KR100687428B1 - Baffle for wet cleaning apparatus and the manufacturing method thereof - Google Patents
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Abstract
Description
도 1은 종래 기술에 의한 습식세정장치의 단면도이다.1 is a cross-sectional view of a wet cleaning apparatus according to the prior art.
도 2는 종래 기술에 의한 습식세정장치의 정류판에 대한 사시도이다.Figure 2 is a perspective view of the rectifying plate of the wet cleaning device according to the prior art.
도 3은 본 발명의 제1 실시예에 따른 습식세정장치용 정류판의 사시도이다.3 is a perspective view of a rectifying plate for a wet cleaning device according to a first embodiment of the present invention.
도 4는 본 발명의 제1 실시예의 A-A'선에 따른 단면도이다.4 is a cross-sectional view taken along line AA ′ of the first embodiment of the present invention.
도 5는 본 발명의 제2 실시예에 따른 습식세정장치용 정류판의 사시도이다.5 is a perspective view of a rectifying plate for a wet cleaning device according to a second embodiment of the present invention.
<도면의 주요 부호에 대한 설명><Description of Major Symbols in Drawing>
130: 제1 실시예의 정류판130: rectifying plate of the first embodiment
132: 본체부 134: 홈132: main body 134: groove
136: 조립부 138: 가열수단136: assembly unit 138: heating means
140: 지지부 230: 제2 실시예의 정류판 140: support 230: rectifying plate of the second embodiment
본 발명은 습식세정장치에 관한 것으로서, 특히 습식세정장치용 정류판(baffle)과 그 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a wet cleaning device, and more particularly, to a baffle for a wet cleaning device and a method of manufacturing the same.
도 1을 참조하여 종래 기술에 의한 습식세정장치에 관하여 설명한다.A wet cleaning apparatus according to the related art will be described with reference to FIG. 1.
도 1에 도시된 바와 같이, 일반적인 습식세정장치는 세정목적에 따른 다수의 세정조(20)와, 웨이퍼(W)를 세정조(20)로 이송하는 슬롯(6)을 구비하는 반송로봇(10)으로 구성된다. 이동된 웨이퍼는 반송로봇(10)의 암(arm)(4)의 업 또는 다운 동작에 의해 소정 목적의 세정액이 담긴 세정조(20)에 담금질 되어 화학작용에 의해 실질적인 웨이퍼의 세정이 수행된다.As shown in FIG. 1, a general wet cleaning apparatus includes a
한편, 세정조(20)와 반송로봇(10)이 이동하는 트랙부 사이에는 정류판(30)이 설치되어 세정조(20)와 반송로봇(10) 사이의 두 공간을 수직으로 나눈다. 정류판(30)은 세정조(20)의 세정액에 의해 발생하는 화학가스(chemical fume)가 반송로봇(10) 및 반송로봇 트랙을 오염시키고 부식시키는 것을 막는 역할을 한다.Meanwhile, a rectifying
도 2를 참조하여 종래 기술에 의한 습식세정장치용 정류판(30)에 대해 설명한다.Referring to Figure 2 will be described with respect to the rectifying
도 2에 도시된 바와 같이, 습식세정장치용 정류판(30)은 본체부(32)와 조립부(36)로 이루어진다.As shown in FIG. 2, the rectifying
상기 본체부(32)는 판형으로서 반송로봇(10)의 암(arm)(4)이 이동할 수 있는 하나 이상의 홈(34)이 형성되어 있다.The
상기 조립부(36)는 판형으로서 본체부(32)와 동일한 가로 폭을 가지고 본체부(32)와 수직으로 형성된다.The
그런데, 습식세정과정에서 세정액인 화학약품(chemical)이나 물(water)에 의해 정류판(30)에 화학가스(chemical fume)나 물반점(Water mark)가 발생하면 이송 중인 웨이퍼 표면에 화학가스나 물반점이 옮겨 묻게 되어 웨이퍼를 오염시키는 문제가 있다.However, when a chemical fume or water mark is generated on the rectifying
또한, 정류판(30) 상에 잔존하는 화학약품 또는 순수를 포함한 세정액은 자연적으로 건조되기까지 많은 시간이 소요되어 건조 전의 세정액에 의해 웨이퍼가 오염될 가능성이 큰 문제가 있다.In addition, the cleaning liquid containing chemicals or pure water remaining on the rectifying
그리고, 종래의 기술에 의한 정류판(30)은 장시간 사용 시 세정액에 의해 발생하는 가스로 인한 압력 때문에 변형되는 문제가 있어 세정장치의 동작이 중단되고 이에 따라 세정 중인 웨이퍼가 손상되는 경우에는 폐기해야 하는 문제가 있었다.In addition, the rectifying
본 발명은 정류판에 묻은 물반점이나 화학가스를 조기에 제거하여 기판의 오염을 막고, 세정조에서 발생하는 화학가스에 의한 정류판의 변형을 방지하는 습식세정장치용 정류판과 그 제조방법을 제공함에 그 목적이 있다. The present invention provides a rectifying plate for a wet cleaning device and a method of manufacturing the same, which removes water spots and chemical gases from the rectifying plate at an early stage to prevent contamination of the substrate, and prevents deformation of the rectifying plate due to chemical gases generated in the cleaning tank. The purpose is to provide.
