KR100671858B1 - 고순도 및 초고순도 이산화탄소의 공급 및 수송을 위한시스템 - Google Patents

고순도 및 초고순도 이산화탄소의 공급 및 수송을 위한시스템 Download PDF

Info

Publication number
KR100671858B1
KR100671858B1 KR1020050004567A KR20050004567A KR100671858B1 KR 100671858 B1 KR100671858 B1 KR 100671858B1 KR 1020050004567 A KR1020050004567 A KR 1020050004567A KR 20050004567 A KR20050004567 A KR 20050004567A KR 100671858 B1 KR100671858 B1 KR 100671858B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
carbon dioxide
pressure
purified
feed
product stream
Prior art date
Application number
KR1020050004567A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20050076647A (ko
Inventor
게르쉬타인블라디미르일리
마티올라폴안토니
치루치존프레데릭
이반코비츠존크리스토퍼
Original Assignee
에어 프로덕츠 앤드 케미칼스, 인코오포레이티드
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 에어 프로덕츠 앤드 케미칼스, 인코오포레이티드 filed Critical 에어 프로덕츠 앤드 케미칼스, 인코오포레이티드
Publication of KR20050076647A publication Critical patent/KR20050076647A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100671858B1 publication Critical patent/KR100671858B1/ko

Links

Images

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23B—TURNING; BORING
    • B23B49/00—Measuring or gauging equipment on boring machines for positioning or guiding the drill; Devices for indicating failure of drills during boring; Centering devices for holes to be bored
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F25—REFRIGERATION OR COOLING; COMBINED HEATING AND REFRIGERATION SYSTEMS; HEAT PUMP SYSTEMS; MANUFACTURE OR STORAGE OF ICE; LIQUEFACTION SOLIDIFICATION OF GASES
    • F25J—LIQUEFACTION, SOLIDIFICATION OR SEPARATION OF GASES OR GASEOUS OR LIQUEFIED GASEOUS MIXTURES BY PRESSURE AND COLD TREATMENT OR BY BRINGING THEM INTO THE SUPERCRITICAL STATE
    • F25J3/00—Processes or apparatus for separating the constituents of gaseous or liquefied gaseous mixtures involving the use of liquefaction or solidification
    • F25J3/08—Separating gaseous impurities from gases or gaseous mixtures or from liquefied gases or liquefied gaseous mixtures
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D11/00—Solvent extraction
    • B01D11/02—Solvent extraction of solids
    • B01D11/0203—Solvent extraction of solids with a supercritical fluid
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B32/00—Carbon; Compounds thereof
    • C01B32/50—Carbon dioxide
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B25—HAND TOOLS; PORTABLE POWER-DRIVEN TOOLS; MANIPULATORS
    • B25H—WORKSHOP EQUIPMENT, e.g. FOR MARKING-OUT WORK; STORAGE MEANS FOR WORKSHOPS
    • B25H7/00—Marking-out or setting-out work
    • B25H7/04—Devices, e.g. scribers, for marking
    • B25H7/045—Devices, e.g. scribers, for marking characterised by constructional details of the marking elements
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F25—REFRIGERATION OR COOLING; COMBINED HEATING AND REFRIGERATION SYSTEMS; HEAT PUMP SYSTEMS; MANUFACTURE OR STORAGE OF ICE; LIQUEFACTION SOLIDIFICATION OF GASES
    • F25J—LIQUEFACTION, SOLIDIFICATION OR SEPARATION OF GASES OR GASEOUS OR LIQUEFIED GASEOUS MIXTURES BY PRESSURE AND COLD TREATMENT OR BY BRINGING THEM INTO THE SUPERCRITICAL STATE
    • F25J2205/00—Processes or apparatus using other separation and/or other processing means
    • F25J2205/84—Processes or apparatus using other separation and/or other processing means using filter
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F25—REFRIGERATION OR COOLING; COMBINED HEATING AND REFRIGERATION SYSTEMS; HEAT PUMP SYSTEMS; MANUFACTURE OR STORAGE OF ICE; LIQUEFACTION SOLIDIFICATION OF GASES
    • F25J—LIQUEFACTION, SOLIDIFICATION OR SEPARATION OF GASES OR GASEOUS OR LIQUEFIED GASEOUS MIXTURES BY PRESSURE AND COLD TREATMENT OR BY BRINGING THEM INTO THE SUPERCRITICAL STATE
    • F25J2215/00—Processes characterised by the type or other details of the product stream
    • F25J2215/80—Carbon dioxide
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F25—REFRIGERATION OR COOLING; COMBINED HEATING AND REFRIGERATION SYSTEMS; HEAT PUMP SYSTEMS; MANUFACTURE OR STORAGE OF ICE; LIQUEFACTION SOLIDIFICATION OF GASES
    • F25J—LIQUEFACTION, SOLIDIFICATION OR SEPARATION OF GASES OR GASEOUS OR LIQUEFIED GASEOUS MIXTURES BY PRESSURE AND COLD TREATMENT OR BY BRINGING THEM INTO THE SUPERCRITICAL STATE
    • F25J2235/00—Processes or apparatus involving steps for increasing the pressure or for conveying of liquid process streams
    • F25J2235/80—Processes or apparatus involving steps for increasing the pressure or for conveying of liquid process streams the fluid being carbon dioxide
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F25—REFRIGERATION OR COOLING; COMBINED HEATING AND REFRIGERATION SYSTEMS; HEAT PUMP SYSTEMS; MANUFACTURE OR STORAGE OF ICE; LIQUEFACTION SOLIDIFICATION OF GASES
    • F25J—LIQUEFACTION, SOLIDIFICATION OR SEPARATION OF GASES OR GASEOUS OR LIQUEFIED GASEOUS MIXTURES BY PRESSURE AND COLD TREATMENT OR BY BRINGING THEM INTO THE SUPERCRITICAL STATE
    • F25J2245/00—Processes or apparatus involving steps for recycling of process streams
    • F25J2245/02—Recycle of a stream in general, e.g. a by-pass stream
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F25—REFRIGERATION OR COOLING; COMBINED HEATING AND REFRIGERATION SYSTEMS; HEAT PUMP SYSTEMS; MANUFACTURE OR STORAGE OF ICE; LIQUEFACTION SOLIDIFICATION OF GASES
    • F25J—LIQUEFACTION, SOLIDIFICATION OR SEPARATION OF GASES OR GASEOUS OR LIQUEFIED GASEOUS MIXTURES BY PRESSURE AND COLD TREATMENT OR BY BRINGING THEM INTO THE SUPERCRITICAL STATE
    • F25J2260/00—Coupling of processes or apparatus to other units; Integrated schemes
    • F25J2260/80—Integration in an installation using carbon dioxide, e.g. for EOR, sequestration, refrigeration etc.
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F25—REFRIGERATION OR COOLING; COMBINED HEATING AND REFRIGERATION SYSTEMS; HEAT PUMP SYSTEMS; MANUFACTURE OR STORAGE OF ICE; LIQUEFACTION SOLIDIFICATION OF GASES
    • F25J—LIQUEFACTION, SOLIDIFICATION OR SEPARATION OF GASES OR GASEOUS OR LIQUEFIED GASEOUS MIXTURES BY PRESSURE AND COLD TREATMENT OR BY BRINGING THEM INTO THE SUPERCRITICAL STATE
    • F25J2290/00—Other details not covered by groups F25J2200/00 - F25J2280/00
    • F25J2290/42—Modularity, pre-fabrication of modules, assembling and erection, horizontal layout, i.e. plot plan, and vertical arrangement of parts of the cryogenic unit, e.g. of the cold box
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F25—REFRIGERATION OR COOLING; COMBINED HEATING AND REFRIGERATION SYSTEMS; HEAT PUMP SYSTEMS; MANUFACTURE OR STORAGE OF ICE; LIQUEFACTION SOLIDIFICATION OF GASES
    • F25J—LIQUEFACTION, SOLIDIFICATION OR SEPARATION OF GASES OR GASEOUS OR LIQUEFIED GASEOUS MIXTURES BY PRESSURE AND COLD TREATMENT OR BY BRINGING THEM INTO THE SUPERCRITICAL STATE
    • F25J2290/00—Other details not covered by groups F25J2200/00 - F25J2280/00
    • F25J2290/50—Arrangement of multiple equipments fulfilling the same process step in parallel
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S62/00—Refrigeration
    • Y10S62/928—Recovery of carbon dioxide

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Carbon And Carbon Compounds (AREA)

Abstract

제조 설비 내부에서 고순도 또는 초고순도(UHP) 이산화탄소 생성물 스트림을 하나 이상의 처리 도구로 공급 및 수송하기 위한 시스템 및 이를 포함하는 방법이 본 명세서에 개시되어 있다. 한 구체예에서, 시스템은 하기의 하부 시스템을 포함한다; 이산화탄소 공급원, 이산화탄소 수송 시스템 및 하나 이상의 처리 도구를 가지는 소요지(POU).
고순도 및 초고순도 이산화탄소 유체

