KR100740733B1 - 두피케어용 샴푸 조성물 - Google Patents

Abstract

본 발명은 음이온성 계면활성제와 양이온성 폴리머를 포함하여 코아세르베이트를 생성하는 두피케어용(scalp-care) 샴푸 조성물에 관한 것으로서, 본 발명에 따른 두피용 샴푸 조성물은 두피 트러블 예방 또는 치료제 이외에 하기 화학식 1로 표시되는 글리세릴기가 도입된 4급 암모늄 양이온 계면활성제를 포함하는 것을 특징으로 한다. 본 발명의 두피용 샴푸 조성물은 코아세르베이트 생성량이 증가되어, 비듬방지, 항균, 두피자극완화, 가려움 방지 등의 기능을 갖는 두피 트러블 예방 또는 치료제의 모발 및 두피 흡착을 향상시킴으로써 두피 트러블 예방 및 치료효과를 효율적이고 지속적으로 제공할 수 있다.

<화학식 1>

두피케어, 글리세릴 4급 암모늄 양이온 계면활성제, 양이온성 폴리머, 코아세르베이트

Description

두피케어용 샴푸 조성물{Scalp-care shampoo composition}

본 발명은 음이온성 세정제와 양이온성 폴리머에 의해 생성되는 코아세르베이트 양을 증대시킨 두피 트러블 케어용 삼푸 조성물에 관한 것이다.

일반적으로 모발 및 두피의 오염을 제거하여 청결하고 아름답게 유지하기 위해서 통상 사용되는 샴푸는 세정력이 우수한 음이온 계면활성제를 주성분으로 포함하고 있다. 최근에는 물리적, 화학적 및 환경적인 다양한 요인에 의하여 비듬, 두피가려움증 등의 두피 트러블을 가진 인구가 차츰 증가하고 있으며, 이에 따라 이를 해결하기 위한 다양한 시도 중에 하나로 샴푸 제품에 비듬방지, 항균, 두피자극완화, 가려움 방지 등의 부가적 성분을 첨가하거나, 또는 샴푸하기 전 또는 후에 사용하는 다양한 제품들이 연구되고 있다.

하지만 샴푸와 같은 세정 제품의 경우 제품의 특성상 세정제의 특성이 강하여 실제적으로 모발이나 두피에 흡착되는 유효 성분량이 극히 적고, 따라서 그 효과 및 지속력에 한계가 있다.

따라서 이러한 문제점을 해결하고자 세정 후에도 모발 및 두피에 이들 유효 성분을 오래 유지시키기 위한 세정제 또는 화장품에 대한 끊임없는 연구가 계속되 어 왔다. 최근, 미국특허 공개번호 제2003/0199403호에서는 음이온성 계면활성제와 양이온성 폴리머에 의해서 생성되는 코아세르베이트에 의해 모발 및 두피에 유효한 고상 입자성분의 흡착성을 높이려는 시도를 하고 있으며, 미국특허 공개번호 제 2004/0146475호에서는 양이온성 셀룰로오스 폴리머와 음이온성 계면활성제의 에톡시 레벨 및 설페이트 레벨의 적절한 조합을 통하여 컨디셔닝 샴푸에서 코아세르베이트의 형성을 증대시키는 연구 등을 수행하고 있다.

그러나 이들은 음이온성 세정제와 양이온성 폴리머의 단순 조합으로 코아세르베이트를 생성시키므로 생성되는 코아세르베이트의 양에는 한계가 있고, 이에 따라 유효 성분의 흡착을 증가시켜 효과 및 그 지속력을 개선하는 것은 용이하지 않다.

따라서, 본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 코아세르베이트 형성을 극대화하여 이들 코아세르베이트에 의한 비듬, 균번식, 두피자극, 가려움 등의 두피 트러블 예방 또는 치료제의 모발 및/또는 두피 흡착효과를 강화하고, 지속적으로 그 효과를 발휘할 수 있게 하는 두피케어용 샴푸 조성물을 제공하는데 있다.

상기 기술적 과제를 달성하기 위하여, 본 발명은 음이온성 계면활성제 및 양이온성 폴리머를 포함하는 두피용 샴푸 조성물에 있어서,

두피 트러블 예방 또는 치료제; 및 하기 화학식 1로 표시되는 4급 암모늄 양이온 계면활성제를 포함하는 것을 특징으로 하는 두피용 샴푸 조성물을 제공한다.

