KR100780266B1 - 반도체 제조용 가스 제어 필터 - Google Patents

반도체 제조용 가스 제어 필터 Download PDF

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KR100780266B1
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이후근
이성근
김홍현
김성렬
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주식회사 카엘
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    • B01D46/10—Particle separators, e.g. dust precipitators, using filter plates, sheets or pads having plane surfaces
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F24—HEATING; RANGES; VENTILATING
    • F24F—AIR-CONDITIONING; AIR-HUMIDIFICATION; VENTILATION; USE OF AIR CURRENTS FOR SCREENING
    • F24F7/00—Ventilation
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Abstract

본 발명은 반도체 제조 공정으로 유입되는 유기물, 암모니다, NOx, SOx 등 가스을 제어하며, 하나 이상의 슬롯(211)이 형성된 케이스(210)와, 상기 케이스(210)에 고정 형성되며 하나 이상의 에어공(261)이 형성된 지지판(260)과, 상기 지지판(260)의 에어공(261) 상부로 설치되며 내부에 흡착제가 충진된 하나 이상의 필터미디엄(270)과, 상기 슬롯(211)에 삽입되어 지지판(260)에 형성된 에어공(261) 중 어느 하나 이상의 공기 흐름을 차단할 수 있는 슬라이드 패널(290)로 이루어지는 반도체 제조 설비의 가스 제어 필터(200)에 관한 것으로서, 가스 제어 필터(200) 교체에 의한 압력 손실의 변화를 작게하여 반도체 제조 설비의 가동을 중단시키지 않고 필터미디엄(270)을 교체하는 것이 가능하여 제조 설비 가동 중단에 의한 생산 중단, 재가동에 의한 시간과 에너지 낭비 등을 방지할 수 있으며, 필터미디엄(270)이 하나 이상의 마그네틱(279)이나 고정고리부(276)를 구비함으로써 용이하게 필터미디엄(270)을 착탈할 수 있으며, 슬라이드 패널(290)에 하나 이상의 타공(295)을 형성함으로써 필터미디엄(270) 교체시 압력 손실의 변화를 최소화할 수 있으며, 케이스(210)에 수납부(215)를 구비하여 슬라이드 패널(290)을 케이스(210)에 수납 보관하여 분실을 방지할 수 있는 효과가 있다.
반도체, 가스, 제어, 필터, 압력 손실

Description

반도체 제조용 가스 제어 필터{Gases Control Filter for Manufacturing the Semi-Conductor}
도 1은 반도체 제조 설비의 개략적인 구성의 예를 도시한 것이다.
도 2는 종래 기술에 의한 가스 제어 필터 교체시 압력 손실의 변화 예를 도시한 그래프이다.
도 3은 본 발명의 바람직한 실시 예에 따르는 가스 제어 필터를 도시한 사시도이다.
도 4는 본 발명의 바람직한 실시 예에 따르는 가스 제어 필터의 다른 예를 도시한 사시도이다.
도 5는 도 3에 도시한 가스 제어 필터를 도시한 분해 사시도이다.
도 6은 본 발명의 바람직한 실시 예에 따르는 가스 제어 필터에 있어서 슬라이드 패널을 도시한 사시도이다.
도 7은 본 발명의 바람직한 실시 예에 따르는 가스 제어 필터에 있어서 필터 미디엄을 도시한 사시도이다.
도 8은 도 7에 도시한 필터 미디엄의 분해 사시도이다.
도 9와 도 10은 도 3에 도시한 가스 제어 필터의 파스너를 도시한 사시도이 다.
도 11은 본 발명의 바람직한 실시 예에 따르는 가스 제어 필터에 의한 압력 손실의 변화 예를 도시한 그래프이다.
