KR100692447B1 - 잉크젯 헤드의 제조 방법 및 잉크젯 헤드 - Google Patents

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세이코 엡슨 가부시키가이샤
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Abstract

본 발명은 양호한 안정 토출성을 갖는 잉크젯 헤드의 제조 방법 및 잉크젯 헤드를 제공하는 것을 과제로 한다.
본 발명은 액상체를 수용하는 캐비티와, 이 캐비티에 연통하는 노즐(18)을 갖고, 캐비티와 반대 측의 노즐 개구를 토출구(9)로 하여, 캐비티 내에 수용한 액상체를 노즐(18)의 토출구(9)로부터 토출하는 잉크젯 헤드의 제조 방법에 관한 것이다. 노즐(18)의 토출구(9) 측을, 토출구 측으로 감에 따라 점차 직경이 확대되는 테이퍼부(18a)로 하는 테이퍼부 형성 공정과, 노즐 내의 테이퍼부(18a) 위에 발액막(10a)과 친액막(10b)을 번갈아 형성하여 적층막(11a)을 형성하는 공정과, 테이퍼부(18a) 위의 적층막(11a)을 연삭하여, 그 측단면을 노출시킴으로써, 발액막의 고리 형상 단면과 친액막의 고리 형상 단면이 번갈아 노출되어 이루어지는 노즐내 발액막(11)을 형성하는 공정을 구비하고 있다.
토출, 액상체, 테이퍼, 발액막, 친액막, 적층막, 고리 형상 단면.

Description

잉크젯 헤드의 제조 방법 및 잉크젯 헤드{METHOD OF MANUFACTURING INK JET HEAD AND INK JET HEAD}
도 1의 (a) 및 (b)는 잉크젯 헤드의 개략 구성도.
도 2는 노즐 플레이트의 요부(要部) 확대도.
도 3의 (a) 및 (b)는 동적(動的) 접촉각 측정법의 설명도.
도 4의 (a)~(c)는 잉크젯 헤드의 제조 방법 설명도.
도 5의 (a) 및 (b)는 도 4에 연속되는 제조 방법의 설명도.
도 6은 본 발명의 실시예의 변형례를 설명하기 위한 도면.
*도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명*
1 : 잉크젯 헤드
9 : 토출구
10, 10a : 발액막(撥液膜)
10b : 친액막(親液膜)
11 : 노즐내 발액막
11a : 적층막
12 : 노즐 플레이트
15 : 캐비티(cavity)
18 : 노즐
18a : 테이퍼부
100a : 발액부
100b : 친액부
본 발명은 액체방울을 토출하는 잉크젯법에 이용되는 잉크젯 헤드의 제조 방법 및 잉크젯 헤드에 관한 것이다.
소정량의 액상(液狀) 재료를 원하는 위치에 배치할 수 있는 방법으로서, 액체방울 토출법이 알려져 있다. 이러한 액체방울 토출법의 하나로서, 특히 미량(微量)의 액상 재료를 토출하는데 적합한 잉크젯법이 있다.
이 잉크젯법에 이용되는 잉크젯 헤드는 액상체를 수용하는 캐비티와, 이 캐비티에 연통(連通)하는 노즐을 형성한 노즐 플레이트를 가진 것이며, 상기 캐비티와 반대 측의 노즐 개구를 토출구로 하여, 상기 캐비티 내에 수용한 액상체를 상기 토출구로부터 토출하도록 구성된 것이다.
그런데, 이러한 잉크젯 헤드에서는, 특히 노즐 토출구 근방부에서의 액상체와의 접촉성, 즉 이 토출구 근방부가 발액성인지 친액성인지의 여부가 상기 액상체로 이루어지는 액체방울의 안정 토출을 행하는데 중요한 인자로 되고 있다.
이러한 관점에서 종래 노즐 플레이트의 상기 토출구 측의 면에 공석(共析) 도금을 실시하고, 이 토출구 측의 면 및 노즐 내의 토출구 근방부를 발액화한 것이 알려져 있다(예를 들어 일본국 특개평4-294145호 공보 참조).
또한, 발액성인지 친액성인지의 여부에 주목한 기술로서, 노즐 플레이트의 상기 토출구를 형성한 측의 면에 발잉크성 피막(皮膜)(발액막)을 형성하고, 토출하는 액상체로서, 상기 발잉크성 피막에 대하여 그 후퇴 동적 접촉각이 15° 이상인 것을 이용한다는 기술이 알려져 있다(예를 들어 일본국 특개2000-290556호 공보 참조).
그런데, 상기 공석 도금을 실시한 기술 및 발잉크성 피막에 대한 후퇴 동적 접촉각에 주목한 기술은 모두 노즐 플레이트 표면, 즉, 노즐 플레이트의 상기 토출구를 형성한 측의 면에서의 액상체 습윤을 방지하고, 여기가 젖어 있는 것에 기인하여 다음에 토출되는 액체방울이 불안정하게 토출되는 것을 방지한 것이다.
그러나, 액체방울의 안정 토출, 특히 토출량의 안정화라는 점에서 생각한 경우, 노즐 플레이트의 노즐 토출구를 형성한 측의 면에서의 액상체 습윤성(발액성 또는 친액성)만을 고려하여도, 안정 토출을 행하는데 충분하다고는 할 수 없었다.
본 발명은 상기 사정을 감안하여 안출된 것으로서, 양호한 안정 토출성을 갖는 잉크젯 헤드의 제조 방법 및 잉크젯 헤드를 제공하는 것을 목적으로 한다.
상기 목적을 달성하기 위해, 본 발명자들은 예의 연구를 거듭한 결과, 이하의 지견(知見)을 얻었다.