Description

고순도 및 초고순도 이산화탄소의 공급 및 수송을 위한 시스템{SYSTEM FOR SUPPLY AND DELIVERY OF HIGH PURITY AND ULTRAHIGH PURITY CARBON DIOXIDE}
본 발명의 목적 및 구체예의 특징은 첨부한 도면에 예시된 바와 같은, 특정한 구체예에 대한 하기의 보다 구체적인 설명으로부터 분명해질 것이다. 도면에서 유사한 도면 부호는 다른 도면 전부에 대하여 같은 부분을 나타낸다. 도면은 반드시 일정한 비례로 나타낸 것은 아니다.
도 1은 사용된 이산화탄소 스트림을 정제 및 재순환하지 않는 본 발명 시스템의 한 구체예의 예를 보여준다.
도 2는 이산화탄소 공급원, 이산화탄소 수송 시스템, 및 하나 이상의 처리 도구와 유체 연통하는 1차 정제 시스템을 갖는 본 발명 시스템의 대안 구체예의 예를 보여준다.
도 3은 사용된 이산화탄소 스트림이 재순환되는, 본 발명 시스템의 대안 구체예의 예를 보여준다.
도 4는 사용된 이산화탄소 스트림이 재순환되는, 이산화탄소 공급원 및 이산화탄소 수송 시스템과 유체 연통하는 1차 정제 시스템을 가지는 본 발명 시스템의 대안 구체예의 예를 보여준다.
도 5는 사용된 이산화탄소 스트림이 재순환되는, 이산화탄소 공급원 및 이산 화탄소 수송 시스템과 유체 연통하는 1차 정제 시스템 및 이산화탄소 수송 시스템 및 하나 이상의 처리 도구와 유체 연통하는 2차 정제 시스템을 가지는 본 발명 시스템의 대안 구체예의 예를 보여준다.
도 6은 본 발명 시스템의 특정 구체예의 예를 보여준다.
액체 CO2, 기체 CO2 또는 초임계 CO2(예, 31℃ 이상 및 평방 인치 게이지 당(psig) 1,071 파운드 이상)와 같이 고도로 가압된 이산화탄소 유체는 다양한 산업 처리을 위해 필요하다. 특정한 예로, 기체, 액화 또는 초임계 이산화탄소는 현재 세정 용액 또는 처리 용액으로 사용하는 유기 용제 또는 수계 처리 용액의 대체제로 볼 수 있다.
전자 산업에서 많은 세정 또는 처리 응용은 고유속 및 고압에서 이산화탄소 유체의 사용을 요구할 수 있다. 고압 이산화탄소를 얻기 위한 방법 중 하나는 액체 이산화탄소를 요구압으로 펌핑하는 것이었다. 그러나, 고압으로의 액체 이산화탄소의 펌핑은 미립자, 탄화수소, 할로겐화탄소 등과 같은 오염물질을 유체 스트림에 도입할 수 있다.
반도체 제조와 같은 특정 산업은 고순도 또는 초고순도(UHP), 즉 각각 낮은 백만분율(ppm) 또는 십억분율(ppb)의 오염물질을 가지는 레벨에서 처리 도구 또는 소요지(POU)로 수송되는 고압 이산화탄소 유체를 필요로 한다. 반도체 전자 부품 제조에서 소량의 오염물질은 마이크로칩 조립 처리에 유해하다. 미립자, 필름, 또는 분자 형태의 오염물질은 단회로, 개회로 및 규소 결정 적층 결함과 같은 다양한 결점을 야기할 수 있다. 이런 결점은 통합 회로와 같은 완성 부품의 고장을 야기할 수 있고, 이러한 고장은 유의적인 양품률 감소를 야기해, 제조비용이 크게 상승할 수 있다. 이 때문에, 세정은 통합 회로 제조에서 가장 빈번하게 반복하는 단계이다. 0.18-마이크로미터 디자인 룰에서, 통합 회로 제조의 약 400 단계의 전체 처리 단계 중 80 단계는 일반적으로 세정 단계이다. 일반적으로 통합 회로의 질을 보장하기 위해 매 오염 처리 단계 후와 각각의 고온 조작 전에 기판을 세정한다.
반도체 적용은 일반적으로 같은 다양한 오염물질을 생성할 수 있다. 오염물질은 석판 인쇄, 식각, 박리 및 화학 기계적 연마(CMP)와 같은 제조 처리 단계로부터의 잔류물; 제조 처리 고유의 및/또는 제조 처리로부터 발생하는 미립자; 천연 또는 화학 산화물, 금속을 함유하는 화합물과 같은 무기 미립자 또는 물질; 및 펌프, 압축기 또는 다른 공급원과 같은 제조 장치로부터 도입된 오염물질과 같은 많은 공급원으로부터 이산화탄소 유체에 도입될 것이다. 이러한 오염물질은 이산화탄소의 증기압보다 높거나 낮은 증기압을 가질 수 있다. 고 증기압 오염물질은, 예를 들어 불소, 저분자량 불소화 탄화수소, 또는 질소 및 산소와 같은 대기 가스일 수 있다. 예를 들어, 포토레지스트 잔류물과 같은 특정 오염물질은 비휘발성이기 때문에 이산화탄소 유체로부터 제거하기 힘들 수 있다.
고순도 및 초고순도 이산화탄소 유체에 대한 현재의 시장 수요는 실린더 공급을 이용해 충족시키고 있으며, 이는 반도체 제조자들의 제한된 개발 활동을 나타낸다. 그러나, 반도체 제조자들이 수계 처리 용액에 대한 대체제로 고순도 및 초고순도 이산화탄소를 채택하는 경우가 증가함에 따라, 대규모 또는 대량 CO2 공급 시스템이 필요하게 될 것이다. 다른 산업(예, 식품 제조)에서 CO2를 수송하고 저장하는 데 사용하는 일반적인 대량 CO2 공급 시스템은 약 300 psig 압력 및 약 -15℉∼2℉(-26℃∼-17℃)에서 변화하는 온도에서 작동된다. 또, 이러한 산업은 고순도 또는 초고순도(UHP) 생성물을 필수적으로 필요로 하지 않는다. 대조적으로, 반도체 산업은 훨씬 더 높은 압력에서 포토레지스트 잔류물 제거, 증착, 석판 인쇄 등과 같이 다양한 처리에서 사용하는 처리 도구로 수송되는 고순도 또는 초고순도 CO2를 필요로 한다. 이러한 처리 도구에 필요한 생성물 압력은 2,000 psig 내지 10,000 psig에서 변할 수 있다. 압력 필요조건은 특수 용도, 도구 설계, 처리 철학 등과 같은 많은 요인들에 좌우된다.
반도체 산업은 대량 공급원으로부터 처리 도구로 수송되는 고순도 및 초고순도 CO2를 취급할 현장 시스템을 개발하는 유의적인 기술 도전에 직면하고 있다. 이러한 도전의 일부는 고압에서 대량 고순도 및 초고순도 CO2의 저장; 현장 고순도 및 초고순도 CO2 취급 시스템 내에서 순도 유지; 긴 수송관을 통한 액체 생성물 수송; 및 900 psig 이상의 압력에서 POU 또는 처리 도구로의 액체 생성물 수송을 포함하 지만, 이에 한정되는 것은 아니다.
제조 설비 내의 요구압에서 하나 이상의 처리 도구로 초고순도(UHP) 이산화탄소의 대량 공급 및 수송을 위한 시스템 및 이를 포함하는 방법이 본 명세서에 개시되어 있다. 본 명세서에서 사용된 "요구압(required pressure)"이라는 용어는 사용자의 작동 압력 또는 특별한 작동에 필요한 압력을 의미한다. 본 발명의 한 측면에서, (a) 용기 내의 이산화탄소 공급물의 압력이 이산화탄소의 임계 압력 미만 및 요구압 미만인 제1 압력인, 정제된 이산화탄소 공급물 또는 비정제된 이산화탄소 공급물로부터 선택된 이산화탄소 공급물을 보유하는 대량 저장 용기를 포함하는 이산화탄소 공급원; (b) 이산화탄소 공급원 및 요구압 이상의 제2 압력에서 정제된 이산화탄소 생성물 스트림을 제공하기 위해 정제된 이산화탄소의 적어도 일부분의 압력을 증가시키는 압력 상승 장치를 포함하는 하나 이상의 처리 도구와 유체 연통하는 이산화탄소 수송 시스템; (c) 요구압에서 정제된 이산화탄소 생성물 스트림을 수용하고, 정제된 이산화탄소의 적어도 일부분을 사용된 이산화탄소 스트림으로 전환하는 하나 이상의 처리 도구를 포함하는, 요구압에서 하나 이상의 처리 도구로 정제된 이산화탄소 생성물 스트림을 공급하기 위한 시스템을 제공한다.