*도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명*
200: 가스 제어 필터 210: 케이스
211: 슬롯 213: 고정수단
215: 수납부 229: 보강빔
230: 디스트리뷰터 233: 관통공
240: 하부가이드 250: 상부가이드
260: 지지판 261: 에어공
263: 측벽부 265: 격벽
267: 지지부 270: 필터미디엄
280: 파스너 290: 슬라이드패널
본 발명은 반도체 제조공정이 이루어지는 반도체 제조 장치에 유입되는 가스를 제어하기 위한 가스 제어 필터에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 가스 제어 필 터를 교체하는 경우에도 가스 제어 필터에 의한 압력 손실의 변화량을 최소화할 수 있어 반도체 제조 장치의 가동을 중단하지 않고 용이하게 필터미디엄을 교체할 수 있는 가스 제어 필터에 관한 것이다.
반도체는 상온에서 금속이나 탄소봉 등 도체보다는 전하(電荷)를 잘 이동시키지는 못하나 유리나 자기 등 부도체(절연체)보다는 비교적 전하를 잘 이동시키는 물질(물체)을 총칭하며 더 정확하게 말하면, 상온에서의 전기저항에 있어서 저항률이 도체와 부도체의 중간 정도인 물질을 통틀어 반도체라고 한다.
일반적인 반도체 제조공정은 실리콘웨이퍼 상에 전기적인 회로를 형성하는 팹(FAB) 공정과, 전기적인 특성을 검사하는 EDS(electrical die sorting)공정과, 에폭시 수지로 표면을 봉지하고 개별화시키기 위한 패키지 조립 공정 등을 포함한다. 좀 더 상세하게 설명하면, 팹 공정은 웨이퍼 상에 막을 형성하기 위한 증착 공정, 형성된 막을 평탄화하기 위한 기계적 연마 공정, 평탄화된 막에 포토레지스트 패턴을 형성하기 위한 포토리소그래피 공정, 포토레지스트 패턴을 이용하여 막을 전기적인 특성을 갖는 패턴으로 형성하기 위한 식각공정, 웨이퍼의 소정 영역에 이온들을 주입하기 위한 이온 주입 공정, 웨이퍼 상의 불순물을 제거하기 위한 세정 공정, 세정한 웨이퍼를 건조하기 위한 건조 공정, 및 이상에 열거된 공정을 통해 형성된 막 또는 패턴의 결함을 검사하는 검사 공정 등을 포함한다.
일반적으로 상기 포토리소그래피 공정은 웨이퍼(Wafer)를 프리베이킹(Pre-baking)한 후 웨이퍼 상에 포토레지스트를 도포한다. 다음에 포토레지스트가 코팅 된 웨이퍼를 소프트 베이킹(Soft baking)한 후 노광 공정을 통해서 레티클(Reticle)의 패턴을 포토레지스트에 전사시킨다. 이어서 노광된 웨이퍼를 노광 후 베이킹(Post exposure baking)한 후 현상액을 이용하여 현상하여 웨이퍼 상에 실질적인 패턴을 형성하고 하드베이킹(Hard baking) 한다.
도 1은 상기에서 설명한 반도체 제조 장치(1)를 개략적으로 도시한 구성도이다. 도 1에 도시한 바와 같이 상기 노광 공정이나, 프리베이킹, 소프트 베이킹 공정이 수행되는 스캐너 설비(110)나 스피너 설비(120)로 이루어지는 반도체 제조 장치(1)는 공급되는 가스를 제어하는 가스 제어 필터(10)와, 중앙제어부(ECU)와, 공급되는 가스를 포함하는 에어로부터 불순물 등을 제거하는 필터 시스템(40)을 더 포함하여 구성된다. 도 1에서 미설명 부호 20은 에어의 유동을 발생시키는 블로어(Blower)를 도시한 것이다. 상기에서 가스 제어 필터(10)는 내부에 충진되는 흡착제의 종류에 따라서 유기물, 암모니아, 오존, SOx, NOx 등 다양한 가스의 유입량을 제어한다.
