KR100758048B1

KR100758048B1 - 가스 방전 램프를 동작시키는 방법 및 디바이스, 가스 방전 램프의 전극을 처리하는 방법, 가스 방전 램프, 가스 방전 램프를 구비한 프로젝터 및 차량, 가스 방전 램프를 동작시키는 디바이스를 구비한 프로젝터 및 차량, 머신 판독가능 데이터 캐리어

Info

Publication number: KR100758048B1
Application number: KR1020010023649A
Authority: KR
Inventors: 데라겐더한스; 피셔한스언스트; 크루켄토마스; 모엔취홀거; 리에더러자버
Original assignee: 코닌클리즈케 필립스 일렉트로닉스 엔.브이.
Priority date: 2000-05-03
Filing date: 2001-05-02
Publication date: 2007-09-11
Also published as: JP4744719B2; US20020011803A1; TWI290808B; TW200401588A; EP1152645B1; CN1336783B; EP1152645A1; DE50109474D1; KR20010100949A; DE10021537A1; US6586892B2; JP2002015883A; TW578443B; CN1336783A

Abstract

교류 전압(alternating voltage) 또는 교류 전류(alternating current)가 제공되고 램프의 순간 전력(instantaneous power)이 주어진 시간 간격(given time intervals)에서 증가하는 가스 방전 램프(gas discharge lamp)를 동작시키는 방법(method) 및 디바이스(device)는 전극(electrodes)을 형성하는 데 사용된다. 시간에 따라 변화하는 램프의 동작 데이터(operational datum)의 값은 연속적으로 혹은 불연속적으로(continuously or discontinuously) 측정되고 그 측정된 값(measured values)에 의존하여 교류 전압 혹은 교류 전류의 주파수(동작 주파수)가 선택된다.

Description

가스 방전 램프를 동작시키는 방법 및 디바이스, 가스 방전 램프의 전극을 처리하는 방법, 가스 방전 램프, 가스 방전 램프를 구비한 프로젝터 및 차량, 가스 방전 램프를 동작시키는 디바이스를 구비한 프로젝터 및 차량, 머신 판독가능 데이터 캐리어{METHOD OF AND DEVICE FOR OPERATING A GAS DISCHARGE LAMP}

본 발명의 더 상세하고 유리한 점은 아래의 도면을 참조하고 예시에 의해 제시된, 본 발명에 따른 유리한 변형에 의해서 주어진 비한정적인(non-limitative) 설명으로부터 명백해질 것이다.

도 1은 펄스 동작 동안 가스 방전 램프에 공급되는 동작 전류의 시간에 따른 전형적인 변화를 나타내는 그래프.

도 2는 본 발명에 따른 방법에 의해 형성된 전극의 측면도.

본 발명은 교류 전압(alternating voltage) 또는 교류 전류(alternating current)를 공급받으며 순간 전력이 주어진 시간 간격(time interval)에서 증가하는(펄스 동작 모드)(pulsed mode of operation) 가스 방전 램프를 동작시키기 위한 방법 및 디바이스에 관한 것이다. 본 발명은 또한 상기 동작 모드에 기초하여 전극을 처리하는 방법뿐만 아니라 그러한 램프와 디바이스를 구비한 장치(apparatus)에 관한 것이다.

그러한 동작 모드와 디바이스(device)는, 예를 들면 국제 특허 출원 제 WO 96/14724 호 혹은 미국 특허 제 5,608,294 호로부터 알려져 있다. 인용된 국제 출원 공개 공보(WO publication)는 가스 방전 램프를 동작시키기 위한 에너지 공급 회로(energy supply circuit)를 구비한 디바이스를 개시하고 있는데, 이 디바이스에서 에너지 공급 회로는 평균 램프 전력이 공칭 전력(nominal power)에 비해 감소할 때 교류 전압 또는 교류 전류의 폴 역전(pole reversal)의 직전의 반주기 내에 순간 전력이 증가하는 방식으로 가스 방전 램프에 사전결정된 전력을 공급하기 위해, 사전결정된 기간의 교류 전압 혹은 교류 전류를 제공한다.

폴 역전에 선행하는 순간적인 전력의 이러한 짧은 증가는 폴 역전 후에 요구되는 재 점화(re-ignition) 전압이 공칭 동작 모드(nominal mode)에서의 전압에 비해 반드시 증가할 필요는 없다는 것을 보증한다.

