KR100630315B1 - Metal flake forming a figure and the method for manufacturing the same - Google Patents

Metal flake forming a figure and the method for manufacturing the same Download PDF

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Abstract

본 발명은 고착면이 평면이고, 충분한 양의 접착제를 도공할 수 있는 모양부착금속박편 및 그 제법을 제공하는 것을 목적으로 하고 있으며, 또 모양면에 내부식성 도금층을 간편하게 형성할 수 있는 해당 모양부착금속박편의 제법을 제공하는 것을 목적으로 하고 있는 모양부착금속박편 및 그 제조방법에 관한 것으로서,An object of the present invention is to provide a shaped metal foil and a method of manufacturing the same, wherein the fixing surface is flat and capable of coating a sufficient amount of adhesive. The present invention relates to a metal foil with a shape, and a method of manufacturing the same, for the purpose of providing a method for producing metal foil.

본 발명에 관련되는 모양부착금속박편은 표면에 모양을 갖고, 단면이 대략 사다리꼴이며, 이 모양부착금속박편은 모양을 갖는 도전성 주형에 전주를 실시하여 모양부착금속박막을 형성하고, 해당 모양부착금속박막을 소정의 패턴상으로 에칭하는 것으로 얻어지는 것을 특징으로 한다.The shaped metal foil according to the present invention has a shape on the surface and is substantially trapezoidal in cross section. The shaped metal foil is subjected to electroforming on a conductive mold having a shape to form a shaped metal thin film, and the shaped metal is It is obtained by etching a thin film in a predetermined pattern shape.

모양부착금속박막, 내부식성 도금막, 도전성 주형Shaped metal thin film, corrosion resistant plating film, conductive mold

Description

모양부착금속박편 및 그 제조방법{METAL FLAKE FORMING A FIGURE AND THE METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME}Metallic Flake with Shape and Manufacturing Method Thereof {METAL FLAKE FORMING A FIGURE AND THE METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME}

도 1은 본 발명에 관련되는 모양부착금속박편의 한 형태의 단면도.1 is a cross-sectional view of one form of a shaped metal foil according to the present invention.

도 2는 본 발명에 관련되는 모양부착금속박편의 한 형태의 단면도.Figure 2 is a cross-sectional view of one form of a shaped metal foil according to the present invention.

도 3은 본 발명에 관련되는 모양부착금속박편의 한 형태의 단면도.Figure 3 is a cross-sectional view of one form of a shaped metal foil according to the present invention.

도 4는 도전성 주형의 제조법의 한 공정을 나타내는 도면.4 is a diagram showing one step of a method for producing a conductive mold;

도 5는 도전성 주형의 제조법의 한 공정을 나타내는 도면.5 is a diagram showing one step of the method for producing a conductive mold.

도 6은 본 발명의 제조방법의 한 공정을 나타내는 도면.6 is a view showing one step of the manufacturing method of the present invention.

도 7은 본 발명의 제조방법의 한 공정을 나타내는 도면.7 is a view showing one step of the manufacturing method of the present invention.

도 8은 본 발명의 제조방법의 한 공정을 나타내는 도면.8 is a view showing one step of the manufacturing method of the present invention.

도 9는 본 발명의 제조방법의 한 공정을 나타내는 도면.9 is a view showing one step of the manufacturing method of the present invention.

도 10은 본 발명의 제조방법의 한 공정을 나타내는 도면.10 is a view showing one step of the manufacturing method of the present invention.

도 11은 도 10의 평면도를 나타내는 도면이다.FIG. 11 is a diagram illustrating a plan view of FIG. 10.

※도면의 주요부분에 대한 부호의 설명※ Explanation of symbols for main parts of drawing

1: 모양부착금속박편 2: 고착용 접착제층1: shape-attached metal foil 2: adhesive layer for fixing

3: 피착체 4: 내부식성 도금막3: adherend 4: corrosion resistant plating film

11: 모양을 갖는 물품 12: 금속막11: shaped article 12: metal film

13: 도전성 주형 14: 도전성 기재13: conductive mold 14: conductive substrate

15: 모양부착금속박막 16: 레지스트막15: metal thin film with shape 16: resist film

17: 노출부 18: 점착시트17: exposed part 18: adhesive sheet

21: 공정관리용 위치결정패턴 22: 공정관리용 마스크패턴21: Positioning pattern for process control 22: Mask pattern for process control

본 발명은 상품로고나 장식부품 등에 이용되는 모양부착금속박편 및 그 제조방법에 관한 것으로 더욱 자세하게는 홀로그램패턴, 옷감의 결, 종이결, 돌결 등의 미세모양이 표면에 형성되어 이루어지는 모양부착금속박편 및 그 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a shape-attached metal foil used in product logos and decorative parts, and to a manufacturing method thereof. More specifically, the shape-attached metal foil formed of fine shapes such as hologram patterns, cloth grains, paper grains, stones, etc. It relates to a manufacturing method.

상품로고나 장식부품 등의 미세하고 복잡한 형상을 갖는 금속제품의 제조에 있어서는, 예를 들면 특개평7-331479호 공보, 특개평8-27597호 공보 등에 기재한 전착화상법이 채용되어 있다. 근래 이와 같은 상품로고 등에 있어서는, 더욱더 장식성의 향상이 요구되고 있으며, 예를 들면 표면에 미세한 모양을 형성하는 것이 요구된다. 그러나 이들 공보에 기재한 방법에서는 전착화상표면에 모양을 형성하는 것은 개시되어 있지 않다.In the manufacture of metal products having fine and complicated shapes such as product logos and decorative parts, for example, the electrodeposition imaging method described in Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 7-331479 and 8-27597 is adopted. In recent years, such a product logo is required to further improve decorative properties, for example, to form a fine pattern on the surface. However, the method described in these publications does not disclose forming a pattern on the electrodeposited image surface.