액체방울을 토출한 후, 다음 토출까지의 사이에서, 캐비티로부터 노즐에 걸쳐 수용되는 액상체는 통상 노즐 내에서 메니스커스를 형성한다. 즉, 액상체는 그 메니스커스의 단부(端部)가 노즐 내부에 위치한 상태로 유지되어, 다음 토출을 대기하게 된다. 따라서, 이 노즐 내부에서의 메니스커스 단부의 위치가 매회(每回) 동일한 위치로 되면, 토출량의 안정화가 도모되어, 보다 양호한 안정 토출을 행할 수 있게 된다. 그리고, 이러한 지견에 의거하여 연구를 더 거듭한 결과, 본 발명자는 본 발명을 완성하였다.
본 발명의 잉크젯 헤드의 제조 방법은, 액상체를 수용하는 캐비티와, 이 캐비티에 연통(連通)하는 노즐을 갖고, 상기 캐비티와 반대 측의 노즐 개구를 토출구로 하여, 상기 캐비티 내에 수용한 액상체를 상기 노즐 토출구로부터 토출하는 잉크젯 헤드의 제조 방법으로서, 상기 노즐 토출구 측을, 토출구 측으로 감에 따라 점차 직경이 확대되는 테이퍼부로 하는 테이퍼부 형성 공정과, 상기 노즐 내의 테이퍼부 위에 발액막(撥液膜)과 친액막(親液膜)을 번갈아 형성하여 적층막을 형성하는 공정과, 상기 테이퍼부 위의 적층막을 연삭(硏削)하여, 그 측단면을 노출시킴으로써, 발액막의 고리 형상 단면(端面)과 친액막의 고리 형상 단면이 번갈아 노출되어 이루어지는 노즐내 발액막을 형성하는 공정을 구비한 것을 특징으로 하고 있다.
이 잉크젯 헤드의 제조 방법에 의하면, 상기 노즐 토출구 측에 발액막의 고리 형상 단면과 친액막의 고리 형상 단면이 번갈아 노출되어 이루어지는 노즐내 발액막을 형성하기 때문에, 이 노즐내 발액막은 후퇴 접촉각과 전진 접촉각의 차가 커진다. 따라서, 얻어진 잉크젯 헤드는 그 노즐내 발액막에 의해 양호한 안정 토 출성을 발휘하게 된다. 즉, 액상체의 메니스커스 단부가 상기 노즐내 발액막 위를 이동했을 때, 이 노즐내 발액막의 상기 액상체에 대한 후퇴 접촉각과 전진 접촉각의 차가 크기 때문에, 이것이 작은 경우에 비하여 메니스커스 단부가 상기 노즐내 발액막 위의 소정 위치(초기 위치)에 멈추기 쉬워진다. 따라서, 메니스커스 단부의 위치가 매회 대략 동일한 위치로 됨으로써, 토출량의 안정화가 도모된다.
또한, 상기 잉크젯 헤드의 제조 방법에서는, 상기 테이퍼부 위의 적층막의 연삭을, 원하는 노즐 직경보다 약간 작은 외경(外徑)의 원기둥 형상의 막대체를 상기 노즐 내에 삽통(揷通)하여, 상기 적층막을 연삭 및 연마함으로써 행하는 것이 바람직하다.
이렇게 하면, 테이퍼부 위의 적층막의 단부가 막대체에 의해 비스듬하게 연삭 및 연마됨으로써, 적층막은 노즐 내에 발액막 및 친액막의 각 단면을 노출시키게 되고, 따라서, 얻어지는 노즐내 발액막은 고리 형상의 발액부와 고리 형상의 친액부가 번갈아 분포되어 이루어지는 것으로 된다.
또한, 상기 잉크젯 헤드의 제조 방법에서는, 상기 노즐이 노즐 플레이트에 형성되어 이루어지며, 상기 발액막과 친액막을 번갈아 형성하여 적층막을 형성하는 공정에서는, 상기 노즐 플레이트의 외면(外面) 측에도 동일한 적층막을 형성하도록 하고, 또한 상기 적층막의 최외층(最外層)을 발액막으로 하는 것이 바람직하다.
이렇게 하면, 적층막을 형성하는 동시에, 노즐 플레이트의 외면에 발액막이 형성된다.
또한, 상기 잉크젯 헤드의 제조 방법에서는, 상기 발액막이 실리콘 수지로 이루어지는 것이 바람직하고, 그 경우에, 상기 발액막은 실리콘 수지를 플라즈마 중합시켜 형성한 플라즈마 중합막인 것이 바람직하다.
이렇게 하면, 발액막의 발액성 변화를 양호하게 행하는 것이 가능해진다.
또한, 상기 잉크젯 헤드의 제조 방법에서는, 상기 친액막의 형성을 발액막에 에너지를 공급하여 발액성을 친액성으로 변화시킴으로써 행하는 것이 바람직하다. 또한, 특히 발액막이 실리콘 수지로 이루어질 경우, 친액막의 형성을 발액막에 광을 조사하여 발액성을 친액성으로 변화시킴으로써 행하는 것이 바람직하다.
이렇게 하면, 발액막의 발액성을 변화시켜, 친액성으로 하는 것이 용이해진다.
본 발명의 잉크젯 헤드는, 노즐 내벽면의 토출구 근방부에 고리 형상의 친액부와 고리 형상의 발액부가 번갈아 분포되어 이루어지는 노즐내 발액막이 형성되어 있는 것을 특징으로 하고 있다.
이 잉크젯 헤드에 의하면, 노즐내 발액막이 고리 형상의 발액부와 고리 형상의 친액부가 번갈아 분포되어 형성되어 있음으로써, 이 노즐내 발액막은 그 후퇴 접촉각과 전진 접촉각의 차가 커지고, 따라서, 이 노즐내 발액막에 의해 양호한 안정 토출성을 발휘하게 된다.