상기 화학식 1에서, R은 탄소수가 12 내지 22인 직쇄상 알킬기, 분지상 알킬기, 알케닐기 및 알킬아미드로 이루어진 군으로부터 선택된 어느 하나이고, n은 0 내지 10의 정수이며, X는 할로겐족 원소, 설페이트기 및 아세테이트기로 이루어진 군으로부터 선택된 어느 하나이다.

보다 바람직하게, 본 발명은 전술한 두피용 샴푸 조성물에 있어 상기 4급 암모늄 양이온 계면활성제의 함량이 조성물 총중량 대비 0.1 내지 10 중량%인 것을 특징으로 하는 두피용 샴푸 조성물을 제공한다.

보다 바람직하게, 본 발명은 전술한 두피용 샴푸 조성물에 있어 상기 두피 트러블 예방 또는 치료제가 아연피리치온, 셀레늄설파이드, 피록토놀아민, 클림바졸, 타르, 황, 살리실산, 유용성 감초산, 식물추출 유상성분, 광물추출 유상성분 및 이들의 유도체로 이루어진 군으로부터 선택된 어느 하나 이상인 것을 특징으로 하는 두피용 샴푸 조성물을 제공한다.

보다 바람직하게, 본 발명은 전술한 두피용 샴푸 조성물에 있어 상기 두피 트러블 예방 또는 치료제의 함량이 조성물 총중량 대비 0.001 내지 5 중량%인 것을 특징으로 하는 두피용 샴푸 조성물을 제공한다.

보다 바람직하게, 본 발명은 전술한 두피용 샴푸 조성물에 있어 상기 양이온 성 폴리머의 함량이 조성물 총중량 대비 0.01 내지 5 중량%인 것을 특징으로 하는 두피용 샴푸 조성물을 제공한다.

이하, 본 발명의 두피용 샴푸 조성물에 대해 보다 상세히 설명한다.

본 발명의 두피용 샴푸 조성물은 코아세르베이트 형성을 강화하는 기제로 상기 화학식 1로 표시되는 글리세릴기가 도입된 양이온 계면활성제를 포함한다.

상기 화학식 1을 참조하면, 본 발명에서 사용되는 양이온 계면활성제는 4급 암모늄 화합물의 구조로서, 암모늄 이온의 치환기 중 하나가 필수적으로 알킬아미도프로필기로 이루어져 있는 구조이며, 다른 하나는 친수기로 반복단위가 1 내지 11인 글리세릴기가 축합되어 반복된 구조의 친수성기를 갖고, 나머지 두 개의 치환기는 메틸기로 구성되어 있다.

상기 4급 암모늄 양이온 계면활성제는 친수기인 글리세릴기를 적어도 1종 이상 포함하고 있어, 음이온성 계면활성제와 상호작용을 통해 통상적으로 유사-비이온성 복합 계면활성제(pseudo-nonionic complex surfactant)라고 하는 수용액에 녹는 혼합 미셀을 형성할 수 있다. 이러한 유사-비이온성 복합 계면활성제는 양이온성 폴리머와 음이온성 계면활성제가 동시에 사용되는 경우에 발생하는 고점도, 침전 등의 문제점을 개선해 주기 때문에, 음이온 계면활성제의 존재 하에서도 양이온성 폴리머의 사용량을 증가시켜 코아세르베이트의 형성량을 증가시킬 수 있는 것이다.

또한 상기 화학식 1의 4급 암모늄 양이온 계면활성제는 장쇄 지방산기 대신 상대적으로 친수성을 갖는 알킬아미도기를 포함하고 있어 유사-비이온성 복합 계면 활성제(pseudo-nonionic complex surfactant)의 혼합 미셀 형성력이 더 우수하여, 음이온성 계면활성제의 존재 하에서도 양이온성 폴리머의 사용량을 더 증가시킬 수 있고, 그 결과 음이온성 계면활성제와 양이온성 폴리머의 콤플렉스인 코아세르베이트를 더 많이 생성하는 특별한 기능을 가질 수 있다.

