KR100767439B1 - 기판 처리 장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 기판 처리 장치가 제공된다. 기판 처리 장치는 고정 스테이지와, 고정 스테이지의 상하에 설치되어 고정 스테이지로부터 상하로 이동하는 제 1 가변 스테이지와, 고정 스테이지의 좌우에 설치되어 고정 스테이지로부터 좌우로 이동하는 제 2 가변 스테이지와, 제 1 및 제 2 가변 스테이지를 이동시키는 동력을 제공하는 구동부 및 구동부로부터 동력을 전달받아 제 1 및 제 2 가변 스테이지를 이동시키는 조절 수단을 포함하되, 상기 조절 수단은, 양끝단이 제 1 가변 스테이지와 연결되며, 구동부에 의해 회전하여 제 1 가변 스테이지를 상하로 이동시키는 제 1 좌우 나사 및 양끝단이 제 2 가변 스테이지와 연결되고, 제 1 좌우 나사와 수직하게 위치하며 제 2 가변 스테이지를 좌우로 이동시키는 제 2 좌우 나사를 포함한다.
가변 스테이지, 좌우 나사, 랙 기어

Description

기판 처리 장치{Apparatus for processing glass substrate}
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 평판 디스플레이 장치 제조 시스템의 개략적 구성을 나타낸 도면이다.
도 2a 및 도 2b는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치의 평면도이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치의 조절 수단을 상세히 나타낸 도면이다.
*도면의 주요 부분에 대한 설명*
100: 기판 처리 장치 110: 고정 스테이지
120: 제 1 가변 스테이지 130: 제 2 가변 스테이지
140: 제 3 가변 스테이지 150: 구동부
162: 제 1 좌우 나사 164: 제 2 좌우 나사
166: 제 3 좌우 나사 172: 랙 기어
182: 제 1 가이드 레일 184: 제 2 가이드 레일
186: 제 3 가이드 레일 192, 194: 기어
본 발명은 기판 처리 장치에 관한 것으로 더욱 상세하게는, 다양한 크기의 기판을 처리할 수 있도록 기판 스테이지의 사이즈를 가변할 수 있는 기판 처리 장치에 관한 것이다.
일반적으로, 평판 디스플레이(Flat Panel Display) 장치는 액정 표시소자(Liquid Crystal Display), 플라즈마 디스플레이 소자(Plasma Display Panel), 유기 발광 소자(Organic Light Emitting Diodes) 등을 말한다. 이러한 평판 디스플레이 장치는 기판 상에 사진(photo), 확산(diffusion), 증착(deposition), 식각(etching), 세정(cleaning), 건조(drying) 및 이온 주입(ion implant) 등과 같은 공정들을 반복하여 제조한다.
이와 같은 공정들은 해당 공정을 수행하기 위한 각 공정 챔버에서 이루어지며, 각각의 공정을 연속적으로 수행하기 위해 기판을 각각의 공정 챔버로 이송하는 기판 이송 장치가 공정 챔버들에 걸쳐 설치되어 있다.
이와 같이 다양한 공정들을 거쳐 평판 디스플레이 장치를 제조하기 위해서 각각의 공정들은 추가될 수 있으며, 이에 따라 공정 챔버들이 늘어나 제조 설비가 차지하는 면적이 증가하게 된다. 따라서 제조 설비의 면적으로 줄이기 위해 공정 챔버들을 'ㄷ'자 형태로 배치하게 되었다.
공정 챔버들의 배치를 'ㄷ'자 형태로 함에 따라, 기판을 이송하는 기판 이송 장치의 이송 경로에 따라 변경되며, 기판 이송 중 이송 방향을 전환하기 위해서는 기판을 회전시켜 주어야 한다.
이와 같이 기판을 회전시킬 때, 기판의 크기가 대면적화됨에 따라 설비 내에서 차지하는 면적이 증가하게 되며, 연속적인 작업을 위한 단위 시간(TACT time)이 증가하게 된다.
