KR100713976B1 - Method for manufacturing printed wiring board and printed wiring board produced by the method - Google Patents

Method for manufacturing printed wiring board and printed wiring board produced by the method Download PDF

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Abstract

본 발명은 절연수지층에 매설 배치된 회로를 구비하는 프린트 배선판의 제조방법에 있어서, A)동박의 일면에 이 동박의 접착면이 가진 표면조도(Rz)의 값보다도 0.5㎛ ~ 1㎛ 두꺼운 것으로 된 경화수지층을 구비하고, 이 경화수지층 상에 골격재를 포함하는 반경화수지층을 구비한 절연층 부착 동박을 이용해서, 그 동박면을 에칭가공해서 회로형성을 하여 절연층 부착 회로시트를 형성하는 단계, B)상기 절연층 부착 회로시트의 반경화수지층을 붙일 기재면에 중첩해서 열간프레스 성형하고, 회로부의 동박이 상기 경화수지층을 충파(衝破)시켜, 절연수지층에 매설 배치된 회로를 구비하는 프린트 배선판을 형성하는 단계의 각 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 프린트 배선판의 제조방법이다. 본 발명에 따르면, 우수한 레이져 가공 성능과, 커패시터 회로의 유전층 두께를 양호하게 유지할 수 있으며, 나아가 외층회로가 절연수지 기재 내에 매설된 상태의 프린트 배선판을 제공할 수 있다. The present invention relates to a method for manufacturing a printed wiring board having a circuit embedded in an insulating resin layer, wherein: A) 0.5 µm to 1 µm thicker than the surface roughness (Rz) of the adhesive surface of the copper foil on one surface of the copper foil. Using a copper foil with an insulating layer provided with a cured resin layer having a cured resin layer and having a semi-cured resin layer containing a skeleton on the cured resin layer, the copper foil surface is etched to form a circuit to form a circuit sheet with an insulating layer. Forming, B) hot press molding by overlapping the semi-cured resin layer of the circuit sheet with the insulating layer to be pasted, and the copper foil of the circuit portion impregnated the cured resin layer, and is embedded in the insulating resin layer It is a manufacturing method of the printed wiring board characterized by including each process of forming the printed wiring board provided with a circuit. According to the present invention, excellent laser processing performance and a dielectric layer thickness of a capacitor circuit can be maintained well, and a printed wiring board can be provided with the outer layer circuit embedded in the insulating resin substrate.

Description

프린트 배선판의 제조방법 및 그 제조방법으로 얻어진 프린트 배선판{Method for manufacturing printed wiring board and printed wiring board produced by the method}Method for manufacturing printed wiring board and printed wiring board produced by the method}

도 1은 절연층 부착 동박의 제조 플로우를 나타내는 모식도이다.1: is a schematic diagram which shows the manufacturing flow of the copper foil with an insulating layer.

도 2는 절연층 부착 동박의 제조 플로우를 나타내는 모식도이다.It is a schematic diagram which shows the manufacturing flow of the copper foil with an insulating layer.

도 3은 절연층 부착 동박의 제조 플로우를 나타내는 모식도이다.It is a schematic diagram which shows the manufacturing flow of the copper foil with an insulating layer.

도 4는 절연층 부착 동박의 제조 플로우를 나타내는 모식도이다.It is a schematic diagram which shows the manufacturing flow of the copper foil with an insulating layer.

도 5는 절연층 부착 동박의 제조 플로우를 나타내는 모식도이다.It is a schematic diagram which shows the manufacturing flow of copper foil with an insulating layer.

도 6은 절연층 부착 동박으로부터 절연층 부착 회로시트의 제조플로우를 나타낸 모식도이다.It is a schematic diagram which shows the manufacturing flow of the circuit sheet with an insulating layer from the copper foil with an insulating layer.

도 7은 절연층 부착 동박으로부터 절연층 부착 회로시트의 제조플로우를 나타낸 모식도이다.It is a schematic diagram which shows the manufacturing flow of the circuit sheet with an insulating layer from the copper foil with an insulating layer.

도 8은 절연층 부착 회로시트와 내층코어재를 이용한 프레스 이미지를 나타낸 모식도이다.8 is a schematic diagram showing a press image using a circuit sheet with an insulating layer and an inner core material.

도 9는 유전층 부착 동박의 적층 이미지를 나타낸 모식도이다.It is a schematic diagram which shows the laminated image of the copper foil with a dielectric layer.

도 10은 커패시터 회로의 형성 플로우를 나타낸 모식도이다.It is a schematic diagram which shows the formation flow of a capacitor circuit.

도 11은 커패시터 회로의 형성 플로우를 나타낸 모식도이다.It is a schematic diagram which shows the formation flow of a capacitor circuit.

<도면 주요 참조부호에 대한 간단한 설명><Brief Description of Drawing Reference Symbols>

1a..프린트 배선판 1b..커패시터 회로를 구비한 프린트 배선판1a. Printed wiring board 1b. Printed wiring board with capacitor circuit

2..절연층 부착 동박 3..동박층(동박) 4..경화수지층2. Copper foil with insulation layer 3. Copper foil layer (copper foil) 4. Curing resin layer

5..골격재(부직포 혹은 직포) 6..반경화수지층 5..Framework (non-woven or woven fabric) 6 .. Semi-hardening resin layer

7..절연층 부착 회로시트 10..(다층)프린트 배선판7..Circuit sheet with insulation layer 10 .. (Multilayer) printed wiring board

11..유전층 12..동박적층판 20..가열로11. dielectric layer 12. copper clad laminate 20. heating furnace

21..히터 22..압착롤러21. Heater 22. Compression roller

S1, S2..도막S 1 , S 2 .. coating

C1, C2, C3..회로C 1 , C 2 , C 3 .. Circuit

R..에칭레지스트층R. Etching Resist Layer

본 발명은 절연층 부착 동박의 제조방법 및 그 제조방법으로 얻은 절연층 부착 동박, 그 절연층 부착 동박을 이용한 다층 프린트 배선판에 관한 것이다. This invention relates to the manufacturing method of the copper foil with an insulation layer, the copper foil with an insulation layer obtained by the manufacturing method, and the multilayer printed wiring board using the copper foil with an insulation layer.

근래의 프린트 배선판에 있어서는, 다음에 설명하는 2가지가 항상 요구되고 있다. 하나는, 프린트 배선판이 탑재되는 전자기기·전기제품의 경박단소화에 따라, 보다 얇게, 보다 가볍게 할 것이 요구되고, 또한 배선밀도 및 부품실장밀도의 향상, 즉 파인피치(fine pitch)화가 요구되고 있다. 또한, 동시에, 다층 프린트 배선판의 내층 회로부분에 커패시터 회로를 형성하여, 전자기기 등의 소비전력의 절감, 공급전압의 안정화를 도모하는 것이 일반화되고 있다.In recent printed wiring boards, the following two things are always required. One is required to be thinner and lighter in accordance with light and small size of electronic devices and electrical appliances on which printed wiring boards are mounted, and further improvement in wiring density and component mounting density, that is, fine pitch is required. have. At the same time, it is common to form a capacitor circuit in the inner circuit portion of a multilayer printed wiring board to reduce power consumption and stabilize supply voltage of electronic devices and the like.

레이져 천공성에 관한 기술배경: 먼저 파인피치화에 관한 기술배경에 대해 설명하기로 한다. 배선밀도의 향상을 도모하기 위해서는, 일본 특개평11-195853호공보에 개시되어 있는 바와 같이 레이져 가공법을 이용해서 소직경 비어홀(via-hole)을 형성하는 것이 일반화되어 왔다. 그런데, 레이져 천공 가공의 보급과 더불어 종래의 글래스에폭시 기재인 FR-4 프리프레그(prepreg)를 이용해서 제조하는 다층 프린트 배선판에서는, 비어홀의 내벽면 형상에 관한 레이져 천공 가공성이 떨어진다는 것이 판명되어 왔다. 처음에 문제되었던 것은, 글래스에폭시 기재의 골격재인 글래스크로스의 존재이다. 글래스크로스는 편직이 존재하고, 글래스 자체가 레이져 가공성이 떨어지기 때문에, 양호한 정밀도로의 천공이 불가능하였다. Technical Background on Laser Perforation: First, the technical background on fine pitching will be described. In order to improve the wiring density, as disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 11-195853, it has become common to form a small diameter via-hole using a laser processing method. By the way, with the spread of laser drilling, it has been found that in the multilayer printed wiring board manufactured using FR-4 prepreg which is a conventional glass epoxy substrate, laser drilling workability regarding the inner wall shape of a via hole is inferior. . The first problem was the presence of glass cloth, which is a skeleton of glass epoxy substrate. Glass cloth has knitting, and since the glass itself is inferior in laser workability, perforation with good precision was impossible.

그래서, 본건발명자들은 국제공개번호 WO97/02728호공보에 개시되어 있는 바와 같이 동박의 표면에 골격재를 포함하지 않는 반경화상태의 수지층만을 마련한 수지 부착 동박을 시장에 공급해서, 프리프레그 없이 비어홀 공법을 이용해서, 레이져 천공 가공성이 우수한 동박적층판(copper clad laminate)의 제조를 가능하게 하고, 고품질의 다층 프린트 배선판의 공급을 가능하게 했다. 즉, 수지 부착 동박은 그 수지층에 골격재를 포함하고 있지 않기 때문에 경량이며, 또한 비어홀 내벽부가 매끈하게 되어 블로우홀을 없앨 수 있다는 의미에 있어서 레이져 천공 가공성이 우수하다는 특징을 가지고 있지만, 동시에 골격재를 포함하고 있지 않다는 단점으로서, 다음과 같은 것이 있다.Therefore, the present inventors supply to the market a copper foil with a resin provided with only a semi-cured resin layer containing no skeleton material on the surface of the copper foil, as disclosed in International Publication No. WO97 / 02728. Using the construction method, it became possible to manufacture the copper clad laminate excellent in the laser drilling processability, and to supply the high quality multilayer printed wiring board. That is, since the copper foil with resin does not contain a skeleton material in the resin layer, it is lightweight and has the characteristics of excellent laser drilling processability in the sense that the via hole inner wall part can be smoothed and the blow hole can be eliminated. The disadvantages of not containing ash include:

즉, 수지 부착 동박만을 이용해서 제조한 동박적층판은 굽힘, 인장, 충격 등의 외력에 대해 수지층이 가진 기계적 강도가 충분하지 않다는 문제가 있었다. 그리고, 수지 부착 동박은 보강재가 없기 때문에, 수지 부착 동박만을 이용해서 제조한 동박적층판은 내층회로의 구리 회로밀도가 불균일한 계에서는, 동일면 내의 절연층 두께가 극단적으로 변동하고, 컨트롤이 곤란하게 된다. 재료로서의 열팽창율이 크고, 이종재료, 예컨대 구리 회로와의 계면에 스트레스가 생기기 쉬워 신뢰성에 악영향을 끼치고 있다. 그 외, 수지 부착 동박만을 이용해서 제조된 동박적층판은 강도가 낮기 때문에, IC 칩의 와이어 본딩시에, 패드가 침입해서 안정된 접합을 얻을 수 없는 등의 다양한 결점이 지적되고 있다.That is, the copper foil laminated board manufactured using only copper foil with resin had a problem that the mechanical strength which a resin layer has with respect to external forces, such as bending, tension, and an impact, was not enough. And since the copper foil with resin does not have a reinforcing material, in the copper foil laminated board manufactured using only the copper foil with resin, the thickness of the insulating layer in the same plane will fluctuate extremely in the system where the copper circuit density of an inner layer circuit is nonuniform, and control becomes difficult. . The coefficient of thermal expansion as a material is large, and stress is easily generated at an interface with a dissimilar material, for example, a copper circuit, adversely affecting reliability. In addition, since the copper foil laminated plate manufactured using only the copper foil with resin is low in strength, various drawbacks, such as a pad invading at the time of wire bonding of an IC chip and incapable of obtaining a stable joint, are pointed out.

한편, 프리프레그 분야에 있어서도, 일본 특개2003-213019호공보에 개시되어 있는 바와 같이, 상술한 기계적 강도를 그대로 하고, 레이져 천공 가공성을 개선하 는 방법으로서, 골격재를 연구한 제품이 공급되어 왔다. 즉, 골격재에 글래스크로스를 이용한 경우에는, 대체로 레이져 천공 가공성이 떨어진다고 여겨져 왔다. 따라서, 편직이 있는 크로스 타입의 것을 사용하지 않고, 소위 부직포 타입의 것을 골격재로서 이용하는 것이 일반화되어 왔다. 부직포를 이용함으로써, 크로스 타입의 골격재에서 볼 수 있는 크로스사(絲)의 불균일성이 개선되고, 레이져 천공성이 대폭 개선되었다.In the field of prepregs, on the other hand, as disclosed in Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2003-213019, a product which has studied the skeleton material has been supplied as a method of improving the laser drilling processability while leaving the above-described mechanical strength intact. . That is, when glass crosslinking is used for a skeleton material, it has been considered that laser drilling workability is inferior in general. Therefore, it has become common to use what is called a nonwoven fabric type as a skeletal material, without using the cross-type thing with knitting. By using a nonwoven fabric, the nonuniformity of the cross yarn seen with the cross-type frame | skeleton material improved, and the laser perforation property improved significantly.

커패시터 회로를 구비한 프린트 배선판에 관한 기술배경: 이어서, 커패시터 회로기판에 대한 기술배경에 관해 설명하기로 한다. 동박적층판을 이용해서 커패시터 회로기판을 제조하는 경우는, 소위 양면 각각의 동박층과 그 양 동박층의 사이에 위치하는 유전체층으로 이루어지는 양면 동박적층판을 이용해서, 그 양면의 동박층을 소망하는 형상의 커패시터 전극으로 에칭가공해서, 양면의 커패시터 전극에 유전체층을 끼운 상태의 커패시터 구조를 목적 위치에 형성함으로써 이루어지는 것이 통상적이다. Technical background of a printed circuit board comprising the capacitor circuit: Next, a description about the technical background to the capacitor circuit board. When manufacturing a capacitor circuit board using a copper clad laminated board, it uses the double-sided copper foil laminated board which consists of what is called a copper foil layer of each double-sided surface, and the dielectric layer located between both copper foil layers, and has the shape of desired shape of the copper foil layer of both sides. It is common to carry out etching process with a capacitor electrode, and to form the capacitor structure of the state which sandwiched the dielectric layer in the capacitor electrodes of both surfaces in the target position.

형성된 커패시터는 가능한 한 큰 전기 용량을 가질 것이 기본적인 품질로서 요구된다. 커패시터 용량(C)은 C = εε0(A/d)의 식(ε0는 진공의 유전율)으로부터 계산된다. 따라서, 커패시터 용량을 증대시키기 위해서는, i)커패시터 전극의 표면적(A)을 크게 한다. ii)유전체층의 두께(d)를 얇게 한다. iii)유전체층의 비유전율(ε)을 크게 한다. 이들 중 하나의 방법을 채용하면 된다.The capacitor formed is required as basic quality to have the largest possible capacitance. Capacitance (C) is calculated from the formula C = εε 0 (A / d ) (ε 0 is the permittivity of the vacuum). Therefore, to increase the capacitor capacity, i) the surface area A of the capacitor electrode is increased. ii) The thickness d of the dielectric layer is made thin. iii) The dielectric constant epsilon of the dielectric layer is increased. What is necessary is just to employ | adopt one of these methods.

그런데, i)의 표면적(A)에 관해서는, 최근의 전자, 전기기기의 경박단소화 추세에 따라 프린트 배선판에도 동일한 요구가 행해지고 있는데, 일정한 프린트 배선판의 면적 내에서 커패시터 전극의 면적을 넓게 취하는 것은 거의 불가능하다. ii)의 유전체층의 두께(d)를 얇게 하는 것에 관해서는, 유전체층이 프리프래그로 대표되는 것처럼 종래의 글래스크로스 등의 골격재를 포함하는 것이라면, 골격재로 인해 박층화에 한계가 발생한다. 한편으로, 종래의 유전체층 구성재료를 이용해서 단순히 골격재를 생략하면, 커패시터 전극을 에칭으로 작성할 때의 에칭액의 샤워압으로 동박층이 에칭 제거된 부위의 유전체층이 파괴된다는 문제점이 발생하고 있다. 이러한 점으로부터, iii)의 유전체층의 비유전율(ε)을 크게 하는 것을 고려하는 것이 일반화되어 왔다.By the way, regarding the surface area A of i), the same request | requirement is made also to a printed wiring board in accordance with the recent trend of light and short reduction of electronic and electrical equipment, but it takes a wide area of a capacitor electrode in the area of a fixed printed wiring board. Almost impossible. As for the thickness d of the dielectric layer of ii), if the dielectric layer contains a skeleton such as a conventional glass cloth as represented by a prefrag, the skeleton causes a limitation in thinning. On the other hand, if a skeleton material is simply omitted using a conventional dielectric layer constituent material, there arises a problem that the dielectric layer at the portion where the copper foil layer is etched away is destroyed by the shower pressure of the etching solution when the capacitor electrode is formed by etching. In view of this, it has been generalized to consider increasing the relative dielectric constant? Of the dielectric layer of iii).