상기 4급 암모늄 양이온 계면활성제는 조성물 총중량 대비 0.1 내지 10 중량%를 사용하는 것이 바람직하다. 그 함량이 0.1 중량% 미만일 경우에는 4급 암모늄 양이온 계면활성제에 의한 코아세르베이트 형성 증가 및 안정성 향상 효과를 달성하기 어려우며, 10 중량%를 초과할 경우에는 모발에 눅눅한 느낌을 주고 침전 및 상 안정성의 저해 우려가 있어 사용이 부적합할 수 있다.

본 발명에 따른 두피용 샴푸 조성물은 코아세르베이트를 생성하기 위해서는 필수적으로 양이온성 폴리머를 포함한다. 코아세르베이트는 여러 가지 요소에 의해서 영향을 많이 받지만, 양이온성 폴리머의 구조, 특히 양이온성 폴리머의 분자량과 양전하 밀도(mEq/g)에 가장 영향을 많이 받는 것으로 알려져 있다.

이러한 양이온성 폴리머로는 통상적인 샴푸 조성물에 사용될 수 있는 것이면 특별히 제한되는 것은 아니며, 예를 들어, 천연 양이온성 폴리머, 합성 양이온성 폴리머 및 이들의 혼합물로 이루어진 군으로부터 1종 이상 선택하여 사용할 수 있다.

본 발명에서 사용될 수 있는 천연 양이온성 폴리머로는, 예를 들어, 구아 하이드록시프로필트리모늄 클로라이드, 하이드록시프로필 구아 하이드록시프로필트리모늄 클로라이드 등의 양이온 구아, 셀룰로스(폴리쿼터늄-10) 등을 1종 이상 사용 할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.

본 발명에서 사용될 수 있는 합성 양이온성 폴리머로는, 예를 들어, 디메틸디알릴암모늄클로라이드 폴리머, 아크릴아미드-디메틸디알릴암모늄 클로라이드 코폴리머, PVP-디메틸아미노에틸메타크릴레이트 코폴리머, 아크릴산-디메틸디알릴암모늄 클로라이드 코폴리머, 아크릴아미드-디메틸아미노 에틸메타크릴레이트 메틸 클로라이드 코폴리머, 트리메틸아미노에틸메타크릴레이트 폴리머 등을 1종 이상 사용할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.

본 발명의 두피용 샴푸 조성물에 있어 상기 양이온성 폴리머의 함량은 조성물 총중량 대비 0.01 내지 5 중량%인 것이 바람직하다. 이것은 그 함량이 0.01 중량% 미만에서는 코아세르베이트의 생성이 저조하여 두피 트러블 예방 또는 치료제의 흡착이 적어져서 비듬방지, 항균, 두피가려움증 개선, 두피자극 완화 등의 효과가 충분히 발휘되지 못하며, 5 중량%를 초과하는 경우에는 코아세르베이트의 과도한 생성으로 이들 성분이 모발과 두피에 과도하게 흡착하여 샴푸로서 좋지 않은 느낌을 줄 수 있기 때문이다.

본 발명에 따른 두피용 샴푸 조성물은 비듬, 뾰루지 및 두피자극, 가려움 등과 같은 두피 자극을 예방 또는 치료하는 성분으로 아연피리치온, 셀레늄설파이드, 피록토놀아민, 클림바졸, 타르, 황, 살리실산, 유용성 감초산, 식물로부터 추출된 유상 성분, 광물로부터 추출된 유상성분 또는 이들의 유도체를 단독으로 또는 혼합하여 사용할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.

또한 이러한 두피 트러블 예방 또는 치료제의 함량은 조성물 총중량 대비 0.001 내지 5 중량%인 것이 바람직하다. 이것은 그 함량이 0.001 중량% 미만에서는 유효 성분의 절대량이 적어 두피 트러블 예방 또는 치료 효과가 충분히 발휘되지 못하며, 5 중량%를 초과하는 경우에는 이들 성분이 모발과 두피에 과도하게 흡착하여 좋지 않은 느낌을 줄 우려가 있기 때문이다.

본 발명에 따른 두피용 샴푸 조성물은 세정 성분으로서 음이온성 계면활성제를 포함한다.

