JP4226981B2 - Printed wiring board manufacturing method and printed wiring board obtained by the manufacturing method - Google Patents

Printed wiring board manufacturing method and printed wiring board obtained by the manufacturing method Download PDF

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Description

本発明は、絶縁層付銅箔の製造方法及びその製造方法で得られた絶縁層付銅箔並びにその絶縁層付銅箔を用いた多層プリント配線板に関する。   The present invention relates to a method for producing a copper foil with an insulating layer, a copper foil with an insulating layer obtained by the production method, and a multilayer printed wiring board using the copper foil with an insulating layer.

近年のプリント配線板に対しては、次に掲げる2つの要求が常に行われている。一つには、プリント配線板が搭載される電子機器・電気製品の軽薄短小化に伴い、より薄く、より軽くすることが求められ、しかも配線密度及び部品実装密度の向上、即ちファインピッチ化が求められているのである。そして、同時に、多層プリント配線板の内層回路部分にキャパシタ回路を形成し、電子機器等の消費電力の節減、供給電圧の安定化を図るのが一般化している。   The following two demands are always made for printed wiring boards in recent years. For one thing, as electronic devices and electrical products on which printed wiring boards are mounted are becoming lighter, thinner, and lighter, they are required to be thinner and lighter. It is demanded. At the same time, it is common to form a capacitor circuit in the inner layer circuit portion of the multilayer printed wiring board to reduce power consumption and stabilize the supply voltage of electronic devices.

レーザー穴明け性に関する技術背景: 最初にファインピッチ化に関する技術背景に関して述べることとする。配線密度の向上を図るためには、特許文献1に開示されているようにレーザー加工法を用いて小径バイアホールを形成することが一般化してきた。ところが、レーザー穴明け加工の普及と共に、従来のガラスエポキシ基材であるFR−4プリプレグを用いて製造する多層プリント配線板では、バイアホールの内壁面形状に関するレーザー穴明け加工性が劣ることが判明してきた。最初に問題となったのは、ガラスエポキシ基材の骨格材であるガラスクロスの存在である。ガラスクロスは、織りが存在し、ガラス自体がレーザー加工性に劣るため、良好な精度での穴明けが出来なかったのである。 Technical background regarding laser drilling ability : First, a technical background regarding fine pitching will be described. In order to improve the wiring density, it has become common to form a small-diameter via hole using a laser processing method as disclosed in Patent Document 1. However, with the widespread use of laser drilling processing, it has been found that the multilayer printed wiring board manufactured using FR-4 prepreg, which is a conventional glass epoxy base material, is inferior in laser drilling processing on the inner wall surface shape of the via hole. I have done it. The first problem was the presence of glass cloth, which is a skeleton material of the glass epoxy base material. The glass cloth has a weave and the glass itself is inferior in laser processability, so that it was not possible to drill holes with good accuracy.

特開平11−195853号公報Japanese Patent Laid-Open No. 11-195853

そこで、本件発明者等は、特許文献2に開示しているように銅箔の表面に骨格材を含まない半硬化状態の樹脂層のみを設けた樹脂付銅箔を市場に供給して、プリプレグ無しでビルトアップ工法を用いて、レーザー穴明け加工性優れる銅張積層板の製造を可能とし、高品質の多層プリント配線板の供給を可能としてきた。即ち、樹脂付銅箔は、その樹脂層に骨格材を含んでいないため軽量で、且つ、バイアホール内壁部が滑らかになりブローホールの無くせるという意味でのレーザー穴明け加工性に優れるという特徴を有するのであるが、同時に、骨格材を含んでいないがための欠点として、次のようなものがある。   Accordingly, the inventors of the present invention supply a prepreg with a resin-coated copper foil in which only a semi-cured resin layer not containing a skeleton material is provided on the surface of the copper foil as disclosed in Patent Document 2. Using the built-up method, it has become possible to produce copper-clad laminates with excellent laser drilling workability and to supply high-quality multilayer printed wiring boards. That is, the resin-coated copper foil is light in weight because it does not contain a skeleton material in its resin layer, and is excellent in laser drilling workability in the sense that the inner wall of the via hole becomes smooth and the blow hole can be eliminated. At the same time, there are the following disadvantages because it does not contain a skeletal material.

国際公開番号 WO 97/02728号公報International Publication Number WO 97/02728

即ち、樹脂付銅箔のみを用いて製造した銅張積層板は、曲げ、引張り、衝撃等の外力に対して、樹脂層の持つ機械的強度が十分ではないと言う問題があったのである。そして、樹脂付銅箔は補強材がないため、樹脂付銅箔のみを用いて製造した銅張積層板は、内層回路の銅回路密度が不均一な系では、同一面内の絶縁層厚さが極端に変動し、コントロールが困難になる。材料としての熱膨張率が大きく、異種材料、例えば銅回路との界面にストレスを生じ易く信頼性に悪影響を与えている。その他、樹脂付銅箔のみを用いて製造した銅張積層板は、強度が低いため、ICチップのワイヤボンディング時に、パッドが沈み込み、安定した接合が得られない等の種々の欠点が指摘されていた。   That is, the copper clad laminate produced using only the resin-coated copper foil has a problem that the mechanical strength of the resin layer is not sufficient with respect to external forces such as bending, pulling, and impact. And since the copper foil with resin has no reinforcing material, the copper clad laminate manufactured using only the copper foil with resin has a thickness of the insulating layer in the same plane in a system in which the copper circuit density of the inner layer circuit is not uniform. Is extremely fluctuating and difficult to control. The coefficient of thermal expansion as a material is large, and stress is easily generated at an interface with a different material, for example, a copper circuit, which adversely affects reliability. In addition, the copper clad laminate produced using only the resin-coated copper foil has low strength, and various disadvantages are pointed out, such as the sinking of the pads during wire bonding of IC chips and the inability to obtain stable bonding. It was.

他方のプリプレグの分野においても、特許文献3に開示されているように、上述した機械的強度をそのままに、レーザー穴明け加工性を改善する方法として、骨格材に工夫をした製品が供給されてきた。即ち、骨格材にガラスクロスを用いた場合には、総じてレーザー穴明け加工性に劣るものと言われてきた。従って、織りのあるクロスタイプのものを使用せずに、所謂不織布タイプのものを骨格材として用いることが一般化してきたのである。不織布を用いることで、クロスタイプの骨格材に見られるようなクロス糸の不均一性が改善され、レーザー穴明け性が大幅に改善されることとなってきた。   Also in the field of the other prepreg, as disclosed in Patent Document 3, as a method for improving the laser drilling workability while maintaining the mechanical strength described above, a product devised for the skeleton material has been supplied. It was. That is, when glass cloth is used as the skeleton material, it has been said that it is generally inferior in laser drilling workability. Therefore, it has become common to use a so-called non-woven fabric type as a skeletal material without using a woven cloth type. By using a non-woven fabric, the non-uniformity of the cross yarn as seen in the cross-type skeleton material has been improved, and the laser drillability has been greatly improved.

特開2003−213019号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2003-213019

キャパシタ回路を備えたプリント配線板に関する技術背景: 続いて、キャパシタ回路基板に関する技術背景に関して述べることとする。銅張積層板を用いてキャパシタ回路基板を製造する場合は、所謂両面の各々の銅箔層とその両銅箔層の間に位置する誘電体層とからなる両面銅張積層板を用いて、その両面の銅箔層を所望の形状のキャパシタ電極にエッチング加工して、両面のキャパシタ電極に誘電体層を挟み込んだ状態のキャパシタ構造を目的位置に形成することにより行われるのが通常である。 Technical Background Regarding Printed Wiring Board with Capacitor Circuit: Next, a technical background regarding the capacitor circuit board will be described. When manufacturing a capacitor circuit board using a copper clad laminate, using a double-sided copper clad laminate comprising a so-called double-sided copper foil layer and a dielectric layer located between the copper foil layers, Usually, the copper foil layers on both sides are etched into capacitor electrodes having a desired shape, and a capacitor structure in which a dielectric layer is sandwiched between the capacitor electrodes on both sides is formed at a target position.

形成されたキャパシタは、可能な限り大きな電気容量を持つことが基本的な品質として求められる。キャパシタの容量(C)は、C=εε(A/d)の式(εは真空の誘電率)から計算される。従って、キャパシタ容量を増大させるためには、i)キャパシタ電極の表面積(A)を大きくする。ii)誘電体層の厚さ(d)を薄くする。iii)誘電体層の比誘電率(ε)を大きくする。これらのいずれかの手法を採用すればよいことになる。 The formed capacitor is required as a basic quality to have as large an electric capacity as possible. The capacitance (C) of the capacitor is calculated from the equation C = εε 0 (A / d) (ε 0 is the dielectric constant of vacuum). Therefore, in order to increase the capacitor capacity, i) the surface area (A) of the capacitor electrode is increased. ii) Reduce the thickness (d) of the dielectric layer. iii) Increase the relative dielectric constant (ε) of the dielectric layer. Any one of these methods may be adopted.

ところが、i)の表面積(A)に関しては、最近の電子、電気機器の軽薄短小化の流れから、プリント配線板にも同様の要求が行われることになり、一定のプリント配線板面積の中で、キャパシタ電極の面積を広く採ることは殆ど不可能である。ii)の誘電体層の厚さ(d)を薄くすることに関して、誘電体層がプリプレグに代表されるように従来のガラスクロス等の骨格材を含むものであれば、骨格材があるが故に薄層化に限界が生じる。一方で、従来の誘電体層構成材料を用いて単に骨格材を省略すると、キャパシタ電極をエッチングで作成する際のエッチング液のシャワー圧で銅箔層がエッチング除去された部位の誘電体層が破壊するという不具合が生じていた。これらのことから、iii)の誘電体層の比誘電率(ε)を大きくすることを考えるのが一般化してきた。   However, with regard to the surface area (A) of i), the same demands have been made on the printed wiring board due to the recent trend of miniaturization of electronic and electrical equipment, and within a certain printed wiring board area. It is almost impossible to increase the area of the capacitor electrode. With regard to reducing the thickness (d) of the dielectric layer of ii), if the dielectric layer includes a skeleton material such as a conventional glass cloth as represented by prepreg, there is a skeleton material. There is a limit to thinning. On the other hand, if the skeleton material is simply omitted using the conventional dielectric layer constituent material, the dielectric layer at the site where the copper foil layer has been etched away by the shower pressure of the etchant when the capacitor electrode is formed by etching is destroyed. There was a problem of doing. From these facts, it has become common to consider increasing the relative dielectric constant (ε) of the dielectric layer of iii).

即ち、特許文献4に開示されているように、誘電体層の構成には、ガラスクロス等の骨格材を必須のものとして、骨格材の不織化等により薄層化を図り、誘電体層全体の厚さを薄くして、且つ、誘電体層の構成材料に誘電体フィラーを分散含有させた樹脂を用いる等してキャパシタ電気容量の増大が図られてきた。   That is, as disclosed in Patent Document 4, a skeleton material such as a glass cloth is essential for the configuration of the dielectric layer, and the dielectric layer is made thin by making the skeleton material non-woven or the like. Capacitor capacitance has been increased by reducing the overall thickness and using a resin in which a dielectric filler is dispersed in the constituent material of the dielectric layer.

特開2003−198091号公報JP 2003-198091 A

従来のプリント配線板形状に関する技術背景: 更に、通常のプリント配線板は、銅箔層をエッチング加工することにより形成した回路が、外層表面から突出しており、この回路を物理的に引っかけることにより、回路断線、回路剥離等の不良が発生していた。そのため、微細な回路の形成されたプリント配線板ほど、ハンドリングに細心の注意を要するため、過剰包装、作業効率の低下を引き起こす原因となっていた。これに関しては、外層の回路が絶縁基材内に埋設された状態にすれば、問題解決が可能として、特許文献5〜特許文献7に開示されているように、種々の技術が開示されている。 Technical background regarding conventional printed wiring board shape: Furthermore, in a normal printed wiring board, a circuit formed by etching a copper foil layer protrudes from the outer layer surface, and by physically hooking this circuit, Defects such as circuit disconnection and circuit peeling occurred. For this reason, printed circuit boards on which fine circuits are formed require more care in handling, causing excessive packaging and a reduction in work efficiency. In this regard, various techniques have been disclosed as disclosed in Patent Documents 5 to 7 as the problem can be solved if the outer layer circuit is embedded in the insulating base material. .

特許第2896116号掲載公報Publication No. 2896116 特開2000−332387号公報JP 2000-332387 A 特開平09−191178号公報JP 09-191178 A

しかしながら、従来の骨格材を含んだプリプレグは、骨格材に樹脂成分を含浸させ、乾燥させる方法が採用されるのが通常であり、これが原因でレーザー穴明け加工性に関する問題を生じ、ファインピッチ化の要求を完全に満たすことは困難となるのである。一方、更なる内蔵キャパシタ回路の電気容量の大容量化が求められるようになり、しかも、その電気容量の安定化に対する要求が日々強くなっており、誘電体層厚さの安定化に対する要求を満たせないという現状が存在するのである。   However, conventional prepregs containing skeletal materials usually use a method in which the skeleton material is impregnated with a resin component and then dried, which causes problems related to laser drilling workability and makes fine pitches. It will be difficult to fully meet the requirements. On the other hand, there is a demand for further increase in the capacitance of the built-in capacitor circuit, and the demand for stabilization of the capacitance is increasing day by day, and the requirement for stabilization of the dielectric layer thickness can be satisfied. There is no current situation.

レーザー穴明け加工性に関する課題: レーザー穴明け加工性を良好にしてファインピッチ化の要求に応えるためには、骨格材の厚さを薄くすればよいと考えられる。ところが、不織布自体は、クロスタイプのものと比較して、強度に劣るものであり、樹脂含浸させ、浸漬した樹脂中から当該不織布を引き上げる際に含浸した樹脂重量により不織布自体が切断不良を起こしやすいという欠点があった。そして、クロスタイプの織布であっても、その厚さが薄くなるほど、不織布と同様の問題は生じていた。 Issues related to laser drilling workability : In order to improve the laser drilling workability and meet the demand for fine pitch, it is considered that the thickness of the skeleton material should be reduced. However, the nonwoven fabric itself is inferior in strength compared to the cloth type, and the nonwoven fabric itself is liable to cause a cutting failure due to the resin weight impregnated when the nonwoven fabric is impregnated and pulled up from the immersed resin. There was a drawback. And even if it was a cross type woven fabric, the problem similar to the nonwoven fabric had arisen, so that the thickness became thin.