즉, 일본 특개2003-198091호공보에 개시되어 있는 것과 같이, 유전체층의 구성에는 글래스크로스 등의 골격재를 필수로 하여, 골격재의 부직화 등에 의해 박층화를 도모하고, 유전체층 전체의 두께를 얇게 해서, 또한 유전체층의 구성재료에 유전체 필러(filler)를 분산 함유시킨 수지를 이용하는 등 해서 커패시터 전기용량의 증대가 도모되어 왔다.That is, as disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 2003-198091, the structure of the dielectric layer is made of a skeleton material such as glass cross, which is required to be thinned by nonwoven fabric of the skeleton material, and the thickness of the entire dielectric layer is made thin. In addition, the capacitor capacitance has been increased by using a resin in which a dielectric filler is dispersed and contained in the constituent material of the dielectric layer.

종래의 프린트 배선판 형상에 관한 기술배경: 또한, 통상의 프린트 배선판은 동박층을 에칭 가공함으로써 형성한 회로가 외층 표면으로부터 돌출되어 있으며, 이 회로가 물리적으로 긁힘으로써, 회로단선, 회로박리 등의 불량이 발생하고 있다. 따라서, 미세한 회로가 형성된 프린트 배선판일수록, 핸들링에 세심한 주의를 요하기 때문에, 과잉포장, 작업효율의 저하를 야기하는 원인이 되고 있다. 이에 대해서는, 외층의 회로가 절연기재 내에 매설된 상태로 한다면, 문제해결이 가능해 서, 일본 특허공보2896116호, 특개2000-332387호공보, 특개평09-191178호공보에 개시되어 있는 것과 같이, 다양한 기술이 개시되어 있다. Technical Background of Conventional Printed Wiring Board Shape: In addition, in a conventional printed wiring board, a circuit formed by etching a copper foil layer protrudes from the outer layer surface, and the circuit is physically scratched, so that a defect such as a circuit break or a circuit peeling occurs. This is happening. Therefore, the more the printed wiring board in which the fine circuit was formed, the more careful handling is required, and it causes overpacking and the fall of work efficiency. On the other hand, if the circuit of the outer layer is made to be embedded in an insulating base, the problem can be solved. As disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2896116, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-332387, and Japanese Patent Application Laid-open No. 09-191178, Techniques are disclosed.

그러나, 종래의 골격재를 포함한 프리프레그는 골격재에 수지성분을 함침시키고 건조시키는 방법이 채용되는 것이 통상적이며, 이것이 원인으로 레이져 천공 가공성에 관한 문제를 발생시켜, 파인피치화의 요구를 완전히 만족하는 것은 곤란하게 된다. 한편, 내장 커패시터 회로의 전기용량의 대용량화가 더욱 요구되게 되고, 나아가 그 전기용량의 안정화에 대한 요구가 차츰 강해지고 있으며, 유전체층 두께의 안정화에 대한 요구를 만족시킬 수 없는 현상이 존재한다.However, in the prepreg containing the conventional skeleton material, a method of impregnating and drying the resin component in the skeleton material is conventionally employed, which causes problems related to laser drilling workability, and fully satisfies the requirements for fine pitching. It is difficult to do. On the other hand, the capacity of the built-in capacitor circuit is required to further increase the capacity, and further, the demand for stabilization of the capacitance gradually increases, and there is a phenomenon in which the demand for stabilization of the dielectric layer thickness cannot be satisfied.

레이져 천공 가공성에 관한 과제: 레이져 천공 가공성을 양호하게 해서 파인피치화의 요구에 부응하기 위해서는, 골격재의 두께를 얇게 하면 된다고 생각된다. 그런데, 부직포 자체는 크로스 타입의 것과 비교해서 강도가 떨어지는 것이며, 수지 함침시키고, 침지된 수지에서 그 부직포를 들어올릴 때에 함침된 수지중량에 의해 부직포 자체가 절단불량을 일으키기 쉽다는 결점이 있었다. 그리고, 크로스 타입의 직포이더라도, 그 두께가 얇아질수록, 부직포와 마찬가지의 문제는 발생하고 있었다. Problem regarding laser drilling workability : In order to improve laser drilling workability and meet the demand of fine pitch formation, it is thought that what is necessary is just to make thickness of a skeleton material thin. By the way, the nonwoven fabric itself is inferior in strength compared with the cross type, and there existed a fault that the nonwoven fabric itself was easy to produce | generate a defect by the resin weight impregnated when carrying out resin impregnation and lifting the nonwoven fabric from immersed resin. And even if it is a cross type woven fabric, the thinner the thickness, the same problem as the nonwoven fabric had arisen.

그래서, 경량화를 위해 절연수지층의 두께를 얇게 하려고 하는 목적을 달성함과 동시에, 부직포 혹은 직포에 함침시키는 수지량을 감소시켜 보다 얇은 부직포 혹은 직포를 이용한 프리프레그를 공급하려고 하여 왔다. 그런데, 동박적층판은 프리프레그에 프레스가공에 의해 동박을 붙임으로써 생산되는 것이다. 이때, 동박의 표면에는 요철이 있는 거침처리가 실시되어 있으며, 이 거침처리가 기재의 수지 내에 침입하여 앵커(anchor) 효과를 얻어 밀착강도를 향상시키는 것인데, 함침시키는 수지량을 일정 레벨 이하로 감소시키면 프리프레그의 골격재와 동박표면의 거침처리가 접촉해 버리고, 기재의 수지 부착면이 나빠져 박리 강도를 열화시키고, 나아가 골격재와 직접 접촉하기 때문에 골격재의 섬유를 따라 마이그레이션을 조장할 가능성조차 생긴다. Therefore, while achieving the purpose of making the thickness of the insulating resin layer thin for weight reduction, the amount of resin impregnated into a nonwoven fabric or a woven fabric is reduced, and a prepreg using a thinner nonwoven fabric or a woven fabric has been tried to be supplied. By the way, a copper clad laminated board is produced by sticking copper foil to a prepreg by press working. At this time, the surface of the copper foil is subjected to rough processing with irregularities, and the roughening treatment penetrates into the resin of the substrate to obtain an anchor effect to improve the adhesion strength. The amount of resin to be impregnated is reduced to a predetermined level or less. If the surface of the prepreg and the rough surface of the copper foil are brought into contact with each other, the resin adhesion surface of the substrate deteriorates, the peeling strength is degraded, and the direct contact with the skeleton causes the possibility of promoting migration along the fibers of the skeleton. .

이러한 점으로부터, 동박적층판을 제조했을 때의 절연수지층 중에 포함되는 골격재를 가능한 한 얇게 해서, 절연수지층 내의 수지 함량을 높임과 동시에, 부착한 동박의 거침처리와 골격재의 접촉을 보다 안전하게 방지할 수 있는 재료와 방법이 요구되어 왔다.From this point of view, the skeleton contained in the insulating resin layer when the copper clad laminate is manufactured is made as thin as possible to increase the resin content in the insulating resin layer and to prevent the roughening of the adhered copper foil and the contact of the skeleton more safely. Materials and methods have been required.

커패시터 회로를 구비한 프린트 배선판에 관한 과제: 한편, 커패시터 회로의 유전체층에서도, 흡습한 경우 마이그레이션 현상의 발생이 문제가 된다. 골격재를 포함하는 유전체층에 있어서의 마이그레이션 현상은 프린트 배선판의 동도금층의 구리 성분이나, 유전체 필러의 구성 금속성분이 골격재와 수지의 계면을 따라 전기영동적으로 확산이동해서 인접한 회로간에 쇼트불량을 일으킨다는 것이다. 이 현상은 골격재(특히 크로스타입의 것)가 존재함으로써 쉽게 일어난다고 생각된다. 게다가, 유전체층으로서 이용하는 층에는, 상당한 고충진율을 가지고 유전체 필러를 분산시킨 수지가 이용되기 때문이다. Tasks relating to a printed circuit board comprising the capacitor circuit: in the dielectric layer of the other hand, the capacitor circuit, the occurrence of the case where moisture migration phenomenon becomes a problem. The migration phenomenon in the dielectric layer containing the skeleton material causes the copper component of the copper plating layer of the printed wiring board or the constituent metal component of the dielectric filler to electrophoretically diffuse and move along the interface between the skeleton material and the resin, causing short defects between adjacent circuits. Will. It is thought that this phenomenon easily occurs due to the presence of the skeleton (particularly the cross type). In addition, it is because resin which disperse | distributed dielectric filler with considerable high filling rate is used for the layer used as a dielectric layer.

따라서, 커패시터 회로의 유전체층에는 골격재를 포함하지 않고 임의의 막 두께의 형성이 가능하고, 또한 에칭시 에칭액의 샤워압에 의해 파괴되지 않은 프린 트 배선판의 제조방법이 요구되어 왔다.Therefore, there has been a demand for a method of manufacturing a printed wiring board which can be formed without any skeleton material in the dielectric layer of the capacitor circuit, and which is not destroyed by the shower pressure of the etching liquid during etching.

프린트 배선판 형상에 관한 과제: 또한, 통상의 프린트 배선판의 외층회로를 절연기재 내에 매설된 상태로 하기 위해서는, 회로를 일단 수지로 메우고 다시 연마함으로써 매설 상태를 만들어 내는 등, 대체로 복잡한 공정이 채용되고 있어서, 시장에서 널리 보급하는 기술은 될 수 없었다. Problems Regarding the Shape of a Printed Wiring Board: In order to make the outer layer circuit of a normal printed wiring board embedded in an insulating substrate, a complicated process is generally employed, such as filling the circuit with resin and polishing it again to create a buried state. In other words, technology could not be widely used in the market.

상기에서 설명해 온 문제점으로부터, 파인피치화를 보다 향상시키는 것이 가능한 양호한 레이져 가공 성능과, 동시에 커패시터 회로의 형성 용도로서 유전체층의 두께를 양호하게 유지하는 것이 가능한 프린트 배선판의 제조방법이 요구되어 왔다. 또한, 이 프린트 배선판의 외층회로가 절연수지 기재 내에 매설된 상태가 된다면, 프린트 배선판으로서 매우 높은 핸들링성을 구비할 뿐만 아니라, 물리적인 회로손상을 효과적으로 방지할 수 있는 것이 된다.From the problems described above, there has been a demand for a method for producing a printed wiring board that can maintain a good laser processing performance capable of further improving fine pitch and at the same time maintain a good thickness of the dielectric layer for forming a capacitor circuit. In addition, if the outer circuit of this printed wiring board is embedded in the insulating resin base material, not only does it have a very high handling property as a printed wiring board but also it can effectively prevent physical circuit damage.

이하, 본건발명에 따른 프린트 배선판의 제조방법에 관해서 설명하는데, 이들 제조방법은 가장 단순한 형태로 설명하는 것이며, 당업자라면 이하에 설명하는 방법을 응용해서, 고다층화된 프린트 배선판을 제조하는 것이 가능하게 된다. 또한, 이하의 제조방법은 통상의 프린트 배선판의 제조에 이용하는 기본개념(이하, "제조방법 1"이라 함)과, 커패시터 회로를 구비하는 프린트 배선판의 경우(이하, "제조방법 2"라 함)로 나누어서 설명하기로 한다. 커패시터 회로를 구비하는 프린트 배선판의 경우에는, 유전체층을 구성하는 층에, 유전체 필러를 함유하는 경우 등을 생각할 수 있기 때문이다. 본건발명에 따른 제조방법에서 얻어지는 프린트 배선판 은 외층의 회로가 절연수지층에 매설 배치된 상태가 되는 점에 특징을 구비한 것이 된다.Hereinafter, although the manufacturing method of the printed wiring board which concerns on this invention is demonstrated, these manufacturing methods are demonstrated in the simplest form, and those skilled in the art can apply the method demonstrated below, and can manufacture a highly multilayered printed wiring board. do. In addition, the following manufacturing method is a basic concept used for manufacture of a normal printed wiring board (hereinafter referred to as "manufacturing method 1"), and a printed wiring board provided with a capacitor circuit (hereinafter referred to as "manufacturing method 2"). It will be described by dividing by. This is because in the case of a printed wiring board having a capacitor circuit, a case in which a dielectric filler is contained in a layer constituting the dielectric layer can be considered. The printed wiring board obtained by the manufacturing method which concerns on this invention becomes a thing characterized by the point that the circuit of an outer layer will be embedded in the insulation resin layer.

<제조방법 1><Manufacturing Method 1>

여기서는, 본건발명에 따른 프린트 배선판의 제조방법 중, 가장 기본적이라고 말할 수 있는 제조방법에 관해 설명한다. 이 제조방법은, 이하에 도 1 내지 도 8을 참조하면서 설명하는 A)및 B)의 각 공정을 구비하는 것을 특징으로 한다. 여기서, 다시 한번 기재해 두지만, 도면에서는 가공 플로우를 단면으로부터 관찰한 모식도로 표시하고 있지만, 설명이 이해하기 쉽도록, 각층의 두께는 현실의 제품과 대응하는 것이 아니다.Here, the manufacturing method which can be said to be the most basic among the manufacturing methods of the printed wiring board which concerns on this invention is demonstrated. This manufacturing method is equipped with each process of A) and B) demonstrated below, referring FIG. 1 thru | or FIG. Here, although described once again, although the processing flow is shown in the schematic diagram observed from the cross section, the thickness of each layer does not correspond with a real product so that description is easy to understand.

공정 A): 먼저 A) 공정은, 도 1 내지 도 7을 이용해서 설명한다. 이 공정을 한마디로 말하면, 절연층 부착 동박(2)의 동박층(3)을 에칭해서 회로 형성함으로써 절연층 부착 회로시트(S)를 형성하는 것이다. 이 공정에 있어서 이용하는 절연층 부착 동박(2)이란, 도 5의 (8)에 표시된 것과 같은 단면층(斷面層) 구조를 구비하고 있으며, 동박의 일면에 그 동박의 접착면이 가진 표면조도(Rz)의 값보다도 0.5㎛ ~ 10㎛ 두꺼운 것으로 된 경화수지층(4)을 구비하고, 그 경화수지층(4) 상에 골격재(5)를 포함하는 반경화수지층(6)을 구비한 것이다. 그리고, 이 절연층 부착 동박을 이용해서, 도 6의 (9)에 도시한 바와 같이 동박층에 에칭레지스트층(R)을 형성하고, 도 6의 (10)에 도시한 바와 같이 회로패턴을 노광하고 현상하고, 도 7의 (11)에 도시한 바와 같이 동박층(3)을 에칭해서 회로(C1)를 형성하고, 도 7의 (12) 에 도시한 바와 같이 에칭레지스트층(R)을 박리함으로써, 절연층 부착 회로시트(S)를 형성한다.Process A): First, process A) is demonstrated using FIGS. In a word, this process forms the circuit sheet S with an insulating layer by etching and forming a circuit by the copper foil layer 3 of the copper foil 2 with an insulating layer. The copper foil with insulation layer 2 used in this process has a cross-sectional layer structure as shown in FIG. 5 (8), and the surface roughness which the adhesive surface of the copper foil has on one surface of the copper foil. A cured resin layer 4 having a thickness of 0.5 μm to 10 μm thicker than the value of (Rz) is provided, and the semi-cured resin layer 6 including the skeleton 5 is provided on the cured resin layer 4. will be. Using this copper foil with an insulating layer, an etching resist layer R is formed on the copper foil layer as shown in Fig. 6 (9), and the circuit pattern is exposed as shown in Fig. 6 (10). And developing, etching the copper foil layer 3 to form a circuit C 1 , as shown in FIG. 7 (11), and etching etching layer R as shown in FIG. 7 (12). By peeling, the circuit sheet S with an insulating layer is formed.