인용된 미국 특허는 짧은 광 아크(short light arc)를 갖는 가스 방전 램프를 동작시키기 위한 방법을 기술하고 있다. 여기서, 램프는 주어진 기간 동안 교류 전류를 수신하고 짧은 전류 펄스(brief current pulse)는 각각의 반주기에서 램프 전류에 대해 중첩되는데, 그 전류 펄스는 관련된 반주기에서 램프 전류와 같은 극성을 갖기 때문에 광 아크의 불변성(constancy)과 가스 방전 램프의 전극의 내구성이 본질적으로 개선되게 한다.

인용된 국제 공개 문헌으로부터 알려져 있고, 이하 "펄스 동작(pulsed operation)" 혹은 "펄스 모드(pulsed mode)"라 지칭되는, 전류 세기 혹은 전압의 변화는 실제로 매우 효율적이라는 것이 증명되었다. 본 명세서에서 "펄스 동작" 및 "펄스 모드"라는 용어는, 특히 램프 아크의 안정을 위해서, 부가적인 전류 또는 전압 펄스들이 동작 전류 또는 동작 전압에서 중첩되는 전류 세기나 전압의 모든 시간 변화를 포함하지만, 많은 공개 문헌(예를 들면, 유럽 특허 출원 제 EP 0 865 210 A2 호, 국제 특허 출원 제 WO 97/247871 호 혹은 미국 특허 제 5,428,408 호)에 있어서, "펄스 동작"이라는 용어는 램프가 빠르게 반복되는 매우 짧은 기간에 동작하고 대부분의 시간 동안에는 광을 출력하지 않는 램프 동작 모드만을 배타적으로 의미한다는 점에 유의해야 한다.

비록 펄스 동작이 광 아크의 불변성을 상당히 개선할 수 있다 하더라도, 그 유효 수명(service life)은 아직 만족할 만하지 못하다. 이것은, 예를 들면, LC 혹은 미러 디스플레이(mirror displays)(변형 가능한 미러 디바이스(deformable mirror device))를 구비한 데이터와 비디오 프로젝터(data and video projector)에서 사용되는 것과 같이, 매우 짧은 광 아크를 갖는 고압 가스 방전 램프(high-pressure gas lamps)의 경우 및 기타 다른 응용에 있어서 특히 중요하다. 요구된 광 아크가 짧을수록, 램프 전극들의 소실되는 효과, 및 전극들 사이에 수반되는 광 아크의 연장은 더 심각하게 될 것이다. 처음 100시간 동작 동안 짧은 광 아크 및 짧은 광 아크를 지닌 가스 방전 램프에서 램프 전극이 소실되면, 예를 들어, 프로젝션 시스템의 효율이 20% 정도 감소하는 것은 드물지 않다.

또한, 매우 짧은 전극 갭(gap)을 갖는 가스 방전 램프의 제조는 극히 어려운데, 그 이유는 일반적으로 전극은 석영관(quartz tube) 내에 봉합되고 그 튜브 내로 봉합하기 전에 그 위치가 제조 공정에 따라 램프를 제조한 후 최초의 설정, 즉 상호간의 측면 정렬뿐만 아니라 갭과 관련된 최초의 설정으로부터 벗어나도록 그 위치가 결정되기 때문이다. 이러한 전극의 위치 공차(positioning tolerance)는 비용을 많이 들여야만 줄일 수 있다.

매우 힘들게 해결될 수 있는 다른 문제는 전극 자체의 기하학적 형태에 기인한다. 고체 물질로부터 원하는 기학적 형태의 전극을 잘라낼 수 있지만, 비용 때문에, 궁극적으로 열의 분산을 정의하는 전극의 기하구조 및 내부 구조가 그러한 구성에 있어 보다 작은 범위로 제어될 수 있다고 할지라도, 그 전극은 텅스텐 나선 슬라이드를 구비한 전극 로드(electrode rod)(늘여진 텅스텐 와이어)로 구성되는 것이 바람직하다. 짧은 광 아크를 지닌 램프에서 전극의 상당한 열 부하는, 약 1 ㎜의 아크 길이를 가진 고압 가스 방전 램프 내의 전극 전면을 몇 시간 내에 완전히 변화시킬 수 있는 전극 물질의 빠른 이송(예를 들면, 텅스텐의 증발과 같은 것)을 야기한다. 심지어 이상적인 형상의 전극일지라도 대개 그런 환경 내에서는 단지 100시간 미만의 시간 동안에만 본래의 기능적 특성을 유지할 것이다.

