KR100789886B1 - 기판 세정 장치 및 방법 - Google Patents

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KR100789886B1
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진동규
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세메스 주식회사
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Abstract

본 발명은 기판 세정 장치 및 방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 기판 세정 장치는 서로 인접하게 배치되는 건조실과 린스실, 그리고 건조실 내 건조가스의 농도를 측정하는 농도측정기 및 농도측정기가 측정한 농도데이터를 전송받아 건조가스의 농도값을 판단하는 제어기를 가진다. 본 발명은 상기 건조실 내 건조가스의 농도가 기설정된 농도값을 만족도록 한 후 기판을 상기 린스실로부터 상기 건조실로 이동시켜 상기 건조공정을 수행한다. 본 발명은 린스공정 이후에 기판이 이물질에 의해 오염되는 것을 방지한다.
반도체, 기판, 세정, 린스, 건조, 이소프로필 알코올, IPA, 농도

Description

기판 세정 장치 및 방법{APPARATUS AND METHOD FOR TREATING SUBSTRATE}
도 1은 본 발명에 따른 기판 세정 장치의 사시도이다.
도 2는 본 발명에 따른 기판 세정 장치의 공정 과정을 보여주는 순서도이다.
도 3a 내지 도 3e는 본 발명에 따른 기판 세정 방법을 설명하기 위한 도면들이다.
*도면의 주요 부분에 대한 부호 설명*
10 : 기판 세정 장치
100 : 건조실
200 : 린스실
300 : 이송수단
400 : 농도측정기
500 : 제어기
본 발명은 기판을 처리하는 장치 및 방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 반도체 기판을 세정하는 장치 및 방법에 관한 것이다.
반도체 제조 공정 중 세정 공정은 웨이퍼 표면에 부착된 이물질을 제거하는 공정이다. 세정 공정 중 습식 세정 공정은 소정의 처리액을 사용하여 웨이퍼를 세정하는 공정이다. 일반적인 습식 세정 공정은 약액으로 기판을 세정하는 약액세정공정, 세정액으로 기판을 린스하는 린스공정, 그리고 건조가스로 기판을 건조하는 건조공정을 포함한다. 여기서, 보통 약액으로는 다양한 종류의 케미칼(chemical)들이 사용되고, 세정액으로는 초순수(DIW:Deionized Water)가 사용되며, 건조가스로는 이소프로필 알코올 가스(IPA gas:Isopropyl alcohol gas)가 사용된다.
그러나, 일반적인 기판 세정 방법은 웨이퍼 표면으로부터 이물질을 완전히 제거하기 어려웠다. 예컨대, 세정액(케미칼) 또는 린스액(초순수)에 웨이퍼들을 침지시켜 웨이퍼의 세정 또는 린스 공정을 수행하면 웨이퍼 주변에 잔류하는 이물질이 웨이퍼 표면을 오염시키는 현상이 발생된다. 특히, 린스 공정 후에는 린스공정이 수행되는 린스실로부터 건조공정이 수행되는 건조실로 기판이 이동되는 과정에서 웨이퍼가 건조실 내 공기 중에 노출됨으로써 건조실 내 공기 중에 잔류하는 이물질에 의해 웨이퍼 표면이 오염되거나 웨이퍼 표면에 물반점이 발생한다.
보통 약액에 의한 세정이 이루어진 웨이퍼 표면은 소수성을 띄며, 이러한 소수성을 띄는 웨이퍼는 린스 공정 이후에도 표면이 소수성을 띄므로, 건조 공정시 건조실 내 공기 중에 잔류하는 이물질들에 의해 웨이퍼 표면은 쉽게 오염된다.
상술한 문제점을 해결하기 위해 본 발명은 기판의 세정 효율을 향상시키는 기판 세정 장치 및 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
또한, 본 발명은 세정 공정시 기판이 이물질에 의해 오염되는 것을 방지하는 기판 세정 장치 및 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
또한, 본 발명은 린스 공정 후 건조 공정을 수행하기 위해 웨이퍼를 이동하는 과정에서 웨이퍼가 공기 중에 노출됨으로써 웨이퍼가 오염되거나 웨이퍼 표면에 물반점이 발생하는 현상을 방지한다.