또한, 상기 잉크젯 헤드에서는, 상기 노즐이 노즐 플레이트에 형성되어 이루어지고, 상기 노즐 플레이트의 외면측 최표면(最表面)에 발액막이 설치되어 있는 것이 바람직하다.
이렇게 하면, 발액막에 의해 노즐 플레이트의 외면측에서의 액상체 습윤도 방지하는 것이 가능해지고, 따라서, 여기가 젖어 있는 것에 기인하여 토출이 불안정해지는 것을 방지할 수 있게 된다.
이하, 본 발명의 잉크젯 헤드의 제조 방법 및 이 방법에 의해 얻어지는 본 발명의 잉크젯 헤드를 상세하게 설명한다.
도 1의 (a) 및 (b)는 본 발명의 제조 방법이 적용된 잉크젯 헤드의 개략 구성을 설명하기 위한 도면이며, 도 1의 (a) 및 (b)에서 참조부호 1은 잉크젯 헤드이다. 이 잉크젯 헤드(1)는 도 1의 (a)에 나타낸 바와 같이, 예를 들어 스테인리스제의 노즐 플레이트(12)와 진동판(13)을 구비하고, 양자를 구획 부재(리저버(reservoir) 플레이트)(14)를 통하여 접합한 것이다. 노즐 플레이트(12)와 진동판(13) 사이에는 구획 부재(14)에 의해 복수의 캐비티(15, …)와 리저버(16)가 형성되어 있고, 이들 캐비티(15, …)와 리저버(16)는 유로(流路)(17)를 통하여 연통하고 있다.
각 캐비티(15)와 리저버(16)는 그 내부에 액상체를 충전하여 이것을 수용하게 되어 있고, 이들 사이의 유로(17)는 리저버(16)로부터 캐비티(15)에 액상체를 공급하는 공급구로서 기능하게 되어 있다. 또한, 노즐 플레이트(12)에는 캐비티(15)로부터 액상체를 토출하기 위한 구멍 형상의 노즐(18)이 종횡으로 정렬된 상태로 복수 형성되어 있다. 노즐(18)은 상기 캐비티(15)의 측이 테이퍼 형상으로 되어 있어, 캐비티(15) 측으로 감에 따라 점차 직경이 확대된 것으로 되어 있다. 또한, 캐비티(15)와 반대 측의 개구는 액체방울을 토출하기 위한 토출구(9)로 되어 있다. 여기서, 노즐 플레이트(12)에는 그 토출구(9)를 형성한 면에 발액막(10)이 형성되어 있고, 이 발액막(10)은 노즐(18) 내벽면의 상기 토출구(9) 근방부까지 둘러싸서 형성된 것으로 되어 있다.
한편, 진동판(13)에는 리저버(16) 내에 개구하는 구멍(19)이 형성되어 있고, 이 구멍(19)에는 액상체를 충전한 탱크(도시 생략)가 튜브(도시 생략)를 통하여 접속되게 되어 있다.
또한, 진동판(13)의 캐비티(15)를 향하는 면과 반대 측의 면 위에는, 도 1의 (b)에 나타낸 바와 같이 압전 소자(피에조 소자)(20)가 접합되어 있다. 이 압전 소자(20)는 잉크젯 헤드(1)에서 토출 수단으로서 기능하는 것이며, 한 쌍의 전극(21, 21) 사이에 삽입되어, 통전(通電)에 의해 외측으로 돌출되게 하여 휘어지도록 구성된 것이다.
이러한 구성에 의거하여 압전 소자(20)가 접합된 진동판(13)은, 압전 소자(20)가 휘어지면, 이것과 일체로 되어 동시에 외측으로 휘어지고, 이것에 의해 캐비티(15)의 용적을 증대시킨다. 그리하면, 캐비티(15) 내와 리저버(16) 내가 연통하고 있어, 리저버(16) 내에 액상체가 충전되어 있을 경우에는, 캐비티(15) 내에 증대한 용적분에 상당하는 액상체가 리저버(16)로부터 유로(17)를 통하여 유입된다.
그리고, 이러한 상태로부터 압전 소자(20)로의 통전을 해제하면, 압전 소자(20)와 진동판(13)은 모두 원래의 형상으로 되돌아간다. 따라서, 캐비티(15)도 원래의 용적으로 되돌아가기 때문에, 캐비티(15) 내부의 액상체 압력이 상승하여, 노즐(18)의 토출구(9)로부터 액상체의 액체방울(22)이 토출된다.
또한, 잉크젯 헤드(1)의 토출 수단으로서는, 상기 압전 소자(피에조 소자)(20)를 이용한 전기 기계 변환체 이외일 수도 있으며, 예를 들어 에너지 발생 소자로서 전기 열 변환체를 이용한 방식이나, 대전 제어형, 가압 진동형과 같은 연속 방식, 정전 흡인 방식, 더 나아가서는 레이저 등의 전자파를 조사하여 발열시키고, 이 발열에 의한 작용으로 액상체를 토출시키는 방식을 채용할 수도 있다.
이러한 구성의 잉크젯 헤드(1)에 있어서, 노즐 플레이트(12)에는 상술한 바와 같이 토출구(9)를 형성한 면으로부터 노즐(18) 내벽면의 토출구(9) 근방부에 걸쳐 발액막(10)이 형성되어 있다. 그리고, 이 발액막(10)에 있어서, 도 2에 나타낸 바와 같이 특히 노즐(18) 내벽면의 토출구(9) 근방부에 형성된 부분은 노즐내 발액막(11)으로 되어 있고, 이 노즐내 발액막(11)은 토출하는 액상체에 대한 후퇴 접촉각과 전진 접촉각의 차가 크다(구체적으로는, 전진 접촉각이 50° 이상 90° 이하, 후퇴 접촉각이 25° 미만으로 되어 있어, 그 차가 25° 이상으로 된다).