도 2는 도 1에 가스 제어 필터(10)를 소정의 풍속에 대하여 실험한 압력 손실 변화를 도시한 그래프의 예를 도시한 것이다. 도 2에 도시한 바와 같이 반도체 제조 장치(1)에 설치되어 사용 중인 가스 제어 필터(10)의 경우 소정의 풍속에서 압력 손실이 4.2㎜Aq이었으며, 사용 중 임의로 가스 제어 필터(10)를 제거하는 경우 압력 손실은 2.9㎜Aq로 감소하였다. 따라서 가스 제어 필터(10)의 제거에 의한 압력 손실 변화량은 1.3㎜Aq으로 측정되었다.
상기와 같이 가스 제어 필터(10)를 임의로 제거하는 경우 압력 손실 변화가 크기 때문에 가동 중인 반도체 제조 장치(1)는 정상적으로 작동되지 않아 제조되는 반도체에는 불량이 발생하는 한편, 반도체 제조 장치(1)를 이루는 기기들도 고장이 발생하게 된다. 따라서 반도체 제조 장치(1)에 있어서 가스 제어 필터(10)의 수명이 다하여 가스 제어 필터(10)를 교체하는 경우 상기와 같은 제조되는 반도체의 불량이나 기기들의 고장을 방지하기 위하여 반도체 제조 장치(1)의 가동을 중단하고, 가스 제어 필터(10)를 교체하고, 재가동하였다. 일반적으로 일단 반도체 제조 장치의 가동을 중단하면, 재가동하여 반도체를 정상적으로 제조하기 위해서 최소 3시간 이상 반도체 제조 장치를 웜업(Warm-up)할 필요가 있다.
따라서 종래에는 가스 제어 필터(10)의 수명이 다한 경우 가스 제어 필터(10)를 교체하기 위하여 장시간 반도체 제조가 중단되므로 생산성이 낮아지며 중단과 재가동에 의한 인력과 에너지가 불필요하게 낭비되는 문제점이 있었다.
본 발명은 상기한 바와 같은 종래 기술의 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 가스 제어 필터의 수명이 다한 경우에도 압력 손실의 변화를 최소화하면서 가스 제어 필터를 교체할 수 있으므로, 가스 제어 필터를 교체하는 경우에도 반도체 공정이 중단되지 않도록 하는 가스 제어 필터를 제공하는 것을 목적으로 한다.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따르는 가스 제어 필터는 하나 이상의 슬롯이 형성된 케이스와, 상기 케이스에 고정 형성되며 하나 이상의 에어공이 형성된 지지판과, 상기 지지판의 에어공 상부로 설치되며 내부에 흡착제가 충진된 하나 이상의 필터미디엄과, 상기 슬롯에 삽입되어 지지판에 형성된 에어공 중 어느 하나 이상의 공기 흐름을 차단할 수 있는 슬라이드 패널로 이루어지는 것을 특징으로 하며,
상기 필터미디엄은 하나 이상의 마그네틱을 구비하여 케이스에 착탈 가능하게 설치되는 것이 가능하다.
그리고 상기 필터미디엄은 하나 이상의 고정고리부를 구비하고, 상기 케이스는 상기 고정고리부와 동수의 고정수단을 구비하여 상기 필터미디엄은 케이스에 착탈 가능하게 설치되는 것도 가능하며.
상기 케이스는 하나 이상의 고정수단을 구비하며, 상기 고정고리부와 착탈 가능한 고정고리부를 구비하는 하나 이상의 파스너를 더 포함하여 구성되는 것도 가능하다.
상기 슬라이드 패널에는 하나 이상의 타공을 형성하는 것이 바람직하다.
상기 슬라이드 패널은 슬롯을 따라 이동 가능하도록 설치되는 것도 가능하다.
그리고 상기에 있어서, 케이스는 상기 슬라이드 패널이 수납되는 수납부를 더 구비하는 것도 바람직하다.
이하, 본 발명에 따르는 반도체 제조용 가스 제어 필터의 바람직한 실시 예를 첨부되는 도면에 의거하여 더욱 상세하게 설명한다.