본 발명의 또 다른 측면에서, (a) (ⅰ) 용기 내의 비정제된 이산화탄소 공급물의 압력이 이산화탄소의 임계 압력 미만 및 요구압 미만인 제1 압력인, 비정제된 이산화탄소 공급물을 보유하는 대량 저장 용기; (ⅱ) 경우에 따라, 용기 내의 이산화탄소 공급물을 약 23℃∼약 30℃ 범위의 하나 이상의 온도에서 유지하는 온도 조 절 시스템; (ⅲ) 경우에 따라 증발기를 포함하는 이산화탄소 공급원; (b) 이산화탄소 공급원 및 이산화탄소 수송 시스템과 유체 연통하며, 비정제 이산화탄소 공급물의 적어도 일부분을 이산화탄소 수송 시스템에 수송하기 앞서 정제된 이산화탄소 공급물로 전환하는 1차 정제 시스템; (c) 이산화탄소 공급원 및 (ⅰ) 경우에 따라 제1 압력에서 정제된 이산화탄소 공급물의 적어도 일부분을 저장하는 저압 저장 용기; (ⅱ) 정제된 이산화탄소 생성물 스트림 및 부분 정제된 생성물 스트림이 요구압 이상인 제2 압력인, 정제된 이산화탄소 생성물 스트림 또는 부분 정제된 이산화탄소 생성물 스트림으로부터 선택되는 하나 이상을 제공하기 위해 정제된 이산화탄소 공급물 적어도 일부분의 압력을 증가시키는 압력 상승 장치를 포함하는 하나 이상의 처리 도구의 이산화탄소 공급원과 유체 연통하는 이산화탄소 수송 시스템; (d) 요구압에서 정제된 이산화탄소 생성물 스트림을 수용하고 정제된 이산화탄소 생성물 스트림의 적어도 일부분을 사용된 이산화탄소 스트림으로 전환하는 하나 이상의 처리 도구; 및 (e) 이산화탄소 수송 시스템 및 하나 이상의 처리 도구와 유체 소통 관계에 있고, 사용된 이산화탄소 스트림의 적어도 일부분을 하나 이상의 처리 도구로 수송하기 전에 정제된 이산화탄소 생성물 스트림으로 전환하는 2차 정제 시스템을 포함하는, 요구압에서 정제된 이산화탄소 생성물 스트림을 하나 이상의 처리 도구에 공급하기 위한 시스템을 제공한다.
본 발명의 추가 측면에서, 정제된 이산화탄소 공급물을 함유하는 대량 저장 용기를 제공하는 단계로서, 이 때 정제된 이산화탄소 공급물은 이산화탄소의 임계 압력 미만 및 요구압 미만인 제1 압력에 있고 이산화탄소의 온도는 약 -23℃∼약 30℃ 범위의 하나 이상의 온도인 단계; 제1 압력에서 정제된 이산화탄소 공급물의 적어도 일부분을 저장하는 용기에 정제된 이산화탄소 공급물의 적어도 일부분을 수송하는 단계; 용기 내에 함유된 정제된 이산화탄소 공급물의 적어도 일부분을 고체상의 이산화탄소로 전환하는 단계(1차 전환 단계); 요구압 이상인 제2 압력에 도달할 때까지 고체상의 이산화탄소 적어도 일부분을 정제된 이산화탄소 생성물 스트림으로 전환하는 단계(2차 전환 단계); 및 요구압에서 정제된 이산화탄소 생성물 스트림을 하나 이상의 처리 도구로 수송하는 단계로서, 여기서 하나 이상의 처리 도구는 정제된 이산화탄소 생성물 스트림의 적어도 일부를 사용된 이산화탄소 스트림으로 전환하는 것인 단계를 포함하는, 요구압에서 정제된 이산화탄소 생성물 스트림을 하나 이상의 처리 도구로 수송하는 방법이다.
제조 설비 내에 있는 하나 이상의 처리 도구로 고순도 또는 초고순도(UHP) 이산화탄소 생성물 스트림의 대량 공급 및 수송을 위한 시스템 및 이를 포함하는 방법이 본 명세서에 개시되어 있다. 이산화탄소 생성물 스트림은 80% 이상, 90% 이상, 또는 95% 이상의 이산화탄소를 포함할 수 있다. 이 시스템은 일반적으로 세 개의 하위 시스템(이산화탄소 공급원, 이산화탄소 수송 시스템, 및 하나 이상의 처리 도구를 포함하는 소요지(POU))으로 구성된다. 이산화탄소 공급물 및 생성물 스트림과 접촉하는 각각의 하위 시스템 내에 포함되는 모든 장치는 고순도 및 초고순도 생성물 요건을 충족시키는 것이 바람직하다. 이와 관련하여, 모든 습윤된 부분은 이산화탄소 공급물 또는 생성물 스트림과 반응하지 않아야 하고, 입자, 금속, 대기 가스 등과 같은 다양한 형태의 임의의 오염물질을 도입하면 안 된다. 또한, 시스템 내의 각각의 하위 시스템 내에 있는 다양한 요소는 최대 설계 압력(예, 10,000 psig)을 견디도록 선택하는 것이 바람직하다. 본 발명 시스템의 다양한 구체예의 예는 도 1, 2, 3, 4, 5, 및 6에서 제공한다.
도 1은 이산화탄소 공급원과 이산화탄소 공급 시스템 사이에서 정제를 포함하지 않는 시스템을 나타낸다. 이 시스템에서, 이산화탄소 공급물은 시스템 내에 있는 하나 이상의 처리 도구에 의해 요구되는 최소 정제 요건 이상을 충족시키며 수송된다. 이산화탄소 공급물은 80% 이상, 90% 이상, 또는 95% 이상의 이산화탄소를 포함할 수 있다. 도 1에 대해, 시스템 (10)은 한 부위로 수송되는 대량 CO2 저장을 위해 사용하는 이산화탄소 공급원 (20)을 가진다. 이산화탄소 공급원 (20)은 임의의 온도 조절 시스템 (22)를 갖춘 하나 이상의 대량 저장 용기 (21)을 또한 포함한다. 대량 저장 용기 (22)는 정제된 이산화탄소 공급물, 즉 이산화탄소 수송 시스템으로 수송되기에 앞서 정제가 필요하지 않은 이산화탄소 공급물을 다량(예, 700 lbs (2650 리터) 또는 그 이상) 함유할 수 있다. 다른 구체예에서, 대량 저장 용기 (22)는, 예를 들어 액체 이산화탄소 탱크, 철도 유조차, 또는 화물 트레일러일 수 있다. 대량 저장 용기 (22)는 가압된 용기가 바람직하다.
대량 저장 용기 (21)은 이산화탄소 공급물의 특정 온도를 유지하기 위해 임의의 온도 조절 시스템 (22)를 가질 수 있다. 대량 저장 용기 (21) 내의 이산화탄소 공급물 온도는 다양할 수 있지만 -15℉∼86℉(-26℃∼30℃) 또는 -10℉∼10℉(-23℃∼-12℃)의 범위 내에서 유지하는 것이 바람직하다. 온도는 충분한 용기 단열 에 의해 또는 대량 저장 용기 (21) 가까이 배치되거나 내부로 통합된 냉각/가열 시스템으로 유지할 수 있다(도시하지 않음). 대량 저장 용기 (21)에는 다양하지만 일반적으로 요구압 미만, 1,071 psig 미만, 또는 300∼950 psig의 범위에 있는 제1 압력에서 정제된 이산화탄소 공급물의 압력을 유지하기 위해 압력 조절 밸브, 가열기, 급냉기, 열 교환기 또는 다른 수단 또한 구비된다. 이산화탄소 공급원 (20)은 최종 수요자의 요구에 맞출 수 있는 공급 파이핑, 압력 조절 밸브, 안전 밸브 등과 같은 다른 요소들을 또한 포함할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 이러한 요소들은, 예를 들어 온도, 유속, 압력, 물리적 상태, 또는 이산화탄소 공급물의 다른 측면을 변화시키기 위해 이용될 수 있다. 이산화탄소 공급원 (20)은 가스 수송 및/또는 추가 정제 시스템 등을 필요로 하는 등의 경우 증발기(도시하지 않음)를 또한 포함할 수 있다. 대안 구체예에서, 하나 이상의 증발기를 1차 및/또는 2차 정제 시스템에 통합시킬 수 있다.
도 2는 이산화탄소 공급원 (20)으로부터의 이산화탄소 공급물이 비정제 이산화탄소 공급물이거나 하나 이상의 처리 도구의 최소 순도 요건을 충족하지 못하는 대안 구체예를 제공한다. 도 2는 이산화탄소 수송 시스템 (30)에 수송하기에 앞서 비정제 이산화탄소 공급물을 처리하는 데 사용하는 1차 정제 시스템 (50)을 제공한다. 정제 시스템 (50)은 정제된 이산화탄소 생성물 스트림에 대한 상이한 순도 요건을 갖는 여러 용도를 가진 상이한 다수의 POU 시스템을 지지할 수 있다. 정제 장치는 특정 오염물질의 제거를 다루기 위해 병렬로 배열되어 있거나 상이한 레벨의 정제를 제공하기 위해 직렬로 배열될 수 있다.
정제 시스템 (50)은 하나 이상의 정제 장치 또는 정화기를 가질 수 있다. 예가 되는 정제 장치는 흡수층, 상 변화 장치, 여과 층, 촉매 산화기, 증발기, 증류 컬럼, 상 분리기, 액화 수단, 원심 분리기, 압축기, 고체 오염물질 정화기 또는 유체 오염물질 정화기를 포함하지만, 이에 한정되는 것은 아니다. 이러한 정제 장치는 단독으로 또는 다른 것과의 조합으로 사용할 수 있다. 증발기는 액체 이산화탄소 공급물, 생성물, 또는 부분 정제된 공급물 또는 생성물로부터 증기로서 높은 상대휘발도의 오염물질을 일단계 또는 다단계로 제거하기 위해 사용할 수 있다. 압축기는 증기 이산화탄소 투입 공급물, 생성물, 또는 부분 정제된 공급물 또는 생성물로부터 낮은 상대휘발도의 오염물질을 일단계 또는 다단계로 제거하기 위해 사용할 수 있다. 흡수층은 이산화탄소 공급물, 생성물 또는 부분 정제된 공급물 또는 생성물로부터 오염물질의 선택적인 흡수에 의해, 또는 대안으로 이산화탄소 공급물, 생성물, 또는 부분 정제된 공급물 또는 생성물의 선택적인 흡수 및 후속 탈착에 의해 특정 오염물질을 제거하기 위해 사용할 수 있다. 흡수층은 투입 스트림으로부터 오염물질의 선택적인 흡수 또는 대안으로, 이산화탄소 공급물, 생성물 또는 부분 정제된 공급물 또는 생성물의 선택적인 흡수 및 후속 탈착에 의한 오염물질의 제거를 위해 사용할 수 있다. 