따라서, 이 잉크젯 헤드(1)는, 그 노즐내 발액막(11)에 의해 양호한 안정 토출성을 발휘하게 되어 있다. 즉, 노즐(18) 내에 있어서, 토출 동작을 종료하고 다음 토출에 대비하기 위해, 액상체의 메니스커스 단부(M)가 도 2에 나타낸 바와 같이 상기 노즐내 발액막(11) 위를 이동했을 때, 이 노즐내 발액막(11)의 상기 액상체에 대한 후퇴 접촉각과 전진 접촉각의 차가 크기 때문에, 이것이 작은 경우에 비하여 메니스커스 단부(M)가 상기 노즐내 발액막(11) 위의 소정 위치(초기 위치)에 멈추기 쉬워진다. 따라서, 메니스커스 단부(M)의 위치가 매회 대략 동일한 위치로 됨으로써, 토출량의 안정화가 도모되는 것이다.
여기서, 노즐내 발액막(11)(고체 시료(試料))의, 토출하는 액상체(액상 시료)에 대한 후퇴 접촉각 및 전진 접촉각은 동적 접촉각이라고 불리는 것이며, 그 측정법으로서는, 예를 들어 (1) 윌헬미법(Wilhelmy method), (2) 확장 수축법, (3) 전락법(轉落法) 등이 알려져 있다. 또한, 이하의 측정법에서 고체 시료로서는, 스테인리스판에 상기 노즐내 발액막(11)과 동일한 발액막을 형성한 것을 사용하는 것으로 한다.
(1) 윌헬미법은 시료조(試料槽) 내의 액체 시료 중에 고체 시료를 가라앉히는 과정에서, 또한 가라앉힌 것을 끌어올리는 과정에서의 하중을 측정하고, 그 측정값과 고체 시료의 표면적 값으로부터 동적 접촉각을 구하는 방법이다. 고체 시료를 가라앉히는 과정에서 얻어지는 접촉각이 전진 접촉각, 끌어올리는 과정에서 얻어지는 접촉각이 후퇴 접촉각이다.
(2) 확장 수축법은 주사바늘이나 유리모세관 등의 선단(先端)으로부터 고체 시료 표면 위에 액체 시료를 일정 유량(流量)으로 압출(壓出)함으로써 액체방울을 형성하면서, 고체 시료 표면과 액체방울 사이의 접촉각을 측정함으로써 전진 접촉각을 얻고, 반대로 주사바늘이나 유리모세관 등의 선단으로부터 액체방울을 형성하고 있는 액체 시료를 인입(引入)하면서, 고체 시료 표면과 액체방울 사이의 접촉각을 측정함으로써 후퇴 접촉각을 얻는 방법이다.
(3) 전락법은 고체 시료 위에 액체방울을 형성하고, 이 고체 시료를 기울이거나 또는 수직으로 하여 고체 시료 위의 액체를 전락 이동시키면서, 고체 시료와 액체방울 사이의 접촉각을 측정하는 것이다. 액체가 이동하는 방향의 전방(前方) 에서의 접촉각이 전진 접촉각이고, 후방(後方)에서의 접촉각이 후퇴 접촉각이다.
그러나, 상기 측정법은 모두 측정할 수 있는 시료가 한정되어 있는 등의 난점(難點)이 있기 때문에, 본 실시예에서는 특히 상기 (2)확장 수축법의 변형인 이하의 측정법을 이용하고 있다.
도 3의 (a)에 나타낸 바와 같이, 고체 시료(2)의 표면 위에 형성한 액체방울(3) 내에 침상(針狀) 관체(管體)(4)의 선단이 삽입되어 있는 상태에서, 고체 시료(2)를 수평 방향으로 이동시킨다. 그리하면, 액체방울(3) 내에 침상 관체(4)가 삽입되어 있기 때문에, 액체방울(3)과 침상 관체(4)의 계면 장력(界面張力)에 의해, 도 3의 (b)에 나타낸 바와 같이, 고체 시료(2)의 이동에 따라 액체방울(3)이 침상 관체(4)에 끌리듯이 변형된다.
이렇게 액체방울(3)이 변형된 상태에서의 고체 시료(2)와 액체방울(3) 사이의 접촉각의 크기는 액체방울(3)을 이루는 액체의 표면 장력, 고체 시료(2)를 이루는 고체의 표면 장력, 액체와 고체 사이의 계면 장력, 마찰력, 흡착력, 고체 표면 조도(粗度) 등에 기인하기 때문에, 이 상태에서의 접촉각을 측정함으로써, 동적 접촉각을 얻을 수 있다. 즉, 고체 시료(2)의 이동 방향의 전방의 접촉각 θ1로부터 후퇴 접촉각이 얻어지고, 후방의 접촉각 θ2로부터 전진 접촉각이 얻어진다.
이러한 측정 방법은 고체 시료(2) 위의 액체방울 내에 침상 관체의 선단을 삽입한 상태에서 상기 고체 시료(2)를 수평 방향으로 이동시킴으로써, 표면 에너지나 마찰 등의 상기 인자(因子)를 조사하지 않고, 그 결과로서 야기되는 동적 접촉각만을 측정할 수 있는 것이며, 모든 고체 시료 및 액체 시료에 대해서 동적 접촉 각의 측정을 적절히 행할 수 있다. 따라서, 본 실시예에서는 전진 접촉각 및 후퇴 접촉각의 측정법으로서, 도 3에 나타낸 측정법을 채용하는 것으로 한다. 또한, 본 발명은 도 3에 나타낸 측정법 이외의 측정법, 예를 들어 상기 (1)~(3)에 나타낸 측정법을 채용할 수도 있지만, 그 경우, 측정 장치 등의 차이(器差) 등에 의해 측정법의 사이에서 얻어지는 동적 접촉각(전진 접촉각, 후퇴 접촉각)에 차가 생기는 경우가 있다. 그래서, 도 3에 나타낸 측정법 이외의 측정법을 이용한 경우에는, 그 측정법과 도 3에 나타낸 측정법 사이에서 상관(相關)을 취하여 두고, 실제로 측정한 수치(동적 접촉각)를 도 3에 나타낸 측정법에서 얻어지는 수치(동적 접촉각)로 환산하여 이용하는 것이 바람직하다.