전술한 사항을 고려한다면, 본 발명의 목적은 가스 방전 램프의 동작 동안 일어나는 이송 프로세스(transport process)를 전극의 형성에 유리하게 사용할 수 있게 하는 가스 방전 램프를 동작시키는 방법 및 디바이스를 제공하는 데 있다.
본 발명의 목적은 청구항 제 1 항에 기재된 것과 같은 방법 및 청구항 제 11 항에 기재된 것과 같은 디바이스에 의해서 구현될 수 있다. 유리한 버전(version)과 실시예가 그 종속항에 기재되어 있다. 종속 청구항들은 이 방법과 디바이스에 기초한 프로세싱 방법과 디바이스(processing methods and devices)에 관한 것이다.

본 발명의 목적은 시간에 따라 변하는 적어도 하나의 램프 동작 데이터의 값이 연속적으로 혹은 불연속적으로 측정되고 그 측정값에 의존하여 교류 전압 혹은 교류 전류의 주파수(동작 주파수)가 선택되는 전술한 방법에 의해 명료하게 달성된다. 그 다음에, 동작 주파수(operating frequency)는 램프의 전체 유효 수명, 동작 전압, 흡수되거나 방출되는 전력, 아크 길이 및 전극 갭을 포함하는 동작 데이터 그룹으로부터 적어도 하나의 동작 정보의 측정된 값에 의존하여 유리하게 선택되는데, 그러한 모든 데이터는 전극의 상태, 특히 전극 갭에 관한 직접 혹은 간접적 데이터를 제공하기 때문이다(예를 들면 유효 수명을 가진 새 램프의 경우에 있어서 조차, 전극의 대략적 상태와 그에 따라 주어진 동작 주파수를 선택할 필요성의 아이디어는 실험값에 기초한 유효 수명 자체로부터 도출될 수 있다).

본 발명은 교류 전류 혹은 교류 전압으로 동작하는 동안 전극 상에서 성장하는 구조물의 크기가 전류 또는 전압의 동작 주파수에 비례한다는 새로운 통찰에 기초하고 있다. 동작 전류 혹은 동작 전압의 기본 주파수가 더 높아질수록 성장된 구조물의 직경은 더 작아진다는 것이 밝혀졌다. 고압 가스 방전 램프에서의 전형적인 주파수는 대략 40㎐에서 600㎐ 사이에 있다. 주어진 타입(예를 들어, DE 38 13 421 A 에 따른 타입)의 램프에 대해, 예를 들면, 다음의 관계가 유효하다. 즉, 성장된 구조물의 대략의 직경이 D=a/f^1/2이다. 여기서 f는 ㎐ 단위의 동작 주파수이고, a는 대략 200에서 500㎛의 직경을 가지는 구조물이 100㎐의 기본 주파수의 경우에 형성되도록, 전형적으로 대략 2000에서 5000㎛㎐^1/2 사이에 있는 램프-특정 비례 상수(lamp specific proportionality constant)이다. 일반적으로, 이 상수는 1,000에서 10,000㎛㎐^1/2 사이의 슬롯 내에 있을 수 있다. 일반적으로 형성되는 구조물의 높이는 직경보다 작으며 대개 직경의 0.4 내지 0.8배이다. 그러나 그 비율은 0.2에서 1.2 사이에서 변화하는 것으로 밝혀졌다. 이 관계는 본 발명에 따라서 램프의 동작 동안 제어할 수 있는 방법으로 돌출 전극 팁(projecting electrode tips)을 형성하는 데 사용된다.

본 발명은 제조 공정에 의해 형성된 전극의 기본 형상에 관계없이 (주어진 제한 내에서) 동작하는 동안 전극의 형성을 가능하게 한다. 바람직한 전극 갭 혹은 바람직한 동작 전압은 이송 프로세스를 이용함으로써 주어진 제한 내에서 조정될 수 있다. 바람직한 전압에 도달하면, 조정 프로세스는 중단되고 램프는 그 순간 우세한 주파수에서 동작한다.

본 발명에 따른 방법의 특별한 이점은 그것이 램프의 유효 수명 동안 반복해서 적용될 수 있고, 그에 따라서 현저한 결과가 매우 긴 유효 수명에 걸쳐 획득될 수 있도록 전극의 재생(regeneration)을 어느 정도까지 가능케 한다는 것이다.