본 발명에서 사용될 수 있는 음이온성 계면활성제로는 통상적인 샴푸 조성물에 사용될 수 있는 것이면 특별히 제한되는 것은 아니며, 음이온성 계면활성제의 함량은 조성물 총중량 대비 1 내지 50 중량%인 것이 바람직하다. 이것은 그 함량이 1 중량% 미만에서는 세정기능을 제대로 발휘하지 못하며, 50 중량%를 초과하는 경우에는 세정력이 과도하여 모발 및 두피에 거친 느낌을 줄 수 있기 때문이다.

본 발명에서 사용될 수 있는 음이온성 계면활성제로는, 예를 들어, 라우릴황산나트륨, 라우릴황산암모늄, 라우릴황산마그네슘, 라우릴황산트리에탄올아민, 폴리옥시에틸렌라우릴황산나트륨, 폴리옥시에틸렌라우릴황산암모늄 등을 1종 이상 사용할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.

본 발명의 두피용 샴푸 조성물은 세정력 증가 등의 목적으로 본 발명의 목적을 저해하지 않는 범위 내에서 비이온성 계면활성제 및/또는 양쪽성 계면활성제를 추가로 함유할 수 있다.

본 발명에서 사용될 수 있는 비이온성 계면활성제로는, 예를 들어, 라우릴산디에탄올아미드, 야자유지방산디에탄올아미드, 야자유지방산모노에탄올아미드 등을 1종 이상 사용할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.

본 발명에서 사용될 수 있는 양쪽성 계면활성제로는, 예를 들어, 베타인, 아미도 프로필 베타인, 코코암포카르복시 글리시네이트, 사코시네이트 등을 1종 이상 사용할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.

본 발명에 따른 두피용 샴푸 조성물은 본 발명의 목적을 저해하지 않는 범위 내에서 실리콘 화합물, 유성 오일 성분 등의 컨디셔닝 성분을 추가로 포함할 수 있다.

본 발명에 컨디셔닝 성분으로 사용될 수 있는 실리콘 화합물은 통상적으로 샴푸 조성물에 사용될 수 있는 것이면 특별히 제한되는 것은 아닌데, 예를 들어, 수불용성 비휘발성의 디메치콘, 사이클로메치콘, 아미노화 실리콘, 트리메틸실릴아모디메티콘, 비닐 실리콘 등의 실리콘으로 통칭되는 성분 및 이들의 유도체들을 1종 이상 사용할 수 있다.

본 발명에 있어서 컨디셔닝 성분으로 사용될 수 있는 유성 오일 성분은 탄화수소 오일 및 합성 에스테르 오일 등이 있다. 탄화수소 오일에는 유동파라핀(Mineral Oil), 이소파라핀, 수소화 폴리데센(Hydrogenated Polydecene) 등이 있고, 에스테르 오일에는 미리스틴산이소프로필, 팔미틴산이소프로필, 이소스테아린산이소스테아릴, C_{12 -15} 알킬 벤조에이트 등이 있다.

이외에, 본 발명에 따른 두피용 샴푸 조성물에는 통상적으로 샴푸 조성물의 성분으로 사용될 수 있는 방부제, 점증제, 점도조정제, pH조정제, 향료, 염료, 컨 디셔닝제 등의 첨가제를 더 함유할 수 있으며, 이것들은 상업적으로 용이하게 구입하여 사용할 수 있다. 방부제의 예로는 파라옥시안식향산메틸, 메틸클로로이소티아졸리논, 메틸이소티아졸리논의 혼합물(상품명: Kathon CG, 제조회사: 미국 롬앤하스사)을 들 수 있다. 점증제와 점도 조정제로는 하이드록시프로필메틸셀룰로오스, 하이드록시메틸셀룰로오스, 염화나트륨, 염화암모늄, 프로필렌글리콜, 헥실렌글리콜 등을 들 수 있다. pH조정제로는 구연산, 수산화나트륨, 트리에탄올아민 등을 들 수 있다. 염료로는 수용성 타르색소 등을 들 수 있다. 그리고 컨디셔닝제로는 동식물성 추출물, 단백질 및 단백질 변형체, 고급지방산(Fatty Acid) 등을 들 수 있다.

