KR100640675B1

KR100640675B1 - 올레핀 중합용 촉매의 활성화 및 하소 방법 및 이를 위한 반응기

Info

Publication number: KR100640675B1
Application number: KR1020017004729A
Authority: KR
Inventors: 랑지 폴뤼스 드; 헨드릭 쇤펠더; 미카엘 켐머러; 한스 베르너 지벤한들; 카스파 에베르츠; 슈테판 비트펠트-할텐호프; 요아힘 베르터
Original assignee: 바젤 폴리올레핀 게엠베하
Priority date: 1998-10-15
Filing date: 1999-10-15
Publication date: 2006-11-02
Also published as: DE19847647A1; ATE260709T1; EP1133351B1; WO2000021655A2; WO2000021655A3; US20070207068A1; JP2002530182A; KR20010080164A; ES2216570T3; US7232551B1; CN1323241A; CN1136036C; JP4794043B2; EP1133351A2; DE59908772D1

Abstract

본 발명은

촉매 또는 촉매 지지체 벌크 물질을 함유하는 반응기의 하부 영역에 기체를 도입하여 분산시키는 단계(a),

유동상을 반응기내에 형성시키는 단계(b),

촉매 또는 촉매 지지체 입자를 유동상에서 처리하는 단계(c) 및

반응기의 내용물을 배출시키는 단계(d)에 의한 촉매 또는 촉매 지지체 처리방법에 관한 것이다. 이러한 목적을 위해, 하부 방향으로 갈수록 점점 좁아지는 반응기 바닥을 갖는 반응기가 사용된다.

촉매, 촉매 지지체, 유동상, 하부 방향으로 갈수록 점점 좁아지는 반응기 바닥.

Description

올레핀 중합용 촉매의 활성화 및 하소 방법 및 이를 위한 반응기{A process for activating and calcining olefin polymerization catalysts and a reactor therefor}

본 발명은 촉매 및 촉매 지지체 처리용 유동상(fluidized bed) 방법과 반응기 및 폴리올레핀의 제조시 당해 방법의 생성물의 용도에 관한 것이다.

다공판에 지지된 미립자 물질 상을 통해 기체가 하부로 유동하는 경우, 비등하는 액체의 상태와 유사한 상태가 특정 유동화 조건하에 확립된다. 즉, 상은 기포를 형성하고, 상 물질의 입자가 상내에서 일정하게 선회하여 위 아래로 움직이기 때문에, 어느 정도까지는 떠 있게 된다. 이와 관련하여, 유동상이라는 용어가 사용된다. 이러한 상태는, 고체 입자의 중력에 대하여, 하부로부터 상을 통해 유동하는 기체의 속도에 대한 특정 한계치에 도달하는 경우에 발생한다. 정지상(resting bed)이 선회상(swirling bed)이 되고 고정상이 유동상으로 되는 시점을 선회점 또는 유동점이라고 한다. 이러한 시점에의 도달은 다수의 물리적 요인, 예를 들면, 입자의 밀도, 크기, 분포 및 형태, 및 유동 액체의 특성에 좌우된다.

액체와 같이, 유동상은 천공(aperture)을 통해 유동할 수 있거나, 파이프를 통해 운반될 수 있거나, 경사면, 예를 들면, 운반 채널에서 유출될 수 있다. 유동 액체의 속도가 추가로 증가하는 경우, 상은 훨씬 크게 팽창하여 기포를 형성한다. 제한 속도를 초과하면, 입자는 유동화 분진으로서 용기로부터 배출되지만, 다운스트림 분리기에서 다시 기체 스트림으로부터 분리되어 반응기에 공급될 수 있다.