이송 프로세스의 물리적 법칙 때문에, 동작하는 동안 형성된 전극 구조물은 실질적으로 정확하게 대향하는 위치에 위치하여 어떤 측면 오프셋(lateral offset)도 일어나지 않게 된다. 그 동작이 충분히 낮은 주파수에서 시작하면, 그 구조물은 전극 중앙에 위치하게 될 것이다.

이 목적을 위해서, 측정된 값은 사전결정된 부차적 조건들을 만족시키는지의 측면에서 유리하게 모니터링되고, 제 1의 부차적 조건이 만족되는 경우(시작 조건)에 램프는 제 2의 부차적 조건이 만족될 때까지 낮은 주파수(시작 주파수)로 작동되며, 그 후에 동작 주파수는 증가한다. 그러한 시작 조건들은, 예를 들면 제 1의 시간 동안 새 램프의 동작 내에 두거나 필요 동작 전압을 주어진 한계 값을 초과하도록 누적시키는 것일 수도 있다. 특히, 예를 들어 새 램프가 제 1 시간 동안 동작 하에 있을 때 감소하는 직경의 연속 구조가 전극 상에 만들어질 수 있어 비교적 낮은 시작 주파수로 시작하며, 반면에 형상이 단지 약간만 변형되는 전극의 경우에는, 바로 작은 구조를 만들어 비교적 높은 시작 주파수로 시작하는 것만으로 충분할 수 있도록, 상이한 시작 주파수로 상이한 시작 조건을 규정할 수도 있다.

동작 주파수는 그 구조를 연속적으로 만들기 위해 계속 증가할 수 있다. 그러나 사전결정된 중단 조건에 도달할 때까지 불연속적 스텝으로 동작 주파수를 증가시키는 것이 특히 유리하다는 것이 밝혀졌다. 그러한 중단 조건(interruption condition)은 사전결정된 동작 주파수의 도달(최대 주파수)일 수도 있고 사전결정된 최소 동작 전압의 도달일 수도 있으며, 사전 결정된 기간에 걸친 전극 갭의 불변성일 수 있다.

가스 방전 램프를 동작시킬 때 전술한 목적을 달성하기 위해 배열된 디바이스에는 시간에 따라 변화하는 램프의 적어도 하나의 동작 정보 값을 연속 혹은 불적으로 측정하기 위한 측정 수단과 그 측정값에 의존하여 교류 전압 혹은 교류 전류의 주파수(동작 주파수)를 변화시키기 위한 수단이 제공된다. 그러한 디바이스는 또한 이미 제조된 가스 방전 램프와 모든 유형의 가스 방전 램프 특히 프로젝터에 사용되는 조명 디바이스, 트럭의 조명 시스템 등에 간단히 사용되거나 제공될 수 있다.

본 디바이스의 바람직한 실시예는 적어도 하나의 마이크로프로세서를 포함하여, 사전결정된 혹은 선택 가능한 부차적 조건을 만족시키는 것에 대해 측정된 값을 평가하고 모니터링되도록 의도되었을 뿐만 아니라 동작 주파수, 동작 전압 및 가스 방전 램프에 인가되는 교류 전류를 제어하도록 의도된 소형의 평가 및 제어 유닛(compact evaluation and control unit)을 포함한다. 따라서 가스 방전 램프의 펄스 동작을 위한 기존 디바이스에 이미 제공된 프로세서 및 유닛을 유리하게 사용할 수 있을 것이다.

인용된 미국 특허 제 5,608,294 호는 도 1에서 도시된 것처럼, 높이(I3)의 부가적인 전류 펄스와 전체 기간(t1/2)의 관련 반파(half wave)의 끝에서의 시간(tp)과 기본 높이(I2)를 갖는 형태의 전류를 발생시킬 수 있는 전자 밸라스트 장치(electronic ballast device)를 설명하고 있다. 바람직하게, 이것은 램프 동작 주파수를 제어할 수 있는 마이크로프로세서로 제어되는(microprocessor-controlled) 밸라스트 장치에 의해 구현된다. 그것은 또한 이하 설명될 단계를 실행하기 위한 제어 프로그램을 포함하는 데이터 캐리어를 포함한다. 또한 이것은 머신 판독가능한(machine-readable) 데이터 캐리어가 그 데이터를 밸라스트 장치(ballast device)로 전송하도록 판독할 수 있는 판독장치(reading device)가 제공된다.

