KR100605335B1 - 상이한 순도 요건의 이산화탄소를 공급 및 전달하기 위한시스템 - Google Patents

상이한 순도 요건의 이산화탄소를 공급 및 전달하기 위한시스템 Download PDF

Info

Publication number
KR100605335B1
KR100605335B1 KR1020050003669A KR20050003669A KR100605335B1 KR 100605335 B1 KR100605335 B1 KR 100605335B1 KR 1020050003669 A KR1020050003669 A KR 1020050003669A KR 20050003669 A KR20050003669 A KR 20050003669A KR 100605335 B1 KR100605335 B1 KR 100605335B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
carbon dioxide
pressure
feed
purified
product stream
Prior art date
Application number
KR1020050003669A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20050076620A (ko
Inventor
게쉬타인블라디미르일라이
마티올라폴안쏘니
Original Assignee
에어 프로덕츠 앤드 케미칼스, 인코오포레이티드
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 에어 프로덕츠 앤드 케미칼스, 인코오포레이티드 filed Critical 에어 프로덕츠 앤드 케미칼스, 인코오포레이티드
Publication of KR20050076620A publication Critical patent/KR20050076620A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100605335B1 publication Critical patent/KR100605335B1/ko

Links

Images

Classifications

    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F17—STORING OR DISTRIBUTING GASES OR LIQUIDS
    • F17D—PIPE-LINE SYSTEMS; PIPE-LINES
    • F17D1/00—Pipe-line systems
    • F17D1/02—Pipe-line systems for gases or vapours
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F25—REFRIGERATION OR COOLING; COMBINED HEATING AND REFRIGERATION SYSTEMS; HEAT PUMP SYSTEMS; MANUFACTURE OR STORAGE OF ICE; LIQUEFACTION SOLIDIFICATION OF GASES
    • F25J—LIQUEFACTION, SOLIDIFICATION OR SEPARATION OF GASES OR GASEOUS OR LIQUEFIED GASEOUS MIXTURES BY PRESSURE AND COLD TREATMENT OR BY BRINGING THEM INTO THE SUPERCRITICAL STATE
    • F25J3/00—Processes or apparatus for separating the constituents of gaseous or liquefied gaseous mixtures involving the use of liquefaction or solidification
    • F25J3/08—Separating gaseous impurities from gases or gaseous mixtures or from liquefied gases or liquefied gaseous mixtures
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D11/00—Solvent extraction
    • B01D11/02—Solvent extraction of solids
    • B01D11/0203—Solvent extraction of solids with a supercritical fluid
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B32/00—Carbon; Compounds thereof
    • C01B32/50—Carbon dioxide
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F17—STORING OR DISTRIBUTING GASES OR LIQUIDS
    • F17D—PIPE-LINE SYSTEMS; PIPE-LINES
    • F17D1/00—Pipe-line systems
    • F17D1/02—Pipe-line systems for gases or vapours
    • F17D1/065—Arrangements for producing propulsion of gases or vapours
    • F17D1/07—Arrangements for producing propulsion of gases or vapours by compression
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F17—STORING OR DISTRIBUTING GASES OR LIQUIDS
    • F17D—PIPE-LINE SYSTEMS; PIPE-LINES
    • F17D1/00—Pipe-line systems
    • F17D1/08—Pipe-line systems for liquids or viscous products
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F25—REFRIGERATION OR COOLING; COMBINED HEATING AND REFRIGERATION SYSTEMS; HEAT PUMP SYSTEMS; MANUFACTURE OR STORAGE OF ICE; LIQUEFACTION SOLIDIFICATION OF GASES
    • F25J—LIQUEFACTION, SOLIDIFICATION OR SEPARATION OF GASES OR GASEOUS OR LIQUEFIED GASEOUS MIXTURES BY PRESSURE AND COLD TREATMENT OR BY BRINGING THEM INTO THE SUPERCRITICAL STATE
    • F25J2205/00—Processes or apparatus using other separation and/or other processing means
    • F25J2205/84—Processes or apparatus using other separation and/or other processing means using filter
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F25—REFRIGERATION OR COOLING; COMBINED HEATING AND REFRIGERATION SYSTEMS; HEAT PUMP SYSTEMS; MANUFACTURE OR STORAGE OF ICE; LIQUEFACTION SOLIDIFICATION OF GASES
    • F25J—LIQUEFACTION, SOLIDIFICATION OR SEPARATION OF GASES OR GASEOUS OR LIQUEFIED GASEOUS MIXTURES BY PRESSURE AND COLD TREATMENT OR BY BRINGING THEM INTO THE SUPERCRITICAL STATE
    • F25J2215/00—Processes characterised by the type or other details of the product stream
    • F25J2215/80—Carbon dioxide
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F25—REFRIGERATION OR COOLING; COMBINED HEATING AND REFRIGERATION SYSTEMS; HEAT PUMP SYSTEMS; MANUFACTURE OR STORAGE OF ICE; LIQUEFACTION SOLIDIFICATION OF GASES
    • F25J—LIQUEFACTION, SOLIDIFICATION OR SEPARATION OF GASES OR GASEOUS OR LIQUEFIED GASEOUS MIXTURES BY PRESSURE AND COLD TREATMENT OR BY BRINGING THEM INTO THE SUPERCRITICAL STATE
    • F25J2260/00—Coupling of processes or apparatus to other units; Integrated schemes
    • F25J2260/80—Integration in an installation using carbon dioxide, e.g. for EOR, sequestration, refrigeration etc.
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F25—REFRIGERATION OR COOLING; COMBINED HEATING AND REFRIGERATION SYSTEMS; HEAT PUMP SYSTEMS; MANUFACTURE OR STORAGE OF ICE; LIQUEFACTION SOLIDIFICATION OF GASES
    • F25J—LIQUEFACTION, SOLIDIFICATION OR SEPARATION OF GASES OR GASEOUS OR LIQUEFIED GASEOUS MIXTURES BY PRESSURE AND COLD TREATMENT OR BY BRINGING THEM INTO THE SUPERCRITICAL STATE
    • F25J2290/00—Other details not covered by groups F25J2200/00 - F25J2280/00
    • F25J2290/42—Modularity, pre-fabrication of modules, assembling and erection, horizontal layout, i.e. plot plan, and vertical arrangement of parts of the cryogenic unit, e.g. of the cold box
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F25—REFRIGERATION OR COOLING; COMBINED HEATING AND REFRIGERATION SYSTEMS; HEAT PUMP SYSTEMS; MANUFACTURE OR STORAGE OF ICE; LIQUEFACTION SOLIDIFICATION OF GASES
    • F25J—LIQUEFACTION, SOLIDIFICATION OR SEPARATION OF GASES OR GASEOUS OR LIQUEFIED GASEOUS MIXTURES BY PRESSURE AND COLD TREATMENT OR BY BRINGING THEM INTO THE SUPERCRITICAL STATE
    • F25J2290/00—Other details not covered by groups F25J2200/00 - F25J2280/00
    • F25J2290/50—Arrangement of multiple equipments fulfilling the same process step in parallel
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S62/00—Refrigeration
    • Y10S62/928—Recovery of carbon dioxide

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Water Supply & Treatment (AREA)
  • Combustion & Propulsion (AREA)
  • Carbon And Carbon Compounds (AREA)
  • Separation By Low-Temperature Treatments (AREA)

Abstract

본 발명은 다양한 압력, 순도 또는 기타 공정 매개변수에서 제조 설비 내의 다수의 응용 시스템내의 하나 이상의 처리 도구로 이산화탄소 생성물 스트림을 대규모로 공급 및 전달하기 위한 시스템 및 이를 포함하는 방법에 관한 것이다. 한 구체예에서, 상기 시스템은 이산화탄소 공급원, 저압 전달 및 분배 시스템을 가진 이산화탄소 전달 시스템 및 하나 이상의 처리 도구를 함유하는 다수의 응용 시스템으로 구성된다.