이하, 본 발명을 구체적으로 설명하기 위해 실시예를 들어 상세하게 설명하기로 한다. 그러나, 본 발명에 따른 실시예들은 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래에서 상술하는 실시예들에 한정되는 것으로 해석되어서는 안 된다. 본 발명의 실시예들은 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 보다 완전하게 설명하기 위해서 제공되는 것이다.

<본 발명의 4급 암모늄 양이온 계면활성제의 합성>

4급 암모늄 형태의 양이온 계면활성제로서, 4급 암모늄기를 한 개 포함하는 모노타입(mono-type)을 하기와 같은 방법으로 합성하였다. 하기의 예는 본 발명을 상세히 설명하기 위한 것으로, 이들 실시예가 본 발명의 기술적 범위를 한정하는 것은 아니다.

N,N-디메틸-N- 글리세릴 스테아릴 아미도프로필 암모니움 클로라이드의 합성

3구 플라스크에 이소프로필알코올과 알킬아미도프로필아민 및 이와 당량의 1-클로로-2,3-프로판디올을 넣은 후, 촉매로 소디움 이오디드(sodium iodide)를 첨가한 다음 환류시켰다. 아민%를 측정하여 반응 진행 정도를 확인하였다. 반응기의 온도를 120℃로 올린 후 10시간 동안 반응시켜 반응이 95% 진행되었다. 반응 결과물을 아세톤에 부은 후 냉각하여 재결정하였다. 결과물은 흡습성을 가지고 있으므로 재결정 후 거름을 통해 얻은 결과물은 곧바로 진공 건조하였다.

N,N-디메틸-N- 디글리세릴 스테아릴 아미도프로필 암모니움 클로라이드의 합성

글리세릴기 2개가 치환된 디글리세릴 화합물을 합성하기 위해서, 모노글리세릴 화합물에 글리세릴기를 추가적으로 도입하였다. 3구 플라스크에 이소프로필알코올과 모노글리세릴 화합물, 글리시돌을 넣은 후, 50℃에서 1시간 동안 교반하여 반응을 완료하였다. 혼합물에서 이소프로필알코올을 감압 하에서 증류하여 제거하였다. 결과물은 흡습성을 가지고 있으므로 결과물을 증류수 50% 용액으로 만들어 보 관하였다.

<실시예 1 내지 4의 제조>

하기 표 1에 나타낸 조성과 함량으로 두피케어용 샴푸 조성물을 제조하였다. 비듬방지 성분인 아연피리치온을 증류수에 분산 용해시킨 후, 양이온성 폴리머로서 폴리쿼터늄-10 또는 구아 하이드록시프로필트리모늄 클로라이드를 분산 용해시키고, 각각 하기 화학식 2 내지 5의 4급 암모늄 양이온 계면활성제를 투입하고 세정 계면활성제로서 음이온성 계면활성제인 라우릴황산나트륨과 폴리옥시에틸렌라우릴황산나트륨, 세정 계면활성제로서 비이온성 계면활성제인 야자유지방산디에탄올아미드를 첨가한 후 디메치콘을 가하여 30분 동안 교반시켰다. 교반시킨 후 미리 준비한 펄 조성물, 색소, 방부제, 향료를 첨가하고 적정 점도를 형성하기 위한 염화나트륨과 pH를 조정하기 위한 구연산을 첨가하여 30분 동안 교반시켜 시험용 샴푸를 제조하였다.

샴푸에 포함되는 펄 조성물은 다음과 같이 별도로 제조하였다. 음이온성 계면활성제로서 30% 농도의 라우릴황산암모늄 50 중량%, 비이온성 계면활성제로서 야자유지방산모노에탄올아미드 5중량%, 펄화제로서 에틸렌글리콜디스테아레이트 10 중량% 및 증류수 35 중량%를 혼합하여 75℃까지 가온한 후, 5분 동안 교반하여 균일하게 용해한 후, 45℃까지 냉각하여 펄 조성물을 제조하였다.

상기 화학식 2에서, R은 탄소수 17의 알킬이고, n은 정수 0이다.

상기 화학식 3에서, R은 탄소수 17의 알킬이고, n은 정수 5이다.

상기 화학식 4에서, R은 탄소수 21의 알킬이고, n은 정수 0이다.

상기 화학식 5에서, R은 탄소수 21의 알킬이고, n은 정수 5이다.

