KR100707642B1

KR100707642B1 - 플라스틱 광섬유용 모재의 제조방법

Info

Publication number: KR100707642B1
Application number: KR1020020051871A
Authority: KR
Inventors: 조한솔; 황진택; 김무겸; 라병주; 최진성
Original assignee: 삼성전자주식회사
Priority date: 2002-08-30
Filing date: 2002-08-30
Publication date: 2007-04-13
Also published as: EP1393886A1; JP4011000B2; JP2004094255A; CN1498907A; KR20040020298A; CN1246347C

Abstract

본 발명은 플라스틱 광섬유용 모재의 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 (1) 굴절률에 차이가 있는 한 쌍의 모노머 혼합액을 선택하는 단계; (2) 상기 한 쌍의 모노머 혼합액 중 굴절률이 낮은 모노머 혼합액을 중합시켜 프리폴리머를 형성하는 단계; (3) 상기 프리폴리머를 나머지 모노머 혼합액과 균일하게 혼합하는 단계; 및 (4) 상기 혼합물을 반응기에 투입하여, 회전시키면서 중합하는 단계를 포함하는 플라스틱 광섬유용 모재의 제조 방법에 관한 것이며, 본 발명에 의해 밀도의 제약없이 모노머를 선택하여 플라스틱 광섬유를 제조할 수 있다.

프리폴리머, 플라스틱 광섬유, 모재, 굴절률, 확산, 대역폭, 광손실

Description

플라스틱 광섬유용 모재의 제조방법 {Method for Fabricating Preform for Plastic Optical Fiber}

도 1은 본 발명에 의한 플라스틱 광섬유용 모재의 제조방법을 나타내는 개략도,

도 2a∼2c는 본 발명에서 플라스틱 광섬유용 모재를 제조하는데 사용되는 일반적인 원통형 반응기 및 그 변형예를 나타내는 단면도이다.

본 발명은 플라스틱 광섬유용 모재의 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 밀도의 높고 낮음에 상관없이 모노머들을 선택하여, 보다 용이하게 반경방향으로 굴절률이 변하는 플라스틱 광섬유용 모재를 제조할 수 있는 방법에 관한 것이다.

통신용 광섬유는 광 시그날의 전달 양식에 따라 단일모드(single-mode) 섬유 및 다중모드(multi-mode) 섬유로 구분된다. 현재 사용되는 장거리 고속 통신용 광 섬유의 대부분은 석영유리를 기본 물질로 한 스텝인덱스 단일모드(step-index single-mode) 광섬유이며, 상기 유리 광섬유는 그 직경이 5∼10㎛에 불과한 미세 굵기를 갖는다. 따라서, 이러한 유리 광섬유는 정렬(alignment) 및 연결(connection)이 매우 곤란하여 이로 인한 비용 손실이 크다. 반면, 단일모드 광섬유보다 직경이 큰 다중모드 유리 광섬유의 경우, LAN(local area network)과 같은 단거리 통신용으로 사용될 수 있으나, 연결 등에 소요되는 비용이 높고 깨지기 쉬운 단점 등으로 인하여 널리 사용되기에는 어려움이 많았다. 따라서, 트위스티드 패어(twisted pair) 또는 동축 케이블(coaxial cable)과 같은 금속선(cable)이 LAN과 같이 200m내의 단거리 통신에 주로 사용되었다. 그러나, 금속선은 정보 전달속도(또는 전송대역폭(bandwidth))가 최대 약 150Mbps 정도에 그치므로 2000년대의 ATM(Asynchronous Transfer Mode) 기준인 625Mbps에 도달할 수 없기 때문에 미래의 전달속도 기준을 만족시킬 수 없었다. 상기 이유로 일본과 미국 등에서 지난 10여년에 걸쳐 LAN과 같은 단거리 통신에 사용할 수 있는 고분자 소재의 광섬유 개발에 많은 노력 및 투자가 있어 왔다. 고분자 광섬유는 고분자 물질의 유연성 때문에 그 직경이 유리 광섬유보다 100배 이상 큰 0.5∼1.0㎜ 정도에 이를 수 있기 때문에 정렬 또는 연결이 용이하고, 압출성형으로 제조되는 고분자 소재 연결부품(connectors)을 사용할 수 있어서 커다란 비용절감을 예상할 수 있다.