상술한 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 기판 세정 장치는 기판을 건조하는 건조공정을 수행하는 건조실, 상기 건조실과 인접하게 배치되며 기판을 린스하는 린스공정을 수행하는 린스실, 상기 건조실 및 상기 린스실 상호간에 기판을 이송시키는 이송수단, 상기 건조실과 상기 린스실 상호간에 기판이 이동되기 위한 통로를 개폐하는 개폐부재, 상기 건조실 내 건조가스의 농도를 측정하는 농도측정기, 그리고 상기 농도측정기가 측정한 농도데이터를 전송받아 상기 건조실 내 건조가스의 농도값을 판단하여, 상기 건조가스의 농도값이 기설정된 농도값을 벗어나는지 여부를 판단하는 제어기를 포함한다.
본 발명의 실시예에 따르면, 상기 제어기는 상기 건조공정이 수행되기 전에 상기 농도값이 기설정된 농도값을 만족하면, 상기 통로를 오픈시킨 후 상기 린스실에서 대기하는 기판이 상기 건조실로 이동되도록 상기 이송수단을 제어한다.
본 발명의 실시예에 따르면, 상기 건조실은 내부에 상기 건조공정을 수행하는 공간을 제공하는 제1 하우징 및 상기 제1 하우징 내부로 이소프로필 알코올 가 스를 분사하는 분사부재를 포함하고, 상기 린스실은 내부에 상기 린스공정을 수행하는 공간을 제공하는 제2 하우징 및 상기 제2 하우징 내부로 초순수 및 이소프로필 알코올 가스를 공급하는 공급부재를 포함한다.
상술한 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 기판 세정 방법은 기판에 린스유체를 공급하여 린스공정을 수행하는 린스실, 상기 린스실과 인접하게 배치되며 기판에 건조가스를 분사하여 건조공정을 수행하는 건조실을 구비하여 기판을 세정하되, 상기 기판의 세정은 상기 건조실 내 건조가스의 농도가 기설정된 농도값을 만족하는 경우에 기판을 상기 린스실로부터 상기 건조실로 이동시켜 상기 건조공정을 수행한다.
본 발명의 실시예에 따르면, 상기 린스유체의 공급은 상기 이소프로필 알코올 가스 및 초순수를 동시에 공급하는 과정을 포함한다.
본 발명의 실시예에 따르면, 상기 기판 세정 방법은 상기 린스실로부터 상기 건조실로 기판이 이동되는 동안 상기 건조실로 상기 건조가스의 공급이 이루어진다.
상술한 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 기판 세정 방법은 기판에 린스유체를 공급하여 린스공정을 수행하는 린스실, 상기 린스실과 인접하게 배치되며 기판에 건조가스를 분사하여 건조공정을 수행하는 건조실, 그리고 상기 린스실과 상기 건조실 사이에 제공되는 기판의 이동 통로를 개폐하는 개폐부재를 구비하여 기판을 세정하되, 상기 기판의 세정은 기판을 상기 린스실로 이동시켜 기판으로 초순수 및 이소프로필 알코올 가스를 공급하여 기판을 린스하는 단계, 상기 건조실 내부로 이소프로필 알코올 가스를 공급하여 상기 건조실 내부가 기설정된 농도값을 만족하는 이소프로필 알코올 가스 분위기가 이루어지도록 하는 단계, 기판의 린스가 완료되면 상기 건조실 내 이소프로필 알코올 가스의 농도가 기설정된 농도값을 만족하는 여부를 판단하는 단계, 상기 건조실 내 이소프로필 알코올 가스의 농도가 기설정된 농도값을 만족하면 상기 건조실 내부로 상기 이소프로필 알코올 가스가 공급되는 상태에서 상기 개폐부재가 상기 통로를 오픈시키는 단계, 그리고 기판을 상기 린스실로부터 상기 건조실로 이동시킨 후 기판을 건조하는 단계를 포함한다.
이하, 첨부한 도면들을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명하기로 한다. 그러나, 본 발명은 여기서 설명되는 실시예에 한정되지 않고 다른 형태로 구체화될 수 있다. 오히려, 여기서 소개되는 실시예는 개시된 내용이 철저하고 완전해질 수 있도록, 그리고 당업자에게 본 발명의 기술적 사상이 충분히 전달될 수 있도록 하기 위해 제공되는 것이다. 또한, 본 실시예에서는 린스실 및 건조실을 인접하게 배치시켜 린스공정과 건조공정을 순차적으로 수행하는 반도체 기판 세정 장치를 예로 들어 설명하였으나, 본 발명은 다양한 종류의 처리액 및 처리가스로 기판을 처리하는 모든 기판 처리 장치에 적용이 가능하다.