<비교예 1 내지 4의 제조>

하기 표 1에 나타낸 조성과 함량으로, 4급 암모늄 양이온 계면활성제를 사용하지 않거나 하기 화학식 6의 양이온 계면활성제 또는 세틸트리메틸암모니움 클로라이드를 사용한 것을 제외하고는 전술한 실시예 1 내지 4에서와 마찬가지 방법으로 비교예 1 내지 4의 시험용 샴푸 조성물을 제조하였다.

상기 화학식 6에서, R은 C₁₂H₂₅이다.

원료명 (중량%)	실시예				비교예
	1	2	3	4	1	2	3	4
아연피리치온	0.3	0.3	0.3	0.3	0.3	0.3	0.3	0.3
폴리쿼터니윰-10	0.5	0.5	-	-	0.5	-	0.5	-
구아 하이드록시프로필트리모늄 클로라이드	-	-	0.3	0.3	-	0.3	-	0.3
화학식 6의 4급 암모늄 양이온 계면활성제	-	-	-	-	-	-	1.0	-
세틸트리메틸암모니움 클로라이드	-	-	-	-	-	-	-	1.0
화학식 2의 4급 암모늄 양이온 계면활성제	1.0	-	-	-	-	-	-	-
화학식 3의 4급 암모늄 양이온 계면활성제	-	1.0	-	-	-	-	-	-
화학식 4의 4급 암모늄 양이온 계면활성제	-	-	1.0	-	-	-	-	-
화학식 5의 4급 암모늄 양이온 계면활성제	-	-	-	1.0	-	-	-	-
라우릴황산나트륨 (30%)	20.0	20.0	20.0	20.0	20.0	20.0	20.0	20.0
폴리옥시에틸렌 라우릴황산 나트륨(30%)	30.0	30.0	30.0	30.0	30.0	30.0	30.0	30.0
야자유지방산 디에탄올아미드	3.0	3.0	3.0	3.0	3.0	3.0	3.0	3.0
디메티콘	2.0	2.0	2.0	2.0	2.0	2.0	2.0	2.0
펄 조성물	15.0	15.0	15.0	15.0	15.0	15.0	15.0	15.0
색소	0.05	0.05	0.05	0.05	0.05	0.05	0.05	0.05
파라옥시안식향산에스텔	0.20	0.20	0.20	0.20	0.20	0.20	0.20	0.20
향료	0.50	0.50	0.50	0.50	0.50	0.50	0.50	0.50
염화 나트륨	0.50	0.50	0.50	0.50	0.50	0.50	0.50	0.50
구연산	0.02	0.20	0.20	0.20	0.20	0.20	0.20	0.20
물	적량을 첨가하여 100 중량%가 되게 함.

<코아세르베이트 생성량 평가>

비듬방지제 성분의 모발 및 두피 흡착을 강화시키는 코아세르베이트의 생성량을 측정하기 위해 실제 세정제를 사용하는 농도를 세정제 10 중량%로 판단하였고, 이 농도에서의 코아세르베이트 양을 측정하기 위해 시료 10g을 물 90g에 희석시켜 생성되는 코아세르베이트를 원심 분리시켜 상층액을 버리고 침전된 부분을 취하여 코아세르베이트 생성량으로 판단하였다. 경우에 따라서 코아세르베이트 생성농도가 10% 이하인 경우는 실제 세정제를 사용하여 헹굴 때 씻겨나가기 쉽기 때문에 본 발명에서는 세정제 10중량%를 기준으로 하였다. 그 결과를 하기 표 2에 제시하였다.

	실시예 1	실시예 2	실시예 3	실시예 4	비교예 1	비교예 2	비교예 3	비교예 4
생성량(mg)	60	52	72	65	30	35	43	38

상기 표 2에 나타난 바와 같이, 세정제 조성물 총중량을 기준으로 4급 암모늄 양이온 계면활성제(화학식 2 내지 5)를 각각 1 중량%씩 함유한 실시예 1 내지 4와 4급 암모늄 양이온 계면활성제 조성물을 함유하지 않은 비교예 1 내지 2 및 단순히 알킬기로 치환되어 구성된 글리세릴기 함유 4급 암모늄 양이온 계면활성제 조성물을 함유한 비교예 3 및 글리세릴기를 포함하지 않는 일반적인 4급 양이온 계면활성제를 함유하는 비교예 4의 코아세르베이트 생성량을 비교해 보면, 본 발명에 따라 각각 화학식 2 내지 5의 4급 암모늄 양이온 계면활성제를 함유한 실시예 1 내지 4의 조성물이 비교예 1 내지 4 보다 많은 코아세르베이트를 형성하였음을 알 수 있다.