다음으로, 도 2에 나타낸 노즐내 발액막(11)의 형성 방법에 의거하여, 본 발명의 잉크젯 헤드의 제조 방법 및 잉크젯 헤드의 실시예를 설명한다.
본 실시예에서는, 우선, 노즐(18)을 형성한 노즐 플레이트(12)를 준비한다. 또한, 준비하는 노즐 플레이트(12)의 노즐(18)로서는, 도 4의 (a)에 나타낸 바와 같이, 특히 그 토출구(9) 측을 테이퍼 형상으로 형성하여 두고, 또한 토출구(9)와 반대 측(캐비티(15) 측)도 테이퍼 형상으로 형성하여 둔다.
즉, 토출구(9) 측에 대해서는, 토출구(9) 측으로 감에 따라 점차 직경이 확대되는 테이퍼부(18a)를 형성하여 두고, 또한 토출구(9)와 반대 측(캐비티(15) 측)에 대해서는, 캐비티(15) 측으로 감에 따라 점차 직경이 확대되는 테이퍼부(18b)를 형성하여 둔다. 토출구(9) 측의 테이퍼부(18a)에 대해서는, 그 내면의 경사각, 즉, 노즐(18)의 중심축에 대한 경사각을, 예를 들어 5°~15° 정도, 바람직하게는 약 6°로 형성한다. 한편, 캐비티(15) 측의 경사각에 대해서는, 특별히 제한되지 않아 임의의 각도, 예를 들어 5°~15° 정도로 형성한다.
이러한 테이퍼부(18a, 18b)의 형성 방법으로서는, 예를 들어 형성하는 각도에 대응한 테이퍼면을 갖는 막대체, 즉, 원뿔 형상의 선단부를 구비하여 이루어지는 막대체를 준비하고, 이것을 노즐 플레이트(12)의 한쪽 면측을 향하여 회전시킴으로써 소정 깊이까지 연삭하고, 또한 그 내면을 연마한다는 방법이 채용된다. 여기서, 연마 시에는, 예를 들어 평균 입경(粒徑)이 0.5㎛ 정도인 알루미나 미립자를 연마제로서 사용하고, 이것을 노즐 플레이트(12)과 막대체 사이에 주입한 상태에서 행한다. 또한, 노즐(18)에 대해서는, 최종적으로 그 토출구(9) 측의 내경(內徑)을, 예를 들어 25㎛로 되도록 하기 위해, 테이퍼부(18a)에 대해서는 그 가장 작은 직경을 갖는 부분의 내경을 약 25㎛로 한다.
이어서, 이 노즐 플레이트(12)의 토출구(9)를 형성한 면에 실리콘 수지를 플라즈마 중합시키고, 토출구(9)를 형성한 면에 플라즈마 중합막을 두께 50㎚ 정도로 형성한다. 그리하면, 플라즈마 중합막은, 특히 노즐(18)의 토출구(9) 측이 외측으로 직경이 확대된 테이퍼부(18a)로 되어 있기 때문에, 이 테이퍼부(18a) 위까지 용이하게 둘러싸서 형성되고, 도 4의 (b)에 나타낸 바와 같이 노즐(18) 내벽면의 테이퍼부(18a) 위에도 플라즈마 중합막이 형성된다.
또한, 이 노즐(18) 내벽면에 형성된 플라즈마 중합막의 막 두께도 노즐 플레이트(12)의 토출구(9) 형성면에 형성된 플라즈마 중합막의 막 두께와 동일한 정도의 막 두께, 즉, 약 50㎚ 정도로 된다.
이렇게 하여 플라즈마 중합을 행하면, 얻어진 플라즈마 중합막은 -Si-O-Si-로 이루어지는 주쇄(主鎖)를 갖고, 또한 알킬기나 아릴기 등의 탄소 함유기를 측쇄(側鎖)로 하는 것으로 되기 때문에, 발액성(발수성)을 갖는 막, 즉, 발액막(10a)으로 된다.
이렇게 하여 플라즈마 중합막으로 이루어지는 발액막(10a)을 토출구(9) 형성면 및 노즐(18) 내의 테이퍼부(18a) 위에 각각 형성하면, 이 노즐 플레이트(12)의 발액막(10a) 측, 즉, 토출구(9) 측으로부터 자외선 레이저광인 엑시머 레이저광(파장; 174㎚)을 산소 존재 분위기 하(다만, 산소는 자외광을 흡수하여 오존을 발생시키기 때문에, 본 실시예에서는 질소 분위기에 대하여 산소를 약간 첨가한 분위기로 했음)에서 노즐(18)의 축방향을 따라 조사한다.
그리하면, 노즐(18) 내에서는 엑시머 레이저광에 의해 플라즈마 중합막(발액막(10a))이 노광된다. 이렇게 하여 노광이 실행되면, 노광부에서는 실리콘 수지로 이루어지는 플라즈마 중합막 중의 측쇄인 알킬기나 아릴기가 엑시머 레이저광에 의해 파괴되고, 상기 질소 분위기 중의 산소가 수용되는 것 등에 의해, 최종적으로는 친수성(친액성)인 SiO2를 형성하여, 도 4의 (c)에 나타낸 바와 같이 친액막(10b)으로 된다. 여기서, 이 엑시머 레이저광에 의한 노광 시에는, 플라즈마 중합막(발액막(10a)) 전체, 즉, 그 전체 두께에 걸쳐 노광하는 것이 아니라, 막 두께의 표면측 반분 정도를 노광하고, 내층 측은 노광하지 않도록 조사 광량(光量)과 시간을 조정한다. 예를 들면, 5㎽/㎠의 광량으로 3분간 조사함으로써, 표면측 반분 정도를 노광하고, 내층 측은 노광하지 않도록 할 수 있다.