특허문헌 1에는 모양부착전착화상 및 그 제법이 개시되어 있다. 그 제법은 모양을 갖는 물품의 표면모양을 도전성 박막에 전사하고, 해당 도전성 박막의 모양면에 전착화상을 형성하는 공정으로 이루어진다.Patent Literature 1 discloses a shape-adhesive electrodeposition image and its manufacturing method. This manufacturing method consists of the process of transferring the surface shape of the article which has a shape to a conductive thin film, and forming an electrodeposition image on the shape surface of this conductive thin film.

[특허문헌 1] 특개2001-342595호 공보[Patent Document 1] Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-342595

상기 특허문헌 1에 의하면 표면에 모양을 갖는 전착화상이 제공되고, 시장에 있어서도 높이 평가되고 있으나, 또한 하기의 점에서 개선이 요구되고 있었다.According to the said patent document 1, the electrodeposition image which has a pattern on the surface is provided, and it is highly appreciated also in the market, but further improvement was calculated | required by the following point.

(1) 전착화상법에 의해 문자패턴을 형성하고 있기 때문에, 모양면의 반대면(이하「고착면」이라 부른다)의 에지부(단부)가 둥그스름해지는 일이 있다. 특히 이 경향은 문자패턴이 작은 경우, 또는 폭이 좁은 문자패턴에 있어서는 현저하다. 전착화상은 고착면에 형성된 고착용 접착제층에 의해 피착체에 붙이는데, 고착면이 둥그스름해져 있으면 충분한 양의 접착제를 도공할 수 없고, 필요로 하는 접착력이 얻어지지 않는 경우가 있다. 이 때문에 피착체에 고정 후에 전착화상이 탈락하는 일이 있다.(1) Since the character pattern is formed by the electrodeposition imaging method, the edge portion (end) of the opposite surface (hereinafter referred to as "fixing surface") of the pattern surface may be rounded. In particular, this tendency is remarkable for small character patterns or narrow character patterns. The electrodeposited image is attached to the adherend by a fixing adhesive layer formed on the fixing surface. If the fixing surface is rounded, a sufficient amount of adhesive may not be coated, and the required adhesive force may not be obtained. For this reason, after fixation to a to-be-adhered body, an electrodeposition image may fall.

(2) 전착화상을 도전성 박막으로부터 박리할 때에 도전성 박막을 만곡하여 실시한다. 이 때문에 도전성 박막이 비뚤어져서 재사용할 수 없다.(2) When peeling an electrodeposition image from a conductive thin film, a conductive thin film is curved and performed. For this reason, the conductive thin film is crooked and cannot be reused.

(3) 전착화상은 각각이 독립된 문자패턴마다 형성된다. 형성된 전착화상은 지지필름상에 전사되고, 모양면이 노출된다. 문자패턴이 각각 독립되어 있고, 또 지지필름은 절연성이기 때문에 모양면에 마무리처리로서의 전해도금을 행할 수는 없다. 무전해도금의 경우에는 욕온이 100℃ 정도가 되기 때문에 지지필름이 연화하고, 필름의 신축에 의해 문자패턴이 탈락하는 일이 있다.(3) An electrodeposition image is formed for each independent character pattern. The formed electrodeposited image is transferred onto the supporting film, and the shape surface is exposed. Since the character patterns are independent from each other, and the support film is insulative, electroplating cannot be applied to the surface as a finish. In the case of electroless plating, since a bath temperature becomes about 100 degreeC, a support film may soften and a character pattern may fall out by the expansion and contraction of a film.

(4) 상기 (3) 때문에 특허문헌 1에 있어서는, 전착화상의 형성 전에 미리 도전성 박막의 모양면에 장식용 박막층을 형성해 두고, 이 위에 전착을 실시하는 것 이 교시되어 있다. 이에 따라 표면에 장식용 박막층을 갖는 모양부착전착화상이 얻어진다. 그러나 이 공정은 번잡하다.(4) For the above (3), Patent Document 1 teaches that a thin film layer for decoration is formed on the surface of the conductive thin film in advance before the formation of the electrodeposited image, and the electrodeposition is performed thereon. As a result, a patterned electrodeposition image having a decorative thin film layer on the surface is obtained. But this process is complicated.

본 발명은 상기의 과제를 해결하기 위해 이루어진 것으로, 고착면이 평면이고, 충분한 양의 접착제를 도공할 수 있는 모양부착금속박편 및 그 제법을 제공하는 것을 목적으로 하고 있다. 또 본 발명은 모양면에 내부식성 도금층을 간편하게 형성할 수 있는 모양부착금속박편의 제법을 제공하는 것을 목적으로 하고 있다.This invention is made | formed in order to solve the said subject, Comprising: It aims at providing the shaping | molding metal foil and its manufacturing method which can adhere | attach a fixed amount of plane, and a sufficient amount of adhesive. Moreover, an object of this invention is to provide the manufacturing method of the metal-clad metal foil with which a corrosion-resistant plating layer can be easily formed in a surface.

이와 같은 과제를 해결하는 본 발명의 요지는 이하와 같다.The summary of this invention which solves such a subject is as follows.

[1] 표면에 모양을 갖고, 단면이 대략 사다리꼴인 모양부착금속박편.[1] Shaped metal flakes having a shape on the surface and having an approximately trapezoidal cross section.

[2] 모양표면에 내부식성 도금이 행해져서 이루어지는 [1]에 기재한 모양부착금속박편.[2] The shaped metal foil as described in [1], wherein corrosion resistant plating is performed on the shaped surface.