도 3은 본 발명의 바람직한 실시 예에 따르는 반도체 제조용 가스 제어 필터(200)를 도시한 사시도이며, 도 4는 본 발명의 바람직한 실시 예에 따르는 반도체 제조용 가스 제어 필터의 다른 예를 도시한 사시도이며, 도 5는 도 3에 도시한 가스 제어 필터(200)의 분해 사시도이며, 도 6은 본 발명에 따르는 가스 제어 필터의 슬라이드 패널(290)을 확대 도시한 사시도이며, 도 7과 도 8은 필터미디엄(270)을 확대 도시한 사시도와 분해 사시도이며, 도 9와 도 10은 파스너(280)의 예를 도시한 사시도이며, 도 11은 본 발명의 바람직한 실시 예에 따르는 가스 제어 필터에 의한 압력 손실의 변화 예를 도시한 그래프이다.
도 3 및 도 5에 도시한 바와 같이 본 발명의 바람직한 실시 예에 따르는 반도체 제조 장치에 사용되는 가스 제어 필터(200)는 케이스(210)와, 케이스(210)에 고정 설치되는 지지판(260)과, 상기 지지판(260)의 상부에 설치되는 필터미디엄(270)으로 이루어진다. 상기 케이스(210)에는 하나 이상의 슬롯(211)이 형성된다. 상기 지지판(260)은 측벽부(263)를 구비하여 상기 측벽부(263)를 케이스(210)에 나사못 등으로 고정함으로써 지지판(260)을 케이스(210)에 고정 설치한다. 상기 지지판(260)에는 하나 이상의 에어공(261)이 형성되며, 상기 에어공(261)을 통하여 필터미디엄(270)을 거친 공기가 통과하게 된다. 상기 에어공(261)의 양측으로는 필터미디엄(270)이 안정적으로 설치되도록 하기 위하여 격벽(265)을 형성하는 것이 바람직하다. 상기 에어공(261) 양측으로 형성되는 격벽(265) 사이에 필터미디엄(270)의 저면과 접하여 필터미디엄(270)을 지지하는 지지부(267)가 형성된다.
도 3에서 미설명 부호 215는 케이스(210)에 구비되는 수납부를 도시한 것이 며 상기 수납부(215)에 슬라이드 패널(290)을 수납하여 보관한다. 그리고 도 5에서 미설명 부호 229는 상기 케이스(210)의 강성을 보강하기 위한 보강빔을 도시한 것이다. 그러나 상기 하나 이상의 슬롯(211)을 하나의 슬롯(211)으로 어느 일단의 에어공(261)을 지나도록 형성하고 슬라이드 패널(290)을 상기 슬롯(211)에 삽입된 상태에서 좌우로 이동하면서 교체하려는 필터미디엄(270)이 설치된 에어공(261)을 막을 수 있도록 하는 것도 가능하며, 이때에는 슬롯(211)에 삽입된 상태에서 슬라이드 패널(290)을 보관할 수 있으므로 슬라이드 패널(290)을 별도로 보관할 필요가 없으며 따라서 수납부(215)를 구비하지 않는 것도 가능하다.
도 6에 도시한 바와 같이 상기 슬롯(211)에 삽입되면서 에어공(261)을 차단하는 슬라이드 패널(290)은 용이하게 슬롯(211)으로 삽입하거나 삽입된 슬라이드 패널(290)을 인출하도록 하기 위하여 저면부(291)의 말단에 절곡된 손잡이부(293)를 구비하며, 슬롯(211)으로 슬라이드 패널(290)을 삽입할 때 마찰력 등에 의하여 그리고 삽입된 상태에서 슬라이드 패널(290)이 변형하는 것을 방지하기 위하여 측면으로 절곡된 측면보강부(297)를 형성하는 것이 바람직하다. 상기에서와 같이 슬라이드 패널(290)이 저면부(291)의 양측으로 측면보강부(297)을 구비하는 경우에는 상기 슬롯(211)도 이에 대응하여 '└┘'형으로 형성한다. 그리고 상기 슬롯(211)에 삽입되어 에어공(261)을 차단하는 상태에서 에어공(261)의 차단에 의한 압력 손실 변화를 최소화하기 위하여 상기 저면부(291)에는 복수의 타공(295)을 형성하는 것이 바람직하다.