(실시예)
도 1은 본 발명에 따른 기판 세정 장치의 사시도이고, 도 2는 본 발명에 따른 기판 세정 장치의 공정 과정을 보여주는 순서도이다.
도 1 및 도 2를 참조하면, 본 발명에 따른 기판 세정 장치(substrate cleaning apparatus)(10)는 복수의 기판들(W)의 세정 공정을 수행한다. 상기 세정 공정은 약액에 의한 기판의 세정 공정, 세정액에 의한 기판의 린스 공정, 그리고 건조가스에 의한 기판의 건조 공정을 포함한다. 기판 세정 장치(10)는 건조실(dry process room)(100), 린스실(rinse process room)(200), 그리고 이송수단(transfer method)(300), 농도측정기(concentration measurement part)(400), 그리고 제어기(controller)(500)를 포함한다.
건조실(100)은 건조가스를 사용하여 기판을 건조한다. 건조실(100)은 제1 하우징(first housing)(110) 및 분사부재(injection member)(120)를 포함한다. 제1 하우징(110)은 내부에 건조 공정이 수행되는 공간을 제공한다. 상기 공간에는 복수의 웨이퍼들(W)이 수용된다. 제1 하우징(110)의 상부에는 공정시 웨이퍼들(W)의 출입이 이루어지도록 개방되어 있으며, 개방된 상부는 커버(112)에 의해 개폐된다. 또한, 제1 하우징(110)의 하부는 웨이퍼들(W)이 제1 하우징(110)과 린스실(200) 상호간에 이동가능하도록 개방된다.
분사부재(120)는 건조 공정시 제1 하우징(110) 내부에 위치되는 기판들(W)을 향해 건조가스를 분사한다. 분사부재(120)는 복수의 분사홀들이 형성되는 분사관들(122)을 포함한다. 각각의 분사관들(122)은 긴 바(bar) 형상을 가지며, 공정시 제1 하우징(110) 내부에 위치되는 기판들(W)을 향해 건조가스를 분사한다. 여기서, 건조가스로는 이소프로필 알코올 가스(IPA gas:Isopropyl alcohol gas)(이하, 'IPA가스'라 함)가 사용된다.
린스실(200)는 세정액을 사용하여 기판을 린스(rinse)한다. 린스실(200)은 하우징(housing)(210), 공급부재(supply part)(220), 그리고 개폐부재(open/close member)(230)를 포함한다. 제2 하우징(210)은 건조실(100)의 제1 하우징(110)의 하부에 배치된다. 제2 하우징(210)의 상부는 제1 하우징(110)과 통하도록 개방된다. 따라서, 제1 하우징(110)과 제2 하우징(210) 사이에는 공정시 기판들(W)의 이동을 위한 통로(a)가 제공된다. 그리고, 제2 하우징(210)은 내부에 린스 공정이 수행되는 공간을 제공한다. 제2 하우징(210)은 공정시 내부에 복수의 기판들(W)이 수용되는 공간을 제공한다. 또한, 제2 하우징(210)의 상부에는 후술할 개폐부재(230)의 제1 및 제2 게이트(232, 234)가 통로(a)를 개폐하는 동작을 위한 공간을 제공한다.
공급부재(220)는 공정시 제2 하우징(210) 내부에 수용된 기판들(W)을 향해 린스유체(rinse fluid)를 분사한다. 린스유체는 린스액 및 린스가스를 포함한다. 공급부재(220)는 적어도 하나의 공급관(222)을 포함한다. 공급관(222)은 긴 바(bar) 형상을 가진다. 각각의 공급관(222)에는 공정시 린스유체를 분사하는 복수의 공급홀들이 형성된다. 공급관(222)은 제2 하우징(210) 내부 하측에 평행하게 설치되며, 공정시 기판들(W)을 향해 린스유체를 분사한다. 린스액으로는 초순수(DIW:Deionized Water)가 사용되고, 린스가스로는 IPA가스가 사용된다. 이때, 공급부재(220)는 공정시 초순수 및 IPA가스를 동시에 공급한다.