[3] 모양을 갖는 도전성 주형에 전주를 실시하여 모양부착금속박막을 형성하고, 해당 모양부착금속박막을 소정의 패턴상으로 에칭하는 공정을 포함하는 모양부착금속박편의 제조방법.[3] A method for producing a shaped metal foil, comprising the steps of: electroforming a conductive mold having a shape to form a shaped metal thin film, and etching the shaped metal thin film in a predetermined pattern.

[4] 모양을 갖는 도전성 주형에 전주를 실시하여 모양부착금속박막을 형성하고, 해당 모양부착금속박막을 도전성 주형으로부터 박리하며, 해당 모양부착금속박막의 모양면에 내부식성 도금을 행하고, 해당 모양부착금속박막을 소정의 패턴상으로 에칭하는 공정을 포함하는 모양부착금속박편의 제조방법.[4] electroforming the conductive mold having a shape to form a metal foil with shape, peeling the metal foil with shape from the conductive mold, and performing corrosion-resistant plating on the shape surface of the metal foil with shape. A method for producing a shaped metal foil comprising a step of etching the attached metal thin film in a predetermined pattern.

이하, 본 발명에 관련되는 모양부착금속박편 및 그 제조방법에 대하여 도면을 참조하면서 더욱 구체적으로 설명한다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, the shaping | molding metal foil and its manufacturing method which concern on this invention are demonstrated in detail, referring drawings.

도 1, 2에 나타내는 바와 같이, 본 발명에 관련되는 모양부착금속박편(1)은 표면이 요철상의 모양면으로 되어 있고, 그 단면이 대략 사다리꼴의 형상을 하고 있다.As shown in FIG. 1, 2, the surface-attached metal foil 1 which concerns on this invention has the surface as an uneven | corrugated pattern surface, and the cross section is substantially trapezoid shape.

모양은 특별히 한정되지는 않고, 직물, 종이, 돌결, 나무결, 휘석, 나뭇잎, 꽃잎, 패각, 피혁, 각종 인공물(인조피혁, 조각, 조금(彫金))의 미세모양, 홀로그램, 그리팅, 헤어라인 등의 매우 미세한 패턴이어도 좋다.The shape is not particularly limited, and textiles, paper, grains, wood grains, stones, leaves, petals, shells, leathers, fine shapes of various artificial (artificial leathers, sculptures, bits), holograms, greetings, hairlines Very fine patterns, such as these, may be sufficient.

모양부착금속박편(1)은 전주 가능한 여러 가지의 금속으로 형성될 수 있는데, 비용, 입수의 용이성 등의 관점에서 니켈, 동, 철 등의 금속이 바람직하게 이용된다.The shaped metal foil 1 can be formed of various metals that can be poled, and metals such as nickel, copper, iron, etc. are preferably used in view of cost and ease of acquisition.

이와 같은 모양부착금속박편(1)은 후술하는 바와 같은 본 발명에 관련되는 모양부착금속박편의 제법에 의해 얻을 수 있고, 그 단면은 대략 사다리꼴의 형상을 하고 있다. 여기에서 대략 사다리꼴이란 모양면측의 평균평면(A)과 고착면(고착용 접착제층(3)이 형성되는 면)이 평행한 것을 의미한다. 평균평면(A)은 모양면의 요철의 산술평균에 의해 정의된다.Such shaped metal foil 1 can be obtained by the manufacturing method of the shaped metal foil which concerns on this invention mentioned later, The cross section is substantially trapezoid shape. Here, an approximately trapezoid means that the average plane A of a shape surface side, and a fixed surface (the surface in which the adhesive agent layer 3 for fastening is formed) are parallel. The mean plane A is defined by the arithmetic mean of irregularities of the shape plane.

모양부착금속박편(1)에 있어서, 측면과 고착면이 이루는 저각(θ)은 도 1에 나타낸 모양면인 윗변쪽이 고착면인 아랫변보다도 긴 형태에서는 100°를 넘고 150°이하인 것이 바람직하고, 특히 100°를 넘고 120°이하인 것이 바람직하다. 2개의 저각은 동일해도, 달라 있어도 좋다.In the shaped metal foil 1, the lower angle θ formed between the side surface and the fixing surface is preferably more than 100 ° and less than 150 ° when the upper side of the shape surface shown in FIG. 1 is longer than the lower side of the fixing surface. In particular, it is preferable to exceed 100 degrees and 120 degrees or less. The two low angles may be the same or different.

또 도 2에 나타낸 윗변쪽이 아랫변보다도 짧은 형태에서는 저각(θ)은 80°미만 50°이상인 것이 바람직하고, 특히 80°미만 60°이상인 것이 바람직하다. 2 개의 저각은 동일해도, 달라 있어도 좋다.Moreover, in the form where the upper side shown in FIG. 2 is shorter than a lower side, it is preferable that the low angle (theta) is less than 80 degrees and 50 degrees or more, and it is especially preferable that it is less than 80 degrees and 60 degrees or more. The two bottom angles may be the same or different.

본 발명의 모양부착금속박편(1)의 사용형태에는 도 1 및 도 2에 나타낸 바와 같은 사용형태가 있다. 도 1의 형태는 모양면인 윗변이 길고, 고착면인 아랫변이 짧다. 따라서 이것을 모양면측에서 본 경우에는 측면이 보이지 않고, 날카로운 인상을 주게 된다. 또 도 2의 형태는 윗변이 짧고, 아랫변이 길다. 따라서 이것을 모양면측에서 본 경우에는 측면이 보이고, 입체감이 있는 인상을 주게 된다. 본 발명의 모양부착금속박편은 목적으로 하는 시각효과에 따라서 적절하게 사용형태를 선택할 수 있다.The use form of the shaping | molding metal foil 1 of this invention has a use form as shown to FIG. 1 and FIG. The shape of FIG. 1 is long in the upper side which is a shape surface, and short in the lower side which is a fixation surface. Therefore, when this is viewed from the shape surface side, the side surface is not seen and gives a sharp impression. In addition, in the form of FIG. 2, the upper side is short and the lower side is long. Therefore, when this is seen from the shape surface side, the side surface is seen and gives a three-dimensional impression. The shaped metal foil of this invention can select a use mode suitably according to the visual effect made into the objective.