본 발명은 상기와 같은 문제점을 고려하여 안출된 것으로서, 다양한 크기의 기판을 처리할 수 있도록 기판 스테이지의 사이즈를 가변할 수 있는 기판 처리 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명의 목적들은 이상에서 언급한 목적들로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 목적들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
상술한 목적을 달성하기 위하여 본 발명에 따른 기판 처리 장치는 고정 스테이지와, 상기 고정 스테이지의 상하에 설치되어 상기 고정 스테이지로부터 상하로 이동하는 제 1 가변 스테이지와, 상기 고정 스테이지의 좌우에 설치되어 상기 고정 스테이지로부터 좌우로 이동하는 제 2 가변 스테이지와, 상기 제 1 및 제 2 가변 스테이지를 이동시키는 동력을 제공하는 구동부 및 상기 구동부로부터 동력을 전달받아 상기 제 1 및 제 2 가변 스테이지를 이동시키는 조절 수단을 포함하되, 상기 조절 수단은, 양끝단이 상기 제 1 가변 스테이지와 연결되며, 상기 구동부에 의해 회전하여 상기 제 1 가변 스테이지를 상하로 이동시키는 제 1 좌우 나사 및 양끝단이 상기 제 2 가변 스테이지와 연결되고, 상기 제 1 좌우 나사와 수직하게 위치하며 상기 제 2 가변 스테이지를 좌우로 이동시키는 제 2 좌우 나사를 포함한다.
기타 실시예들의 구체적인 사항들은 상세한 설명 및 도면들에 포함되어 있다. 본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 수 있으며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하고, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다.
삭제
이하, 본 발명의 바람직한 실시예에 대해 첨부된 도면을 참조하여 보다 상세히 설명한다.
먼저, 도 1을 참조하여 본 발명의 일 실시예에 따른 평판 디스플레이 장치 제조 시스템에 대해 설명한다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 평판 디스플레이 장치 제조 시스템의 개략적 구성을 나타낸 도면이다.
도 1에 도시된 바와 같이, 평판 디스플레이 장치 제조 시스템은 기판(G)에 사진, 식각, 세정 및 건조 등과 같은 공정들을 수행하는 챔버(10)들을 포함한다. 각 챔버(10)들은 서로 연결되어 있으며, 기판(G)들이 각 챔버(10)들을 통과할 수 있도록 컨베이어와 같은 이송 장치가 챔버(10)들에 걸쳐 설치되어 있다.
이와 같은 평판 디스플레이 장치 제조 시스템은 각 챔버(10)들이 서로 연결되어 있으므로, 시스템의 설치 면적을 줄이기 위해 챔버(10)들을 직각으로 배치할 수 있다. 도면에는 'ㄱ'자 형태로 배치되었으나, 'ㄷ'자 형태로 챔버(10)들을 더 배치할 수 있을 것이다.
이에 따라, 기판(G)들은 도면의 화살표 방향으로 이송되며, 각 공정들이 순 차적으로 진행된다. 여기서 기판(G)을 이송하는 도중 기판(G)의 이송 방향이 전환되며, 기판(G)의 이송 방향을 전환시키기 위해 기판(G)을 90도로 회전시켜 이송한다.
이와 같은 평판 디스플레이 장치 제조 시스템에서 기판(G)을 회전시키기 위해 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치(100)가 이용될 수 있다. 그리고 기판 처리 장치(100)는 기판(G)이 회전되는 챔버 내에서 때 기판(G)의 크기에 따라 사이즈가 가변될 수 있다.
이하, 도 2a, 도 2b 및 도 3을 참조하여 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치에 대해 보다 상세히 설명하기로 한다.
도 2a 및 도 2b는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치의 평면도이다.
도 2a 및 도 2b를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치(100)는 고정 스테이지(110), 제 1 내지 제 3 가변 스테이지(120, 130, 140), 구동부(150) 및 조절 수단(도 3 참조)을 포함한다.
상세히 설명하면, 고정 스테이지(110)의 상하에 제 1 가변 스테이지(120)가 설치되어 있으며, 좌우에는 제 2 가변 스테이지(130)가 설치되어 있다. 그리고 고정 스테이지(110)의 상하에 설치된 각각의 제 1 가변 스테이지(120) 좌우에는 제 3 가변 스테이지(140)가 설치되어 있다. 또한, 고정 스테이지(110)의 중심에는 회전축(200)이 설치되어 있어 상부에 안착되는 기판을 회전시킬 수 있다.