오염물질의 제거는 또한 온도 조절, 반응종, 촉매 물질 또는 이의 조합을 이용함으로써 이산화탄소 공급물, 생성물, 또는 부분 정제된 공급물 또는 생성물로부터의 오염물질 반응 전환에 의해 수행할 수 있다. 오염물질의 제거는 또한 온도 조절, 반응 종, 촉매 물질, 또는 이의 조합을 이용함으로써 오염물질을 이산화탄소 생성물로부터 분리하기가 더 용이한 다른 화학 성분으로의 반응 전 환시키고, 이어서 본원에 개시된 임의의 정제 장치를 사용해 상기 화학 성분을 제거하여 수행할 수 있다. 기계적 수단(본원에서 "고체 오염물질 정화기"라 칭함)에 의한 액체상 또는 기체상 이산화탄소 공급물, 생성물, 또는 부분 정제된 공급물 또는 생성물로부터의 고체상 오염물질의 제거는 여과, 결정화, 중력 분리, 원심분리 또는 발현, 또는 이의 조합을 포함하지만, 이에 한정되는 것은 아니다. 기계적 수단(본원에서 "유체 오염물질 정화기"로 칭함)에 의한 고체상 이산화탄소 공급물, 생성물, 또는 부분 정제된 공급물 또는 생성물로부터의 증기상 또는 액체상의 오염물질의 제거는 여과 또는 중력 분리, 원심 분리 또는 발현, 또는 이의 조합을 포함하지만, 이에 한정되는 것은 아니다.
1차 정제 시스템 (50)은 도 2에 도시한 바와 같이 비정제 이산화탄소 공급물을 처리하는 중심 정제 시스템일 수 있다. 특정한 구체예에서, 1차 정제 시스템 (50)과 같은 단독 정제 시스템은 하나 이상의 POU 시스템이 동일한 정제 레벨을 필요로 할 때 사용될 수 있다. 이러한 구체예에서, 1차 정제 시스템은 도시된 바와 같이 하나의 중심 위치에 배치될 수 있다.
다른 구체예에서, 도 3 및 4에 도시된 2차 정제 시스템 (60)과 같이, 하나 이상의 추가 정제 시스템 또는 하류의 정제 시스템을 사용할 수 있다. 2차 정제 시스템 (60)은 도 3에 나타낸 시스템과 같이, 단독으로 또는 도 4 및 5에 나타낸 시스템과 같이 1차 정제 시스템 (50)에 추가하여 사용할 수 있다.
2차 정제 시스템 (60)은 정제된 이산화탄소 생성물 스트림에 대한 다양한 정제 요건을 변화시키면서, 다수의 처리 도구를 포함하는 많은 상이한 POU 시스템 (40)을 지지할 수 있다. 1차 정제 시스템 (50)과 유사하게, 2차 정제 시스템 (60)은 하나 이상의 정제 장치 또는 정화기를 포함할 수 있다. 적절한 정제 장치의 예는 흡수층, 상 변화 장치, 여과층, 촉매 산화기, 증발기, 증류 컬럼, 상 분리기, 액화 수단, 원심분리기, 고체 오염물질 정화기 또는 유체 오염물질 정화기를 포함하지만, 이에 한정되는 것은 아니다. 이러한 정제 장치는 단독으로 또는 서로 조합으로 사용할 수 있다. 정제 장치는 특정 오염물질의 제거를 다루기 위해 병렬로 또는 상이한 정제도를 제공하기 위해 직렬로 배치될 수 있다. 특정한 바람직한 구체예로, 2차 정제 시스템 (60)은 적은 용적의 투입물, 즉 사용된 이산화탄소 스트림 또는 부분 정제된 이산화탄소 공급물 또는 생성물을 처리한다.
특정한 예로, 2차 정제 시스템 (60)은, 예를 들어 사용된 이산화탄소 스트림 및/또는 도 5에 나타낸 시스템과 같이 부분 정제된 이산화탄소 생성물 스트림으로부터 특정 오염물질을 제거하는 데 사용할 수 있는 POU 하위 시스템 내에 분산된 정제 시스템일 수 있다.
그러나 다른 택일적인 정제 시스템은 비정제된 이산화탄소 공급물을 특정 수준, 예를 들어 제조 설비 내에 하나 이상의 처리 도구 (41)의 최소 순도 레벨을 가지는 부분 정제된 이산화탄소 수준으로 정제하는 단계 정제 시스템이다. 수송에 앞서, 부분 정제된 이산화탄소 스트림은 하나 이상의 처리 도구 (41) 내에서 사용하기에 앞서 특정 용도의 순도 요건을 충족하기 위해 2차, 3차, 또는 n차 정제 시스템을 통해 통과할 수 있다.
도 1에 대해, 이산화탄소 수송 시스템 (30)은 이산화탄소 공급원 (20)으로부 터의 정제된 이산화탄소 공급물을 소요지 시스템 (40)에 있는 하나 이상의 처리 도구 (41)로 수송하기 위한 모든 필요한 수단을 제공한다. 수송 시스템 (30)은 대량 저장 용기 (21)로부터 정제된 이산화탄소 공급물을 취하고 요구되는 압력, 온도, 물리적 상태, 유속, 또는 다른 처리 파라미터에서 하나 이상의 처리 도구 (41)로 정제된 이산화탄소 생성물 스트림으로 수송한다. 이산화탄소 수송 시스템 (30)은 임의의 필터 스키드 (31), 하나 이상의 임의의 저압 저장 용기 (32), 압력 상승 장치 (34)와 유체 연통하는 임의의 하위 냉각기 (33), 압력 상승 장치 (34), 및 하나 이상의 임의의 고압 저장 용기 (35)를 포함한다. 수송 시스템 (30)은 펌프, 필터, 급냉기, 열 교환기, 증발기, 생성물 분배 라인, 압력 용기 등을 또한 포함할 수 있지만, 이에 한정되는 것은 아니다. 특정한 구체예에서, 다수의 저압 및 고압 저장 용기 (32) 및 (35)는 소요지 시스템 (40)으로의 정제된 이산화탄소 생성물 스트림의 연속 공급을 하기 위해 사용될 수 있다. 다른 구체예에서, 압력 상승 장치 (34)는 저압 및 고압 저장 용기 (32) 및 (35)의 요구를 제거할 시스템 내의 용기를 포함할 수 있다.
도 1에 대해, 임의의 저압 저장 용기 (32)는 압력 상승 장치 (34)의 상류에 위치하며, 바람직하게는 1070 psig까지 하나 이상의 압력에서 정제된 이산화탄소 공급물을 포함한다. 게다가, 임의의 저압 저장 용기 (32)는 또한 소정의 CO2 순도를 보존하도록 설계된다. 이와 관련하여, 임의의 저압 저장 용기 (32)는 공급 압력의 유해한 변화 및 수송 시스템 (30) 상류의 유량 변화를 위한 추가의 특별한 고려 없 이 소요지 시스템 (40)에 있는 하나 이상의 처리 도구 (41)을 공급하는 하나 이상의 압력 상승 장치(들) (34)로 연속 공급을 제공하기 위해 충분한 양의 정제된 이산화탄소 공급물을 함유한다. 특정한 구체예에서, 용기 (32)는 정제된 이산화탄소 공급물을 압력 상승 장치(들) (34)로 공급하기 위해 사용할 수 있으며, 이 장치에서 정제된 이산화탄소 공급물은 정제된 이산화탄소 생성물 스트림으로 변형되어 임의의 추가 수송 수단(예, 펌프, 압축기 등)을 사용하지 않고 하나 이상의 처리 도구 (41)에 수송된다.
다시 도 1에 대해, 임의의 고압 저장 용기 (35)는 압력 상승 장치 (34)의 하류에 위치하고, 바람직하게 이산화탄소의 임계점 압력 이상(예, 1072 psig 내지 10,000 psig까지) 및/또는 하나 이상의 처리 도구 (41)의 요구압 이상에서 하나 이상의 압력을 가지는 생성물을 포함한다. 게다가, 임의의 고압 저장 용기는 또한 소정의 CO2 순도를 보존하기 위해 설계된다. 임의의 고압 저장 용기 (35)는 공급 압력의 유해한 변화 및 초고순도 수송 시스템 (30) 상류의 유량 변화를 위한 추가의 특별한 고려 없이 하나 이상의 처리 도구 (41)에 연속 공급을 제공하기 위해 충분한 양의 정제된 이산화탄소 생성물 스트림을 함유한다. 용기 (35)는 임의의 추가 수송 수단(예, 펌프, 압축기 등)의 사용 없이 하나 이상의 처리 도구로 이산화탄소 생성물을 공급하기 위해 사용된다. 특정 구체예에서, 정제된 이산화탄소 생성물 스트림의 압력은 요구압보다 높은 압력이다. 이러한 구체예에서, 용기 (35)와 POU 시스템 (40) 사이의 압력 차이는 이산화탄소 생성물 스트림을 하나 이상의 처리 도구 (41) 로 수송하는 데 사용할 수 있다.
수송 시스템 (30)은, 예를 들어 압력 상승 장치 (34)가 이동 부분(예, 펌프, 압축기, 밸브)을 포함할 때 사용되는 필터 스키드 (31)을 포함할 수 있다. 수송 시스템 (30)은 압력 상승 장치 (34)와 POU 시스템 (40) 사이 및 이산화탄소 공급원 (20)과 압력 상승 장치 (34)의 요소(예를 들어, 펌프(들), 압축기(들) 등과 같은) 사이에서 액체의 수증기로의 의도하지 않은 부분적인 전환과 같이 CO2 플래시를 최소화하는 데 사용할 수 있는 하위 냉각기 (33)을 또한 포함할 수 있다.