본 실시예에서는 초순수 및 IPA가스가 공급부재(220)의 공급관(222)에서 함께 공급되는 것을 예로 들어 설명하였으나, 공급부재(220)는 초순수를 공급하는 공급관과 IPA가스를 공급하는 공급관을 별도로 구비하여 초순수와 IPA가스를 공급할 수 있다. 또한, 본 실시예에서는 초순수 및 IPA가스가 공정시 동시에 공급되는 것을 예로 들어 설명하였으나, 공급부재(220)는 초순수와 IPA가스를 선택적으로 공급할 수 있다.
개폐부재(230)는 제2 하우징(210)과 제1 하우징(110) 사이 통로(a)를 개폐한다. 일 실시예로서, 개폐부재(230)는 제1 및 제2 게이트(232, 234)를 구비한다. 제1 및 제2 게이트(232, 234)는 서로 대칭되는 구조를 가지며, 수평으로 이동가능하도록 설치된다. 제1 및 제2 게이트(232, 234) 각각은 서로 반대방향으로 동작함으로써, 제2 하우징(210)의 개방된 상부를 개폐한다. 즉, 통로(a)의 개방시에는 제1 게이트(232)가 좌측으로 이동되고 제2 게이트(234)는 우측으로 이동되고, 통로(a)의 밀폐시에는 제1 게이트(234)가 우측으로 이동되고 제2 게이트(234)가 좌측으로 이동된다.
이송수단(300)은 공정시 건조실(100)과 린스실(200) 상호간에 기판들(W)을 이송시킨다. 이를 위해, 이송수단(300)은 공정시 기판들(W)을 지지하여 건조실(100) 및 린스실(200) 상호간에 이동시키는 지지부재(310)를 구비한다. 지지부재(310)는 기판들(W)을 상하로 수직하게, 그리고 각각의 처리면 또는 피처리면이 서로 마주보도록 지지한다. 또한, 지지부재(310)는 건조실(100) 및 린스실(200) 내부에서 제1 하우징(110) 및 제2 하우징(210) 상호간에 직선 왕복이동이 가능하도록 설치되어, 공정시 건조실(100) 및 린스실(200) 상호간에 기판들(W)을 이송시킨다.
농도측정기(400)는 건조실(100) 내 건조가스의 농도를 측정한다. 즉, 농도측정기(400)는 건조실(100) 내 IPA가스의 농도를 측정한다. 농도측정기(400)로는 적어도 하나의 농도센서(concentration sensor)(410)가 사용된다. 농도센서들(410)은 건조실(100) 내부 공간에 고정설치되며, 공정시 측정한 IPA가스의 농도데이터는 제어기(500)로 전송된다.
제어기(500)는 건조실(100) 내 건조가스의 농도를 판단하여 기판 세정 장치(10)의 공정을 제어한다. 즉, 제어기(500)는 공정시 농도측정기(400)가 측정한 농도데이터를 전송받아 건조실(100) 내 IPA가스 농도가 기설정된 농도값을 벗어나는지 여부를 판단한 후 기판 이송 장치(10)의 건조 공정을 제어한다.
본 실시예에서는 건조실(100)과 린스실(200)을 상하로 인접하게 구비하는 기판 세정 장치(10)를 예로 들어 설명하였으나, 본 발명에 따른 기판 세정 방법에 적용될 수 있는 기판 세정 장치(10)의 구조 및 구성은 다양하게 변경 및 변형이 가능하다.
이하, 상술한 기판 세정 장치(10)의 공정 과정을 상세히 설명한다. 여기서, 상술한 구성들과 동일한 구성들에 대한 참조번호는 동일하게 병기하고, 그 구성들에 대한 상세한 설명은 생략한다.
도 2은 본 발명에 따른 기판 세정 장치의 공정 과정을 보여주는 순서도이고, 도 3a 내지 도 3e는 본 발명에 따른 기판 세정 방법을 설명하기 위한 도면들이다.