상기의 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 습식세정장치용 정류판은 본체부와, 상기 본체부에 수직으로 형성되는 조립부 및 상기 본체부 내부에 형성되며 상기 본체부에 열을 가하는 건조수단을 포함하는 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above object, the rectifying plate for a wet cleaning device according to the present invention includes a main body portion, an assembly portion formed perpendicularly to the main body portion, and drying means formed inside the main body portion and applying heat to the main body portion. It is characterized by including.
또한, 본 발명에 따른 습식세정장치용 정류판은 상기 본체부 상에 형성되며 상기 본체부에 발생하는 오염물을 감지하는 감지기를 더 포함할 수 있다.In addition, the rectifying plate for the wet cleaning device according to the present invention may further include a sensor formed on the main body portion for detecting the contamination occurring in the main body portion.
또한, 본 발명에 따른 습식세정장치용 정류판은 일면이 상기 본체부와 접하 고 타면이 상기 조립부와 접하여 상기 본체부를 지지하면서 본체부의 적어도 일측에 형성되는 지지부를 더 포함할 수 있다.In addition, the rectifying plate for a wet cleaning apparatus according to the present invention may further include a support part formed on at least one side of the main body part while one surface is in contact with the main body part and the other surface is in contact with the assembly part.
또한, 상기 본체부, 조립부 및 지지부는 일체형일 수 있다.In addition, the body portion, the assembly portion and the support portion may be integral.
또한, 상기 본체부는 상측에 적어도 하나 이상의 홈을 포함할 수 있다.In addition, the body portion may include at least one groove on the upper side.
또한, 상기 건조수단은 인가되는 전압에 의해 발열하는 열선일 수 있다.In addition, the drying means may be a heating wire that generates heat by the applied voltage.
상기의 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 습식세정장치용 정류판의 제조방법은 본체부를 준비하는 단계와, 상기 본체부에 수직으로 조립부를 형성하는 단계 및 상기 본체부 내부에 상기 본체부에 열을 가하는 건조수단을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a rectifying plate for a wet cleaning device according to the present invention, the method comprising: preparing a main body portion, forming an assembly part perpendicular to the main body portion, and opening the main body portion inside the main body portion. Characterized in that it comprises the step of forming a drying means for applying.
또한, 본 발명에 따른 습식세정장치용 정류판의 제조방법은 본체부 상에 상기 본체부에 발생하는 오염물을 감지하는 감지기를 형성하는 단계를 더 포함할 수 있다.In addition, the method of manufacturing a rectifying plate for a wet cleaning device according to the present invention may further include forming a detector for detecting a contaminant occurring on the main body on the main body.
또한, 본 발명에 따른 습식세정장치용 정류판의 제조방법은 일면이 상기 본체부와 접하고 타면이 상기 조립부와 접하여 상기 본체부를 지지하는 지지부를 형성하는 단계를 더 포함할 수 있다.In addition, the method of manufacturing a rectifying plate for a wet cleaning device according to the present invention may further include forming a support part on which one surface is in contact with the body portion and the other surface is in contact with the assembly portion to support the body portion.