한편, 고분자 광섬유는 반경방향의 굴절률 변화가 계단형인 스텝 인덱스(step-index, SI) 구조, 또는 굴절률이 반경방향으로 점차적으로 변하는 그레디드 인덱스(graded-index, GI) 구조를 가질 수 있으나, SI 고분자 광섬유는 모 달 분산(modal dispersion)이 크기 때문에 시그날의 전달속도(또는 전송대역폭)가 금속선(cable)보다 빠를 수 없는 반면, GI 고분자 광섬유는 모달 분산(modal dispersion)이 작기 때문에 높은 대역폭을 가질 수 있다. 따라서, GI 고분자 광섬유는 굵은 직경에서 비롯되는 비용절감의 효과와 작은 모달 분산으로 인한 높은 정보전달속도로 인해 단거리 고속 통신용 매체로서 적합하다고 알려져 있다.

종래 GI 고분자 광섬유의 제조공정으로는 일본 게이오 대학교의 고이께 교수의 계면 겔 중합(interfacial gel polymerization) 방법이 1988년 처음으로 발표되었고(Koike, Y. et al., Applied Optics, vol. 27, 486(1988)) 그 후에 미국특허 제5,253,323호(Nippon Petrochemicals Co.); 미국특허 제5,382,448호(Nippon Petrochemicals Co.); 미국특허 제5,593,621호(Yasuhiro Koike and Ryo Nihei); WO 92/03750(Nippon Petrochemical Co.); WO 92/03751; 일본특허 3-78706(Mitsubishi Rayon); 및 일본특허 4-86603 (Toray Ind.)에서 이와 관련된 내용을 개시하고 있다. 상기 특허와 관련된 대부분의 공정은 크게 다음과 같은 두 종류의 공정으로 대별될 수 있다.

첫째, 고분자와 분자량이 비교적 작고 굴절률이 높은 첨가제, 즉 도판트를 사용하여 반경방향으로 굴절률이 변하는 예비 성형품 즉, 모재(preform)를 만든 후 상기 모재를 가열 연신하여 GI 고분자 광섬유를 제조하는 배치공정(batch process)이 있다.

둘째, 압출공정으로 고분자 섬유를 제조한 후에 그 섬유에 첨가되어 있던 저 분자량의 도판트를 반경방향으로 추출하거나, 역으로 저분자량의 물질을 반경방향 으로 투입시켜 GI 고분자 광섬유를 제조하는 공정을 들 수 있다.

첫째 공정은 고이케 교수에 의하여 개발된 방법으로 2.5 Gbps의 전달속도를 갖는 GI 고분자 광섬유를 제조하는데 성공하였으며, 둘째 공정도 비교적 높은 전송대역폭을 갖는 고분자 광섬유 제조에 성공한 것으로 알려져 있다. 전술된 방법들은 대부분 중력에 의해 굴절률 구배가 무너지지 않도록 눕히거나 세운 상태로 회전을 시키면서 공정을 진행한다는 점은 잘 알려진 주지의 사실을 이용한 것이나 주목할 만한 점이다.

한편, 최근 네덜란드의 Van Duijnhoven과 Bastiaansen에 의하여 개발되어 WO 97/29903에 개시되고 미국특허 제6,166,107호에 등록된 방법은 회전을 이용하되 20,000 rpm정도의 아주 강력한 회전을 이용한 것이다. 이 방법은 상기 특허에서 언급한 여타의 종래기술들 (Review (of) Polymer Optical Fibres", Emslie, C., Journal of Materials Science, 23 (1988), pages 2281-2293, WO 92/10357, DE-C1-42 14 259, WO 87/01071)과 차별화하여 아주 강력한 원심력장하에서 서로 다른 밀도가 높고 굴절률이 낮은 모노머와 밀도가 낮고 굴절률이 높은 모노머의 혼합액이나 모노머에 굴절률이 낮은 고분자를 용해시킨 혼합액을 중합하면, 밀도 구배에 따라서 농도 구배가 생기게 되고 이에 따라서 굴절률 구배가 생기게 되는 초고속 윈심분리의 원리를 이용하였다.

그러나 상기의 방법은 밀도가 큰 모노머가 밀도가 작은 모노머보다 굴절률이 작아야 하므로 사용 모노머의 선택에 제약이 있게 된다. 또한 모노머에 굴절률이 낮은 고분자를 용해시켜 사용하는 경우, 고분자를 중합, 분쇄하여 모노머에 용해시 키는 과정에서 오염의 소지가 발생하는 한편, 모노머로의 고분자 용해가 쉽지않아서 공정이 번거로워 진다는 문제점이 발생한다.