상기 슬롯(211)이 형성되는 케이스(210)의 내측으로 상기 슬롯(211)의 상하 로 소정의 간격으로 이격하여 하부가이드(240)와 상부가이드(250)를 설치하여 슬롯(211)을 통하여 삽입되는 슬라이드 패널(290)을 안내하는 것이 바람직하다. 상기와 같이 슬롯(211)의 상하에 하부가이드(240)와 상부가이드(250)를 설치하여 슬라이드 패널(290)을 안내함으로써 삽입되는 슬라이드 패널(290)이 상하로 변형하는 것을 방지하여 에어공(261)을 적절하게 차단할 수 있다. 상기 하부가이드(240)와 상부가이드(250)에도 케이스(210)에 고정하기 위한 측벽부(243, 253)를 형성하는 것이 바람직하며, 상기 에어공(261)에 대응하여 통공(245, 255)을 형성한다.
그리고 상기 케이스(210) 내측으로 필터미디엄(270)을 통과한 공기가 균일하게 유동하여 다음 공정으로 공급되도록 하기 위하여 다수의 구멍(233)이 형성되는 디스트리뷰터(230, Distributor)를 설치하는 것이 바람직하다. 도 5에서 미설명 부호 231은 상기 디스트리뷰터(230)를 케이스(210)에 고정 설치하기 위한 측면부를 도시한 것이다.
도 7 및 도 8에 도시한 바와 같이 상기 격벽(265) 사이의 지지부(267)에 접촉하면서 설치되는 필터미디엄(270)은 역'V'자를 형성하며 내부에 흡착제가 충진되는 제1미디엄(271)과 제2미디엄(273)으로 이루어지며, 상기 역'V'자를 형성하는 제1미디엄(271)과 제2미디엄(273)의 양 측면으로 공기가 유동하는 것을 방지하기 위한 측판(275)과, 역'V'자의 꼭지점 부분으로의 유동을 차단하는 상판(277)을 구비한다. 상기 필터미디엄(270)을 이루는 제1미디엄(271)과 제2미디엄(273)의 하단에는 필터미디엄(270)이 지지부(267)와 접할 때 공기가 누설되는 것을 방지하기 위하여 용이하게 변형되는 완충부(278)를 부착시키는 것이 바람직하며, 필터미디 엄(270)의 하단에 하나 이상의 마그네틱(279)을 부착하는 것이 바람직하다. 상기와 같이 필터미디엄(270)의 하단에 하나 이상의 마그네틱(279)을 구비함으로써 필터미디엄(270)은 별도의 구조물 없이 지지판(260)에 부착시키는 것이 가능한 한편, 필터미디엄(270)을 교체하려는 경우 용이하게 분리할 수 있게 된다.
그리고 상기 마그네틱(279)에 더하여 또는 마그네틱(279)과는 별도로 필터미디엄(270)의 측면에 하나 이상의 고정고리부(276)를 구비하고, 케이스(210)에 상기 고정고리부(276)에 대응하는 고정고리부(276)와 동수의 고정수단(213)을 구비하여, 상기 고정고리부(276)를 고정수단(213)에 고정 연결함으로써 필터미디엄(270)을 케이스(210)에 견고하게 고정할 수 있는 한편, 용이하게 분리할 수 있다.
한편, 도 9에 도시한 바와 같이 고정고리부(281)를 구비하는 별도의 구조물인 파스너(280)를 구비하고, 케이스(210)에는 상기 고정고리부(281)에 대응하는 고정수단(213)을 구비하여 도 3 및 도 4에 도시한 바와 같이 상기 파스너(280)로 필터미디엄(270)을 지지판(260)의 상부에 고정하는 것이 가능하다. 도 3에 도시한 바와 같이 케이스(210)에 고정 설치되는 지지판(260)의 상부에 필터미디엄(270)을 배치하고, 하나 이상 파스너(280)의 고정고리(281)에 케이스(210)의 고정수단(213)을 고정 연결하여 필터미디엄(270)을 지지판(260) 상부에 고정 설치하는 것이 가능하다. 이때에도 상기 필터미디엄(270)의 하단에 마그네틱(279)을 구비하는 것이 가능하다.