도 2의 측면도에 도시된 것과 같은 바람직한 형태를 가진 전극을 만들기 위해, 램프는 펄스 모드(pulsed mode)에서 낮은 주파수에서 출발하여 서서히 증가하는 주파수로 동작한다. 그 시퀀스(sequence)의 시작에서의 낮은 주파수는 계속 더 좁아지는 구조(2, 3)가 더 높은 주파수에서 만들어질 수 있도록 하는 기부(base)로서 넓은 구조물(1)을 제공한다. 그 전이(transition)는 연속적이거나 이산 스텝(discrete steps)으로 발생할 수 있다. 실제의 결과는, 예를 들면 이러한 증가하는 시퀀스 내의 45, 65, 90, 130㎐에서 몇 시간의 매번 동작 기간에서 얻어질 수 있다. 이 동작 모드를 이용하여, 통상적인 고압력 가스 방전 램프에서 전극 갭을 1.3㎜에서 0.7㎜까지 감소시키는 것이 가능하다는 것을 알게 되었다. 이와 같이 최고 주파수에서 조절된 램프의 연장된 동작 동안(약 수백 시간), 전극은 점차 다 소실되어 다시 초기 상태가 되는데, 이는 동작 전압의 증가를 기초로 하여 쉽게 관찰될 수 있다.

동작 전압이 증가할 때, 본 발명에 따른 전극은 전극의 팁 구조가 거의 완전히 재구축될 때까지 천천히 증가하는 주파수로 다시 처리될 수 있다. 이런 종류의 매 재생성 동작 후에, 램프는 가장 높게 선택된 주파수에서 대략 100시간 동안 동작할 수 있다.

본 발명은 램프의 빛이 재생성 단계(regeneration phases) 동안에도 사용될 수 있다는 주된 이점을 제공한다. 전반적으로, 광 효율(optical efficiency)은 대개 전극 갭이 증가함에 따라 감소한다(예를 들면, 비디오 프로젝션의 경우 스크린의 밝기가 감소한다. 즉, 밝기는 재생성에 의해 증가한다). 100시간의 시간 스케일에 걸쳐 변동하는 그러한 시스템 효율은 임의의 경우에 연속적으로 감소하는 효율보다 더 뛰어난 주된 이점을 제공할 수 있다.
새로운 재생성(renewed regeneration)의 필요성은 램프의 전압 상승으로부터 쉽게 도출될 수 있다. 동작 전압이 미리 결정된 값을 넘어서 증가할 때, 새로운 재생성이 시작된다.
이하, 본 발명에 따른 방법이 비디오 프로젝터의 가스 방전 램프 동작 동안 어떻게 실행될 수 있는지를 예시에 의해서 상세히 설명할 것이다.
램프의 제 1 시간 동작은 램프가 제자리로 복원되었을(replaced) 때 자동적으로 리셋(reset)되는 동작 카운터(operation counter)의 시간에 의해 인식된다. 이것은 이미 상업적으로 입수가능한 수많은 프로젝터에 구현된다.

램프는 최초에 가능한 한 낮은 주파수(예를 들면 45㎐)에서 동작한다. 그러한 동작은 고정 시간 간격 동안(예를 들면, 한 시간의 동작) 일어날 수 있다. 이와 달리, 주파수는 또한 현저한 전압 감소(구조의 성장을 의미함)가 더 이상 관찰될 수 없을 때까지 유지될 수 있다. 이 동작 모드는 각각의 차(individual differences)가 고정된 기간 동안의 동작의 경우에서보다 더 양호하게 고려될 수 있다는 점에서 유리하다.

그 후에, 주파수가 증가한다. 각각의 선행 주파수보다 대략 1.2에서 1.8배까지 주파수가 증가하는 것이 바람직한 것으로 밝혀졌다. 새 주파수에서의 동작은 고정된 기간 동안 혹은 현저한 전압 감소가 더 이상 검출되지 않을 때까지 다시 발생할 수 있다.

전체적으로, 주파수는 (1) 고정주파수 한계에 도달될 때까지, 혹은 (2) 고정 전압에 도달할 때까지, 혹은 (3) 주파수 증가 후에 현저한 성장이 더 이상 관찰되지 않을 때까지 증가한다.

