KR100665830B1 - 유체 여과장치 - Google Patents

Abstract

본 발명은 반도체 제조 공정 등의 냉각 시스템에 사용되는 유체 여과장치에 관한 것이다.

필터를 이용하여 유체를 여과함에 있어서, 상기 필터에 의해 불순물이 발생되는 종래의 문제점을 해결하기 위하여, 외부로부터 유체가 유입되는 유입관 및 유입된 유체를 배출시키는 배출관이 접속된 여과장치 본체에 있어서, 상기 본체의 내측에는 유체에 와류가 형성되도록 유도하는 와류 유도판 및 유체의 흐름을 제어하는 유체 흐름 제어판이 돌출 형성되고, 상기 본체의 하측에는 내부에 침전된 불순물을 배출시키는 불순물 배출관이 접속된 것을 특징으로 하는 유체 여과장치가 제공된다.

본 발명에 따른 상기 유체 여과장치에 의하면, 필터 등을 사용하지 않고 유체 중에 포함된 불순물을 제거하는 것이 가능하여 제조비가 저렴하고, 퀵 컨넥터 전에서 유체 중의 불순물이 제거됨으로써 유체의 흐름이 원활해질 뿐만 아니라 냉각 성능이 더욱 증대된다.

반도체, 제조, 유체, 불순물, 여과

Description

유체 여과장치 {apparatus for filting impurities in the liquid}

도 1 은 본 발명에 의한 유체 여과장치를 나타내는 단면도이다.

도 2 는 본 발명에 의한 유체 여과장치의 사시도이다.

* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 *

10: 본체 11: 와류 유도판

12: 유체 흐름 제어판 13: 배출 통로

20: 유입관 30: 배출관

40: 불순물 50: 불순물 배출관

본 발명은 유체 여과장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 반도체 제조 설비 등의 냉각 시스템에 적용되는 유체 중에 포함된 불순물을 효과적으로 여과할 수 있도록 하는 유체 여과장치에 관한 것이다.

일반적으로 반도체 제조 공정에서 식각 공정은 포토 레지스트층의 구멍을 통하여 웨이퍼의 최상단층을 선택적으로 제거하는 공정으로서, 포토 레지스트의 구멍은 식각에 필요한 정확한 크기를 가져야 하며, 이러한 크기를 갖는 패턴을 웨이퍼의 최상단층에 옮기게 되는데, 식각 시에는 그 하부의 층이 식각되지 않도록 주의해야 한다. 왜냐하면, 하부의 층이 식각되면 소자의 물리적 크기가 크게 변하기 때문이다.
한편, 종래의 반도체 식각 장치에는 냉각 시스템이 구비되는데, 상기 냉각 시스템에는 셀룰로이드 섬유와 페놀수지로 이루어진 냉각 필터를 구비하여, 이러한 냉각 필터를 통하여 유체 중의 불순물이 여과되도록 하고 있다.

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그러나, 이와 같은 냉각 필터가 적용된 냉각 시스템의 여과장치는 냉각 필터의 열화로 인하여 필터 찌꺼기가 발생될 뿐만 아니라 이온 탱크 내부의 레진이 역류하여 레진 입자에 의해 또 다른 불순물을 발생시키게 된다.

이러한 필터 찌꺼기나 레진 입자에 의한 불순물들은 냉각 시스템 경로를 순환하다가 냉각 라인의 연결부위인 퀵 컨넥터를 통과하지 못하고 커넥터 내에 침전됨으로써 유체의 흐름을 악화시키고 유체의 흐름을 차단시키는 한 요인으로 작용하게 된다.

또한, 이처럼 유체의 흐름이 원활하지 않을 경우에는 냉각 성능이 저하되어 가공 챔버의 온도 전달에 지대한 영향을 미치는등의 문제점들이 야기된다.

따라서, 본 발명은 상술한 종래 기술의 문제점들을 해결하기 위하여 발명된 것으로서, 본 발명의 목적은 유체가 퀵 컨넥터에 도달하기 전에 유체 중에 포함된 불순물을 제거하여 유체의 흐름이 더욱 원활해지도록 함과 동시에 냉각 성능을 더욱 증대시킬 수 있는 유체 여과장치를 제공하는데 있다.

이와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 유체 여과장치는, 외부로부터 유체가 유입되는 유입관 및 상기 유입관을 통해 유입된 유체를 배출시키는 배출관이 접속된 여과장치 본체; 상기 본체의 내측에 형성되며, 상기 유입관을 통해 본체 내부로 유입된 유체에 와류가 유도되도록 하기 위해 상기 본체의 센터 영역에까지 돌출 형성된 와류 유도판; 상기 본체의 내측에 형성되며, 상기 유입관을 통해 본체 내부로 유입된 유체에 와류가 유도되도록 하기 위해 상기 본체의 센터 영역에까지 돌출 형성된 와류 유도판; 상기 배출관에 인접하여 형성되며, 상기 와류가 형성된 유체의 흐름을 제어하기 위해 상기 본체 내벽으로부터 돌출 형성된 유체 흐름 제어판; 및 상기 본체의 하측에 형성되며, 상기 본체 하측에 침전된 불순물을 배출시키기 위한 불순물 배출관을 포함함을 특징으로 한다.