여기서 사용하는 절연층 부착 동박(2)이란, 동박 표면과 접하는 형상으로 일면에 소정 두께의 경화수지층(4)을 구비하고, 그 경화수지층(4) 위에 골격재(5)를 포함하는 반경화수지층(6)을 구비한 것이다. 여기서, 특징적인 것은, 경화수지층(4)의 두께가, 동박의 접착면이 가진 표면조도(Rz)의 값보다도 0.5㎛ ~ 10㎛ 두꺼운 것으로 한다는 점이다. 이 두께는 완전평면으로 경화수지층을 형성했다고 생각했을 때의 환산 두께이다. 하한값을 (동박의 접착면이 가진 표면조도(Rz)의 값 + 0.5)㎛ 의 두께로 한 것은, 동박의 거침면이 가진 요철을 완전히 피복하고, 또한 동박층 측에 에칭액을 가해서 에칭 가공을 행할 때의 반경화수지의 배리어로서 기능시키기 위한 안전성을 고려해서 정했다. 이에 대해, 상한값을 (동박의 접착면이 가진 표면조도(Rz)의 값 + 10)㎛ 이하로 한 것은, 이하의 열간성형 프레스 공정의 설명에서 상술하겠지만, 이 경화수지층은 프레스 성형시에 회로에 의해 눌려 뚫리고 찢기는 것이 가능한(이하, 이것을 충파(衝破)라 한다.) 두께 및 재질의 것으로 해야 한다. 그래서, 일반적인 리지드판에 사용되는 동박의 두께가 9㎛ 이상인 것을 고려하여 정한 것이다. 따라서, 10㎛를 초과하면 회로에 의한 경화수지층(4)의 충파가 곤란하게 된다.The copper foil with insulation layer 2 used here is a shape which contact | connects the copper foil surface, is provided with the cured resin layer 4 of predetermined thickness in one surface, and the radius which contains frame | skeleton 5 on the cured resin layer 4 The resin layer 6 is provided. Here, the characteristic is that the thickness of the cured resin layer 4 is 0.5 µm to 10 µm thicker than the value of the surface roughness Rz of the adhesive surface of the copper foil. This thickness is the converted thickness at the time of thinking that the cured resin layer was formed in a perfect plane. The lower limit value (the value of the surface roughness (Rz) of the adhesive surface of the copper foil + 0.5) 탆 thickness completely covers the unevenness of the rough surface of the copper foil, and also adds an etching solution to the copper foil layer to perform etching. In consideration of safety for functioning as a barrier of the semi-cured resin at the time. On the other hand, the upper limit value (the value of the surface roughness (Rz) of the adhesive surface of copper foil + 10) µm or less will be described later in the description of the hot forming press step, but this cured resin layer is a circuit at the time of press molding. It is to be of a thickness and material that can be pressed and pierced by hereinafter (hereinafter referred to as impulse). Therefore, it is determined in consideration of the fact that the thickness of copper foil used for a general rigid board is 9 micrometers or more. Therefore, when it exceeds 10 micrometers, the hardening of the hardening resin layer 4 by a circuit will become difficult.

이상 설명한 경화수지층(4)에는 두께의 제한이 있지만, 그 경화수지층의 위에 마련되는 반경화수지층(6)의 두께에 관해서는 특히 제한이 없다. 그러나, 열간성형 프레스 가공시에 회로가 실질적으로 매설층이 되기 때문에, 크로스토크 특성 을 열화시키지 않도록 층간 절연이 충분히 확보가능 한 두께일 필요를 고려하는 한도에서, 기판 설계에 따라 임의로 두께 조절을 행하면 된다. 절연층 부착 동박에서는, 경화수지층(4)과 반경화수지층(6)을 합쳐서 절연층이라 한다.Although the thickness of the hardening resin layer 4 demonstrated above has a restriction | limiting, there is no restriction | limiting in particular about the thickness of the semi-hardened resin layer 6 provided on the hardening resin layer. However, since the circuit becomes a substantially buried layer during hot forming press work, if the thickness is arbitrarily adjusted according to the substrate design, in consideration of the necessity of having a sufficient thickness to secure the interlayer insulation so as not to degrade the crosstalk characteristics. do. In copper foil with an insulating layer, the cured resin layer 4 and the semi-cured resin layer 6 are collectively referred to as an insulating layer.

여기서, 본건발명에서 이용하는 절연층 부착 동박의 제조에 관해서, 도 1 내지 도 5를 이용해서 설명한다. 도 1의 (1)에 도시한 바와 같이 동박층(3)의 일면에 열경화성수지 용액을 도포하여 도막(S1)을 형성하고, 바람직하게는 도 1의 (2)에 도시한 바와 같이 건조시켜서, 이것을 도 2의 (3)에 도시한 바와 같이 가열로(20) 내(도면에는 히터(21) 건조를 행하는 경우를 기재)에 넣고 가열처리함으로써, 경화시켜 경화수지층(4)을 형성한다.Here, the manufacture of the copper foil with an insulating layer used by this invention is demonstrated using FIGS. As shown in FIG. 1 (1), a thermosetting resin solution is applied to one surface of the copper foil layer 3 to form a coating film S 1 , and preferably, dried as shown in FIG. As shown in FIG. 2 (3), this is placed in a heating furnace 20 (in the drawing, when the heater 21 is dried) and heat-treated to harden to form a cured resin layer 4. .

그리고, 도 3의 (4)에 도시한 바와 같이 경화수지층(4) 위에 열경화성수지 용액을 도포해서 도막(S2)을 형성하고, 도 3의 (5)에 도시한 바와 같이 반경화상태로 만든다. 그 후, 도 4(6)에 도시한 순서로, 제 1단계에서 반경화상태의 도막(S2) 위에 골격재(5)를 재치하고, 도 4의 (6)의 제 2단계에 도시한 바와 같이 반경화상태의 도막(S2)에 골격재(5)를 압착하여(도 4에서는, 가열롤러(22)를 이용해서 압착하는 형태를 모식적으로 나타내고 있다.), 도 4의 (6)의 최종형태로 만든다.Then, as shown in FIG. 3 (4), a thermosetting resin solution is applied onto the cured resin layer 4 to form a coating film S 2 , and as shown in FIG. 3 (5), in a semi-cured state. Make. Thereafter, the skeleton 5 is placed on the semi-finished coating film S 2 in the first step in the order shown in FIG. 4 (6), and the second step in FIG. As shown in FIG. 4, the skeleton 5 is pressed against the semi-cured coating film S 2 (FIG. 4 schematically shows the form of pressing using the heating roller 22). To the final form.

또한, 도 5의 (7)에 도시한 바와 같이, 이것을 가열로(20) 내에서 가열함으로써 반경화상태의 도막(S2)의 구성 수지를 재유동화시키고, 그 부직포 혹은 직포인 골격재(5)에 침투시키고 반대면으로 스며나오게 해서, 그 부직포 혹은 직포를 열경 화성수지의 구성 수지로 피복한다. 로 내에서의 조작이 완료되면, 바로 로 밖으로 꺼내고, 바람직하게는 도 5의 (8)에 도시한 바와 같이 에어블로우장치(23)를 이용해서 충풍(衝風)하는 등 강제적으로 강온처리 해서 반경화상태의 유지를 확실하게 한다. 이상과 같이 해서, 동박의 일면에 경화수지층(4)과 골격재(5)를 포함한 반경화수지층(6)으로 이루어진 절연층을 구비한 절연층 부착 동박(2)을 얻는다.In addition, as shown in Fig. 5 (7), heated to 20 by heating in was re-fluidizing the constituent resin of the coating layer (S 2) of a semi-cured state, the skeleton material (5, and non-woven fabric or woven fabric it Permeate) and exude to the opposite side and cover the nonwoven or woven fabric with the resin of thermosetting resin. When the operation in the furnace is completed, it is immediately taken out of the furnace, and forcedly cooled by using an air blower 23 as shown in FIG. The maintenance of the image state is ensured. As described above, the copper foil with an insulating layer having an insulating layer made of the semi-cured resin layer 6 including the cured resin layer 4 and the skeleton 5 on one surface of the copper foil is obtained.

여기서, 동박층(3)을 구성하는 동박은 압연으로 얻어진 압연동박, 전해로 얻어지는 전해동박 등, 특히 제법에 한정되는 것이 아니며, 프린트 배선판의 전자재료 용도에 이용되는 동박이면 된다. 그리고, 이 동박에는 캐리어필름 부착 동박도 포함하는 개념으로써 기재하고 있다. 캐리어필름 부착 동박은 동박의 기재와의 접착면의 반대면에 캐리어필름이 부착되어 있으며, 캐리어필름을 부착한 채 프레스 가공해서 동박적층판으로 만들고, 이 후 캐리어필름을 제거해서 통상의 동박적층판으로서 이용하는 것이다. 캐리어필름 부착 동박을 이용하는 이점은, 9㎛ 두께 등의 얇은 동박의 취급이 용이하고, 프레스 가공시에 발생할 수 있는 동박 표면으로의 이물질 부착, 오염을 방지해서 에칭가공 직전까지 동박 표면을 손상으로부터 보호할 수 있다는 점에 있다.Here, the copper foil which comprises the copper foil layer 3 is not specifically limited to manufacturing methods, such as the rolled copper foil obtained by rolling, the electrolytic copper foil obtained by electrolysis, and should just be copper foil used for the electronic material use of a printed wiring board. And this copper foil is described as a concept including the copper foil with a carrier film. The copper foil with a carrier film has a carrier film on the opposite side of the adhesive surface of the copper foil, and is pressed to form a copper foil laminated plate with the carrier film attached thereto, and then the carrier film is removed to be used as a normal copper foil laminated plate. will be. The advantage of using a copper foil with a carrier film is that it is easy to handle thin copper foils such as 9 μm thick, and prevents foreign matters from adhering to the copper foil surface which may occur during press processing and contamination, thereby protecting the copper foil surface from damage until immediately before etching processing. It can be done.

경화성수지(4)를 구성하는 수지에는, 일반적으로는 에폭시수지를 이용하게 된다. 프린트 배선판 용도에 있어서 널리 이용되고 있기 때문이다. 따라서, 여기서 경화수지층(4)을 구성하는 수지로서는, 열경화성을 구비한 수지이고, 또한 전기, 전자재료의 분야에서 프린트 배선판에 사용가능한 것이라면 특히 한정은 필요하지 않다. 이 경화수지층(4)은 용제를 이용해서 액체상으로 만든 열경화성수지 용액을 동박 표면에 도포하는 방법을 채용하는 것이 일반적이지만, 반경화상태의 수지필름을 라미네이트하는 것처럼 붙이는 방법 등을 채용하는 것도 가능하다. 용제를 이용해서 열경화성수지 용액으로 만드는 경우는, 예를 들어 에폭시 수지, 경화제, 경화촉진재를 배합하고, 메틸에틸케톤 등의 용제를 이용해서 점도조정을 행해 이용하게 된다. 경화수지층(4)의 두께가 그 동박의 접착면이 가진 표면조도(Rz)의 값보다도 0.5㎛ ~ 10㎛ 두꺼운 것으로 되는 범위에 들어있는 한, 경화방법 및 경화조건에 관해서도 특히 한정할 필요가 없다. In general, an epoxy resin is used for the resin constituting the curable resin 4. This is because it is widely used in printed wiring board applications. Therefore, if the resin constituting the cured resin layer 4 is a resin having thermosetting properties and can be used for printed wiring boards in the fields of electric and electronic materials, no particular limitation is necessary. The curable resin layer 4 generally employs a method of applying a thermosetting resin solution made of a liquid phase to a copper foil surface using a solvent, but it is also possible to employ a method of laminating a semi-cured resin film as if it were laminated. Do. When making a thermosetting resin solution using a solvent, an epoxy resin, a hardening | curing agent, and a hardening accelerator are mix | blended, for example, viscosity adjustment is carried out using solvents, such as methyl ethyl ketone, and is used. As long as the thickness of the cured resin layer 4 is in the range of 0.5 µm to 10 µm thicker than the surface roughness Rz of the adhesive surface of the copper foil, the curing method and the curing conditions need to be particularly limited. none.

또한, 반경화수지층(6)을 구성하는 수지에도, 상술한 경화수지층(4)과 동일한 개념의 열경화성수지와 이하에 서술할 골격재(5)가 이용된다. 다만, 반경화수지층(6)을 구성하는 수지와, 경화수지층(4)을 구성하는 수지 조성이 반드시 같을 필요는 없다. 여기서, 도 3 내지 도 5에 도시한 반경화수지층(6)의 제조방법에 관해서 보충적으로 상세히 설명한다. 우선, 동박 표면에 형성된 경화수지층(4) 위에, 열경화성수지 용액을 도포하고, 유기용제 성분을 제거한다. 그리고, 이하에서 서술할 부직포 혹은 직포 등의 골격재(5)를 재치하고, 골격재(5)에 이 열경화성수지 용액을 침투시켜, 골격재의 반대면에까지 수지를 배어 나오게 한다. 그리고, 경화시키지 않고 건조를 행하여, 경화수지층(4) 위에 골격재(5)를 포함한 반경화수지층(6)을 형성한다.Moreover, the thermosetting resin of the same concept as the hardening resin layer 4 mentioned above, and the skeleton material 5 mentioned below are used also for resin which comprises the semi-hardened resin layer 6. However, the resin which comprises the semi-hardened resin layer 6 and the resin composition which comprises the hardening resin layer 4 do not necessarily need to be the same. Here, the manufacturing method of the semi-cured resin layer 6 shown in FIGS. 3 to 5 will be described in detail complementarily. First, the thermosetting resin solution is apply | coated on the cured resin layer 4 formed in the copper foil surface, and the organic solvent component is removed. Subsequently, a skeleton 5 such as a nonwoven fabric or a woven fabric described below is placed, and the thermosetting resin solution is infiltrated into the skeleton 5 to bleed resin to the opposite side of the skeleton. Then, drying is performed without curing, and the semi-cured resin layer 6 including the skeleton 5 is formed on the cured resin layer 4.

이때의 열경화성수지 용액의 도포 두께는, 이하에 서술할 부직포 혹은 직포(5)의 두께를 고려해서 정해진다. 형성할 반경화수지층 두께(X㎛)에 대해, X - 40㎛ ~ X - 3㎛의 두께로 하는 것이 바람직하다. 예를 들어, 반경화수지층 두께를 100㎛로 하기 위해서는, 100 - 40 = 60㎛으로부터 100 - 3 = 97㎛ 두께의 도막 두께로 해서, 동박 표면에 액체상 수지의 도포를 행해 둔다. 이와 같이 함으로써, 경화수지층(4)의 표면에 소망하는 두께의 반경화수지층(6)의 형성이 가능하게 된다. 상기 도막 두께를 X - 40㎛ 미만으로 하면, 최종적으로 얻어지는 반경화수지층과 붙일 기재와의 충분한 밀착성이 얻어지지 않으며, 도막 두께를 X - 3㎛를 초과하는 두께로 해도, 반경화수지층과 붙일 기재와의 밀착성을 향상시키는 효과가 증대하는 일은 없게 된다.The coating thickness of the thermosetting resin solution at this time is determined in consideration of the thickness of the nonwoven fabric or woven fabric 5 described below. It is preferable to make thickness of X-40 micrometers-X-3 micrometers with respect to the semi-hardened resin layer thickness (Xmicrometer) to form. For example, in order to make thickness of a semi-hardened resin layer into 100 micrometers, it is set as the coating film thickness of 100-3 = 97 micrometers from 100-40 = 60 micrometers, and liquid resin is apply | coated to the copper foil surface. By doing in this way, formation of the semi-hardened resin layer 6 of desired thickness on the surface of the hardening resin layer 4 is attained. When the thickness of the coating film is less than X-40 µm, sufficient adhesion between the finally obtained semi-cured resin layer and the substrate to be attached is not obtained, and even when the thickness of the coating film is greater than X-3 µm, the substrate to be attached with the semi-cured resin layer The effect of improving the adhesiveness with will not increase.

그리고, 이 열경화성수지 용액의 도막(S2) 위에, 골격재(5)(부직포 혹은 직포)를 재치해서, 그 도막(S2)의 구성수지 성분을 골격재(5)를 구성하는 유리섬유 또는 유기섬유의 모세관 현상을 이용해서 침투시키고, 그 골격재(5)의 반대측으로 스며 나오게 해서, 골격재(5)의 표면을 완전히 피복함으로써, 절연층 부착 동박(2)을 얻는다. 여기서 말하는 유기섬유에는, 납땜조 온도(260℃ 정도)에서 분해나 융해하지 않는 것을 이용하는 것이 바람직하며, 아라미드, 전방향족 폴리에스테르, PBO(폴리파라페닐렌벤조비스옥사졸) 중 어느 하나를 이용하는 것이 바람직하다.Then, on the coating film S 2 of the thermosetting resin solution, the frame member 5 (non-woven fabric or woven fabric) is placed, and the constituent resin component of the coating film S 2 forms the glass fiber constituting the skeleton member 5 or The copper foil 2 with an insulating layer is obtained by making it penetrate using the capillary phenomenon of organic fiber, letting out to the other side of the frame | skeleton 5, and completely covering the surface of the frame | skeleton 5. It is preferable to use what does not decompose | dissolve or melt | dissolve at the soldering tank temperature (about 260 degreeC) for organic fiber here, It is preferable to use any of aramid, wholly aromatic polyester, and PBO (polyparaphenylene benzobisoxazole). desirable.