이러한 조건으로 노광을 행함으로써, 플라즈마 중합막은 도 4의 (c)에 나타낸 바와 같이 그 내층 측은 노광되지 않아 발액막(10a)의 상태로 남고, 표면 측은 친액화하여 친액막(10b)으로 된다.
또한, 이러한 플라즈마 중합막의 형성(성막) 공정, 형성한 플라즈마 중합막에 대한 표면 측만의 노광 공정을, 예를 들어 10회 차례로 반복함으로써, 도 5의 (a)에 나타낸 바와 같이 노즐 플레이트(12)의 토출구(9) 형성면과 노즐(18) 내의 테이퍼부(18a) 위에 발액막(10a)과 친액막(10b)으로 이루어지는, 두께 500㎚ 정도의 적층막(11a)을 형성한다. 이렇게 하여 적층막(11a)을 형성하면, 특히 노즐(18) 내의 테이퍼부(18a) 위에서는, 테이퍼부(18a)의 사면(斜面)(테이퍼면)에 각 막이 차례로 적층됨으로써, 적층막(11a)은 테이퍼부(18a)의 테이퍼면을 그대로 이동한 상태에서 노즐(18)의 중심축에 대하여 비스듬하게 적층된다. 따라서, 이 적층막(11a)은 특히 그 내방(內方) 측(토출구(9)와 반대 측)에서 노즐(18)의 내경을 좁히게 된다.
또한, 이러한 적층막(11a)의 형성 시에는, 특히 그 최외층으로 되는 막에 대해서, 이것을 발액막(10a)으로 하는 것, 즉, 플라즈마 중합막을 형성한 후 노광을 행하지 않고 그대로 남기는 것이 바람직하다. 이렇게 하면, 이 발액막(10a)이 도 2에 나타낸 노즐 플레이트(12)의 토출구(9) 형성면 위에서 발액막(10)으로서 기능하게 되고, 따라서, 적층막(11a)의 형성과 동시에, 이 발액막(10)을 형성할 수 있게 되기 때문이다.
이렇게 하여 적층막(11a)을 형성하면, 그 노즐(18) 내에 토출구(9) 측으로부터 막대체를 삽통(揷通)함으로써, 상기 적층막(11a)의 일부를 연삭하여 그 측단면을 노출시키는 동시에, 노출된 단면을 연마한다. 노즐(18) 내에 삽통하는 막대체로서는, 앞서 테이퍼부(18(18b))를 형성한 경우와는 달리, 그 선단 측이 테이퍼면을 갖지 않는 원기둥 형상의 것으로 한다. 또한, 이 막대체의 외경으로서는, 최종적으로 형성하는 노즐(18)의 토출구(9) 측의 내경, 즉, 원하는 노즐 직경보다 약간 작은 외경의 것으로 한다. 이러한 막대체에 의한 적층막(11a)의 일부 연삭 및 연마 시에는, 특히 그 연마 시에 상술한 알루미나 미립자로 이루어지는 연마제를 이용하여 행한다.
그리하면, 테이퍼부(18a) 위의 적층막(11a)은 상술한 바와 같이 노즐(18)의 중심축에 대하여 비스듬하게 적층되어 형성되어 있기 때문에, 막대체가 노즐(18)의 중심축을 따라 삽통됨으로써, 적층막(11a)은 도 5의 (b)에 나타낸 바와 같이 그 단부 측이 비스듬하게 연삭 및 연마된다. 그리고, 이렇게 비스듬하게 연삭 및 연마되면, 적층막(11a)은 노즐(18) 내에 발액막(10a) 및 친액막(10b)의 각 단면을 노출시키게 되고, 이것에 의해 적층막(11a)의 각 단면은 번갈아 분포됨으로써 노즐내 발액막(11)으로 된다. 즉, 이러한 연삭 및 연마에 의해 발액막(10a) 및 친액막(10b)의 각 단면은 각각 발액부(100a) 및 친액부(100b)로 되고, 테이퍼부(18a)의 둘레면에서 그 둘레 방향을 따라 둥근 고리 형상으로 형성되며, 또한 약 0.5㎛ 피치로 번갈아 형성된 것으로 된다.
이렇게 하여 둥근 고리 형상의 발액부(100a)와 친액부(100b)가 번갈아 형성 되면, 이들 발액부(100a) 및 친액부(100b)로 이루어지는 노즐내 발액막(11)은 액상체에 대한 전진 접촉각이 비교적 크고, 또한 후퇴 접촉각이 작아진다. 즉, 발액부(100a)와 친액부(100b)가 번갈아 존재하고 있으면, 이 노즐(18) 내를 액상체가 이동할 때, 그 전진 측에서는 주로 발액부(100a)에 멈추면서 이들 발액부(100a) 사이의 친액부(100b) 위를 순간적으로 이동하기 때문에, 전진 접촉각이 커지는 경향이 있는 반면, 후퇴 측에서는 친액부(100b)에 끌림으로써 후퇴 접촉각이 작아지는 경향이 있기 때문이다.