유리한 분리기는 소위 사이클론이다. 이러한 사이클론에서는, 입자의 분리가 원심력에 의해 발생한다. 원칙적으로, 사이클론은, 분진 함유 공기용 유입구 파이프가 접선 방향으로 돌출되어 있고 청정 공기용 배출구 파이프가 수직 방향으로 돌출되어 있는, 원추형의 좁은 바닥을 갖는 원통형 용기로 구성된다. 접선 방향으로 도입되는 기체/분진 스트림은 선회 유동을 유발하고, 이때 비교적 큰 분진 입자가 실린더의 벽에 대한 원심력에 의해 튀어올랐다가 중력의 작용을 통해 바닥으로 침강하여 이로부터 배출될 수 있다. 이러한 분리 원리는 미세한 분진 오염물질을 완전히 제거하기에 충분하지 않기 때문에, 분진이 없는 회전하는 기체 선회는 사이클론의 바닥에서 이의 방향을 역전하여 배출구 파이프를 통해 상부 방향으로 가능하게는 미세한 입자와 함께 사이클론을 이탈한다. 산업적으로, 사이클론은 주로 분진 제거용으로 사용된다.

사이클론은 다수의 유동상 공정에서 중요한 구성요소이다. 유동상 공정은 다수의 산업 공정에 사용된다. 유동상에서의 고체는, 예를 들면, 촉매(유동상 촉매) 또는 열전달제로서 사용될 수 있거나, 그 자체가 반응에 참여할 수 있다. 유동상 방법으로 고안될 수 있는 중요한 방법은 다음과 같다:

기체상 중합, 석탄 연소, 석탄 액화 및 피셔-트롭쉬(Fischer-Tropsch) 합성, 탄화수소의 접촉 크래킹(catalytic cracking), 황화물 금속의 로스팅(roasting), 수화된 알루미나의 하소, 석회암의 하소, 기체의 탈황, 벤진이 풍부한 나프텐 분획의 촉매 탈수소화, 역청질 모래로부터 오일의 증류, 산화바나듐 상에서 나프탈렌의 프탈산 무수물로의 산화, 인산염 회수시의 불소의 제거, 아크릴로니트릴, 디클로로에탄, CCl₄ 또는 TiCl₄의 제조, 갈탄 및 입상 물질(예를 들면, PVC, 초석, 칼슘 염, 톱밥, 염화나트륨, 안료, 약제학적 제제, 살충제 및 미생물도 포함함)의 건조, 식품(예를 들면, 커피 열매, 코코아, 땅콩, 씨리얼 제품, 옥수수 전분, 쌀, 차 및 기타 다수)의 방향성 보유 건조 또는 로스팅, 폐기물, 쓰레기, 특정 폐기물 및 하수 침전물의 소각, 또는 물리적 공정(예: 소립자의 분리 및 혼합).

촉매, 개시제, 촉매 지지체, 개시제 지지체, 및 개시제 또는 촉매로 처리된 지지체 물질을 처리하기 위한 유동상 방법은 하기에 고려될 것이다. 엄격히 말해서, 개시제와 촉매간의 정의에는 차이가 있지만, 하기에서 "촉매"라는 용어는 또한 개시제(이는 종종 반응을 개시시키는지 촉진시키는지를 겨우 언급하는 것만이 가능하다)를 의미하는 것으로 파악해야 한다. 상응하게는, 활성 성분, 예를 들면, 촉매로 처리한 지지체 물질도 또한 하기에서 촉매로서 언급된다.

촉매 지지체 또는 촉매를 처리하는 경우(예를 들면, 올레핀의 중합에 그 자체를 사용하기 위함), 강성 물질이며 열교환되는 입자가 상부로 향하는 기체 스트림에 의해 이동되는 유동상 방법이 사용된다. 당해 공정 동안 시간이 경과함에 따라, 입자가 가열되고 물리적/화학적으로 변화한다. 전환이 완료된 경우, 입자를 냉각시키고 반응기로부터 배출시킨다. 반응기의 설계시, 다음 사항에 특별히 유의한다:

A) 유입구에서의 기체 분산

B) 반응기를 이탈하는 기체 스트림으로부터 미립자의 제거

C) 배출 장치.

A) 기체 분산

기체는 반응기의 하부 영역에서 편평하거나 굴곡지거나 경사진 판을 사용하여 분산시키고, 이 판에는 다양한 종류의 기체용 통로가 설치되어 있다. 가장 간단한 경우에 있어서, 이들 통로는 홀이지만, 적합한 삽입물, 예를 들면, 벨 또는 스크류일 수도 있다. 기체를 비교적 균일하게 분산시키기 위해, 상기 유형의 기체 분산 판은 적어도 10 내지 20mbar의 압력 손실을 필요로 한다. 기체의 유리한 분산은 입자에 의해 차단된 기체용 통로에 의해 방지될 수 있다.