そこで、軽量化のために絶縁樹脂層の厚さを薄くしようとする目的を達成すると同時に、不織布若しくは織布に含浸させる樹脂量を減少させ、より薄い不織布若しくは織布を用いたプリプレグを供給しようとされてきた。ところが、銅張積層板は、プリプレグに、プレス加工により銅箔を張り付けることにより生産されるものである。このとき銅箔の表面には凹凸のある粗化処理が施されており、この粗化処理が基材の樹脂内に食い込みアンカー効果を得て密着強度を向上させるのであるが、含浸させる樹脂量を一定レベル以下に減少させるとプリプレグの骨格材と銅箔表面の粗化処理とが接触してしまい、基材の樹脂の付周りが悪くなり引き剥がし強度を劣化させ、しかも、骨格材と直接接触するため骨格材の繊維に沿ったマイグレーションを助長する可能性すら考えられることになっていた。   Therefore, at the same time as achieving the purpose of reducing the thickness of the insulating resin layer for weight reduction, reduce the amount of resin impregnated into the nonwoven fabric or woven fabric and supply a prepreg using a thinner nonwoven fabric or woven fabric. It has been said. However, the copper-clad laminate is produced by attaching a copper foil to a prepreg by pressing. At this time, the surface of the copper foil is subjected to roughening treatment with unevenness, and this roughening treatment penetrates into the resin of the base material to obtain the anchor effect and improve the adhesion strength. If the prepreg is reduced below a certain level, the prepreg skeleton material and the roughening treatment of the copper foil surface will come into contact with each other, and the adhesion of the resin of the base material will be deteriorated and the peeling strength will be deteriorated. Even the possibility of facilitating migration along the fibers of the skeletal material due to contact was to be considered.

これらのことから、銅張積層板を製造したときの絶縁樹脂層の中に含める骨格材を可能な限り薄くして、絶縁樹脂層内の樹脂コンテンツを高めると共に、張り付けた銅箔の粗化処理と骨格材との接触をより安全に防止できる材料と方法が望まれてきたのである。   For these reasons, the skeleton material included in the insulating resin layer when the copper-clad laminate is manufactured is made as thin as possible to increase the resin content in the insulating resin layer and to roughen the attached copper foil. There has been a desire for materials and methods that can more safely prevent contact with the skeletal material.

キャパシタ回路を備えたプリント配線板に関する課題: 一方、キャパシタ回路の誘電体層でも、吸湿した場合のマイグレーション現象の発生が問題となる。骨格材を含む誘電体層におけるマイグレーション現象は、プリント配線板の銅メッキ層の銅成分や、誘電体フィラーの構成金属成分が骨格材と樹脂との界面に沿って電気泳動的に拡散移動して隣接した回路間にショート不良を起こさせるというものである。係る現象が、骨格材(特にクロスタイプのもの)が存在することで起こりやすくなると考えられるのである。まして、誘電体層として用いる層には、かなりの高充填率を持って誘電体フィラーを分散させた樹脂が用いられるためである。 Problems related to a printed wiring board provided with a capacitor circuit: On the other hand, even in the dielectric layer of the capacitor circuit, the occurrence of a migration phenomenon when moisture is absorbed becomes a problem. The migration phenomenon in the dielectric layer containing the skeleton material is caused by the electrophoretic diffusion movement of the copper component of the copper plating layer of the printed wiring board and the constituent metal component of the dielectric filler along the interface between the skeleton material and the resin. This is to cause a short circuit failure between adjacent circuits. It is considered that such a phenomenon is likely to occur due to the presence of a skeleton material (particularly a cross-type material). This is because the layer used as the dielectric layer is made of a resin in which a dielectric filler is dispersed with a considerably high filling rate.

従って、キャパシタ回路の誘電体層には、骨格材を含まず、任意の膜厚の形成が可能で、且つ、エッチング時のエッチング液のシャワー圧により破壊されないプリント配線板の製造方法が望まれてきたのである。   Therefore, a method for manufacturing a printed wiring board that does not include a skeleton material, can be formed to an arbitrary film thickness, and is not destroyed by the shower pressure of the etchant during etching has been desired for the dielectric layer of the capacitor circuit. It was.

プリント配線板形状に関する課題: 更に、通常のプリント配線板の外層回路を、絶縁基材内に埋設された状態にするには、回路を一旦樹脂で埋め、更に研磨することで埋設状態を作り出す等、総じて複雑な工程が採用されており、市場で広く普及する技術とはなり得なかったのである。 Issues related to the shape of the printed wiring board: Furthermore, to make the outer layer circuit of a normal printed wiring board embedded in an insulating substrate, the circuit is once filled with resin and further polished to create an embedded state, etc. In general, however, complicated processes are employed, and the technology cannot be widely spread in the market.

以上に述べてきた問題点から、ファインピッチ化をより向上させることの出来る良好なレーザー加工性能と、同時にキャパシタ回路の形成用途として誘電体層厚さを良好に保つことの出来るプリント配線板の製造方法が望まれてきたのである。しかも、このプリント配線板の外層回路が、絶縁樹脂基材内に埋設された状態になれば、プリント配線板としての極めて高いハンドリング性を備え、物理的な回路損傷を有効に防止できるものとなるのである。   From the problems described above, good laser processing performance that can further improve the fine pitch, and at the same time, manufacture of printed wiring boards that can maintain a good dielectric layer thickness for capacitor circuit formation applications A method has been desired. Moreover, if the outer layer circuit of the printed wiring board is embedded in the insulating resin base material, it has extremely high handling properties as a printed wiring board and can effectively prevent physical circuit damage. It is.

以下、本件発明に係るプリント配線板の製造方法に関して説明するが、これらの製造方法は、最も単純な形で説明するのであり、当業者であれば以下に述べる方法を応用して、高多層化したプリント配線板を製造することが可能となる。また、以下の製造方法は、通常のプリント配線板の製造に用いる基本概念(以下、「製造方法1」と称する。)と、キャパシタ回路を備えるプリント配線板との場合(以下、「製造方法2」と称する。)に分けて説明することとする。キャパシタ回路を備えるプリント配線板の場合には、誘電体層を構成する層に、誘電体フィラーを含有する場合等が考えられるからである。本件発明に係る製造方法で得られるプリント配線板は、外層の回路が絶縁樹脂層に埋設配置された状態になる点に特徴を備えるものとなる。   Hereinafter, a method for manufacturing a printed wiring board according to the present invention will be described. These manufacturing methods will be described in the simplest form, and those skilled in the art can apply the method described below to increase the number of layers. It becomes possible to manufacture the printed wiring board. Further, the following manufacturing method is a case of a basic concept (hereinafter referred to as “manufacturing method 1”) used for manufacturing a normal printed wiring board and a printed wiring board including a capacitor circuit (hereinafter referred to as “manufacturing method 2”). Will be described separately.) This is because, in the case of a printed wiring board provided with a capacitor circuit, a case where a dielectric filler is contained in a layer constituting the dielectric layer can be considered. The printed wiring board obtained by the manufacturing method according to the present invention is characterized in that the outer circuit is embedded in the insulating resin layer.

<製造方法1>
ここでは、本件発明に係るプリント配線板の製造方法の内、最も基本的と言える製造方法に関して説明する。この製造方法は、以下に図1〜図8を参照しつつ説明するA)及びB)の各工程を備えることを特徴とするのである。なお、念のために記載しておくが、図面では、加工フローを断面から観察した模式図として捉えて表示しているが、説明が分かりやすいように、各層の厚さは現実の製品と対応するものではない。
<Manufacturing method 1>
Here, the most basic manufacturing method among the manufacturing methods of the printed wiring board according to the present invention will be described. This manufacturing method includes the steps A) and B) described below with reference to FIGS. 1 to 8. In addition, as a precaution, the drawing shows the processing flow as a schematic diagram observed from a cross section, but the thickness of each layer corresponds to the actual product so that the explanation is easy to understand. Not what you want.

工程A): 最初のA)の工程は、図1〜図7を用いて説明する。この工程を一言で言えば、絶縁層付銅箔2の銅箔層3をエッチングして、回路形成することで絶縁層付回路シートSを形成するものである。この工程において用いる絶縁層付銅箔2とは、図5(8)に示した如き断面層構成を備えており、銅箔の片面に当該銅箔の接着面の持つ表面粗さ(Rz)の値よりも0.5μm〜10μm厚いものとした硬化樹脂層4を備え、その硬化樹脂層4上に骨格材5を含む半硬化樹脂層6を備えたものである。そして、この絶縁層付銅箔を用いて、図6(9)に示すように銅箔面にエッチングレジスト層Rを形成し、図6(10)に示すように回路パターンを露光し、現像し、図7(11)に示すように銅箔層3をエッチングして回路Cを形成し、図6(12)に示すようにエッチングレジスト層Rを剥離することで、絶縁層付回路シートSを形成するのである。 Step A): The first step A) will be described with reference to FIGS. In short, this step is to form the circuit sheet S with an insulating layer by etching the copper foil layer 3 of the copper foil 2 with an insulating layer to form a circuit. The copper foil 2 with an insulating layer used in this step has a cross-sectional layer configuration as shown in FIG. 5 (8), and the surface roughness (Rz) of the bonding surface of the copper foil on one side of the copper foil. A cured resin layer 4 having a thickness 0.5 μm to 10 μm thicker than the value is provided, and a semi-cured resin layer 6 including a skeleton 5 is provided on the cured resin layer 4. Then, using this copper foil with an insulating layer, an etching resist layer R is formed on the copper foil surface as shown in FIG. 6 (9), and the circuit pattern is exposed and developed as shown in FIG. 6 (10). to form a circuit C 1 copper foil layer 3 is etched as shown in FIG. 7 (11), by peeling off the etching resist layer R as shown in FIG. 6 (12), the circuit sheet S with an insulation layer Is formed.

ここで用いる、絶縁層付銅箔2とは、銅箔表面と接する形で片面に所定の厚さの硬化樹脂層4を備え、その硬化樹脂層4上に骨格材5を含む半硬化樹脂層6を備えたものである。ここで、特徴的なことは、硬化樹脂層4の厚さが、銅箔の接着面の持つ表面粗さ(Rz)の値よりも0.5μm〜10μm厚いものとする点である。この厚さは、仮に完全平面に硬化樹脂層を形成したと考えたときの換算厚さである。下限値を(銅箔の接着面の持つ表面粗さ(Rz)の値+0.5)μmの厚さとしたのは、銅箔の粗化面の持つ凹凸を完全に被覆し、且つ、銅箔層側にエッチング液を当てエッチング加工を行う際の半硬化樹脂のバリアとして機能させるための安全性を考慮して定めたのである。これに対し、上限値を(銅箔の接着面の持つ表面粗さ(Rz)の値+10)μm以下としたのは、以下の熱間成型プレス工程の説明で詳説するが、この硬化樹脂層はプレス成型時に回路によって押されて突き破ることのできる(以下、これを「衝破」と称している。)厚さ及び材質のものでなければならない。そこで、一般的なリジット板に使用される銅箔の厚さが9μm以上であることを考慮して定めたのである。従って、10μmを超えると回路による硬化樹脂層4の衝破が困難となるのである。   As used herein, the copper foil 2 with an insulating layer is a semi-cured resin layer including a cured resin layer 4 having a predetermined thickness on one side in contact with the copper foil surface, and including a skeleton 5 on the cured resin layer 4. 6 is provided. Here, what is characteristic is that the thickness of the cured resin layer 4 is 0.5 μm to 10 μm thicker than the value of the surface roughness (Rz) of the adhesive surface of the copper foil. This thickness is a converted thickness when it is considered that the cured resin layer is formed on a completely flat surface. The lower limit value (the surface roughness (Rz) value of the adhesive surface of the copper foil +0.5) μm thickness is to completely cover the unevenness of the roughened surface of the copper foil, and the copper foil It is determined in consideration of safety for functioning as a barrier of a semi-cured resin when etching is performed by applying an etching solution to the layer side. On the other hand, the upper limit value (the value of the surface roughness (Rz) of the adhesive surface of the copper foil + 10) μm or less is explained in detail in the description of the hot forming press process below, but this cured resin layer Must be of a thickness and material that can be pushed and pierced by the circuit during press molding (hereinafter referred to as "breaking"). Therefore, it is determined in consideration that the thickness of the copper foil used for a general rigid plate is 9 μm or more. Accordingly, when the thickness exceeds 10 μm, it is difficult to break the cured resin layer 4 by a circuit.

以上に述べた硬化樹脂層4には厚さの限定があるが、当該硬化樹脂層の上に設けられる半硬化樹脂層6の厚さに関しては特に制限は存在しない。しかしながら、熱間成型プレス加工時に回路が、実質的に埋まり込む層となるため、クロストーク特性を劣化させないように層間絶縁が十分に確保できる厚さである必要を考慮する限り、基板設計に応じて任意に厚さ調節を行えばよいのである。絶縁層付銅箔では、硬化樹脂層4と半硬化樹脂層6とを併せて絶縁層と称しているのである。   Although the thickness of the cured resin layer 4 described above is limited, the thickness of the semi-cured resin layer 6 provided on the cured resin layer is not particularly limited. However, since the circuit becomes a layer that is substantially embedded during hot forming press processing, depending on the board design as long as it is necessary to have a thickness that can sufficiently secure interlayer insulation so as not to deteriorate the crosstalk characteristics The thickness can be adjusted arbitrarily. In the copper foil with an insulating layer, the cured resin layer 4 and the semi-cured resin layer 6 are collectively referred to as an insulating layer.

ここで、本件発明で用いる、絶縁層付銅箔の製造に関して、図1〜図5を用いて説明しておく。図1(1)に示すように銅箔層3の片面に熱硬化性樹脂溶液を塗布し塗膜Sを形成し、好ましくは図1(2)に示すように乾燥させ、これを図2(3)に示すように加熱炉20内(図面にはヒータ21乾燥を行う場合を記載)に入れ、加熱処理することで硬化させ硬化樹脂層4を形成する。 Here, manufacture of the copper foil with an insulating layer used by this invention is demonstrated using FIGS. Figure 1 (1) thermosetting resin solution on one side of the copper foil layer 3 as shown in the coating to form a coating film S 1, preferably dried as shown in FIG. 1 (2), which Figure 2 As shown in (3), it puts in the heating furnace 20 (the case where the heater 21 is dried is described in the drawing) and is cured by heat treatment to form the cured resin layer 4.