압력 상승 장치 (34)는 제1 압력에서 제2 압력으로 정제된 이산화탄소 공급물 압력을 증가시키는 데 사용하며, 제2 압력은 요구압 이상인 압력이다. 압력 상승 장치 (34)는 단일 펌프 또는 여러 개의 펌프, 압축기 등으로 될 수 있다. 대안 구체예에서, 압력 상승 장치 (34)는 정제된 이산화탄소 공급물의 가압을 위해, 특허 출원 중인 2003년 1월 28일에 제출된 미국 특허 출원 번호 10/351,188 및 2004년 1월 9일에 제출된 미국 특허 출원 번호 10/753,315(본 발명의 양수인에게 양도되었고 본원에서 참고 문헌으로 인용함)에 개시된 장치와 같이 펌프가 없는 시스템을 이용할 수 있다. 도 5 및 6은 펌프가 없는 압력 상승 장치 (34)를 가지는 시스템의 예를 제공한다. 이러한 구체예에서, 입자 연삭으로 인하여 생성물 오염을 유발할 수 있는 임의의 회전 또는 진동 부품은 존재하지 않는다. 그러므로, 여과 및 다른 정제 수단은 부분적으로 또는 전적으로 생략될 수 있다. 게다가, 펌프가 없는 시스템은 충분한 양의 생성물을 보유할 수 있어서 저압 및 고압 저장 용기 (32) 및 (35)를 사용할 필요가 없다.
소요지(POU) 시스템 (40)은 하나 이상의 처리 도구 (41), 즉 물품을 처리하기 위해 사용되는 장치, 및 경우에 따라 사용된 이산화탄소 스트림 처리 시스템 (42)를 포함한다. 이산화탄소 수송 시스템 (30)은 요구압 및 요구되는 다른 처리 파라미터에서 정제된 이산화탄소 생성물 스트림을 하나 이상의 처리 도구 (41)로 수송하는데, 여기서 이산화탄소 스트림은 물품을 처리하는 데 사용된다. 본원에서 사용된 "처리된" 또는 "처리"라는 용어는 정제된 이산화탄소 생성물 스트림과 물품을 접촉시켜 물품을 물리적 및/또는 화학적으로 변화시키는 것을 의미한다. 예를 들어 "처리"라는 용어는 필름 박리, 세정, 건조, 식각, 연마, 침착, 추출, 포토레지스트 현상, 현탁된 나노 입자 및 나노 결정체의 형성 등을 포함한다. 본원에서 사용된 "물품"이라는 용어는 정제된 이산화탄소 생성물 스트림과 접촉할 수 있는 임의의 제조 물품을 의미한다. 대표적인 물품은 규소 또는 갈륨 비소화물 웨이퍼; 레티클; 포토마스크; 평면 패널 디스플레이; 처리실의 내부면; 인쇄된 회로도; 표면을 마운팅한 조립품; 전자 조립품; 고감도 웨이퍼 처리 시스템 부품; 전기광학, 레이저 및 우주선 하드웨어; 표면 미세 가공 시스템; 및 조립 도중 오염되는 다른 관련 물품을 포함하지만, 이에 한정되는 것은 아니다. 같은 처리 단계는 다른 것들과 독립적으로 작동할 수 있는 다수의 처리 도구를 사용해 실시할 수 있다. 하나 이상의 처리 도구는 하나 이상의 챔버를 포함할 수 있고, 각각의 챔버는 약품 자체 또는 약품군을 독립적으로 처리할 수 있다. 특정 구체예에서, POU 시스템은 같은 처리 단계로부터 여러 처리 도구, 또는 대안으로 동일한 CO2 순도를 필요로 하는 다른 처리 단계로부터 여러 처리 도구를 포함하지만, 이에 한정되는 것은 아니다.
하나 이상의 처리 도구 (41)은 처리 과정에 사용하기 위해 요구압에서 정제된 이산화탄소 생성물 스트림을 수용하고, 정제된 이산화탄소 생성물 스트림으로 처리한 후 사용된 이산화탄소 스트림을 생성한다. 사용된 이산화탄소 스트림은 수행한 처리 단계에 따라 다양한 오염물질을 포함할 수 있다. 사용된 이산화탄소 스트림 내에 포함된 오염물질의 형태는 다양하지만, 예를 들어 용해된 가스(예를 들어, H2O, O2, COS, CO, H2S); 노광된 포토레지스트 물질, 포토레지스트 잔류물, UV- 또는 X-선에 단련된 포토레지스트, C-F를 함유하는 중합체, 저분자량 및 고분자량 중합체, 및 다른 유기 식각 잔류물과 같은 유기 화합물; 금속 산화물, CMP 슬러리로부터의 세라믹 입자 및 다른 무기 식각 잔류물와 같은 무기 화합물; 유기금속 잔류물 및 금속 유기 화합물과 같은 금속을 함유하는 화합물; 연마 및 스퍼터 식각 처리에 의해 생성되는 입자를 포함하는, 이온 및 중성, 경질무기 및 중질무기(금속) 종, 습기, 및 불용성 물질을 포함할 수 있다.
도 1, 4, 및 5에 나타낸 시스템과 같은 구체예에서, POU 시스템 (40)은 사용된 이산화탄소 처리 시스템 (42) 및/또는 2차 정제 시스템 (60)을 더 포함한다. 처리 시스템 (42)는 하나 이상의 처리 도구 (41)로부터 나오는 사용된 이산화탄소 스트림을 처리하고 환경친화적 방식으로 대기로 배출시키거나, 대안으로, 처리된 스트림의 순도 레벨이 고순도 또는 초고순도 레벨일 필요가 없는 다른 용도 또는 다 른 산업에서 차후 재사용하기 위해 저장 용기로 수송할 수 있다. 특정 구체예에서, 사용된 이산화탄소 스트림을 처리한 뒤 도 1에 도시된 시스템과 같이 폐기 스트림으로 방출될 수 있다. 도 3, 4, 및 5의 시스템과 같은 대안 구체예에서, 사용된 이산화탄소 스트림은 POU 시스템 (40)에서 재사용하기에 앞서 정제된 이산화탄소 생성물 스트림을 제공하기 위해, 도시된 2차 정제 시스템 (60)과 같은, 하나 이상의 정제 시스템에서 정제함으로써 재순환될 수 있다.
정제된 이산화탄소 생성물 스트림은, 예를 들어 고압 액체 또는 초임계 유체와 같은 다양한 다른 유체 상태로 POU 시스템 (40)에 수송될 수 있다. 특정 구체예에서, 정제된 이산화탄소 생성물 스트림을 액체로서 POU 시스템 (40)에 수송할 수 있다. 이러한 구체예에서, 액체 생성물 스트림은 CO2 임계 압력 이상의 압력 및 CO2 임계 온도 미만의 온도를 가져야만 한다. 액체 수송 시스템은 경우에 따라 수송된 액체 이산화탄소 생성물을 초임계 이산화탄소 생성물로 전환하기 위해 열원과 같은 에너지원을 포함할 수 있다. 특정 구체예에서, 열원은 하나 이상의 처리 도구 (41)의 통합 부분일 수 있고 또는 이산화탄소 수송 시스템 (30)의 부분일 수 있다. 대안 구체예에서, 정제된 이산화탄소 생성물 스트림을 초임계 유체로서 POU 시스템 (40)에 수송할 수 있다. 이러한 구체예에서, 하나 이상의 에너지원은 하나 이상의 공급 도구 (41)의 부분이라기보다 이산화탄소 수송 시스템 (30)으로 통합될 수 있다. 이산화탄소 생성물이 초임계 상태에 있을 때, 이산화탄소 수송 시스템 (30)과 하나 이상의 처리 도구 (41) 간의 거리는 상대적으로 짧은 것이 바람직하다. 이 목 적을 위해, 하나 이상의 에너지원은 처리 도구 하나 또는 집합체를 지지할 수 있고, 처리 도구(들) 위치 근처에서 특정 처리을 위해 특정 POU 시스템에 배치될 수 있다.
정제된 이산화탄소 스트림은 POU 시스템 (40)에 수송하기에 앞서 하나 이상의 처리제와 혼합할 수 있다. 처리제는 이를 함유하는 정제된 이산화탄소 생성물 스트림과의 접촉시에 물품의 물리적 및/또는 화학적 변화를 촉진하는 화합물 또는 화합물의 조합으로 정의할 수 있다. 특정한 예로, 오염된 약품에서 오염물질을 제거하기 위한 정제된 이산화탄소 생성물 스트림의 세정 능력을 또한 증가시킬 수 있다. 또한, 처리제는 정제된 이산화탄소 생성물 스트림 내에서 오염물질을 용해 및/또는 분산시킬 수 있다. 이러한 처리제는, 예를 들어 필름 박리제, 세정 또는 건조제, 계면 활성제와 같은 첨가용제, 킬레이트제, 식각 또는 연마 반응물, 포토레지스트 현상액, 및 침착 물질 또는 반응물을 포함할 수 있다.