이때, 도 3 내지 도 5에 도시한 공정에서는, 다음과 같은 점에 고려해서, 부직포 혹은 직포(5)에 수지 함침을 시키고, 부직포 혹은 직포(5)의 수지 피복을 행하는 것이 바람직하다. 열경화성수지 용액의 도막은 유기용제를 다량으로 함유하고 있다. 따라서, 그 용제를 완전히 제거하지 않고, 그 표면에 골격재(5)를 재치해서 이하의 공정을 행하게 하면, 최종적으로 반경화상태로 건조할 때에, 골격재(5)의 부직포 혹은 직포의 섬유에 트랩되는 형태로 거품이 발생하기 쉽게 된다. 그래서, 도 3의 (5)의 공정을 마련한 것과 같이, 골격재(5)를 도막 표면에 재치하기 전에, 거품 발생을 방지하기 위해 일정량의 용제 제거를 행하는 것이 바람직하다. 용제의 제거는 단순히 통풍 건조시키거나, 경화온도 이하의 온도영역으로 가열해서 행해도 된다.At this time, in the process shown in FIG. 3 to FIG. 5, in consideration of the following points, it is preferable to impregnate the nonwoven fabric or the woven fabric 5 and to coat the resin of the nonwoven fabric or the woven fabric 5. The coating film of the thermosetting resin solution contains a large amount of an organic solvent. Therefore, if the skeleton 5 is placed on its surface without completely removing the solvent and the following steps are carried out, the fibers of the nonwoven fabric or woven fabric of the skeleton 5 are finally dried when semi-cured. Bubbles tend to form in trapped form. Therefore, as provided with the process of FIG. 3 (5), it is preferable to remove a fixed amount of solvent in order to prevent foaming before placing the skeleton 5 on the coating film surface. The removal of the solvent may be carried out simply by drying by ventilation or by heating to a temperature range below the curing temperature.

골격재(5)를 재치하기 전에, 도막의 수지성분을 반경화상태로 만들고, 이 반경화상태로 된 도막에 골격재를 재치하는 경우에는, 도막과 골격재와의 사이에 틈이 생기지 않도록, 도 4의 (6)에 도시한 바와 같이 골격재를 도막에 가(假)압착시키는 것이 바람직하다. 그리고, 도 5의 (7)에 도시한 바와 같이 해서 반경화된 도막 수지를 재유동화시키기 위해 경화온도 이하의 가열을 행해서, 그 골격재(5)를 구성하는 유리섬유 또는 아라미드 섬유의 모세관 현상을 이용해서 침투시킨다.Before placing the skeleton material 5, the resin component of the coating film is made into a semi-cured state, and when the skeleton material is placed in the semi-cured coating film, there is no gap between the coating film and the skeleton material. As shown in Fig. 4 (6), it is preferable to press-fit the skeleton to the coating film. Then, in order to reflow the semi-cured coating film resin as shown in FIG. 5 (7), heating is performed at a temperature lower than the curing temperature, and the capillary phenomenon of the glass fibers or aramid fibers constituting the skeleton 5 is applied. Infiltrate by using.

여기서 골격재(5)에는, 유리섬유, 아라미드섬유를 이용한 부직포 혹은 직포를 이용하는 것이 바람직하다. 어느 것도 프린트 배선판 용도에 있어서는, 오랫동안 사용실적이 있는 것이며, 신뢰성이 높은 재료이기 때문이다. 그러나, 부직포 혹은 직포의 재질은 특히 한정되는 것은 아니고, 프린트 배선판 용도에 이용 가능한 것으로, 충분한 기계적 특성을 구비하고 있는 것이면 된다. 여기서 이용하는 부직포 및 직포를 구성하는 섬유는 그 표면의 수지와의 젖음성을 향상시키기 위해, 실란커플링제 처리를 실시하는 것이 바람직하다. 이때의 실란커플링제는 사용목적에 따라 아미노계, 에폭시계 등의 실란커플링제를 이용하면 된다.It is preferable to use the nonwoven fabric or woven fabric which used glass fiber and aramid fiber for the skeletal material 5 here. In either case, the printed wiring board is used for a long time and is a highly reliable material. However, the material of a nonwoven fabric or a woven fabric is not specifically limited, What is necessary is just to be usable for a printed wiring board use, and just to have sufficient mechanical characteristics. In order to improve the wettability with resin of the surface, the fiber which comprises the nonwoven fabric and woven fabric used here is preferably subjected to a silane coupling agent treatment. The silane coupling agent at this time may use silane coupling agents, such as an amino type and an epoxy type, according to the purpose of use.

그리고, 그 골격재(5)의 두께에도 특히 한정은 존재하지 않지만, 본건발명과 같은 절연층 부착 동박의 제조방법을 채용한다면, 종래 사용하는 것이 불가능했던 두께 50㎛ 이하의 얇은 부직포 혹은 직포를 사용하는 것이 가능하게 된다. 종래에는, 골격재를 수지 니스에 침지해서 함침시키고, 건조탑 내로 들어 올려 반경화상태로 건조시켜, 프리프레그로 만드는 방법을 채용하고 있으며, 두께 50㎛ 이하의 얇은 부직포 혹은 두께 20㎛이하의 직포는, 그 기계적 강도가 약하기 때문에, 바로 파단, 파손되는 불량이 발생하고 있었다. 그런데, 본건발명에 따른 절연층 부착 동박의 제조방법을 채용한다면, 두께 50㎛ 이하의 얇은 부직포 혹은 두께 20㎛ 이하의 직포를 이용하더라도 파단, 파손되는 일이 없게 된다. 이와 같이 얇은 골격재를 이용할 수 있기 때문에, 본건발명에 따른 제조방법에서 얻어지는 프린트 배선판은 매우 양호한 레이져 천공 가공 성능을 나타냄과 동시에, 프린트 배선판에서 요구되는 필요 최소한의 강도를 확보할 수 있고, 시장에서의 파인피치 회로 형성의 요구도 부응할 수 있게 된다.In addition, although there is no restriction | limiting in particular also in the thickness of this frame | skeleton 5, If the manufacturing method of the copper foil with an insulating layer like this invention is employ | adopted, the thin nonwoven fabric or woven fabric of 50 micrometers or less of thickness which was impossible to use conventionally is used. It becomes possible. Conventionally, a skeletal material is immersed in a resin varnish to be impregnated, lifted into a drying tower, dried in a semi-cured state, and a prepreg is adopted. A thin nonwoven fabric having a thickness of 50 µm or less or a woven fabric having a thickness of 20 µm or less is employed. Since the mechanical strength was weak, the defect which broke and broke immediately generate | occur | produced. By the way, if the manufacturing method of the copper foil with an insulating layer which concerns on this invention is employ | adopted, even if it uses the thin nonwoven fabric of 50 micrometers or less in thickness, or the woven fabric of 20 micrometers or less in thickness, it will not be broken or damaged. Since such a thin skeleton material can be used, the printed wiring board obtained by the manufacturing method according to the present invention exhibits very good laser drilling processing performance, and can secure the minimum strength required for the printed wiring board. It is also possible to meet the requirements of forming a fine pitch circuit.

이상과 같이 해서 본건발명에 따른 제조방법에서 사용하는 절연층 부착 동박을 얻는다. 그리고, 도 6의 (9)에 도시한 바와 같이, 이 절연층 부착 동박(2)의 동박층(3)의 표면에 에칭레지스트층(R)을 마련하고, 도 6의 (10)에 도시한 바와 같은 회로패턴을 노광하고, 현상한다. 그리고, 도 7의 (11)에 도시한 바와 같이 동박층 측의 표면으로부터 동 에칭하고, 도 7의 (12)에 도시한 바와 같이 에칭레지스트를 박리해서 회로패턴을 형성한다. 이것이 절연층 부착 회로시트(7)이다. 이 회로 에칭시에는 동박층 측으로부터 에칭액을 가하면, 경화수지층(4)이 배리어가 되어, 반경화수지층(6)에 손상을 입히지 않게 된다. 그러나, 반경화수지층(6)측으로 에칭 액, 레지스트 박리제 등이 돌아 들어가게 되는 경우에는, 반경화수지층(6)의 표면에 대해 PET 필름, 폴리에틸렌 필름 등의 방호 필름을 이용하는 것이 바람직하다.Thus, the copper foil with an insulating layer used by the manufacturing method which concerns on this invention is obtained. And as shown in FIG.6 (9), the etching resist layer R is provided in the surface of the copper foil layer 3 of this copper foil with insulation layer 2, and it shows in FIG. The circuit pattern as described above is exposed and developed. Then, as shown in Fig. 7 (11), the copper is etched from the surface of the copper foil layer side, and as shown in Fig. 7 (12), the etching resist is peeled off to form a circuit pattern. This is the circuit sheet 7 with an insulating layer. In this circuit etching, when an etching solution is added from the copper foil layer side, the cured resin layer 4 becomes a barrier and the semi-cured resin layer 6 is not damaged. However, when etching liquid, a resist releasing agent, etc. return to the semi-cured resin layer 6 side, it is preferable to use protective films, such as PET film and a polyethylene film, on the surface of the semi-hardened resin layer 6.

공정 B): 그리고, 이상과 같이 해서 얻어진 절연층 부착 회로시트(7)의 반경화수지층(6)을, 도 8의 (13)에 도시한 바와 같이, 붙일 기재(도면 중에서는 내층회로(C2)를 구비하는 내층 코어재(24)를 채용하고 있다.)와 접촉시키고 겹쳐서, 열간프레스 성형한다. 열간프레스 성형시에는, 170 ~ 180℃ 정도의 가열이 행해지고 가압되게 된다. 이 가압에 의해, 회로가 그 아래에 있는 경화수지층에 크랙을 발생시키면서, 반경화수지층 측으로 눌려 들어가게 된다. 본건발명에서는, 이 현상을 충파(衝破)라고 하고 있다. 충파시에는, 경화수지층(4)에 크랙을 발생하고, 그 크랙으로부터 재유동을 시작하고 있는 반경화수지층(6)의 열경화성수지가 회로의 측벽면을 통해 배어 나옴으로써, 회로를 완전히 절연수지층 내에 매설하고, 경화수지층(4)과 반경화수지층(6)이 일체화된 절연층이 형성된다. 이상과 같이, 열간프레스 공정이 완료되면, 도 8의 (14)에 도시한 본건발명에 따른 절연수지층에 매설 배치된 회로(C1)를 구비하는 프린트 배선판(1a)이 얻어진다.Process B): The base material to which the semi-hardened resin layer 6 of the circuit sheet 7 with an insulating layer obtained as mentioned above is shown to FIG. 8 (13) (Inner layer circuit C in a figure). 2 ) an inner layer core material 24 having a core) is used. At the time of hot press molding, about 170-180 degreeC heating is performed and it pressurizes. By this pressurization, the circuit is pressed into the semi-cured resin layer side while generating a crack in the cured resin layer below it. In the present invention, this phenomenon is called impingement. At the time of filling, a crack is generated in the cured resin layer 4, and the thermosetting resin of the semi-cured resin layer 6, which is starting to reflow from the crack, is ejected through the side wall of the circuit, thereby completely insulating the circuit. It is embedded in the ground layer, and an insulating layer in which the cured resin layer 4 and the semi-cured resin layer 6 are integrated is formed. As described above, when the hot pressing step is completed, the printed wiring board 1a having the circuit C 1 embedded in the insulating resin layer according to the present invention shown in Fig. 8 (14) is obtained.

<커패시터용 프린트 배선판의 제조방법><Method of manufacturing printed wiring board for capacitor>

이하의 공정은 상술한 프린트 배선판의 제조방법과 공통되는 부분이 있으므로, 공통 부분에 관해서는 중복된 설명을 피하기 위해 기재를 생략하고, 도 9 내지 도 11을 참조하면서, 커패시터용 프린트 배선판(1b)의 제조방법에 있어서 특징적인 부분만을 공정순으로 설명하기로 한다.Since the following steps have a part in common with the manufacturing method of the above-described printed wiring board, the description of the common parts is omitted in order to avoid overlapping description, and referring to FIGS. 9 to 11, the capacitor printed wiring board 1b. Only the characteristic parts in the manufacturing method of the process will be described in order.

공정 A): 이 공정에서는, 동박(3)의 일면에, 그 동박의 접착면이 가진 표면조도(Rz)의 값보다도 0.5㎛ ~ 10㎛ 두꺼운 것으로 된 경화수지층을 구비하고, 그 경화수지층 위에 골격재를 포함하는 반경화수지층을 구비한 절연층 부착 동박을 이용해서, 그 동박면에 에칭레지스트층을 형성하고, 커패시터 회로패턴을 노광하고, 현상하며, 동박면을 에칭해서 일면측의 전극이 되는 커패시터 회로를 형성하고, 레지스트층을 박리함으로써, 절연층 부착 커패시터 회로시트를 형성한다. 따라서, 상술한 공정 A)와 다른 것은, 형성할 회로가 커패시터용 회로의 상부전극 혹은 하부전극이 되는 일측의 전극형상을 포함하는 회로라는 점이 다른 것뿐이기 때문에, 이 공정의 상세한 설명은 생략한다.Step A): In this step, one surface of the copper foil 3 is provided with a cured resin layer that is 0.5 µm to 10 µm thicker than the value of the surface roughness Rz of the adhesive surface of the copper foil, and the cured resin layer Using a copper foil with an insulating layer having a semi-cured resin layer containing a skeleton material thereon, an etching resist layer is formed on the copper foil surface, the capacitor circuit pattern is exposed, developed, and the copper foil surface is etched to form an electrode on one side. The capacitor circuit to be used is formed, and the resist layer is peeled off to form a capacitor circuit sheet with an insulating layer. Therefore, since the circuit to be formed differs only from the fact that the circuit to be formed is a circuit including an electrode shape on one side which becomes the upper electrode or the lower electrode of the capacitor circuit, a detailed description of this process is omitted. .

공정 B): 이 공정에서는, 상기 절연층 부착 커패시터 회로시트의 반경화수지층을 붙일 기재면에 접촉시키고 중첩시켜 열간프레스 성형함으로써, 회로부의 동박이 상기 경화수지층을 충파하고, 상기 반경화수지층에 매설되어, 절연수지층에 매설 배치된 커패시터 회로를 구비하는 프린트 배선판으로 만드는 것이다. 따라서, 열간성형 프레스로 커패시터용 회로의 상부전극 혹은 하부전극이 되는 일측의 전극 형상을 포함하는 회로가 매설된 프린트 배선판을 얻으며, 상술한 공정 B)의 열간성형 프레스 공정과 다른 점은 없고, 당업자라면 용이하게 이해 가능하므로, 이 공정의 상세한 설명은 생략한다.Step B): In this step, the hot foil is formed by contacting and superimposing the semi-cured resin layer of the capacitor circuit sheet with the insulating layer to be bonded to it, so that the copper foil of the circuit part impregnates the cured resin layer to the semi-cured resin layer. It is made of the printed wiring board provided with the capacitor circuit embedded in the insulation resin layer. Accordingly, a printed wiring board in which a circuit including an electrode shape on one side, which becomes an upper electrode or a lower electrode of a circuit for a capacitor, is embedded in a hot forming press, and there is no difference from the hot forming press process of step B) described above. If it is easily understood, detailed description of this process is omitted.

공정 C): 이 공정에서는 도 9의 (1)에 도시한 바와 같이 상기 커패시터 패턴회로를 구비하는 프린트 배선판(1a)의 매설된 회로(C1)면에, 유전층 부착 동박(10) 의 유전층(11)면을 접촉시키고 중첩한다. 그리고, 열간프레스 성형함으로써, 도 9의 (2)에 도시한 바와 같이 외층에 동박층이 위치하는 동박적층판(12)을 만든다. 이 유전층 부착 동박(10)은 동박의 일면에 커패시터 회로를 형성했을 때의 유전층(11)을 구성하는 수지층 혹은 유전체 필러를 함유한 수지층을 구비한 것이다. 따라서, 그 단면에서 본 층구성은, 도 9의 (1)로부터 알 수 있듯이, 매우 단순한 구성을 가진 것이다. 도 9 내지 도 11에서는, 유전층에 유전체 필러를 포함한 상태가 보일 정도까지의 기재는 하고 있지 않다. 이때의 유전층을 구성하는 수지 및 유전체 필러의 종류, 유전층의 두께에 의해 커패시터로서의 성능이 좌우되게 된다.Step C): In this step, as shown in FIG. 9 (1), the dielectric layer of the copper foil with dielectric layer 10 on the surface of the embedded circuit C 1 of the printed wiring board 1a having the capacitor pattern circuit ( 11) Touch and overlap the faces. And by hot press molding, the copper foil laminated board 12 in which the copper foil layer is located in an outer layer as shown to Fig.9 (2) is made. The copper foil with a dielectric layer 10 is provided with the resin layer which comprises the dielectric layer 11 or the dielectric filler when the capacitor circuit is formed in one surface of copper foil. Therefore, the layer structure seen from the cross section has a very simple structure, as can be seen from (1) of FIG. 9 to 11, the description is not made until the dielectric layer is shown in the dielectric layer. The performance as a capacitor depends on the type of resin and dielectric filler constituting the dielectric layer and the thickness of the dielectric layer at this time.

