%
B 1.0% 520-738초 0.3 0.4 N/O
B 1.0% 858-1076초 0.4 0.5 N/O
B 2.0% 160-378초 0.4 0.6 1.0%
B 2.0% 520-738초 0.7 0.8 N/O
B 2.0% 858-1076초 0.9 1.0 N/O
B 2.0% 1560-1938초 1.1 1.2 N/O
B 3.0% 160-378초 0.6 0.9 1.0%
B 3.0% 520-738초 1.0 1.2 N/O
B 3.0% 858-1076초 1.3 1.5 N/O
B 5.0% 160-378초 1.0 1.5 1.6%
B 5.0% 520-738초 1.7 2.0 N/O
B 5.0% 858-1076초 2.2 2.4 N/O
C 21.0% 24초 · 1.5 N/O
C 21.0% 40초 · 2.0 N/O
C 21.0% 70초 · 2.6 N/O
N/O = 검사되지 않음, 퍼들이 수행 동안 또는 완성된 렌즈에서 전혀 관찰되지 않음.
상기한 바와 같이, 기준 곡면은 산소에 의해 야기되는 변화에 가장 민감한 콘택트 렌즈의 파라미터이다. 허용되는 기준 곡면 샘플은 다음과 같은 경우로 한정된다:
(라벨 표적물 - 샘플 평균)/3×(샘플 표준편차) > 1.00.
위에서 시험된 모든 콘택트 렌즈는 허용가능했다.
샘플 퍼들 백분율은 공정 내 터널 검사 동안에 측정된 퍼들 백분율이 3.5% 미만, 보다 바람직하게는 3.0% 미만, 가장 바람직하게는 2% 미만인 경우 허용가능하다.
표 1의 결과는, 금형 부분이 밀봉단계 이전(및 선행 투입단계 동안)에 이송되거나 정치되는 기체 환경내의 O2의 농도를 증가시킴으로써 O2에 대한 금형 부분의 증가된 노출이 퍼들의 수를 상당히 감소시킴을 나타낸다. 이러한 결과는 예측가능하지 않았다.
노출 시간이 측정되면, 금형 반분의 단위 횡단 용적에 흡수된 O2의 양을 측정할 수 있는데, 이는 산소 흡수량이 금형 재료의 투과율, O2에 노출된 표면에 수직으로 측정된 바와 같은 상기 용적의 평균 두께(L), O2의 농도 구배 및 금형 반분이 O2에 노출되는 시간의 함수이기 때문이다. 투과율(p)은 확산율(D) 및 용해도(k)의 결과, 즉 p=D*k로서 정의된다. 확산율 및 용해도는 온도 및 전방 곡면과 후방 곡면 금형 재료 둘 다의 함수이다. 실온(25℃)에서 폴리스티렌에서의 O2의 확산율은 1.1×10-7㎠/초이다. 실온(25℃)에서 폴리스티렌에서의 O2의 용해도는 5.5×10-2㎤(STP)/(㎤bar) 또는 2.45×10-6mole/(㎤bar)이다. 온도 및 재료가 결정될 경우, 소정의 시간에 가장 중요한 O2의 양은 두께, O2 농도 구배 및 시간의 함수로 단순화된다. 두께와 농도 구배가 결정될 경우, 이러한 O2의 양은 시간의 함수가 된다. 두께는 후방 곡면과 전방 곡면의 금형 기하학적 구조에 의해 결정된다. 농도 구배는 전방 곡면과 후방 곡면 재료(예를 들어, 폴리스티렌)이 사출 성형 공정 동안 또는 진공 처리에 의해 거의 탈기된다고 가정하고, 금형 반분을 둘러싸고 있는 환경의 O2 농도를 알고 있거나 이를 조절함으로써 결정된다. 가장 중요한 O2의 총량은 O2에 대한 노출 시간을 알고 금형 반분의 광학 표면과 이의 바로 근처를 구성하는 단위 용적의 총수를 합계함으로써 계산된다. 