또한, 상기 본체부, 조립부 및 건조수단은 일체형으로 제조될 수 있다.In addition, the body portion, the assembly portion and the drying means may be manufactured in one piece.
또한, 상기 본체부, 조립부, 건조수단 및 지지부는 일체형으로 제조될 수 있다.In addition, the body portion, the assembly portion, the drying means and the support portion may be manufactured integrally.
또한, 상기 건조수단의 형성단계는 상기 본체부의 수직 위 방향으로 상기 건조수단을 배치하여 형성될 수 있다.In addition, the forming step of the drying means may be formed by placing the drying means in the vertical upward direction of the main body portion.
이와 같은 본 발명에 의하면 세정공정의 진행 중 정류판의 본체부 표면에 물반점이나 화학가스가 발생하는 경우 본체부에 가열수단으로 열을 가하여 물반점이나 화학가스를 제거함으로써 물반점이나 화학가스에 의한 기판의 오염을 미리 방지하고, 정류판을 지지하는 지지부를 부설하여 세정조에서 발생하는 화학가스 등에 의한 정류판의 변형을 방지함으로써 세정장치의 안정성을 확보할 수 있는 장점이 있다.According to the present invention, when water spots or chemical gases are generated on the surface of the main body of the rectifying plate during the cleaning process, the body parts are heated with heating means to remove the water spots or chemical gases to the water spots or chemical gases. The contamination of the substrate is prevented in advance, and a support portion for supporting the rectifying plate is provided to prevent deformation of the rectifying plate due to chemical gases generated in the cleaning tank, thereby securing stability of the cleaning device.
이하, 본 발명에 따른 습식세정장치용 정류판과 그 제조방법의 실시예들을 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명한다.Hereinafter, embodiments of a rectifying plate for a wet cleaning device and a method for manufacturing the same according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
(제1 실시예)(First embodiment)
도 3은 본 발명의 제1 실시예에 따른 습식세정장치용 정류판(130)의 사시도이다.3 is a perspective view of a rectifying
본 발명의 제1 실시예는 본체부(132)와, 조립부(136) 및 건조수단(138)을 포함할 수 있다.The first embodiment of the present invention may include a
우선, 상기 본체부(132)는 정류판(130)의 세정액이 담겨있는 세정조(미도시)에서 세정액이 기판(미도시)을 이동하는 반송로봇(미도시)에 튀는 것을 방지하는 역할을 한다. 이때, 상기 본체부(132)는 플라스틱, 파이버, 금속 등 다양한 재질로 만들어질 수 있다.First, the
또한, 상기 본체부(132)는 기판을 이동하는 반송로봇의 암이 이동 가능한 적어도 하나 이상의 통로인 홈(134)을 포함할 수 있다. 상기 홈(134)은 반송로봇의 구조에 따라 그 홈의 개수와 모양은 다양하게 형성될 수 있다. 그리고, 홈(134)의 깊이도 반송로봇의 업 또는 다운 동작의 폭에 따라 다양한 깊이로 홈이 형성될 수 있다. In addition, the
예를 들어, 본 발명의 제1 실시예는 본체부(132)는 플라스틱을 이용하고, 상기 본체부(132) 상부에 2개의 홈이 형성하였다.For example, in the first embodiment of the present invention, the
다음으로, 상기 조립부(136)는 상기 본체부(132)와 동일한 가로 폭을 가지고 상호 수직하게 형성될 수 있다. 조립부(136)는 정류판(130)을 습식세정장치(미도시) 내에 결착시키는 역할을 한다. 그러므로, 상기 조립부(130)는 하나 이상의 개구(미도시)가 형성될 수 있으며, 이 개구를 통해 결합수단(미도시)을 이용해 정류판이 습식세정장치에 결착될 수 있다.Next, the
또한, 상기 조립부(136)는 도시된 형태 외에 본체부(132)에 수직하면서 본체부(132)의 양측으로 형성될 수도 있다.In addition, the
다음으로, 상기 건조수단(138)는 상기 본체부(132) 내부에 형성되며 상기 본체부(132)에 열을 가하는 역할을 한다. 상기 건조수단(138)은 인가되는 전압에 의해 발열하는 열선일 수 있으며, 상기 본체부의 수직 위 방향으로 배치될 수 있다.Next, the drying means 138 is formed inside the
또한, 상기 건조수단(138)은 소정의 메인 전압에 의해 20V~30V의 전압을 공급받아서 정류판 내에 내장된 후 열을 발생시킬 수 있다. In addition, the drying means 138 is supplied with a voltage of 20V ~ 30V by a predetermined main voltage may be built in the rectifying plate and generate heat.