Description

상이한 순도 요건의 이산화탄소를 공급 및 전달하기 위한 시스템{SYSTEM FOR SUPPLY AND DELIVERY OF CARBON DIOXIDE WITH DIFFERENT PURITY REQUIREMENTS}
도 1은 다수의 POU 시스템을 보유하는 본 발명의 시스템의 한 구체예를 도시한다.
도 2는 이산화탄소 공급원, 중앙 정제 시스템, 중앙 저압 전달 시스템, 저압 분배 시스템 및 본 발명의 시스템의 한 구체예를 위한 다수의 응용 시스템중 하나를 예시한다.
도 3은 예시적인 응용 시스템의 한 예를 나타낸다.
고압 이산화탄소 유체, 예를 들어 액체 CO2, 기체 CO2, 또는 초임계 CO2(예를 들어, 31℃ 및 1,071 파운드/제곱인치 게이지(psig))는 다양한 산업 공정에 필요하다. 특정 예에서, 기체 이산화탄소, 액화 이산화탄소 또는 초임계 이산화탄소는 세정 용액 또는 처리 용액으로서 현재 사용되는 유기 용매 또는 수계 처리 용액을 위한 대체물로서 확인될 수 있다.
전자 산업의 다수의 세정 또는 처리 분야는 높은 유속 및 높은 압력에서 이산화탄소 유체의 사용이 요구되고 있다. 고압 이산화탄소를 얻기 위한 방법중 한가지 방법은 필요한 압력으로 액체 이산화탄소를 펌핑하는 것이다. 그러나, 높은 압력으로 이산화탄소를 펌핑하는 것은 미립자, 탄화수소, 할로카본 등의 오염물질로 유체 스트림을 오염시킬 수 있다.
특정 산업, 예를 들어 반도체 제조 산업은 고순도 또는 초고순도(UHP) 레벨, 즉 오염물 농도가 저 ppm(parts for million) 또는 저 ppb(parts for billion)로 처리 도구 또는 사용점(POU)에 전달된 고압 이산화탄소 유체를 필요로한다. 소량의 오염물질은 반도체 전자 부품의 제조에서 마이크로칩 조립 공정에 유해한 영향을 끼친다. 미립자, 필름 또는 분자 형태의 오염물질은 쇼트 회로 결함, 개방 회로 결함 및 규소 결정 스태킹 결함과 같은 여러가지 결함을 유발할 수 있다. 이들 결함은 완성된 부품, 예를 들어 집적 회로의 고장을 유발할 수 있으며, 이러한 고장은 심각한 수율 감소를 초래하며 결과적으로 제조 비용이 증가하게 된다. 이로인해, 세정은 집적 회로의 제조에서 가장 빈번하게 반복되는 단계이다. 0.18-마이크로미터 디자인 규칙에서, 집적 회로의 제조에서 약 400회의 총 처리 단계중 80회의 처리 단계는 전형적으로 세정 단계이다. 전형적으로 기판은 모든 오염 처리 단계 후 및 각각의 고온 조작 전에 세정하여 집적 회로의 품질을 보장한다.
일반적으로, 반도체 분야는 일정 범위의 오염물질을 발생시킬 수 있다. 오염물질은 다수의 공급원, 예를 들어 리쏘그래피, 에칭, 스트립핑 및 화학적 기계적 평면화(CMP)와 같은 제조 공정 단계로부터 유래한 잔류물; 제조 공정 고유의 미립 자 또는 제조 공정에서 기인한 미립자; 무기 미립자 또는 물질, 예를 들어 천연 또는 화학적 산화물, 금속-함유 화합물; 및 펌프, 압축기와 같은 제조 장비 또는 다른 공급원으로부터 도입된 오염물질로부터 이산화탄소 유체에 도입될 수 있다. 이들 오염물질은 이산화탄소의 증기압 보다 높거나 낮은 증기압을 보유할 수 있다. 증기압이 더 높은 오염물질은 예를 들어 플루오르, 저분자량 플루오르화 탄화수소, 또는 질소 및 산소와 같은 대기중의 기체일 수 있다. 특정 오염물질, 예를 들어 포토레지스트 잔류물은 이산화탄소 유체로부터 제거하기 어려운데, 그 이유는 이들은 비휘발성이기 때문이다.
UHP 이산화탄소 유체의 현재 시장 수요는 실린더 공급을 이용하여 충족되며, 이는 반도체 제조사를 위한 개발 활동이 제한됨을 의미한다. 그러나, 반도체 제조사들은 수계 처리 용액의 대체물로서 UHP 이산화탄소의 사용을 증가시키고 있기 때문에, 더 큰 규모 또는 대형 CO2 공급 시스템이 필요할 것이다. 식품 제조와 같은 다른 산업에서 CO2를 전달하고 저장하기 위해 사용되는 전형적인 대형 CO2 공급 시스템은 약 300 psia의 압력 및 약 -15℉ 내지 2℉ 또는 -26℃내지 -17℃ 범위의 온도에서 작동된다. 또한, 이들 산업은 필요적으로 고순도 또는 초고순도(UHP) 생성물을 필요로하지 않는다. 대조적으로, 반도체 산업은 포토레지스트 제거, 증착, 리쏘그래피 등의 상당히 높은 압력에서 이루어지는 공정에서 사용된 처리 도구 또는 POU에 전달된 UHP CO2를 필요로 한다. 이들 처리 도구에서 필요한 생성물 압력은 2,000 psig 내지 10,000 psig 범위에서 변화될 수 있다. 압력 요구조건은 분야의 특이성, 도구 디자인, 공정 철학 등과 같은 다수의 요인에 의존한다.
반도체 산업은 대형 공급원으로부터 처리 도구로 UHP CO2를 처리할 온사이트 시스템의 개발이라는 중요한 기술적인 도전에 직면해 있다. 이들 도전중 몇몇은 높은 압력에서 고용량으로 UHP CO2의 저장; UHP CO2 처리 시스템을 따라 순도 유지; 긴 파이프라인을 경유하는 액체 생성물 전달; 및 900 psig 이상의 압력에서 POU로 액체 생성물 전달을 포함하나, 이로 제한되는 것은 아니다.
본 발명에서는 제조 설비에서 다양한 압력, 순도 또는 기타 공정 매개변수에서 다수의 응용 시스템에서 하나 이상의 처리 도구에 이산화탄소 생성물 스트림을 대량으로 공급하고 전달하는 시스템을 개시한다. 본원에 사용한 용어 "필요한 압력"은 사용자의 작동 압력 또는 특별한 조작을 위해 필요한 압력을 의미한다. 본원에 사용한 용어 "탄소 생성물 스트림"은 80% 이상, 90% 이상 또는 95% 이상의 이산화탄소를 함유하는 유체 스트림을 의미한다.
본 발명의 한 관점에서, 하나 이상의 필요한 압력을 보유하는 다수의 응용 시스템에 정제된 이산화탄소 생성물 스트림을 공급하는 시스템이 제공되는데, 이 시스템은
(a) 정제된 이산화탄소 공급물, 미정제된 이산화탄소 공급물 또는 부분 정제된 이산화탄소 공급물로부터 선택된 이산화탄소 공급물을 보유하는 대형 저장 용기 를 포함하는 이산화탄소 공급원;
(b) 상기 이산화탄소 공급원 및 상기 응용 시스템과 유체 연통하는 이산화탄소 전달 시스템으로서, 이산화탄소 전달 시스템내 이산화탄소 공급물의 압력은 이산화탄소의 임계 압력 이하 및 필요한 압력 이하인 제1 압력인 이산화탄소 전달 시스템; 및
(c) (i) 필요한 압력에서 상기 정제된 이산화탄소 생성물 스트림을 수용하여 상기 정제된 이산화탄소 생성물 스트림의 적어도 일부분을 소비된 이산화탄소 스트림으로 전환시키는 하나 이상의 처리 도구;
(ii) 이산화탄소 공급물의 적어도 일부분의 압력을 필요한 압력과 동일하거나 그 이상인 제2 압력으로 증가시키는 압력 상승 장치; 및
(iii) 상기 하나 이상의 처리 도구 및 상기 이산화탄소 전달 시스템과 유체 연통하는 제2 정제 시스템으로서, 상기 제2 정제 시스템은 소비된 이산화탄소 스트림, 부분 정제된 이산화탄소 공급물 및 미정제된 이산화탄소 공급물로부터 선택된 하나 이상을 정제하여 정제된 이산화탄소 생성물 스트림을 제공하는 것인 제2 정제 시스템
을 포함하는 응용 시스템
을 포함한다.
본 발명의 다른 관점에서, 필요한 압력에서 다수의 응용 시스템으로 정제된 이산화탄소 생성물 스트림을 공급하는 시스템이 제공되는데, 이 시스템은
(a) (i) 미정제된 이산화탄소 공급물을 보유하는 대형 저장 용기로서, 상기 용기내의 미정제 이산화탄소 공급물의 압력은 이산화탄소의 임계 압력 이하 및 필요한 압력 이하인 제1 압력인 대형 저장 용기;
(ii) 필요에 따라, 약 -23℃ 내지 약 30℃ 범위중 하나 이상의 온도에서 상기 용기내의 이산화탄소 공급물을 유지하는 온도 조절 시스템; 및
(iii) 필요에 따라, 증발기
를 포함하는 이산화탄소 공급원;
(b) 이산화탄소 공급원과 이산화탄소 전달 시스템과 유체 연통하는 제1 정제 시스템으로서, 상기 제1 정제 시스템은 이산화탄소 전달 시스템에 전달하기 이전에 미정제된 이산화탄소 공급물의 적어도 일부분을 정제된 이산화탄소 공급물로 전화시키고, 상기 정제된 이산화탄소 공급물은 최소 순도 레벨인 것인 제1 정제 시스템;
(c) 필요에 따라, 제1 압력에서 정제된 이산화탄소 공급물의 적어도 일부분을 저장하는 임의의 저압 저장 용기;