또한 양이온성 폴리머로 구아 하이드록시프로필트리모늄 클로라이드를 사용한 경우가 폴리쿼터니윰-10을 사용한 경우에 비하여 보다 많은 양의 코아세르베이트를 형성하였으며, 이는 상대적으로 양이온 특성이 강하여 나타나는 형상으로 파악할 수 있다. 본 발명에 따른 4급 암모늄 양이온 계면활성제를 사용한 실시예 1 내지 4를 비교해 보면 상대적으로 분자량이 큰 화학식 4의 4급 암모늄 양이온 계면활성제를 사용한 실시예 3이 가장 많은 양의 코아세르베이트를 형성하였고, 상대적으로 분자량이 작은 화학식 3의 4급 암모늄 양이온 계면활성제를 사용한 실시예 2가 가장 적은 양의 코아세르베이트를 형성하였음을 확인하였다. 이는 음이온성 계면활성제와 양이온성 폴리머에 의해서 형성된 코아세르베이트의 경우 전기적으로 중성화가 이루어져서 소수성 오일과 비슷한 거동을 나타내게 되므로, 이들 화학식 2 내지 5의 4급 암모늄 양이온 계면활성제는 알킬기가 길고 글리세릴기가 짧을수록 상대적으로 보다 많은 양이 코아세르베이트 상으로 혼입되어 나타나는 결과로 판단된다.

<비듬 감소율 측정>

비듬이 비교적 많은 성인 남녀 160명을 선정하여 각각 20명씩 실시예 1 내지 4와 비교예 1 내지 4의 샴푸를 각각 1개월 동안 사용하게 하였다. 시험 개시 전에 통상의 샴푸로 세발하고 3일간 누적된 비듬을 채집하여 채집된 비듬의 중량과, 실시예 또는 비교예의 샴푸로 2일에 한번씩 세발하고 시험 종료 후 3일간에 누적된 비듬의 중량을 비교 평가하였다. 이때 누적된 비듬의 채취는 피시험자들의 두피를 숙련된 시험자로 하여금 시료 5g 정도를 사용하여 세척하게 한 다음, 약 2 내지 3 리터의 물로 씻어내게 한 후 씻어낸 물을 800 마이크로 공극크기의 여과체로 걸러 여과체 위의 비듬의 건조중량을 측정하였고, 수학식 1에 의해 비듬 감소율을 구해 그 결과를 표 3에 나타내었다.

	실시예 1	실시예 2	실시예 3	실시예 4	비교예 1	비교예 2	비교예 3	비교예 4
비듬감소율(%)	36.3	35.2	43.8	39.6	17.9	18.7	23.8	21.0

상기 표 3에 나타난 바와 같이, 세정제 조성물 총중량을 기준으로 각각 화학식 2 내지 5의 4급 암모늄 양이온 계면활성제를 1 중량%씩 함유한 실시예 1 내지 4와 비교예 1 내지 4의 결과를 비교해 보면, 본 발명에 따른 4급 암모늄 양이온 계면활성제를 함유한 실시예 1 내지 4의 조성물이 보다 우수한 비듬 방지율을 나타냄을 알 수 있다. 또한 이 결과는 코아세르베이트의 형성양과 정비례 관계임을 확인할 수 있었다.

<비듬방지 효과 및 가려움증 감소효과 평가>

평소 비듬이 많다고 생각하며, 가려움을 많이 느끼는 남녀를 무작위로 160명 선정하여 실시예 또는 비교예의 샴푸를 각 제품당 20명씩 2일에 1회씩 8주간 사용하게 한 후, 면접을 통하여 비듬방지 효과 및 가려움증 감소효과를 하기 평가기준에 따라 평가토록 하여 그 평균값을 하기 표 4에 나타냈다. 각각의 판정기준은 다음과 같다.