도 6은 압력 상승 장치 (135)가 펌프가 없는 시스템을 포함하는, 본 발명 (100)의 장치 및 시스템의 특별한 구체예의 예를 제공한다. 작동시, 초기 수송 파라미터에서 이산화탄소(예를 들어, -5℉(약 -20℃)에 300 psig에서 액체 이산화탄소)를 함유하는 가스 또는 액체 공급물의 스트림은 이산화탄소 공급원으로부터 저압 저장 용기 (102)로 수송된다(도시되지 않음). 가스 또는 액체 공급물은, 예를 들어 1차 정제 시스템(도시되지 않음)에서 정제함으로써, 정제된 이산화탄소 공급물을 제공하기 위해 용기 (102)로 공급물을 도입하기에 앞서 바람직하게 정제된다. 그 후 정제된 이산화탄소 공급물은 라인 (104)에 의해 용기 (102)로부터 제거되고, 각각 밸브 (106a), (106b), 또는 (106c)를 거친 다음 용기 (108a), (108b), 또는 (108c)를 거쳐 통과한다. 용기 (108a), (108b), 또는 (108c)는 슬러시 또는 고체상 이산화탄소 공급물의 생성을 위해 사용된다. 본원에서 사용된 "슬러시"라는 용어는 이산화탄소의 고체, 액체, 및 증기 상, 바람직하게는 고체 및 액체상을 함유할 수 있는 하나 이상의 구성 요소의 다상 혼합물을 의미한다. 이산화탄소 공급물은 각각 임의의 급냉기 (110a), (110b), 또는 (110c)의 보조로 상기 용기들(즉, 용기 (108a), (108b), 또는 (108c))에서 적어도 부분적으로 고체화될 수 있다.
급냉기의 기능은 이산화탄소 응고점 이하의 온도에서 용기 (108a), (108b), 또는 (108c) 내에서 이산화탄소의 온도를 단순히 낮추는 것이다. 탄소 공급물이 액체 형태로 수송될 때와 같은 대안 구체예에서, 급냉기 (110a), (110b), 또는 (110c)는 필요하지 않을 수 있고, 유입되는 공급물 스트림의 압력 미만의 압력으로 압력을 감소시키는 것에 의한 공급물 스트림의 갑작스런 팽창은 용기 (108a), (108b), 또는 (108c) 내에서 고체상 공급원 또는 슬러시 생산성을 위해 고체-증기 또는 액체-증기를 형성하는 데 사용할 수 있다. 고체 이산화탄소가 형성될 때, 탱크 (102)로부터의 추가 이산화탄소 공급물은 용기가 충분하게, 또는 바람직하게는 완전히, 고체 이산화탄소로 채워지거나 이산화탄소의 고체-액체 혼합물, 즉 슬러시로 바람직하게 채워질 때까지 각각의 용기 (108a), (108b), 또는 (108c)에 추가된다. 동시에, 용기 (108a), (108b) 또는 (108c)는 적절한 (106a), (106b), 또는 (106c)를 닫음으로써 탱크 (102)에서 분리된다.
고체상 공급원 이산화탄소를 유체 생성물로 전환하고 이의 가압을 실시하기 위해, 장치는 하나 이상의 에너지원, 예를 들어 가열기 (112a), (112b), 또는 (112c)를 통합시킬 수 있다. 각각의 용기 (108a), (108b) 또는 (108c)에 부속되거나 장착된 이러한 가열기는 이산화탄소의 고체 형태의 가열과 용해를 실시하기 위해 활성화된다. 다른 구체예에서, 예를 들어 방사선, 마이크로파, 초음파, 레이저 또는 다른 공급원과 같은 열에너지 이 외 또는 더하여 하나 이상의 에너지원은 고체상 공급원의 적어도 일부분을 유체 생성물로 전환하는 데 사용할 수 있다. 고체 이산화탄소의 액체 생성물로의 전환은 등체적 조건(즉, 가열된 용기의 체적을 일정하게 유지) 내에서 일어날 수 있다. 예를 들어, 고체 또는 슬러시 이산화탄소와 같은 고밀도 물질의 등체적 가열은 형성된 이산화탄소 유체 생성물의 압력을 처리에 요구되는 임의의 압력으로 증가시키고, 요구압에서 소요지(POU)로, 예를 들어 액체 이산화탄소와 같은 유체 생성물과 같은 저밀도 물질을 수송하는 메커니즘을 제공한다. 이 압력 증가는 평균 슬러시 온도 또는 용기 내의 이산화탄소의 내부 온도를 실질적으로 변화시키지 않고 얻을 수 있다. 좁은 온도 범위에서 작동하는 것은 하나 이상의 에너지 공급원의 효과적인 사용을 가능하게 할 수 있다.
유체 생성물은 각각 용기 (108a), (108b) 및 (108c)로부터 라인 (114a), (114b) 및 (114c)를 거쳐 제거되고 압력 조절 밸브 (116a), (116b) 및 (116c)를 통과할 수 있다. 압력 조절 밸브 (116a), (116b) 및 (116c)는 용기 (108a), (108b) 및 (108c) 내에서 조절된 압력을 유지한다. 조절된 압력은 일정 또는 고정 압력일 수 있고 또는, 예를 들어 슬러시를 생성하기 위해 진동할 수 있다. 유체 생성물은 각각 라인 (118a), (118b) 및 (118c)를 거쳐 라인 (120)를 통해 임의의 서지 탱크 (122)로 운반될 수 있다. 유체 생성물은, 요구압(예를 들어, 300 내지 10,000 psig) 및 임계 온도 미만의 수송 온도(즉, 이산화탄소에 대하여 별개의 증기상 및 액체상이 공존할 수 있는 최고온도로서, 예를 들어 CO2의 임계 온도 또는 87.9℉(즉 31.1℃)보다 낮은 77℉(즉 25℃)임)에서 라인 (126)을 통해 및/또는 임의의 서지 탱크(122)로부터 하나 이상의 처리 도구(124)로 수송될 수 있다.
고체 이산화탄소의 밀도가 액체 상태의 이산화탄소의 밀도보다 약 1.5배 정도 더 크기 때문에, 상당량의 이산화탄소는 임의의 미리 선택된 압력에서 용기 (108a), (108b) 또는 (108c)로부터 제거될 수 있다. 액체 이산화탄소 생성물은, 각각의 용기 (108a), (108b) 또는 (108c) 내의 고체 이산화탄소의 용융 속도와 일반적으로 같은 속도로 각각의 용기에서 제거될 수 있다. 이런 점에서, 각각의 용기로부터 액체 이산화탄소 생성물의 제거는 고체 이산화탄소에서 액체 이산화탄소로의 전환시 형성되는 액체 이산화탄소로 즉시 대체될 수 있다. 액체 이산화탄소 형성 속도와 실질적으로 동일한 속도로 액체 이산화탄소를 제거함으로써, 용기 (108a), (108b) 또는 (108c) 내의 압력은 요구압 이상의 압력인 원하는 압력으로 유지할 수 있다. 처리로부터 액체 이산화탄소의 제거는 고체상 이산화탄소가 액체로 실질적으로 또는 완전히 전환되었을 때 종료된다.
택일적인 구체예에서, 세 가지 상의 슬러시, 즉 고체, 액체 및 증기의 혼합물은 용기 (108a), (108b), 및 (108c) 내부에 함께 존재할 수 있다. 거기에 함유된 증기 상의 존재는 압축성 때문에 상대적으로 높은 압력에 도달하는 데 더 많은 시 간과 에너지가 필요할 수 있다. 고압에서, 증기상은 액체상으로 응축하기 때문에 증기상으로 남아 있지 않을 수 있다. 3 단위 시스템으로 나타낸 여러 루프는 정제된 이산화탄소 생성물 스트림의 연속 흐름을 임의의 고압 저장 용기 (122)에 제공하는 데 사용할 수 있다. 일반적으로 각각의 루프는 근처 루프에 대해 상대적인 시간으로 변경되는 사이클로 작동될 것이다.
도 6은 또한 도시된 용기 (108a), (108b), 및 (108c) 내에 함유된 유출 증기의 제거, 정제, 및 재순환을 위한 재순환 흐름망을 포함한다. 용기 (108a), (108b), 및 (108c)는 각각 라인 (128a), (128b), 및 (128c)와 유체 연통한다. 라인 (128a), (128b), 및 (128c)는 밸브 (130a), (130b), 및 (130c)를 더 포함한다. 그러나, 다른 구체예에서, 유출 증기는, 예를 들어 압력 조절 밸브 (116a), (116b), 및 (116c)를 통해 제거할 수 있다. 도 6에 나타낸 구체예에서, 용기 (108a), (108b), 및 (108c)로부터의 유출 증기는 밸브 (106a), (106b), 및 (106c)를 통해 용기 (108a), (108b), 및 (108c)로 재순환되고 재도입된다. 이 구체예에서, 라인 (128a), (128b), 및 (128c) 또는 재순환 흐름망은 필터, 증류기, 흡착층, 스크러버, 또는 유출 증기로부터 오염물질을 제거하는 데 적절한 다른 장치와 같은, 하나 이상의 정제 장치 (132a), (132b), 및 (132c)를 또한 포함할 수 있지만, 이에 한정되는 것은 아니다. 그러나, 다른 구체예에서, 유출 증기는 재순환되기보다 용기 (108a), (108b), 및 (108c)로부터 배출될 수 있다.
본 발명을 이의 특별한 구체예와 관련해 상세히 예시하고 설명하였으나, 첨부한 청구 범위에 포함되는 본 발명의 범위를 벗어나지 않으면서 본 발명의 형태 및 세부 사항에 다양한 변화가 이루어질 수 있음을 당업자들은 이해할 것이다.
본 발명에서는 대량 공급원으로부터 고순도 및 초고순도 이산화탄소의 공급 및 수송을 위한 현장 시스템을 개발하였고, 이는 반도체 산업 등에서 이용할 수 있을 것이다.