모양부착금속박편(1)은 후술하는 본 발명의 제법에 의해 얻어지기 때문에, 상기 특허문헌 1 등에 기재한 전착화상법과는 달리 고착면의 단부가 둥그스름해지는 일은 없다. 따라서 고착면에 충분한 양의 접착제를 도공할 수 있어서, 피착체(3)에 부착 후, 박편(1)의 탈락이 일어나기 어렵다.Since the shaped metal foil 1 is obtained by the manufacturing method of this invention mentioned later, unlike the electrodeposition imaging method described in the said patent document 1, the edge part of a fixed surface does not become round. Therefore, a sufficient amount of adhesive can be coated on the fixing surface, so that after the adhesion to the adherend 3, the flakes 1 do not easily fall off.

모양부착금속박편(1)의 두께는 그 용도에 따라 여러 가지인데, 일반적으로는 20∼300 ㎛정도, 바람직하게는 50∼200㎛, 더욱 바람직하게는 100∼150㎛이다. 또 모양면의 요철은 형성되는 모양에 따라서 여러 가지이다.Although the thickness of the shaped metal foil 1 is various according to the use, it is generally about 20-300 micrometers, Preferably it is 50-200 micrometers, More preferably, it is 100-150 micrometers. Moreover, the unevenness | corrugation of a shape surface is various according to the shape formed.

이와 같은 모양부착금속박편(1)은 도 1, 2에 나타내는 바와 같이 고착용 접착제층(2)을 통하여 피착체(3)상에 고착할 수 있다.As shown in Figs. 1 and 2, the shaped metal foil 1 can be fixed onto the adherend 3 via the fixing adhesive layer 2.

고착용 접착제층(2)은 예를 들면 고무계, 아크릴계, 에폭시계 등의 점착제 또는 접착제이고, 800∼3000g/25㎜폭 정도의 박리강도를 갖는 비교적 강력한 점착제 또는 접착제로 형성된다. 또 핫멜트접착제, 자외선경화형 접착제이어도 좋다.The fixing adhesive layer 2 is, for example, an adhesive or an adhesive such as rubber, acrylic or epoxy, and is formed of a relatively strong adhesive or adhesive having a peel strength of about 800 to 3000 g / 25 mm width. Moreover, a hot melt adhesive and an ultraviolet curing adhesive agent may be sufficient.

또 피착체(3)는 모양부착금속박편(1)의 용도에 따라 여러 가지이고, 예를 들면 시계용 문자판, 각종 전화(電化)제품, 각종 장식품 등이다. 또 피착체(3)에 모양부착금속박편(1)과 대략 동등크기의 오목부를 설치하고, 이 오목부 내에 모양부착금속박편(1)을 메워넣도록 해도 좋다.Moreover, the to-be-adhered body 3 is various according to the use of the shaped metal foil 1, for example, a clock face, various telephone products, various ornaments, etc. In addition, the adherend 3 may be provided with a recess of approximately the same size as the shaped metal foil 1, and the shaped metal foil 1 may be embedded in the recess.

본 발명의 모양부착금속박편(1)에 있어서는, 도 3에 나타내는 바와 같이 그 장식성이나 내부식성을 더욱 높이기 때문에 모양면에 피복층(4)이 형성되어 있어도 좋다. 피복층(4)의 두께는 그 소재에 따라 여러 가지인데, 일반적으로는 0.1∼3㎛ 정도가 가장 적합하다. 이 피복층(4)은 잉크, 도료, 수지 등의 절연성 재료로 형성되어 있어도 좋다. 또 금, 은, 백금, 주석코발트합금 등으로 이루어지는 전해도금막이어도 좋고, 무전해도금막 또는 이온플래팅막, 스퍼터링막이어도 좋다. 특히 내부식성의 부여를 목적으로 하는 경우에는 크롬, 금 등, 특히 크롬의 내부식성의 전해도금막이 바람직하다.In the patterned metal foil 1 of the present invention, as shown in Fig. 3, the decorative layer and the corrosion resistance are further enhanced, so that the coating layer 4 may be formed on the pattern surface. Although the thickness of the coating layer 4 varies with the raw material, about 0.1-3 micrometers is generally the most suitable. This coating layer 4 may be formed with insulating materials, such as ink, a coating material, and resin. Moreover, the electroplating film which consists of gold, silver, platinum, a tin cobalt alloy, etc. may be sufficient, and an electroless plating film, an ion-plating film, a sputtering film may be sufficient. In particular, for the purpose of imparting corrosion resistance, a corrosion resistant electroplating film of chromium, gold and the like, particularly chromium, is preferable.

다음으로 본 발명에 관련되는 모양부착금속박편의 제조방법에 대하여 설명한다.Next, the manufacturing method of the shaped metal foil which concerns on this invention is demonstrated.

본 발명에 관련되는 모양부착금속박편의 제조방법은 모양을 갖는 도전성 주형에 전주를 실시하여 모양부착금속박막을 형성하고, 해당 모양부착금속박막을 소정의 패턴상으로 에칭하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하고 있다.The method for producing a shaped metal foil according to the present invention includes the step of electroforming a conductive mold having a shape to form a shaped metal thin film, and etching the shaped metal thin film in a predetermined pattern. Doing.