(비듬방지 효과 판정기준)

비듬방지 효과가 매우 좋다 : 5

비듬방지 효과가 좋다 : 4

비듬방지 효과가 보통이다 : 3

비듬방지 효과가 약간 있다 : 2

비듬방지 효과가 전혀 없다 : 1

(가려움증 감소 효과 판정기준)

가려움증 감소효과가 매우 좋다 : 5

가려움증 감소효과가 좋다 : 4

가려움증 감소효과가 보통이다 : 3

가려움증 감소효과가 약간 있다 : 2

가려움증 감소효과가 전혀 없다 : 1

	실시예 1	실시예 2	실시예 3	실시예 4	비교예 1	비교예 2	비교예 3	비교예 4
비듬방지효과 (5점 척도)	3.8	3.8	4.3	3.9	3.0	3.1	3.3	3.3
가려움 방지효과 (5점 척도)	3.8	3.6	4.1	4.0	2.8	3.0	3.2	3.1

상기 표 4에 나타난 바와 같이, 세정제 조성물 총중량을 기준으로 각각 본 발명에 따른 화학식 2 내지 5의 4급 암모늄 양이온 계면활성제를 1 중량%씩 함유한 실시예 1 내지 4와 비교예 1 내지 4의 비듬 및 가려움 방지효과를 비교해 보면, 본 발명에 따른 4급 암모늄 양이온 계면활성제를 함유한 실시예 1 내지 4의 조성물이 보다 우수한 비듬 및 가려움 방지 효과를 나타냄을 알 수 있다. 이는 비듬방지율 측정 결과와도 유사함을 알 수 있었다.

이상에서 살펴본 바와 같이, 본 발명의 두피용 샴푸 조성물은 글리세릴기가 도입된 4급 암모늄 형태의 양이온 계면활성제을 함유하고 있어 코아세르베이트의 생성량을 증가시킬 수 있고, 결과적으로 두피용 샴푸 조성물 조성물 내에 포함된 두피 트러블 예방 또는 치료제의 모발 및 두피에의 흡착을 도와 비듬방지, 항균, 두피자극완화, 가려움 방지 등의 우수한 효과를 효율적이고 지속적으로 나타낼 수 있다.

Claims (5)

1. 음이온성 계면활성제 및 양이온성 폴리머를 포함하는 두피용 샴푸 조성물에 있어서,

   두피 트러블 예방 또는 치료제; 및 하기 화학식 1로 표시되는 4급 암모늄 양이온 계면활성제를 포함하는 것을 특징으로 하는 두피용 샴푸 조성물:

   <화학식 1>

   

   상기 화학식 1에서, R은 탄소수가 12 내지 22인 직쇄상 알킬기, 탄소수가 12 내지 22인 분지상 알킬기, 탄소수가 12 내지 22인 알케닐기 및 탄소수가 12 내지 22인 알킬아미드로 이루어진 군으로부터 선택된 어느 하나이고, n은 0 내지 10의 정수이며, X는 할로겐족 원소, 설페이트기 및 아세테이트기로 이루어진 군으로부터 선택된 어느 하나임.
2. 제1항에 있어서,

   상기 4급 암모늄 양이온 계면활성제의 함량은 조성물 총중량 대비 0.1 내지 10 중량%인 것을 특징으로 하는 두피용 샴푸 조성물.
3. 제1항에 있어서,

   상기 두피 트러블 예방 또는 치료제는 아연피리치온, 셀레늄설파이드, 피록토놀아민, 클림바졸, 타르, 황, 살리실산, 유용성 감초산, 식물추출 유상성분, 광물추출 유상성분 및 이들의 유도체로 이루어진 군으로부터 선택된 어느 하나 이상인 것을 특징으로 하는 두피용 샴푸 조성물.
4. 제1항에 있어서,

   상기 두피 트러블 예방 또는 치료제의 함량은 조성물 총중량 대비 0.001 내지 5 중량%인 것을 특징으로 하는 두피용 샴푸 조성물.
5. 제1항에 있어서,

   상기 양이온성 폴리머의 함량은 조성물 총중량 대비 0.01 내지 5 중량%인 것을 특징으로 하는 두피용 샴푸 조성물.