본건발명의 경우, 공정 B)에서 제조된 커패시터 회로를 구비하는 프린트 배선판의 표면이 편평하고 회로(C1)부가 돌출 되어 있지 않기 때문에, 회로간 갭으로 수지성분이 퍼지는 것을 고려할 필요가 없고, 비록 레진 플로우가 작은 수지를 유전층에 이용하더라도 보이드 등의 공극이 발생하지 않고, 양호한 밀착성을 얻을 수 있게 된다. 또한, 이 프린트 배선판의 표면이 편평하기 때문에, 유전층의 두께 정밀도의 확보가 용이하고, 유전층의 박층화가 용이하며, 전기용량이 큰 커패시터 회로의 형성이 가능하게 된다.In the present invention, since the surface of the printed wiring board including the capacitor circuit manufactured in step B) is flat and the circuit C 1 part is not protruding, it is not necessary to consider the spread of the resin component in the gap between circuits. Even if a resin having a small resin flow is used for the dielectric layer, voids such as voids do not occur and good adhesion can be obtained. In addition, since the surface of this printed wiring board is flat, it is easy to secure the thickness precision of the dielectric layer, the thickness of the dielectric layer is easy, and the capacitor circuit with large capacitance can be formed.

여기서, 유전층 부착 동박(10)의 유전층(11)을 구성하는 수지조성물에 관해서 설명한다. 본래, 이 수지조성에 관해서는 특히 한정되는 것은 아니며, 커패시터 회로에 요구되는 전기용량 등의 설계품질을 고려해서, 적절히 선택적으로 사용재료를 선정하면 된다. 그러나, 붙일 프린트 배선판의 표면이 편평하고 요철이 없는 것 이기 때문에, 가능한 한 계면박리(디라미네이션)를 방지하는 관점으로부터, 밀착성이 우수한 수지조성을 채용하는 것이 바람직하다. 특히 바람직한 것이, 이하에 설명하는 것과 같은 수지조성이다.Here, the resin composition which comprises the dielectric layer 11 of the copper foil 10 with a dielectric layer is demonstrated. In principle, the resin composition is not particularly limited, and the material used may be appropriately selected appropriately in consideration of design quality such as capacitance required for a capacitor circuit. However, since the surface of the printed wiring board to be pasted is flat and free of unevenness, it is preferable to adopt a resin composition excellent in adhesion from the viewpoint of preventing interfacial peeling as much as possible. Especially preferable is resin composition as demonstrated below.

유전층을 구성하는데 바람직한 수지조성물을 단적으로 표시하면, 에폭시수지, 경화제, 용제에 가용되는 방향족 폴리아미드수지 폴리머, 및 필요에 따라 적정량 첨가하는 경화촉진제로 이루어진다.Preferred resin compositions for constituting the dielectric layer are simply composed of an epoxy resin, a curing agent, an aromatic polyamide resin polymer soluble in a solvent, and a curing accelerator added in an appropriate amount as necessary.

여기서 말하는 "에폭시 수지"란, 분자 내에 2개 이상의 에폭시기를 가지는 것으로서, 전기·전자재료 용도에 이용할 수 있는 것이라면, 특별한 문제 없이 사용가능하다. 이 중에서도, 비스페놀 A형 에폭시수지, 비스페놀 F형 에폭시수지, 비스페놀 S형 에폭시수지, 노보락형 에폭시수지, 크레졸 노보락형 에폭시수지, 지환식(脂環式) 에폭시수지, 브롬화 에폭시수지, 글리시딜아민형 에폭시수지의 군으로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상을 혼합해서 이용하는 것이 바람직하다."Epoxy resin" as used herein has two or more epoxy groups in a molecule and can be used without particular problem as long as it can be used for electric and electronic material applications. Among these, bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, bisphenol S type epoxy resin, novolak type epoxy resin, cresol novolak type epoxy resin, alicyclic epoxy resin, brominated epoxy resin, and glycidylamine It is preferable to use 1 type (s) or 2 or more types selected from the group of a type | mold epoxy resin, and to mix and use.

이 에폭시수지는 수지조성물의 주체를 이루는 것이며, 20중량부 ~ 80중량부의 배합비율로 이용된다. 다만, 여기에는 이하에 서술하는 경화제를 포함하는 것으로 간주된다. 따라서, 경화제를 포함하는 상태에서의 이 에폭시수지가 20중량부 미만인 경우에는, 열경화성을 충분히 발휘하지 않고 기재 수지와의 바인더로서의 기능 및 동박과의 밀착성을 충분히 발휘할 수 없고, 80중량부를 초과하면 수지용액으로 만들었을 때의 점도가 너무 높아져서 동박 표면으로 균일한 두께로의 도포가 곤란하게 됨과 동시에, 후술할 방향족 폴리아미드수지 폴리머의 첨가량과의 균형이 깨지고, 경화 후 충분한 인성(靭性)을 얻을 수 없게 된다.This epoxy resin is the main component of the resin composition, and is used in a blending ratio of 20 parts by weight to 80 parts by weight. However, it is considered to contain the hardening | curing agent described below here. Therefore, when this epoxy resin in the state containing a hardening | curing agent is less than 20 weight part, it does not fully exhibit thermosetting property, cannot fully exhibit the function as a binder with base resin, and adhesiveness with copper foil, and when it exceeds 80 weight part The viscosity of the solution becomes so high that application of a uniform thickness to the surface of the copper foil becomes difficult, and the balance with the amount of the aromatic polyamide resin polymer to be described later is broken, and sufficient toughness can be obtained after curing. There will be no.

그리고, 에폭시 수지의 "경화제"란 디시안디아미드, 이미다졸류, 방향족 아민 등의 아민류, 비스페놀 A, 브롬화 비스페놀 A 등의 페놀류, 페놀 노보락수지 및 크레졸 노보락수지 등의 노보락류, 무수프탈산 등의 산무수물 등이다. 에폭시수지에 대한 경화제의 첨가량은 각각의 당량으로부터 자연히 도출된 것이기 때문에, 본래 엄밀히 그 배합비율을 명기할 필요성은 없다고 생각된다. 따라서, 본건발명에서는, 경화제의 첨가량을 특히 한정하지 않는다.The "curing agent" of the epoxy resin is amines such as dicyandiamide, imidazoles, aromatic amines, phenols such as bisphenol A and brominated bisphenol A, novolacs such as phenol novolak resins and cresol novolak resins, phthalic anhydride, and the like. Acid anhydride. Since the amount of the curing agent added to the epoxy resin is naturally derived from the respective equivalents, it is considered that there is no necessity of explicitly specifying the blending ratio. Therefore, in this invention, the addition amount of a hardening | curing agent is not specifically limited.

다음으로, "방향족 폴리아미드수지 폴리머"란, 방향족 폴리아미드수지와 고무성수지를 반응시켜서 얻은 것이다. 여기서, 방향족 폴리아미드수지란, 방향족 디아민과 디카르본산과의 축중합에 의해 합성되는 것이다. 이때의 방향족 디아민에는 4,4'-디아미노디페닐메탄, 3,3'-디아미노디페닐술폰, m-크실렌디아민, 3,3'-옥시디아닐린 등을 이용한다. 그리고, 디카르본산에는 프탈산, 이소프탈산, 테레프탈산, 푸마르산 등을 이용한다.Next, the "aromatic polyamide resin polymer" is obtained by reacting an aromatic polyamide resin with a rubbery resin. Here, an aromatic polyamide resin is synthesize | combined by polycondensation of aromatic diamine and dicarboxylic acid. 4,4'- diamino diphenylmethane, 3,3'- diamino diphenyl sulfone, m-xylenediamine, 3,3'- oxydianiline etc. are used for aromatic diamine at this time. Phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, fumaric acid and the like are used for the dicarboxylic acid.

그리고, 이 방향족 폴리아미드수지와 반응시키는 고무성수지란, 천연고무 및 합성고무를 포함하는 개념으로서 기재하고 있으며, 후자의 합성고무에는 스틸렌-부타디엔고무, 부타디엔고무, 부틸고무, 에틸렌-프로필렌고무 등이 있다. 또한, 형성할 유전체층의 내열성을 확보할 때에는, 니트릴고무, 클로로프렌고무, 실리콘고무, 우레탄고무 등의 내열성을 구비한 합성고무를 선택 사용하는 것도 유용하다. 이들 고무성 수지에 관해서는 방향족 폴리아미드수지와 반응해서 공중합체를 제조하도록 하기 위해, 양 말단에 다양한 관능기를 구비하는 것이 바람직하다. 특히, CTBN(카르복시기 말단 브타디엔니트릴)을 이용하는 것이 유용하다.The rubbery resin reacted with the aromatic polyamide resin is described as a concept including natural rubber and synthetic rubber. The latter synthetic rubbers include styrene-butadiene rubber, butadiene rubber, butyl rubber, ethylene-propylene rubber, and the like. have. In addition, when securing the heat resistance of the dielectric layer to be formed, it is also useful to select and use synthetic rubber having heat resistance such as nitrile rubber, chloroprene rubber, silicone rubber, urethane rubber and the like. Regarding these rubbery resins, in order to produce a copolymer by reacting with an aromatic polyamide resin, it is preferable to provide various functional groups at both ends. In particular, it is useful to use CTBN (carboxyl terminal butadienenitrile).

방향족 폴리아미드수지 폴리머를 구성하게 되는 방향족 폴리아미드수지와 고무성수지는 방향족 폴리아미드수지가 25중량부 ~ 75중량부, 나머지가 고무성수지로 된 배합으로 이용하는 것이 바람직하다. 방향족 폴리아미드수지가 25중량부 미만인 경우에는, 고무성분의 존재비율이 너무 커져서 내열성이 떨어지게 되며, 한편 75중량부를 초과하면 방향족 폴리아미드수지의 존재비율이 너무 커져서 경화후의 경도가 너무 높아져 취약하게 된다. 이 방향족 폴리아미드수지 폴리머는 동박적층판으로 가공한 후의 동박을 에칭가공할 때에, 에칭액에 의해 언더 에칭 등의 손상을 받지 않을 목적으로 이용한 것이다.It is preferable to use the aromatic polyamide resin and the rubbery resin which comprise the aromatic polyamide resin polymer in a mixture of 25 parts by weight to 75 parts by weight of the aromatic polyamide resin, and the rest of the rubbery resin. When the aromatic polyamide resin is less than 25 parts by weight, the abundance ratio of the rubber component becomes too large to reduce heat resistance. On the other hand, when the aromatic polyamide resin is more than 75 parts by weight, the abundance ratio of the aromatic polyamide resin becomes so large that the hardness after curing becomes too high and becomes vulnerable. . This aromatic polyamide resin polymer is used for the purpose of not damaging under etching etc. by etching liquid, when etching the copper foil after processing into the copper clad laminated board.

이 방향족 폴리아미드수지 폴리머에는, 우선 용제에 가용이라는 성질이 요구된다. 이 방향족 폴리아미드수지 폴리머는 20중량부 ~ 80중량부의 배합비율로 이용된다. 방향족 폴리아미드수지 폴리머가 20중량부 미만의 경우에는, 동박적층판의 제조를 행하는 일반적인 프레스 조건에서 너무 경화하여 취약하게 되고, 기판 표면에 마이크로 크랙이 발생하기 쉬워진다. 한편, 80중량부를 초과해서 방향족 폴리아미드수지 폴리머를 첨가하더라도 특별한 지장은 없지만, 80중량부를 초과해서 방향족 폴리아미드수지 폴리머를 첨가하더라도 그 이상으로 경화후의 강도는 향상되지 않는다. 따라서, 경제성을 고려하면, 80중량부가 상한값이라고 말할 수 있다.In this aromatic polyamide resin polymer, the property of soluble in a solvent is calculated | required first. This aromatic polyamide resin polymer is used in the compounding ratio of 20 weight part-80 weight part. When aromatic polyamide resin polymer is less than 20 weight part, it hardens | cures too much in general press conditions which manufacture copper clad laminated board, and becomes easy to produce microcracks on the board | substrate surface. On the other hand, even if the aromatic polyamide resin polymer is added in excess of 80 parts by weight, there is no particular problem. However, the strength after curing is not improved even if the aromatic polyamide resin polymer is added in excess of 80 parts by weight. Therefore, considering economical efficiency, it can be said that 80 weight part is an upper limit.

"필요에 따라 적정량 첨가하는 경화촉진제"란, 3급 아민, 이미다졸, 요소계 경화촉진제 등이다. 본 발명에서는, 이 경화촉진제의 배합비율은 특히 한정하지 않는다. 왜냐하면, 경화촉진제는 동박적층판 제조 공정에서의 생산조건성 등을 고려해서, 제조자가 임의로 선택적으로 첨가량을 정하면 되는 것이기 때문이다.The "hardening accelerator added with an appropriate amount as needed" is a tertiary amine, imidazole, urea-type hardening accelerator, etc. In this invention, the compounding ratio of this hardening accelerator is not specifically limited. This is because the curing accelerator may be selected arbitrarily by the manufacturer in consideration of the production conditions in the copper foil laminated sheet manufacturing process and the like.

다음으로, 유전층(11)을 구성하는데 이용하는 유전체 필러에 관해서 설명한다. 이 유전체 필러는 상술한 유전층을 구성하기 위해 이용하는 수지성분 중에 혼합하여 유전층 내에 분산해서 존재시키는 것이며, 최종적으로 커패시터 형상으로 가공했을 때의 커패시터 전기용량을 증대시키기 위해 이용한다. 이 유전체 필러에는 BaTiO3, SrTiO3, Pb(Zr-Ti)O3(통칭 PZT), PbLaTiO3·PbLaZrO(통칭 PLZT), SrBi2Ta2O9(통상 SBT) 등의 페로브스카이트(perovskite) 구조를 가진 복합산화물의 유전체 분말을 이용하는 것이 바람직하다.Next, the dielectric filler used for forming the dielectric layer 11 will be described. The dielectric filler is mixed in the resin component used to form the dielectric layer described above, dispersed in the dielectric layer, and used to increase the capacitor capacitance when finally processed into a capacitor shape. A dielectric filler is BaTiO 3, SrTiO 3, Pb ( Zr-Ti) O 3 ( known as PZT), PbLaTiO 3 · PbLaZrO (collectively PLZT), SrBi 2 Ta 2 O 9 ( usually SBT), etc. of the perovskite (perovskite It is preferable to use a dielectric powder of a composite oxide having a structure.

그리고, 이 유전체 필러의 분체(粉體)특성은 우선 입경이 0.1 ~ 1.0㎛의 범위인 것이 바람직하다. 여기서 말하는 입경은 분립들이 어느 일정한 2차 응집상태를 형성하고 있기 때문에, 레이져 회절산란식 입도분포 측정법이나 BET법 등의 측정값으로부터 평균 입경을 추측하는 것과 같은 간접측정에서는 정밀도가 떨어지게 되므로 이용하는 것이 불가능하고, 유전체 필러를 주사형 전자현미경(SEM)으로 직접 관찰하고, 이 SEM상을 화상해석할 수 있는 평균입경을 말하는 것이다. 본건명세서에서는 이때의 입경을 DIA로 표시하고 있다. 본건명세서에 있어서의 주사형 전자현미경(SEM)을 이용해서 관찰되는 유전체 필러 분체의 화상해석은 아사히 엔지니어링 주식회사 제작의 IP-1000PC를 이용해서, 원도(圓度)문턱값 10, 중첩도(overlapped extend value) 20으로 하여 원형 입자 해석을 행하여, 평균입경 DIA를 구한 것이다.The powder characteristics of the dielectric filler are preferably in the range of 0.1 to 1.0 mu m in particle size. The particle size here is impossible to use because the granules form a certain secondary agglomerated state, so the precision is inferior in indirect measurement such as guessing the average particle diameter from measured values such as laser diffraction scattering particle size distribution method or BET method. In this case, the dielectric filler is directly observed with a scanning electron microscope (SEM), and the mean particle size of the SEM image can be analyzed. In this specification, the particle size at this time is denoted by D IA . Image analysis of the dielectric filler powder observed using a scanning electron microscope (SEM) in the present specification was carried out using an Asahi Engineering Co., Ltd. IP-1000PC, with a roundness threshold of 10 and an overlapped degree. extend value) 20, the circular particle analysis was performed, and the average particle diameter D IA was calculated | required.