Claims (33)

  1. 하나 이상의 용도에 있어, 요구압에서 이산화탄소 생성물 스트림을 하나 이상의 처리 도구로 공급하는 시스템으로서,
    (a) 정제된 이산화탄소 공급물 또는 비정제된 이산화탄소 공급물로부터 선택된 이산화탄소 공급물을 보유하는 대량 저장 용기를 포함하며, 용기 내의 이산화탄소 공급물의 압력이 이산화탄소의 임계 압력 미만 및 요구압 미만인 제1 압력인 이산화탄소 공급원; 및
    (b) (i) 요구압과 같거나 더 높은 제2 압력에서 이산화탄소 생성물 스트림을 제공하기 위해 이산화탄소의 적어도 일부분의 압력을 증가시키는 압력 상승 장치를 포함하는 하나 이상의 처리 도구 및 이산화탄소 공급원과 유체 연통하는 이산화탄소 수송 시스템;
    (ii) 요구압에서 정제된 이산화탄소 생성물 스트림을 수용하고 정제된 이산화탄소 생성물 스트림의 적어도 일부분을 사용된 이산화탄소 스트림으로 전환하는 하나 이상의 처리 도구; 및
    (iii) 이산화탄소 수송 시스템 및 하나 이상의 처리 도구와 직접 유체 연통하며, 하나 이상의 처리 도구로 수송하기에 앞서 사용된 이산화탄소 스트림의 적어도 일부분을 정제된 이산화탄소 생성물 스트림으로 전환하는 용도 특이적 정제 시스템
    을 포함하는 하나 이상의 용도
    를 포함하는 시스템.
  2. 제1항에 있어서, 이산화탄소 공급원 및 하나 이상의 용도의 이산화탄소 수송 시스템과 유체 연통하며, 하나 이상의 용도의 이산화탄소 수송 시스템으로 수송하기에 앞서 비정제된 이산화탄소 공급물의 적어도 일부분을 정제된 이산화탄소 공급물로 전환하는 1차 정제 시스템을 더 포함하는 시스템.
  3. 제2항에 있어서, 1차 정제 시스템은 흡착층, 여과층, 촉매 산화기, 증발기, 증류 컬럼, 상 분리기, 액화 수단, 원심분리기, 흡수층, 고체 오염물질 정화기, 유체 오염물질 정화기, 및 이들의 조합으로부터 선택된 하나 이상의 정화기를 보유하는 것인 시스템.
  4. 삭제
  5. 제1항에 있어서, 용도 특이적 정제 시스템은 흡착층, 여과층, 촉매 산화기, 증발기, 증류 컬럼, 상 분리기, 액화 수단, 원심분리기, 흡수층, 고체 오염물질 정화기, 유체 오염물질 정화기, 및 이들의 조합으로부터 선택된 하나 이상의 정화기를 보유하는 것인 시스템.
  6. 삭제
  7. 제1항에 있어서, 제2 압력에서의 이산화탄소 생성물 스트림은 초임계 유체인 것인 시스템.
  8. 제1항에 있어서, 정제된 이산화탄소 생성물 스트림은 액체인 것인 시스템.
  9. 제1항에 있어서, 대량 저장 용기는 정제된 이산화탄소 공급물을 함유하는 것인 시스템.
  10. 제1항에 있어서, 이산화탄소 수송 시스템은 제2 압력에서 정제된 이산화탄소공급물의 적어도 일부분을 저장하는 고압 저장 용기를 더 포함하는 것인 시스템.
  11. 제10항에 있어서, 압력 상승 장치는 제2 압력에서 이산화탄소 공급물의 적어도 일부분을 고압 저장 용기로 수송하는 것인 시스템.
  12. 제1항에 있어서, 이산화탄소 수송 시스템은 제1 압력에서 정제된 이산화탄소 공급물의 적어도 일부분을 저장하는 저압 저장 용기를 더 포함하는 것인 시스템.
  13. 제1항에 있어서, 압력 상승 장치에는 기계적 펌프가 없고, 제2 압력에서 이산화탄소 생성물 스트림을 제공하는 것인 시스템.
  14. 제1항에 있어서, 사용된 이산화탄소 스트림을 배출하는 것인 시스템.
  15. 요구압에서 이산화탄소 생성물 스트림을 하나 이상의 처리 도구로 공급하는 시스템으로서,
    (a) (ⅰ) 비정제된 이산화탄소 공급물을 보유하며, 용기 내의 비정제된 이산화탄소 공급물의 압력이 이산화탄소의 임계 압력 미만 및 요구압 미만인 제1 압력인 대량 저장 용기;
    (ⅱ) 경우에 따라, 용기 내의 이산화탄소 공급물을 약 -23℃∼약 30℃ 범위의 하나 이상의 온도에서 유지하는 온도 조절 시스템; 및
    (ⅲ) 경우에 따라 증발기
    를 포함하는 이산화탄소 공급원;
    (b) 이산화탄소 공급원 및 이산화탄소 수송 시스템과 유체 연통하며, 이산화탄소 수송 시스템으로 수송하기에 앞서 비정제된 이산화탄소 공급물의 적어도 일부분을 정제된 이산화탄소 공급물로 전환하는 1차 정제 시스템;
    (c) 이산화탄소 공급원 및
    (ⅰ) 경우에 따라, 제1 압력에서 정제된 이산화탄소 공급물의 적어도 일부분을 저장하는 저압 저장 용기; 및
    (ⅱ) 요구압 이상인 제2 압력에 있는, 정제된 이산화탄소 생성물 스트림 또는 부분 정제된 이산화탄소 생성물 스트림으로부터 선택된 하나 이상을 제공하기 위해 정제된 이산화탄소 공급물의 적어도 일부분의 압력을 증가시키는 압력 상승 장치
    를 포함하는 하나 이상의 처리 도구와 유체 연통하는 이산화탄소 수송 시스템;
    요구압에서 정제된 이산화탄소 생성물 스트림을 수용하고 정제된 이산화탄소 생성물 스트림의 적어도 일부분을 사용된 이산화탄소 스트림으로 전환하는 하나 이상의 처리 도구; 및
    이산화탄소 수송 시스템 및 하나 이상의 처리 도구와 직접 유체 연통하며, 하나 이상의 처리 도구로 수송하기에 앞서 사용된 이산화탄소 스트림의 적어도 일부분을 정제된 이산화탄소 생성물 스트림으로 전환하는 용도 특이적 정제 시스템
    을 포함하는 하나 이상의 용도
    를 포함하는 시스템.
  16. 요구압에서 이산화탄소 생성물 스트림을 하나 이상의 처리 도구로 수송하는 방법으로서,
    제1항에 기재된 시스템을 제공하는 단계로서, 여기서 대량 저장 용기는 정제된 이산화탄소 공급물을 함유하며, 정제된 이산화탄소 공급물은 이산화탄소의 임계 압력 미만 및 요구압 미만인 제1 압력에 있고, 이산화탄소의 온도는 약 -23℃∼약 30℃ 범위의 하나 이상의 온도인 단계;
    제1 압력에서 정제된 이산화탄소 공급물의 적어도 일부분을 저장하는 용기에 정제된 이산화탄소 공급물의 적어도 일부분을 수송하는 단계;
    제2 용기 내에 함유된 정제된 이산화탄소 공급물의 적어도 일부분을 고체상 이산화탄소로 전환하는 단계 (1차 전환 단계);
    요구압 이상인 제2 압력에 도달할 때까지 고체상 이산화탄소의 적어도 일부분을 정제된 이산화탄소 생성물 스트림으로 전환하는 단계 (2차 전환 단계);
    제2 용기 내의 제2 압력을 유지하는 단계; 및
    요구압에서 정제된 이산화탄소 생성물 스트림을, 정제된 이산화탄소 생성물 스트림의 적어도 일부분을 사용된 이산화탄소 스트림으로 전환하는 하나 이상의 처리 도구로 수송하는 단계
    를 포함하는 방법.
  17. 제16항에 있어서, 1차 전환 단계는 정제된 이산화탄소 공급물의 압력을 이산화탄소의 삼중점 압력 미만으로 감소시키는 단계를 포함하는 것인 방법.
  18. 제16항에 있어서, 1차 전환 단계는 제2 용기 내에 함유된 정제된 이산화탄소 공급물의 온도를 감소시키는 단계를 포함하는 것인 방법.
  19. 제16항에 있어서, 2차 전환 단계는 고체상 이산화탄소에 에너지원을 가하는 단계를 포함하는 것인 방법.
  20. 제19항에 있어서, 에너지원은 열, 마이크로파, 방사선, 초음파, 음파, 레이저, 및 이들의 혼합물로 구성되는 군으로부터 선택된 하나 이상인 것인 방법.
  21. 다수의 용도에 있어, 요구압에서 이산화탄소 생성물 스트림을 하나 이상의 처리 도구로 공급하는 시스템으로서,
    (a) 정제된 이산화탄소 공급물 또는 비정제된 이산화탄소 공급물로부터 선택된 이산화탄소 공급물을 보유하는 대량 저장 용기를 포함하며, 용기 내의 이산화탄소 공급물의 압력이 이산화탄소의 임계 압력 미만 및 요구압 미만인 제1 압력인 이산화탄소 공급원; 및
    (b) (i) 요구압과 같거나 더 높은 제2 압력에서 정제된 이산화탄소 생성물 스트림을 제공하기 위해 이산화탄소의 적어도 일부분의 압력을 증가시키는 압력 상승 장치를 포함하는 하나 이상의 처리 도구 및 이산화탄소 공급원과 유체 연통하는 이산화탄소 수송 시스템;
    (ii) 요구압에서 정제된 이산화탄소 생성물 스트림을 수용하고 정제된 이산화탄소 생성물 스트림의 적어도 일부분을 사용된 이산화탄소 스트림으로 전환하는 하나 이상의 처리 도구; 및
    (iii) 이산화탄소 수송 시스템 및 하나 이상의 처리 도구와 직접 유체 연통하며, 하나 이상의 처리 도구로 수송하기에 앞서 사용된 이산화탄소 스트림의 적어도 일부분을 정제된 이산화탄소 생성물 스트림으로 전환하는 용도 특이적 정제 시스템
    을 포함하는 다수의 용도
    를 포함하는 시스템.
  22. 제21항에 있어서, 이산화탄소 공급원 및 다수의 용도의 이산화탄소 수송 시스템과 유체 연통하며, 다수의 용도의 이산화탄소 수송 시스템으로 수송하기에 앞서 비정제된 이산화탄소 공급물의 적어도 일부분을 정제된 이산화탄소 공급물로 전환하는 1차 정제 시스템을 더 포함하는 시스템.
  23. 제22항에 있어서, 1차 정제 시스템은 흡착층, 여과층, 촉매 산화기, 증발기, 증류 컬럼, 상 분리기, 액화 수단, 원심분리기, 흡수층, 고체 오염물질 정화기, 유체 오염물질 정화기, 및 이들의 조합으로부터 선택된 하나 이상의 정화기를 보유하는 것인 시스템.
  24. 제21항에 있어서, 용도 특이적 정제 시스템은 흡착층, 여과층, 촉매 산화기, 증발기, 증류 컬럼, 상 분리기, 액화 수단, 원심분리기, 흡수층, 고체 오염물질 정화기, 유체 오염물질 정화기, 및 이들의 조합으로부터 선택된 하나 이상의 정화기를 보유하는 것인 시스템.
  25. 제21항에 있어서, 제2 압력에서의 이산화탄소 생성물 스트림은 초임계 유체인 것인 시스템.
  26. 제21항에 있어서, 정제된 이산화탄소 생성물 스트림은 액체인 것인 시스템.
  27. 제21항에 있어서, 대량 저장 용기는 정제된 이산화탄소 공급물을 함유하는 것인 시스템.
  28. 제21항에 있어서, 이산화탄소 수송 시스템은 제2 압력에서 정제된 이산화탄소 공급물의 적어도 일부분을 저장하는 고압 저장 용기를 더 포함하는 것인 시스템.
  29. 제28항에 있어서, 압력 상승 장치는 제2 압력에서 이산화탄소 공급물의 적어도 일부분을 고압 저장 용기로 수송하는 것인 시스템.
  30. 제21항에 있어서, 이산화탄소 수송 시스템은 제1 압력에서 정제된 이산화탄소 공급물의 적어도 일부분을 저장하는 저압 저장 용기를 더 포함하는 것인 시스템.
  31. 제21항에 있어서, 압력 상승 장치에는 기계적 펌프가 없고, 제2 압력에서 이산화탄소 생성물 스트림을 제공하는 것인 시스템.
  32. 제21항에 있어서, 사용된 이산화탄소 스트림을 배출하는 것인 시스템.
  33. 다수의 용도에 있어, 요구압에서 이산화탄소 생성물 스트림을 하나 이상의 처리 도구로 공급하는 시스템으로서,
    (a) (ⅰ) 비정제된 이산화탄소 공급물을 보유하며, 용기 내의 비정제된 이산화탄소 공급물의 압력이 이산화탄소의 임계 압력 미만 및 요구압 미만인 제1 압력인 대량 저장 용기;
    (ⅱ) 경우에 따라, 용기 내의 이산화탄소 공급물을 약 -23℃∼약 30℃ 범위의 하나 이상의 온도에서 유지하는 온도 조절 시스템; 및
    (ⅲ) 경우에 따라 증발기
    를 포함하는 이산화탄소 공급원;
    (b) 이산화탄소 공급원 및 이산화탄소 수송 시스템과 유체 연통하며, 이산화탄소 수송 시스템으로 수송하기에 앞서 비정제된 이산화탄소 공급물의 적어도 일부분을 정제된 이산화탄소 공급물로 전환하는 1차 정제 시스템;
    (c) 이산화탄소 공급원 및
    (ⅰ) 경우에 따라, 제1 압력에서 정제된 이산화탄소 공급물의 적어도 일부분을 저장하는 저압 저장 용기; 및
    (ⅱ) 요구압 이상인 제2 압력에 있는, 정제된 이산화탄소 생성물 스트림 또는 부분 정제된 이산화탄소 생성물 스트림으로부터 선택된 하나 이상을 제공하기 위해 정제된 이산화탄소 공급물의 적어도 일부분의 압력을 증가시키는 압력 상승 장치
    를 포함하는 하나 이상의 처리 도구와 유체 연통하는 이산화탄소 수송 시스템;
    요구압에서 정제된 이산화탄소 생성물 스트림을 수용하고 정제된 이산화탄소 생성물 스트림의 적어도 일부분을 사용된 이산화탄소 스트림으로 전환하는 하나 이상의 처리 도구; 및
    이산화탄소 수송 시스템 및 하나 이상의 처리 도구와 직접 유체 연통하며, 하나 이상의 처리 도구로 수송하기에 앞서 사용된 이산화탄소 스트림의 적어도 일부분을 정제된 이산화탄소 생성물 스트림으로 전환하는 용도 특이적 정제 시스템
    을 포함하는 다수의 용도
    를 포함하는 시스템.
KR1020050004567A 2004-01-19 2005-01-18 고순도 및 초고순도 이산화탄소의 공급 및 수송을 위한시스템 KR100671858B1 (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US10/760,771 US7076969B2 (en) 2004-01-19 2004-01-19 System for supply and delivery of high purity and ultrahigh purity carbon dioxide
US10/760,771 2004-01-19

