KR100797637B1 - 히팅 스테이지 및 이를 사용한 박막증착장비 - Google Patents

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서성근
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엘지전자 주식회사
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Abstract

본 발명은 히팅 스테이지 및 이를 사용한 박막증착장비에 관한 것이다. 본 발명의 히팅 스테이지는 상면에 기판이 올려지는 글래스척(42)의 하면에 도전성글래스(44)가 합착되어 상기 글래스척(42)의 전면을 균일하게 히팅한다. 도전성글래스(44)가 합착된 글래스척(42)의 높이 조절을 위한 지지수단이 더 구비된다. 여기서 상기 도전성글래스(44)는 인듐 틴 옥사이드 화합물이 증착되어 형성되며,상기 글래스척(42)과 도전성글래스(44)의 합착은 PVA 접착 시트로 이루어진다. 이와 같은 구성을 가지는 본 발명에 의하면, 스테이지 전면이 균일하게 가열되므로 고품질의 박막증착이 가능하며 스테이지의 균열이 방지된다. 또한 광투과성이 높아짐에 따라 패턴검사효율성이 향상되며, 전체 평탄도가 유지됨에 따라 박막증착의 신뢰성을 높일 수 있는 이점이 있다.
스테이지, 히팅, 도전성글래스, 높이

Description

히팅 스테이지 및 이를 사용한 박막증착장비{Heating Stage And A Device for Laser Chemical Vapour Deposition using the same}
도 1은 일반적인 리페어용 LCVD장비를 보인 개략구조도.
도 2는 종래의 리페어용 LCVD장비용 스테이지를 보인 사시도.
도 3은 본 발명에 의한 히팅스테이지의 구성요소인 척유니트의 바람직한 실시예를 보인 분리사시도.
도 4에는 도 3에 의한 척유니트가 설치된 히팅스테이지를 보인 사시도.
도 5에는 본 실시예에 의한 히팅스테이지의 단면을 보인 개략구성도.
* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 *
30: 히팅스테이지 40: 척유니트
42: 글래스척 44: 도전성글래스
46: 지지블록 47: 안착부
50: 지지프레임 54: 받침부
56: 나사홀 61: 볼트소켓
64: 요홈 64: 높이조정볼트
본 발명은 박막증착장비에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 화학기상 증착반응을 이용하여 액정표시장치용 기판의 단락된 회로 패턴을 리페어하는 박막증착장비 및 이에 사용되는 투명한 히팅스테이지에 관한 것이다.
최근 대량의 정보를 처리 및 표시하는 디스플레이(Display) 분야가 급속도로 발전하고 있다. 이에 따라 박형화, 경량화, 저 소비전력화 등의 우수한 성능을 지닌 평면표시장치(Flat Panel Display Device:FPD)의 개발이 활발한데, 그 대표적인 예로 액정표시장치(LCD), 플라즈마표시장치(PDP), 전계방출표시장치(FED), 전기 발광표시장치(ELD)등이 있다.
이러한 평면표시장치가 기존의 브라운관(CRT)을 대체하고 있는 가운데, 특히 박막트랜지스터형 액정표시장치(이하 TFT-LCD라 한다.)는 해상도 및 동영상 구현 능력에서 뛰어나 각광을 받고 있다.
한편, TFT-LCD 제조 공정에는 기판상의 회로패턴 불량을 국부적으로 리페어하는 과정을 거치는데, 이때 레이저빔을 에너지원으로 하여 국소적인 화학기상증착 반응을 일으킴으로서 기판상에 단락된 패턴을 연결시키는 레이저박막증착장비(이하 Laser induced Chemical Vapor Deposition: 이하 LCVD장비라 한다.)가 사용된다.
과거에는 대형 밀폐공간에서 증착이 이루어지는 챔버형 LCVD장비가 사용되었는데, 최근 기판의 대형화에 따라 개방된 대기압에서 공정진행이 가능한 개방형 LCVD장비의 개발이 활발히 진행되고 있다.