모양을 갖는 도전성 주형은 여러 가지 방법에 의해 얻어진다. 예를 들면 모양을 갖는 물품의 표면에 도전성 도료 또는 도전성 중합체를 도포·경화하는 것으로, 모양이 전사된 도전성 수지막으로서 도전성 주형을 얻을 수 있으며, 또 모양을 갖는 물품의 표면에 무전해도금을 행하는 것으로, 모양이 전사된 무전해도금막으로서 도전성 주형을 얻을 수도 있다.A conductive mold having a shape is obtained by various methods. For example, by applying and curing a conductive paint or a conductive polymer on the surface of an article having a shape, a conductive mold can be obtained as the conductive resin film transferred to the shape, and electroless plating is performed on the surface of the article having a shape. As a result, an electroconductive mold can be obtained as the electroless plating film on which the pattern is transferred.

그러나 본 발명에 있어서는, 강도, 경제성, 조작성 및 품질의 균일성 등의 점에서 전기성형법(전주법이라고도 한다)에 의해 모양을 갖는 물품의 표면모양을 금형화하여 얻어지는 도전성 주형을 이용하는 것이 특히 바람직하다.However, in the present invention, it is particularly preferable to use an electroconductive mold obtained by forming a surface shape of an article having a shape by an electroforming method (also called electroforming method) in terms of strength, economy, operability and uniformity of quality. .

모양을 갖는 물품의 표면모양을 전기성형법에 의해 금형화하기 위해서는 모양을 갖는 물품(11)에 전주를 행한다. 해당 물품(11)이 도전성을 갖지 않는 경우에는 도 4에 나타내는 바와 같이 물품(11)표면에 금속막(12)을 형성하는 등으로 하여 해당 물품(11)에 도전성을 부여한다.In order to mold the surface shape of the shaped article by the electroforming method, electroforming is performed on the shaped article 11. When the article 11 does not have conductivity, as shown in FIG. 4, the metal film 12 is formed on the surface of the article 11 to impart conductivity to the article 11.

여기에서 해당 모양을 갖는 물품(11)으로서는, 직물, 종이, 돌결, 나무결, 휘석, 나뭇잎, 꽃잎, 패각, 피혁, 각종 미세패턴을 갖는 인공물(인조피혁, 조각, 조금)등을 들 수 있으며, 바람직하게는 직물, 종이, 돌결, 나무결, 휘석, 나뭇잎, 조각, 조금이 이용된다. 또한 홀로그램, 그리팅, 헤어라인 등의 매우 미세한 패턴이어도 좋다. Examples of the article 11 having the shape include fabrics, paper, grains, wood grains, stones, leaves, petals, shells, leathers, and artefacts having various fine patterns (artificial leathers, sculptures, pieces), and the like. Preferably, textiles, paper, grains, wood grains, ore, leaves, pieces, or bits are used. Also, very fine patterns such as holograms, greetings, and hairlines may be used.

도 4에 나타내는 바와 같이 물품(11)의 표면에는 모양이 형성되어 있다(도 4에 있어서의 표면의 요철). 도 4에 있어서는, 물품(11)의 이면에 대해서는 기재를 생략했다.As shown in FIG. 4, the pattern is formed in the surface of the article 11 (unevenness | corrugation of the surface in FIG. 4). In FIG. 4, description is abbreviate | omitted about the back surface of the article 11. As shown in FIG.

우선 물품(11)의 표면에 도전성을 부여하기 위해 물품(11)의 표면을 청정하게 한 후 물품(11)의 표면에 금속막(12)을 형성한다. 금속막(12)의 형성은 예를 들면 진공증착법, 이온플래팅법, 스퍼터링법, 무전해도금법, 은거울반응 등에 의해 실시된다. 금속막(12)은 은, 금 등의 금속 또는 이들의 합금으로 형성되고, 그 두께는 특별히 한정되지는 않는데, 모양면의 요철을 매몰시키지 않을 정도이며, 1∼30㎛ 정도, 바람직하게는 1∼10㎛ 정도가 적당하다.First, in order to impart conductivity to the surface of the article 11, the surface of the article 11 is cleaned, and then a metal film 12 is formed on the surface of the article 11. The metal film 12 is formed by, for example, a vacuum deposition method, an ion plating method, a sputtering method, an electroless plating method, a silver mirror reaction, or the like. The metal film 12 is formed of a metal such as silver or gold or an alloy thereof, and the thickness thereof is not particularly limited. The metal film 12 is not embedded in the concave-convex shape of the shape surface, and is preferably about 1 to 30 μm, preferably 1 About 10 micrometers is suitable.

또한 상기한 바와 같이 물품(11)이 도전성을 갖는 경우에는 금속막(12)을 형성할 필요는 없다.As described above, when the article 11 is conductive, it is not necessary to form the metal film 12.

다음으로 필요에 따라서 금속막(12)의 표면에 박리처리를 행한다. 물품(11)이 도전성을 갖는 경우에는 물품(11)의 표면에 직접 박리처리를 행한다. 박리처리는 아셀렌산처리, 중크롬산칼륨처리, 양극산화 등에 의해 실시할 수 있다. 박리처리를 행해 두면 도전성 주형(13)(전기성형형)의 박리가 용이하게 된다.Next, a peeling process is performed to the surface of the metal film 12 as needed. When the article 11 is conductive, the surface of the article 11 is directly peeled off. The peeling treatment can be performed by selenic acid treatment, potassium dichromate treatment, anodization or the like. When the peeling treatment is performed, the conductive mold 13 (electroforming) is easily peeled off.