도 2를 참조하면, 웨이퍼(W)의 세정 공정이 개시되면, 약액(케미칼)에 의한 웨이퍼(W)의 세정공정이 개시된다(S110). 약액에 의한 세정공정은 웨이퍼(W)으로 세정액을 분사하여 웨이퍼(W) 표면에 잔류하는 이물질을 세정하는 공정이다. 이때, 이물질은 불필요한 처리액, 금속오염물질, 유기오염물질, 그리고 기타 파티클(particle) 등을 포함한다. 이러한 세정 공정은 웨이퍼를 회전시킨 후 회전되는 웨이퍼로 세정액을 분사하여 웨이퍼를 세정하는 스핀 세정 공정(spin cleaning process)일 수 있다. 또는, 약액에 의한 세정 공정은 세정액이 담겨진 베스(bath)에 웨이퍼를 침지시켜 세정할 수 있다.
약액에 의한 웨이퍼(W)의 세정이 완료되면, 웨이퍼(W)의 린스 공정이 개시된다(S120). 즉, 도 3a 및 도 3b를 참조하면, 복수의 웨이퍼들(W)은 기판 세정 장치(10)의 건조실(100)로 이동된 후 이송수단(300)의 지지부재(310)에 안착된다. 웨이퍼들(W)이 지지부재(310)에 안착되면, 지지부재(310)는 건조실(100)로부터 수세실(200)로 이동된다. 이때, 수세실(200)의 하우징(210) 내부에는 기설정된 공정 온도를 만족하는 초순수가 채워져 있다. 따라서, 지지부재(310)의 하강에 의해 웨이퍼들(W)은 초순수에 침지된다. 웨이퍼들(W)이 침지되면, 개폐부재(230)의 제1 게이트(232)는 우측으로 제2 게이트(234)는 좌측으로 이동됨으로써 통로를 밀폐한다. 그리고, 공급부재(220)의 공급관들(222)은 웨이퍼들(W)을 향해 초순수 및 IPA가스를 분사한다. 분사되는 초순수는 웨이퍼들(W) 표면에 잔류하는 세정액을 린스(rinse)하고, 분사된 IPA가스는 웨이퍼들(W) 표면이 소수성으로 변화되는 것을 방지한다.
여기서, 도 3c를 참조하면, 린스 공정이 진행되는 동안 건조실(100)의 분사부재(120)는 건조실(100) 내부로 IPA가스를 분사한다. 분사된 IPA가스는 건조실(100) 내부가 기설정된 IPA가스의 농도값을 만족하는 분위기가 제공되도록 한다. 이때, 제어기(500)는 분사부재(120)의 IPA가스의 분사량을 조절한다.
웨이퍼들(W)의 린스 공정이 완료되면, 제어기(500)는 건조실(100) 내 IPA가 스의 농도가 기설정된 농도값을 만족하는지 여부를 판단한다(S130). 즉, 도 3c 및 도 3d를 참조하면, 제어기(500)는 농도측정기(400)가 측정한 건조실(100) 내 IPA가스의 농도데이터들을 전송받아 건조실(100) 내 IPA가스의 농도가 기설정된 농도값을 만족하는지 여부를 판단한다. 이때, 상기 IPA가스의 기설정된 농도값은 웨이퍼(W) 표면이 건조실(100) 및 린스실(200) 내 잔류하는 이물질들이 부착되지 않기 위한 건조실(100) 내 IPA가스의 농도값일 수 있다.
이때, 건조실(100) 내 IPA가스의 농도가 기설정된 농도값을 만족하면, 제어기(500)는 개폐부재(230)를 제어하여 통로(a)를 오픈시킨 후 이송수단(300)을 제어하여 지지부재(310)를 린스실(200)로부터 건조실(100)로 상승시킨다. 개폐부재(230)가 통로(a)를 오픈시키면 건조실(100) 내부 IPA 가스의 농도가 일시적으로 기설정된 농도값을 벗어날 수 있다. 그러므로, 건조실(100) 내부에 기설정된 농도값을 만족하는 IPA 가스 분위기가 유지되도록 개폐부재(230)가 통로(a)를 오픈시키고 이송수단(300)이 지지부재(310)를 상승시키는 과정에서는 분사부재(120)는 지속적으로 IPA 가스를 분사하는 것이 바람직하다.