도 1에는 일반적인 리페어용 LCVD장비가 개략구조도로 도시되어 있고, 도 2 에는 종래의 리페어용LCVD장비에 구비되는 스테이지가 사시도로 도시되어 있다.
박막 처리 대상물인 기판(1)이 안착되는 스테이지(2)가 구비된다. 상기 스테이지(2)의 상부에는 상하좌우로 이동 가능한 가스챔버(5)가 설치되며, 이의 상부에는 상기 가스챔버(5)와 함께 이동되도록 레이저유니트(6)가 구비된다.
상기 가스챔버(5)에는 레이저유니트(6)와 대응되는 대략의 중심에 상하로 관통된 개구부 형상의 리텐션홀(7)이 형성되고, 상기 레이저유니트(6)으로부터 발생된 레이저빔은 상기 리텐션홀(7)을 통해서 기판(1)의 소정지점에 초점이 맞춰진다.
상기 가스챔버(5)에 형성된 공급유로(8)를 통하여 증착물질이 함유된 가스가 공급된다. 그리고 기판(1)의 레이저빔 초점 부위로 유입되어 레이저 열분해반응을 통해 박막증착이 이루어진다. 또한, 기판(1)상에 잔류된 잉여 가스는 상기 가스챔버(5)에 형성된 다수의 흡입홀(9)을 통해서 외부로 흡기배출된다. 한편, 상기 가스챔버(5)에는 상기 가스 및 증착용 물질의 응결을 방지하고 균일한 밀도로 이동하도록 일정한 온도(약 40°)를 유지시키는 히터(미도시)가 설치된다.
미설명 부호 11은 잉여 가스를 배출하는 배출유로(11)이다. 그리고 미설명 부호 12는 투과조명유니트(12)이며, 이는 증착이 이루어진 후에 상기 스테이지(2)의 하부에서 투과조명을 조사하여 패턴의 단락 상태를 점검하기 위한 것이다.
이하, 도 2를 중심으로 상기 스테이지(2)를 더욱 자세히 살펴본다. 상기 스테이지(2)는 크게 상면에 기판이 안착되는 척유니트(15)와 상기 척유니트(15)를 지지하는 지지프레임(20)으로 구성된다. 상기 척유니트(15)는 상면에 기판이 올려지는 장방형의 글래스(16)와 상기 글래스(16)의 양단을 지지하는 한 쌍의 지지블 록(17)을 포함하여 구성된다. 또한, 상기 글래스(16)의 하면 중심부에는 글래스리브(18)가 길이방향으로 길게 상기 글래스(16)와 직교하도록 결합되어 상기 글래스(16)의 처짐을 방지한다. 이와 같이 구성된 다수개의 척유니트(15)가 상기 지지프레임(40)에 병렬로 설치되어 그 상면에 대면적 기판이 놓일 수 있게 된다.
그러나 상기한 바와 같은 종래 기술에서는 다음과 같은 문제점이 있다.
첫째, 상기한 바와 같은 리페어용 LCVD장비를 이용한 기판(1)의 리페어 공정 중 기판(1)의 온도조절은 박막패턴의 신뢰성을 결정하는 중요한 요소이다. 즉, 우수한 박막패턴을 얻기 위해서는 기판(1), 특히 패턴증착 부위가 가스 및 증착용 물질의 온도에 이르도록 적절하게 가열되어야 할 필요가 있다. 또한 상기 가스챔버(5)와 스테이지(2) 사이의 온도차이가 발생하면 상기 스테이지의 미세한 노치부분에서 균열이 성장하게 되어 스테이지 자체가 손상될 우려가 있다.