そして、図3(4)に示すように硬化樹脂層4上に熱硬化性樹脂溶液を塗布して塗膜Sを形成し、図3(5)に示すように半硬化状態とするのである。その後、図4(6)に示す手順の、第1ステップで半硬化状態の塗膜Sの上に骨格材5を載置し、図4(6)の第2ステップに示すように半硬化状態の塗膜Sに骨格材5を圧着し(図4では、加熱ロール22を用いて圧着する様子を模式的に示している。)、図4(6)の最終形態とする。 Then, 3 (4) a thermosetting resin solution on the cured resin layer 4 as shown in by coating to form a coating film S 2, is to a semi-cured state as shown in FIG. 3 (5) . Thereafter, the procedure shown in FIG. 4 (6), the skeletal material 5 is placed on the coating film S 2 in a semi-cured state in the first step, as shown in the second step of FIG. 4 (6) semi-cured the skeletal material 5 is pressed against the coating film S 2 state (in FIG. 4, the manner in which bonding using a heating roll 22 is shown schematically.), the final form of the FIG. 4 (6).

更に、図5(7)に示すように、これを加熱炉20内で加熱することで半硬化状態の塗膜Sの構成樹脂を再流動化させ、当該不織布若しくは織布である骨格材5に浸透させ反対面に滲み出させて、当該不織布若しくは織布を熱硬化性樹脂の構成樹脂で被覆する。炉内での操作が終了すると、直ちに炉外に出し、好ましくは図5(8)に示すようにエアーブロア装置23を用いて衝風する等して強制的に降温処理して、半硬化状態の維持を確実にするのである。以上のようにして、銅箔の片面に硬化樹脂層4と骨格材5を含んだ半硬化樹脂層6とからなる絶縁層を備えた絶縁層付銅箔2を得るのである。 Furthermore, as shown in FIG. 5 (7), which was re-fluidize the resin constituting the coating film S 2 in a semi-cured state by heating in the heating furnace 20, skeletal material is the nonwoven or woven fabric 5 The nonwoven fabric or woven fabric is covered with a constituent resin of a thermosetting resin. When the operation in the furnace is completed, it is immediately taken out of the furnace and preferably subjected to a temperature lowering process such as blast using an air blower device 23 as shown in FIG. It ensures maintenance. As described above, the copper foil 2 with an insulating layer having the insulating layer composed of the cured resin layer 4 and the semi-cured resin layer 6 including the skeleton material 5 on one surface of the copper foil is obtained.

ここで銅箔層3を構成する銅箔は、圧延で得られた圧延銅箔、電解で得られる電解銅箔等、特に製法にこだわるものでなく、プリント配線板の電子材料用途に用いられる銅箔であればよいのである。そして、この銅箔には、キャリア箔付銅箔をも含む概念として記載している。キャリア箔付銅箔は、銅箔の基材との接着面の反対面にキャリア箔が取り付けられており、キャリア箔を付けたままプレス加工して銅張積層板として、その後キャリア箔を除去して、通常の銅張積層板として用いるものである。キャリア箔付銅箔を用いる利点は、9μm厚さ等の薄い銅箔の取り扱いが容易で、プレス加工時に起こりうる銅箔表面への異物付着、汚染を防止して、エッチング加工の直前まで銅箔表面を傷等の損傷から保護できる点にある。   Here, the copper foil constituting the copper foil layer 3 is a copper foil used for an electronic material of a printed wiring board, such as a rolled copper foil obtained by rolling, an electrolytic copper foil obtained by electrolysis, and the like. Any foil can be used. This copper foil is described as a concept including a copper foil with a carrier foil. The copper foil with carrier foil has a carrier foil attached to the opposite side of the copper foil to the base, and the carrier foil is pressed to form a copper-clad laminate, and then the carrier foil is removed. And used as a normal copper-clad laminate. The advantage of using copper foil with carrier foil is that it is easy to handle thin copper foil with a thickness of 9μm, etc., and prevents foreign matter adhesion and contamination on the copper foil surface that may occur during press processing. The surface can be protected from damage such as scratches.

硬化樹脂層4を構成する樹脂には、一般的にはエポキシ樹脂を用いることになる。プリント配線板用途において広く用いられているからである。従って、ここで硬化樹脂層4を構成する樹脂としては、熱硬化性を備えた樹脂であり、且つ、電気、電子材料の分野でプリント配線板に使用可能なものであれば特に限定は要さないのである。この硬化樹脂層4は、溶剤を用いて液体状にした熱硬化性樹脂溶液を銅箔表面に塗布する方法を採用するのが一般的であるが、半硬化状態の樹脂フィルムをラミネートするように張り付ける方法等を採用することも可能である。溶剤を用いて熱硬化性樹脂溶液とする場合は、例えば、エポキシ樹脂、硬化剤、硬化促進剤を配合し、メチルエチルケトン等の溶剤を用いて粘度調整を行い用いることになる。硬化樹脂層4の厚さが当該銅箔の接着面の持つ表面粗さ(Rz)の値よりも0.5μm〜10μm厚いものとなる範囲に入る限り、硬化方法及び硬化条件に関しても、特に限定は要さないのである。   As the resin constituting the cured resin layer 4, an epoxy resin is generally used. This is because it is widely used in printed wiring board applications. Accordingly, the resin constituting the cured resin layer 4 is not particularly limited as long as it is a resin having thermosetting properties and can be used for a printed wiring board in the field of electric and electronic materials. There is no. The cured resin layer 4 generally employs a method of applying a liquid thermosetting resin solution to a copper foil surface using a solvent, but a semi-cured resin film is laminated. It is also possible to adopt a method of pasting. When making a thermosetting resin solution using a solvent, for example, an epoxy resin, a curing agent, and a curing accelerator are blended, and the viscosity is adjusted using a solvent such as methyl ethyl ketone. As long as the thickness of the cured resin layer 4 falls within a range of 0.5 μm to 10 μm thicker than the surface roughness (Rz) of the adhesive surface of the copper foil, the curing method and the curing conditions are also particularly limited. Is not necessary.

更に、半硬化樹脂層6を構成する樹脂にも、上述した硬化樹脂層4と同様の概念の熱硬化性樹脂と以下に述べる骨格材5とが用いられるのである。但し、必ずしも半硬化樹脂層6を構成する樹脂と、硬化樹脂層4とを構成する樹脂組成が同じである必要はないのである。ここで図3〜図5に示した半硬化樹脂層6の製造方法に関して補足的に詳説する。まず、銅箔表面に形成した硬化樹脂層4の上に、熱硬化性樹脂溶液を塗工し、有機溶剤成分を除去するのである。そして、以下に述べる不織布若しくは織布等の骨格材5を載置し、骨格材5に当該熱硬化性樹脂溶液を浸透させ、骨格材の反対面にまで樹脂を染み出させるのである。そして、硬化させることなく乾燥を行い、硬化樹脂層4の上に、骨格材5を含んだ半硬化樹脂層6を形成するのである。   Furthermore, the thermosetting resin having the same concept as the above-described cured resin layer 4 and the skeleton material 5 described below are also used for the resin constituting the semi-cured resin layer 6. However, the resin composition constituting the resin constituting the semi-cured resin layer 6 and the cured resin layer 4 is not necessarily the same. Here, the manufacturing method of the semi-cured resin layer 6 shown in FIGS. First, a thermosetting resin solution is applied on the cured resin layer 4 formed on the copper foil surface to remove the organic solvent component. Then, a skeleton material 5 such as a nonwoven fabric or a woven fabric described below is placed, and the thermosetting resin solution is infiltrated into the skeleton material 5 so that the resin is oozed out to the opposite surface of the skeleton material. Then, drying is performed without curing, and the semi-cured resin layer 6 including the skeleton material 5 is formed on the cured resin layer 4.

このときの熱硬化性樹脂溶液の塗膜厚さは、以下に述べる不織布若しくは織布5の厚さを考慮して定められる。形成する半硬化樹脂層厚さ(X(μm))に対し、X−40(μm)〜X−3(μm)の厚さとすることが望ましい。例えば、半硬化樹脂層厚さを100μmとするためには、100−40=60μmから100−3=97μmの厚さの塗膜厚さとして、銅箔表面に液体状の樹脂の塗布を行っておくのである。このようにすることで、硬化樹脂層4の表面に狙い通りの厚さの半硬化樹脂層6の形成が可能となるのである。前記塗膜厚さをX−40(μm)未満とすると、最終的に得られる半硬化樹脂層と張り合わせる基材との十分な密着性が得られず、塗膜厚さをX−3(μm)を超える厚さとしても、半硬化樹脂層と張り合わせる基材との密着性を向上させる効果が増大する事はなくなるのである。   The coating thickness of the thermosetting resin solution at this time is determined in consideration of the thickness of the nonwoven fabric or woven fabric 5 described below. The thickness of the semi-cured resin layer to be formed (X (μm)) is preferably set to a thickness of X-40 (μm) to X-3 (μm). For example, in order to set the thickness of the semi-cured resin layer to 100 μm, a liquid resin is applied to the surface of the copper foil with a coating thickness of 100−40 = 60 μm to 100−3 = 97 μm. I will leave it. By doing so, it is possible to form the semi-cured resin layer 6 having a desired thickness on the surface of the cured resin layer 4. When the coating film thickness is less than X-40 (μm), sufficient adhesion between the finally obtained semi-cured resin layer and the substrate to be bonded cannot be obtained, and the coating film thickness is set to X-3 ( Even if the thickness exceeds (μm), the effect of improving the adhesion between the semi-cured resin layer and the base material to be bonded is not increased.

そして、この熱硬化性樹脂溶液の塗膜S上に、骨格材5(不織布若しくは織布)を載置して、その塗膜Sの構成樹脂成分を骨格材5を構成するガラス繊維又は有機繊維の毛細管現象を利用して浸透させ、当該骨格材5の反対側に滲み出させ、骨格材5の表面を完全に被覆することで、絶縁層付銅箔2を得るのである。ここで言う有機繊維には、半田バス温度(260℃程度)で分解や融解しないものを用いることが好ましく、アラミド、全芳香族ポリエステル、PBO(ポリパラフェニレンベンゾビスオキサゾール)のいずれかを用いることが好ましい。 Then, on the coating film S 2 of the thermosetting resin solution, by placing the scaffold material 5 (nonwoven or woven fabric), glass fiber resin component of the coating film S 2 constituting the skeleton member 5 or By infiltrating using the capillary phenomenon of the organic fiber and oozing to the opposite side of the skeleton material 5, the surface of the skeleton material 5 is completely covered to obtain the copper foil 2 with an insulating layer. It is preferable to use organic fibers that do not decompose or melt at the solder bath temperature (about 260 ° C.), and use any one of aramid, wholly aromatic polyester, and PBO (polyparaphenylene benzobisoxazole). Is preferred.

このとき、図3〜図5に示す工程では、次のような点に考慮して、不織布若しくは織布5に樹脂含浸をさせ、不織布若しくは織布5の樹脂被覆を行なう事が好ましい。熱硬化性樹脂溶液の塗膜は、有機溶剤を多量に含んでいる。そのため、その溶剤を全く除去することなく、その表面に骨格材5を載置して、以下の工程を行わせると、最終的に半硬化状態に乾燥する際に、骨格材5の不織布若しくは織布の繊維にトラップされる形でバブルが発生しやすくなる。そこで、図3(5)の工程を設けたように、骨格材5を塗膜表面に載置する前に、バブル発生を防止するため一定量の溶剤除去を行うことが好ましいのである。溶剤の除去は、単に風乾させても、硬化温度以下の温度領域に加熱して行うものであっても構わない。   At this time, in the steps shown in FIG. 3 to FIG. 5, it is preferable to impregnate the nonwoven fabric or woven fabric 5 with a resin by coating the nonwoven fabric or woven fabric 5 in consideration of the following points. The coating film of the thermosetting resin solution contains a large amount of an organic solvent. Therefore, when the skeleton material 5 is placed on the surface without removing the solvent at all and the following steps are performed, the nonwoven fabric or woven material of the skeleton material 5 is finally dried when it is dried to a semi-cured state. Bubbles are easily generated in the form of being trapped in the fabric fibers. Therefore, as shown in FIG. 3 (5), it is preferable to remove a certain amount of solvent before the skeleton material 5 is placed on the surface of the coating film in order to prevent generation of bubbles. The removal of the solvent may be performed simply by air drying or by heating to a temperature range below the curing temperature.

骨格材5を載置する前に、塗膜の樹脂成分を半硬化状態にし、この半硬化状態になった塗膜に骨格材を載置する場合には、塗膜と骨格材との間に隙間が出来ないように、図4(6)に示したように骨格材を塗膜に仮圧着させることが好ましい。そして、図5(7)に示すようにして半硬化した塗膜樹脂を、再流動化させるため硬化温度以下の加熱を行い、当該骨格材5を構成するガラス繊維又はアラミド繊維の毛細管現象を利用して浸透させるのである。   Before placing the skeletal material 5, when the resin component of the coating film is in a semi-cured state and the skeletal material is placed on the semi-cured coating film, between the coating film and the skeletal material, As shown in FIG. 4 (6), it is preferable to temporarily press the skeleton material to the coating film so that no gap is formed. Then, the coating resin semi-cured as shown in FIG. 5 (7) is heated below the curing temperature to reflow, and the capillary phenomenon of the glass fiber or aramid fiber constituting the skeleton material 5 is used. And let it penetrate.

ここで骨格材5には、ガラス繊維、アラミド繊維を用いた不織布若しくは織布を用いることが望ましい。いずれもプリント配線板用途においては、長年の使用実績があるものであり、信頼性の高い材料だからである。しかし、不織布若しくは織布の材質は、特に限定を要するものではなく、プリント配線板用途に用いることのできるもので、十分な機械的特性を備えていればよいのである。なお、ここで用いる不織布及び織布を構成する繊維は、その表面の樹脂との濡れ性を向上させるため、シランカップリング剤処理を施す事が好ましい。このときのシランカップリング剤は、使用目的に応じてアミノ系、エポキシ系等のシランカップリング剤を用いればよいのである。   Here, it is desirable to use a nonwoven fabric or a woven fabric using glass fiber or aramid fiber as the skeleton material 5. This is because all of them have a long track record of use in printed wiring board applications and are highly reliable materials. However, the material of the non-woven fabric or the woven fabric is not particularly limited, and can be used for printed wiring board applications as long as it has sufficient mechanical characteristics. In addition, in order to improve the wettability with the resin of the surface, it is preferable to give the fiber which comprises the nonwoven fabric and woven fabric used here to a silane coupling agent process. The silane coupling agent at this time may be an amino or epoxy silane coupling agent depending on the purpose of use.

