KR100752207B1 - Liquid Crystal Display Device - Google Patents
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Abstract
본 발명은 게이트라인과 데이터라인의 단락 또는 캐패시터의 하부전극으로 이용되는 게이트라인과 상부전극으로 이용되는 더미전극의 전기적 단락으로 발생되는 점 결함(point defect)을 리페어(repair)할 수 있는 액정표시장치에 관한 것이다.The present invention provides a liquid crystal display capable of repairing a point defect caused by a short circuit between a gate line and a data line or an electrical short circuit between a gate line and a dummy electrode used as an upper electrode of a capacitor. Relates to a device.
본 발명에 따른 액정표시장치는 투명기판과; 상기 투명기판 상에 나란하게 배치된 제 1 및 제 2 배선과 상기 제 1 및 제 2 배선 사이를 연결하는 연결부가 형성된 사다리 형상의 게이트라인과; 상기 게이트라인과 연결된 게이트전극과; 상기 투명기판 상에 상기 게이트전극 및 게이트라인을 덮도록 형성된 게이트절연층과; 상기 게이트절연층 상에 상기 게이트라인과 교차되게 형성되고 상기 게이트라인의 제 1 및 제 2 배선에만 중첩되는 데이터라인과; 상기 데이터라인과 연결된 소오스전극과; 상기 게이트전극을 사이에 두고 상기 소오스전극과 대응되게 형성된 드레인전극과; 상기 데이터라인과 상기 드레인전극 및 소오스전극을 덮도록 형성된 패시베이션층과; 상기 게이트라인과 상기 데이터라인의 교차로 마련된 영역에 형성되고, 상기 패시베이션층에 상기 드레인전극이 노출되도록 형성된 제 1 접촉홀을 통해 상기 드레인전극과 전기적으로 연결되는 화소전극과; 상기 데이터라인과 동시에 형성되며 상기 게이트라인의 제 1 및 제 2 배선에만 중첩되고 제 2 접촉홀을 통해 상기 화소전극과 전기적으로 연결되는 더미전극을 포함한다.A liquid crystal display device according to the present invention comprises a transparent substrate; A ladder-shaped gate line having a connecting portion connecting the first and second wirings arranged side by side on the transparent substrate and the first and second wirings; A gate electrode connected to the gate line; A gate insulating layer formed on the transparent substrate to cover the gate electrode and the gate line; A data line formed on the gate insulating layer to intersect the gate line and overlapping only the first and second wires of the gate line; A source electrode connected to the data line; A drain electrode formed to correspond to the source electrode with the gate electrode interposed therebetween; A passivation layer formed to cover the data line, the drain electrode, and the source electrode; A pixel electrode formed in an area provided at the intersection of the gate line and the data line and electrically connected to the drain electrode through a first contact hole formed to expose the drain electrode in the passivation layer; And a dummy electrode formed at the same time as the data line and overlapping only the first and second wires of the gate line and electrically connected to the pixel electrode through a second contact hole.
따라서, 게이트라인이 데이터라인 또는 더미전극과 단락되면 게이트라인의 제 1 및 제 2 배선 중 어느 하나를 레이저 빔으로 절단하여 리페어(repair)하므로 점 결함을 방지할 수 있다.Therefore, when the gate line is shorted with the data line or the dummy electrode, any one of the first and second wires of the gate line is cut by the laser beam and repaired, thereby preventing point defects.
Description
도 1은 종래 기술에 따른 액정표시장치의 평면도1 is a plan view of a liquid crystal display according to the related art.
도 2는 본 발명에 따른 액정표시장치의 평면도2 is a plan view of a liquid crystal display according to the present invention.
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명><Explanation of symbols for main parts of the drawings>
21 : 투명기판 23 : 게이트라인21: transparent substrate 23: gate line
25 : 게이트전극 27 : 데이터라인25
29 : 드레인전극 31 : 소오스전극29
32 : 더미전극 33 : 화소전극32
35, 37 : 제 1 및 제 2 접촉홀35, 37: first and second contact holes
본 발명은 액정표시장치(Liquid Crystal Display : LCD)에 관한 것으로서, 특히, 게이트라인과 데이터라인의 단락 또는 캐패시터의 하부전극으로 이용되는 게 이트라인과 상부전극으로 이용되는 더미전극의 전기적 단락으로 발생되는 점 결함(point defect)을 리페어(repair)할 수 있는 액정표시장치에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE
액정표시장치는 박막트랜지스터(Thin Film Transistor)로 이루어진 구동소자인 스위칭 소자와 기판 사이에 주입되어 입사되는 빛을 투과하거나 반사하는 액정을 제어하는 화소(pixel) 전극을 기본단위로 하는 화소가 종횡으로 배열된 구조를 가진다.In the liquid crystal display device, a pixel based on a pixel electrode for controlling a liquid crystal that transmits or reflects light incident and injected between a switching element, which is a driving element formed of a thin film transistor, and a substrate, is vertically and horizontally. It has an arranged structure.