다음으로 도 5에 나타내는 바와 같이, 상기 물품(11)의 표면 또는 금속막(12)의 표면에 전기성형법(전주법)에 의해 금속을 석출시켜서 모양이 전사된 도전성 주형(13)을 형성한다.Next, as shown in FIG. 5, a metal is deposited on the surface of the article 11 or the surface of the metal film 12 by an electroforming method (electric casting method) to form a conductive mold 13 whose shape is transferred.

도전성 주형(13)의 재질로서는, 니켈, 동, 철 등의 금속, 또는 이들의 합금이 바람직하게 이용된다.Examples of the material of the conductive mold 13 include nickel, copper, iron, and the like. Metals or alloys thereof are preferably used.

도전성 주형(13)의 두께는 100∼500㎛의 범위에 있다. 도전성 주형(13)의 두께가 이 범위에 있으면 알맞은 탄력을 갖기 때문에 조작성이 양호하다.The thickness of the electroconductive mold 13 exists in the range of 100-500 micrometers. If the thickness of the electroconductive mold 13 exists in this range, since it will have moderate elasticity, operability is favorable.

전사되는 모양의 깊이가 10㎛ 미만인 경우는 도전성 주형(13)의 두께는 100∼200㎛ 정도가 바람직하다. 또 모양의 깊이가 10∼50㎛인 경우는 도전성 주형(13)의 두께는 200∼300㎛ 정도가 바람직하다. 또한 모양의 깊이가 50∼100㎛인 경우는 도전성 주형(13)의 두께는 300∼500㎛ 정도가 바람직하다.When the depth of the pattern to be transferred is less than 10 µm, the thickness of the conductive mold 13 is preferably about 100 to 200 µm. Moreover, when the depth of a pattern is 10-50 micrometers, about 200-300 micrometers of the thickness of the electroconductive mold 13 are preferable. Moreover, when the depth of a pattern is 50-100 micrometers, the thickness of the electroconductive mold 13 is preferable about 300-500 micrometers.

전기성형시의 조건은 특별히 제한되는 일 없이, 종래 공지의 전기성형(도금) 조건으로부터 적절하게 선택된다. 전혀 한정되는 것은 아니지만, 이하에 니켈금속을 이용하여 두께 200㎛의 도전성 주형(13)을 얻는 경우의 전기성형조건을 간단하게 설명한다.The conditions at the time of electroforming are not particularly limited, and are appropriately selected from conventionally known electroforming (plating) conditions. Although not limited at all, the electroforming conditions in the case of obtaining the conductive mold 13 having a thickness of 200 mu m using nickel metal will be briefly described below.

우선 전처리로서 모양을 갖는 물품(11) 또는 금속막(12)의 표면에 전해탈지, 수세, 산중화, 수세, 박리처리(중크롬산칼륨), 수세의 각 처리를 실시한다.First, electrolytic degreasing, washing with water, acid neutralization, washing with water, peeling treatment (potassium dichromate) and washing with water are performed on the surface of the article 11 or the metal film 12 having a shape as pretreatment.

다음으로 니켈도금욕(술팜산니켈 450g/리터, 붕산 40g/리터)을 이용하고, 액온 50℃에서 265AH(1A/d㎡)로 전주를 실시하는 것으로, 두께 200㎛의 도전성 주형(13)이 얻어진다.Next, a nickel plating bath (450 g / liter sulfamate, 40 g / liter boric acid) was used to perform electroforming at 265AH (1 A / dm 2) at a liquid temperature of 50 ° C., whereby the conductive mold 13 having a thickness of 200 μm was formed. Obtained.

다음으로 상기 물품(11)의 표면 또는 금속막(12)의 표면으로부터 도전성 주형(13)을 박리하는 것으로, 금형화한 모양면을 갖는 도전성 주형(13)(전기성형형)이 얻어진다.Next, by peeling the conductive mold 13 from the surface of the article 11 or the surface of the metal film 12, a conductive mold 13 (electroforming) having a mold surface is obtained.

또한 모양을 갖는 물품(11) 자체가 도전성을 갖는 경우에는 물품(11)을 도전성 주형(13)으로서 이용할 수도 있다.In addition, when the shaped article 11 itself has conductivity, the article 11 may be used as the conductive mold 13.

본 발명에 있어서는, 도전성 주형(13)의 모양면에 전주를 행하는 것으로, 모양부착금속박막을 얻는다. 모양부착금속박막의 제조는 도전성 주형(13)의 제조와 마찬가지로 통상의 전주법에 준하여 실시할 수 있는데, 품질의 향상 및 조작성 점 등의 관점에서 이하와 같은 공정을 부가하는 것이 특히 바람직하다.In the present invention, the metal-coated thin film is obtained by performing electroforming on the surface of the conductive mold 13. The manufacture of the patterned metal thin film can be carried out in accordance with the ordinary electroforming method similarly to the production of the conductive mold 13, but it is particularly preferable to add the following steps from the viewpoint of improvement of quality and operability.

도전성 주형(13)은 상기한 바와 같이 그 두께가 100∼500㎛ 정도로 얇기 때문에 취급이 곤란해지는 경우가 있다. 따라서 본 발명에서는 도 6에 나타내는 바 와 같이, 도전성 주형(13)의 평활면(모양면의 반대측)을 도전성 기재(14)상에 고정하여 모양부착금속박막의 제조를 실시하는 것이 바람직하다.Since the electroconductive mold 13 is thin as about 100-500 micrometers as mentioned above, handling may become difficult. Therefore, in this invention, as shown in FIG. 6, it is preferable to fix the smooth surface (opposite side of a shape surface) of the electroconductive mold 13 on the electroconductive base material 14, and to manufacture a shaping metal thin film.