예를 들어, 본 발명의 제1 실시예는 208V의 메인 전압에 의해 22.0V~25.5V의 전압을 인가받아 건조수단(138)에서 열을 발생시켰다.For example, in the first embodiment of the present invention, a voltage of 22.0 V to 25.5 V is applied by the main voltage of 208 V to generate heat in the drying means 138.
이때, 상기 건조수단(138)은 칸탈(Kanthal), 카본열선, 동-니켈합금선, 니크롬선, 니켈크롬선, 철크롬선, 실리콘선 등 소정의 전압을 인가받으면 열을 발생하 는 재료 중에서 선택될 수 있다.At this time, the drying means 138 is selected from a material that generates heat when a predetermined voltage is applied, such as Kanthal, carbon heating wire, copper-nickel alloy wire, nichrome wire, nickel chrome wire, iron chromium wire, and silicon wire. Can be.
예를 들어, 본 발명의 제1 실시예는 칸탈(Kanthal)을 사용하여 건조수단(138)으로 만들었다. 칸탈은 철을 주체로 하고 전기저항이 큰 합금으로서 선재(線材)로 가공되어 전열선 등으로 사용된다. 칸탈의 합금계(合金系)로서는 철-크롬-알루미늄계에 속하며, 표준성분은 크롬 23%, 알루미늄 6%로 그 외에 코발트 2%를 함유할 수 있다. 칸탈은 온도 조절을 안정적으로 할 수 있으며, 수명이 긴 장점이 있다.For example, the first embodiment of the present invention is made of drying means 138 using Kanthal. Kanthal is an alloy mainly made of iron, and has high electrical resistance. It is processed into wire rods and used as heating wires. The alloy system of Kanthal belongs to the iron-chromium-aluminum system, and the standard component is 23% chromium and 6% aluminum, and may contain 2% cobalt. Kanthal has the advantage of stable temperature control and long life.
또한, 상기 건조수단(138)은 인가되는 전압에 의해 35~50℃의 열을 발생하여 정류판에 발생한 물반점이나 화학가스를 증발시킬 수 있다.In addition, the drying means 138 may generate heat of 35 ~ 50 ℃ by the voltage applied to evaporate water spots or chemical gas generated in the rectifying plate.
다음으로, 본 발명의 제1 실시예는 본체부(132) 상에 형성되며 상기 본체부(132)에 발생하는 오염물을 감지하는 감지기(미도시)를 더 포함할 수 있다.Next, the first embodiment of the present invention may further include a detector (not shown) formed on the
상기 감지기는 본체부(132)에 물반점이나 화학가스 등 오염물이 발생하면 메인 컨트롤러의 화면에 알람을 보낸 후 메인 전압에 의해 전압을 가하여 일정한 시간동안 건조수단(138)에서 열을 발생시킨 후 메인 전압의 전압을 차단하도록 할 수 있다.The detector sends an alarm to the screen of the main controller when contaminants such as water spots or chemical gases are generated in the
도 4는 본 발명의 제1 실시예의 A-A'선을 따른 단면도이다.4 is a cross-sectional view along the line AA ′ of the first embodiment of the present invention.