또한, 레이져 회절산란식 입도분포 측정법에 의한 중량누적입경 D50이 0.2 ~ 2.0㎛ 이고, 또한 중량누적입경 D50과 화상해석에 의해 얻어지는 평균입경 DIA를 이용해서 D50/DIA로 나타내어지는 응집도 값이 4.5 이하인 대략 구형의 형상을 한 페로브스카이트 구조를 가진 유전체 분립일 것이 요구된다.Moreover, the weight cumulative particle diameter D 50 by the laser diffraction scattering particle size distribution method is 0.2-2.0 micrometers, and is represented by D 50 / D IA using the weight cumulative particle diameter D 50 and the average particle diameter D IA obtained by image analysis. It is required that the dielectric granules have a substantially spherical perovskite structure having a cohesion value of 4.5 or less.

레이져 회절산란식 입도분포 측정법에 의한 중량누적입경 D50이란, 레이져 회절산란식 입도분포 측정법을 이용해서 얻어지는 중량누적 50%에 있어서의 입경이라는 것이며, 이 중량누적입경 D50의 값이 작을 수록 유전체 필러 분립의 입경분포 중에 미세한 분립이 차지하는 비율이 많게 된다. 본건발명에서는, 이 값이 0.2㎛ ~ 2.0㎛일 것이 요구된다. 즉, 중량누적입경 D50의 값이 0.2㎛ 미만인 경우에는, 어느 제조방법을 채용한 유전체 필러 분립이던지 응집의 진행이 현저하여 이하에 서술하는 응집도를 만족하는 것이 될 수 없다. 한편, 중량누적입경 D50의 값이 2.0㎛를 초과하는 경우에는, 본건발명이 목적으로 하는 바인 프린트 배선판의 내장 커패시터층 형성용 유전체 필러로서의 사용이 불가능하게 된다. 즉, 커패시터층을 형성하는데 이용하는 양면 동박적층판의 유전체층은 통상 10㎛ ~ 50㎛ 두께의 것이며, 여기에 유전체 필러를 균일하게 분산시키기 위해서는 2.0㎛가 상한이 된다.Laser diffraction scattering type particle size by weight cumulative particle diameter of the distribution measuring method D 50 is, would that particle size of the weight accumulation of 50% is obtained by using a laser diffraction scattering type particle size distribution measuring method, the smaller the value of the weight-cumulative particle diameter D 50 Dielectric In the particle size distribution of the filler powder, the proportion of the fine powder is large. In this invention, this value is required to be 0.2 micrometer-2.0 micrometers. In other words, when the value of the weight cumulative particle diameter D5 0 is less than 0.2 µm, the progress of aggregation is remarkable, regardless of the dielectric filler granules employing any manufacturing method, so that the degree of aggregation described below cannot be satisfied. On the other hand, when the value of the weight cumulative particle diameter D 50 exceeds 2.0 µm, the use of the printed wiring board, which is the object of the present invention, as a dielectric filler for forming an embedded capacitor layer becomes impossible. That is, the dielectric layer of the double-side copper-clad laminate used to form the capacitor layer is usually 10 µm to 50 µm thick, and 2.0 µm is the upper limit in order to uniformly disperse the dielectric filler.

여기서, 본건발명에 있어서의 중량누적입경 D50의 측정은 유전체 필러 분립을 메틸에틸케톤에 혼합 분산시키고, 이 용액을 레이져 회절산란식 입도분포 측정장치 Micro Trac HRA 9320-X100 타입(니키소(日機裝)주식회사 제조)의 순환기에 투 입해서 측정했다.Here, in the present invention, the measurement of the weight cumulative particle diameter D 50 is performed by mixing and dispersing the dielectric filler powder in methyl ethyl ketone, and dispersing the solution in a laser diffraction scattering type particle size distribution analyzer Micro Trac HRA 9320-X100 type (Nikiso It measured by putting into the circulator of Co., Ltd. product.

여기서 응집도라는 개념을 이용하고 있는데, 이하와 같은 이유로부터 채용한 것이다. 즉, 레이져 회절산란식 입도분포 측정법을 이용해서 얻어지는 중량누적입경 D50의 값은 실제로 분립 하나 하나의 직경을 직접 관찰한 것은 아니라고 생각된다. 대부분의 유전체 분립을 구성하는 분립은 개개의 입자가 완전히 분리된, 소위 단분산 분립이 아니라, 복수개의 분립이 응집해서 집합된 상태로 되어 있는 것이기 때문이다. 레이져 회절산란식 입도분포 측정법은 응집된 분립을 1개의 입자(응집입자)로 인식해서, 중량누적입경을 산출하고 있다고 말할 수 있기 때문이다.Although the concept of agglomeration degree is used here, it adopts for the following reasons. That is, it is thought that the value of the weight cumulative particle diameter D 50 obtained using the laser diffraction scattering particle size distribution measurement method did not actually directly observe the diameter of each powder. This is because the pulverization constituting most of the dielectric pulverization is not a so-called monodisperse pulverization in which individual particles are completely separated, but rather a plurality of pulverization aggregated together. This is because the laser diffraction scattering particle size distribution method recognizes the aggregated granules as one particle (aggregated particle) and calculates the weight cumulative particle size.

이에 대해, 주사형 전자현미경(SEM)을 이용해서 관찰되는 유전체 분립의 관찰상을 화상처리함으로써 얻어지는 평균입경 DIA는 SEM 관찰상으로부터 직접 얻는 것이기 때문에, 1차 입자가 확실히 인식되는 반면에, 분립의 응집상태 존재를 전혀 반영시키고 있지 않게 된다. On the other hand, since the average particle diameter D IA obtained by image-processing the observation image of the dielectric granules observed using the scanning electron microscope (SEM) is obtained directly from the SEM observation image, the primary particles are certainly recognized, It does not reflect the presence of the aggregated state of.

상기와 같이 고려하여, 본건발명자들은 레이져 회절산란식 입도분포 측정법의 중량누적입경 D50과 화상해석에 의해 얻어지는 평균입경 DIA를 이용해서 D 50/DIA로 산출되는 값을 응집도로서 받아들이기로 했다. 즉, 동일 로트의 유전체 분립에 있어서 D50과 DIA의 값이 동일한 정밀도로 측정할 수 있는 것으로 가정해서, 상술한 이론으로 생각하면, 응집상태에 있는 것을 측정값에 반영시키는 D50의 값은 DIA 값보다도 큰 값이 된다고 생각할 수 있다(현실의 측정에 있어서도 동일한 결과가 얻어진 다). Considering the above, the inventors decided to accept the value calculated as D 50 / D IA as the degree of cohesion by using the weight cumulative particle diameter D 50 of the laser diffraction scattering particle size distribution method and the average particle diameter D IA obtained by image analysis. . That is, assuming that the values of D 50 and D IA can be measured with the same precision in dielectric separation of the same lot, and the above-mentioned theory is assumed, the value of D 50 reflecting the measured value that is in the aggregate state is It can be considered that the value is larger than the value of D IA (the same result is obtained even in the measurement of reality).

이때, D50의 값은 유전체 필러 분말의 분립의 응집상태가 완전히 없어진다고 한다면, 무한정 DIA의 값에 근접해 가며, 응집도인 D50/DIA의 값은 1에 근접하게 된다. 응집도가 1로된 단계에서, 분립의 응집상태가 완전히 없어진 단분산 분립이라고 말할 수 있다. 단, 현실에서는 응집도가 1 미만의 값을 나타내는 경우도 있다. 이론적으로 생각하는 완전구체의 경우에는 1 미만의 값으로는 되지 않지만, 현실에서는 완전구체가 아니기 때문에 1 미만의 응집도 값이 얻어지게 되는 것이다.At this time, the value of D 50 is, if the aggregation state of the powder of the dielectric filler powder completely eopeojindago, gamyeo close to the value of the unlimited D IA, the value of the degree of compaction of D 50 / D IA is close to 1. In the stage where the degree of agglomeration is 1, it can be said that the monodisperse powder has completely lost the aggregated state of the powder. However, in reality, the degree of aggregation may be less than one. In the case of the perfect sphere theoretically considered, the value is not less than 1, but since it is not a perfect sphere in reality, a cohesion value of less than 1 is obtained.

본건발명에서는 이 유전체 필러 분립의 응집도가 4.5 이하일 것이 요구된다. 이 응집도가 4.5를 초과하면, 유전체 필러의 분립들의 응집레벨이 너무 높아져서, 상술한 바인더수지와의 균일 혼합이 곤란하게 된다.In the present invention, the degree of aggregation of the dielectric filler powder is required to be 4.5 or less. If the degree of agglomeration exceeds 4.5, the level of agglomeration of the granules of the dielectric filler becomes so high that it becomes difficult to uniformly mix with the above-mentioned binder resin.

유전체 필러 분립의 제조방법으로서, 알콕시드법, 수열합성법, 옥살레이트법 중 어느 하나의 제조방법을 채용하더라도, 일정 응집상태가 불가피하게 형성되기 때문에, 상술한 응집도를 만족하지 않는 유전체 필러 분립이 발생할 수 있다. 특히, 습식법인 수열합성법의 경우에는 응집상태의 형성이 발생하기 쉬운 경향이 있다. 그래서, 이 응집된 상태의 분체를 하나 하나의 분립으로 분리하는 해립(解粒)처리를 행함으로써, 유전체 필러 분립의 응집상태를 상술한 응집도 범위로 하는 것이 가능하다.Even if any one of the alkoxide method, the hydrothermal synthesis method, and the oxalate method is used as the method for producing the dielectric filler powder, a uniform aggregation state is inevitably formed, and thus, the dielectric filler powder that does not satisfy the above-mentioned degree of aggregation may occur. have. In particular, in the hydrothermal synthesis method, which is a wet method, formation of agglomerated states tends to occur. Therefore, by performing the disintegration process of separating the aggregated powder into single granules, it is possible to set the aggregated state of the dielectric filler granules to the above-mentioned cohesion range.

단순히 해립작업을 행하는 것을 목적으로 한다면, 해립을 행할 수 있는 수단으로서, 고에너지 볼밀, 고속도체충돌식 기류형 분쇄기, 충격식 분쇄기, 게이지밀, 매체교반형 밀, 고수압식 분쇄장치 등 다양한 것이 이용 가능하다. 그런데, 유전체 필러 분립과 바인더수지와의 혼합성 및 분산성을 확보하기 위해서는 이하에 서술하는 유전체 필러 함유 수지용액으로서의 점도저감을 생각해야만 한다. 유전체 필러 함유 수지용액의 점도 저감을 도모하기 위해서는, 유전체 필러 분립의 비표면적이 작고, 매끄러울 것이 요구된다. 따라서, 해립은 가능하더라도, 해립시에 분립의 표면에 손상을 입히고, 그 비표면적을 증가시키는 것과 같은 해립수법이어서는 안된다. For the purpose of simply dismantling, various means such as high energy ball mills, high-speed conductor collision type airflow grinders, impact grinders, gauge mills, media stirring mills, and high-pressure grinders are available. Available. By the way, in order to ensure the mixing property and dispersibility of dielectric filler powder and binder resin, the viscosity reduction as a dielectric filler containing resin solution mentioned below must be considered. In order to reduce the viscosity of the dielectric filler-containing resin solution, it is required that the specific surface area of the dielectric filler powder is small and smooth. Therefore, disassembly should not be a disassembly technique such as, if possible, that damages the surface of the powder during disassembly and increases its specific surface area.

이와 같은 인식을 바탕으로, 본건발명자들이 예의 연구한 결과, 두가지 방법이 효과적임을 발견했다. 이 두 가지 방법에서 공통적인 것은 유전체 필러 분체의 분립이 장치의 내벽부, 교반날개, 분쇄매체 등의 부분과 접촉하는 것을 최소한으로 억제하며, 응집된 분립들의 상호 충돌을 일으킴으로써, 해립이 충분이 가능한 방법이라는 점이다. 즉, 장치의 내벽부, 교반날개, 분쇄매체 등의 부분과 접촉하는 것은 분립의 표면을 훼손하고, 표면 조도를 증대시키며, 진구도(眞球度)를 열화시키는 것에 연결되므로, 이것을 방지하는 것이다. 그래서, 충분한 분립들의 충돌을 일으킴으로써, 응집상태에 있는 분립을 해립함과 동시에, 분립들의 충돌에 의한 분립 표면의 평활화가 가능한 방법을 채용할 수 있다. Based on these perceptions, the inventors have diligently studied and found that both methods are effective. Common to both methods is to minimize the separation of the dielectric filler powder from contact with parts of the inner wall of the apparatus, the stirring blades, the grinding media, etc., and to cause the mutual collision of the agglomerated powders, thereby providing sufficient separation. It's a possible way. That is, contact with parts of the inner wall of the apparatus, agitating blades, grinding media, etc. is to prevent the surface of the powder, increase the surface roughness, and deteriorate the sphericity, thereby preventing this. . Therefore, by causing collision of sufficient powders, it is possible to employ a method capable of releasing the powders in the aggregated state and at the same time smoothing the powder surface by the collisions of the powders.

그 하나는, 응집상태에 있는 유전체 필러 분립을, 제트밀을 이용해서 해립처리하는 것이다. 여기서 말하는 "제트밀"이란, 에어의 고속기류를 이용해서, 이 기류중에 유전체 필러 분립을 넣고, 이 고속기류 중에 분립들을 상호 충돌시켜 해립작업을 행하는 것이다. One is to dissociate the dielectric filler powder in agglomerated state using a jet mill. The term "jet mill" herein refers to the use of a high speed air stream of air to insert dielectric filler powder in the air stream, and to dissociate the powder particles in the high speed air stream to perform the disassembly operation.

또한, 응집상태에 있는 유전체 필러 분립을 그 화학양론조성(stoichiometry)을 깨뜨리지 않는 용매 중에 분산시킨 슬러리를, 원심력을 이용한 유체밀을 이용해서 해립처리하는 것이다. 여기서 말하는 "원심력을 이용한 유체밀"을 이용함으로써, 그 슬러리를 원주 궤도를 그리도록 고속으로 플로우시키고, 이때에 발생하는 원심력에 의해 응집된 분립들을 용매 중에서 상호간에 충돌시켜 해립작업을 행하는 것이다. 이와 같이 함으로써, 해립작업이 완료된 슬러리를 세정, 여과, 건조함으로써 해립작업이 완료된 유전체 필러 분립이 얻어지게 된다. 이상 설명한 방법으로, 응집도의 조정 및 유전체 필러 분립의 분체 표면의 평활화를 도모할 수 있다. Moreover, the slurry which disperse | distributed the dielectric filler powder in aggregate in the solvent which does not break the stoichiometry is disaggregated using the fluid mill which uses centrifugal force. By using the "fluid mill using centrifugal force" here, the slurry is flowed at high speed so as to draw a circumferential trajectory, and the agglomeration work is carried out by colliding the granules aggregated by the centrifugal force generated at this time in a solvent. By doing in this way, the dielectric filler powder in which the disassembly operation was completed is obtained by washing | cleaning, filtration, and drying of the slurry which completed the disassembly operation. By the above-described method, the degree of cohesion can be adjusted and the surface of the powder of the dielectric filler powder can be smoothed.

이상 설명해 온 열경화성수지와 유전체 필러를 혼합해서,프린트 배선판의 커패시터층 형성용 유전체 필러 함유수지로 만든다. 이때의 열경화성수지와 유전체 필러의 배합비율은 유전체 필러의 함유율이 75wt% ~ 85wt%, 나머지를 열경화성수지로 하는 것이 바람직하다. 유전체 필러의 함유율이 75wt% 미만인 경우에는, 시장에서 현재 요구되고 있는 비유전율 20을 만족할 수 없고, 유전체 필러의 함유량이 85wt%를 초과하면, 열경화성수지의 함유율이 15wt% 미만이 되고, 유전체 필러 함유수지와 거기에 붙이는 동박과의 밀착성이 훼손되어, 프린트 배선판 제조용으로서의 요구특성을 만족하는 동박적층판의 제조가 곤란하게 된다.The thermosetting resin and the dielectric filler described above are mixed to form a dielectric filler-containing resin for forming a capacitor layer of a printed wiring board. In this case, the mixing ratio of the thermosetting resin and the dielectric filler is preferably 75 wt% to 85 wt% of the dielectric filler, and the remainder is the thermosetting resin. When the content of the dielectric filler is less than 75 wt%, the dielectric constant 20 currently required in the market cannot be satisfied, and when the content of the dielectric filler exceeds 85 wt%, the content of the thermosetting resin is less than 15 wt%, and the dielectric filler is contained. The adhesiveness of resin and the copper foil stuck to it is impaired, and it becomes difficult to manufacture the copper foil laminated board which satisfy | fills the required characteristic for printed wiring board manufacture.