액정표시장치에서 스위칭소자인 박막트랜지스터와 이에 연결된 화소전극으로 구성된 단위 화소가 하부 기판 상에 각각 N×M(여기서, N 및 M은 자연수)개의 매트릭스(matrix) 상태로 종횡으로 배열되고, 이 박막트랜지스터 게이트전극들과 소오스전극들에 신호를 전달하는 N개의 게이트라인과 M개의 데이터라인이 게이트라인과 교차되어 형성된다.In a liquid crystal display device, a unit pixel consisting of a thin film transistor, which is a switching element, and a pixel electrode connected thereto, is vertically and horizontally arranged in a matrix state of N × M (where N and M are natural numbers) on a lower substrate, respectively. N gate lines and M data lines that transmit signals to transistor gate electrodes and source electrodes are formed to cross the gate lines.
또한, 액정표시장치는 액정 인가전압의 유지 특성 향상, 계조(gray scale) 표시의 안정 및 잔상 방지 등을 위해 축적 캐패시터를 갖는다.In addition, the liquid crystal display device has a storage capacitor for improving the retention characteristics of the liquid crystal applied voltage, stabilization of gray scale display, and prevention of afterimage.
축적 캐패시터는 하부전극으로 게이트라인이나 게이트라인과 동시에 형성되는 별도의 전극을 이용하고, 상부전극으로 데이터라인과 동시에 형성되며 접촉홀을 통해 화소전극과 연결되는 전극을 사용한다. 또한, 축적 캐패시터는 게이트절연막을 유전층으로 사용한다.The storage capacitor uses an electrode formed at the same time as the gate line or the gate line as the lower electrode, and an electrode formed at the same time as the data line as the upper electrode and connected to the pixel electrode through the contact hole. In addition, the accumulation capacitor uses a gate insulating film as the dielectric layer.
도 1은 종래 기술에 따른 액정표시장치의 평면도이다.1 is a plan view of a liquid crystal display according to the prior art.
종래 기술에 따른 액정표시장치는 박막트랜지스터와 축적 캐패시터를 포함한다. 액정표시장치는 투명기판(1) 상에 N개의 게이트라인(3)과 M개의 데이터라인(7) 이 교차되게 형성되어 N×M개의 화소영역을 한정한다. 상기에서 게이트라인(3)과 데이터라인(7)은 금속으로 형성되며 사이에 게이트절연층(도시되지 않음)이 형성되어 전기적으로 절연된다. N×M개의 화소영역 내에 N×M개의 화소가 형성되는 데, 이 화소는 게이트라인(3) 및 데이터라인(7)에 전기적으로 연결되게 형성된 스위칭소자인 박막트랜지스터(Thin Film Transistor)에 의해 구동된다.The liquid crystal display according to the prior art includes a thin film transistor and a storage capacitor. In the liquid crystal display,
박막트랜지스터는 게이트전극(5)과, 드레인 및 소오스전극(9)(11)과, 반도체층(도시되지 않음)과 오믹접촉층(도시되지 않음)으로 형성된다. 상기에서 게이트전극(5)은 게이트라인(3)과 연결되게 형성되며, 소오스전극(11)은 데이터라인(7)과 연결된다. 그리고, 드레인전극(9)은 게이트전극(5)을 사이에 두고 소오스전극(11)과 대응되게 형성된다.The thin film transistor is formed of a
상술한 구조의 박막트랜지스터를 덮도록 패시베이션층(passivation layer : 도시되지 않음)이 형성된다. 상기에서 패시베이션층은 질화실리콘 등의 무기절연물질이나, 또는, 아크릴(acryl)계 유기화합물, BCB(benzocyclobutene) 또는 PFCB(perfluorocyclobutane) 등의 유기절연물질로 형성된다. A passivation layer (not shown) is formed to cover the thin film transistor having the above-described structure. The passivation layer is formed of an inorganic insulating material such as silicon nitride or an organic insulating material such as acryl-based organic compound, BCB (benzocyclobutene) or PFCB (perfluorocyclobutane).