이와 같이 결정된 주파수는 전압이 예컨대 다시 최초의 레벨까지 상당히 증가할 때까지 유지되고 사용될 수 있다. 그러나, 바람직하게, 전극은 최초의 레벨로 이미 증가하기 전에 새롭게 "재생성"된다. 이 목적을 위해서, 램프는 다시 가능한 한 낮은 주파수에서 동작한다.
본 발명에 따른 방법은 가스 방전 램프의 동작 전압과 아크 길이 혹은 전극 갭의 실질적인 감소를 가능하게 한다. 예를 들면, 통상적인 구조의 가스 방전 램프에서는, 전술한 단순하고 경제적인 구조의 전극을 구비하고 있기 때문에, 45, 65, 90, 130㎐의 일련의 동작 주파수를 사용하는 동안 전력과 2.8A에 이르는 펄스 전류(I3)를 제어하기 위한 램프 전류(I2)가 존재할 때, 동작 전압은 최초 85V에서 52V까지 감소할 수 있고 아크 길이는 최초 1.3㎜에서 0.7㎜로 감소할 수 있다. 이 놀라운 감소는 개별 프로세스에서 구현되는 것이 아니라 램프의 "일반적" 사용, 예를 들어 프로젝션 모드에서 구현된다는 점에 유의해야 한다.
많은 다른 변형들과 더 정교한 것들이 본 발명의 범위 내에서 실행 가능하다. 그런 대안들은, 예를 들면 동작 주파수가 증가하거나 감소하는 부차적 조건 혹은 동작 주파수의 선택과 관련되어 있다. 본 방법은 이송 현상이 동작 주파수의 제어된 변화에 의해 전극 위에 물질을 증착하는 데 사용된다는 점에서 가스 방전 램프의 동작 동안 전극의 처리를 가능하게 한다는 것이 본질적인 측면이다.

교류 전압 또는 교류 전류가 제공되고 램프의 순간 전력이 주어진 시간 간격에서 증가하는(펄스 동작 모드) 가스 방전 램프를 동작시키는 방법 및 디바이스가 전극을 형성하기 위해 사용되는데, 시간에 따라 변화하는 상기 램프의 동작 데이터의 값은 연속 혹은 불연속적으로 측정되고 그 측정된 값에 의존하여 교류 전압 혹은 교류 전류의 주파수(동작 주파수)가 선택된다.

본 발명은 제조 공정에 의해 형성된 전극의 기본 형상에 관계없이 (주어진 제한 내에서) 동작하는 동안 전극의 형성을 가능하게 한다. 바람직한 전극 갭 혹은 바람직한 동작 전압은 이송 프로세스를 이용하는 것에 의해 주어진 제한 내에서 조정될 수 있다. 바람직한 전압에 도달했을 때, 조정 프로세스는 중단되게 되고 램프는 그 순간 우세한 주파수에서 동작한다. 본 발명에 따른 방법의 특별한 이점은 그것이 램프의 유효 수명 동안 반복해서 적용될 수 있고, 그에 따라서 현저한 결과가 매우 긴 유효 수명에 걸쳐 구현될 수 있도록 하는 전극의 재생을 어느 정도까지 가능케 한다.

Claims

교류 전압(alternative voltage) 혹은 교류 전류(alternative current)가 공급되고 램프의 순간 전력(instantaneous power)이 주어진 시간 간격(time intervals)에서 증가하는 가스 방전 램프의 동작 방법에 있어서,

시간에 따라 변하는 상기 램프의 적어도 하나의 동작 데이터 값은 연속적으로 혹은 불연속적으로 측정되고,

상기 교류 전압 혹은 상기 교류 전류의 주파수는 상기 측정된 값에 의존하여 상기 램프의 동작 중에 일어나는 전극 물질의 이송(transport)의 의도적 사용(deliberate use)을 위해 선택되는 것을 특징으로 하는

가스 방전 램프(gas discharge lamp)의 동작 방법.
제 1 항에 있어서,

상기 교류 전압 또는 상기 교류 전류의 상기 주파수는, 상기 램프의 전체 유효 수명, 동작 전압, 흡수되거나 방출된 전력, 아크 길이 및 전극 갭의 동작 데이터 그룹으로부터 적어도 하나의 동작 데이터의 측정값에 의존하여 선택되는 것을 특징으로 하는 가스 방전 램프의 동작 방법.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,