특정 물질과 크기의 입자로 이루어진 몇몇 상에 있어서, 상기한 반응기 중의 하나로의 기체의 유입 동안 채널 형성 현상이 관찰된다. 이러한 경우, 유동상은 형성되지 않지만, 대신 상을 통해 수직 상부 방향으로 통과하는 판을 통해 기체가 유동한다. 기체 유속이 증가하더라도, 입자는 상에 잔류한다.

기체의 분산은 유동상내로 분무된 액체로 입자를 처리할 때에 중요한 역할을 한다. 이들 액체는, 예를 들면, 입자용 결합제로서 작용할 수 있기 때문에, 건조 동안 응집되어 비교적 큰 응집체를 형성한다.

유동 기체에 의한 분무 액체의 최적 분산은, 첫째 고체 입자의 응집을 방지하고, 둘째 고체 피복으로 인해 반응기 벽 위에 침전물이 형성되는 것을 방지하는데 중요하다[참조: Diazo Kunii, Octave Levenspiel, "Fluidization Engineering", Butterworth-Heinemann(Stoneham), second edition(1991), p. 24].

B) 분리

반응기 배출구에서, 기체를 적합한 분리기를 통해 통과시키고, 이것을 사용함으로써, 비말 동반된 입자를 이동시켜 반응기에 이것을 잔류시킨다. 이러한 분리기는 반응 공간에서 직접적으로 매달려 있는 여과기 구성요소일 수 있다. 이들 여과기 구성요소는, 이들이 차단된 상태이기 때문에, 규칙적으로 세정되거나 대체되어야 한다는 단점이 있다. 사이클론 분리기를 사용하는 것이 유리하며, 이것은 근본적으로 유지가 자유로우며, 여과기와는 대조적으로 미립자는 반응기로부터 취출하고, 비교적 큰 입자는 확실히 잔류시킬 수 있는 능력을 갖는다. 이러한 특성은, 미립자가 종종 이후의 사용에 바람직하지 않은 경우가 있기 때문에, 제조된 유동상의 품질에 긍정적인 영향을 미칠 수 있다. 극미소 촉매 입자는, 예를 들면, 이후의 중합에 바람직하지 않은, 소위 고온 스팟(hot spots)을 유발할 수 있다.

C) 배출

처리를 완결시킨 후, 촉매 또는 촉매 지지체를 적합하게 밀폐된 밸브를 통해 반응기로부터 배출시킨다. 개구부를 판에 형성하여 반응기에 잔류하는 입자의 양을 최소로 한다. 촉매 또는 촉매 지지체는 배출 공정 동안 반드시 기체 분산 판의 통로를 통과해야 한다. 입자의 이동성을 확실히 하기 위해 판을 통해 기체를 지속적으로 유동시켜야 한다(그 후, 자동적으로 배출구로 "이동하지" 않기 때문에, 유동 기체를 배출 동안 사용할 필요가 있다). 그러나, 배출 동안 유동 기체를 사용하면, 사이클론 분리기의 유리한 사용이 방해된다.

배출 동안, 유동상의 높이가 사이클론의 배출구 파이프의 말단 아래로 저하되고, 그 결과 형성된 단락 기체로 인해, 사이클론의 분리 효율이 크게 감소하는데, 이는 비교적 큰 입자조차 반응기로부터 배출된다는 것을 의미한다. 이로써, 필연적으로 물질이 손실된다.

추가의 단점은, 물질이 항상 판 위에 잔류하기 때문에, 상기한 반응기가 완전히 소개(empty)될 수 없다는 것이다. 잔류물은 신선한 입자와 함께 다시 통과되어, 체류 시간이 다양한 물질을 제공한다. 이는 일반적으로 균일한 체류 시간을 갖는 물질과 비교하여 균일하지 않은, 통상은 품질이 더 불량하다.

본 발명의 목적은, 채널을 형성시키지 않으며, 사이클론을 유리하게 사용할 수 있고, 신속하며 적어도 실질적으로 완전하게, 즉 잔류물 없이 반응기로부터의 배출을 발생시키는 방식으로 촉매 또는 촉매 지지체를 처리하기 위한 상기 유동상 방법을 개선시키는 것이다.