금형 반분을 둘러싸고 있는 환경이 공기인 경우, 노출 시간은 공기 노출 시간으로 공지된다. 이러한 공식을 이용하여 도 1을 생성시키며, 여기서 도 1은 0.6mm 두께의 폴리스티렌 금형 중의 O2 양을 주변 공기에서의 사출 성형 후에 다양한 시간에서의 두께 방향을 교차하는 위치의 함수로서 제시한다. 도 1의 선은 초기 노출 후의 다양한 시간을 나타낸다. O2의 최저 농도로부터 최대 농도까지의 선은 1초에서, 그리고 1분에서 15분까지 1분 간격으로 계산한다. 동일한 수학식을 이용하여, 기체 환경에서 산소 수준을 상이하게 하여 도 1과 유사한 추가의 도면을 생성시킬 수 있다. 이러한 도면을 본원에 도시하지는 않는다. 도 1은 산소에 대한 금형의 노출 시간을 제한할 경우, 산소 농도가 포물선 모양으로 형성될 것이며, 금형 중의 산소 함량은 금형 내부로 갈수록 감소함을 보여준다.
금형 표면에 흡착된 산소가 반응 혼합물의 반응을 지연시키는 데 가장 유용하지만, 금형 내에 흡수된 산소는 중합 동안에 표면으로 다시 확산되어 중합에 영향을 미칠 수 있음을 인지하는 것이 중요하다. 전방 곡면과 후방 곡면의 기하학적 구조의 경우, 금형의 광학 영역에 흡수된 O2의 대략 반분만이 중합 반응을 방해하는 데 유용하다. 실제 실험에 근거한 이러한 가정을 이용하여, 반응성 단량체 혼합물의 중합을 방해하는 데 유용한 O2의 총량을 결정할 수 있는 도 2와 도 3이 산출된다. 도 2로부터, 중합 반응을 방해하는 데 유용한 O2의 양은, 전방 곡면과 후방 곡면의 표면 각각에 대해 70초에서는 2.6×10-9mole/㎠이고, 57초에서는 2.4×10-9mole/㎠이며, 45초에서는 2.1×10-9mole/㎠이다.
제공된 O2 농도를 갖는 환경에 있어서 폴리스티렌 이외의 금형재에 대한 노출 시간은 당해 재료에 대한 O2 투과율과 당해 재료의 두께가 공지되어 있는 경우에, 폴리스티렌에 대한 노출 시간과 관련될 수 있다. 이러한 관계는 다음 수학식 1로서 기재한다:
Figure 112001011030358-pat00001
위의 수학식 1에서,
NM은 신규한 재료이고,
PS는 폴리스티렌이며,
D는 금형재 속의 O2의 확산율이고,
k는 금형재 속의 O2의 용해도이며,
*는 곱셈 기호이다.
따라서, 용해도가 5.5×10-2㎤(STP)/(㎤bar)이고, 확산율이 단지 1/2(0.5)인 재료에 있어서, 폴리스티렌에 대한 노출 시간인 70초와 동등한 신규한 재료에 대한 노출 시간은, 2개의 금형이 동일한 농도의 O2에 노출되는 경우에 다음과 같이 계산된다:
Figure 112006033064152-pat00012
NM에 대한 공기 노출 시간 = 140초
동일한 계산법은, 신규한 재료에 대한 용해도 및 확산율이 공지되어 있거나 측정될 수 있는 경우에 당해 명세서에 구체적으로 기재되어 있는 동일한 농도에서 도 4 내지 도 9에 도시된 폴리스티렌의 작동 범위를 사용함으로써, 본 발명의 이익을 제공하는 임의의 O2 농도에서 신규한 콘택트 렌즈 금형재에 대한 노출 시간 범위를 측정하는 데 사용할 수 있다.