본 발명은 상기와 같은 종래 기술의 문제점을 해결하기 위한 것으로, 밀도에 상관없이 사용되는 모노머를 임의로 선택할 수 있으며, 공정이 보다 간편해진 플라스틱 광섬유용 모재의 제조방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.

즉, 본 발명은 (1) 굴절률에 차이가 있는 한 쌍의 모노머 혼합액을 준비하는 단계; (2) 상기 한 쌍의 모노머 혼합액 중 굴절률이 낮은 모노머 혼합액을 중합시켜 프리폴리머를 형성하는 단계; (3) 상기 프리폴리머를 나머지 모노머 혼합액과 균일하게 혼합하는 단계; 및 (4) 상기 혼합물을 반응기에 투입하여, 회전시키면서 중합하는 단계를 포함하는 플라스틱 광섬유용 모재의 제조 방법에 관한 것이다.

이하에서 첨부된 실시예 및 도면을 참조하여 본 발명을 보다 상세하게 설명한다.

도 1은 본 발명에 따른 플라스틱 광섬유용 모재의 제조방법을 개략적으로 도시한 도면이다. 도 1에서는 굴절률이 낮은 모노머 혼합액의 밀도를 높이기 위해 프리폴리머로 중합한 후, 굴절률이 높은 모노머 혼합액을 혼합하고, 이를 원통형 반응기에 투입한 다음 회전하에서 중합시켜 반경방향으로 굴절율이 변하는 플라스틱 광섬유용 모재를 제조한다.

본 발명에서 프리폴리머는 모노머가 완전히 중합되어 고화되기 전의 상태를 일컫는 것으로 점도나 밀도가 원래의 모노머보다 높아진 것을 말한다. 본 발명에서 프리폴리머는 짝지어진 굴절률이 높은 다른 모노머 혼합액보다 밀도가 높도록 형성되는 것을 기본으로 한다. 이때 프리폴리머의 중합도는 중합시간이나 점도를 기준으로 조절된다. 바람직하게는 대략 50∼500,000 cps(25℃), 보다 바람직하게는 500∼10,000 cps(25℃) 범위의 점도를 가지는 것을 프리폴리머를 사용한다.

본 발명의 방법에서는 굴절률이 낮은 모노머를 프리폴리머화시켜 밀도를 높이기 때문에 모노머 혼합액의 선택시, 반드시 굴절율이 낮고 밀도가 높은 모노머와 굴절율이 높고 밀도가 낮은 모노머 쌍을 선택할 필요가 없다. 또한 고분자가 아닌 프리폴리머로 형성하여 모노머 혼합액과 혼합하기 때문에 종래 미국특허 제6,166,107호에서 문제시된 고분자의 분쇄, 용해과정에 수반하기 쉬운 오염을 피할 수 있고, 공정이 훨씬 간편해진다.

반응기의 회전 하에 중합을 진행시켜 광섬유용 모재를 제조하는 경우, 중합시 발생하는 부피 수축에 의해 중공이 생기는 경우가 있다. 이 경우 굴절률이 높은 모노머 혼합액, 프리폴리머 또는 프리폴리머와 모노머 혼합액의 혼합물을 중공에 채운 후, 중합하는 과정을 1회 이상, 10회 이하로 반복함으로써 반경방향으로 연속적인 굴절률 구배를 가지는 플라스틱 광섬유용 모재를 얻을 수 있다. 이때 확산계수가 낮은 프리폴리머를 사용하면, 모노머 혼합액을 사용하는 경우 발생할 수 있는 팽윤(swelling)에 의한 굴절률의 불연속면과 이에 의한 광손실이 없거나 최소화기 때문에 보다 바람직하다.

도 2에서는 본 발명에서 사용가능한 반응기의 모양을 나타내고 있다. 일반적으로는 도 2a와 같은 단면이 원형인 원통형 반응기를 사용하나, 제조 목적에 따라 도 2b∼2c에 나타낸 것과 같은 단면 모양이 삼각형, 사각형인 것을 사용할 수 있으며, 제조 목적에 따라서는 다양한 단면 모양의 막대형 반응기나 입체구조를 가지는 반응기를 사용할 수 있다. 또한 본 발명에 참고자료로 참조되는 미국특허출원 제 10/197,215호에 개시된 형태의 중공방지형 반응기를 사용하는 것도 가능하다. 이 경우 중합시 부피수축에 의한 중공이 발생하더라도 프리폴리머 등을 추가로 투입하는 과정을 거치지 않고도 투입부로부터 반응물이 유입되므로 편리하다.