따라서, 본 발명에 의하면, 필터 등을 사용하지 않고 유체 중에 포함된 불순물을 제거하는 것이 가능하여 제조비가 저렴하고, 퀵 컨넥터 전에서 유체 중의 불순물이 제거됨으로써 유체의 흐름이 원활할 뿐만 아니라 냉각 성능이 더욱 증대되는 것이다.

이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부된 도면에 의하여 더욱 상세히 설명한다.

도 1 은 본 발명에 의한 유체 여과장치를 나타내는 단면도로서, 부호 (10)은 여과장치 본체를 나타내고 있다.

상기 본체(10)의 일측에는 유체가 유입되는 유입관(20)이 접속되어 있고, 그 대향측에는 내부로 유입된 유체를 배출시키는 배출관(30)이 접속되어 있다.

그리고, 상기 본체(10)의 하측에는 침전된 불순물(40)을 배출시키는 불순물 배출관(50)이 접속되어 있으며, 상기 불순물 배출관(50)은 조절구(51)에 의해 개폐되도록 구성되어 있다.

상기 본체(10)의 내측 상부에는 상기 유입관(20)으로부터 유입된 유체의 흐름을 하측으로 유도하여 와류를 형성시키는 와류 유도판(11)이 형성되어 있으며, 그 일 측방에는 상기 배출관(30)으로 배출되는 유체의 흐름을 제어하는 유체 흐름 제어판(12)이 상기 와류 유도판(11)을 향하여 돌출 형성되어 있다. 따라서, 상기 와류 유도판(11)과 유체 흐름 제어판(12)의 사이에는 본체(10) 내로 유입된 유체를 상기 배출관(30)으로 흐르도록 하는 배출 통로(13)가 형성된다.
여기서, 상기 본체(10)는 전체를 투명한 재질로 형성할 수도 있고, 도 2 에 도시한 바와 같이 일측면을 투명판(14)으로 형성할 수도 있다.

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따라서, 상기와 같이 구성된 본 발명에 따른 유체 여과장치에 의하면, 상기 유입관(20)을 통하여 유체가 소정의 압력으로 본체(10) 내로 유입되면 와류 유도판(11)에 의해 하측으로 유도된다.
이때, 상기 유입관(20)에 의해 본체(10) 내부의 유체의 흐름에는 와류가 발생되는데, 이러한 와류 발생은 유체의 원활한 흐름 및 압력에는 큰 영향을 미치지 않게 된다.

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이어서, 계속적으로 와류가 발생되는 본체(10) 내부의 유체는 자체적으로 발생되는 유압에 의해 상기 유체 흐름 제어판(12) 및 상기 유체 흐름 제어판(12)과 와류 유도판(11)의 사이에 형성된 배출 통로(13)를 통하여 배출관(30)으로 배출된다.

이때, 상기 본체(10) 내로 유입된 유체 중에 포함된 불순물(40)은 도 1에 도시된 것과 같이 본체(10)의 하측에 침전되고, 불순물이 포함되지 않은 상부의 정화된 유체만이 배출관(30)을 통하여 배출이 이루어지게 된다.

그리고, 상기 본체(10)의 하측에 침전된 불순물(40)은 조절구(51)를 조작함에 따라 개폐되는 불순물 배출관(50)을 통하여 배출되어진다.

본 실시예는 반도체 제조용 냉각 시스템에 적용되는 것으로 한정하는 것은 아니며, 펌프를 사용하는 수냉식 냉각장치에서 유체에 포함된 불순물을 제거하는데 모두 적용될 수 있음은 물론이다.

상술한 바와 같이 본 발명에 의하면, 종래에서와 같은 필터를 사용하지 않고 유체 중에 포함된 불순물을 제거하는 것이 가능하여 제조원가를 낮출 수 있으며, 퀵 컨넥터 전에서 유체 중의 불순물이 제거됨으로써 유체의 흐름이 원활할 뿐만 아니라 냉각 성능이 더욱 증대되는 등의 여러 가지 효과가 있다.

Claims (2)

1. 유체 여과장치에 있어서:

   외부로부터 유체가 유입되는 유입관 및 상기 유입관을 통해 유입된 유체를 배출시키는 배출관이 접속된 여과장치 본체;

   상기 본체의 내측에 형성되며, 상기 유입관을 통해 본체 내부로 유입된 유체에 와류가 유도되도록 하기 위해 상기 본체의 센터 영역에까지 돌출 형성된 와류 유도판;

   상기 배출관에 인접하여 형성되며, 상기 와류가 형성된 유체의 흐름을 제어하기 위해 상기 본체 내벽으로부터 돌출 형성된 유체 흐름 제어판; 및

   상기 본체의 하측에 형성되며, 상기 본체 하측에 침전된 불순물을 배출시키기 위한 불순물 배출관을 포함함을 특징으로 하는 유체 여과장치.
2. 제 1 항에 있어서 상기 와류 유도판과 상기 유체 흐름 제어판 사이에는 유체가 흐르는 배출 통로가 형성된 것을 특징으로 하는 유체 여과장치.

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