(d) (i) 필요한 압력에서 상기 정제된 이산화탄소 생성물 스트림을 수용하여 상기 정제된 이산화탄소 생성물 스트림의 적어도 일부분을 소비된 이산화탄소 스트림으로 전환시키는 하나 이상의 처리 도구;
(ii) 이산화탄소 공급물의 적어도 일부분의 압력을 필요한 압력과 동일하거나 그 이상인 제2 압력으로 증가시키는 압력 상승 장치; 및
(iii) 상기 하나 이상의 처리 도구 및 상기 이산화탄소 전달 시스템과 유체 연통하는 제2 정제 시스템으로서, 상기 제2 정제 시스템은 소비된 이산화탄소 스트 림, 부분 정제된 이산화탄소 공급물 및 미정제된 이산화탄소 공급물로부터 선택된 하나 이상을 정제하여 정제된 이산화탄소 생성물 스트림을 제공하는 것인 제2 정제 시스템
을 포함하는 응용 시스템
을 포함한다.
본 발명의 추가의 관점에서, 필요한 압력에서 다수의 응용 시스템에 정제된 이산화탄소 생성물 스트림을 전달하는 방법이 제공되는데, 각각의 응용 시스템은 하나 이상의 처리 도구 및 용기를 보유하는 압력 상승 장치를 포함하며, 상기 방법은
- 내부에 함유된 정제된 이산환탄소 공급물을 보유하는 대형 저장 용기를 제공하는 단계로서, 상기 정제된 이산화탄소 공급물은 이산화탄소의 임계 압력 이하 및 필요한 압력 이하인 제1 압력에서 존재하며, 이산화탄소의 온도는 약 -23℃ 내지 약 30℃ 범위중 하나 이상의 온도인 대형 저장 용기의 제공 단계;
- 제1 압력에서 응용 시스템에 정제된 이산화탄소 공급물의 적어도 일부분을 전달하는 단계;
- 상기 용기 내에 함유된 정제된 이산화탄소 공급물의 적어도 일부분을 고체상 이산화탄소로 전환시키는 단계;
- 필요한 압력 또는 그 이상의 압력인 제2 압력에 다다를 때까지 상기 고체상 이산화탄소의 적어도 일부분을 정제된 이산화탄소 생성물 스트림으로 전환시키는 단계;
- 상기 용기 내에 제2 압력을 유지시키는 단계; 및
- 필요한 압력에서 하나 이상의 처리 도구에 정제된 이산화탄소 생성물 스트림을 전달하는 단계로서, 하나 이상의 처리 도구는 정제된 이산화탄소 생성물 스트림의 적어도 일부분을 소비된 이산화탄소 스트림으로 전환시키는 것인 단계
를 포함한다.
본 발명의 전술한 목적 및 기타 목적과 구체예의 특징은 첨부 도면으로부터 예시되는 바와 같이 특정 구체예의 더 상세한 설명을 통해 명백할 것이다. 도면에서는 유사한 도면 부호는 상이한 도면 전체를 통해 동일한 부분을 의미한다. 도면은 비교할 필요는 없다.
본 발명에서는 제조 설비 내의 다수의 응용 시스템(applications) A1, A2 내지 An에 고순도 또는 초고순도(UHP) 이산화탄소 생성물 스트림을 대량으로 공급하고 전달하는 시스템 및 이를 포함하는 방법이 개시된다. 전형적인 제조 설비, 예를 들어 반도체 제조 설비에서, 물품은 정제된 이산화탄소 생성물 스트림, 특히 예를 들어 용매계 또는 수계 처리 용액 또는 세정 용액을 이용하여 내부에 함유된 하나 이상의 처리 도그를 보유하는 하나 이상의 응용 시스템 내에서 처리될 수 있다. 상기 응용 시스템은 동일한 처리 단계에서 유래하는 다수의 처리 도구를 함유하거나, 또는 대안으로 상이한 처리 단계이나, 동일한 공정 매개변수중 하나 이상을 필요로하는 다수의 처리 도구를 함유할 수 있으나, 이로 제한되는 것은 아니다. 각각의 응용 시스템은 이산화탄소 생성물 스트림을 위한 상이한 공정 매개변수, 예를 들어 상이한 응용 시스템을 위한 순도 수준, 유속, 물리적인 상태, 압력 및 온도를 필요로할 수 있다.
본원에 사용한 용어 "처리된(processed)" 또는 "처리(하는)((processing)"는 물품과 정제된 이산화탄소 생성물 스트림을 접촉시켜 물품에 물리적인 변화 및/또는 화학적인 변화를 초래하는 것을 의미한다. 상기 용어 "처리(하는)"는 예를 들어 필름 스트립핑, 세정, 건조, 에칭, 평면화, 증착, 추출, 포토레지스트 현상, 현탁된 나노입자 및 나노결정의 형성 등을 포함할 수 있다. 본원에 사용한 용어 "물품(article)"은 정제된 이산화탄소 생성물 스트림과 접촉할 수 있는 제조사의 임의의 제품을 의미한다. 대표적인 물품의 예로는 비화규소 또는 비화갈륨 웨이퍼; 레티클; 포토마스크; 편평한 패널 디스플레이; 처리 챔버의 내부 표면; 민감성 웨이퍼 처리 시스템 성분; 전기-광학, 레이저 및 우주선 하드웨어; 표면 마이크로-기계가공 시스템; 및 기타 조립중 오염이 문제되는 물품을 들 수 있으나, 이로 제한되는 것은 아니다.
본 발명의 시스템의 한 구체예의 실예는 도 1 및 도2에 나타냈다. 이 시스템(10)에서, 이산화탄소 공급물은 각각 응용 시스템(1), 응용 시스템(2) 및 응용 시스템(N)에 상응하는 응용 시스템(60), 응용 시스템(70) 및 응용 시스템(80)과 같은 하나 이상의 응용 시스템에 전달된다. 상기 시스템(10)내 응용 시스템의 수는 제조 설비의 요구 조건에 따라 달라질 것이다. 이산화탄소 공급물은 80% 이상, 90% 이상 또는 95% 이상의 이산화탄소를 함유한다. 이산화탄소 공급원(20) 내의 이산화탄소 공급물은 정제된 공급물일 수도 있고, 정제되지 않은 공급물일 수도 있다. 정제된 공급물의 경우, 이산화탄소 공급물은 적어도 부분 정제된 이산화탄소 공급물을 제공하기 위한 최소 순도 수준으로서 본원에 언급한 시스템(10)내 하나 이상의 처리 도구가 필요로하는 최소 순도 수준으로 중앙 정제 시스템(30) 내에서 정제될 수 있다. 예를 들어, 시스템(10) 내의 처리 도구(61), 처리 도구(71) 및 처리 도구(81)는 각각 개별적으로 1000 ppm, 10 ppm 또는 10 ppb의 순도 수준을 보유하는 이산화탄소 생성물 스트림을 필요로하는 경우, 최소 순도 수준은 1000 ppm이 될 것이다. 대안적인 구체예에서, 이산화탄소 공급물은 최소 순도 수준에서 이산화탄소 공급원(20)으로 전달된다. 이들 구체예에서, 제1 정제 시스템(30)은 임의적일 수 있다.
도 1 및 도2에 있어서, 시스템(10)은 한 위치로 전달된 대량 CO2의 저장을 위해 사용된 이산화탄소 공급원(20)을 보유한다. 도 2에 있어서, 이산화탄소 공급원(20)은 임의의 온도 조절 시스템(22)이 장착된 하나 이상의 대형 저장 용기(21)를 포함한다. 대형 저장 용기(21)는 많은 양, 예를 들어 700 파운드 내지 2650 리터 이상의 이산화탄소 공급물을 함유할 수 있다. 다른 구체예에서, 대형 저장 용기(21)는 예를 들어, 액체 이산화탄소 탱크, 철도 탱크 카 또는 트럭 트레일러일 수 있다. 대형 저장 용기(21)는 가압 용기가 바람직하다. 대형 저장 용기(21)는 임의의 온도 조절 시스템(22)을 보유하여 이산화탄소 공급물을 특정 온도로 유지할 수 있다. 대형 저장 용기(21) 내부의 이산화탄소 공급물의 온도는 가변적이나, 바람직하게는 -15℉ 내지 86℉(-26℃ 내지 30℃), 또는 -10℉ 내지 10℉(-23℃ 내지 -12℃) 범위 내에서 유지하는 것이 바람직하다. 온도는 용기의 충분한 단열 또는 대형 저장 용기(21)내에 장착되거나 주변에 위치하는 냉장/가열 시스템(도시하지 않음)에 의해 유지된다. 또한, 대형 저장 용기(21)는 압력 조절 밸브, 가열기, 냉각기, 열교환기 또는 가변적일수 있으나 일반적으로 필요한 압력 이하, 또는 1,071 psig 또는 300 내지 950 psig 범위 내인 제1 압력에서 정제된 이산화탄소 공급물의 압력을 유지하는 기타 수단이 구비되어 있다. 또한, 이산화탄소 공급원(20)은 최종 사용자의 요구에 부응할 수 있는 기타 부재, 예를 들어 공급 파이프, 압력 조절 밸브, 안전 밸브 등(이로 제한되는 것은 아님)을 포함할 수 있다. 이들 부재는 예를 들어, 온도, 유속, 압력, 물리적인 상태, 또는 이산화탄소 공급물의 다른 특성을 변화시키기 위해 사용할 수 있다. 또한, 이산화탄소 공급원(20)은 가스 전달이 필요한 경우 및/또는 추가 정제 시스템이 필요한 경우 증발기(도시하지 않음)를 포함할 수 있다. 대안적인 구체예에서, 하나 이상의 증발기는 제1 및/또는 제2 정제 시스템 내로 통합될 수 있다.