지지부재(310)가 건조실(100)에 위치되면, 개폐부재(230)는 통로(a)를 닫는다. 만약, 건조실(100) 내 IPA 가스의 농도가 기설정된 농도값을 벗어나면, 제어기(500)는 건조실(100) 내 IPA가스의 농도가 기설정된 농도값을 만족하도록 분사부재(120)의 IPA가스의 분사량을 조절한다. 즉, 건조실(100) 내 IPA가스의 농도값이 기설정된 농도값보다 높으면, 제어기(500)는 분사부재(120)의 IPA 가스 분사량을 감소시켜 건조실(100) 내 IPA가스의 농도값을 낮춘다. 또는, 건조실(100) 내 IPA가 스의 농도값이 기설정된 농도값보다 낮으면, 제어기(500)는 분사부재(120)의 IPA 가스 분사량을 증가시켜 건조실(100) 내 IPA가스의 농도값을 증가시킨다.
건조실(100) 내 IPA가스의 농도가 기설정된 농도값을 만족하여 웨이퍼들(W)이 건조실(100)로 이동되면, 웨이퍼들(W)의 건조공정이 개시된다(S140). 즉, 도 3e를 참조하면, 지지부재(310)가 건조실(100)로 이동되면, 개폐부재(230)는 통로를 밀폐시킨다. 그리고, 분사부재(120)의 분사관들(122)은 웨이퍼들(W)을 향해 IPA 가스를 분사한다. 분사되는 IPA 가스는 웨이퍼들(W)을 건조시킨다. 웨이퍼의 건조 공정이 완료되면, 하우징(110)의 커버(112)가 오픈된 후 웨이퍼들(W)은 지지부재(310)로부터 후속 공정이 수행되는 설비(미도시됨)로 반출된다.
상술한 바와 같이, 본 발명에 따른 기판 처리 장치 및 방법은 건조 공정이 수행되기 전에 건조실(100) 내부 공간이 IPA 가스 분위기가 형성되도록 하여, 린스 공정이 완료된 웨이퍼(W)가 린스실(200)로부터 건조실(100)로 이동될 때 웨이퍼(W) 표면이 이물질에 의해 오염되는 것을 방지한다. 예컨대, 약액(예컨대, 불산액, 표준세정액(SC-1)을 사용하여 웨이퍼(W)를 세정한 후에는 웨이퍼(W) 표면의 성질이 소수성을 띄는 경우가 발생되므로, 린스 공정 후 건조 공정시에 건조실(100) 내 공기 중에 잔류하는 이물질에 의해 웨이퍼(W)가 오염되거나 웨이퍼(W)가 공기와 반응하여 웨이퍼(W) 표면에 물반점이 발생된다. 따라서, 본 발명에 따른 기판 세정 방법은 건조 공정이 수행되기 전에 건조실(100) 내부로 IPA 가스를 분사하여 건조실(100) 내부 공간이 IPA 가스 분위기가 제공되도록 하여 웨이퍼(W)를 처리함으로써, 린스공정 후 웨이퍼(W)가 공기 중에 노출되는 것을 방지하여 웨이퍼(W) 표면이 오염되거나 웨이퍼(W) 표면에 물반점이 발생하는 것을 방지한다.
이상의 상세한 설명은 본 발명을 예시하는 것이다. 또한 전술한 내용은 본 발명의 바람직한 실시 형태를 나타내고 설명하는 것에 불과하며, 본 발명은 다양한 다른 조합, 변경 및 환경에서 사용할 수 있다. 즉, 본 명세서에 개시된 발명의 개념의 범위, 저술한 개시 내용과 균등한 범위 및/또는 당업계의 기술 또는 지식의 범위 내에서 변경 또는 수정이 가능하다. 전술한 실시예는 본 발명을 실시하는데 있어 최선의 상태를 설명하기 위한 것이며, 본 발명과 같은 다른 발명을 이용하는데 당업계에 알려진 다른 상태로의 실시, 그리고 발명의 구체적인 적용 분야 및 용도에서 요구되는 다양한 변경도 가능하다. 따라서, 이상의 발명의 상세한 설명은 개시된 실시 상태로 본 발명을 제한하려는 의도가 아니다. 또한 첨부된 청구범위는 다른 실시 상태도 포함하는 것으로 해석되어야 한다.
상술한 바와 같이, 본 발명에 따른 기판 세정 장치 및 방법은 린스 공정 후 건조 공정이 수행되기 전에 건조 공정이 수행되는 건조실 내부 공간을 IPA 가스 분위기가 형성되도록 함으로써, 기판의 세정 공정시 기판이 오염되는 것을 방지한다.