본 발명의 방법에서, 반응기의 빈공간에는 아르곤과 같은 비활성 기체를 가압하여 주는 것이 중공형성을 방지하고 중합 반응이 안정적으로 진행되기 때문에 바람직하다. 상기와 같이 반응기 내부를 가압하는 경우,　모노머의　끓는점을　높여주어서　높은　온도에서　반응을　진행시킬　수　있으므로　반응시간을　단축하고,　미반응물의　형성을　방지하여 기포의　형성을　방지해　주기 때문에 유리하다． 이때 반응기가 유리, 석영, 세라믹 또는 플라스틱과 같은 파손되기 쉬운 물질로 형성되는 경우, 그 파손가능성으로 인해 반응기 내부를 4 bar 이상으로 가압시키기가 어려우므로 반응기 외부를 동일하게 가압해 줌으로서 안정적으로 고압하에서 중합시키는 것이 가능하다.

본 발명의 방법에서, 보다 나은 굴절률 분포를 유도하기 위하여 반응기의 회전속도에 다양한 변화를 줄 수 있는데, 단순한 회전 및 정지의 반복뿐만 아니라 진 폭과 주기를 달리하는 삼각함수와 같이 변화하는 속도함수를 가지도록 할 수 있다.

본 발명에서 모노머 혼합액은 1종 이상의 모노머에 중합 개시제 및 분자량 조절제가 혼합된 용액을 지칭한다. 중합 개시제로는 열중합 개시제 또는 광중합 개시제를 사용하며, 최종적으로 얻어지는 광섬유의 굴절률 분포나 광손실과 같은 광특성을 개선하기 위하여 열중합 개시제 및 광중합 개시제를 혼용하여 열중합과 광중합이 동시에 이루어지도록 할 수 있다.

본 발명에서 사용되는 모노머로는, 구체적으로 메틸메타크릴레이트, 벤질메타크릴레이트, 페닐메타크릴레이트, 1-메틸시클로헥실메타크릴레이트, 시클로헥실메타크릴레이트, 클로로벤질메타크릴레이트, 1-페닐에틸메타크릴레이트, 1,2-디페닐에틸메타크릴레이트, 디페닐메틸메타크릴레이트, 퍼퓨릴메타크릴레이트, 1-페닐시클로헥실메타크릴레이트, 펜타클로로페닐메타크릴레이트, 펜타브로모페닐메타크릴레이트, 스티렌, TFEMA(2,2,2-트리플루오로에틸메타크릴레이트), TFPMA(2,2,3,3-트리플루오로프로필메타크릴레이트), PFPMA(2,2,3,3,3-펜타플루오로프로필메타크릴레이트), HFIPMA(1,1,1,3,3,3-헥사플루오로이소프로필메타크릴레이트), HFBM(2,2,3,4,4,4-헥사플루오로부틸메타크릴레이트), HFBMA(2,2,3,3,4,4,4-헵타플루오로부틸메타크릴레이트), PFOM(1H,1H-퍼플루오로-n-옥틸메타크릴레이트) 등을 들 수 있으나, 이에 한정되지 않고 종래에 광학 재료로 사용할 수 있는 것으로 알려진 것은 어느 것이나 사용할 수 있다.

본 발명에서 사용되는 열중합 개시제로는, 구체적으로 2,2'-아조비스(이소부 티로니트릴), 1,1'-아조-비스(사이크로헥산카르보니트릴), 2,2'-아조비스(2,4-디메틸발레로니트릴), 2,2'-아조비스(메틸부티로니트릴), 디-tert-부틸 페록사이드, 라우로일페록사이드, 벤조일 페록사이드, tert-부틸 페록사이드, 아조-tert-부탄, 아조-비스-이소프로필, 아조-노르말-부탄, 디-tert-부틸 페록사이드 등을 예로 들 수 있으나, 이에 한정되지 않는다.