제1 정제 시스템(30)은, 이산화탄소 공급원(20)으로부터 유래한 이산화탄소 공급물이 정제되지 않은 이산화탄소 공급물이거나, 또는 하나 이상의 처리 도구의 최소 순도 수준을 충족시키지 못하는 경우에 사용할 수 있다. 도 1은 중앙 이산화탄소 전달 시스템(30)으로의 전달 이전에 정제되지 않은 이산화탄소 공급물을 처리하기 위해 사용된 제1 정제 시스템(30)을 도시한다. 제1 정제 시스템(30)내의 정제 장치는 특정 오염물을 제거하기 위해 병렬로 정렬되거나 또는 상이한 레벨의 정제를 제공하기 위해 직렬로 정렬될 수 있다. 도 1에 나타낸 구체예에서, 제1 정제 시스템(30)은 도시된 바와 같이 하나의 중앙 위치에 위치할 수 있다. 그러나, 다른 구체예에서, 제1 정제 시스템(30) 내의 특정 부재는 분산 배치될 수 있다.
정제 시스템(30)은 하나 이상의 정제 장치 또는 정제기를 함유할 수 있다. 예시적인 정제 장치의 예로는 흡착 베드, 상 변화 장치, 여과 베드, 접촉 산화기, 증발기, 증류 컬럼, 상 분리기, 액화 수단, 원심분리기 또는 응축기를 들 수 있으나, 이로 제한되는 것은 아니다. 이들 정제 장치는 단독으로 사용할 수도 있도 병용할 수도 있다. 증발기는 액체 이산화탄소 공급물, 생성물 또는 부분 정제된 공급물 또는 생성물로부터 증기로서 상대적으로 더 높은 휘발성 오염물질을 단단 제거 또는 다단 제거하기 위해 사용할 수 있다. 응축기는 증기 이산화탄소 주입 공급물, 생성물 또는 부분 정제된 공급물 또는 생성물로부터 상대적으로 더 낮은 휘발성의 오염물질을 단단 제거 또는 다단 제거하기 위해 사용할 수 있다. 흡착 베드는 이산화탄소 공급물, 생성물 또는 부분 정제된 공급물 또는 생성물로부터 오염물질의 선택적인 흡착, 또는 대안적으로 이산화탄소 공급물, 생성물 또는 부분 정제된 공급물 또는 생성물의 선택적인 흡착 및 후속 탈착에 의해 특정 오염물질을 제거하는 데 사용할 수 있다. 흡수 베드는 주입 스트림으로부터 오염물질의 선택적인 흡수, 또는 대안적으로 이산화탄소 공급물, 생성물 또는 부분 정제된 공급물 또는 생성물의 선택적인 흡수 또는 후속 분리에 의해 오염물질을 제거하는 데 사용할 수 있다. 또한, 오염물질의 제거는 온도 조절, 반응성 종, 촉매 물질 또는 이의 조합의 이용을 수반하는 수단에 의해 이산화탄소 공급물, 생성물 또는 부분 정제된 공급물 또는 생성물로부터 유래한 오염물질의 반응성 전환에 의해 수행할 수 있다. 또한, 오염물질의 제거는 오염물질을 온도 조절, 반응성 종, 촉매 물질 또는 이의 조합의 이용을 수반하는 수단 및 본원에 기재한 정제 장치중 임의의 정제 장치의 이용에 의한 화학 성분의 후속 제거에 의한 이산화탄소 생성물로부터 더 용이하게 분리되는 다른 화학 성분으로 제거하는 반응성 전환에 의해 수행할 수 있다. 본원에서 "고체 오염물질 정제기(solid contaminants purifier)"라 칭하는 기계적인 수단에 의한 액상 또는 기상 이산화탄소 공급물, 생성물 또는 부분 정제된 공급물 또는 생성물로부터 고체상 오염물질의 제거는 여과, 결정화, 중력 분리, 원심 분리 또는 익스프레션 또는 이의 조합을 포함하나, 이로 제한되는 것은 아니다. 본원에서 "유체 오염물질 정제기"로 언급한, 기계적인 수단에 의한 고체상 이산화탄소 공급물, 생성물 또는 부분 정제된 공급물 또는 생성물로부터 증기상 또는 액상 오염물질의 제거는 여과 또는 중력 분리, 원심 분리 또는 익스프레션 또는 이의 조합을 포함하나, 이로 제한되는 것은 아니다.
또한, 시스템(10)은 하나 이상의 제2 정제 시스템 또는 응용 시스템-전용 정제 시스템, 예를 들어 도 1에 나타낸 제2 정제 시스템(62, 72 및 82)을 사용할 수 있다. 제2 정제 시스템(62, 72 및 82)은 단독으로 사용할 수도 있고, 제1 정제 시스템(30)과 병용할 수도 있다. 이들 구체예에서, 제1 정제 시스템(30)은 시스템(10) 내의 하나 이상의 처리 도구에 의해 요구되는 최소 순도 수준(또는 시스템(10) 내의 모든 응용 시스템의 최저 순도 수준)으로 이산화탄소 공급물을 정제하는 반면, 제2 정제 시스템은 특정 응용 시스템에서 요구되는 순도 수준으로 이산화탄소 공급물을 정제한다.
제2 정제 시스템(62, 72 및 82) 각각은 내부에 함유된 하나 이상의 처리 도 구를 보유하는 특정 응용 시스템을 지원한다. 제1 정제 시스템(30)과 같이, 제2 정제 시스템(62, 72 및 82)은 하나 이상의 정제 장치를 함유할 수 있다. 적합한 정제 장치의 예로는 흡수 베드, 상 변화 장치, 여과 베드, 접촉 산화기, 증발기, 증류 컬럼, 상 분리기, 액화 수단, 원심분리기 등을 들 수 있으나, 이로 제한되는 것은 아니다. 이들 정제 장치는 단독으로 사용할 수도 있고 병용할 수도 있다. 정제 장치는 예를 들어 각각의 POU 시스템 또는 응용 시스템 내에서 수행된 공정으로부터 유래한 특정 오염물질의 제거를 수행하기 위해 병렬로 정렬될 수도 있고, 대안적으로 단계별 정제에서와 같은 상이한 수준의 정제를 제공하기 위해 직렬로 정렬될 수도 있다. 일반적으로, 제2 정제 시스템(62, 72 및 82)은 제1 정제 시스템(30)에 비해 더 적은 용량의 주입물, 즉 소비된 이산화탄소 스트림 또는 부분 정제된 이산화탄소 공급물 또는 생성물을 수용한다. 이산화탄소 공급물의 최소 순도 수준이 공정 요구 조건을 충족시키기에 충분한 응용 시스템에서, 제2 정제 시스템은 단지 소비된 이산화탄소 스트림만을 처리할 수 있다.
도 1에 있어서, 저압 이산화탄소 전달 시스템(40)은 이산화탄소 공급원(20) 및 임의의 중앙 정제 시스템(30)으로부터 정제된 이산화탄소 공급물을 저압 전달 시스템(40) 및 저압 분배 시스템(50)으로 전달하기 위해 필요한 모든 수단을 제공한다. 도 1에 있어서, 전달 시스템(40)은 중앙 정제 시스템(30)으로부터 최저 순도 수준의 이산화탄소 공급물을 취하여 이를 저압 분배 시스템(50)에 전달한다. 이어서, 저압 분배 시스템(50)은 이산화탄소 공급물을 응용 시스템 1 내지 N과 같은 다수의 응용 시스템; 응용 시스템-전용 압력 상승 장치(63, 73 및 83), 제2 정제 시 스템(62, 72 및 82), 소비된 이산화탄소 스트림 수집 시스템(64, 74 및 84) 및 전용 저압 저장 용기(65, 75 또는 85)로 전달한다. 전용 압력 상승 장치(63, 73 및 83)는 정제된 이산화탄소 생성물 스트림을 각각의 응용 시스템을 위해 필요한 압력, 온도, 물리적 상태, 유속 또는 기타 공정 매개변수에서 각각 하나 이상의 처리 도구(61, 71 및 81)로 전달한다.
도 2에 있어서, 이산화탄소 전달 시스템(40)은 임의의 필터 스키드(41), 하나 이상의 저압 저장 용기(42), 압력 상승 장치(44)와 유체 연통된 임의의 보조 냉각기(43), 임의의 압력 상승 장치(44) 및 하나 이상의 임의의 고압 저장 용기(45)를 포함할 수 있다. 또한, 전달 시스템(40)은 펌프, 충전기, 냉각기, 열교환기, 증발기, 생성물 분류 라인, 압력 용기 등을 포함할 수 있으나, 이로 제한되는 것은 아니다. 특정 구체예에서, 다수의 저압 및 고압 저장 용기(42 및 45)를 이용하여 정제된 또는 부분 정제된 이산화탄소 공급물을 저압 분배 시스템(50)에 비단속적으로 공급할 수 있다. 전달 시스템(40)은 예를 들어, 압력 상승 장치(44)가 이동 부품, 예를 들어 펌프, 압축기, 밸브를 포함하는 경우, 사용되는 필터 스키드(41)를 포함할 수 있다. 또한, 전달 시스템(40)은 압력 상승 장치(44)와 저압 분배 시스템(50) 사이에서 액체의 증기로의 의도하지 않은 부분 전환과 같은 경우 CO2 플래시를 최소화하기 사용할 수 있는 보조 냉각기(43)를 포함할 수 있다.
임의의 저압 저장 용기(42)는 임의의 압력 상승 장치(44)의 상류에 위치하며, 바람직하게는 1070 psig 이하의 하나 이상의 압력에서 정제된 이산화탄소 공급 물을 함유하는 것이 바람직하다. 또한, 임의의 저압 저장 용기(42)는 특정된 CO2 순도를 보존하도록 디자인된다. 이러한 관점에서, 임의의 저압 저장 용기(42)는 전달 시스템(40) 상류의 흐름 변화를 위한 추가의 특별한 고려없이 및 공급 압력의 유해한 변화 없이 저압 분배 시스템(50)으로 비단속적으로 공급하기 위해 정제된 또는 부분 정제된 이산화탄소 공급물의 충분한 재고를 함유한다.