둘째, 종래의 스테이지(2)에는 그 처짐을 방지하기 위하여 각각의 글래스(16)의 이면에 투명재질의 글래스리브(18)가 설치된다. 이로 인해 도 1에서와 같이 상기 글래스리브(18)의 높이만큼 상기 스테이지(2)와 투과조명(12)과의 거리 증가에 따른 광량이 줄어들어 검사효율이 저하되는 문제점이 있다.
셋째, 리페어 공정 중 박막패턴의 성공적인 증착을 위해서는 상기 가스챔버(5)와 스테이지(2) 사이의 간격(약 0.5mm~100um)이 균일하게 유지되어야 한다. 위 간격이 유지되지 못하면 증착용 가스가 누설됨과 동시에 외부의 공기와 혼합되어 증착 품질이 저하되기 때문이다.
따라서, 본 발명의 목적은 상기한 바와 같은 종래 기술의 문제점을 해결하기 위한 것으로, 스테이지 전면이 균일하게 가열되는 히팅스테이지 및 박막증착장비를 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은 상기 스테이지의 처짐이 효과적으로 방지되면서도 광투과성을 높이는 히팅스테이지를 제공하는 것이다.
본 발명의 또 다른 목적은 스테이지 전면의 평탄도가 유지되도록 하는 히팅스테이지를 제공하는 것이다.
상기한 바와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 특징에 따르면, 본 발명에 의한 히팅스테이지는 상면에 기판이 올려지는 글래스척과, 상기 글래스척의 하면에 합착되어 상기 글래스척을 히팅하는 도전성글래스, 그리고 상기 글래스척을 지지하는 지지수단을 포함하여 구성되며; 상기 지지수단은 상기 글래스척의 양단을 지지하는 지지블록과, 상기 지지블록이 안착되는 지지프레임, 그리고 상기 지지블록과 지지프레임 사이에 설치되는 높이조절수단을 포함하여 구성된다.
상기 도전성글래스는 인듐 틴 옥사이드 화합물이 증착되어 형성되며, 상기 도전성글래스의 양 단에는 통전용 전극이 연결된다.
여기서 상기 글래스척과 도전성글래스의 합착은 PVA 접착 시트로 이루어진다.
상기 높이조절수단은 상기 지지블록의 양 단에 적어도 두 개씩 구비된다.
삭제
또한, 상기 높이조절수단은 상기 지지블록의 하단면에 삽입되는 볼트소켓과 볼트소켓을 지지하면서 상기 지지프레임의 받침부에 형성된 나사홀과 나사결합되는 높이조절볼트를 포함하여 구성된다.
본 발명의 다른 특징에 의하면, 상면에 기판이 안착되는 글래스척과, 상기 글래스척의 전면을 균일한 온도로 가열하는 히팅수단, 그리고 상기 글래스척을 지지하며 상기 글래스척의 높이 조절이 가능한 지지수단을 포함하여 구성되며; 상기 지지수단은 상기 글래스척의 양단을 지지하는 지지블록과, 상기 지지블록이 안착되는 지지프레임, 그리고 상기 지지블록과 지지프레임 사이에 설치되는 높이조절수단을 포함하여 구성된다.
삭제
마지막으로 본 발명의 다른 특징에 의한 박막증착장비는 제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 기재된 히팅스테이지, 상기 히팅스테이지의 상면과 소정거리 이격되어 설치되고 반응가스를 공급하며 화학증착반응이 이루어지는 공간을 제공하는 가스챔버, 그리고 상기 가스챔버의 공간을 통해서 상기 기판에 레이저빔을 조사하는 레이저유닛을 포함하여 구성된다.
이와 같은 구성을 가지는 본 발명에 의한 히팅스테이지에 의하면, 스테이지 전면이 균일하게 가열되므로 고품질의 박막증착이 가능하며 스테이지의 균열이 방지된다. 또한 광투과성이 높아짐에 따라 패턴검사효율성이 향상되며, 전체 평탄도가 유지됨에 따라 박막증착의 신뢰성을 높일 수 있는 이점이 있다.