이러한 목적은, 하부 방향으로 갈수록 점점 좁아지는 반응기 바닥을 사용하여, 촉매 또는 촉매 지지체 벌크 물질을 함유하는 반응기의 하부 영역에 기체를 도입하여 분산시키는 단계(a), 유동상을 반응기내에 형성시키는 단계(b), 촉매 또는 촉매 지지체 입자를 유동상에서 처리하는 단계(c) 및 반응기의 내용물을 배출시키는 단계(d)에 의해 촉매 또는 촉매 지지체를 처리하는 방법에 의해 달성되는 것으로 밝혀졌다.

바람직한 양태에 있어서, 분리기를 사용하여 비교적 미세한 입자는 제거하고/하거나 비교적 큰 입자는 잔류시킨다.

본 발명에 따라, 이하의 장치, 즉 (i) 하부 방향으로 갈수록 점점 좁아지는, 바람직하게는 원추형 반응기 바닥을 갖는 반응기 자켓, (ii) 반응기 바닥 하부에 위치하고 기체 도입용 기체 유입 파이프에 연결되어 있는, 기체를 반응기에 도입하기 위한 파이프, (iii) 반응기 바닥의 하부에 위치하는 반응기의 내용물을 배출시키기 위한 장치 및 (iv) 하나 이상의 분리기를 포함하는, 이러한 후자의 공정을 수행하기 위한 장치가 제공된다.

기본적인 유동상 방법에서 기체 분산을 위해 하부 방향으로 갈수록 점점 좁아지는 반응기 바닥을 갖춘 본 발명의 해결책은, 놀랍게도, 처리될 입자가 당해 공정에서 실질적으로 손상되지 않거나 탈활성화되지 않는다는 사실을 기초로 한다. 하부 방향으로 갈수록 점점 좁아지는 반응기 바닥은 이의 단면적이 하부 방향으로 갈수록 감소됨을 의미한다. 원칙적으로, 대칭 및 비대칭 형태가 가능하다. 예를 들면, 각추대이지만, 특히 원추대의, 즉 원추형 반응기 바닥이 적합하다. 하부 방향으로 갈수록 점점 좁아지는 이들 반응기 바닥이 사용되는 경우, 유동상 이외에 바닥의 하부 영역에 위치하며 자켓의 내부를 둘러싸는 층이 항상 존재한다. 이러한 층에서, 물질 교환이 일어나며, 유동상의 입자는 층에 도입되고, 다른 한편으로 물질은 입자가 기체 도입 영역으로 "이동"하는 것을 원인으로 하여 층으로부터 이탈하여 유동상에 재공급된다. 반응기 벽으로부터 층으로의 열교환에 의해, 바람직하지 않은 고온이 이후에 발생할 수 있다. 가능한 결과는, 예를 들면, 촉매의 탈활성화 또는 소결 처리에 의한 응집물의 형성 및/또는 촉매 또는 촉매 지지체에 의한 공간의 차단일 수 있다.

이들 단점은 본 발명에 따른 방법에서 실질적으로 발생하지 않거나, 또는 전혀 발생하지 않는다. 왜냐하면, 촉매 입자는 단지 매우 단시간 동안 층에 잔류하기 때문일 것이다.

이러한 층은, 촉매 입자가 채널 형성(입자의 자켓 벽으로의 일정한 이동은 각각의 "채널"을 즉시 밀폐시킨다)을 예방한다는 점에서, 유리하게 작용한다. 또한, 층은, 이의 원추형 구조 때문에, 유동 기체의 균일한 분산에 양호하다.

첨부된 도면은 도 1에 기체 분산 판(1), 반응기 배출 장치(3), 여과기 구성요소(5), 기체 배출구(6), 기체 유입구(7)를 나타내고, 도 2에 반응기 바닥(2), 반응기 배출 장치(3), 사이클론(4), 기체 배출구(6), 기체 유입구(7), 원추대(8), 반응기로의 기체 도입용 파이프(9), 원추 각(α) 및 각(β)를 나타낸다.