본 발명에서 사용되는 광중합 개시제로는, 구체적으로 4-(파라-토릴사이오)벤조페논, 4,4'-비스(디메틸아미노)벤조페논, 2-메틸-4'-(메틸사이오)-2-몰포리노-프로피오페논, 1-하이드록시-사이클로헥실-페닐-케톤, 2-하이드록시-2-메틸-1-페닐-프로판-1-온, 벤조페논, 1-[4-(2-하이드록시에톡시)-페닐]-2-하이드록시-2-메틸-1-프로판-1-온, 2-벤질-2-메틸아미노-1-(4-몰포리노페닐)-부타논-1, 2,2-디메톡시-1,2-디페닐메탄-1-온, 비스(2,4,6-트리메틸벤조일)-페닐포스핀옥사이드, 2-메틸-1[4-(메틸씨오)페닐]-2-몰포리노프로판-1-온, 비스(.에타.5-2,4-싸이클로펜타디엔-1-일)-비스(2,6-디플루오로-3-(1H-파이로-1-일)-페닐) 티타늄 등을 예로 들 수 있으나, 이에 한정되지 않는다.

본 발명에서 사용되는 분자량조절제(chain transfer agent)로는 노르말-부틸-멀캡탄, 라울리멀캡탄, 옥틸 멀캡탄, 도데실 멀캡탄, 1-부탄사이올 등을 들 수 있으나, 이에 한정되지 않는다.

본 발명에 의한 플라스틱 광섬유용 모재의 제조에서는 일반적으로 중합반응을 위한 열전달을 원활하게 하기 위해 모재의 반지름을 1∼10㎝정도로 하는 것이 적당하며, 또한 모재의 길이는 통상적인 열 연신(thermal drawing)공정에 적합하도록 약 100cm 이내로 하는 것이 적당하다.

본 발명에 의해 제조되는 플라스틱 광섬유용 모재는 열 연신(thermal drawing)의 과정을 거쳐 원하는 직경의 굴절률 분포형 플라스틱 광섬유로 변환시켜 사용한다. 또한 본 발명의 방법에 의해 플라스틱 광섬유용 모재로의 적용 뿐만 아니라 직경이 비교적 굵은 막대(strand) 형태로 만들어 굴절률 분포형 렌즈 및 화상 전달용 이미지 가이드로도 적용될 수 있다.

하기에서 본 발명을 실시예에 의하여 보다 구체적으로 설명하고자 하나, 하기의 실시예는 본 발명을 예시하기 위한 것으로 본 발명을 제한하고자 하는 것은 아니다.

실시예에서 반응기로는 원통형 반응기로서 직경이 50mm이고 높이가 400mm인 것을 사용하였다. 모노머로는 서로 다른 굴절률을 갖는 모노머의 이성분 쌍으로서 실시예에서는 벤질 메타크릴레이트(benzyl methacrylate: 이하 BMA) 및 메틸 메타아크릴레이트(methyl methacrylate: 이하 MMA)를 이용하였다. BMA의 밀도는 1.040이고 굴절률은 1.512이며, MMA의 밀도는 0.936이고 굴절률은 1.414이다. BMA와 MMA를 비교해 보면 MMA가 굴절률 및 밀도가 낮으므로 두 모노머를 단순 혼합하여 회전하에서 중합시키면 외각으로 굴절률이 높은 BMA가 분포되어서, 광섬유용 모재를 제 조할 수없다.

프리폴리머를 중합시에는 열개시의 경우 자켓반응기에 서큘레이터를 연결하였으며 광개시의 경우에는 투명한 반응기 옆에 UV 램프를 장착하여 프리폴리머를 중합하였다.

열중합 개시제로 2,2'-아조비스 아이소부티로나이트릴(2,2'-azobis isobutyronitrile: 이하 AIBN)를 MMA-BMA반응에 사용하였고, 분자량 조절제로는 1-부탄사이올(1-butanethiol: 이하 BuSH)을 사용하였다. 광중합 개시제로서 4,4'-비스(디메틸아미노)벤조페논(4,4'-bis (dimethylamino)benzophenone: 이하 DMABP)을 사용하였다.

본 발명에 있어서 플라스틱 광섬유의 광손실은 0.75mm 두께의 광섬유를 인출하여 650nm 광원의 레이저 다이오드를 사용하여 광섬유를 1m 간격으로 자르면서 끝단에 나오는 광의 세기를 측정하여 계산하였다.