이하 본 발명에 의한 히팅스테이지 및 이를 사용한 박막증착장비의 바람직한 실시예를 첨부된 도면을 참고하여 상세하게 설명한다.
도 3에는 본 발명에 의한 히팅스테이지의 구성요소인 척유니트의 바람직한 실시예가 분리사시도로 도시되어 있고, 도 4에는 도 3에 의한 척유니트가 설치된 히팅스테이지가 사시도로 도시되어 있다.
이들 도면에 도시된 바와 같이, 히팅스테이지(30)는 크게 상면에 기판이 안착되는 다수개의 척유니트(40)와, 이를 지지하는 지지프레임(50)으로 구성된다. 먼저, 상기 척유니트(40)는 상면에 기판이 올려지는 글래스척(42)을 포함한다. 상기 글래스척(42)은 장방형의 판상이며 투명한 재질로 형성된다. 본 발명의 실시예에서 상기 글래스척(42)은 소정의 두께를 가지는 투명한 유리기판이다.
그리고 상기 글래스척(42)의 하면에는 도전성글래스(44)가 합착되는데 이는 상기 글래스척(42)을 균일하게 히팅하기 위함이다. 상기 도전성글래스(44)는 일반 유리판에 인듐 틴 옥사이드 화합물(Indium-Tin-Oxide:이하 ITO라 한다.)이 진공 증착된 것이다. 상기 도전성글래스(44)는 ITO증착에 의하여 전도성을 띠게 된다. 따라서 상기 도전성글래스(44)의 양단부에 통전용전극을 부착하고 전류를 흘려주면, 소정의 전압에 따른 전류가 상기 도전성글래스(44)의 전면으로 흐르게 된다.
상기 도전성글래스(44)를 통하여 전류가 흐름에 따라 도전성글래스(44)에 열이 발생하며, 이와 합착되어 있는 글래스척(42)의 전면으로 상기 열이 전도되어 글래스척(42)이 균일하게 히팅된다. 본 실시예에서는 ITO가 진공증착되어 있는 3.2mm 두께의 도전성글래스가 사용되며, 상기 도전성글래스도 투명한 재질이다.
한편, 상기 글래스척(42)과 도전성글래스(44)의 합착을 위해 폴리비닐알 콜(Polyvinyl alcohol:PVA) 접착 시트를 사용한다. 즉, 상기 글래스척(42)와 도전성글래스(44) 사이에 폴리비닐알콜접착시트를 삽입시켜 글래스척(42)과 도전성글래스(44)를 합착시킨다. 여기서 폴리비닐알콜은 고분자화합물로서 글래스 표면의 갈라진 틈으로 퍼진 후 고분자로 굳어지기 때문에 두 표면을 강하게 접착시키는 역할을 할 뿐만 아니라 미세한 틈에 채워져 스크래치를 감추는 역할을 한다.
도전성글래스(44)가 합착된 글래스척(42)의 양단은 한 쌍의 지지블록(46)에 의해 지지된다. 상기 지지블록(46)의 내측 상단에는 상기 글래스척(42)을 지지하는 안착부(47)가 형성된다. 상기 안착부(47)의 내측상단은 소정깊이 요입되어 안착부(47)의 상면은 상기 글래스척(42)의 단부 저면과 접하고, 상기 안착부(47)의 측면은 상기 글래스척(42)의 측면과 접한다. 이는 상기 글래스척(42)의 상면이 지지블록(46)의 상단에서 더 돌출되지 않도록 하고, 글래스척(42)이 길이방향으로 유동되지 않도록 하기 위함이다.
한편, 지지프레임(50)에는 도전성글래스(44)가 합착된 글래스척(42)과 상기 글래스척(42)을 양단에서 지지하는 한 쌍의 지지블록(46)으로 이루어진 다수개의 척유니트(40)가 병렬로 설치된다. 본 실시예에서 4개의 척유니트(40)가 지지프레임(50)에 종방향 측면이 서로 접하도록 나란히 안착되는데, 상면에 올려지는 기판의 크기에 따라 척유니트가 더 구비될 수 있다.