그리고, 패시베이션층 상의 화소영역에 화소전극(13)이 형성되어 있다. 화소전극(13)은 인듐주석산화물(Indium Tin Oxide : ITO), 주석산화막(Tin Oxide : TO) 또는 인듐아연산화물(Indium Zinc Oxide : IZO) 등의 투명한 전도성물질로 형성되는 것으로 제 1 접촉홀(15)을 통해 드레인전극(9)과 연결된다. 상기에서 화소전극(13)은 개구율을 증가시키 위해 주변의 소정 부분이 데이터라인(7)과 중첩되게 형성될 수 있다.The
축적 캐패시터는 인접하는 게이트라인(3)을 하부전극으로 사용하며, 데이터라인(7) 형성시 게이트라인(3)과 중첩되게 형성되는 별도의 더미전극(12)을 상부전극으로 사용한다. 또한, 더미전극(12)은 제 2 접촉홀(17)을 통해 화소전극(13)과 전기적으로 연결된다.The accumulation capacitor uses an
그러나, 상술한 구성의 액정표시장치는 게이트라인이 더미전극 및 데이터라인과 금속성 이물 등에 의해 단락되어 점 결함이 발생되는 문제점이 있었다.However, the liquid crystal display of the above-described configuration has a problem in that a gate defect is short-circuited due to a dummy electrode, a data line, and a metallic foreign material.
따라서, 본 발명의 목적은 캐패시터의 하부전극으로 이용되는 게이트라인이 상부전극으로 이용되는 더미전극 및 데이터라인과 단락되어 발생되는 점 결함(point defect)을 리페어(repair)할 수 있는 액정표시장치를 제공하는 데 있다.
Accordingly, an object of the present invention is to provide a liquid crystal display device capable of repairing a point defect caused by a short circuit between a gate line used as a lower electrode of a capacitor and a dummy electrode and data line used as an upper electrode. To provide.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 액정표시장치는 투명기판과; 상기 투명기판 상에 나란하게 배치된 제 1 및 제 2 배선과 상기 제 1 및 제 2 배선 사이를 연결하는 연결부가 형성된 사다리 형상의 게이트라인과; 상기 게이트라인과 연결된 게이트전극과; 상기 투명기판 상에 상기 게이트전극 및 게이트라인을 덮도록 형성된 게이트절연층과; 상기 게이트절연층 상에 상기 게이트라인과 교차되게 형성되고 상기 게이트라인의 제 1 및 제 2 배선에만 중첩되는 데이터라인과; 상기 데이터라인과 연결된 소오스전극과; 상기 게이트전극을 사이에 두고 상기 소오스전극과 대응되게 형성된 드레인전극과; 상기 데이터라인과 상기 드레인전극 및 소오스전극을 덮도록 형성된 패시베이션층과; 상기 게이트라인과 상기 데이터라인의 교차로 마련된 영역에 형성되고, 상기 패시베이션층에 상기 드레인전극이 노출되도록 형성된 제 1 접촉홀을 통해 상기 드레인전극과 전기적으로 연결되는 화소전극과; 상기 데이터라인과 동시에 형성되며 상기 게이트라인의 제 1 및 제 2 배선에만 중첩되고 제 2 접촉홀을 통해 상기 화소전극과 전기적으로 연결되는 더미전극을 포함한다.A liquid crystal display device according to the present invention for achieving the above object is a transparent substrate; A ladder-shaped gate line having a connecting portion connecting the first and second wirings arranged side by side on the transparent substrate and the first and second wirings; A gate electrode connected to the gate line; A gate insulating layer formed on the transparent substrate to cover the gate electrode and the gate line; A data line formed on the gate insulating layer to intersect the gate line and overlapping only the first and second wires of the gate line; A source electrode connected to the data line; A drain electrode formed to correspond to the source electrode with the gate electrode interposed therebetween; A passivation layer formed to cover the data line, the drain electrode, and the source electrode; A pixel electrode formed in an area provided at the intersection of the gate line and the data line and electrically connected to the drain electrode through a first contact hole formed to expose the drain electrode in the passivation layer; And a dummy electrode formed at the same time as the data line and overlapping only the first and second wires of the gate line and electrically connected to the pixel electrode through a second contact hole.
상기 목적 외에 본 발명의 다른 목적 및 특징들은 첨부한 도면들을 참조한 실시예에 대한 설명을 통하여 명백하게 드러나게 될 것이다.Other objects and features of the present invention in addition to the above object will become apparent from the description of the embodiments with reference to the accompanying drawings.
이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명을 상세히 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
도 2는 본 발명에 따른 액정표시장치의 평면도이다.2 is a plan view of a liquid crystal display according to the present invention.