실시예 1 :

MMA 510g에 AIBN 및 1-BuSH을 각각 0.066 중량%, 0.2 중량%의 농도가 되도록 혼합한 모노머 혼합액을 준비하여 원통형 반응기에 투입하고, 3,000rpm의 회전속도로 75℃에서 24시간 가열하여 클래드를 제조하였다. 다음으로 MMA 225g에 AIBN 및 1-BuSH을 각각 0.066 중량%, 0.2 중량%의 농도가 되도록 혼합한 모노머 혼합액을 준비하여 자켓형 반응기에서 40분간 75℃로 가열하여 프리폴리머를 중합하고 여기에 BMA 80g에 AIBN 및 1-BuSH을 각각 0.066 중량%, 0.2 중량%의 농도가 되도록 혼 합한 모노머 혼합액을 투입하고 2분간 교반하여 혼합하였다. 그런 다음, 클래드가 제조되어 있는 원통형 반응기에 가득 채우고 3,000rpm의 회전속도로 75℃에서 12시간 가열한 다음, 회전속도를 100rpm으로 낮추어 다시 12시간 동안 중합하여 최종적으로 플라스틱 광섬유용 모재를 제조하였다. 이를 직경 0.75mm의 광섬유로 인출한 다음 측정한 광손실은 210dB/km였다.

실시예 2 :

MMA 510g에 AIBN 및 1-BuSH을 각각 0.066 중량%, 0.2 중량%의 농도가 되도록 혼합한 모노머 혼합액을 준비하여 원통형 반응기에 투입하여 3,000rpm의 회전속도로 75℃에서 24시간 가열하여 클래드를 제조하였다. 다음으로 MMA 225g에 DMABP 및 1-BuSH을 각각 0.066 중량%, 0.2 중량%의 농도가 되도록 혼합한 모노머 혼합액을 준비하여 UV 램프에서 3시간동안 반응시켜 프리폴리머를 중합하고, 여기에 BMA 80g에 DMABP 및 1-BuSH을 각각 0.066 중량%, 0.2 중량%의 농도가 되도록 혼합한 모노머 혼합액을 투입하고 2분간 교반하여 혼합하였다. 그런 다음, 클래드가 제조되어 있는 원통형 반응기에 가득 채우고 3,000rpm의 회전속도로 75℃에서 UV를 조사하면서 6시간 중합하고, 다시 100rpm의 회전속도로 85℃에서 12시간 중합시켜 최종적으로 플라스틱 광섬유용 모재를 제조하였다. 이를 직경 0.75mm의 광섬유로 인출한 다음 측정한 광손실은 190dB/km였다.

BMA과 MMA는 상대적 반응성이 서로 비슷하므로 얻어진 모재는 무정형 랜덤 공중합체(amorphous random copolymer)였다.

본 발명에 의해 밀도 제약이 없이 모노머들을 선택할 수 있는 플라스틱 광섬유용 모재를 제조하는 새로운 방법을 제공할 수 있다.

Claims

(1) 굴절률에 차이가 있는 한 쌍의 모노머 혼합액을 준비하는 단계;

(2) 상기 한 쌍 모노머 혼합액 중 굴절률이 낮은 모노머 혼합액을 중합시켜 프리폴리머를 형성하는 단계;