상기 지지프레임(50)은 상하면이 개방된 장방형의 지지부재이며, 소정의 높이를 가지는 4개의 측벽으로 이루어진다. 이러한 지지프레임(50)에서 서로 대항하는 한 쌍의 측벽 내측에는 상기 척유니트(40)의 지지블록(46)이 안착되는 받침 부(54)가 각각 형성된다. 상기 받침부(54)의 상면은 상기 지지블록(46)의 하단면과 마주하게 형성된다.
한편, 상기 받침부(54)와 지지블록(46)의 하단면 사이에는 한 쌍의 높이조절장치(60)가 구비된다. 일 실시예에 의하면, 상기 높이조절장치(60)는 상기 지지블록(46)의 하단면 양측에 삽입되는 볼트소켓(61)과 상기 지지프레임(50)의 받침부(54)에 삽입되는 높이조정볼트(63)로 이루어진다. 그리고 상기 볼트소켓(61)의 하단에는 요홈(64)이 형성되어 상기 높이조정볼트(63)의 상단이 삽입되도록 한다.
상기 높이조정볼트(63)의 하단 외주연에는 나사산이 형성되며, 상기 지지프레임(50)의 받침부(54)를 관통하여 형성된 나사홀(56)과 나사결합된다. 상기 높이조정볼트(63)가 받침부(54)에 형성된 나사홀(56)을 따라 회전되면서 상기 척유니트(40)의 높이가 조절된다. 한편, 상기 높이조정볼트의 하면으로 개방되는 나사홀이 형성되고, 상기 받침부의 상면에서 돌출되는 볼트가 상기 나사홀에 나사결합되면서 높이가 조절되는 구조도 가능하다.
이하 상기한 바와 같은 구성을 가지는 본 발명에 의한 히팅스테이지 및 이를 사용한 박막증착장비의 작용을 상세히 설명한다.
도 5에는 본 발명에 의한 히팅스테이지의 단면이 개략적인 구성도로 도시되어 있다. 먼저, 히팅스테이지(30)에서 글래스척(42)의 제작과정 및 히팅스테이지(30)의 히팅과정을 설명한다.
ITO가 증착된 도전성글래스(44)의 상면에 PVA접착시트를 바르고, 그 위에 글래스척(42)을 올려놓은 후 고압의 롤러로 압착시킨다. 글래스척(42)과 도전성글래 스(44) 사이에 형성된 기포를 제거하기 위하여, 진공챔버에서 고온의 열을 가하면서 진공으로 빨아들여 기포를 제거한다.
상기 글래스척(42)은 도전성글래스(44)와 고분자물질인 PVA접착시트에 의해 합착되므로 강도가 증가하게 된다. 또한, 합착면의 기포를 제거하였기 때문에 합착면의 얼룩이 최소화되어 깨끗한 합착상태가 유지된다.
이렇게 제작된 글래스척(42)의 하면에는 도전성글래스(44)가 합착되어 있다. 이때, 상기 도전성글래스(44)의 양단에는 통전용 전극이 연결되고, 이를 통하여 소정의 전압으로 전류가 인가된다. 전류가 인가되면, 상기 도전성글래스(44)의 전면으로 전류가 흐르게 되며, 도전성글래스(44)의 온도가 상승하게 된다. 상기 도전성글래스(44)의 온도가 상승하는 원인은 도전성글래스(44)에 증착된 ITO 막이 전류를 흐르게하면서 저항역할을 하기 때문이다.
상기 도전성글래스(44)의 온도가 상승하면, 이와 합착되어 있는 글래스척(42)에 열이 전도되어 글래스척(42) 전면이 히팅된다. 이렇게 되면 글래스척(42)과 박막증착장비(LCVD)의 가스챔버의 온도를 균일하게 유지할 수 있게 되어 증착부위에서 화학증착반응이 원할하게 이루어지며, 원하는 박막패턴을 형성할 수 있다.