여기에서 도전성 기재(14)로서는, 충분한 강도를 갖고, 도전성을 가지며, 또한 도전성 주형(13)을 고정할 수 있는 것이면 여러 가지의 판상 부재를 이용할 수 있다. 따라서 예를 들면 도전성 기재(14)로서는, 도전성 마그넷러버, 자성금속판 등의 자성도전판이 바람직하게 이용된다. 또 통상의 금속판, 도전성 폴리머시트 등에 도전성의 재박리형 점착제를 통하여 도전성 주형(13)을 고정해도 좋다. 도전성 주형(13)의 평활면(모양면의 반대측)을 도전성 기재(14)상에 고정해 두면 도전성 주형(13)의 취급이 용이하게 되는 동시에, 전주시의 진동 등도 방지할 수 있기 때문에 품질이 높은 모양부착금속박막(15)이 얻어진다.Here, as the conductive base material 14, various plate members can be used as long as they have sufficient strength, have conductivity, and can fix the conductive mold 13. Therefore, for example, as the conductive substrate 14, magnetic conductive plates such as conductive magnet rubbers and magnetic metal plates are preferably used. Moreover, you may fix the electroconductive mold 13 to a normal metal plate, an electroconductive polymer sheet, etc. through electroconductive peelable type | mold adhesive. When the smooth surface (the opposite side of the shape surface) of the electroconductive mold 13 is fixed on the electroconductive base material 14, handling of the electroconductive mold 13 becomes easy, and also the vibration etc. at the time of electric pole can be prevented, The shaped metal thin film 15 is obtained.

모양부착금속박막(15)은 도전성 주형(13)의 모양면에 전주에 의해 금속을 석출시키는 것으로 얻어진다. 이에 따라 도 7에 나타내는 바와 같이, 도전성 주형(13)의 모양면의 요철이 석출하는 금속박막에도 마찬가지로 형성되기 때문에 모양부착금속박막(15)이 얻어진다.The patterned metal thin film 15 is obtained by depositing a metal on the surface of the conductive mold 13 by electroforming. As a result, as shown in FIG. 7, the patterned metal thin film 15 is obtained because the same is also formed in the metal thin film in which the unevenness of the surface of the conductive mold 13 precipitates.

여기에 모양부착금속박막(15)을 형성하는 금속으로서, 예를 들면 니켈을 사용한 경우에는 와트액으로서 황산니켈액을 사용함으로써 도전성 주형(13)의 모양면 상에 니켈을 전착시킨다. 이 때의 전착조건으로서는, 예를 들면 150mm×150mm의 전주유효면적에 대하여 3A/d㎡의 전류를 흘림으로써 3시간에 100㎛±10㎛의 금속박막을 얻을 수 있다.Nickel is electrodeposited on the surface of the electroconductive mold 13 by using nickel sulfate liquid as a watt liquid, for example, when nickel is used as a metal which forms the shaping metal thin film 15 here. As electrodeposition conditions at this time, for example, a metal thin film having a thickness of 100 μm ± 10 μm can be obtained in 3 hours by flowing a current of 3 A / dm 2 with respect to the effective area of the pole of 150 mm × 150 mm.

또한 상기 니켈 외에 금, 은, 동, 철 또는 합금 등의 임의의 금속을 석출시 키고, 모양부착금속박막(15)을 형성해도 좋은 것은 물론이고, 또 전주조건을 바꿈으로써 예를 들면 20∼300㎛ 정도의 범위에서 임의의 두께의 모양부착금속박막(15)을 얻을 수 있다.In addition to the above nickel, any metal such as gold, silver, copper, iron, or alloy may be deposited to form the thin metal film 15 having a shape, and of course, for example, 20 to 300 by changing the pole conditions. The shape-attached metal thin film 15 of arbitrary thickness can be obtained in the range of about micrometer.

본 발명에 있어서는, 전주에 앞서서 도전성 주형(13)의 모양면에 박리처리를 행하는 것이 바람직하다. 박리처리는 상기와 마찬가지의 방법으로 실시할 수 있다. 박리처리를 행해 두면 얻어지는 모양부착금속박막(15)을 도전성 주형(13)으로부터 용이하게 박리할 수 있다.In this invention, it is preferable to perform a peeling process to the pattern surface of the electroconductive mold 13 before electroforming. Peeling process can be performed by the method similar to the above. When the peeling treatment is performed, the patterned metal thin film 15 obtained can be easily peeled from the conductive mold 13.

모양부착금속박막(15)을 도전성 주형(13)으로부터 박리한 후 모양부착금속박막(15)을 소정의 문자, 도형패턴에 에칭하는 것으로 본 발명의 모양부착금속박편(1)이 얻어진다.After peeling the shaping metal thin film 15 from the electroconductive mold 13, the shaping metal thin film 1 of this invention is obtained by etching the shaping metal thin film 15 to predetermined | prescribed character and figure pattern.

또 에칭에 앞서서 모양부착금속박막(15)의 모양면에 상기한 피복층(4), 바람직하게는 내부식성 도금막을 형성해 두어도 좋다.In addition, the above-described coating layer 4, preferably a corrosion-resistant plating film, may be formed on the pattern surface of the patterned metal thin film 15 before etching.

모양부착금속박막(15)의 에칭은 금속박을 에칭하는 공지의 수법에 준하여 실시할 수 있다. 구체적으로는 모양부착금속박막(15)에 액레지스트, 레지스트잉크를 도포건조 또는 드라이레지스트필름을 붙이는 것으로 레지스트막을 형성하고, 이를 소망의 문자, 도형패턴상으로 노광, 현상을 실시하며, 그 후 에칭을 실시하는 것으로 소망 형상의 모양부착금속박편(1)이 얻어진다.The etched metal thin film 15 can be etched according to a known method for etching metal foil. Specifically, a resist film is formed by applying a dry or dry resist film to a shape-resisting metal thin film 15 by applying an application resist or a resist ink, and exposing and developing the resist film on a desired character or figure pattern, and then etching. By carrying out, the shaped metal foil 1 of a desired shape is obtained.