도 2에 있어서, 임의의 고압 저장 용기(45)는 임의의 압력 상승 장치(44)의 하류에 위치하며, 응용 시스템(60, 70 또는 80)의 필요한 압력 이하 또는 제1 압력에서 이산화탄소의 임계점 압력 이하의 압력중 하나 이상의 압력의 이산화탄소 공급물을 함유하는 것이 바람직하다. 또한, 임의의 고압 저장 용기(45)는 특정된 CO2 순도를 보존하도록 디자인된다. 임의의 고압 저장 용기(45)는 저압 전달 시스템(40) 상류의 흐름 변화를 위한 추가의 특별한 고려없이 및 공급 압력의 유해한 변화 없이 저압 분배 시스템(50)으로 비단속적 공급을 제공하기 위해 정제된 또는 부분 정제된 이산화탄소 공급물의 충분한 재고를 함유한다. 고압 저장 용기(45)는 추가의 수송 수단, 예를 들어 펌프, 압축기 등을 사용하지 않고 저압 분배 시스템(50)에 이산화탄소 생성물을 공급하기 위해 사용된다. 특정 구체예에서, 정제된 또는 부분 정제된 이산화탄소 공급물의 압력은 필요한 압력 보다 더 높은 압력일 수 있다. 이들 구체예에서, 고압 저장 용기(45)와 저압 분배 시스템(50) 사이의 압력 차이를 이용하여 정제된 또는 부분 정제된 이산화탄소 공급물을 저압 분배 시스템(50)에 수송할 수 있다.
도 1에 있어서, 저압 분배 시스템(50)은 제2 압력에서 정제된 또는 부분 정제된 이산화탄소 공급물을 응용 시스템(60, 70 또는 80)으로 전달한다. 저압 분배 시스템(50)은 제2 압력에서 정제된 또는 부분 정제된 이산화탄소 공급물을 제2 정제 시스템에 전달하는데, 이때 이산화탄소 공급물은 하나 이상의 처리 도구(61, 71 및 81)에 의해 필요한 수준으로 정제된다. 특정 응용 시스템을 위해 필요한 순도가 최저 순도 수준인 구체예에서, 제2 정제 시스템 내에서의 정제는 임의적이다. 정제된 이산화탄소 공급물은 전용 저압 저장 용기(65, 75 또는 85)에 전달된다.
임의의 압력 상승 장치(44)와 유사하게, 전용 압력 상승 장치(63, 73 및 83)는 제2 압력으로부터 필요한 압력과 동일하거나 그 이상인 제3 압력으로 정제된 이산화탄소 공급물 압력을 증가시키기 위해 사용한다. 압력 상승 장치(63, 73 및 83)는 단일 펌프, 다수의 펌프, 압축기 등으로 구성될 수 있다. 대안적인 구체예에서, 압력 상승 장치(34)는 2003년 1월 28일 출원된 미국 특허 출원 10/351,188 및 2004년 1월 9일 출원된 미국 특허 출원 10/753,315(본 발명의 양수인에게 양도되었으면, 본원에 전적으로 참고 인용한 것임)에 개시된 정제된 이산화탄소 공급물을 가압하기 위한 장치와 같은 무펌프 시스템을 이용할 수 있다. 이들 구체예에서, 입자 쉐딩(shedding)에 기인한 생성물 오염에 기여할 수 있는 회전 부품 또는 진동 부품은 존재하지 않는다. 따라서, 여과 및 다른 정제 수단은 부분적으로 또는 완전히 생략될 수 있다. 또한, 무펌프 시스템은 충분한 생성물 재고를 포함함으로써 각각의 응용 시스템내의 추가의 저압 및 고압 저장 용기에 대한 요구를 일소한다.
하나 이상의 처리 도구는 그의 처리중 사용을 위해 필요한 압력에서 제어된 이산화탄소 생성물 스트림을 수용하며, 정제된 이산화탄소 생성물 스트림으로 처리한 후, 소비된 이산화탄소 스트림을 생성한다. 소비된 이산화탄소 스트림은 수행된 공정 단계에 따라 다양한 오염물질을 함유할 수 있다. 소비된 이산화탄소 스트림내에 함유된 오염물질의 유형은 가변적이나, 예를 들어 H2O, O2, COS, CO, H2S와 같은 용해된 기체; 노출된 포토레지스트 재료, 포토레지스트 잔류물, UV-선 또는 X-선 경화된 포토레지스트, C-F-함유 중합체, 저분자량 및 고분자량 중합체 및 기타 유기 에칭 잔류물과 같은 유기 화합물; 금속 산화물, CMP 슬러리로부터 유래한 세라믹 입자 및 기타 무기 에칭 잔류물과 같은 무기 화합물; 이온 및 중성, 경질 및 중질 무기 (금속) 종, 수분 및 예를 들어, 평면화 및 스퍼터 에칭 공정에 의해 생성된 입자를 포함하는 불용성 물질을 포함할 수 있다.
도 1에 도시한 시스템과 같은 구체예에서, 응용 시스템(60, 70 또는 80)은 소비된 이산화탄소 수집 시스템(64, 74 및 84)을 추가로 포함한다. 수집 장치(64, 74 및 84)는 하나 이상의 처리 도구(61, 71 및 81)로부터 유래하는 소비된 이산화탄소 스트림을 처리하고, 이를 환경친화적인 방식으로 대기중으로 방출하거나, 대안적으로 상이한 응용 시스템 또는 다른 산업에서 차후 재사용을 위해 저장 용기로 전달할 수 있는데, 이때 처리된 스트림의 순도가 고순도 또는 UHP 레벨일 필요는 없다. 도 1에 도시한 바와 같은 특정 구체예에서, 소비된 이산화탄소 스트림은 하나 이상의 정제 시스템, 예를 들어 제2 정제 시스템(62, 72 및 82) 내에서 이를 정제함으로써 재순환하여 하나 이상의 처리 도구(61, 71 및 81)에서 재사용하기 이전 에 정제된 이산화탄소 생성물 스트림을 제공할 수 있다.
정제된 이산화탄소 생성물 스트림은 예를 들어, 고압 액체 또는 초임계 유체와 같은 상이한 각종 유체 상태로 하나 이상의 처리 도구(61, 71 또는 81)에 전달될 수 있다. 특정 구체예에서, 정제된 이산화탄소 생성물 스트림은 액체로서 하나 이상의 처리 도구(61, 71 또는 81)에 전달될 수 있다. 이들 구체예에서, 액체 생성물 스트림은 CO2 임계 압력 이상의 압력 및 CO2 임계 온도 이하의 온도를 보유할 수 있다. 액체 전달 시스템은 필요에 따라 전달된 액체 이산화탄소 생성물을 초임계 이산화탄소 생성물로 전환시키기 위한 열원과 같은 에너지원을 포함할 수 있다. 특정 구체예에서, 열원은 하나 이상의 처리 도구(61, 71 또는 81)의 통합 부품일 수 있다. 대안적인 구체예에서, 정제된 이산화탄소 생성물 스트림은 초임계 유체로서 하나 이상의 처리 도구(61, 71 또는 81)에 전달될 수 있다. 이들 구체예에서, 하나 이상의 에너지원은 하나 이상의 처리 도구(61, 71 또는 81)의 부분이라기 보다는 전용 압력 상승 장치(63, 71 및 83) 내로 통합될 수 있다. 이산화탄소 생성물이 그의 초임계 상태로 존재하는 경우, 전용 압력 상승 장치(63, 73 및 83)와 하나 이상의 처리 도구(61, 71 또는 81) 사이의 거리는 상대적으로 짧은 것이 바람직하다. 이 목적을 위해, 하나 이상의 에너지원은 한개 또는 한 묶음의 처리 도구를 지원할 수 있으며, 처리 도구(들) 위치 근처의 특정 공정을 위한 특정 POU 시스템 상에 위치할 수 있다.
정제된 이산화탄소 스트림은 하나 이상의 처리 도구(61, 71 또는 81)에 전달 하기 이전에 하나 이상의 처리제와 추가로 합할 수 있다. 처리제(processing agent)는 물품의 화학적 및/또는 물리적 변화를 촉진하거나 또는 동일물을 포함하는 정제된 이산화탄소 생성물 스트림과 접촉하는 화합물 또는 그런 화합물들의 혼합물로 정의된다. 특정 예에서, 이는 오염된 물품으로부터 오염물질을 제거하기 위한 정제된 이산화탄소 생성물 스트림의 세정 능력을 증강시킬 수 있다. 또한, 상기 처리제는 정제된 이산화탄소 생성물 스트림내의 오염물질을 가용화 및/또는 분산시킬 수 있다. 이들 처리제의 예로는 필름 스트립퍼, 세정제 또는 건조제, 계면활성제, 킬레이팅제, 에칭 시약 또는 평면화 시약과 같은 엔트레이너, 포토레지스트 현상제 및 증착 물질 또는 반응제를 들 수 있다.
도 3은 본 발명의 응용 시스템(100)의 특정 구체예를 도시하는데, 전용 압력 상승 장치(135)는 무펌프 시스템을 포함한다. 작동시, 초기 전달 매개변수에서 이산화탄소를 함유하는 액체 공급물, 예를 들어 300 psig 및 -5℉(약 -20℃)에서의 액체 이산화탄소는 저압 분배 시스템에 의해 이산화탄소 공급원(도시하지 않음)으로부터 유지 용기(102)로 전달된다. 기체 또는 액체 공급물은 예를 들어 중앙 정제 시스템(도시하지 않음) 내에서 정제에 의해 정제된 이산화탄소 공급물을 제공한다. 이어서, 정제된 이산화탄소 공급물은 밸브(106a, 106b 또는 106c)를 통해 각각 용기(108a, 108b 또는 108c)로 통과하는 라인(104) 수단에 의해 용기(102)로부터 제거된다. 용기(108a, 108b 또는 108c)는 고체상 이산화탄소 공급물 또는 슬러시의 생성을 위해 사용된다. 본원에 사용한 용어 "슬러시(slush)"는 이산화탄소의 고체상, 액체상 및 증기상, 바람직하게는 고체상 및 액체상을 함유할 수 있는 하나 이 상의 성분의 다상 혼합물을 의미한다. 이산화탄소 공급물은 이들 용기, 예를 들어 용기(108a, 108b 또는 108c) 내에서 각각 임의의 냉각기(110a, 110b 또는 110c)의 도움으로 적어도 부분적으로 고화된다.