그리고 상기 도전성글래스(44) 역시 투명한 재질이다. 따라서 히팅스테이지 전면에 걸쳐 투명도가 유지되므로 광투과성이 좋아진다.
다음으로 본 발명에 의한 히팅스테이지의 평탄도 조절 과정을 설명한다. 히팅스테이지(30)는 지지프레임(50)에 다수개의 척유니트(40)가 병렬로 설치된 것이다. 이와 같이 다수개의 척유니트(40)의 각각의 글래스척(42)이 연결되어 하나의 면을 이루게 된다. 이때, 각각의 글래스척(42) 간의 단차를 방지하고 균일한 평탄도를 유지하기 위하여, 높이조절장치(60)가 구비된다.
상기 높이조절장치(60)는 글래스척(42)을 지지하는 지지블록(46)의 하단면 양측에 적어도 2개가 구비된다. 높이조절장치(60)의 구성요소인 높이조정볼트(63) 두 개의 올리는 정도를 동일하게 하여 동시에 올리면, 상기 글래스척(42)의 Y축 방향 높이를 증가시킬 수 있다. 상기 두 개의 높이조정볼트(63)의 올리는 정도를 다르게 하면, 글래스척(42)의 기울기를 조절할 수 있다.
이와 같이 각각의 글래스척(42)의 높이 및 기울기를 조절함으로써 히팅스테이지(30)의 상면이 평탄하게 유지된다. 그리고 글래스척(42)의 상면과 히팅스테이지(30)의 상부에 구비되는 가스챔버(5) 사이의 간격도 균일하게 유지된다.
본 발명의 권리는 위에서 설명된 실시예에 한정되지 않고 청구범위에 기재된 바에 의해 정의되며, 본 발명의 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 청구범위에 기재된 권리범위 내에서 다양한 변형과 개작을 할 수 있다는 것은 자명하다.
예를 들면, 본 실시예에서는 글래스척의 하면에 ITO가 증착된 도전성 글래스를 합착하였으나, 반드시 그러한 것은 아니고 글래스척의 하면에 직접 ITO를 증착하는 것도 가능하다.
위에서 상세히 설명한 바와 같은 본 발명에 의한 히팅스테이지 및 이를 사용한 박막증착장비에서는 다음과 같은 효과를 얻을 수 있다.
먼저, 도전성글래스에 전류가 흐르면서 이와 합착된 글래스척의 전면이 고르 게 히팅된다. 따라서 스테이지 전면이 균일한 온도를 유지하게 되어 균질의 박막패턴을 얻을 수 있다. 또한 가스챔버와 스테이지의 온도편차를 낮추게 되어 글래스척의 파손을 방지하는 효과도 있다.
다음으로, 글래스척에 소정 두께의 도전성글래스를 합착하므로, 글래스척의 강도가 높아지게 되며 처짐이 개선되므로 글래스리브를 제거할 수 있게 된다. 따라서 히팅스테이지 하부공간의 이용이 자유로워지며, 스테이지 하부에 구비되는 투과조명유니트와 글래스척 사이의 간격을 줄일 수 있어, 광투과성이 높아지는 이점이 있다.
마지막으로, 글래스척의 높이를 조절하는 높이조절장치가 사용됨으로써 다수개의 척유니트로 이루어진 히팅스테이지의 상면이 균일한 평탄도로 유지될 수 있게 된다. 따라서 스테이지 상면과 가스챔버의 간격이 일정하게 유지되므로 증착용가스의 누설이 방지되어 패턴증착의 신뢰성이 향상된다.