そして、当該骨格材5の厚さにも特段の限定は存在しないが、本件発明のような絶縁層付銅箔の製造方法を採用すれば、従来使用することの出来なかった厚さ50μm以下の薄い不織布若しくは織布を使用することが可能となるのである。従来は、骨格材を樹脂ワニスに浸漬して含浸させ、乾燥塔内に引き上げ半硬化状態に乾燥させ、プリプレグとする方法を採用しており、厚さ50μm以下の薄い不織布若しくは厚さ20μm以下の織布は、その機械的強度の弱さから、直ぐに破断、破損する不良が発生していたのである。ところが、本件発明に係る絶縁層付銅箔の製造方法を採用すれば、厚さ50μm以下の薄い不織布若しくは厚さ20μm以下の織布を用いても破断、破損することが無くなるのである。このように薄い骨格材を用いることが出来るため、本件発明に係る製造方法で得られるプリント配線板は、極めて良好なレーザー穴明け加工性能を示すと同時に、プリント配線板に求められる必要最小限の強度を確保でき、市場でのファインピッチ回路形成の要求に応えることが可能となるのである。   And although there is no particular limitation on the thickness of the skeleton 5, if the method for producing a copper foil with an insulating layer as in the present invention is adopted, the thickness of 50 μm or less that could not be conventionally used is used. A thin nonwoven fabric or woven fabric can be used. Conventionally, a skeleton material is immersed in a resin varnish, impregnated, pulled into a drying tower and dried to a semi-cured state, and a method of forming a prepreg is adopted. A thin nonwoven fabric having a thickness of 50 μm or less or a thickness of 20 μm or less is employed. Due to the weak mechanical strength of the woven fabric, a defect that breaks and breaks immediately occurred. However, if the method for producing a copper foil with an insulating layer according to the present invention is employed, even if a thin non-woven fabric having a thickness of 50 μm or less or a woven fabric having a thickness of 20 μm or less is used, it will not break or break. Since such a thin skeleton material can be used, the printed wiring board obtained by the manufacturing method according to the present invention exhibits extremely good laser drilling performance, and at the same time the minimum required for the printed wiring board. The strength can be ensured and the demand for fine pitch circuit formation in the market can be met.

以上のようにして本件発明に係る製造方法で使用する絶縁層付銅箔が得られるのである。そして、図6(9)に示すように、この絶縁層付銅箔2の銅箔層3の表面にエッチングレジスト層Rを設け、図6(10)に示すように回路パターンを露光し、現像するのである。そして、図7(11)に示すように銅箔層側の表面から銅エッチングして、図7(12)に示すようにエッチングレジストを剥離して、回路パターンを形成するのである。これが絶縁層付回路シート7である。この回路エッチング時には、銅箔層側からエッチング液を当てれば、硬化樹脂層4がバリアとなり、半硬化樹脂層6に損傷を与えないことになる。しかしながら、半硬化樹脂層6側へのエッチング液、レジスト剥離剤等の回り込みが起こる場合には、半硬化樹脂層6の表面に対しPETフィルム、ポリエチレンフィルム等の防護フィルムを用いることが好ましい。   As described above, the copper foil with an insulating layer used in the production method according to the present invention is obtained. Then, as shown in FIG. 6 (9), an etching resist layer R is provided on the surface of the copper foil layer 3 of the copper foil 2 with insulating layer, and the circuit pattern is exposed and developed as shown in FIG. 6 (10). To do. Then, copper etching is performed from the surface on the copper foil layer side as shown in FIG. 7 (11), and the etching resist is peeled off as shown in FIG. 7 (12) to form a circuit pattern. This is the circuit sheet 7 with an insulating layer. At the time of this circuit etching, if the etching solution is applied from the copper foil layer side, the cured resin layer 4 becomes a barrier, and the semi-cured resin layer 6 is not damaged. However, when an etching solution, a resist remover, or the like wraps around the semi-cured resin layer 6 side, it is preferable to use a protective film such as a PET film or a polyethylene film on the surface of the semi-cured resin layer 6.

工程B): そして、以上のようにして得られた絶縁層付回路シート7の半硬化樹脂層6を、図8(13)に示すように、張り合わせる基材(図面中では内層回路Cを備える内層コア材24を採用している。)と当接させ重ね合わせて、熱間プレス成形するのである。熱間プレス成形時には、170℃〜180℃程度の加熱が行われ、加圧されることになる。この加圧により、回路が、その下にある硬化樹脂層にクラックを生じつつ、半硬化樹脂層側へ押し込まれることになるのである。本件発明では、この現象を衝破と称しているのである。衝破の際には、硬化樹脂層4にクラックを生じ、そのクラックから再流動を初めている半硬化樹脂層6の熱硬化性樹脂が回路の側壁面を伝って染み出すことで、回路を完全に絶縁樹脂層内に埋設し、硬化樹脂層4と半硬化樹脂層6とが一体化した絶縁層が形成されるのである。以上のように、熱間プレス工程が終了すると、図8(14)に示した本件発明に係る絶縁樹脂層に埋設配置した回路Cを備えるプリント配線板1aが得られるのである。 Step B): Then, as shown in FIG. 8 (13), the semi-cured resin layer 6 of the circuit sheet 7 with an insulating layer obtained as described above is bonded to a base material (inner circuit C 2 in the drawing). The inner layer core material 24 is used. At the time of hot press molding, heating at about 170 ° C. to 180 ° C. is performed and pressure is applied. By this pressurization, the circuit is pushed into the semi-cured resin layer side while causing cracks in the cured resin layer underneath. In the present invention, this phenomenon is referred to as defeat. At the time of rupture, a crack is generated in the cured resin layer 4 and the thermosetting resin of the semi-cured resin layer 6 starting to reflow from the crack oozes out along the side wall surface of the circuit, so that the circuit is completely formed. An insulating layer embedded in the insulating resin layer and integrated with the cured resin layer 4 and the semi-cured resin layer 6 is formed. As described above, the hot pressing process is completed, it's a printed wiring board 1a having a circuit C 1 which is embedded disposed in the insulating resin layer according to the present invention shown in FIG. 8 (14) is obtained.

<キャパシタ用プリント配線板の製造方法>
以下の工程は、上述のプリント配線板の製造方法と共通する箇所があるため、共通箇所に関しては重複した説明を避けるため、記載を省略し、図9〜図11を参照しつつ、キャパシタ用プリント配線板1bの製造方法において特徴的な部分のみを工程順に説明することとする。
<Method for producing printed wiring board for capacitor>
Since the following steps are common to the printed wiring board manufacturing method described above, the description of the common parts is omitted to avoid redundant explanation, and the printed circuit for capacitors is referred to with reference to FIGS. Only the characteristic parts in the method of manufacturing the wiring board 1b will be described in the order of steps.

工程A): この工程では、銅箔3の片面に、当該銅箔の接着面の持つ表面粗さ(Rz)の値よりも0.5μm〜10μm厚いものとした硬化樹脂層を備え、その硬化樹脂層上に骨格材を含む半硬化樹脂層を備えた絶縁層付銅箔を用いて、その銅箔面にエッチングレジスト層を形成し、キャパシタ回路パターンを露光し、現像し、銅箔面をエッチングして一面側の電極となるキャパシタ回路を形成し、レジスト層を剥離することで、絶縁層付キャパシタ回路シートを形成するのである。従って、上述の工程A)と異なるのは、形成する回路がキャパシタ用の回路の上部電極若しくは下部電極となる一方の電極形状を含む回路であるという点が異なるのみであるため、この工程の詳細な説明は省略する。 Step A): In this step, a cured resin layer having a thickness of 0.5 μm to 10 μm thicker than the value of the surface roughness (Rz) of the adhesive surface of the copper foil is provided on one side of the copper foil 3 and cured. Using a copper foil with an insulating layer provided with a semi-cured resin layer containing a skeleton material on the resin layer, an etching resist layer is formed on the copper foil surface, the capacitor circuit pattern is exposed, developed, and the copper foil surface is developed. By etching, a capacitor circuit to be an electrode on one side is formed, and the resist layer is peeled to form a capacitor circuit sheet with an insulating layer. Therefore, the difference from the above-described step A) is only that the circuit to be formed is a circuit including one electrode shape that becomes the upper electrode or the lower electrode of the capacitor circuit. The detailed explanation is omitted.

工程B): この工程では、前記絶縁層付キャパシタ回路シートの半硬化樹脂層を張り合わせる基材面に当接させ重ね合わせて、熱間プレス成型することで、回路部の銅箔が前記硬化樹脂層を衝破し、前記半硬化樹脂層に埋設し、絶縁樹脂層に埋設配置したキャパシタ回路を備えるプリント配線板とするものである。従って、熱間成形プレスでキャパシタ用の回路の上部電極若しくは下部電極となる一方の電極形状を含む回路が埋設されたプリント配線板を得るのであり、上述の工程B)の熱間成形プレス工程と何ら異なるところはなく、当業者であれば容易に理解できるため、この工程の詳細な説明も省略する。 Step B): In this step, the semi-cured resin layer of the capacitor circuit sheet with an insulating layer is brought into contact with and overlapped with the base material surface to be laminated, and the copper foil of the circuit portion is cured by hot press molding. The printed wiring board is provided with a capacitor circuit that breaks the resin layer, is embedded in the semi-cured resin layer, and is embedded in the insulating resin layer. Therefore, the hot forming press is used to obtain a printed wiring board in which a circuit including one of the electrode shapes serving as the upper electrode or the lower electrode of the capacitor circuit is embedded. Since there is no difference, and those skilled in the art can easily understand, detailed description of this process is also omitted.

工程C): この工程では、図9(1)に示すように前記キャパシタ回路を備えるプリント配線板1aの埋設した回路C面に、誘電層付銅箔10の誘電層11面を当接させ重ね合わせる。そして、熱間プレス成形することで、図9(2)に示すように外層に銅箔層が位置する銅張積層板12とするのである。この誘電層付銅箔10は、銅箔の片面にキャパシタ回路を形成したときの誘電層11を構成する樹脂層若しくは誘電体フィラーを含有した樹脂層を備えたものである。従って、その断面から見た層構成は、図9(1)から見て取れるように、極めて単純な構成を持つものである。図9〜図11では、誘電層に誘電体フィラーを含んだ状態が見て取れるまでの記載はしていない。このときの誘電層を構成する樹脂及び誘電体フィラーの種類、誘電層の厚さによりキャパシタとしての性能が左右されることになる。 Step C): In this step, as shown in FIG. 9A, the surface of the dielectric layer 11 of the copper foil 10 with dielectric layer is brought into contact with the surface of the circuit C 1 embedded in the printed wiring board 1a having the capacitor circuit. Overlapping. And it is set as the copper clad laminated board 12 in which a copper foil layer is located in an outer layer as shown in FIG.9 (2) by carrying out hot press molding. This copper foil 10 with a dielectric layer is provided with a resin layer or a resin layer containing a dielectric filler constituting the dielectric layer 11 when a capacitor circuit is formed on one surface of the copper foil. Therefore, the layer structure seen from the cross section has an extremely simple structure as can be seen from FIG. In FIG. 9 to FIG. 11, description is not made until a state in which the dielectric layer includes a dielectric filler can be seen. The performance of the capacitor depends on the type of resin and dielectric filler constituting the dielectric layer and the thickness of the dielectric layer.

本件発明の場合、工程B)で製造したキャパシタ回路を備えるプリント配線板の表面がフラットであり、回路C部が突出していないため、回路間ギャップへの樹脂成分の広がりを考慮する必要がなく、例えレジンフローが小さな樹脂を誘電層に用いてもボイド等の空隙が生ずることなく、良好な密着性が得られることになるのである。しかも、当該プリント配線板の表面がフラットであるため、誘電層の厚さ精度の確保が容易であり、誘電層の薄層化が容易で、電気容量の大きなキャパシタ回路の形成が可能となるのである。 In the case of the present invention, since the surface of the printed wiring board provided with the capacitor circuit manufactured in the step B) is flat and the circuit C 1 part does not protrude, it is not necessary to consider the spread of the resin component to the gap between the circuits. Even if a resin having a small resin flow is used for the dielectric layer, voids such as voids do not occur and good adhesion can be obtained. Moreover, since the surface of the printed wiring board is flat, it is easy to ensure the thickness accuracy of the dielectric layer, the dielectric layer can be easily thinned, and a capacitor circuit having a large capacitance can be formed. is there.

ここで、誘電層付銅箔10の誘電層11を構成する樹脂組成物に関して説明する。本来、この樹脂組成に関しては、特に限定を要するものではなく、キャパシタ回路に要求される電気容量等の設計品質を考慮して、適宜選択的に使用材料を選定すればよいのである。しかしながら、張り合わせるプリント配線板の表面がフラットで凹凸のないものであるため、出来る限り界面剥離(デラミネーション)を防止する観点から、密着性に優れた樹脂組成を採用することが好ましい。特に望ましいのが、以下に述べるが如き樹脂組成である。   Here, the resin composition which comprises the dielectric layer 11 of the copper foil 10 with a dielectric layer is demonstrated. Originally, the resin composition is not particularly limited, and a material to be used may be appropriately selected in consideration of design quality such as electric capacity required for the capacitor circuit. However, since the surfaces of the printed wiring boards to be bonded are flat and have no unevenness, it is preferable to employ a resin composition having excellent adhesion from the viewpoint of preventing interfacial peeling (delamination) as much as possible. Particularly desirable is a resin composition as described below.

誘電層を構成するのに望ましい樹脂組成物を端的に表せば、エポキシ樹脂、硬化剤、溶剤に可溶な芳香族ポリアミド樹脂ポリマー、及び、必要に応じて適宜量添加する硬化促進剤からなるのである。   If the resin composition desirable for constituting the dielectric layer is simply expressed, it consists of an epoxy resin, a curing agent, an aromatic polyamide resin polymer soluble in a solvent, and a curing accelerator added in an appropriate amount as necessary. is there.

ここで言う「エポキシ樹脂」とは、分子内に2個以上のエポキシ基を有するものであって、電気・電子材料用途に用いることのできるものであれば、特に問題なく使用できる。中でも、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、ブロム化エポキシ樹脂、グリシジルアミン型エポキシ樹脂の群から選ばれる一種又は2種以上を混合して用いることが好ましい。   The “epoxy resin” referred to here has two or more epoxy groups in the molecule, and can be used without any particular problem as long as it can be used for electric / electronic materials. Among them, from the group of bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, bisphenol S type epoxy resin, novolac type epoxy resin, cresol novolac type epoxy resin, alicyclic epoxy resin, brominated epoxy resin, glycidylamine type epoxy resin It is preferable to use one kind or a mixture of two or more selected.