상기 건조수단(138)은 도 4에 도시된 바와 같이 상기 본체부(132)에 내재하며 본체부(132)의 외측에 근접하여 형성될 수 있으며, 본체부(132)에 열을 가하기 위한 다양한 배치가 가능할 수 있다. As shown in FIG. 4, the drying means 138 may be formed in the
또한, 상기 건조수단(138)은 건조수단 그 자체가 열선만으로 구성되거나 열 선을 감싸는 외피를 포함하여 구성될 수도 있다.In addition, the drying means 138 may be configured by the drying means itself consists of only the heating wire or the outer shell surrounding the heating wire.
이하, 도 3을 참조하여 본 발명의 제1 실시예에 따른 습식세정장치용 정류판의 제조방법을 설명한다.Hereinafter, a method of manufacturing a rectifying plate for a wet cleaning device according to a first embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. 3.
본 발명의 제1 실시예의 제조방법은 본체부(132)를 준비하는 단계와, 조립부(136)를 형성하는 단계 및 건조수단(138)을 형성하는 단계를 포함할 수 있다.The manufacturing method of the first embodiment of the present invention may include preparing a
본 발명의 제1 실시예의 제조방법은 본체부(132)를 준비하고, 상기 본체부(132)에 수직으로 조립부(136)를 형성하고, 상기 본체부(132) 내부에 상기 본체부(132)에 열을 가하는 건조수단(138)을 형성할 수 있다. In the manufacturing method of the first embodiment of the present invention, the
또한, 본 발명의 제1 실시예의 제조방법은 본체부(132) 상에 상기 본체부(132)에 발생하는 오염물을 감지하는 감지기(미도시)를 더 형성할 수 있다.In addition, the manufacturing method of the first embodiment of the present invention may further form a detector (not shown) for detecting the contaminants generated in the
이때, 상기 본체부(132), 조립부(136) 및 건조수단(138)은 일체형으로 제조될 수 있다.At this time, the
그리고, 상기 건조수단(138)의 형성단계는 상기 본체부(132)의 수직 위 방향으로 상기 건조수단(138)을 배치하여 형성될 수 있다.In addition, the forming step of the drying means 138 may be formed by placing the drying means 138 in the vertically upward direction of the
이상에서 설명한 본 발명의 제1 실시예에 따른 습식세정장치용 정류판과 그 제조방법에 의하면, 세정공정의 진행 중 정류판의 본체부 표면에 물반점이나 화학가스가 발생하는 경우 가열수단으로써 본체부에 열을 가하여 물반점이나 화학가스를 제거함으로써 물반점이나 화학가스에 의한 기판의 오염을 미리 방지하는 효과가 있다.According to the rectifying plate for the wet cleaning device and the manufacturing method thereof according to the first embodiment of the present invention described above, when water spots or chemical gas are generated on the surface of the main body portion of the rectifying plate during the cleaning process, By applying heat to the part to remove water spots and chemical gases, there is an effect of preventing contamination of the substrate by water spots or chemical gases in advance.
(제2 실시예)(2nd Example)
도 5는 본 발명의 제2 실시예에 따른 습식세정장치용 정류판(230)의 사시도이다.5 is a perspective view of a rectifying
본 발명의 제2 실시예는 본체부(132)와, 조립부(136), 건조수단(138) 및 지지부(140)를 포함할 수 있다.The second embodiment of the present invention may include a
본 발명의 제2 실시예는 상기 제1 실시예와 달리 일면이 상기 본체부(132)와 접하고 타면이 상기 조립부(136)와 접하여 상기 본체부(132)를 지지하면서 본체부(132)의 적어도 일측에 형성되는 지지부(140)를 더 포함할 수 있다.Unlike the first embodiment, the second embodiment of the present invention contacts the
예를 들어, 본 발명의 제2 실시예는 본체부(132) 일측에 형성되는 지지부(140)를 포함하는 정류판(230)을 제조하였다.For example, in the second embodiment of the present invention, the rectifying
본 발명의 제2 실시예는 상기 제1 실시예의 구조와 제조방법을 채용할 수 있다.The second embodiment of the present invention can adopt the structure and manufacturing method of the first embodiment.