냉각기의 기능은 용기(108a, 108b 또는 108c) 내의 이산화탄소의 온도를 이산화탄소의 고화 온도 또는 그 이하의 온도로 단순히 낮추는 것이다. 탄소 공급물이 액체 형태로 공급되는 대안적인 구체예에서, 냉각기(110a, 110b 또는 110c)는 필요하지 않을 수 있고, 상기 압력이 주입되는 공급물 스트림의 압력 이하인 압력으로 감소됨으로 인한 공급물 스트림의 돌발 팽창은 용기(108a, 108b 또는 108c) 내에서 고체 상 공급원 또는 슬러시 형성을 위해 고체-증기 또는 액체-증기를 형성하기 위해 사용될 수 있다. 고체 이산화탄소가 형성되기 때문에, 탱크(102)로부터 유래하는 추가의 이산화탄소 공급물은 용기가 실질적으로 또는 바람직하게는 완전히 고체 이산화탄소로 충전되거나, 또는 바람직하게는 이산화탄소의 고체-액체 혼합물, 즉 슬러시로 충전될 때까지 각각의 용기(108a, 108b 또는 108c)에 첨가된다. 그 때, 용기(108a, 108b 또는 108c)는 적절한 밸브(106a, 106b 또는 106c)를 폐쇄함으로써 탱크(102)와 분리시킨다.
고체상 원료 이산화탄소의 유체 생성물로의 전환 및 이의 가압을 수행하기 위해, 상기 장치는 예를 들어 가열기(112a, 112b 또는 112c)와 같은 하나 이상의 에너지원을 포함할 수 있다. 이들 가열기는 각각의 용기(108a, 108b 또는 108c)에 부착되거나 내부에 장착되어 있으며, 고체 형태의 이산화탄소를 가열 및 용융시키기 위해 활성화된다. 다른 구체예에서, 예를 들어 방사선, 마이크로파, 초음파, 레 이져 또는 다른 소스와 같은 열원(즉, 가열기) 이외에 또는 이에 부가하여 하나 이상의 에너지원은 고체상 공급원의 적어도 일부분을 유체 생성물로 전환시키기 위해 사용할 수 있다. 고체 이산화탄소의 유체 생성물로의 전환은 등적 조건(isochoric condition) 조건, 즉 가열된 용기의 부피가 일정하게 유지되는 조건 하에서 일어날 수 있다. 예를 들어, 고체 또는 슬러시 이산화탄소 유체 생성물과 같은 고밀도 물질의 등적 가열은 생성된 이산화탄소 유체 생성물의 압력을 공정 내에서 요구되는 임의의 압력으로 증가시키고, 예를 들어 액체 이산화탄소와 같은 유체 생성물과 같은 더 낮은 밀도의 물질을 필요한 압력에서 하나 이상의 처리 도구로 전달하기 위한 메카니즘을 제공한다. 이 압력 증가는 평균 슬러시 온도 또는 용기내 이산화탄소의 내부 온도의 실질적인 변화를 초래하지 않고 얻을 수 있다. 좁은 온도 범위에서의 조작은 하나 이상의 에너지원의 효율적인 사용을 가능하게 한다.
유체 생성물은 라인(114a, 114b 또는 114c)을 경유하여 각각 압력 조절 밸브(116a, 116b 또는 116c)를 통해 용기(108a, 108b 또는 108c)로부터 배출될 수 있다. 압력 조절 밸브(116a, 116b 또는 116c)는 용기(108a, 108b 또는 108c) 내에서 조절된 압력을 유지한다. 조절된 압력은 일정한 압력 또는 고정된 압력일 수 있거나, 또는 예를 들어 슬러시를 생성하기 위해 가변적일 수도 있다. 유체 생성물은 라인(120)을 경유하여 각각 라인(118a, 118b 및 118c)에 의해 수송되어 임의의 서지 탱크(122)로 수송될 수 있다. 유체 생성물은 라인(126)을 경유하여 특정 목적을 가진 하나 이상의 처리 도구(124)로 전될 되거나/되고 필요한 압력, 예를 들어 300 내지 10,000 psig 및 임계 온도 이하의 전달 온도, 즉 이산화탄소의 경우 구별되는 증기상 및 액체상이 공존할 수 있는 최대 온도, 예를 들어 CO2의 임계 온도 이하인 77℉(또는 25℃) 또는 87.9℉(31.1℃)에서 임의의 서지 탱크(122)로부터 전달될 수 있다.
고체 이산화탄소의 밀도는 액체 상태의 이산화탄소의 밀도 보다 약 1.5배 더 크기 때문에, 상당한 부피의 이산화탄소는 임의의 미리선택한 압력에서 용기(108a, 108b 또는 108c)로부터 제거할 수 있다. 액체 이산화탄소 생성물은 각각의 용기(108a, 108b 또는 108c) 내의 고체 이산화탄소의 용융 속도와 일반적으로 동일한 속도로 각각의 용기로부터 제거될 수 있다. 이러한 관점에서, 각각의 용기로부터 액체 이산화탄소 생성물의 제거는 고체 이산화탄소의 액체 이산화탄소로의 전환시 형성된 액체 이산화탄소로 즉시 대체될 수 있다. 액체 이산화탄소의 형성 속도와 실질적으로 동일한 속도에서 액체 이산화탄소의 배출을 수행하므로써, 용기(108a, 108b 또는 108c) 내의 압력은 필요한 압력 또는 그 이상의 압력인 요망 압력으로 유지될 수 있다. 상기 공정으로부터 액체 이산화탄소의 배출은, 고체상 이산화탄소가 실질적으로 또는 완전히 액체로 전환되는 경우, 종결된다.
대안적인 구체예에서, 삼상 슬러시, 즉 고체, 액체 및 증기의 혼합물이 용기(108a, 108b 또는 108c) 내에 존재할 수 있다. 내부에 함유된 증기상의 존재는 그의 압축가능성으로 인해 상대적으로 높은 압력에 도달하기까지 더 많은 시간과 에너지가 소요될 수 있다. 더 높은 압력에서, 증기상은 남지않을 수 있는데, 그 이유는 증기상은 액체 상으로 응축될 수 있기 때문이다. 세개의 유닛 시스템에서 도시 한 바와 같이, 몇몇 루프는 임의의 고압 저장 용기(122)에서 정제된 이산화탄소 생성물 스트림의 연속적인 흐름을 제공하기 위해 사용할 수 있다. 전형적으로 각각의 루프는 이웃하는 루프에 대한 시간 내에서 이동된 사이클로 작동될 것이다.
또한, 도 3은 도시한 용기(108a, 108b 또는 108c) 내에 함유된 유출물 증기의 제거, 정제 및 재순환을 위한 재순환 흐름 네트웍을 포함한다. 용기(108a, 108b 또는 108c)는 각각 라인(128a, 128b 또는 128c)과 유체 연통되어 있다. 라인(128a, 128b 및 128c)은 밸브(130a, 130b 및 130c)를 추가로 포함한다. 그러나, 다른 구체예에서, 유출물 증기는 예를 들어 압력 조절 밸브(116a, 116b 및 116c)를 통해 배출될 수 있다. 도 3에 도시한 구체예에서, 밸브(108a, 108b 및 108c)로부터 유래한 유출물 증기는 재순환되고, 밸브(106a, 106b 및 106c)를 통해 용기(108a, 108b 또는 108c)로 재순환된다. 이 구체예에서, 라인(128a, 128b 및 128c) 또는 재순환 흐름 네트웍은 또한 하나 이상의 정제 장치(132a, 132b 및 132c), 예를 들어 여과기, 증류기, 흡착 베드, 스크러버, 또는 본원에 개시한 장치와 같은 유출물 증기로부터 오염물질을 제거하기 위해 적합한 다른 장치(이로 제한되는 것은 아님)를 포함할 수 있다. 그러나, 다른 구체예에서, 유출물 증기는 재순환되기 보다는 용기(108a, 108b 또는 108c)로부터 배출될 수 있다.
이산화탄소 공급물과 생성물 스트림과 접촉하는 시스템내에 함유된 모든 장비는 고순도 및 UHP 생성물 요구조건을 만족시키는 것이 바람직하다. 이러한 관점에서, 수분과 접촉하는 모든 부품은 이산화탄소 공급물 또는 생성물 스트림과 반응하지 않아야 하며 입자, 금속, 대기중 기체 등과 같은 여러가지 형태의 임의의 오 염물질을 도입하지 않아야 한다. 또한, 상기 시스템내의 여러가지 부재는 최대 디자인 압력, 예를 들어 10,000 psig를 견딜 수 있도록 선택된다.
이상 특정 구체예를 통해 본원을 기술하였지만, 후술하는 특허청구의 범위에 의해 정해지는 발명의 범위를 벗어나지 않는 한도 내에서 이루어지는 변형 실시는 본 발명의 범위내에 포함되는 것으로 당업자는 용이하게 이해할 수 있을 것이다.
본 발명에 따라 다양한 압력, 순도 또는 기타 공정 매개변수에서 제조 설비 내의 다수의 용도로 사용되는 하나 이상의 처리 도구로 이산화탄소 생성물 스트림을 대규모로 공급 및 전달할 수 있는 시스템 및 이를 포함하는 방법이 제공된다.