본 발명에 따른 액정표시장치는 박막트랜지스터와 축적 캐패시터를 포함한다. 액정표시장치는 투명기판(21) 상에 N개의 게이트라인(23)과 M개의 데이터라인(27)이 교차되게 형성되어 N×M개의 화소영역을 한정한다. 게이트라인(23)과 데이터라인(27)은 전도성 금속으로 형성되며 사이에 질화실리콘 또는 산화실리콘 등의 절연물질로 이루어진 게이트절연층(도시되지 않음)이 형성되어 전기적으로 절연된다. 상기에서 게이트라인(23)은 축적 캐패시터의 하부전극으로도 사용하는 것으로 사다리 형상으로 형성된다. 즉, 게이트라인(23)은 상기 데이터라인(27)과 교차되게 형성된 제 1 배선(23a), 제 1 배선(23a)과 일정한 간격으로 이격되어 나란하게 형성된 제 2 배선(23b), 및 제 1 배선(23a)과 제 2 배선(23b)을 연결하는 다수개의 연결부(23c)를 포함한다. 이때, 연결부(23c)는 캐패시터의 상부전극으로 이용되는 더미전극(32)이 제 1 및 제 2 배선(23a)(23b)과 중첩되는 부분과 데이터라인(27)이 제 1 및 제 2 배선(23a)(23b)과 중첩되는 부분을 제외한 영역에 형성된다.The liquid crystal display according to the present invention includes a thin film transistor and a storage capacitor. In the liquid crystal display device,
N×M개의 화소영역 내에 N×M개의 화소가 형성되는데, 이 화소는 게이트라인(23) 및 데이터라인(27)에 전기적으로 연결되게 형성된 스위칭소자인 박막트랜지스터(Thin Film Transistor)에 의해 구동된다.N × M pixels are formed in the N × M pixel regions, which are driven by thin film transistors, which are switching elements formed to be electrically connected to the
박막트랜지스터는 게이트전극(25)과, 드레인 및 소오스전극(29)(31)과, 반도체층(도시되지 않음)과 오믹접촉층(도시되지 않음)으로 형성된다. 상기에서 게이트전극(25)은 게이트라인(23)과 연결되게 형성되며, 소오스전극(31)은 데이터라인(27)과 연결된다. 그리고, 드레인전극(29)은 게이트전극(25)을 사이에 두고 소오스전극(31)과 대응되게 형성된다. 상기에서 드레인전극(29)과 소오스전극(31) 사이의 반도체층(도시되지 않음)은 채널이 된다.The thin film transistor is formed of a
상술한 구조 상에 박막트랜지스터를 덮는 패시베이션층(passivation layer : 도시되지 않음)이 형성된다. 상기에서 패시베이션층은 질화실리콘 등의 무기절연물질이나, 또는, 아크릴(acryl)계 유기화합물, BCB(benzocyclobutene) 또는 PFCB(perfluorocyclobutane) 등의 유기절연물질로 형성된다. A passivation layer (not shown) covering the thin film transistor is formed on the above-described structure. The passivation layer is formed of an inorganic insulating material such as silicon nitride or an organic insulating material such as acryl-based organic compound, BCB (benzocyclobutene) or PFCB (perfluorocyclobutane).
그리고, 패시베이션층 상의 화소영역에 화소전극(33)이 형성되어 있다. 화소전극(33)은 인듐주석산화물(Indium Tin Oxide : ITO), 주석산화막(Tin Oxide : TO) 또는 인듐아연산화물(Indium Zinc Oxide : IZO) 등의 투명한 전도성물질로 형성되는 것으로 제 1 접촉홀(35)을 통해 드레인전극(29)과 연결된다. 상기에서 화소전극(33)은 개구율을 증가시키기 위해 주변의 소정 부분이 데이터라인(27)과 중첩되게 형성될 수 있다. The
축적 캐패시터는 인접하는 게이트라인(23)을 하부전극으로 사용하며, 데이터라인(27) 형성시 게이트라인(23)과 중첩되게 형성되는 별도의 더미전극(32)을 상부전극으로 사용한다. 상기에서 더미전극(32)은 상술한 바와 같이 게이트라인(23)의 제 1 및 제 2 배선(23a)(23b)에만 중첩되고 연결부(23c)에는 중첩되지 않게 형성된다. 또한, 더미전극(32)은 제 2 접촉홀(37)을 통해 화소전극(33)과 전기적으로 연결된다.The accumulation capacitor uses an
상술한 구조의 액정표시장치에 있어서 게이트라인(23)이 더미전극(32) 또는 데이터라인(27)과 금속성 이물 등에 의해 단락(short)되어 점 결함(point defect)이 발생되면 게이트라인(23)의 제 1 및 제 2 배선(23a)(23b) 중 하나를 레이저 빔(laser beam)으로 절단하여 리페어(repair)한다. 즉, 데이터라인(27) 또는 더미전극(32)이 게이트라인(23)의 제 1 및 제 2 배선(23a)(23b) 중 하나와 단락되면 이 단락된 배선의 데이터라인(27) 또는 더미전극(32)과 중첩되는 부분의 양측을 레이저 빔(laser beam)으로 절단한다. 그러므로, 제 1 및 제 2 배선(23a)(23b) 중 데이터라인(27) 또는 더미전극(32)과 단락된 부분은 게이트라인(23)과 전기적으로 '오픈(open)'되므로 점 결함이 리페어(repair)된다.In the above-described liquid crystal display device, when the
또한, 본 발명은 데이터라인(27) 또는 더미전극(32) 뿐만 아니라 화소전극(33)과 게이트라인(23)이 단락되어도 상술한 방법에 의해 리페어할 수도 있다.In addition, according to the present invention, even if the