이상에서 설명해 온 유전체 필러 함유수지를 이용해서, 프린트 배선판의 캐패시터층의 유전체층을 구성하면, 충분한 막 두께의 균일성을 구비한 상태에서의 유전층의 박층화가 가능하며, 결과적으로 매우 양호한 고전기용량을 구비한 커패시터 회로가 된다.By using the dielectric filler-containing resin described above, if the dielectric layer of the capacitor layer of the printed wiring board is formed, the dielectric layer can be thinned with sufficient film thickness uniformity, resulting in a very good high air capacity. It becomes a capacitor circuit.

공정 D): 이 공정에서는, 외층동박(3)에 에칭레지스트층을 형성하고, 커패시터 회로패턴을 노광하고 현상하며, 동박면을 에칭해서 커패시터 회로(C3)를 형성하고 레지스트층을 박리함으로써, 타면측의 전극이 되는 커패시터 회로(C3)를 형성하고, 커패시터 회로를 구비한 프린트 배선판으로 만드는 것이다. 이 공정을 나타낸 것이 도 10 및 도 11이다.Step D): In this step, an etching resist layer is formed on the outer copper foil 3, the capacitor circuit pattern is exposed and developed, the copper foil surface is etched to form the capacitor circuit C 3 , and the resist layer is peeled off. The capacitor circuit C 3 serving as the electrode on the other side is formed, and the printed circuit board is provided with the capacitor circuit. 10 and 11 illustrate this process.

즉, 상술한 공정 A)에서 형성된 커패시터용 회로의 상부전극 혹은 하부전극이 되는 타측의 전극 형상을 포함하는 회로를, 다층 프린트 배선판의 외층 동박을 에칭하는 것과 마찬가지로 가공한다. 따라서, 당업자라면 용이하게 이해할 수 있으며, 나아가 공정 A)의 설명과 중복 부분도 많이 있으므로, 이 공정의 상세한 설명은 생략한다.That is, the circuit containing the electrode shape of the other side used as the upper electrode or lower electrode of the capacitor circuit formed in the above-mentioned process A) is processed similarly to etching the outer layer copper foil of a multilayer printed wiring board. Therefore, those skilled in the art can easily understand, and furthermore, since there are many descriptions and overlapping portions of step A), detailed description of this step is omitted.

이상 설명해 온 제조방법의 설명에서는, 도면 중에 양면을 적층가공하는 이미지를 나타내 왔지만, 당업자라면 일면, 양면, 3층 이상의 다층판을 포함하는 모든 층구성에 따른 프린트 배선판에도 적용가능한 제조방법이다.In the description of the manufacturing method described above, an image in which both surfaces are laminated in the drawings is shown, but those skilled in the art are applicable to printed wiring boards according to all layer configurations including one side, two sides, and three or more multilayer boards.

이상, 설명해 온 프린트 배선판의 제조방법은 절연수지층에 매설 배치된 회로를 구비하는 프린트 배선판을 매우 효율적으로 제조할 수 있는 방법이며, 얻어진 프린트 배선판의 표면은 매우 편평하고, 또한 절연층 내의 골격재를 매우 얇게 하는 것이 가능하기 때문에, 레이져 천공 가공성이 우수하고 저출력의 탄산가스 레이져에 의한 가공효율을 비약적으로 높이고, 고밀도 배선화 및 고밀도 실장화의 요구에 부응하는 것이 가능하게 된다.The manufacturing method of the printed wiring board demonstrated above is a method which can manufacture the printed wiring board which has a circuit arrange | positioned in the insulating resin layer very efficiently, The surface of the obtained printed wiring board is very flat, and the skeleton material in an insulating layer Since it is possible to make the thickness very thin, the laser drilling processability is excellent, the processing efficiency by the low-power carbon dioxide laser can be drastically increased, and it is possible to meet the requirements of high density wiring and high density mounting.

또한, 본건발명에 따른 절연수지층에 매설 배치된 커패시터 회로를 구비하는 프린트 배선판의 제조방법을 채용함으로써, 편평한 프린트 배선판의 표면에 유전층을 붙임가공 하게 되기 때문에, 커패시터 회로의 유전층 두께를 얇게 설계하더라도, 매우 높은 두께 정밀도를 얻을 수 있다.In addition, by adopting a method of manufacturing a printed wiring board having a capacitor circuit embedded in an insulating resin layer according to the present invention, since a dielectric layer is attached to the surface of a flat printed wiring board, even if the dielectric layer thickness of the capacitor circuit is designed to be thin , Very high thickness precision can be obtained.

이하, 본건발명에 따른 프린트 배선판 제조방법의 바람직한 실시 형태에 관해서 설명하기로 한다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, preferable embodiment of the manufacturing method of the printed wiring board which concerns on this invention is described.

<실시예 1><Example 1>

본 실시 형태에 있어서는, 도 1 내지 도 5에 도시한 플로우에 따라, 공식 두께 12㎛이며, 거침면의 표면조도(Rz)가 3.0㎛인 전해동박(3)을 이용해서, 절연층 부착 동박(2)을 제조했다.In this embodiment, according to the flow shown in FIGS. 1-5, the copper foil with an insulating layer was formed using the electrolytic copper foil 3 whose formula thickness is 12 micrometers, and the surface roughness Rz of a rough surface is 3.0 micrometers. ).

우선, 최초로 경화수지층(4) 및 반경화수지층(6)의 형성에 이용하는 에폭시수지 조성물을 조정했다. 여기서는, 수지로서 비스페놀 A형 에폭시수지(상품명:YD-128, 도토카세이(東都化成)사 제조) 30중량부, o-크레졸형 에폭시수지(상품명:ESCN-195XL80, 스미토모화학(住友化學)사 제조) 50중량부, 에폭시수지 경화제로서 고형분 25%의 디메틸포름알데히드용액의 형태로 디시안디아미드(디시안디아미드로서 4중량부)를 16중량부, 경화촉진제로서 2-에틸4-메틸이미다졸(상품명:캐졸 2E4MZ, 시코쿠카세이(四國化成)사 제조)을 0.1중량부를 메틸에틸케톤과 디메틸포름알데히드의 혼합용제(혼합비:메틸에틸케톤/디메틸포름알데히드 = 4/6)로 용해해서 고형분 60%의 에폭시수지 조성물로 만들고, 이것을 이용했다.First, the epoxy resin composition used for formation of the cured resin layer 4 and the semi-hardened resin layer 6 was adjusted. Here, 30 weight part of bisphenol-A epoxy resin (brand name: YD-128, product made by Totokasei Co., Ltd.), o-cresol type epoxy resin (brand name: ESCN-195XL80, Sumitomo Chemical Co., Ltd. make) as resin. 50 parts by weight of 16% by weight of dicyandiamide (4 parts by weight of dicyandiamide) in the form of a dimethylformaldehyde solution having a solid content of 25% as an epoxy resin curing agent and 2-ethyl4-methylimidazole (as a curing accelerator) Product Name: Casol 2E4MZ, manufactured by Shikoku Chemical Co., Ltd., was dissolved in 0.1 part by weight of a mixed solvent of methyl ethyl ketone and dimethyl formaldehyde (mixing ratio: methyl ethyl ketone / dimethyl formaldehyde = 4/6) to give 60% solids. Epoxy resin composition was used, and this was used.

절연층 부착 동박의 제조: 도 1 및 도 2에 도시한 플로우에 따라, 이 에폭시수지 조성물을 상기 공식 두께 12㎛의 전해동박(3)의 거침면(Rz = 2.0㎛)에 균일하게 도포해서 실온에서 30분간 방치하고, 열풍건조기를 이용해서 150℃의 온풍을 2분간 충풍함으로써 일정량의 용제를 제거하고, 다시 170℃의 온도에서 60분간 경화처리를 행하여, 경화수지층(4)을 형성했다. 이때의 에폭시수지 조성물의 도포량은 경화후의 막 두께로서 그 동박의 접착면이 가진 표면조도(Rz)의 값보다 8㎛ 두꺼운 것이 되도록 했다. Isolated producing a copper foil layer: according to the flow shown in Figs. 1 and 2, in the surface roughness by uniformly applied to (Rz = 2.0㎛) at room temperature in the epoxy resin composition of the electrolytic copper foil 3 of the formula thickness 12㎛ It was left to stand for 30 minutes, the air of 150 degreeC was blown for 2 minutes using a hot air dryer, the fixed amount of solvent was removed, and the hardening process was performed for 60 minutes at the temperature of 170 degreeC, and the hardening resin layer 4 was formed. The coating amount of the epoxy resin composition at this time was 8 micrometers thicker than the value of the surface roughness (Rz) which the adhesive surface of the copper foil had as a film thickness after hardening.

다음으로, 도 3 내재 도 5에 도시한 플로우에 따라, 경화수지층(4)의 표면에 반경화수지층(6)을 형성했다. 경화수지층(4)의 표면에 상기 에폭시수지 조성물을 균일하게 도포해서 실온에서 30분간 방치하고, 열풍건조기를 이용해서 150℃의 온풍을 2분간 충풍함으로써, 10㎛ 두께의 반경화상태의 막 두께를 형성했다. 그리고, 그 위에 골격재(5)로서 공식 두께 50㎛의 아라미드섬유 부직포를 붙였다. 이 붙임은 반경화상태의 도막(S2) 표면에 이 부직포를 중첩시켜서 150℃로 가열하고, 9kg/cm2의 라미네이트 압력을 걸 수 있도록 한 가열롤러(22)의 사이를 20cm/분의 속도로 통과시킴으로써 행했다. 그 결과, 붙인 상태에서의 도막(S2)과 골격재(5)의 합계 두께가 평균 55㎛ 였다. Next, according to the flow shown in FIG. 3 inside FIG. 5, the semi-hardened resin layer 6 was formed in the surface of the hardening resin layer 4. As shown in FIG. The epoxy resin composition was uniformly coated on the surface of the cured resin layer 4 and allowed to stand for 30 minutes at room temperature, followed by blowing hot air at 150 ° C. for 2 minutes using a hot air dryer, thereby obtaining a film thickness of a semi-cured state of 10 μm thickness. Formed. And the aramid fiber nonwoven fabric with a formal thickness of 50 micrometers was stuck on it as the skeleton material 5. This paste was heated at 150 ° C. by superimposing the nonwoven fabric on the surface of semi-cured coating film S 2 , and was heated at a speed of 20 cm / min between heating rollers 22 to apply a lamination pressure of 9 kg / cm 2 . It was done by passing through. As a result, the total thickness of the coating film S 2 and the skeleton 5 in the stuck state was an average of 55 µm.

상기와 같이 해서 골격재(5)의 붙임이 완료되면, 열풍건조기를 이용해서 150℃의 분위기 중에 1분간 유지함으로써 도막(S2)의 반경화상태의 수지를 재유동화시켜, 그 구성수지 성분을 골격재(5)를 구성하는 아라미드 섬유의 모세관 현상을 이 용해서 침투시키고, 또한 그 골격재(5)의 도막(S2)과의 접촉면의 반대측에까지 배어 나오게 해서, 골격재(5)의 표면을 완전히 피복하고 건조시킴으로써 반경화수지층(6)을 형성하고, 에어블로우(23)로 강제적으로 강온처리함으로써, 도 5의 (8)에 도시한 절연층 부착 동박(2)을 얻었다. 이때의, 반경화수지층(6)의 건조후의 합계 두께는 42㎛ 이며, 이 반경화수지층(6)에는 PET 필름(도면에서는 생략)을 라미네이트해서 붙였다.When the bonding of the framework 5 is completed as described above, the semi-cured resin of the coating film S 2 is reflowed by holding it for 1 minute in an atmosphere of 150 ° C. using a hot air dryer to obtain the constituent resin component. capillary action of the aramid fibers constituting the skeleton material (5) and penetrating it for this, and to come out soaked far side opposite to the contact surface between the coating layer (S 2) of the backbone member (5), a surface of the skeletal material 5 The semi-hardened resin layer 6 was formed by completely covering and drying it, and the copper foil 2 with an insulating layer shown in (8) of FIG. 5 was obtained by forcibly temperature-falling with the air blow 23. At this time, the total thickness after drying of the semi-hardened resin layer 6 was 42 micrometers, and PET film (not shown in figure) was laminated and stuck to this semi-hardened resin layer 6.

절연층 부착 회로시트의 제조: 도 6 및 도 7에 도시한 플로우에 따라, 상기 절연층 부착 동박(2)의, 동박층(3)의 표면에 드라이 필름을 라미네이트해서 에칭레지스트층(R)을 형성하고, 그리고 에칭레지스트층(R)의 표면에 노광용 필름을 겹쳐 노광하고 현상함으로써, 회로가 되는 동박 표면에만 드라이 필름을 남겼다. 이 후, 염화철 동 에칭액을 동박면에만 가해서, 회로에칭을 행하고, 레지스트 박리 및 반경화수지층(6)의 PET 필름 박리를 행하여 도 7의 (12)에 도시한 바와 같이 절연층 상에 회로(C1)가 존재하는 것과 같은 절연층 부착 회로시트(7)를 얻었다. Manufacture of a circuit sheet with an insulating layer : According to the flow shown to FIG. 6 and FIG. 7, the dry film is laminated on the surface of the copper foil layer 3 of the said copper foil with an insulating layer 2, and the etching resist layer R is performed. The dry film was left only to the copper foil surface used as a circuit by forming and exposing the film for exposure on the surface of the etching resist layer R, and developing. Subsequently, the copper chloride etching solution was added only to the copper foil surface to perform circuit etching, and the peeling of the resist and the peeling of the PET film of the semi-cured resin layer 6 were carried out, and as shown in FIG. The circuit sheet 7 with an insulation layer like 1 ) was obtained.

열간프레스 성형: 그리고, 도 8에 도시한 플로우에 따라, 이 절연층 부착 회로시트(7)와, 내층회로(C2)를 표면에 형성한 내층코어재(24)(막 두께 0.6mm, 동박 두께 35㎛의 FR-4 재)를 이용해서, 4층의 다층 프린트 배선판(1a)을 제조했다. 즉, 도 8의 (13)에 도시한 바와 같이 내층코어재(24)를 중심으로, 그 양 외측면의 각각에 각 1매의 절연층 부착 회로시트(7)를 그 절연층이 내층코어재(24)의 외층면에 접하도록 적층하고 프레스 가공함으로써, 외층회로가 절연수지층 내에 매설되어 편 평한 표면을 가진 다층 프린트 배선판(1a)을 제조하였다. 이때의 프레스 가공조건은 프레스 온도 180℃, 프레스 압력 20kg/cm2, 경화시간 90분이었다. Hot press forming: And, according to the flow shown in Figure 8, the insulating layer having a circuit sheet 7 and the inner layer circuit (C 2), the inner surface of a core member 24 (having a thickness of 0.6mm, formed in the copper foil Four layers of multilayer printed wiring board 1a were manufactured using FR-4 material of 35 micrometers in thickness. That is, as shown in (13) of FIG. 8, the circuit sheet 7 with an insulating layer is formed on each of the outer side surfaces of the inner core material 24, and the insulating layer is an inner core material. By laminating and pressing to contact the outer layer surface of (24), the outer layer circuit was embedded in the insulating resin layer to produce a multilayer printed wiring board 1a having a flat surface. The press working conditions at this time were press temperature 180 degreeC, press pressure 20kg / cm <2> , and hardening time 90 minutes.

<실시예 2><Example 2>

본 실시예에서는, 도 9 내지 도 11에 도시한 플로우에 따라, 실시예 1에서 제조한 4층의 다층 프린트 배선판(1a)의 외층에, 이하에서 설명할 유전층 부착 동박(10)을 붙임으로써, 커패시터 회로층을 구비하는 6층의 다층 프린트 배선판(1b)을 제조했다. 따라서, 중복하는 설명은 생략하고, 유전층 부착 동박(10)의 제조부터 설명하기로 한다.In this embodiment, in accordance with the flow shown in Figs. 9 to 11, by attaching the copper foil 10 with the dielectric layer to be described below, the outer layer of the four-layer multilayer printed wiring board 1a manufactured in Example 1 is Six multilayer printed wiring boards 1b including a capacitor circuit layer were manufactured. Therefore, overlapping description is abbreviate | omitted and it demonstrates from manufacture of the copper foil 10 with a dielectric layer.