본 발명에 따른 반응기(도 2)는 지금까지 일반적으로 사용되는 반응기 종류(도 1)와는 대조적으로 기체 분산 판(1)을 갖지 않기 때문에, 첫째, 분산 판과 관련된 압력 손실이 발생하지 않으며, 둘째, 반응기로부터의 배출이 간소화되며 유동 기체를 사용하지 않고 수행된다. 원추형 반응기 바닥(2)에 의해 촉매 또는 촉매 지지체를 고효율로 반응기로부터 제거할 수 있다. 그 이유는, 촉매 또는 촉매 지지체는 벽 부분으로 이동하고, 전부 또는 실질적으로 전부가 반응기에서 상당한 잔류물을 남기지 않으면서 배출 장치(3)에 도달하기 때문이다. 따라서, 반응기는 잔류물이 없거나 실질적으로 잔류물 없이 배출될 수 있다(즉, 99% 이상, 바람직하게는 99.5% 이상의 정도). 반응기의 원추형 반응기 바닥(2)은 2개의 내부 자켓 표면 사이에서 측정한 원추 각(α)이 10 내지 120°, 바람직하게는 30 내지 80°인 것이 유리하다. 배출 장치(3)(예: 파이프)는 일반적으로 반응기 속으로 기체를 도입시키는데 작용하는 파이프(9)의 하부 말단에 배치한다. 따라서, 파이프(9)는 또한 반응기의 내용물을 배출시키는 작용을 부분적으로 수행한다. 배출은 기체 분산 판(1)을 갖는 상응하는 반응기와 비교하여 일반적으로 상당히 보다 신속하게 발생한다. 비말 동반 입자를 제거하기 위해, 반응기의 최상부는 광범위한 횡단면을 가질 수 있다. 추가의 분리기는 특히 이러한 확장 영역에 설치할 수 있다.

본 발명에 따른 반응기의 추가의 본질적인 이점은 분리기로서 사이클론(4)을 유리하게 사용할 수 있다는 점이다. 즉, 반응기로부터의 배출 동안 재료를 손실시키지 않고서 미세한 물질의 효과적이고 확실한 배출을 촉진시킨다는 점이다. 당해 공정에 사용되는, 기체 배출구(6)의 하부에 배치되어 있는 여과기 구성요소(5)의 단점은 서두에 기재되어 있다. 모든 경우에 사용된 분리기는 비교적 미세한 입자는 제거하고/하거나 비교적 큰 입자는 잔류시키는 기능을 한다.

또한, 기체 유입구(7)에서 지지체 기체의 유입은 중요하다. 어떠한 입자도 충전 및 배출 동안 기체 유입구(7)로 가능한 한 도입되지 않아야 하기 때문에, 상응하는 유입 파이프는 상부로 경사져야 한다. 기체 유입구(7)의 기체 유입 파이프와 상부 수직면 사이에서 측정한 각(β)은, 특히 20 내지 70°, 바람직하게는 30 내지 60°이다. 본 발명에 따르는 방법으로 처리된 촉매 또는 촉매 지지체는, 특히 올레핀의 중합에 사용되며, 이 경우, 처리될 입자를 고체 입자의 형태로 통상 반응기에 공급한다. 이러한 폴리올레핀 촉매는 종종 도핑된 지지체 물질(예: 실리카 겔을 기재로 함)을 함유한다. 사용된 활성 성분은, 예를 들면, 전이 금속(예: 크롬 또는 티탄)이다. 지지체 물질의 예는 산화성 화합물(예: 실리카, 알루미나, 실리카-알루미나, 지르코니아, 토리아, 불화 실리카, 불화 알루미나, 불화 실리카-알루미나, 붕소 산화물 또는 이들의 혼합물)이다. 지지체 물질의 표면을 추가로 개질시키는 것이 특히 유리할 수 있다. 촉매 또는 촉매 지지체의 처리방법은 일반적으로 하소 및/또는 활성화이다.