Claims (19)

  1. 하나 이상의 필요한 압력을 보유하는 다수의 응용 시스템에 정제된 이산화탄소 생성물 스트림을 공급하는 시스템으로서,
    (a) 정제된 이산화탄소 공급물, 미정제된 이산화탄소 공급물 또는 부분 정제된 이산화탄소 공급물로부터 선택된 이산화탄소 공급물을 보유하는 대형 저장 용기를 포함하는 이산화탄소 공급원;
    (b) 상기 이산화탄소 공급원 및 상기 응용 시스템과 유체 연통하는 이산화탄소 전달 시스템으로서, 이산화탄소 전달 시스템내 이산화탄소 공급물의 압력은 이산화탄소의 임계 압력 이하 및 필요한 압력 이하인 제1 압력인 이산화탄소 전달 시스템; 및
    (c) (i) 필요한 압력에서 상기 정제된 이산화탄소 생성물 스트림을 수용하여 상기 정제된 이산화탄소 생성물 스트림의 적어도 일부분을 소비된 이산화탄소 스트림으로 전환시키는 하나 이상의 처리 도구;
    (ii) 이산화탄소 공급물의 적어도 일부분의 압력을 필요한 압력과 동일하거나 그 이상인 제2 압력으로 증가시키는 압력 상승 장치; 및
    (iii) 상기 하나 이상의 처리 도구 및 상기 이산화탄소 전달 시스템과 유체 연통하는 제2 정제 시스템으로서, 상기 제2 정제 시스템은 소비된 이산화탄소 스트림, 부분 정제된 이산화탄소 공급물 및 미정제된 이산화탄소 공급물로부터 선택된 하나 이상을 정제하여 정제된 이산화탄소 생성물 스트림을 제공하는 것인 제2 정제 시스템
    을 포함하는 응용 시스템
    을 포함하는 정제된 이산화탄소 생성물 스트림을 공급하는 시스템.
  2. 제1항에 있어서, 이산화탄소 공급원 및 이산화탄소 전달 시스템과 유체 연통하는 제1 정제 시스템을 더 포함하는 것인 시스템.
  3. 제2항에 있어서, 상기 제1 정제 시스템은 흡착 베드, 여과 베드, 접촉 산화기, 증발기, 증류 컬럼, 상 분리기, 액화 수단, 원심분리기, 흡수 베드 및 이의 조합으로부터 선택되는 하나 이상의 정제기를 보유하는 것인 시스템.
  4. 제1항에 있어서, 상기 제2 정제 시스템은 흡착 베드, 여과 베드, 접촉 산화기, 증발기, 증류 컬럼, 상 분리기, 액화 수단, 원심분리기, 흡수 베드 및 이의 조합으로부터 선택되는 하나 이상의 정제기를 보유하는 것인 시스템.
  5. 제4항에 있어서, 상기 압력 상승 장치는 부분 정제된 이산화탄소 생성물 스트림을 제공하고, 상기 부분 정제된 이산화탄소 생성물 스트림은 상기 제2 정제 시스템을 통과하여 정제된 이산화탄소 공급물을 제공하는 것인 시스템.
  6. 제1항에 있어서, 상기 정제된 이산화탄소 생성물 스트림은 초임계 유체인 시 스템.
  7. 제1항에 있어서, 상기 정제된 이산화탄소 생성물 스트림은 액체인 시스템.
  8. 제1항에 있어서, 상기 대형 저장 용기는 정제된 이산화탄소 공급물을 함유하는 것인 시스템.
  9. 제1항에 있어서, 상기 응용 시스템은 제2 압력에서 정제된 이산화탄소 공급물의 적어도 일부분을 저장하는 고압 저장 용기를 더 포함하는 것인 시스템.
  10. 제9항에 있어서, 상기 압력 상승 장치는 제2 압력에서 정제된 이산화탄소 공급물의 적어도 일부분을 고압 저장 용기에 전달하는 것인 시스템.
  11. 제9항에 있어서, 상기 응용 시스템은 제1 압력에서 정제된 이산화탄소 공급물의 적어도 일부분을 저장하는 저압 저장 용기를 더 포함하는 것인 시스템.
  12. 제1항에 있어서, 상기 압력 상승 장치는 펌프를 보유하지 않고, 제2 압력에서 정제된 이산화탄소 생성물 스트림을 제공하는 것인 방법.
  13. 제1항에 있어서, 상기 소비된 이산화탄소 스트림은 배출되는 것인 시스템.
  14. 필요한 압력에서 다수의 응용 시스템으로 정제된 이산화탄소 생성물 스트림을 공급하는 시스템으로서,
    (a) (i) 미정제된 이산화탄소 공급물을 보유하는 대형 저장 용기로서, 상기 용기내의 미정제 이산화탄소 공급물의 압력은 이산화탄소의 임계 압력 이하 및 필요한 압력 이하인 제1 압력인 대형 저장 용기;
    (ii) 필요에 따라, 약 -23℃ 내지 약 30℃ 범위중 하나 이상의 온도에서 상기 용기내의 이산화탄소 공급물의 온도를 유지하는 온도 조절 시스템; 및
    (iii) 필요에 따라, 증발기
    를 포함하는 이산화탄소 공급원;
    (b) 이산화탄소 공급원 및 이산화탄소 전달 시스템과 유체 연통하는 제1 정제 시스템으로서, 상기 제1 정제 시스템은 이산화탄소 전달 시스템에 전달하기 이전에 미정제된 이산화탄소 공급물의 적어도 일부분을 정제된 이산화탄소 공급물로 전환시키고, 상기 정제된 이산화탄소 공급물은 최소 순도 레벨인 것인 제1 정제 시스템;
    (c) 필요에 따라, 제1 압력에서 정제된 이산화탄소 공급물의 적어도 일부분을 저장하는 임의의 저압 저장 용기;
    (d) (i) 필요한 압력에서 상기 정제된 이산화탄소 생성물 스트림을 수용하여 상기 정제된 이산화탄소 생성물 스트림의 적어도 일부분을 소비된 이산화탄소 스트림으로 전환시키는 하나 이상의 처리 도구;
    (ii) 이산화탄소 공급물의 적어도 일부분의 압력을 필요한 압력과 동일하거나 그 이상인 제2 압력으로 증가시키는 압력 상승 장치; 및
    (iii) 상기 하나 이상의 처리 도구 및 상기 이산화탄소 전달 시스템과 유체 연통하는 제2 정제 시스템으로서, 상기 제2 정제 시스템은 소비된 이산화탄소 스트림, 부분 정제된 이산화탄소 공급물 및 미정제된 이산화탄소 공급물로부터 선택된 하나 이상을 정제하여 정제된 이산화탄소 생성물 스트림을 제공하는 것인 제2 정제 시스템
    을 포함하는 응용 시스템
    을 포함하는, 정제된 이산화탄소 생성물 스트림을 공급하는 시스템.
  15. 필요한 압력에서 다수의 응용 시스템에 정제된 이산화탄소 생성물 스트림을 전달하는 방법으로서, 각각의 응용 시스템은 하나 이상의 처리 도구 및 용기를 보유하는 압력 상승 장치를 포함하며, 상기 방법은
    - 내부에 함유된 정제된 이산환탄소 공급물을 보유하는 대형 저장 용기를 제공하는 단계로서, 상기 정제된 이산화탄소 공급물은 이산화탄소의 임계 압력 이하 및 필요한 압력 이하인 제1 압력에서 존재하며, 이산화탄소의 온도는 약 -23℃ 내지 약 30℃ 범위중 하나 이상의 온도인 대형 저장 용기의 제공 단계;
    - 제1 압력에서 응용 시스템에 정제된 이산화탄소 공급물의 적어도 일부분을 전달하는 단계;
    - 상기 용기 내에 함유된 정제된 이산화탄소 공급물의 적어도 일부분을 고체 상 이산화탄소로 전환시키는 단계;
    - 필요한 압력 또는 그 이상의 압력인 제2 압력에 다다를 때까지 상기 고체상 이산화탄소의 적어도 일부분을 정제된 이산화탄소 생성물 스트림으로 전환시키는 단계;
    - 상기 용기 내에 제2 압력을 유지시키는 단계; 및
    - 필요한 압력에서 하나 이상의 처리 도구에 정제된 이산화탄소 생성물 스트림을 전달하는 단계로서, 하나 이상의 처리 도구는 정제된 이산화탄소 생성물 스트림의 적어도 일부분을 소비된 이산화탄소 스트림으로 전환시키는 것인 단계
    를 포함하는 것인 정제된 이산화탄소 생성물 스트림의 전달 방법.
  16. 제15항에 있어서, 상기 제1 전환 단계는 정제된 이산화탄소 공급물의 압력을 이산화탄소의 삼중점 압력 이하로 감소시키는 단계를 포함하는 것인 방법.
  17. 제15항에 있어서, 상기 제1 전환 단계는 용기 내에 함유된 정제된 이산화탄소 공급물의 온도를 감소시키는 단계를 포함하는 것인 방법.
  18. 제15항에 있어서, 상기 제2 전환 단계는 고체상 이산화탄소에 에너지원을 인가하는 단계를 포함하는 것인 방법.
  19. 제18항에 있어서, 에너지원은 열, 마이크로파, 방사선, 초음파, 음파, 레이 저 및 이의 조합으로 구성되는 군으로부터 선택한 하나 이상인 방법.
KR1020050003669A 2004-01-19 2005-01-14 상이한 순도 요건의 이산화탄소를 공급 및 전달하기 위한시스템 KR100605335B1 (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US10/760,788 2004-01-19
US10/760,788 US7076970B2 (en) 2004-01-19 2004-01-19 System for supply and delivery of carbon dioxide with different purity requirements