따라서, 이렇게 노즐내 발액막(11)이 형성되어 얻어진 잉크젯 헤드는, 이 노즐내 발액막(11)에 의해 양호한 안정 토출성을 발휘하게 된다. 즉, 액상체의 메니스커스 단부가 상기 노즐내 발액막(11) 위를 이동했을 때, 이 노즐내 발액막(11)의 상기 액상체에 대한 후퇴 접촉각과 전진 접촉각의 차가 크기 때문에, 이것이 작은 경우에 비하여 메니스커스 단부가 상기 노즐내 발액막(11) 위의 소정 위치(초기 위치)에 멈추기 쉬워지고, 이것에 의해 메니스커스 단부의 위치가 매회 대략 동일한 위치로 됨으로써, 양호한 안정 토출성을 발휘하여, 토출량이 안정화된 것으로 된다.
또한, 본 발명은 상기 실시예에 한정되지 않아, 본 발명의 요지를 일탈하지 않는 한 다양한 변경이 가능하다. 예를 들면, 상기 실시예에 있어서, 발액막(10a)으로서의 플라즈마 중합막을 형성한 후, 이것의 막 두께의 반분을 노광하여 그 표층부만을 친액막(10b)으로 했지만, 이것 대신에, 발액막(10a)을 형성한 후, 이것 위에 다시 플라즈마 중합막(발액막(10a))을 형성하고, 이어서 나중에 형성한 플라 즈마 중합막만이 노광되도록 조건을 설정하여 노광을 행하여, 발액막(10a) 위에 친액막(10b)을 형성하도록 할 수도 있다.
또한, 노즐(18) 내의 테이퍼부(18a)의 각도, 적층막(11a)에서의 각 막의 적층 수, 각 막의 두께 등에 대해서도, 상기 실시예에 한정되지 않아 임의로 설정할 수 있고, 이것에 의해 발액부(100a)와 친액부(100b)의 피치를 임의로 결정할 수 있다.
또한, 노즐 플레이트(12)의 노즐(18) 내에 레이저광을 조사할 때에, 도 6에 나타낸 바와 같이 레이저 광원(31)과 노즐 플레이트(12) 사이에 렌즈 어레이(집광 렌즈)(32)를 배치하고, 이 렌즈 어레이(32)에 의해 레이저광을 노즐 플레이트(12)의 노즐(18) 내에 집광시키도록 할 수도 있다. 즉, 레이저 광원(31)으로부터 광학 렌즈계(33)를 통하여 렌즈 어레이(32)에 평행광을 입사시키고, 이 렌즈 어레이(32)에 의해 노즐 플레이트(12)의 각 노즐(18)에 각각 집광시키도록 할 수도 있다.
이렇게 하면, 렌즈 어레이(32)에 의해 레이저광을 노즐(18) 내에 집광시킴으로써, 노광 효율을 높여, 예를 들어 노광 시간을 단축하거나, 또는 노광도를 향상시킬 수 있다.
이상 본 발명에 따르면, 양호한 안정 토출성을 갖는 잉크젯 헤드의 제조 방법 및 잉크젯 헤드가 제공된다.

Claims (9)

  1. 액상체(液狀體)를 수용하는 캐비티(cavity)와, 이 캐비티에 연통(連通)하는 노즐을 갖고, 상기 캐비티와 반대 측의 노즐 개구를 토출구로 하여, 상기 캐비티 내에 수용한 액상체를 상기 노즐 토출구로부터 토출하는 잉크젯 헤드의 제조 방법으로서,
    상기 노즐 토출구 측을, 토출구 측으로 감에 따라 점차 직경이 확대되는 테이퍼부로 하는 테이퍼부 형성 공정과,
    상기 노즐 내의 테이퍼부 위에 발액막(撥液膜)과 친액막(親液膜)을 번갈아 형성하여 적층막을 형성하는 공정과,
    상기 테이퍼부 위의 적층막을 연삭(硏削)하여, 그 측단면을 노출시킴으로써, 발액막의 고리 형상 단면(端面)과 친액막의 고리 형상 단면이 번갈아 노출되어 이루어지는 노즐내 발액막을 형성하는 공정을 구비한 것을 특징으로 하는 잉크젯 헤드의 제조 방법.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 테이퍼부 위의 적층막의 연삭을, 원하는 노즐 직경보다 약간 작은 외경(外徑)의 원기둥 형상의 막대체를 상기 노즐 내에 삽통(揷通)하여, 상기 적층막을 연삭 · 연마함으로써 행하는 것을 특징으로 하는 잉크젯 헤드의 제조 방법.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 노즐이 노즐 플레이트에 형성되어 이루어지며,
    상기 발액막과 친액막을 번갈아 형성하여 적층막을 형성하는 공정에서는, 상기 노즐 플레이트의 외면(外面) 측에도 동일한 적층막을 형성하도록 하고, 또한 상기 적층막의 최외층(最外層)을 발액막으로 하는 것을 특징으로 하는 잉크젯 헤드의 제조 방법.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 발액막이 실리콘 수지로 이루어지는 것을 특징으로 하는 잉크젯 헤드의 제조 방법.
  5. 제 4 항에 있어서,
    상기 발액막이 실리콘 수지를 플라즈마 중합시켜 형성한 플라즈마 중합막인 것을 특징으로 하는 잉크젯 헤드의 제조 방법.
  6. 제 1 항에 있어서,
    상기 친액막의 형성을, 발액막에 에너지를 공급하여 발액성을 친액성으로 변화시킴으로써 행하는 것을 특징으로 하는 잉크젯 헤드의 제조 방법.
  7. 제 4 항 또는 제 5 항 에 있어서,
    상기 친액막의 형성을, 발액막에 광을 조사하여 발액성을 친액성으로 변화시킴으로써 행하는 것을 특징으로 하는 잉크젯 헤드의 제조 방법.