이러한 처리 동안, 기체 유입구(7)를 통해 도입된 지지체 기체(유동 기체), 부가의 기체 및 최초에 도입된 입자 이외에, 부가의 고체를 또한 유동상내로 도입시킬 수 있다. 이러한 도입은 공정 동안 및 목적하는 위치에 설치된 공급 지점을 통해 언제라도 발생할 수 있다. 부가 기체의 적합한 예는 산소, 이산화탄소 또는 수증기인 반면, 사용될 수 있는 부가의 고체의 예는 암모늄 헥사플루오로실리케이트, 처리되지 않은 촉매 지지체 또는 상이한 물리적/화학적 구조를 갖는 촉매이다. 또한, 액체(예: 물)도 유동상내로 분무시킬 수 있다. 따라서, 액체, 부가의 고체 및/또는 부가의 기체를 또한 반응기내로 도입시킬 수 있다.

본 발명에 따른 방법에 의한 처리는 작업 실시예를 참조하여 하기에 보다 상세히 기재되어 있다.

실시예 1(하소)

벌크 밀도가 450kg/m³이고 입자 크기 분포가 표 1에 나타낸 바와 같은 촉매 지지체 25kg을, 전체 높이가 4m이고 직경(원통형)이 0.3m이고 원추 각이 45°이며 원추대(8)에 설치된 파이프(9)의 내경이 25mm인 강 반응기에서 처리한다. N₂를 유동 기체로서 사용하면서 승온에서 600℃로 6시간에 걸쳐서 반응기를 가열한다. 반응기를 실질적으로 당해 온도에서 10시간 동안 유지시킨 다음, 냉각시킨다. 원통형 반응기 부분에서 소개된 파이프에 대한 속도는 4 내지 8cm/s이다. 공정의 종결 후, 유동 기체의 도입을 중단하고, 촉매 지지체를 배출시킨다. 소개 공정 후, 분진 피복물로서 벽에 접착하는 촉매 지지체 약 0.05kg(즉, 약 0.2%)이 반응기에 잔류한다.

실리카 겔 ES70X^R의 물질 특성

시험
기공 용적	1.69cc/g
표면적	320m²/g
휘발성분 함량	7.0%
소다(Na₂O로서)	500ppm
벌크 밀도	300g/L

하소 전 및 하소 후의 실리카 겔 ES70X^R[제조회사: 크로스필드 캐털리스츠(Crosfield Catalysts)]의 입자 크기 분포

물질	처리	중간(㎛)	＜20.2㎛	＜32㎛	＞80.7㎛
ES70X^R (SiO₂가 99.3%인 실리케이트)	비처리	40.0	1.0	18.5	0.2
	N₂하에 600℃에서 10시간 동안 가열	40.5	1.1	19.1	0.1

(측정 방법: 쿨터 계수기, 전처리: 30초 동안 초음파 처리, 전해액: 49.5% 물, 49.5% 글리세롤, 1% NaCl, 모세관: 560㎛, 작동 모드: 수동)

실시예 2(활성화)

벌크 밀도가 420kg/m³이고 입자 크기 분포가 표 2에 나타낸 바와 같은 촉매 200kg을, 전체 높이가 5m이고 직경(원통형)이 0.6m이고 원추 각이 45°이며 원추대(8)에 설치된 파이프(9)의 내경이 51mm인 강 반응기에서 활성화시킨다. 공기를 유동 기체로서 사용하면서 주위 온도에서 705℃로 10시간에 걸쳐서 당해 장치를 가열한다. 장치를 실질적으로 당해 온도에서 10시간 동안 유지시킨 다음, 냉각시킨다. 냉각 상태 동안, 유동 기체를 질소로 교체한다. 원통형 반응기 부분에서 소개된 파이프에 대한 속도는 5 내지 10cm/s이다. 공정의 종결 후, 유동 기체를 중단하고, 촉매를 배출시킨다. 소개 공정 후, 촉매 약 0.1kg(즉, 약 0.05%)이 반응기에 잔류한다.