O2의 농도 또는 O2에 대한 노출 시간은 플라스틱 금형 반분이 제조되는 사출 성형 영역의 내부 및 주위에, 예를 들어, 금형으로부터의 금형 반분의 가압 기체 방출을 위한 질소와 같은 불활성 기체를 사용함으로써 증가시킬 수도 있다. 이러한 영역 내의 불활성 기체는 전방 곡면과 후방 곡면 주위에 불활성 기체의 경계 층을 제공하여, 전방 곡면과 후방 곡면 금형 반분이 산소에 대해 후속적으로 노출되는 경우에 O2의 흡수 속도를 지연시킬 수 있다.
본원에서 언급하는 모든 특허문헌, 출원, 공보 및 방법은 참고로 인용된다.
본 발명에 대한 구체적인 특징은 단지 편의상 1개 이상의 도면에 도시하며, 이들 각각의 특징은 본 발명에 따르는 다른 특징과 함께 병합될 수 있다. 선택적인 양태는 당해 분야의 숙련가에게 인지가능하며, 특허청구범위의 범위내에 포함된다.
본 발명에 따르는 콘택즈 렌즈의 제조방법에 의해, 콘택트 렌즈 금형 반분이 노출되는 시간 및/또는 기체 혼합물 중에서의 O2의 농도를 조절함으로써, 퍼들 결함을 갖는 콘택트 렌즈의 백분율(%)을 감소시켜 수율을 증가시키며, 제조 라인 중의 밀폐된 공간 내에 존재하는 산소의 양을 본 발명에 의해 규정된 수준으로 증가시켜 불활성 기체인 N2 또는 기타 불활성 기체의 양을 감소시키고, 또한 비용을 감소시킬 수 있다.

Claims (26)

  1. 반응 혼합물의 반응을 방해하는 데 유용한 0.13×10-9 내지 2.6×10-9mole/㎠의 O2를 포함하는 광학 금형 표면을 포함하는 콘택트 렌즈 금형에 산소 민감성 반응 혼합물을 투입하는 단계를 포함하는, 콘택트 렌즈의 제조방법.
  2. 제1항에 있어서, 콘택트 렌즈 금형의 광학 표면이 반응 혼합물의 반응을 방해하는 데 유용한 0.17×10-9 내지 2.4×10-9mole/㎠의 O2를 포함하는, 콘택트 렌즈의 제조방법.
  3. 제1항에 있어서, 콘택트 렌즈 금형의 광학 표면이 반응 혼합물의 반응을 방해하는 데 유용한 0.37×10-9 내지 2.1×10-9mole/㎠의 O2를 포함하는, 콘택트 렌즈의 제조방법.
  4. 제1항에 있어서, 콘택트 렌즈 금형이 플라스틱을 포함하는, 콘택트 렌즈의 제조방법.
  5. 삭제
  6. 삭제
  7. 제1항에 있어서, 콘택트 렌즈 금형이 재사용가능한 금형인, 콘택트 렌즈의 제조방법.
  8. 삭제
  9. 삭제
  10. 제1항에 있어서, 밀봉단계 직전에 1 내지 70초 동안 공기에 노출시킨 콘택트 렌즈 금형의 광학 금형 표면을 공기로부터 밀봉시키는 단계를 추가로 포함하는, 콘택트 렌즈의 제조방법.
  11. 삭제
  12. 광학 금형 표면을 포함하는 콘택트 렌즈 금형에 반응 혼합물을 투입하는 단계 및
    밀봉단계 직전에 0.5% 이상의 산소를 포함하는 기체 환경에 200 내지 4000초 동안 노출시킨 콘택트 렌즈 금형의 광학 금형 표면을 밀봉시키는 단계를 포함하는, 콘택트 렌즈의 제조방법.
  13. 제12항에 있어서, 기체 환경이 0.6 내지 21%의 산소를 포함하는, 콘택트 렌즈의 제조방법.