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20050076620A KR20050076620A (ko) 2005-07-26
KR100605335B1 true KR100605335B1 (ko) 2006-07-31

Family

ID=34750071

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020050003669A KR100605335B1 (ko) 2004-01-19 2005-01-14 상이한 순도 요건의 이산화탄소를 공급 및 전달하기 위한시스템

Country Status (3)

Country Link
US (1) US7076970B2 (ko)
KR (1) KR100605335B1 (ko)
TW (1) TWI271383B (ko)

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2884305A1 (fr) * 2005-04-08 2006-10-13 Air Liquide Procede de recuperation et liquefaction du co2 contenu dans un gaz pauvre en co2
US8088196B2 (en) * 2007-01-23 2012-01-03 Air Products And Chemicals, Inc. Purification of carbon dioxide
US7850763B2 (en) * 2007-01-23 2010-12-14 Air Products And Chemicals, Inc. Purification of carbon dioxide
US7819951B2 (en) * 2007-01-23 2010-10-26 Air Products And Chemicals, Inc. Purification of carbon dioxide
US8874382B2 (en) 2009-05-01 2014-10-28 Schlumberger Technology Corporation Methods and systems for optimizing carbon dioxide sequestration operations
US10428306B2 (en) 2016-08-12 2019-10-01 Warsaw Orthopedic, Inc. Method and system for tissue treatment with critical/supercritical carbon dioxide
US20190170441A1 (en) * 2017-12-05 2019-06-06 Larry Baxter Pressure-Regulated Melting of Solids with Warm Fluids
US20190170440A1 (en) * 2017-12-05 2019-06-06 Larry Baxter Pressure-Regulated Melting of Solids
TWI702564B (zh) * 2018-11-14 2020-08-21 宇辰系統科技股份有限公司 化學品槽車派車系統
JP7316011B2 (ja) * 2020-10-31 2023-07-27 株式会社フジキン ガス供給システムおよびガス供給方法
CN115031163B (zh) * 2022-06-06 2023-04-25 西安交通大学 一种超临界二氧化碳气氛工作间的供气系统及方法

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004035346A (ja) 2002-07-04 2004-02-05 Kobe Steel Ltd 超高純度液化二酸化炭素の製造方法およびその装置

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2551399A (en) * 1945-12-03 1951-05-01 Silverberg Abe Process for the purification of carbon dioxide
GB1021453A (en) * 1962-11-29 1966-03-02 Petrocarbon Dev Ltd Purification of carbon dioxide
GB8505689D0 (en) * 1985-03-05 1985-04-03 Atkins & Partners W S Liquefaction of carbon dioxide
WO1990009233A1 (en) * 1989-02-16 1990-08-23 Pawliszyn Janusz B Apparatus and method for delivering supercritical fluid
US5377705A (en) * 1993-09-16 1995-01-03 Autoclave Engineers, Inc. Precision cleaning system
EP0791093B1 (en) * 1994-11-09 2001-04-11 R.R. STREET & CO., INC. Method and system for rejuvenating pressurized fluid solvents used in cleaning substrates
US5908510A (en) * 1996-10-16 1999-06-01 International Business Machines Corporation Residue removal by supercritical fluids
US5894742A (en) * 1997-09-16 1999-04-20 L'air Liquide, Societe Anonyme Pour L'etude Et, L'exploitation Des Procedes Georges Claude Methods and systems for delivering an ultra-pure gas to a point of use
US6023933A (en) * 1997-11-04 2000-02-15 Air Products And Chemicals, Inc. Ultra high pressure gases
US6612317B2 (en) * 2000-04-18 2003-09-02 S.C. Fluids, Inc Supercritical fluid delivery and recovery system for semiconductor wafer processing
US6327872B1 (en) * 2000-01-05 2001-12-11 The Boc Group, Inc. Method and apparatus for producing a pressurized high purity liquid carbon dioxide stream
JP2002327895A (ja) 2001-05-01 2002-11-15 Sumitomo Electric Ind Ltd 液体二酸化炭素の貯蔵方法及び貯蔵容器
CN1331562C (zh) * 2001-10-17 2007-08-15 普莱克斯技术有限公司 中心二氧化碳纯化器
US6688115B1 (en) * 2003-01-28 2004-02-10 Air Products And Chemicals, Inc. High-pressure delivery system for ultra high purity liquid carbon dioxide
US7069742B2 (en) * 2004-01-19 2006-07-04 Air Products And Chemicals, Inc. High-pressure delivery system for ultra high purity liquid carbon dioxide

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004035346A (ja) 2002-07-04 2004-02-05 Kobe Steel Ltd 超高純度液化二酸化炭素の製造方法およびその装置

Also Published As

Publication number Publication date
KR20050076620A (ko) 2005-07-26
TW200530125A (en) 2005-09-16
US7076970B2 (en) 2006-07-18
TWI271383B (en) 2007-01-21
US20050155379A1 (en) 2005-07-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100605335B1 (ko) 상이한 순도 요건의 이산화탄소를 공급 및 전달하기 위한시스템
KR20050037420A (ko) 중앙 이산화탄소 정제기
KR100671858B1 (ko) 고순도 및 초고순도 이산화탄소의 공급 및 수송을 위한시스템
JP2922791B2 (ja) 液化ガスを使用した安価な洗浄装置
JP2000028264A (ja) 気相生成物を使用地点に配送するシステムおよび方法
JP5150757B2 (ja) 二酸化炭素の回収法
CN1644976A (zh) 超高纯液态二氧化碳用高压输送系统
US20050006310A1 (en) Purification and recovery of fluids in processing applications
TWI539991B (zh) 現場超高純度化學品或氣體的純化
KR20040069268A (ko) 고압 초고순도 생성물의 생성 및 전달 시스템
JP2012212908A (ja) ポリマー材料を前処理するための方法及び装置
JPH11506411A (ja) 電子部品製造の場合の使用現場でのアンモニアの精製
US20060000358A1 (en) Purification and delivery of high-pressure fluids in processing applications
CN110582836A (zh) 用于在半导体应用中使用超临界流体的方法和设备
JP2005288388A (ja) 気液分離装置
WO1997000227A1 (fr) Procede de fabrication de produits chimiques tres purs
JP2020065977A (ja) 混合液体の気化分離方法及び気化分離装置、並びに気化されて分離された液体の回収装置

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
LAPS Lapse due to unpaid annual fee