상기 측정된 값은 사전결정된 부차적 조건들을 만족시키는지와 관련하여 모니터링되고,

제 1의 부차적 조건이 만족될 때, 상기 램프는 제 2의 부차적 조건이 만족될 때까지 상기 교류 전압 또는 상기 교류 전류의 낮은 주파수를 이용하여 동작하며, 그 후에 상기 교류 전압 또는 상기 교류 전류의 상기 주파수가 증가하는 것을 특징으로 하는 가스 방전 램프의 동작 방법.
제 3 항에 있어서,

상기 제 1의 부차적 조건을 만족하고 상기 교류 전압 혹은 상기 교류 전류의 상기 낮은 주파수로부터 시작한 후에, 상기 교류 전압 또는 상기 교류 전류의 상기 주파수는 사전 결정된 제 3의 부차적 조건에 도달할 때까지 연속적으로 혹은 이산 스텝(discrete steps)으로 증가하는 것을 특징으로 하는 가스 방전 램프의 동작 방법.
제 3 항에 있어서,

상기 제 1의 부차적 조건은 주어진 유효 수명이 발생하거나 도달했을 때, 혹은 필요한 동작 전압이 사전결정된 값까지 증가했을 때, 혹은 상기 전극 갭이 사전결정된 값까지 증가했을 때 만족된 것으로 여겨지는 것을 특징으로 하는 가스 방전 램프의 동작 방법.
제 3 항에 있어서,

상기 제 2의 부차적 조건은 상기 램프가 주어진 기간 동안 상기 교류 전압 혹은 상기 교류 전류의 상기 낮은 주파수에서 동작했을 때, 혹은 사전결정된 기간에 걸쳐 상기 전극 갭의 직접적 혹은 간접적인 측정 동안 변화가 더 이상 관찰될 수 없을 때 만족된 것으로 간주되는 것을 특징으로 하는 가스 방전 램프의 동작 방법.
제 4 항에 있어서,

상기 제 3의 부차적 조건은 상기 교류 전압 혹은 상기 교류 전류의 사전결정된 주파수에 도달했을 때, 혹은 필요한 동작 전압이 사전결정된 최소 값까지 감소했을 때, 혹은 사전결정된 기간에 걸쳐 상기 전극 갭의 직접 혹은 간접적인 측정 동안 더 이상 변화가 검출될 수 없을 때 만족된 것으로 여겨지는 것을 특징으로 하는 가스 방전 램프의 동작 방법.
제 3 항에 있어서,

상기 교류 전압 혹은 상기 교류 전류의 상기 제 1의 부차적 조건 및 상기 낮은 주파수는 동작 상태에 따라 선택되는 것을 특징으로 하는 가스 방전 램프의 동작 방법.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,

상기 교류 전압 혹은 상기 교류 전류의 상기 선택된 주파수는 40 내지 600㎐인 것을 특징으로 하는 가스 방전 램프의 동작 방법.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,

상기 교류 전압 혹은 상기 교류 전류의 상기 주파수는 이산 스텝으로 증가하되,

상기 주파수는 매번 1.2배 내지 1.8배로 증가하는 것을 특징으로 하는 가스 방전 램프의 동작 방법.
주어진 시간 간격에서 가스 방전 램프의 순간 전력을 증가시키는 방식으로 교류 전압 혹은 교류 전류를 이용하여 상기 램프를 동작시키는 디바이스로서,

시간에 따라 변화하는 상기 램프의 적어도 하나의 동작 데이터의 값을 연속적 혹은 불연속적으로 측정하기 위한 측정 수단과,

상기 램프의 동작 중에 일어나는 전극 물질의 이송(transport)의 의도적 사용(deliberate use)을 위해 상기 측정된 값에 의존하여 상기 교류 전압 혹은 상기 교류 전류의 주파수를 변화시키는 수단이 제공되는 것을 특징으로 하는 가스 방전 램프의 동작 디바이스.
제 11 항에 있어서,

상기 측정 수단은 상기 램프의 전체 유효 수명, 동작 전압, 흡수되거나 방출되는 전압, 아크 길이 및 전극 갭의 동작 데이터 그룹으로부터 적어도 하나의 동작 데이터의 값을 측정하는 것을 특징으로 하는 가스 방전 램프의 동작 디바이스.
제 11 항 또는 제 12 항에 있어서,