상기 파스너(280)는 도 4 및 도 10에 도시된 바와 같은 형상으로 형성하는 것도 가능하다.
이하에서 본 발명의 바람직한 실시 예에 따르는 가스 제어 필터(200)의 사용 방법에 대하여 설명한다.
도 3 또는 도 4에 도시된 바와 같이 설치된 상태에서, 가스 제어 필터(200)를 교체하여야 하는 경우, 먼저 파스너(280)의 고정고리부(281)에 고정 연결된 고정수단(213)을 해제하여 파스너(280)를 분리한다. 그리고 반도체 제조 장치 수납부(215)에 수납되어 있는 슬라이드 패널(290)을 인출하여 에어공(261)의 하단에 형성된 슬롯(211)에 삽입하여 에어공(261)을 차단한다. 에어공(261)을 차단하고 난 후 차단된 에어공(261)의 상부에 설치된 필터미디엄(270)을 분리하고 새로운 필터미디엄(270)으로 교체한다. 상기와 같은 절차에 의하여 사용이 만료된 모든 필터미디엄(270)을 새로운 필터미디엄(270)으로 교체 설치하고 난 후 상기 필터미디엄(270) 상부로 도 9 또는 도 10에 도시한 파스너(280)를 설치하고 파스너(280)의 고정고리(281)에 케이스(210)의 고정수단(213)을 고정 연결하여 필티미디엄(270)의 교체를 완료한다.
한편, 상기 필터미디엄(270)에 고정고리부(276)가 형성된 경우에는 별도의 파스너(280)를 구비하지 않으므로, 슬라이드 패널(290)로 에어공(261)의 하단에 형성된 슬롯(211)에 삽입하여 에어공(261)을 차단한 후, 차단된 에어공(261)의 상부에 설치된 필터미디엄(270)의 고정고리부(276)와 고정수단(213)의 연결을 해제하고 필터미디엄(270)을 분리하고, 새로운 필터미디엄(270)에 구비되는 고정고리부(276)에 고정수단(213)을 고정 연결함으로써 필터미디엄(270)을 교체한다.
상기와 같이 필터미디엄(270)이 파스너(280)로 고정되는 경우나 필터미디 엄(270)에 고정고리부(276)가 구비되어 직접 케이스(210)에 고정되는 경우에도 필터미디엄(270)의 하단에 마그네틱(279)을 구비하여 필터미디엄(270)이 지지부(267)에 견고하게 고정되도록 하는 것이 바람직하다.
도 11에 실선으로 도시한 바와 같이 필터미디엄(270)이 설치된 상태에서 필터미디엄(270)이 설치된 에어공(261)의 하부에 형성된 슬롯(211)으로 슬라이드 패널(290)을 삽입하여 에어공(261)을 차단하는 경우 가스 제어 필터(200)에 의한 압력 손실은 4.2㎜Aq에서 4.9㎜Aq로 증가하여 압력 손실 변화량은 0.7㎜Aq이었으며, 그 변화량은 설치된 가스 제어 필터(200) 전체를 제거할 때의 변화량인 1.3㎜Aq보다 대폭 감소하였음을 알 수 있다. 그리고 상기 슬라이드 패널(290)에 다수 개의 타공을 형성하는 경우 도 11에 점선으로 도시한 바와 같이 상기 변화량은 더욱더 감소시킬 수 있다.
상기에서와 같이 케이스(210)에 슬롯(211)을 형성하고, 상기 슬롯(211)에 슬라이드 패널(290)을 삽입하여 필터미디엄(270)을 한 개씩 교체함으로써 필터미디엄(270)의 교체에 의한 압력 손실을 최소화할 수 있었으며, 따라서 반도체 제조 장치(1)의 가동을 중단하지 않고, 반도체의 제조 공정을 계속 유지한 상태에서 가스 제어 필터(200)의 필터미디엄(270)을 용이하게 교체할 수 있게 되었다.