このエポキシ樹脂は、樹脂組成物の主体をなすものであり、20重量部〜80重量部の配合割合で用いられる。但し、ここには以下に述べる硬化剤を含むものとして考えている。従って、硬化剤を含む状態での当該エポキシ樹脂が20重量部未満の場合には、熱硬化性を十分に発揮せず基材樹脂とのバインダーとしての機能及び銅箔との密着性を十分に果たし得ず、80重量部を越えると樹脂溶液としたときの粘度が高くなりすぎて銅箔表面への均一な厚さでの塗布が困難となるとともに、後に述べる芳香族ポリアミド樹脂ポリマーの添加量とのバランスがとれず、硬化後の十分な靭性が得られなくなる。   This epoxy resin is the main component of the resin composition and is used in a blending ratio of 20 to 80 parts by weight. However, it is assumed here that the curing agent described below is included. Therefore, when the epoxy resin in the state containing the curing agent is less than 20 parts by weight, the thermosetting property is not sufficiently exhibited and the function as a binder with the base resin and the adhesiveness with the copper foil are sufficiently obtained. If the amount exceeds 80 parts by weight, the viscosity of the resin solution becomes too high, making it difficult to apply a uniform thickness to the copper foil surface, and the amount of aromatic polyamide resin polymer added later Cannot be balanced, and sufficient toughness after curing cannot be obtained.

そして、エポキシ樹脂の「硬化剤」とは、ジシアンジアミド、イミダゾール類、芳香族アミン等のアミン類、ビスフェノールA、ブロム化ビスフェノールA等のフェノール類、フェノールノボラック樹脂及びクレゾールノボラック樹脂等のノボラック類、無水フタル酸等の酸無水物等である。エポキシ樹脂に対する硬化剤の添加量は、それぞれの当量から自ずと導き出されるものであるため、本来厳密にその配合割合を明記する必要性はないものと考える。従って、本件発明では、硬化剤の添加量を特に限定していない。   The epoxy resin “curing agent” includes dicyandiamide, imidazoles, amines such as aromatic amines, phenols such as bisphenol A and brominated bisphenol A, novolacs such as phenol novolac resin and cresol novolac resin, anhydrous Acid anhydrides such as phthalic acid. Since the addition amount of the curing agent with respect to the epoxy resin is naturally derived from the respective equivalents, it is considered that there is no need to specify the mixing ratio strictly strictly. Therefore, in this invention, the addition amount of a hardening | curing agent is not specifically limited.

次に、「芳香族ポリアミド樹脂ポリマー」とは、芳香族ポリアミド樹脂とゴム性樹脂とを反応させて得られるものである。ここで、芳香族ポリアミド樹脂とは、芳香族ジアミンとジカルボン酸との縮重合により合成されるものである。このときの芳香族ジアミンには、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、3,3’−ジアミノジフェニルスルホン、m−キシレンジアミン、3,3’−オキシジアニリン等を用いる。そして、ジカルボン酸には、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、フマル酸等を用いるのである。   Next, the “aromatic polyamide resin polymer” is obtained by reacting an aromatic polyamide resin and a rubber resin. Here, the aromatic polyamide resin is synthesized by condensation polymerization of an aromatic diamine and a dicarboxylic acid. In this case, 4,4'-diaminodiphenylmethane, 3,3'-diaminodiphenylsulfone, m-xylenediamine, 3,3'-oxydianiline, or the like is used as the aromatic diamine. As the dicarboxylic acid, phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, fumaric acid or the like is used.

そして、この芳香族ポリアミド樹脂と反応させるゴム性樹脂とは、天然ゴム及び合成ゴムを含む概念として記載しており、後者の合成ゴムにはスチレン−ブタジエンゴム、ブタジエンゴム、ブチルゴム、エチレン−プロピレンゴム等がある。更に、形成する誘電体層の耐熱性を確保する際には、ニトリルゴム、クロロプレンゴム、シリコンゴム、ウレタンゴム等の耐熱性を備えた合成ゴムを選択使用することも有用である。これらのゴム性樹脂に関しては、芳香族ポリアミド樹脂と反応して共重合体を製造するようになるため、両末端に種々の官能基を備えるものであることが望ましい。特に、CTBN(カルボキシ基末端ブタジエンニトリル)を用いることが有用である。   The rubber resin to be reacted with the aromatic polyamide resin is described as a concept including natural rubber and synthetic rubber. The latter synthetic rubber includes styrene-butadiene rubber, butadiene rubber, butyl rubber, and ethylene-propylene rubber. Etc. Furthermore, when ensuring the heat resistance of the dielectric layer to be formed, it is also useful to select and use a synthetic rubber having heat resistance such as nitrile rubber, chloroprene rubber, silicon rubber, urethane rubber or the like. Since these rubber resins react with an aromatic polyamide resin to produce a copolymer, it is desirable to have various functional groups at both ends. In particular, it is useful to use CTBN (carboxy group-terminated butadiene nitrile).

芳香族ポリアミド樹脂ポリマーを構成することとなる芳香族ポリアミド樹脂とゴム性樹脂とは、芳香族ポリアミド樹脂が25重量部〜75重量部、残部ゴム性樹脂という配合で用いることが好ましい。芳香族ポリアミド樹脂が25重量部未満の場合には、ゴム成分の存在比率が大きくなりすぎ耐熱性に劣るものとなり、一方、75重量部を越えると芳香族ポリアミド樹脂の存在比率が大きくなりすぎて、硬化後の硬度が高くなりすぎ、脆くなるのである。この芳香族ポリアミド樹脂ポリマーは、銅張積層板に加工した後の銅箔をエッチング加工する際に、エッチング液によりアンダーエッチング等の損傷を受けないことを目的に用いたものである。   The aromatic polyamide resin and the rubbery resin that constitute the aromatic polyamide resin polymer are preferably used in a blend of 25 to 75 parts by weight of the aromatic polyamide resin and the remaining rubbery resin. When the amount of the aromatic polyamide resin is less than 25 parts by weight, the abundance ratio of the rubber component becomes too high and the heat resistance is inferior. On the other hand, when it exceeds 75 parts by weight, the abundance ratio of the aromatic polyamide resin becomes too large. The hardness after curing becomes too high and becomes brittle. This aromatic polyamide resin polymer is used for the purpose of avoiding damage such as under-etching by the etching solution when etching the copper foil after being processed into a copper-clad laminate.

この芳香族ポリアミド樹脂ポリマーには、まず溶剤に可溶であるという性質が求められる。この芳香族ポリアミド樹脂ポリマーは、20重量部〜80重量部の配合割合で用いる。芳香族ポリアミド樹脂ポリマーが20重量部未満の場合には、銅張積層板の製造を行う一般的プレス条件で硬化しすぎて脆くなり、基板表面にマイクロクラックを生じやすくなるのである。一方、80重量部を越えて芳香族ポリアミド樹脂ポリマーを添加しても特に支障はないが、80重量部を越えて芳香族ポリアミド樹脂ポリマーを添加してもそれ以上に硬化後の強度は向上しないのである。従って、経済性を考慮すれば、80重量部が上限値であると言えるのである。   The aromatic polyamide resin polymer is required to have a property of being soluble in a solvent. This aromatic polyamide resin polymer is used in a blending ratio of 20 to 80 parts by weight. When the amount of the aromatic polyamide resin polymer is less than 20 parts by weight, it becomes too brittle under general press conditions for producing a copper clad laminate, and becomes microcracked easily on the substrate surface. On the other hand, there is no particular problem even if the aromatic polyamide resin polymer is added in an amount exceeding 80 parts by weight, but the strength after curing is not further improved even if the aromatic polyamide resin polymer is added in an amount exceeding 80 parts by weight. It is. Therefore, if economics are considered, it can be said that 80 weight part is an upper limit.

「必要に応じて適宜量添加する硬化促進剤」とは、3級アミン、イミダゾール、尿素系硬化促進剤等である。本件発明では、この硬化促進剤の配合割合は、特に限定を設けていない。なぜなら、硬化促進剤は、銅張積層板製造の工程での生産条件性等を考慮して、製造者が任意に選択的に添加量を定めて良いものであるからである。   “A curing accelerator to be added in an appropriate amount as needed” includes tertiary amines, imidazoles, urea-based curing accelerators, and the like. In the present invention, the mixing ratio of the curing accelerator is not particularly limited. This is because the curing accelerator may be arbitrarily selected by the manufacturer in consideration of production conditions in the process of producing the copper-clad laminate.

次に、誘電層11を構成するのに用いる誘電体フィラーに関して説明する。この誘電体フィラーは、上述してきた誘電層を構成するために用いる樹脂成分中に混合して誘電層の中に分散して存在させるものであり、最終的にキャパシタ形状に加工したときのキャパシタの電気容量を増大させるために用いるのである。この誘電体フィラーには、BaTiO、SrTiO、Pb(Zr−Ti)O(通称PZT)、PbLaTiO・PbLaZrO(通称PLZT)、SrBiTa(通称SBT)等のペブロスカイト構造を持つ複合酸化物の誘電体粉を用いるのが好ましい。 Next, the dielectric filler used for forming the dielectric layer 11 will be described. This dielectric filler is mixed with the resin component used to constitute the above-described dielectric layer and dispersed in the dielectric layer and is finally present in the capacitor when processed into a capacitor shape. It is used to increase the electric capacity. The dielectric filler has a perovskite structure such as BaTiO 3 , SrTiO 3 , Pb (Zr—Ti) O 3 (common name PZT), PbLaTiO 3 · PbLaZrO (common name PLZT), SrBi 2 Ta 2 O 9 (common name SBT), and the like. It is preferable to use a complex oxide dielectric powder.

そして、この誘電体フィラーの粉体特性は、まず粒径が0.1〜1.0μmの範囲のものであることが好ましい。ここで言う粒径は、粉粒同士がある一定の2次凝集状態を形成しているため、レーザー回折散乱式粒度分布測定法やBET法等の測定値から平均粒径を推測するような間接測定では精度が劣るものとなるため用いることができず、誘電体フィラーを走査型電子顕微鏡(SEM)で直接観察し、そのSEM像を画像解析し得られる平均粒径を言うものである。本件明細書ではこの時の粒径をDIAと表示している。なお、本件明細書における走査型電子顕微鏡(SEM)を用いて観察される誘電体フィラーの粉体の画像解析は、旭エンジニアリング株式会社製のIP−1000PCを用いて、円度しきい値10、重なり度20として円形粒子解析を行い、平均粒径DIAを求めたものである。 And as for the powder characteristic of this dielectric filler, it is preferable that a particle diameter is a thing of the range of 0.1-1.0 micrometer first. The particle size referred to here is indirect in which the average particle size is estimated from the measured values of the laser diffraction scattering type particle size distribution measurement method and the BET method because the particles form a certain secondary aggregation state. The measurement is inferior in accuracy and cannot be used. The average particle size is obtained by directly observing the dielectric filler with a scanning electron microscope (SEM) and analyzing the SEM image. In this specification, the particle size at this time is indicated as DIA . In addition, the image analysis of the powder of the dielectric filler observed using a scanning electron microscope (SEM) in this specification is performed using IP-1000PC manufactured by Asahi Engineering Co., Ltd. Circular particle analysis was performed with an overlap degree of 20, and the average particle diameter DIA was obtained.

更に、レーザー回折散乱式粒度分布測定法による重量累積粒径D50が0.2〜2.0μmであり、且つ、重量累積粒径D50と画像解析により得られる平均粒径DIAとを用いてD50/DIAで表される凝集度の値が4.5以下である略球形の形状をしたペロブスカイト構造を持つ誘電体粉末であることが求められる。 Further, the weight cumulative particle diameter D 50 by the laser diffraction scattering particle size distribution measurement method is 0.2 to 2.0 μm, and the weight cumulative particle diameter D 50 and the average particle diameter D IA obtained by image analysis are used. Therefore, it is required that the dielectric powder has a perovskite structure having a substantially spherical shape with a cohesion value represented by D 50 / D IA of 4.5 or less.

レーザー回折散乱式粒度分布測定法による重量累積粒径D50とは、レーザー回折散乱式粒度分布測定法を用いて得られる重量累積50%における粒径のことであり、この重量累積粒径D50の値が小さいほど、誘電体フィラー粉の粒径分布の中で微細な粉粒の占める割合が多いことになる。本件発明では、この値が0.2μm〜2.0μmであることが求められる。即ち、重量累積粒径D50の値が0.2μm未満の場合には、どのような製造方法を採用した誘電体フィラー粉であれ、凝集の進行が著しく以下に述べる凝集度を満足するものとはならないのである。一方、重量累積粒径D50の値が2.0μmを越える場合には、本件発明の目的とするところであるプリント配線板の内蔵キャパシタ層形成用の誘電体フィラーとしての使用が不可能となるのである。即ち、キャパシタ層を形成するのに用いる両面銅張積層板の誘電体層は、通常10μm〜50μmの厚さのものであり、ここに誘電体フィラーを均一に分散させるためには2.0μmが上限となるのである。 The weight cumulative particle size D 50 by the laser diffraction scattering type particle size distribution measurement method is a particle size at 50% weight accumulation obtained by using the laser diffraction scattering type particle size distribution measurement method, and this weight cumulative particle size D 50. The smaller the value of, the greater the proportion of fine powder particles in the particle size distribution of the dielectric filler powder. In the present invention, this value is required to be 0.2 μm to 2.0 μm. That is, when the value of the weight cumulative particle diameter D 50 is less than 0.2 μm, the progress of aggregation is remarkably satisfied with the degree of aggregation described below, regardless of the production method of the dielectric filler powder. It must not be. On the other hand, when the value of weight-cumulative particle diameter D 50 is more than 2.0μm, since the use of a dielectric filler embedded capacitor layer forming a printed wiring board is where an object of the present invention is not is there. That is, the dielectric layer of the double-sided copper clad laminate used to form the capacitor layer is usually 10 μm to 50 μm thick, and 2.0 μm is required to uniformly disperse the dielectric filler. It is an upper limit.

なお、本件発明における重量累積粒径D50の測定は、誘電体フィラー粉をメチルエチルケトンに混合分散させ、この溶液をレーザー回折散乱式粒度分布測定装置 Micro Trac HRA 9320−X100型(日機装株式会社製)の循環器に投入して測定を行った。 The weight cumulative particle size D 50 in the present invention is measured by mixing and dispersing the dielectric filler powder in methyl ethyl ketone, and using this solution as a laser diffraction scattering type particle size distribution measuring device Micro Trac HRA 9320-X100 (manufactured by Nikkiso Co., Ltd.). The measurement was performed by putting it in the circulatory system.