비교실시예 C2(활성화)

실시예 2에서와 같은 종류의 촉매 125kg을, 전체 높이가 5.5m이고 직경이 0.6m이며 원통형 개구부를 갖는 수평한 기체 분산 판(다공판)을 갖는 반응기에서 활성화시킨다. 공기를 유동 기체로서 사용하면서 주위 온도에서 705℃로 10시간에 걸쳐서 당해 장치를 가열한다. 장치를 실질적으로 당해 온도에서 10시간 동안 유지시킨 다음, 냉각시킨다. 냉각 상태 동안, 유동 기체를 질소로 교체한다. 원통형 반응기 부분에서 소개된 파이프에 대한 속도는 5 내지 10cm/s이다. 공정의 종결 후, 중앙에 설치된 배출구 파이프를 통해 촉매를 배출시킨다. 소개 공정 후, 촉매 약 5.2kg(즉, 약 4%)이 분산 판에 잔류한다.

촉매 실로폴(Sylopol) 969 IDW^R의 물질 특성

시험	시판 제품	활성화 후
기공 용적(cc/g)	1.24	1.24
표면적(m²/g)	316	측정되지 않음
휘발성분 함량(%)	6.1	측정되지 않음
Na₂O(%)	0.08	측정되지 않음
벌크 밀도(g/L)	측정되지 않음	329

활성화 전 및 활성화 후의 촉매 실로폴 969 IDW^R[제조회사: 그레이스 게엠베하(Grace GmbH)]의 입자 크기 분포

물질	처리	중간(㎛)	＜20.2㎛	＜32㎛	＞80.7㎛
실로폴 969 IDW^R (SiO₂가 약 98%이고 Cr이 약 1%인 실리케이트)	비처리	56.2	0.8	8.3	14.1
	705℃에서 10시간 동안 가열	51.5	0.8	9.0	5.8

Claims

하부 방향으로 갈수록 점점 좁아지는 반응기 바닥(2)을 갖는 반응기를 사용하여,

촉매 층 또는 촉매 지지체 층을 함유하는 반응기의 하부 영역에 기체를 도입하여 분산시키는 단계(a),

유동상을 반응기내에 형성시키는 단계(b),

촉매 또는 촉매 지지체 입자를 유동상에서 처리하는 단계(c) 및

잔류물을 실질적으로 함유하지 않도록 반응기의 내용물을 배출시키는 단계(d)에 의해, 크롬 또는 티탄 같은 전이 금속을 활성화 성분으로서 함유하는 올레핀 중합용 촉매 또는 산성 화합물을 지지체 물질로서 함유하는 촉매 지지체를 활성화 또는 하소시키는 방법.
제1항에 있어서, 하나 이상의 분리기를 추가로 사용하여, 미세한 입자는 제거하고 큰 입자는 잔류시키는 방법.
제2항에 있어서, 하나 이상의 사이클론(4)이 분리기(들)로서 사용되는 방법.
삭제
제1항 내지 제3항 중의 어느 한 항에 있어서, 액체, 추가의 고체 및 추가의 기체로부터 선택된 하나 이상이 유동상으로 도입되는 방법.
(i) 하부 방향으로 갈수록 점점 좁아지는 반응기 바닥(2)을 갖는 반응기 자켓,

(ii) 반응기 바닥(2) 하부에 위치하고 기체 도입용 기체 유입 파이프(7)에 연결되어 있는, 기체를 반응기에 도입하기 위한 파이프(9)[여기서, 기체 도입용 기체 유입 파이프(7)와 상부 수직면 사이에서 측정한 각(β)은 20 내지 70°이다],

(iii) 반응기 바닥의 하부에 위치하는 반응기의 내용물을 배출시키기 위한 장치(3) 및

(iv) 분리기를 포함하는, 제1항 내지 제3항 중의 어느 한 항에 따르는 방법을 수행하기 위한 반응기.
제6항에 있어서, 하부 방향으로 갈수록 점점 좁아지는 반응기 바닥(2)이 원추형인 반응기.
제7항에 있어서, 원추형 반응기 바닥(2)의 2개의 내부 자켓 표면 사이에서 측정한 원추 각(α)이 10 내지 120°인 반응기.
제6항에 있어서, 기체 도입용 기체 유입 파이프(7)와 상부 수직면 사이에서 측정한 각(β)이 30 내지 60°인 반응기.
제6항에 있어서, 사용된 분리기가 사이클론인 반응기.
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제8항에 있어서, 원추형 반응기 바닥(2)의 2개의 내부 자켓 표면 사이에서 측정한 원추 각(α)이 30 내지 80°인 반응기.
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