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20050076647A KR20050076647A (ko) 2005-07-26
KR100671858B1 true KR100671858B1 (ko) 2007-01-22

Family

ID=34750065

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020050004567A KR100671858B1 (ko) 2004-01-19 2005-01-18 고순도 및 초고순도 이산화탄소의 공급 및 수송을 위한시스템

Country Status (3)

Country Link
US (1) US7076969B2 (ko)
KR (1) KR100671858B1 (ko)
TW (1) TWI274737B (ko)

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102007029434A1 (de) * 2007-06-26 2009-01-02 Linde Ag Verfahren zur Entsorgung von Kohlendioxid
WO2009029749A1 (en) * 2007-08-30 2009-03-05 Linde, Inc. Methods for producing sterile cryogenic fluids
DE102009031309A1 (de) 2009-06-30 2011-01-05 Ksb Aktiengesellschaft Verfahren zur Förderung von Fluiden mit Kreiselpumpen
WO2014178058A1 (en) 2013-05-01 2014-11-06 Fertilesafe Ltd Devices and methods for producing liquid air
CN105129961A (zh) * 2015-09-17 2015-12-09 上海大学 微波加热强化近临界水氧化处理含铬有机废水的方法
CN110665253B (zh) * 2019-11-04 2021-04-06 三益创价生物科技(深圳)有限公司 一种高效多功能scf装置及一贯作业式多功能scf装置
KR102444842B1 (ko) * 2020-07-29 2022-09-21 디아이지에어가스 주식회사 초고순도 전자급 이산화탄소 생산 장치

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2551399A (en) 1945-12-03 1951-05-01 Silverberg Abe Process for the purification of carbon dioxide
GB1021453A (en) 1962-11-29 1966-03-02 Petrocarbon Dev Ltd Purification of carbon dioxide
GB8505689D0 (en) * 1985-03-05 1985-04-03 Atkins & Partners W S Liquefaction of carbon dioxide
WO1990009233A1 (en) * 1989-02-16 1990-08-23 Pawliszyn Janusz B Apparatus and method for delivering supercritical fluid
US5377705A (en) 1993-09-16 1995-01-03 Autoclave Engineers, Inc. Precision cleaning system
EP0791093B1 (en) 1994-11-09 2001-04-11 R.R. STREET & CO., INC. Method and system for rejuvenating pressurized fluid solvents used in cleaning substrates
US5908510A (en) 1996-10-16 1999-06-01 International Business Machines Corporation Residue removal by supercritical fluids
US6237872B1 (en) * 1997-02-14 2001-05-29 Reuven Bar-Levav Aircraft cabin environment
US5894742A (en) 1997-09-16 1999-04-20 L'air Liquide, Societe Anonyme Pour L'etude Et, L'exploitation Des Procedes Georges Claude Methods and systems for delivering an ultra-pure gas to a point of use
US6023933A (en) 1997-11-04 2000-02-15 Air Products And Chemicals, Inc. Ultra high pressure gases
US6612317B2 (en) * 2000-04-18 2003-09-02 S.C. Fluids, Inc Supercritical fluid delivery and recovery system for semiconductor wafer processing
US6327872B1 (en) * 2000-01-05 2001-12-11 The Boc Group, Inc. Method and apparatus for producing a pressurized high purity liquid carbon dioxide stream
JP2002327895A (ja) 2001-05-01 2002-11-15 Sumitomo Electric Ind Ltd 液体二酸化炭素の貯蔵方法及び貯蔵容器
JP2005506694A (ja) 2001-10-17 2005-03-03 プラクスエア・テクノロジー・インコーポレイテッド 中央二酸化炭素精製器
US6688115B1 (en) * 2003-01-28 2004-02-10 Air Products And Chemicals, Inc. High-pressure delivery system for ultra high purity liquid carbon dioxide
US7069742B2 (en) * 2004-01-19 2006-07-04 Air Products And Chemicals, Inc. High-pressure delivery system for ultra high purity liquid carbon dioxide

Also Published As

Publication number Publication date
US7076969B2 (en) 2006-07-18
US20050155378A1 (en) 2005-07-21
TW200530124A (en) 2005-09-16
TWI274737B (en) 2007-03-01
KR20050076647A (ko) 2005-07-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100605335B1 (ko) 상이한 순도 요건의 이산화탄소를 공급 및 전달하기 위한시스템
KR100671858B1 (ko) 고순도 및 초고순도 이산화탄소의 공급 및 수송을 위한시스템
US10370276B2 (en) Near-zero-release treatment system and method for high concentrated organic wastewater
JP2922791B2 (ja) 液化ガスを使用した安価な洗浄装置
US6090217A (en) Surface treatment of semiconductor substrates
KR20050037420A (ko) 중앙 이산화탄소 정제기
US6805801B1 (en) Method and apparatus to remove additives and contaminants from a supercritical processing solution
KR101369934B1 (ko) 저온 정화기를 사용하는 유체 정화 시스템
US9887079B2 (en) Supply apparatus and supply method for supplying fluid carbon dioxide
JP3273118B2 (ja) 高圧処理装置
JP2000028264A (ja) 気相生成物を使用地点に配送するシステムおよび方法
WO2004030037A2 (en) System for in-situ generation of fluorine radicals and/or fluorine-containing interhalogen (xfn) compounds for use in cleaning semiconductor processing chambers
JP5150757B2 (ja) 二酸化炭素の回収法
TWI230774B (en) Generation and delivery system for high pressure ultra high purity product
US20050006310A1 (en) Purification and recovery of fluids in processing applications
TWI539991B (zh) 現場超高純度化學品或氣體的純化
JP2012212908A (ja) ポリマー材料を前処理するための方法及び装置
JPH11506411A (ja) 電子部品製造の場合の使用現場でのアンモニアの精製
US20060000358A1 (en) Purification and delivery of high-pressure fluids in processing applications
JP2008182034A (ja) 基体処理方法及び基体処理装置
JP3409905B2 (ja) ハロゲン系有機化合物の分解装置

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
LAPS Lapse due to unpaid annual fee