  14. 제12항에 있어서, 기체 환경이 0.8 내지 10%의 산소를 포함하는, 콘택트 렌즈의 제조방법.
  15. 제12항에 있어서, 기체 환경이 1 내지 10%의 산소를 포함하는, 콘택트 렌즈의 제조방법.
  16. 제15항에 있어서, 광학 표면이 밀봉단계 직전에 1%의 산소를 포함하는 기체 대기에 80 내지 10,000초 동안 노출되는, 콘택트 렌즈의 제조방법.
  17. 제15항에 있어서, 광학 표면이 밀봉단계 직전에 2%의 산소를 포함하는 기체 대기에 20 내지 10,000초 동안 노출되는, 콘택트 렌즈의 제조방법.
  18. 제13항에 있어서, 광학 표면이 밀봉단계 직전에 0.6 내지 1%의 산소를 포함하는 기체 대기에 200 내지 4,000초 동안 노출되는, 콘택트 렌즈의 제조방법.
  19. 제15항에 있어서, 광학 표면이 밀봉단계 직전에 1.5 내지 2.5%의 산소를 포함하는 기체 대기에 160 내지 4,000초 동안 노출되는, 콘택트 렌즈의 제조방법.
  20. 삭제
  21. 삭제
  22. 삭제
  23. 삭제
  24. 제12항에 있어서, 콘택트 렌즈 금형이 폴리스티렌 이외의 재료를 포함하고, 추가로 폴리스티렌 이외의 재료를 포함하는 콘택트 렌즈 금형의 광학 표면이 밀봉단계 직전에 0.6% 이상의 산소 농도에서 다음 수학식 1과 동등한 시간 동안 기체 대기에 노출되는, 콘택트 렌즈의 제조방법.
    수학식 1
    (PS에 대한 노출 시간)*(PS에 대한 D*k)/(NM에 대한 D*k)
    위의 수학식 1에서,
    NM은 신규한 재료이고,
    PS는 폴리스티렌이며,
    D는 금형재 속의 O2의 확산율이고,
    k는 금형재 속의 O2의 용해도이며,
    PS에 대한 노출 시간은 0초 초과 내지 4,000초이다.
  25. 제12항에 있어서, 콘택트 렌즈 금형이 폴리스티렌 이외의 재료를 포함하고, 추가로 폴리스티렌 이외의 재료를 포함하는 콘택트 렌즈 금형의 광학 표면이 밀봉단계 직전에 0.8% 이상의 산소 농도에서 다음 수학식 1과 동등한 시간 동안 기체 대기에 노출되는, 콘택트 렌즈의 제조방법.
    수학식 1
    (PS에 대한 노출 시간)*(PS에 대한 D*k)/(NM에 대한 D*k)
    위의 수학식 1에서,
    NM은 신규한 재료이고,
    PS는 폴리스티렌이며,
    D는 금형재 속의 O2의 확산율이고,
    k는 금형재 속의 O2의 용해도이며,
    PS에 대한 노출 시간은 0초 초과 내지 4,000초이다.
  26. 제12항에 있어서, 콘택트 렌즈 금형이 폴리스티렌 이외의 재료를 포함하고, 추가로 폴리스티렌 이외의 재료를 포함하는 콘택트 렌즈 금형의 광학 표면이 밀봉단계 직전에 1.0% 이상의 산소 농도에서 다음 수학식 1과 동등한 시간 동안 기체 대기에 노출되는, 콘택트 렌즈의 제조방법.
    수학식 1
    (PS에 대한 노출 시간)*(PS에 대한 D*k)/(NM에 대한 D*k)
    위의 수학식 1에서,
    NM은 신규한 재료이고,
    PS는 폴리스티렌이며,
    D는 금형재 속의 O2의 확산율이고,
    k는 금형재 속의 O2의 용해도이며,
    PS에 대한 노출 시간은 0초 초과 내지 4,000초이다.
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