상술한 바와 같이 본 발명에 따른 액정표시장치는 축적 캐패시터의 하부전극으로도 이용되는 게이트라인이 사다리 형상, 즉, 나란한 제 1 및 제 2 배선과 제 1 및 제 2 배선을 연결하는 연결부를 포함하여 형성되며, 데이터라인 및 더미전극은 게이트라인의 제 1 및 제 2 배선 부분에만 중첩되고 연결부 부분에는 중첩되지 않게 형성된다. 그러므로, 게이트라인이 데이터라인 또는 더미전극과 금속성 이물 등에 의해 단락(short)되어 점 결함(point defect)이 발생되면 게이트라인의 제 1 및 제 2 배선 중 하나를 레이저 빔(laser beam)으로 절단한다.As described above, the liquid crystal display according to the present invention includes a gate line, which is also used as a lower electrode of the storage capacitor, having a ladder shape, that is, a connection part connecting the first and second wires parallel to the first and second wires. The data line and the dummy electrode overlap only the first and second wiring portions of the gate line, and do not overlap the connection portion. Therefore, when the gate line is shorted by a data line or a dummy electrode and metallic foreign material, and a point defect occurs, one of the first and second wires of the gate line is cut by a laser beam. .
따라서, 본 발명에 따른 액정표시장치는 게이트라인이 데이터라인 또는 더미전극과 단락되면 게이트라인의 제 1 및 제 2 배선 중 어느 하나를 레이저 빔으로 절단하여 리페어(repair)하므로 점 결함을 방지할 수 있는 이점이 있다.Accordingly, when the gate line is shorted with the data line or the dummy electrode, the liquid crystal display according to the present invention cuts and repairs any one of the first and second wires of the gate line with a laser beam, thereby preventing point defects. There is an advantage to that.
이상 설명한 내용을 통해 당업자라면 본 발명의 기술 사상을 일탈하지 아니하는 범위에서 다양한 변경 및 수정이 가능함을 알 수 있을 것이다. 따라서, 본 발명의 기술적 범위는 명세서의 상세한 설명에 기재된 내용으로 한정되는 것이 아니라 특허 청구의 범위에 의해 정하여져야 할 것이다.
Those skilled in the art will appreciate that various changes and modifications can be made without departing from the spirit of the present invention. Therefore, the technical scope of the present invention should not be limited to the contents described in the detailed description of the specification but should be defined by the claims.
Claims (2)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020000000637A KR100752207B1 (en) | 2000-01-07 | 2000-01-07 | Liquid Crystal Display Device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020000000637A KR100752207B1 (en) | 2000-01-07 | 2000-01-07 | Liquid Crystal Display Device |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20010068626A KR20010068626A (en) | 2001-07-23 |
KR100752207B1 true KR100752207B1 (en) | 2007-08-28 |
Family
ID=19636968
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020000000637A KR100752207B1 (en) | 2000-01-07 | 2000-01-07 | Liquid Crystal Display Device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR100752207B1 (en) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9007289B2 (en) | 2010-10-07 | 2015-04-14 | Samsung Display Co., Ltd. | Thin film transistor array panel and liquid crystal display |
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KR100686235B1 (en) * | 2000-05-04 | 2007-02-22 | 삼성전자주식회사 | A panel for liquid crystal display |
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KR940007574A (en) * | 1992-09-30 | 1994-04-27 | 김광호 | Liquid crystal display |
KR0124976B1 (en) * | 1994-06-22 | 1997-12-01 | 김광호 | Liquid crystal display device and its manufacturing method for aperture ratio improvement |
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- 2000-01-07 KR KR1020000000637A patent/KR100752207B1/en not_active IP Right Cessation
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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KR20010068626A (en) | 2001-07-23 |
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