이와 같은 기판 처리 장치(100)는 도 2a에 도시된 바와 같이, 제 1 내지 제 3 가변 스테이지(140)가 고정 스테이지(110)의 상부에 위치하거나 고정 스테이지(110) 내에 위치할 수 있다. 따라서 고정 스테이지(110)의 사이즈만큼의 최소 면적을 갖을 수 있다.
그리고, 제 1 내지 제 3 가변 스테이지(120, 130, 140)의 좌우 및 상하의 이동에 의해 도 2b에 도시된 바와 같이, 기판 처리 장치(100)의 면적이 늘어날 수 있다. 여기서, 기판 처리 장치(100)의 최대 면적은 가변 스테이지들의 사이즈에따라 달라질 수 있을 것이다.
이와 같은 기판 처리 장치(100)에서 조절 수단의 구조 및 동작에 대해서는 이하 도 3을 참조하여 설명한다. 도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치의 조절 수단을 상세히 나타낸 도면이다.
도 3에 도시된 바와 같이, 조절 수단은 제 1 내지 제 3 좌우 나사(162, 164, 166), 랙 기어(172) 및 제 1 내지 제 3 가이드 레일(182, 184, 186)을 포함하며, 구동부(150)에 의해 동력을 제공받는다.
보다 상세히 설명하면, 제 1 좌우 나사(162)가 고정 스테이지(110)의 상하에 설치된 제 1 가변 스테이지(120)와 수직으로 고정 스테이지(110) 하부에 설치되어 있다. 그리고 제 1 좌우 나사(162)의 양끝단에는 제 1 가변 스테이지(120)가 설치되어 있으며, 일 끝단에는 구동부(150)가 연결되어 있다. 따라서 구동부(150)의 동력을 전달받아 제 1 좌우 나사(162)가 회전하여 제 1 가변 스테이지(120)가 상하로 이동된다.
또한, 고정 스테이지(110)에는 제 1 가변 스테이지(120)가 이동하는 경로 상 에 제 1 가이드 레일(182)이 설치되어 있어 제 1 가변 스테이지를 슬라이딩시킬 수 있다.
그리고, 고정 스테이지(110)에는 제 1 좌우 나사(162)와 수직으로 제 2 좌우 나사(164)가 설치되어 있으며, 제 2 좌우 나사(164)의 양끝단에는 제 2 가변 스테이지(130)가 설치되어 있다. 여기서, 제 2 좌우 나사(164)는 제 1 좌우 나사(162)와 중앙에서 기어(192)를 통해 결합되어 있다. 따라서, 제 1 좌우 나사(162)가 구동부(150)를 통해 회전하게 되면, 동력이 기어(192)를 통해 제 2 좌우 나사(164)로 전달되어 제 2 좌우 나사(164)가 회전된다. 그러므로 제 2 좌우 나사(164)에 의해 제 2 가변 스테이지(130)가 좌우로 이동된다.
또한, 제 2 가변 스테이지(130)가 이동하는 경로 상에 제 2 가이드 레일(184)이 설치되어 있어, 제 2 가변 스테이지(130)가 제 2 가이드 레일(184)을 따라 슬라이딩되면서 좌우로 이동한다.
그리고, 고정 스테이지(110)의 하부에는 제 1 좌우 나사(162)와 평행하게 랙 기어(172)가 설치되어 있다. 그리고 제 1 가변 스테이지(120)의 하부에는 제 3 좌우 나사(166)가 랙 기어(172)와 수직으로 설치되어 있다. 이 때, 제 3 좌우 나사(166)와 랙 기어(172)는 기어(194)를 통해 결합되어 있다. 그리고 제 3 좌우 나사(166)의 양끝단에는 제 3 가변 스테이지(140)가 연결되어 있다. 따라서, 제 1 가변 스테이지(120)가 제 1 좌우 나사(162)에 의해 상하로 이동하게 되면, 랙 기어(172)와 결합된 기어(194)가 동작하면서 제 3 좌우 나사(166)가 회전한다. 그러므로 제 3 좌우 나사(166)의 양끝단에 설치된 제 3 가변 스테이지(140)가 제 1 가 변 스테이지(120)로부터 좌우로 이동하게 된다.