Claims (9)

  1. 상면에 기판이 올려지는 글래스척과,
    상기 글래스척의 하면에 합착되어 상기 글래스척을 히팅하는 도전성글래스, 그리고
    상기 글래스척을 지지하는 지지수단을 포함하여 구성되며;
    상기 지지수단은 상기 글래스척의 양단을 지지하는 지지블록과, 상기 지지블록이 안착되는 지지프레임, 그리고 상기 지지블록과 지지프레임 사이에 설치되는 높이조절수단을 포함하여 구성됨을 특징으로 하는 히팅스테이지.
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 높이조절수단은 상기 지지블록의 하단면에 삽입되는 볼트소켓과,
    상기 볼트소켓을 지지하면서 상기 지지프레임의 받침부에 형성된 나사홀과 나사결합되는 높이조절볼트를 포함하여 구성됨을 특징으로 하는 히팅스테이지.
  3. 제 2 항에 있어서, 상기 높이조절수단은 상기 지지블록의 양 단에 적어도 두개씩 구비됨을 특징으로 하는 히팅스테이지.
  4. 제 3 항에 있어서, 상기 도전성글래스는 인듐 틴 옥사이드 화합물이 증착되어 형성되며, 상기 도전성글래스의 양 단에는 통전용 전극이 연결됨을 특징으로 하는 히팅스테이지.
  5. 제 4 항에 있어서, 상기 글래스척과 도전성글래스의 합착은 PVA접착 시트로 이루어짐을 특징으로 하는 히팅스테이지.
  6. 상면에 기판이 안착되는 글래스척과,
    상기 글래스척의 전면을 균일한 온도로 가열하는 히팅수단, 그리고
    상기 글래스척을 지지하며 상기 글래스척의 높이 조절이 가능한 지지수단을 포함하여 구성되며;
    상기 지지수단은 상기 글래스척의 양단을 지지하는 지지블록과, 상기 지지블록이 안착되는 지지프레임, 그리고 상기 지지블록과 지지프레임 사이에 설치되는 높이조절수단을 포함하여 구성됨을 특징으로 하는 히팅스테이지.
  7. 제 6 항에 있어서, 상기 높이조절수단은 상기 지지블록의 하단면에 삽입되는 볼트소켓과,
    상기 볼트소켓을 지지하면서 상기 지지프레임의 받침부에 형성된 나사홀과 나사결합되는 높이조절볼트를 포함하여 구성됨을 특징으로 하는 히팅스테이지.
  8. 제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 기재된 히팅스테이지,
    상기 히팅스테이지의 상면과 소정거리 이격되어 설치되고 반응가스를 공급하며 화학증착반응이 이루어지는 공간을 제공하는 가스챔버, 그리고
    상기 가스챔버의 공간을 통해서 상기 기판에 레이저빔을 조사하는 레이저유닛을 포함하여 구성됨을 특징으로 하는 박막증착장비.
  9. 삭제
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN116300167A (zh) * 2023-05-23 2023-06-23 中电科风华信息装备股份有限公司 基于邦定工艺调节液晶玻璃平整度的工作台

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR0180910B1 (ko) * 1992-08-03 1999-05-15 사토 아키오 투명 면상 히터 및 그 제조방법
KR20050115397A (ko) * 2004-06-03 2005-12-07 엘지전자 주식회사 리페어용 레이저 박막증착장치 및 이를 이용한액정표시장치용 기판의 리페어 방법

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR0180910B1 (ko) * 1992-08-03 1999-05-15 사토 아키오 투명 면상 히터 및 그 제조방법
KR20050115397A (ko) * 2004-06-03 2005-12-07 엘지전자 주식회사 리페어용 레이저 박막증착장치 및 이를 이용한액정표시장치용 기판의 리페어 방법

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN116300167A (zh) * 2023-05-23 2023-06-23 中电科风华信息装备股份有限公司 基于邦定工艺调节液晶玻璃平整度的工作台
CN116300167B (zh) * 2023-05-23 2023-08-04 中电科风华信息装备股份有限公司 基于邦定工艺调节液晶玻璃平整度的工作台

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