(3) 상기 프리폴리머를 나머지 모노머 혼합액과 균일하게 혼합하는 단계; 및

(4) 상기 혼합물을 반응기에 투입하여, 회전시키면서 중합하는 단계를 포함하는 플라스틱 광섬유용 모재의 제조 방법.
제 1항에 있어서, 상기 (4) 단계에서 중합시 반응기에 발생되는 중공에 높은 굴절율을 가지는 모노머 혼합액, 프리폴리머, 또는 프리폴리머와 모노머 혼합액의 혼합물을 투입하여 중합시키는 단계를 1회 이상, 10회 이하로 추가하는 것을 특징으로 하는 방법.
제 1항에 있어서, 상기 (2) 단계에서 모노머 혼합액을 열중합 및 UV중합으로 구성된 군에서 선택된 1종 또는 2종의 방법에 의해 중합하여 프리폴리머로 형성하는 것을 특징으로 하는 플라스틱 광섬유용 모재의 제조방법.
제 1항에 있어서, 상기 (4) 단계에서 반응기 내의 혼합물을 열중합 및 UV중합으로 구성된 군에서 선택된 1종 또는 2종의 방법에 의해 중합하는 것을 특징으로 하는 플라스틱 광섬유용 모재의 제조방법.
제 1항에 있어서, 반응기의 단면모양이 원형인 것을 특징으로 하는 플라스틱 광섬유용 모재의 제조방법.
제 1항에 있어서, 상기 반응기를 정속회전 또는 변속회전시키는 것을 특징으로 하는 플라스틱 광섬유용 모재의 제조방법.
제 6항에 있어서, 상기 반응기의 변속회전이 고속회전과 저속회전 또는 정지상태를 반복하는 형태, 삼각함수형태, 또는 주기, 위상 및 진폭이 변화하는 특정한 함수형태의 회전속도함수를 따르는 것을 특징으로 하는 플라스틱 광섬유용 모재의 제조방법.
제 1항에 있어서, 모노머 혼합액이 일종 이상의 모노머, 중합 개시제 및 분자량 조절제를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라스틱 광섬유용 모재의 제조방법.
제 8항 있어서, 상기 모노머가 메틸메타크릴레이트, 벤질메타크릴레이트, 페닐메타크릴레이트, 1-메틸시클로헥실메타크릴레이트, 시클로헥실메타크릴레이트, 클로로벤질메타크릴레이트, 1-페닐에틸메타크릴레이트, 1,2-디페닐에틸메타크릴레이트, 디페닐메틸메타크릴레이트, 퍼퓨릴메타크릴레이트, 1-페닐시클로헥실메타크릴레이트, 펜타클로로페닐메타크릴레이트, 펜타브로모페닐메타크릴레이트, 스티렌, TFEMA(2,2,2-트리플루오로에틸메타크릴레이트), TFPMA(2,2,3,3-트리플루오로프로필메타크릴레이트), PFPMA(2,2,3,3,3-펜타플루오로프로필메타크릴레이트), HFIPMA(1,1,1,3,3,3-헥사플루오로이소프로필메타크릴레이트), HFBM(2,2,3,4,4,4-헥사플루오로부틸메타크릴레이트), HFBMA(2,2,3,3,4,4,4-헵타플루오로부틸메타크릴레이트) 및 PFOM(1H,1H-퍼플루오로-n-옥틸메타크릴레이트)로 이루어진 군으로부터 각각 선택되는 것을 특징으로 하는 플라스틱 광섬유용 모재의 제조방법.
제 8항에 있어서, 상기 중합개시제가 2,2'-아조비스(이소부티로니트릴), 1,1'-아조-비스(사이크로헥산카르보니트릴), 2,2'-아조비스(2,4-디메틸발레로니트릴), 2,2'-아조비스(메틸부티로니트릴), 디-tert-부틸 페록사이드, 라우로일페록사이드, 벤조일 페록사이드, tert-부틸 페록사이드, 아조-tert-부탄, 아조-비스-이소프로필, 아조-노르말-부탄, 및 디-tert-부틸 페록사이드로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 열중합 개시제인 것을 특징으로 하는 플라스틱 광섬유용 모재의 제조방법.
제 8항에 있어서, 상기 중합 개시제가 4-(파라-토릴사이오)벤조페논, 4,4'-비스(디메틸아미노)벤조페논, 2-메틸-4'-(메틸사이오)-2-몰포리노-프로피오페논, 1-하이드록시-사이클로헥실-페닐-케톤, 2-하이드록시-2-메틸-1-페닐-프로판-1-온, 벤조페논, 1-[4-(2-하이드록시에톡시)-페닐]-2-하이드록시-2-메틸-1-프로판-1-온, 2-벤질-2-메틸아미노-1-(4-몰포리노페닐)-부타논-1, 2,2-디메톡시-1,2-디페닐메탄- 1-온, 비스(2,4,6-트리메틸벤조일)-페닐포스핀옥사이드, 2-메틸-1[4-(메틸씨오)페닐]-2-몰포리노프로판-1-온, 및 비스(.에타.5-2,4-싸이클로펜타디엔-1-일)-비스(2,6-디플루오로-3-(1H-파이로-1-일)-페닐) 티타늄으로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 광중합 개시제인 것을 특징으로 하는 플라스틱 광섬유용 모재의 제조방법.
제 8항에 있어서, 상기 분자량 조절제가 노르말-부틸-멀캡탄, 라울리멜캡탄, 옥틸 멀캡탄, 도데실 멀캡탄 및 1-부탄사이올로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 물질인 것을 특징으로 하는 플라스틱 광섬유용 모재의 제조방법.
제 1항에 있어서, 상기 프리폴리머의 점도가 50∼500,000 cps (25℃)인 것을 특징으로 하는 플라스틱 광섬유용 모재의 제조방법.