도 3 내지 도 5에서 케이스(210)의 상부로 필터미디엄(270)이 설치되는 것을 도시하고 있으나 본 발명은 상기와 같은 필터미디엄(270)의 설치 위치에 한정하는 것은 아니며 케이스(210)의 내부에 필터미디엄(270)을 설치하는 것도 가능함은 물론이다.
이상과 같은 본 발명은 특정의 실시 예와 관련하여 도시 및 설명하였지만, 특허청구범위에 의해 나타난 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 한도 내에서 다양한 설계변경 및 변화가 가능하다는 것을 당 업계에서 통상의 지식을 가진 자라면 누구나 쉽게 알 수 있을 것이다.
이상과 같은 가스 제어 필터(200)를 설치하고 반도체를 제조하는 경우, 가스 제어 필터(200)를 교체하는 할 때 슬롯(211)에 슬라이드 패널(290)을 삽입하고 필터미디엄(270)을 하나씩 교체할 수 있으므로, 가스 제어 필터(200) 교체에 의한 압력 손실의 변화를 최소화하여 반도체 제조 설비의 가동을 중단시키지 않고 필터미디엄(270)을 교체하는 것이 가능하며, 필터미디엄(270)이 하나 이상의 마그네틱(279)이나 고정고리부(276)를 구비함으로써 용이하게 필터미디엄(270)을 착탈할 수 있으며, 슬라이드 패널(290)에 하나 이상의 타공(295)을 형성함으로써 필터미디엄(270) 교체시 압력 손실의 변화를 최소화할 수 있으며, 케이스(210)에 수납부(215)를 구비하여 슬라이드 패널(290)을 케이스(210)에 보관하여 분실을 방지할 수 있는 효과가 있다.

Claims (7)

  1. 하나 이상의 슬롯(211)이 형성된 케이스(210)와, 상기 케이스(210)에 고정 형성되며 하나 이상의 에어공(261)이 형성된 지지판(260)과, 상기 지지판(260)의 에어공(261) 상부로 설치되며 내부에 흡착제가 충진된 하나 이상의 필터미디엄(270)과, 상기 슬롯(211)에 삽입되어 지지판(260)에 형성된 에어공(261) 중 어느 하나 이상의 공기 흐름을 차단할 수 있는 슬라이드 패널(290)로 이루어지는 것을 특징으로 하는 가스 제어 필터(200).
  2. 제1 항에 있어서, 상기 필터미디엄(270)은 하나 이상의 마그네틱(279)을 구비하여 케이스(210)에 착탈 가능하게 설치되는 것을 특징으로 하는 가스 제어 필터(200).
  3. 제1 항에 있어서, 상기 필터미디엄(270)은 하나 이상의 고정고리부(276)를 구비하고, 상기 케이스(210)는 상기 고정고리부(276)와 동수의 고정수단(213)을 구비하여 상기 필터미디엄(270)은 케이스(210)에 착탈 가능하게 설치되는 것을 특징으로 하는 가스 제어 필터(200).
  4. 제1 항에 있어서, 상기 케이스(210)는 하나 이상의 고정수단(213)을 구비하며, 상기 고정고리부(276)와 착탈 가능한 고정고리부(281)를 구비하는 하나 이상의 파스너(280)를 더 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 가스 제어 필터(200).
  5. 제1 항에 있어서, 상기 슬라이드 패널(290)에는 하나 이상의 타공(295)이 형성된 것을 특징으로 하는 가스 제어 필터(200).
  6. 제1 항에 있어서, 상기 슬라이드 패널(290)은 슬롯(211)을 따라 이동 가능하도록 설치되는 것을 특징으로 하는 가스 제어 필터(200).
  7. 제1 항 내지 제5 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 케이스(210)는 상기 슬라이드 패널(290)이 수납되는 수납부(215)를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 가스 제어 필터(200).
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