특히, 본 발명에 따른 기판 세정 장치 및 방법은 린스 공정이 완료된 웨이퍼를 린스실로부터 건조실로 이동되는 과정에서 웨이퍼가 건조실 내 공기에 노출됨으로써, 건조실 내부를 건조실 내부에 잔류하는 이물질에 의해 웨이퍼가 오염되거나 웨이퍼 표면에 물반점이 발생하는 현상을 방지한다.

Claims (7)

  1. 기판을 세정하는 장치에 있어서,
    기판을 건조하는 건조공정을 수행하는 건조실과,
    상기 건조실과 인접하게 배치되며, 기판을 린스하는 린스공정을 수행하는 린스실과,
    상기 건조실 및 상기 린스실 상호간에 기판을 이송시키는 이송수단과,
    상기 건조실과 상기 린스실 상호간에 기판이 이동되기 위한 통로를 개폐하는 개폐부재와,
    상기 건조실 내 건조가스의 농도를 측정하는 농도측정기, 그리고
    상기 농도측정기가 측정한 농도데이터를 전송받아 상기 건조실 내 건조가스의 농도값을 판단하여, 상기 건조가스의 농도값이 기설정된 농도값을 벗어나는지 여부를 판단하는 제어기를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 세정 장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 제어기는,
    상기 건조공정이 수행되기 전에 상기 농도값이 기설정된 농도값을 만족하면, 상기 통로를 오픈시킨 후 상기 린스실에서 대기하는 기판이 상기 건조실로 이동되도록 상기 이송수단을 제어하는 것을 특징으로 하는 기판 세정 장치.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 건조실은,
    내부에 상기 건조공정을 수행하는 공간을 제공하는 제1 하우징과,
    상기 제1 하우징 내부로 이소프로필 알코올 가스를 분사하는 분사부재를 포함하고,
    상기 린스실은,
    내부에 상기 린스공정을 수행하는 공간을 제공하는 제2 하우징과,
    상기 제2 하우징 내부로 초순수 및 이소프로필 알코올 가스를 공급하는 공급부재를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 세정 장치.
  4. 기판에 린스유체를 공급하여 린스공정을 수행하는 린스실, 상기 린스실과 인접하게 배치되며 기판에 건조가스를 분사하여 건조공정을 수행하는 건조실을 구비하여 기판을 세정하되,
    상기 기판의 세정은,
    상기 건조실 내 건조가스의 농도가 기설정된 농도값을 만족하는 경우에 기판을 상기 린스실로부터 상기 건조실로 이동시켜 상기 건조공정을 수행하는 것을 특징으로 하는 기판 세정 방법.
  5. 제 4 항에 있어서,
    상기 린스유체의 공급은,
    상기 이소프로필 알코올 가스 및 초순수를 동시에 공급하는 과정을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 세정 방법.
  6. 제 5 항에 있어서,
    상기 기판 세정 방법은,
    상기 린스실로부터 상기 건조실로 기판이 이동되는 동안 상기 건조실로 상기 건조가스의 공급이 이루어지는 것을 특징으로 하는 기판 세정 방법.
  7. 기판에 린스유체를 공급하여 린스공정을 수행하는 린스실, 상기 린스실과 인접하게 배치되며 기판에 건조가스를 분사하여 건조공정을 수행하는 건조실, 그리고 상기 린스실과 상기 건조실 사이에 제공되는 기판의 이동 통로를 개폐하는 개폐부재를 구비하여 기판을 세정하되,
    기판을 상기 린스실로 이동시켜 기판으로 초순수 및 이소프로필 알코올 가스를 공급하여 기판을 린스하는 단계와,
    상기 건조실 내부로 이소프로필 알코올 가스를 공급하여 상기 건조실 내부가 기설정된 농도값을 만족하는 이소프로필 알코올 가스 분위기가 이루어지도록 하는 단계와,
    기판의 린스가 완료되면 상기 건조실 내 이소프로필 알코올 가스의 농도가 기설정된 농도값을 만족하는 여부를 판단하는 단계와,
    상기 건조실 내 이소프로필 알코올 가스의 농도가 기설정된 농도값을 만족하 면, 상기 건조실 내부로 상기 이소프로필 알코올 가스가 공급되는 상태에서 상기 개폐부재가 상기 통로를 오픈시키는 단계, 그리고
    기판을 상기 린스실로부터 상기 건조실로 이동시킨 후 기판을 건조하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 세정 방법.
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