ここで凝集度という概念を用いているが、以下のような理由から採用したものである。即ち、レーザー回折散乱式粒度分布測定法を用いて得られる重量累積粒径D50の値は、真に粉粒の一つ一つの径を直接観察したものではないと考えられる。殆どの誘電体粉を構成する粉粒は、個々の粒子が完全に分離した、いわゆる単分散粉ではなく、複数個の粉粒が凝集して集合した状態になっているからである。レーザー回折散乱式粒度分布測定法は、凝集した粉粒を一個の粒子(凝集粒子)として捉えて、重量累積粒径を算出していると言えるからである。 Here, the concept of cohesion is used, which is adopted for the following reason. That is, the value of the weight cumulative particle diameter D 50 obtained by using the laser diffraction / scattering particle size distribution measurement method is not considered to be a direct observation of each individual particle diameter. This is because the powder particles constituting most of the dielectric powder are not so-called monodispersed powders in which individual particles are completely separated, but are in a state where a plurality of powder particles are aggregated and aggregated. This is because the laser diffraction / scattering particle size distribution measurement method regards the aggregated particles as one particle (aggregated particles) and calculates the weight cumulative particle size.

これに対して、走査型電子顕微鏡を用いて観察される誘電体粉の観察像を画像処理することにより得られる平均粒径DIAは、SEM観察像から直接得るものであるため、一次粒子が確実に捉えられることになり、反面には粉粒の凝集状態の存在を全く反映させていないことになる。 On the other hand, since the average particle diameter DIA obtained by image processing the observation image of the dielectric powder observed using the scanning electron microscope is obtained directly from the SEM observation image, the primary particles are On the other hand, the presence of the agglomerated state of the particles is not reflected at all.

以上のように考えると、本件発明者等は、レーザー回折散乱式粒度分布測定法の重量累積粒径D50と画像解析により得られる平均粒径DIAとを用いて、D50/DIAで算出される値を凝集度として捉えることとしたのである。即ち、同一ロットの銅粉においてD50とDIAとの値が同一精度で測定できるものと仮定して、上述した理論で考えると、凝集状態のあることを測定値に反映させるD50の値は、DIAの値よりも大きな値になると考えられる(現実の測定に置いても、同様の結果が得られる)。 Given Thus, the present inventors have found that, by using the average particle diameter D IA obtained by a weight cumulative particle diameter D 50 and the image analysis of a laser diffraction scattering particle size distribution measurement method, at D 50 / D IA The calculated value was taken as the degree of aggregation. That is, on the assumption that the value of D 50 and D IA in copper powder of the same lot can be measured with the same accuracy, considering theory described above, the value of D 50 to be reflected in the measured values that the aggregation state Is considered to be larger than the value of DIA (similar results can be obtained even in actual measurement).

このとき、D50の値は、誘電体フィラー粉の粉粒の凝集状態が全くなくなるとすれば、限りなくDIAの値に近づいてゆき、凝集度であるD50/DIAの値は、1に近づくことになる。凝集度が1となった段階で、粉粒の凝集状態が全く無くなった単分散粉と言えるのである。但し、現実には、凝集度が1未満の値を示す場合もある。理論的に考え真球の場合には、1未満の値にはならないのであるが、現実には、粉粒が真球ではないために1未満の凝集度の値が得られることになるようである。 At this time, the value of D 50, if the granular state of aggregation of the dielectric filler powder is completely eliminated, Yuki approaching the value of the infinitely D IA, the value of a degree of aggregation D 50 / D IA is It approaches 1 It can be said that it is a monodispersed powder in which the agglomeration state of the powder is completely lost when the aggregation degree becomes 1. However, in reality, the degree of aggregation may be less than 1. Theoretically, in the case of a true sphere, it does not become a value less than 1, but in reality, it seems that a cohesion value of less than 1 is obtained because the powder is not a true sphere. is there.

本件発明では、この誘電体フィラー粉の凝集度が4.5以下であることが求められる。この凝集度が4.5を越えると、誘電体フィラーの粉粒同士の凝集レベルが高くなりすぎて、上述したバインダー樹脂との均一混合が困難となるのである。   In this invention, it is calculated | required that the aggregation degree of this dielectric filler powder is 4.5 or less. If the degree of aggregation exceeds 4.5, the level of aggregation of the dielectric filler powder particles becomes too high, and uniform mixing with the binder resin described above becomes difficult.

誘電体フィラー粉の製造方法として、アルコキシド法、水熱合成法、オキサレート法等のいずれの製造方法を採用しても、一定の凝集状態が不可避的に形成されるため、上述の凝集度を満足しない誘電体フィラー粉が発生し得るものである。特に、湿式法である水熱合成法の場合には、凝集状態の形成が起こりやすい傾向にある。そこで、この凝集した状態の粉体を、一粒一粒の粉粒に分離する解粒処理を行うことで、誘電体フィラー粉の凝集状態を、上述の凝集度の範囲とすることが可能なのである。   Regardless of the alkoxide method, hydrothermal synthesis method, oxalate method, etc. used as the method for producing the dielectric filler powder, a certain aggregation state is inevitably formed, so the above-mentioned aggregation degree is satisfied. Dielectric filler powder that cannot be generated can be generated. In particular, in the case of the hydrothermal synthesis method which is a wet method, the formation of an aggregated state tends to occur. Therefore, the aggregated state of the dielectric filler powder can be set within the above-described aggregation degree range by performing a pulverization process for separating the agglomerated powder into one granular particle. is there.

単に解粒作業を行うことを目的とするのであれば、解粒の行える手段として、高エネルギーボールミル、高速導体衝突式気流型粉砕機、衝撃式粉砕機、ゲージミル、媒体攪拌型ミル、高水圧式粉砕装置等種々の物を用いることが可能である。ところが、誘電体フィラー粉とバインダー樹脂との混合性及び分散性を確保するためには、以下に述べる誘電体フィラー含有樹脂溶液としての粘度低減を考えるべきである。誘電体フィラー含有樹脂溶液の粘度の低減を図る上では、誘電体フィラーの粉粒の比表面積が小さく、滑らかなものとすることが求められる。従って、解粒は可能であっても、解粒時に粉粒の表面に損傷を与え、その比表面積を増加させるような解粒手法であってはならないのである。   If the purpose is simply pulverization, high energy ball mill, high-speed conductor impingement airflow pulverizer, impact pulverizer, gauge mill, medium agitation mill, high water pressure Various things such as a pulverizer can be used. However, in order to ensure the mixability and dispersibility of the dielectric filler powder and the binder resin, the viscosity reduction as a dielectric filler-containing resin solution described below should be considered. In order to reduce the viscosity of the dielectric filler-containing resin solution, the specific surface area of the dielectric filler powder is required to be small and smooth. Therefore, even if granulation is possible, it should not be a granulation technique that damages the surface of the granule during granulation and increases its specific surface area.

このような認識に基づいて、本件発明者等が鋭意研究した結果、二つの手法が有効であることが見いだされた。この二つの方法に共通することは、誘電体フィラーの粉体の粉粒が装置の内壁部、攪拌羽根、粉砕媒体等の部分と接触することを最小限に抑制し、凝集した粉粒同士の相互衝突を行わせることで、解粒が十分可能な方法という点である。即ち、装置の内壁部、攪拌羽根、粉砕媒体等の部分と接触することは粉粒の表面を傷つけ、表面粗さを増大させ、真球度を劣化させることにつながり、これを防止するのである。そして、十分な粉粒同士の衝突を起こさせることで、凝集状態にある粉粒を解粒し、同時に、粉粒同士の衝突による粉粒表面の平滑化の可能な手法を採用できるのである。   Based on this recognition, the inventors of the present invention diligently researched and found that the two methods are effective. What is common to these two methods is that the powder particles of the dielectric filler are kept from contacting the inner wall, stirring blades, grinding media, etc. This is a method in which pulverization is sufficiently possible by causing mutual collisions. That is, contact with parts such as the inner wall of the apparatus, stirring blades, and grinding media damages the surface of the powder, increases the surface roughness, and deteriorates the sphericity, thereby preventing this. . Then, by causing sufficient collision between the powder particles, it is possible to disaggregate the powder particles in an agglomerated state, and at the same time, it is possible to employ a method capable of smoothing the surface of the powder particles by collision between the powder particles.

その一つは、凝集状態にある誘電体フィラー粉を、ジェットミルを利用して解粒処理するのである。ここで言う「ジェットミル」とは、エアの高速気流を用いて、この気流中に誘電体フィラー粉を入れ、この高速気流中で粉粒同士を相互に衝突させ、解粒作業を行うのである。   One of them is to pulverize the dielectric filler powder in an agglomerated state using a jet mill. "Jet mill" here refers to the use of a high-speed air stream, putting dielectric filler powder in this air stream, causing the particles to collide with each other in this high-speed air stream, and performing the pulverization operation. .

また、凝集状態にある誘電体フィラー粉を、そのストイキオメトリを崩すことのない溶媒中に分散させたスラリーを、遠心力を利用した流体ミルを用いて解粒処理するのである。ここで言う「遠心力を利用した流体ミル」を用いることで、当該スラリーを円周軌道を描くように高速でフローさせ、このときに発生する遠心力により凝集した粉粒同士を溶媒中で相互に衝突させ、解粒作業を行うのである。このようにすることで、解粒作業の終了したスラリーを洗浄、濾過、乾燥することで解粒作業の終了した誘電体フィラー粉が得られることになるのである。以上に述べた方法で、凝集度の調整及び誘電体フィラー粉の粉体表面の平滑化を図ることができるのである。   In addition, a slurry in which the dielectric filler powder in an agglomerated state is dispersed in a solvent that does not destroy the stoichiometry is pulverized using a fluid mill using centrifugal force. By using the “fluid mill using centrifugal force”, the slurry is allowed to flow at a high speed so as to draw a circumferential trajectory. And then pulverize. By doing in this way, the dielectric filler powder which finished the granulation work is obtained by washing, filtering, and drying the slurry after the granulation work. By the method described above, the degree of aggregation can be adjusted and the powder surface of the dielectric filler powder can be smoothed.

以上述べてきた熱硬化性樹脂と誘電体フィラーとを混合して、プリント配線板のキャパシタ層形成用の誘電体フィラー含有樹脂とするのである。このときの、熱硬化性樹脂と誘電体フィラーとの配合割合は、誘電体フィラーの含有率が75wt%〜85wt%、残部熱硬化性樹脂とすることが望ましい。誘電体フィラーの含有率が75wt%未満の場合には、市場で現在要求されている比誘電率20を満足できず、誘電体フィラーの含有率が85wt%を越えると、熱硬化性樹脂の含有率が15wt%未満となり、誘電体フィラー含有樹脂とそこに張り合わせる銅箔との密着性が損なわれ、プリント配線板製造用としての要求特性を満足する銅張積層板の製造が困難となるのである。   The above-described thermosetting resin and dielectric filler are mixed to form a dielectric filler-containing resin for forming a capacitor layer of a printed wiring board. At this time, the blending ratio of the thermosetting resin and the dielectric filler is desirably 75 wt% to 85 wt% in the content of the dielectric filler and the remaining thermosetting resin. If the dielectric filler content is less than 75 wt%, the dielectric constant of 20 currently required in the market cannot be satisfied. If the dielectric filler content exceeds 85 wt%, the thermosetting resin content Since the rate becomes less than 15 wt%, the adhesion between the dielectric filler-containing resin and the copper foil laminated thereon is impaired, and it becomes difficult to produce a copper-clad laminate that satisfies the required characteristics for producing a printed wiring board. is there.

以上に説明してきた誘電体フィラー含有樹脂を用いて、プリント配線板のキャパシタ層の誘電体層を構成すると、十分な膜厚の均一性を備えた状態での誘電層の薄層化が可能であり、結果として非常に良好な高電気容量を備えたキャパシタ回路となるのである。   If the dielectric layer of the capacitor layer of a printed wiring board is configured using the dielectric filler-containing resin described above, the dielectric layer can be thinned with sufficient film thickness uniformity. Yes, resulting in a capacitor circuit with very good high capacitance.

工程D): この工程では、外層銅箔3にエッチングレジスト層を形成し、キャパシタ回路パターンを露光し、現像し、銅箔面をエッチングしてキャパシタ回路Cを形成し、レジスト層を剥離することで、他面側の電極となるキャパシタ回路Cを形成し、キャパシタ回路を備えたプリント配線板とするのである。この工程を示したのが、図10及び図11である。 Step D): In this step, the outer layer copper foil 3 to form an etching resist layer, exposing the capacitor circuit pattern and developed to the copper foil surface is etched to form a capacitor circuit C 3, peeling off the resist layer it is, to form a capacitor circuit C 3 of the other side of the electrode is to the printed wiring board with a capacitor circuit. This process is shown in FIG. 10 and FIG.

即ち、上述の工程A)で形成したキャパシタ用の回路の上部電極若しくは下部電極となる他方の電極形状を含む回路を、多層プリント配線板の外層銅箔をエッチングするのと同様に加工するのである。従って、当業者であれば容易に理解することが可能であり、しかも、工程A)の説明と重複部分も多くあるため、この工程の詳細な説明は省略する。   That is, the circuit including the other electrode shape that becomes the upper electrode or the lower electrode of the capacitor circuit formed in the above-described step A) is processed in the same manner as etching the outer layer copper foil of the multilayer printed wiring board. . Therefore, those skilled in the art can easily understand this, and since there are many overlapping parts with the description of step A), detailed description of this step is omitted.

以上に述べてきた製造方法の説明では、図面中で両面に積層加工するイメージを示してきたが、当業者であれば、片面、両面、3層以上の多層板を含むいかなる層構成に係るプリント配線板にも応用可能な製造方法である。   In the description of the manufacturing method described above, the image of laminating on both sides in the drawings has been shown. However, those skilled in the art will be able to print according to any layer configuration including single-sided, double-sided, multi-layer boards of 3 layers or more. This manufacturing method can also be applied to a wiring board.

以上に述べてきたプリント配線板の製造方法は、絶縁樹脂層に埋設配置した回路を備えるプリント配線板を非常に効率よく製造できる方法であり、得られたプリント配線板の表面は非常にフラットであり、且つ、絶縁層内の骨格材を極めて薄くすることが可能であるため、レーザー穴明け加工性に優れ低出力の炭酸ガスレーザーによる加工効率を飛躍的に高め、高密度配線化及び高密度実装化の要求に応えることが可能となる。   The printed wiring board manufacturing method described above is a method that can very efficiently manufacture a printed wiring board having a circuit embedded in an insulating resin layer, and the surface of the obtained printed wiring board is very flat. In addition, since the skeletal material in the insulating layer can be made extremely thin, it has excellent laser drilling workability and dramatically improves the processing efficiency with a low-power carbon dioxide laser. It becomes possible to meet the demand for mounting.