  8. 액상체를 수용하는 캐비티와, 이 캐비티에 연통하는 노즐을 갖고, 상기 캐비티와 반대 측의 노즐 개구를 토출구로 하여, 상기 캐비티 내에 수용한 액상체를 상기 노즐 토출구로부터 토출하는 잉크젯 헤드로서,
    상기 노즐 토출구 측을, 토출구 측으로 감에 따라 점차 직경이 확대되어 형성되는 테이퍼부와,
    상기 노즐 내의 테이퍼부 위에 발액막(撥液膜)과 친액막(親液膜)이 번갈아 형성되는 적층막과,
    상기 테이퍼부 위의 적층막을 연삭(硏削)하여, 그 측단면을 노출시킴으로써, 노즐 내벽면의 토출구 근방부에, 고리 형상의 친액부와 고리 형상의 발액부가 번갈아 분포되어 이루어지는 노즐내 발액막이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 잉크젯 헤드.
  9. 제 8 항에 있어서,
    상기 노즐이 노즐 플레이트에 형성되어 이루어지고,
    상기 노즐 플레이트의 외면측 최표면(最表面)에 발액막이 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 잉크젯 헤드.
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Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005007654A (ja) * 2003-06-17 2005-01-13 Seiko Epson Corp インクジェットヘッドの製造方法及びインクジェットヘッド
JP4972949B2 (ja) * 2005-02-16 2012-07-11 ブラザー工業株式会社 液滴噴射装置
JP4548169B2 (ja) * 2005-03-23 2010-09-22 ブラザー工業株式会社 インクジェットヘッドの製造方法
JP2006271651A (ja) * 2005-03-29 2006-10-12 Matsumoto Shika Univ 液体注入用針部品、及びその製造方法
JP2006272714A (ja) * 2005-03-29 2006-10-12 Fuji Photo Film Co Ltd ノズルプレートの製造方法及びノズルプレート
JP4918858B2 (ja) * 2005-04-27 2012-04-18 株式会社ニコン 露光方法、露光装置、デバイス製造方法、及び膜の評価方法
JP4239999B2 (ja) * 2005-05-11 2009-03-18 セイコーエプソン株式会社 膜パターンの形成方法、膜パターン、デバイス、電気光学装置、及び電子機器
JP5137454B2 (ja) * 2006-04-24 2013-02-06 キヤノン株式会社 インクジェット記録ヘッド、インクジェット記録カートリッジ、およびインクジェット記録ヘッドの製造方法
WO2008117716A1 (ja) * 2007-03-28 2008-10-02 Konica Minolta Holdings, Inc. 液体吐出ヘッド及び液体吐出装置
JP2010069635A (ja) * 2008-09-16 2010-04-02 Fujifilm Corp 液体吐出ヘッド及び画像形成装置
JP5550143B2 (ja) * 2010-10-25 2014-07-16 富士フイルム株式会社 親水性薄膜の製造方法
US9220852B2 (en) * 2012-04-10 2015-12-29 Boehringer Ingelheim Microparts Gmbh Method for producing trench-like depressions in the surface of a wafer
CN107877107B (zh) * 2017-12-01 2019-04-16 浙江晋巨化工有限公司 一种高耐磨料浆喷嘴的制造方法

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5816856A (ja) 1981-07-24 1983-01-31 Fuji Photo Film Co Ltd インクジエツト用ノズルヘツド
JPH05124200A (ja) * 1991-11-06 1993-05-21 Fuji Xerox Co Ltd インクジエツトヘツドおよびその製造方法
JPH0939255A (ja) * 1995-08-03 1997-02-10 Matsushita Electric Ind Co Ltd インクジェットヘッド
JPH10217483A (ja) 1997-02-07 1998-08-18 Citizen Watch Co Ltd インクジェットプリンターヘッド用ノズル板の製造方法
WO1999038694A1 (fr) * 1998-01-28 1999-08-05 Seiko Epson Corporation Structure de jet de liquide, tete d'ecriture et imprimante a jet d'encre

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04294145A (ja) 1991-03-25 1992-10-19 Seiko Epson Corp インクジェット記録ヘッド及びインクジェット記録装置
JP3169037B2 (ja) * 1993-10-29 2001-05-21 セイコーエプソン株式会社 インクジェット記録ヘッドのノズルプレートの製造方法
JPH11268284A (ja) * 1998-03-25 1999-10-05 Konica Corp インクジェット方式の画像形成方法
JPH11334069A (ja) * 1998-05-27 1999-12-07 Oki Data Corp インクジェットヘッド
JP2000290556A (ja) 1999-04-08 2000-10-17 Seiko Epson Corp 撥インク処理ノズルプレート使用ヘッド用インク
JP2002355977A (ja) * 2001-02-08 2002-12-10 Canon Inc 撥液部材、該撥液部材を用いたインクジェットヘッド、それらの製造方法及びインクの供給方法
JP2003072085A (ja) * 2001-09-05 2003-03-12 Seiko Epson Corp 撥インク処理方法、インクジェットヘッドのノズルプレート、インクジェットヘッドおよびインクジェットプリンタ
JP2005007654A (ja) * 2003-06-17 2005-01-13 Seiko Epson Corp インクジェットヘッドの製造方法及びインクジェットヘッド

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5816856A (ja) 1981-07-24 1983-01-31 Fuji Photo Film Co Ltd インクジエツト用ノズルヘツド
JPH05124200A (ja) * 1991-11-06 1993-05-21 Fuji Xerox Co Ltd インクジエツトヘツドおよびその製造方法
JPH0939255A (ja) * 1995-08-03 1997-02-10 Matsushita Electric Ind Co Ltd インクジェットヘッド
JPH10217483A (ja) 1997-02-07 1998-08-18 Citizen Watch Co Ltd インクジェットプリンターヘッド用ノズル板の製造方法
WO1999038694A1 (fr) * 1998-01-28 1999-08-05 Seiko Epson Corporation Structure de jet de liquide, tete d'ecriture et imprimante a jet d'encre

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