예를 들어, 본 발명의 제2 실시예는 상기 본체부(132), 상기 조립부(136) 및 상기 지지부(140)가 일체형일 수 있다.For example, in the second embodiment of the present invention, the
또한, 상기 본체부(132)는 상부에 홈(134)이 형성될 수 있으며, 상기 건조수단(138)은 다양한 형태와 재료의 열선으로 만들어질 수 있다.In addition, the
또한, 본 발명의 제2 실시예는 상기 본체부(132) 상에 감지수단(미도시)을 더 포함할 수 있다.In addition, the second embodiment of the present invention may further include a sensing means (not shown) on the
이상에서 설명한 본 발명의 제2 실시예에 따른 습식세정장치용 정류판과 그 제조방법에 의하면, 세정공정의 진행 중 정류판의 본체부 표면에 물반점이나 화학 가스가 발생하는 경우 본체부에 가열수단으로 열을 가하여 물반점이나 화학가스를 제거함으로써 물반점이나 화학가스에 의한 기판의 오염을 미리 방지하는 효과와, 정류판을 지지하는 지지부를 부설하여 세정조에서 발생하는 화학가스 등에 의한 정류판의 변형을 방지함으로써 세정장치의 안정성을 확보할 수 있는 효과가 있다.According to the rectifying plate for the wet cleaning device and the manufacturing method thereof according to the second embodiment of the present invention described above, when water spots or chemical gas are generated on the surface of the main body of the rectifying plate during the cleaning process, the main body is heated. The effect of preventing contamination of the substrate by water spots or chemical gases by applying heat to remove water spots or chemical gas, and the rectifying plate by chemical gas generated in the cleaning tank by installing a support part for supporting the rectifying plate in advance. By preventing the deformation of the cleaning device has an effect that can ensure the stability.
이상에서 설명한 본 발명은 전술한 실시예 및 도면에 의해 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 여러 가지 치환, 변형 및 변경할 수 있다는 것은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 있어 명백할 것이다.The present invention described above is not limited to the above-described embodiments and drawings, and it is common knowledge in the art that various substitutions, modifications, and changes can be made without departing from the technical spirit of the present invention. It will be apparent to those who have
이상에서 설명한 바와 같이 본 발명에 따른 습식세정장치의 정류판과 그 제조방법에 의하면, 세정공정의 진행 중 정류판의 본체부의 표면에 물반점이나 화학가스가 발생하는 경우 본체부 내에 구비된 가열수단으로써 본체부에 열을 가하여 물반점이나 화학가스를 조기에 제거함으로써 물반점이나 화학가스에 의한 기판의 오염을 미리 방지하는 효과가 있다.As described above, according to the rectifying plate of the wet cleaning apparatus and the manufacturing method thereof according to the present invention, when water spots or chemical gas are generated on the surface of the main body of the rectifying plate during the cleaning process, heating means is provided in the main body. By applying heat to the main body to remove water spots and chemical gas at an early stage, there is an effect of preventing contamination of the substrate by water spots or chemical gases in advance.
또한, 본 발명에 따르면 정류판을 지지하는 지지부를 부설하여 세정조에 서 발생하는 화학가스 등에 의한 정류판의 변형을 방지함으로써 세정장치의 안정성을 확보할 수 있는 효과가 있다.In addition, according to the present invention by providing a support for supporting the rectifying plate to prevent the deformation of the rectifying plate by the chemical gas generated in the cleaning tank, there is an effect that can ensure the stability of the cleaning device.
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ID=38104736
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KR1020050131540A KR100687428B1 (en) | 2005-12-28 | 2005-12-28 | Baffle for wet cleaning apparatus and the manufacturing method thereof |
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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---|---|---|---|---|
KR20050100188A (en) * | 2004-04-13 | 2005-10-18 | 삼성전자주식회사 | Baffle plate for wet cleaner |
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Patent Citations (1)
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KR20050100188A (en) * | 2004-04-13 | 2005-10-18 | 삼성전자주식회사 | Baffle plate for wet cleaner |
Non-Patent Citations (1)
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Cited By (1)
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CN111250455A (en) * | 2018-11-30 | 2020-06-09 | 夏泰鑫半导体(青岛)有限公司 | Wafer cleaning device |
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