また、本件発明に係る絶縁樹脂層に埋設配置したキャパシタ回路を備えるプリント配線板の製造方法を採用することで、フラットなプリント配線板の表面に誘電層を張り合わせ加工することとなるため、キャパシタ回路の誘電層厚さを薄く設計しても、極めて高い厚さ精度を得ることが可能となる。   In addition, since the dielectric layer is bonded to the surface of the flat printed wiring board by adopting the manufacturing method of the printed wiring board including the capacitor circuit embedded and arranged in the insulating resin layer according to the present invention, the capacitor circuit Even if the dielectric layer thickness is designed to be thin, extremely high thickness accuracy can be obtained.

以下、本件発明に係るプリント配線板の製造方法の最良の実施の形態に関して説明することとする。   Hereinafter, the best embodiment of the method for manufacturing a printed wiring board according to the present invention will be described.

本実施形態においては、図1〜図5に示したフローに従い、公称厚さ12μmで、粗化面の表面粗さ(Rz)が3.0μmである電解銅箔3を用いて、絶縁層付銅箔2を製造した。   In this embodiment, according to the flow shown in FIGS. 1 to 5, an electrolytic copper foil 3 having a nominal thickness of 12 μm and a roughened surface having a surface roughness (Rz) of 3.0 μm is used. Copper foil 2 was produced.

まず最初に、硬化樹脂層4及び半硬化樹脂層6の形成に用いるエポキシ樹脂組成物を調整した。ここでは、樹脂として、ビスフェノールA型エポキシ樹脂(商品名:YD−128、東都化成社製)30重量部、o−クレゾール型エポキシ樹脂(商品名:ESCN−195XL80、住友化学社製)50重量部、エポキシ樹脂硬化剤として固形分25%のジメチルホルムアルデヒド溶液の形でジシアンジアミド(ジシアンジアミドとして4重量部)を16重量部、硬化促進剤として2−エチル4−メチルイミダゾール(商品名:キャゾール2E4MZ、四国化成社製)を0.1重量部をメチルエチルケトンとジメチルホルムアルデヒドとの混合溶剤(混合比:メチルエチルケトン/ジメチルホルムアルデヒド=4/6)に溶解して固形分60%のエポキシ樹脂組成物とし、これを用いた。   First, the epoxy resin composition used for forming the cured resin layer 4 and the semi-cured resin layer 6 was prepared. Here, as resin, bisphenol A type epoxy resin (trade name: YD-128, manufactured by Tohto Kasei Co., Ltd.) 30 parts by weight, o-cresol type epoxy resin (trade name: ESCN-195XL80, manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) 50 parts by weight 16 parts by weight of dicyandiamide (4 parts by weight as dicyandiamide) in the form of a dimethylformaldehyde solution having a solid content of 25% as an epoxy resin curing agent, and 2-ethyl 4-methylimidazole (trade name: KAZOLE 2E4MZ, Shikoku Chemicals) as a curing accelerator 0.1 part by weight was dissolved in a mixed solvent of methyl ethyl ketone and dimethyl formaldehyde (mixing ratio: methyl ethyl ketone / dimethyl formaldehyde = 4/6) to obtain an epoxy resin composition having a solid content of 60%. .

絶縁層付銅箔の製造: 図1〜図2に示したフローに従って、このエポキシ樹脂組成物を、前記公称厚さ12μmの電解銅箔3の粗化面(Rz=2.0μm)に均一に塗布して、室温で30分間放置して、熱風乾燥機を用いて150℃の温風を2分間衝風することで、一定量の溶剤を除去し、更に170℃の温度で60分間の硬化処理を行い、硬化樹脂層4を形成した。このときのエポキシ樹脂組成物の塗布量は、硬化後の膜厚として当該銅箔の接着面の持つ表面粗さ(Rz)の値よりも8μm厚いものとなるようにした。 Production of copper foil with insulating layer: According to the flow shown in FIGS. 1 and 2, this epoxy resin composition is uniformly applied to the roughened surface (Rz = 2.0 μm) of electrolytic copper foil 3 having a nominal thickness of 12 μm. Apply, leave at room temperature for 30 minutes, blow with warm air at 150 ° C for 2 minutes using a hot air dryer to remove a certain amount of solvent, and further cure at 170 ° C for 60 minutes Processing was performed to form a cured resin layer 4. The amount of the epoxy resin composition applied at this time was 8 μm thicker than the value of the surface roughness (Rz) of the adhesive surface of the copper foil as the film thickness after curing.

次に、図3〜図5に示したフローに従って、硬化樹脂層4の表面に半硬化樹脂層6を形成した。硬化樹脂層4の表面に前記エポキシ樹脂組成物を、均一に塗布して、室温で30分間放置して、熱風乾燥機を用いて150℃の温風を2分間衝風することで10μm厚さの半硬化状態の膜厚とした。そして、この上に、骨格材5として公称厚さ50μm厚のアラミド繊維の不織布を張り合わせた。この張り合わせは、半硬化状態の塗膜Sの表面に当該不織布を重ね合わせて、150℃に加熱し、9kg/cmのラミネート圧力を掛けることの出来るようにし加熱ロール22の間を、20cm/分の速度で通過させることにより行った。その結果、張り合わせた状態での塗膜S2と骨格材5との合計厚さが平均55μmであった。 Next, the semi-cured resin layer 6 was formed on the surface of the cured resin layer 4 according to the flow shown in FIGS. The epoxy resin composition is uniformly applied to the surface of the cured resin layer 4, left at room temperature for 30 minutes, and heated at 150 ° C. for 2 minutes using a hot air dryer to give a thickness of 10 μm. The film thickness was semi-cured. And the nonwoven fabric of the aramid fiber of nominal thickness of 50 micrometers was bonded together as the frame | skeleton material 5 on this. In this lamination, the non-woven fabric is superimposed on the surface of the semi-cured coating film S 2 and heated to 150 ° C. so that a laminating pressure of 9 kg / cm 2 can be applied. Per minute. As a result, the total thickness of the coating film S2 and the skeleton 5 in the bonded state was 55 μm on average.

以上のようにして骨格材5の張り合わせが終了すると、熱風乾燥機を用いて150℃の雰囲気中に1分間維持することで、塗膜Sの半硬化状態の樹脂を再流動化させ、その構成樹脂成分を骨格材5を構成するアラミド繊維の毛細管現象を利用して浸透させ、更に当該骨格材5の塗膜Sとの接触面の反対側にまで滲み出させ、骨格材5の表面を完全に被覆し、乾燥させることで半硬化樹脂層6を形成し、エアーブロア23で強制的に降温処理することで、図5(8)に示す絶縁層付銅箔2を得た。このときの、半硬化樹脂層6の乾燥後の合計厚さは42μmであり、この半硬化樹脂層6にはPETフィルム(図面中では省略)をラミネートして張り合わせた。 If the way the bonding of skeletal material 5 is completed or, by maintaining for 1 minute in an atmosphere of 0.99 ° C. using a hot-air dryer, then re-fluidize the resin in a semi-cured state of the coating film S 2, the The constituent resin component is infiltrated using the capillary phenomenon of the aramid fiber constituting the skeleton material 5 and further oozed to the side opposite to the contact surface of the skeleton material 5 with the coating film S 2, so that the surface of the skeleton material 5 Was completely coated and dried to form a semi-cured resin layer 6 and forcibly cooled with an air blower 23 to obtain a copper foil 2 with an insulating layer shown in FIG. The total thickness after drying of the semi-cured resin layer 6 at this time was 42 μm, and a PET film (omitted in the drawing) was laminated and pasted onto the semi-cured resin layer 6.

絶縁層付回路シートの製造: 図6〜図7に示すフローに従い、前記絶縁層付銅箔2の、銅箔層3の表面にドライフィルムをラミネートしてエッチングレジスト層Rを形成し、そして、エッチングレジスト層Rの表面に露光用フィルムを重ね露光し、現像することで、回路となる銅箔表面にのみドライフィルムを残した。その後、塩化鉄銅エッチング液を銅箔面にのみ当て、回路エッチングを行い、レジスト剥離及び半硬化樹脂層6のPETフィルム剥離を行い図7(12)に示すように絶縁層上に回路Cが存在するような絶縁層付回路シート7を得たのである。 Production of circuit sheet with insulating layer: According to the flow shown in FIGS. 6 to 7, a dry film is laminated on the surface of the copper foil layer 3 of the copper foil 2 with the insulating layer to form an etching resist layer R, and By exposing the film for exposure on the surface of the etching resist layer R and developing it, the dry film was left only on the surface of the copper foil serving as a circuit. Thereafter, an iron chloride copper etchant is applied only to the copper foil surface, circuit etching is performed, resist stripping and PET film stripping of the semi-cured resin layer 6 are performed, and the circuit C 1 is formed on the insulating layer as shown in FIG. Thus, a circuit sheet 7 with an insulating layer was obtained.

熱間プレス成形: そして、図8に示したフローに従って、この絶縁層付回路シート7と、内層回路C2を表面に形成した内層コア材24(板厚0.6mm、銅箔厚さ35μmのFR−4材)とを用いて、4層の多層プリント配線板1aを製造した。即ち、図8(13)に示したように内層コア材24を中心に、その両外層面のそれぞれに各1枚の絶縁層付回路シート7を、当該絶縁層が内層コア材24の外層面に接するように積層しプレス加工することで、外層回路が絶縁樹脂層内に埋設してフラットな表面を持つ多層プリント配線板1aを製造したのである。このときのプレス加工条件は、プレス温度180℃、プレス圧力20kg/cm、硬化時間90分とした。 Hot press molding: And, according to the flow shown in FIG. 8, the inner layer core material 24 (plate thickness 0.6 mm, copper foil thickness 35 μm) having the circuit layer 7 with an insulating layer and the inner layer circuit C 2 formed on the surface -4 material), a multilayer printed wiring board 1a having four layers was manufactured. That is, as shown in FIG. 8 (13), centering on the inner layer core material 24, one circuit sheet 7 with an insulating layer is provided on each of both outer layer surfaces, and the insulating layer is the outer layer surface of the inner layer core material 24. The multilayer printed wiring board 1a having a flat surface with the outer layer circuit embedded in the insulating resin layer was manufactured by laminating and pressing so as to be in contact with each other. The press working conditions at this time were a press temperature of 180 ° C., a press pressure of 20 kg / cm 2 , and a curing time of 90 minutes.

本実施例では、図9〜図11に示すフローに従い、実施例1で製造した4層の多層プリント配線板1aの外層に以下に述べる誘電層付銅箔10を張り合わせることで、キャパシタ回路層を備える6層の多層プリント配線板1bを製造したのである。従って、重複する説明は省略し、誘電層付銅箔10の製造から説明することとする。   In this example, according to the flow shown in FIGS. 9 to 11, a capacitor circuit layer is formed by laminating a copper foil 10 with a dielectric layer described below on the outer layer of the four-layer multilayer printed wiring board 1a manufactured in Example 1. 6-layer multilayer printed wiring board 1b comprising Therefore, the description which overlaps is abbreviate | omitted and will be demonstrated from manufacture of the copper foil 10 with a dielectric layer.

誘電層付銅箔の製造: 最初に誘電層11を構成する樹脂溶液を製造した。この樹脂溶液を製造するにあたり、o−クレゾールノボラック型エポキシ樹脂(東都化成株式会社製YDCN−704)、溶剤に可溶な芳香族ポリアミド樹脂ポリマー、溶剤としてのシクロペンタノンとの混合ワニスとして市販されている日本化薬株式会社製のBP3225−50Pを原料として用いた。そして、この混合ワニスに、硬化剤としてのフェノール樹脂に大日本インキ株式会社製のVH−4170及び硬化促進剤として四国化成製の2E4MZを添加して以下に示す配合割合を持つ樹脂混合物とした。 Production of copper foil with dielectric layer: First, a resin solution constituting the dielectric layer 11 was produced. In producing this resin solution, it is commercially available as a mixed varnish with o-cresol novolac type epoxy resin (YDCN-704 manufactured by Toto Kasei Co., Ltd.), aromatic polyamide resin polymer soluble in solvent, and cyclopentanone as solvent. BP3225-50P manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. was used as a raw material. And to this mixed varnish, VH-4170 manufactured by Dainippon Ink Co., Ltd. and 2E4MZ manufactured by Shikoku Kasei Co., Ltd. as a curing accelerator were added to a phenol resin as a curing agent to obtain a resin mixture having the following blending ratio.

樹脂混合物
o−クレゾールノボラック型エポキシ樹脂 38重量部
芳香族ポリアミド樹脂ポリマー 50重量部
フェノール樹脂 18重量部
硬化促進剤 0.1重量部
Resin mixture o-cresol novolac type epoxy resin 38 parts by weight Aromatic polyamide resin polymer 50 parts by weight Phenolic resin 18 parts by weight Curing accelerator 0.1 part by weight

この樹脂混合物を、更にメチルエチルケトンを用いて樹脂固形分を30重量%に調整ですることで樹脂溶液とした。そして、この樹脂溶液に、以下に示す粉体特性を持つ誘電体フィラーFであるチタン酸バリウム粉を混合分散させ、以下の組成の誘電体フィラー含有樹脂溶液とした。   This resin mixture was further adjusted to a resin solid content of 30% by weight using methyl ethyl ketone to obtain a resin solution. Then, barium titanate powder, which is a dielectric filler F having the following powder characteristics, was mixed and dispersed in this resin solution to obtain a dielectric filler-containing resin solution having the following composition.

誘電体フィラーの粉体特性
平均粒径(DIA) 0.25μm
重量累積粒径(D50) 0.5μm
凝集度(D50/DIA) 2.0
Powder characteristics of dielectric filler
Average particle diameter ( DIA ) 0.25 μm
Weight cumulative particle size (D 50 ) 0.5 μm
Aggregation degree (D 50 / D IA ) 2.0

誘電体フィラー含有樹脂溶液
バインダー樹脂溶液 83.3重量部
チタン酸バリウム粉 100重量部
Dielectric filler-containing resin solution
83.3 parts by weight of binder resin solution
100 parts by weight of barium titanate powder

以上のようにして製造した誘電体フィラー含有樹脂溶液を、エッジコーターを用いて、35μm厚さの電解銅箔2の粗化面に所定の厚さとなるように塗布し、5分間の風乾を行い、その後140℃の加熱雰囲気中で3分間の乾燥処理を行い、半硬化状態の20μm厚さの誘電体層11を形成した。   The dielectric filler-containing resin solution manufactured as described above is applied to the roughened surface of the electrolytic copper foil 2 having a thickness of 35 μm by using an edge coater, and air-dried for 5 minutes. Thereafter, a drying process for 3 minutes was performed in a heated atmosphere at 140 ° C. to form a semi-cured 20 μm thick dielectric layer 11.