상기 교류 전압 혹은 상기 교류 전류의 상기 주파수를 변화시키기 위한 상기 수단에 연결되어, 사전결정된 혹은 선택 가능한 부차적 조건들을 만족시키는지와 관련하여 상기 측정된 값을 모니터링 하는 적어도 하나의 모니터링 유닛(at least one monitoring unit)이 제공되는 것을 특징으로 하는 가스 방전 램프의 동작 디바이스.
제 11 항 또는 제 12 항에 있어서,

상기 교류 전압 혹은 상기 교류 전류의 상기 주파수, 상기 동작 전압, 및 상기 가스 방전 램프에 공급되는 상기 교류 전류를 제어하는 적어도 하나의 마이크로프로세서를 포함하며, 사전결정된 혹은 선택 가능한 부차적 조건들을 만족시키는지와 관련하여 상기 측정값을 평가하고 모니터링하는 적어도 하나의 소형 평가 및 제어 유닛이 제공되는 것을 특징으로 하는 가스 방전 램프의 동작 디바이스.
제 11 항 또는 제 12 항에 있어서,

40 내지 600 ㎐ 사이의 상기 교류 전압 혹은 상기 교류 전류의 주파수가 생성될 수 있는 것을 특징으로 하는 가스 방전 램프의 동작 디바이스.
가스 방전 램프의 동작 동안 상기 램프의 전극을 처리(treat)하는 방법으로서,

상기 램프는 교류 전압 혹은 교류 전류를 이용하여 동작하고 상기 램프의 순간 전력은 주어진 시간 간격에서 증가하되,

상기 교류 전류 혹은 상기 교류 전압의 주파수는 상기 램프의 동작 중에 일어나는 전극 물질의 이송(transport)의 의도적 사용(deliberate use)을 위해 변화되는 것을 특징으로 하는 가스 방전 램프의 전극 처리 방법.
제 16 항에 있어서,

사전결정된 부차적 조건들이 만족될 때까지 상기 교류 전압 혹은 상기 교류 전류의 상기 주파수는 주어진 시작 주파수로부터 연속적으로 혹은 이산 스텝으로 증가하는 것을 특징으로 하는 가스 방전 램프의 전극 처리 방법.
제 16 항 또는 제 17 항에 있어서,

상기 교류 전압 혹은 상기 교류 전류의 상기 주파수는 40 내지 600 ㎐인 것을 특징으로 하는 가스 방전 램프의 전극 처리 방법.
제 16 항 또는 제 17 항에 있어서,

상기 교류 전압 혹은 상기 교류 전류의 상기 주파수는 이산 스텝으로 매번 1.2배 내지 1.8배로 증가하는 것을 특징으로 하는 가스 방전 램프의 전극 처리 방법.
두 개의 전극을 포함하는 가스방전 램프에 있어서,

상기 전극은 청구항 제 16 항 또는 제 17 항에 따른 방법에 의해 처리되는 것을 특징으로 하는 가스 방전 램프.
청구항 제 20 항에 따른 가스 방전 램프를 구비한 프로젝터.
청구항 제 20 항에 따른 가스 방전 램프를 구비한 차량.
청구항 제 11 항 또는 제 12 항에 따른 가스 방전 램프를 동작시키는 디바이스를 구비한 프로젝터.
청구항 제 11 항 또는 제 12 항에 따른 가스 방전 램프를 동작시키는 디바이스를 구비한 차량.
주파수 f의 교류 전류를 이용하여 가스 방전 램프들의 펄스 동작(pulsed operation) 동안 상기 램프의 전극을 처리하는 방법에 있어서,

관계식 D=a/f^1/2를 적용함을 특징으로 하되,

D는 상기 펄스 동작 동안 상기 전극 상에서 성장하는 구조체의 대략적인 직경이고, a는 상기 전극의 물질과 상기 전극의 기하 구조에 특히 의존하는 단위의 램프 특정 상수(a lamp-specific constant of the unit)[meter*Hertz^1/2]이며, f는 ㎐ 단위의 주파수인 가스 방전 램프의 전극 처리 방법.
가스 방전 램프를 동작시키는 디바이스를 제어하는 제어 프로그램을 구비한 머신 판독가능 데이터 캐리어에 있어서,

상기 프로그램은 청구항 제 1 항 또는 제 2 항에 따른 방법을 실행하는 머신 판독 가능 인스트럭션을 포함하는 것을 특징으로 하는 머신-판독가능 데이터 캐리어.