이와 같이 제 3 좌우 나사(166)가 설치된 제 1 가변 스테이지(110) 하부에는 제 3 좌우 나사(166)와 평행하게 제 3 가이드 레일(186)이 설치되어 있다. 이에 따라 제 3 가변 스테이지(140)는 제 3 좌우 나사(166)가 회전하여 이동할 때 슬라이딩될 수 있다.
즉, 기판 처리 장치는 구동부(150)의 동작에 의해 제 1 내지 제 3 가변 스테이지(120, 130, 140)가 유기적으로 동작되면서 기판 처리 장치의 사이즈가 가변된다.
이상 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 설명하였지만, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 기술적 사상이나 필수적인 특징을 벗어나지 않는 범위 내에서 여러 가지로 치환, 변형 및 변경이 가능하므로 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다.
본 발명에 따르면, 평판 디스플레이 장치를 제조 중, 기판의 사이즈에 따라 기판을 지지하는 스테이지의 면적을 가변할 수 있으므로, 작은 사이즈의 기판을 이용시 불필요한 공간을 차지하는 면적을 줄일 수 있다. 또한, 작은 사이즈의 기판을 이용할 때 스테이지의 사이즈가 커 불필요한 동작을 수행하는 것을 방지할 수 있다.

Claims (5)

  1. 고정 스테이지;
    상기 고정 스테이지의 상하에 설치되어 상기 고정 스테이지로부터 상하로 이동하는 제 1 가변 스테이지;
    상기 고정 스테이지의 좌우에 설치되어 상기 고정 스테이지로부터 좌우로 이동하는 제 2 가변 스테이지;
    상기 제 1 및 제 2 가변 스테이지를 이동시키는 동력을 제공하는 구동부; 및
    상기 구동부로부터 동력을 전달받아 상기 제 1 및 제 2 가변 스테이지를 이동시키는 조절 수단을 포함하되,
    상기 조절 수단은,
    양끝단이 상기 제 1 가변 스테이지와 연결되며, 상기 구동부에 의해 회전하여 상기 제 1 가변 스테이지를 상하로 이동시키는 제 1 좌우 나사; 및
    양끝단이 상기 제 2 가변 스테이지와 연결되고, 상기 제 1 좌우 나사와 수직하게 위치하며 상기 제 2 가변 스테이지를 좌우로 이동시키는 제 2 좌우 나사를 포함하는 기판 처리 장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 2 좌우 나사는 상기 제 1 좌우 나사와 수직으로 결합되어 있어 상기 제 1 좌우 나사의 회전에 의해 회전되는 기판 처리 장치.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 기판 처리 장치는 상기 제 1 가변 스테이지 각각의 좌우에 설치되어 상기 제 1 가변 스테이지로부터 좌우로 이동하는 제 3 가변 스테이지를 더 포함하는 기판 처리 장치.
  4. 제 3 항에 있어서, 상기 조절 수단은,
    상기 제 1 좌우 나사와 평행하게 설치된 랙기어; 및
    상기 제 1 가변 스테이지에 설치되고 양끝단이 상기 제 3 가변 스테이지와 연결되며, 상기 랙기어 양끝단과 결합되어 상기 제 1 가변 스테이지의 이동에 따라 회전하여 상기 제 3 가변 스테이지를 좌우로 이동시키는 제 3 좌우 나사를 더 포함하는 기판 처리 장치.
  5. 제 4 항에 있어서, 상기 조절 수단은,
    상기 고정 스테이지에 상기 제 1 가변 스테이지의 이동 방향으로 설치되어 상기 제 1 가변 스테이지를 슬라이딩시키는 제 1 가이드 레일;
    상기 고정 스테이지에 상기 제 2 가변 스테이지의 이동 방향으로 설치되어 상기 제 2 가변 스테이지를 슬라이딩시키는 제 2 가이드 레일; 및
    상기 제 1 가변 스테이지에 상기 제 3 가변 스테이지의 이동 방향으로 설치되어 상기 제 3 가변 스테이지를 슬라이딩시키는 제 3 가이드 레일을 더 포함하는 기판 처리 장치.
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