キャパシタ回路を備えたプリント配線板の製造: 誘電層11の形成が終了すると、図9(1)に示すように、当該誘電層11を実施例1で得られた多層プリント配線板1aの外層面に当接させ、積層して180℃×60分の加熱条件下で熱間プレス成形することで6層の銅張積層板12の状態とした。 Manufacture of printed wiring board provided with capacitor circuit: When the formation of the dielectric layer 11 is completed, as shown in FIG. 9 (1), the dielectric layer 11 is formed on the outer layer surface of the multilayer printed wiring board 1a obtained in Example 1. And 6 layers of copper-clad laminate 12 by hot pressing under heating conditions of 180 ° C. × 60 minutes.

以上のようにして製造した銅張積層板12の両面の銅箔層3を整面し、図10(3)に示すように、その両面にドライフィルムを張り合わせて、エッチングレジスト層Rを形成した。そして、図10(3)に示すように、その両面のエッチングレジスト層Rに、キャパシタ回路を露光現像し、エッチングパターンを形成した。その後、図11に示すように、塩化鉄エッチング液で回路エッチングを行い、エッチングレジスト剥離を行い、回路Cと回路Cとが上部又は下部電極となりその間に誘電層が存在するキャパシタ回路を備えたプリント配線板1bを製造した。 The copper foil layers 3 on both sides of the copper clad laminate 12 produced as described above were leveled, and as shown in FIG. 10 (3), a dry film was laminated on both sides to form an etching resist layer R. . Then, as shown in FIG. 10 (3), the capacitor circuit was exposed and developed on the etching resist layer R on both surfaces thereof to form an etching pattern. Thereafter, as shown in FIG. 11, circuit etching is performed with an iron chloride etchant, etching resist is stripped, and the circuit C 1 and the circuit C 3 become upper or lower electrodes, and a capacitor circuit having a dielectric layer therebetween is provided. A printed wiring board 1b was manufactured.

そして、そのキャパシタ回路を構成した誘電層の比誘電率を測定した結果、ε=20と非常に良好な値を示し、電気容量の高いキャパシタが得られたことが分かった。   As a result of measuring the relative dielectric constant of the dielectric layer constituting the capacitor circuit, it was found that a very high value of ε = 20 was obtained, and a capacitor having a high capacitance was obtained.

比較例1Comparative Example 1

この比較例では、実施例1で用いたと同様の樹脂を、公称厚さ12μmの電解銅箔の粗化面に、均一に塗布して、室温で30分間放置して、熱風乾燥機を用いて150℃の温風を5分間衝風することで、一定量の溶剤を除去し、樹脂層を半硬化状態に乾燥させ、従来の骨格材を含まない樹脂付銅箔を得た。このときのエポキシ樹脂組成物の塗布量は、乾燥後の樹脂層厚として75μmとなるようにした。   In this comparative example, the same resin as that used in Example 1 was uniformly applied to the roughened surface of the electrolytic copper foil having a nominal thickness of 12 μm, and allowed to stand at room temperature for 30 minutes, using a hot air dryer. A constant amount of solvent was removed by blowing warm air at 150 ° C. for 5 minutes, and the resin layer was dried to a semi-cured state, thereby obtaining a conventional copper foil with resin containing no skeleton material. The coating amount of the epoxy resin composition at this time was set to 75 μm as the resin layer thickness after drying.

そして、この樹脂付銅箔を、上述した実施例1の絶縁層付銅箔1の代わりに用いて、実施例1と同様の方法で、樹脂層付回路シートを得て、内層コア材と熱間プレス成形することで4層のプリント配線板を製造した。その結果、熱間プレス加工前の回路形成エッチング時に、ハンドリングによって半硬化樹脂層が割れてしまうこともあり、例えPETフィルムで裏打ちされていても、骨格材が存在しないことによる不具合が生じて、高品質の製品を得ることが出来なかった。   And using this resin-attached copper foil instead of the copper foil 1 with an insulating layer of Example 1 mentioned above, the circuit sheet with a resin layer was obtained by the same method as Example 1, and an inner-layer core material and heat A four-layer printed wiring board was manufactured by hot pressing. As a result, at the time of circuit formation etching before hot press processing, the semi-cured resin layer may be broken by handling, even if it is lined with a PET film, there is a problem due to the absence of a skeleton material, I couldn't get a high quality product.

本件発明に係るプリント配線板の製造方法は、絶縁樹脂層に埋設配置した回路を備えるプリント配線板を非常に効率よく製造できるものである。従って、表面が非常にフラットなプリント配線板を歩留まり良く製造することが可能であり、当該プリント配線板を市場に安価に供給することが可能となる。しかも、当該プリント配線板は、絶縁層内の骨格材を極めて薄くすることが可能であるため、レーザー穴明け加工性に優れ、且つ、基板に求められる強度も兼ね備えたものとなるのである。   The method for manufacturing a printed wiring board according to the present invention can very efficiently manufacture a printed wiring board including a circuit embedded in an insulating resin layer. Therefore, a printed wiring board having a very flat surface can be manufactured with a high yield, and the printed wiring board can be supplied to the market at a low cost. Moreover, since the printed wiring board can make the skeleton material in the insulating layer extremely thin, it has excellent laser drilling workability and also has the strength required for the substrate.

また、本件発明に係る絶縁樹脂層に埋設配置したキャパシタ回路を備えるプリント配線板の製造方法を採用することで、キャパシタ回路の誘電層厚さを薄く設計しても、極めて高い厚さ精度を得ることが可能となり、キャパシタ回路を備えたプリント配線板の品質を著しく高めることが出来るようになるのである。   In addition, by adopting a method for manufacturing a printed wiring board having a capacitor circuit embedded in an insulating resin layer according to the present invention, extremely high thickness accuracy can be obtained even when the dielectric layer thickness of the capacitor circuit is designed to be thin. Therefore, the quality of the printed wiring board provided with the capacitor circuit can be remarkably improved.

絶縁層付銅箔の製造フローを表す模式図。The schematic diagram showing the manufacture flow of copper foil with an insulating layer. 絶縁層付銅箔の製造フローを表す模式図。The schematic diagram showing the manufacture flow of copper foil with an insulating layer. 絶縁層付銅箔の製造フローを表す模式図。The schematic diagram showing the manufacture flow of copper foil with an insulating layer. 絶縁層付銅箔の製造フローを表す模式図。The schematic diagram showing the manufacture flow of copper foil with an insulating layer. 絶縁層付銅箔の製造フローを表す模式図。The schematic diagram showing the manufacture flow of copper foil with an insulating layer. 絶縁層付銅箔から絶縁層付回路シートへの製造フローを表す模式図。The schematic diagram showing the manufacture flow from the copper foil with an insulating layer to the circuit sheet with an insulating layer. 絶縁層付銅箔から絶縁層付回路シートへの製造フローを表す模式図。The schematic diagram showing the manufacture flow from the copper foil with an insulating layer to the circuit sheet with an insulating layer. 絶縁層付回路シートと内層コア材とを用いたプレスイメージを表す模式図。The schematic diagram showing the press image using the circuit sheet with an insulating layer, and an inner-layer core material. 誘電層付銅箔の積層イメージを表す模式図。The schematic diagram showing the lamination | stacking image of copper foil with a dielectric layer. キャパシタ回路の形成フローを表す模式図。The schematic diagram showing the formation flow of a capacitor circuit. キャパシタ回路の形成フローを表す模式図。The schematic diagram showing the formation flow of a capacitor circuit.

符号の説明Explanation of symbols

1a プリント配線板
1b キャパシタ回路を備えたプリント配線板
2 絶縁層付銅箔
3 銅箔層(銅箔)
4 硬化樹脂層
5 骨格材(不織布若しくは織布)
6 半硬化樹脂層
7 絶縁層付回路シート
10 (多層)プリント配線板
11 誘電層
12 銅張積層板
20 加熱炉
21 ヒータ
22 圧着ロール
,S 塗膜
,C,C 回路
R エッチングレジスト層
1a Printed wiring board 1b Printed wiring board with capacitor circuit
2 Copper foil with insulation layer 3 Copper foil layer (copper foil)
4 Cured resin layer 5 Skeletal material (nonwoven fabric or woven fabric)
6 Semi-cured resin layer 7 Circuit sheet with insulating layer 10 (Multilayer) Printed wiring board 11 Dielectric layer 12 Copper-clad laminate 20 Heating furnace 21 Heater 22 Crimp roll S 1 , S 2 Coating film C 1 , C 2 , C 3 circuit R etching resist layer

Claims (5)

絶縁樹脂層に埋設配置した回路を備えるプリント配線板の製造方法であって、以下のA)及びB)の各工程を備えることを特徴とするプリント配線板の製造方法。
A)銅箔の片面に当該銅箔の接着面の持つ表面粗さ(Rz)の値よりも0.5μm〜10μm厚いものとした硬化樹脂層を備え、その硬化樹脂層上に骨格材を含む半硬化樹脂層を備えた絶縁層付銅箔を用いて、その銅箔面にエッチングレジスト層を形成し、回路パターンを露光し、現像し、銅箔面をエッチングして回路形成し、レジスト層を剥離することで、絶縁層付回路シートを形成する。
B)前記絶縁層付回路シートの半硬化樹脂層を張り合わせる基材面に当接させ重ね合わせて、熱間プレス成型することで、回路部の銅箔が前記硬化樹脂層を衝破し、前記半硬化樹脂層に埋設し、絶縁樹脂層に埋設配置した回路を備えるプリント配線板とする。
A method for manufacturing a printed wiring board comprising a circuit embedded in an insulating resin layer, comprising the following steps A) and B).
A) A cured resin layer that is 0.5 μm to 10 μm thicker than the surface roughness (Rz) of the adhesive surface of the copper foil is provided on one side of the copper foil, and a skeleton material is included on the cured resin layer. Using a copper foil with an insulating layer provided with a semi-cured resin layer, an etching resist layer is formed on the copper foil surface, a circuit pattern is exposed and developed, a circuit is formed by etching the copper foil surface, and a resist layer Is peeled to form a circuit sheet with an insulating layer.
B) The semi-cured resin layer of the circuit sheet with an insulating layer is brought into contact with the base material surface to be laminated, and hot-pressed so that the copper foil of the circuit portion breaks the cured resin layer, A printed wiring board including a circuit embedded in a semi-cured resin layer and embedded in an insulating resin layer.
絶縁樹脂層に埋設配置したキャパシタ回路を備えるプリント配線板の製造方法であって、以下のA)〜D)の各工程を備えることを特徴とするキャパシタ回路を備えたプリント配線板の製造方法。
A)銅箔の片面に当該銅箔の接着面の持つ表面粗さ(Rz)の値よりも0.5μm〜10μm厚いものとした硬化樹脂層を備え、その硬化樹脂層上に骨格材を含む半硬化樹脂層を備えた絶縁層付銅箔を用いて、その銅箔面にエッチングレジスト層を形成し、キャパシタ回路パターンを露光し、現像し、銅箔面をエッチングして一面側の電極となるキャパシタ回路を形成し、レジスト層を剥離することで、絶縁層付キャパシタ回路シートを形成する。
B)前記絶縁層付キャパシタ回路シートの半硬化樹脂層を張り合わせる基材面に当接させ重ね合わせて、熱間プレス成型することで、回路部の銅箔が前記硬化樹脂層を衝破し、前記半硬化樹脂層に埋設し、絶縁樹脂層に埋設配置したキャパシタ回路を備えるプリント配線板とする。
C)前記キャパシタ回路を備えるプリント配線板の埋設した回路面に、誘電層付銅箔の樹脂層面を当接させ重ね合わせて、熱間プレス成型することで、外層に銅箔層が位置する銅張積層板とする。
D)外層銅箔にエッチングレジスト層を形成し、キャパシタ回路パターンを露光し、現像し、銅箔面をエッチングしてキャパシタ回路を形成し、レジスト層を剥離することで、他面側の電極となるキャパシタ回路を形成し、キャパシタ回路を備えたプリント配線板とする。
A method of manufacturing a printed wiring board comprising a capacitor circuit embedded and arranged in an insulating resin layer, comprising the following steps A) to D).
A) A cured resin layer that is 0.5 μm to 10 μm thicker than the surface roughness (Rz) of the adhesive surface of the copper foil is provided on one side of the copper foil, and a skeleton material is included on the cured resin layer. Using a copper foil with an insulating layer provided with a semi-cured resin layer, an etching resist layer is formed on the copper foil surface, the capacitor circuit pattern is exposed and developed, and the copper foil surface is etched to form an electrode on one side The capacitor circuit to be formed is formed, and the resist layer is peeled to form a capacitor circuit sheet with an insulating layer.
B) Contacting and superposing the semi-cured resin layer of the capacitor circuit sheet with insulating layer on the base material surface to be laminated, and hot press molding, the copper foil of the circuit portion breaks the cured resin layer, The printed wiring board includes a capacitor circuit embedded in the semi-cured resin layer and embedded in the insulating resin layer.
C) Copper in which the copper foil layer is located on the outer layer by hot pressing molding the resin layer surface of the copper foil with dielectric layer on the circuit surface embedded in the printed wiring board having the capacitor circuit. It is a tension laminate.
D) forming an etching resist layer on the outer layer copper foil, exposing and developing the capacitor circuit pattern, etching the copper foil surface to form a capacitor circuit, and peeling the resist layer, A capacitor circuit is formed, and a printed wiring board provided with the capacitor circuit is obtained.
半硬化樹脂層を構成する骨格材は、不織布若しくは織布であり、ガラス繊維又は有機繊維からなるものである請求項1又は請求項2に記載のプリント配線板の製造方法。 The method for producing a printed wiring board according to claim 1, wherein the skeleton material constituting the semi-cured resin layer is a nonwoven fabric or a woven fabric, and is made of glass fiber or organic fiber. 誘電層付銅箔を構成する樹脂層は、誘電体フィラーを含有したものである請求項2に記載のキャパシタ回路を備えたプリント配線板の製造方法。 The method for producing a printed wiring board having a capacitor circuit according to claim 2, wherein the resin layer constituting the copper foil with a dielectric layer contains a dielectric filler. 請求項1〜請求項4に記載のいずれかの製造方法により製造されたプリント配線板。 The printed wiring board manufactured by the manufacturing method in any one of Claims 1-4.
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