유전체 부착 동박의 제조: 먼저 유전층(11)을 구성하는 수지용액을 제조했다. 이 수지용액을 제조함에 있어, o-크레졸노보락형 에폭시수지(도토카세이(東都化成)주식회사 제조 YDCN-704), 용제에 가용인 방향성 폴리아미드수지 폴리머, 용제로서의 시클로펜타논과의 혼합 니스로서 시판되고 있는 일본화약(日本化藥)주식회사 제조의 BP3225-50P를 원료로서 이용했다. 그리고, 이 혼합 니스에, 경화제로서의 페놀수지에 다이닛폰(大日本)잉크주식회사 제조의 VH-4170 및 경화촉진제로서 시코쿠카세이(四國化成)사 제조의 2E4MZ를 첨가해서 이하에 나타내는 배합비율을 가진 수지혼합물을 만들었다. Producing a dielectric attached to the copper foil: was first to prepare a resin solution constituting the dielectric layer 11. In preparing this resin solution, it is commercially available as a mixed varnish with o-cresol noborac type epoxy resin (YDCN-704 manufactured by Totokasei Co., Ltd.), aromatic polyamide resin polymer soluble in a solvent, and cyclopentanone as a solvent. BP3225-50P manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. was used as a raw material. To this mixed varnish, VH-4170 manufactured by Dai Nippon Ink Co., Ltd. and 2E4MZ manufactured by Shikoku Chemical Co., Ltd. as a curing accelerator were added to the phenol resin as a curing agent, and the compounding ratio shown below was obtained. A resin mixture was made.

수지혼합물Resin mixture

o-크레졸노보락형 에폭시수지 38중량부 38 parts by weight of o-cresol noborac epoxy resin

방향족 폴리아미드수지 폴리머 50중량부50 parts by weight of aromatic polyamide resin polymer

페놀수지 18중량부Phenolic resin 18 parts by weight

경화촉진제 0.1중량부0.1 part by weight of curing accelerator

이 수지혼합물을 다시 메틸에틸케톤을 이용해서 수지고형분을 30중량%로 조정함으로써 수지용액을 만들었다. 그리고, 이 수지요액에, 이하에 나타내는 분체특성을 가진 유전체 필러 F인 티탄산바륨 분립을 혼합분산시켜서, 이하 조성의 유전체 필러 함유 수지용액을 만들었다.The resin mixture was further prepared by adjusting the resin solid content to 30% by weight using methyl ethyl ketone. Then, the resin solution was mixed and dispersed with barium titanate powder, which is a dielectric filler F having the following powder characteristics, to prepare a dielectric filler-containing resin solution having the following composition.

유전체dielectric 필러의Of filler 분체특성Powder characteristics

평균입경(DIA) 0.25㎛Average particle diameter (D IA ) 0.25㎛

중량누적입경(D50) 0.5㎛Cumulative weight diameter (D 50 ) 0.5㎛

응집도(D50/DIA) 2.0Cohesion (D 50 / D IA ) 2.0

유전체dielectric 필러 함유 수지용액 Filler-containing resin solution

바인더수지용액 83.3중량부Binder Resin Solution 83.3 parts by weight

티탄산바륨 분립 100중량부100 parts by weight of barium titanate powder

이상과 같이 해서 제조된 유전체 필러 함유 수지용액을, 엣지코우터(edge coater)를 이용해서, 35㎛ 두께의 전해동박(2)의 거침면에 소정 두께가 되도록 도포하고, 5분간의 풍건(風乾)을 행하고, 그 후 140℃의 가열분위기 중에서 3분간 건조처리를 행하여, 반경화상태의 20㎛ 두께의 유전체층(11)을 형성했다.The dielectric filler-containing resin solution prepared as described above was applied to the rough surface of the electrolytic copper foil 2 having a thickness of 35 μm by using an edge coater so as to have a predetermined thickness, and then air dried for 5 minutes. After that, drying was performed for 3 minutes in a heating atmosphere at 140 ° C. to form a dielectric layer 11 having a thickness of 20 μm in a semi-cured state.

커패시터 회로를 구비한 프린트 배선판의 제조: 유전층(11)의 형성이 완료되면, 도 9의 (1)에 도시한 바와 같이, 그 유전층(11)을 실시예 1에서 얻은 다층 프 린트 배선판(1a)의 외층면에 접촉시키고 적층해서 180℃×60분의 가열조건하에서 열간프레스 성형함으로써 6층의 동박적층판(12) 상태로 만들었다. Fabrication of Printed Wiring Board with Capacitor Circuit : When formation of the dielectric layer 11 is completed, as shown in FIG. 9 (1), the multilayer printed wiring board 1a obtained with the dielectric layer 11 in Example 1 is obtained. It contacted and laminated | stacked on the outer layer surface, and hot-press-molded under the heating condition of 180 degreeC * 60 minutes, and made it into the 6-layer copper-clad laminated board 12 state.

상기와 같이 해서 제조된 동박적층판(12)의 양면 동박층(3)을 정면(整面)하고, 도 10의 (3)에 도시한 바와 같이, 그 양면에 드라이 필름을 붙여서, 에칭레지스트층(R)을 형성했다. 그리고, 도 10의 (3)에 도시한 바와 같이, 그 양면의 에칭레지스트층(R)에 커패시터 회로를 노광 현상하여 에칭패턴을 형성했다. 그 후, 도 11에 도시한 바와 같이, 염화철 에칭액으로 회로에칭을 행하고, 에칭레지스트 박리를 행하여, 회로 C1과 회로 C3가 상부 또는 하부전극이 되고, 그 사이에 유전층이 존재하는 커패시터 회로를 구비한 프린트 배선판(1b)을 제조했다.The double-sided copper foil layer 3 of the copper-clad laminate 12 produced as described above is faced, and as shown in FIG. 10 (3), a dry film is attached to both surfaces thereof to form an etching resist layer ( Formed R). Then, as shown in FIG. 10 (3), an etching circuit was formed by exposing and developing a capacitor circuit on the etching resist layer R on both surfaces thereof. After that, as shown in Fig. 11, the circuit is etched with the iron chloride etching solution and the etching resist is peeled off, so that the circuit C 1 and the circuit C 3 become upper or lower electrodes, and a capacitor circuit having a dielectric layer therebetween is formed. The equipped printed wiring board 1b was manufactured.

그리고, 이 커패시터 회로를 구성한 유전층의 비유전율을 측정한 결과, ε = 20으로 매우 양호한 값을 나타냈으며, 전기용량이 높은 커패시터가 얻어짐을 알 수 있었다.As a result of measuring the relative dielectric constant of the dielectric layer constituting the capacitor circuit, it was found that ε = 20 was very good, and a capacitor having a high capacitance was obtained.

<비교예 1>Comparative Example 1

이 비교예에서는, 실시예 1에서 이용한 것과 동일한 수지를, 공식 두께 12㎛의 전해동박의 거침면에 균일하게 도포해서, 실온에서 30분간 방치하고, 열풍건조기를 이용해서 150℃의 온풍을 5분간 충풍함으로써 일정량의 용제를 제거하고, 수지층을 반경화상태로 건조시켜, 종래의 골격재를 포함하지 않는 수지 부착 동박을 얻었다. 이때의 에폭시수지 조성물의 도포량은 건조후의 수지층 두께로서 75㎛가 되도록 했다.In this comparative example, the same resin as used in Example 1 was uniformly coated on the rough surface of the electrolytic copper foil having a formula thickness of 12 µm, left at room temperature for 30 minutes, and blown with a hot air dryer at 150 ° C. for 5 minutes. By removing a fixed amount of solvent, the resin layer was dried in a semi-cured state, thereby obtaining a copper foil with a resin that does not contain a conventional skeleton material. The coating amount of the epoxy resin composition at this time was 75 micrometers as thickness of the resin layer after drying.

그리고, 이 수지 부착 동박을 상술한 실시예 1의 절연층 부착 동박(1) 대신에 사용해서, 실시예 1과 동일한 방법으로, 수지층 부착 회로시트를 얻어 내층코어재와 열간프레스 성형함으로써 4층의 프린트 배선판을 제조했다. 그 결과, 열간프레스 가공전의 회로성형 에칭시에, 핸들링에 따라 반경화수지층이 갈라져버리는 경우도 있었으며, 비록 PET 필름으로 덧대어 있다고 하더라도, 골격재가 존재하지 않음으로 인한 문제점이 발생하여 고품질의 제품을 얻을 수 없었다.And this copper foil with resin was used instead of the copper foil 1 with the insulating layer of Example 1 mentioned above, and it obtained the circuit sheet with a resin layer in the same manner as Example 1, and obtained four layers by hot press molding with an inner layer core material. The printed wiring board was manufactured. As a result, the semi-hardened resin layer sometimes cracked due to the handling during the circuit forming etching prior to the hot press processing, and even though it was padded with PET film, there was a problem due to the absence of the skeleton material. Could not get

본건발명에 따른 프린트 배선판의 제조방법은 절연수지층에 매설 배치된 회로를 구비하는 프린트 배선판을 매우 효율적으로 제조할 수 있다. 따라서, 표면이 매우 편평한 프린트 배선판을 우수한 수율로 제조할 수 있으며, 그 프린트 배선판을 시장에 저가로 공급할 수 있다. 나아가, 이 프린트 배선판은 절연층 내의 골격재를 매우 얇게 할 수 있기 때문에, 레이져 천공 가공성이 우수하고 또한 기판에 요구되는 강도도 겸비한 것이 된다.The manufacturing method of the printed wiring board which concerns on this invention can manufacture the printed wiring board which has a circuit arrange | positioned in the insulating resin layer very efficiently. Therefore, a printed wiring board having a very flat surface can be produced with excellent yield, and the printed wiring board can be supplied to the market at low cost. Furthermore, since this printed wiring board can make the frame | skeleton in an insulating layer very thin, it is excellent in laser perforation | workability and also has the intensity | strength required for a board | substrate.

또한, 본건발명에 따른 절연수지층에 매설 배치된 커패시터 회로를 구비하는 프린트 배선판의 제조방법을 채용함으로써, 커패시터 회로의 유전층 두께를 얇게 설계하더라도, 매우 높은 두께 정밀도를 얻을 수 있으며, 커패시터 회로를 구비한 프린트 배선판의 품질을 현저히 높이는 것이 가능하도록 된다.In addition, by adopting a method of manufacturing a printed wiring board having a capacitor circuit embedded in an insulating resin layer according to the present invention, even if the dielectric layer thickness of the capacitor circuit is designed thin, very high thickness precision can be obtained, and the capacitor circuit is provided. It is possible to significantly increase the quality of a printed wiring board.

Claims (6)

절연수지층에 매설 배치된 회로를 구비하는 프린트 배선판의 제조방법에 있어서, 이하 A) 및 B)의 각 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 프린트 배선판의 제조방법.A method of manufacturing a printed wiring board having a circuit embedded in an insulating resin layer, comprising the steps A) and B) below. A)동박의 일면에 이 동박의 접착면이 가진 표면조도(Rz)의 값보다도 0.5㎛ ~ 1㎛ 두꺼운 것으로 된 경화수지층을 구비하고, 이 경화수지층 상에 골격재를 포함하는 반경화수지층을 구비한 절연층 부착 동박을 이용해서, 그 동박면에 에칭레지스트층을 형성하고, 회로패턴을 노광하고 현상하며, 동박면을 에칭해서 회로형성하고, 레지스트층을 박리함으로써, 절연층 부착 회로시트를 형성한다.A) The cured resin layer which is 0.5 micrometer-1 micrometer thicker than the value of the surface roughness (Rz) which the adhesive surface of this copper foil has on one surface of copper foil, The semi-hardened resin layer containing a skeleton material on this hardened resin layer A circuit sheet with an insulating layer was formed by forming an etching resist layer on the copper foil surface using the copper foil with an insulating layer, exposing and developing a circuit pattern, etching the copper foil surface to form a circuit, and peeling off the resist layer. To form. B)상기 절연층 부착 회로시트의 반경화수지층을 붙일 기재면에 접촉시키고 중첩시켜 열간프레스 성형함으로써, 회로부의 동박이 상기 경화수지층을 충파(衝破)하여, 상기 반경화수지층에 매설되고, 절연수지층에 매설 배치된 회로를 구비하는 프린트 배선판을 형성한다.B) The hot foil is formed by contacting and superimposing the semi-cured resin layer of the circuit sheet with the insulating layer to be bonded, and the copper foil of the circuit portion blows up the cured resin layer and is embedded in the semi-cured resin layer, and is insulated. The printed wiring board provided with the circuit embedded in the resin layer is formed. 절연수지층에 매설 배치된 커패시터 회로를 구비하는 프린트 배선판의 제조방법에 있어서, 이하 A) ~ D)의 각 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 커패시터 회로를 구비한 프린트 배선판의 제조방법.A method for manufacturing a printed wiring board having a capacitor circuit embedded in an insulating resin layer, the method comprising the steps A) to D) below. A)동박의 일면에 이 동박의 접착면이 가진 표면조도(Rz)의 값보다도 0.5㎛ ~ 1㎛ 두꺼운 것으로 된 경화수지층을 구비하고, 이 경화수지층 상에 골격재를 포함 하는 반경화수지층을 구비한 절연층 부착 동박을 이용해서, 그 동박면에 에칭레지스트층을 형성하고, 회로패턴을 노광하고 현상하며, 동박면을 에칭해서 일면 측의 전극이 되는 커패시터 회로를 형성하고, 레지스트층을 박리함으로써, 절연층 부착 커패시터 회로시트를 형성한다. A) The cured resin layer which is 0.5 micrometer-1 micrometer thicker than the value of the surface roughness (Rz) which the adhesive surface of this copper foil has on one surface of copper foil, The semi-hardened resin layer containing a skeleton material on this hardened resin layer Using an copper foil with an insulating layer, an etching resist layer is formed on the copper foil surface, the circuit pattern is exposed and developed, the copper foil surface is etched to form a capacitor circuit that becomes an electrode on one side, and the resist layer is formed. By peeling, the capacitor circuit sheet with an insulating layer is formed. B)상기 절연층 부착 회로시트의 반경화수지층을 붙일 기재면에 접촉시키고 중첩시켜 열간프레스 성형함으로써, 회로부의 동박이 상기 경화수지층을 충파하여, 상기 반경화수지층에 매설되고, 절연수지층에 매설 배치된 커패시터 회로를 구비하는 프린트 배선판을 형성한다.B) By hot press molding by contacting and superimposing the semi-cured resin layer of the circuit sheet with the insulating layer to be pasted, the copper foil of the circuit part impregnates the cured resin layer and is embedded in the semi-cured resin layer, and is embedded in the insulating resin layer. A printed wiring board having a capacitor circuit disposed therein is formed. C)상기 커패시터 회로를 구비하는 프린트 배선판의 매설된 회로면에, 유전층 부착 동박의 수지층면을 접촉시키고 중첩시켜 열간프레스 성형함으로써, 외층에 동박층이 위치하는 동박적층판을 형성한다.C) The copper-clad laminated board in which the copper foil layer is located is formed in an outer layer by hot-press molding by contacting and superimposing the resin layer surface of the copper foil with a dielectric layer on the embedded circuit surface of the printed wiring board provided with the said capacitor circuit. D)외층동박에 에칭레지스트층을 형성하고, 커패시터 회로패턴을 노광하고 현상하며, 동박면을 에칭해서 커패시터 회로를 형성하고, 레지스트층을 박리함으로써, 타면측의 전극이 되는 커패시터 회로를 형성하여, 커패시터 회로를 구비한 프린트 배선판을 형성한다.D) An etching resist layer is formed on the outer copper foil, the capacitor circuit pattern is exposed and developed, the copper foil surface is etched to form a capacitor circuit, and the resist layer is peeled off to form a capacitor circuit serving as an electrode on the other side. A printed wiring board having a capacitor circuit is formed. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 반경화수지층을 구성하는 골격재는 부직포 혹은 직포이며, 유리섬유 또는 유기섬유로 이루어진 것을 특징으로 하는 프린트 배선판의 제조방법.The frame | skeleton which comprises a semi-hardened resin layer is a nonwoven fabric or a woven fabric, The manufacturing method of the printed wiring board characterized by consisting of glass fiber or organic fiber. 제 2항에 있어서,The method of claim 2, 반경화수지층을 구성하는 골격재는 부직포 혹은 직포이며, 유리섬유 또는 유기섬유로 이루어진 것을 특징으로 하는 프린트 배선판의 제조방법.The frame | skeleton which comprises a semi-hardened resin layer is a nonwoven fabric or a woven fabric, The manufacturing method of the printed wiring board characterized by consisting of glass fiber or organic fiber. 제 2항에 있어서,The method of claim 2, 유전층 부착 동박을 구성하는 수지층은 유전체 필러를 함유한 것을 특징으로 하는 프린트 배선판의 제조방법.The resin layer which comprises the copper foil with a dielectric layer contains the dielectric filler, The manufacturing method of the printed wiring board characterized by the above-mentioned. 청구항 제 1항 내지 제 5항 중 어느 한 항에 기재된 제조방법에 의해 제조된 프린트 배선판.The printed wiring board manufactured by the manufacturing method in any one of Claims 1-5.
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