레지스트막의 형성은 모양부착금속박막(15)의 모양면에 실시해도 좋고, 또 모양면의 반대면(고착면)에 실시해도 좋다. 모양부착금속박막(15)의 고착면에 레지스트막을 형성하고, 고착면측으로부터 에칭을 실시하면 도 1에 나타내는 바와 같 은 단면형상의 모양부착금속박편이 얻어진다. 모양부착금속박막(15)의 모양면에 레지스트막을 형성하고, 모양면측으로부터 에칭을 실시하면 도 2에 나타내는 바와 같은 단면형상의 모양부착금속박편이 얻어진다.The formation of the resist film may be performed on the pattern surface of the patterned metal thin film 15, or on the opposite surface (fixed surface) of the pattern surface. When a resist film is formed on the fixing surface of the shaping metal thin film 15, and etching is performed from the fixing surface side, the shaping metal foil of the cross-sectional shape as shown in FIG. 1 is obtained. When a resist film is formed on the pattern surface of the pattern-shaped metal thin film 15, and etching is performed from the pattern surface side, the shaped metal sheet with a cross-sectional shape as shown in Fig. 2 is obtained.

또 소망 형상의 모양부착금속박편을 형성하는 동시에, 위치결정, 고착용 접착제층(2) 형성시의 마스크 등에 이용되는 공정관리용 금속박편을 형성해도 좋다.In addition, a metal foil with a desired shape may be formed, and at the same time, a metal foil for process control used for a mask during positioning and fixing adhesive layer 2 may be formed.

이하 모양부착금속박막(15)의 고착면에 레지스트막을 형성하고, 고착면측으로부터 에칭하는 경우에 대하여 더욱 구체적으로 설명한다.Hereinafter, the case where a resist film is formed in the adhesion surface of the shaping metal thin film 15, and it etches from the adhesion surface side is demonstrated more concretely.

우선 필요로 하는 네거티브 또는 포지티브의 포토마스크필름을 사진이나 인쇄 등에 의해서 작성한다. 이 필름에는 목적으로 하는 모양부착금속박편에 대응하는 문자, 도형패턴의 화상도와 필요에 따라서 형성되는 공정관리용 금속박편의 형상에 대응하는 화상도가 검은잉크 등으로 그려져 있다.First, the necessary negative or positive photomask film is prepared by photographs or printing. In this film, the letters corresponding to the target metal foils, the image patterns of the figure patterns, and the image diagrams corresponding to the shapes of the metal foils for process control to be formed as required are drawn with black ink or the like.

한편 모양부착금속박막(15)의 고착면에 액레지스트, 드라이필름레지스트 또는 인쇄용 레지스트잉크 등의 포토레지스트를 도포하고, 인화를 실시한다. 그리고 포토레지스트상에 상기 포토마스크필름을 얹고, 이 상태에서 노광기 등에 의한 노광을 실시한다. 이 노광 후에 현상을 실시하고, 노광되지 않은 포토레지스트를 제거하며, 이에 의하여 도 8에 나타내는 바와 같이, 모양부착금속박막(15)의 고착면에 상기 화상도의 형상을 따른 형상의 레지스트막(16) 및 노출부(17)를 형성한다.On the other hand, a photoresist such as an liquid resist, a dry film resist, or a printing ink for printing is applied to the fixing surface of the metal-attached metal thin film 15, and then printed. Then, the photomask film is placed on the photoresist, and exposure is performed with an exposure machine or the like in this state. After this exposure, development is performed to remove the unexposed photoresist, whereby the resist film 16 having a shape in accordance with the shape of the image diagram on the fixing surface of the shaped metal thin film 15 as shown in FIG. 8. And the exposed portion 17 is formed.

고착면측으로부터 에칭을 실시하는 경우에는 상기 포토마스크는 목적으로 하는 문자, 도형의 반전패턴이다.When etching is performed from the fixing surface side, the photomask is an inversion pattern of a character and a target object.

또한 이 때 모양면측에 에칭액이 침수하여 불필요한 에칭이 실시되는 것을 방지하고, 또 에칭 후의 패턴의 위치어긋남 및 탈락을 방지하기 위해 모양부착금속박막(15)의 모양면측에 점착시트(18)를 부착해 두는 것이 바람직하다. 점착시트로서는, 나중의 박리가 용이한 것에서 자외선경화형 점착시트가 특히 바람직하게 이용된다. 자외선경화형 점착시트는 자외선의 조사 전에 충분한 접착력으로 피착체에 접착하고, 자외선조사에 의해서 중합경화하며, 접착력을 잃는 성질을 갖는다. 이와 같은 자외선경화형 점착시트는 여러 가지 시판되고 있다.At this time, the adhesive sheet 18 is attached to the shape surface side of the metal thin film 15 to prevent the etching from being immersed in the shape surface side and to prevent unnecessary etching and to prevent the displacement and dropping of the pattern after etching. It is desirable to do so. As the pressure sensitive adhesive sheet, an ultraviolet curable pressure sensitive adhesive sheet is particularly preferably used since it is easy to peel later. The ultraviolet curable pressure sensitive adhesive sheet has a property of adhering to the adherend with sufficient adhesive force before irradiation of ultraviolet rays, polymerizing curing by ultraviolet irradiation, and losing the adhesive force. Such ultraviolet curing adhesive sheets are commercially available.

다음으로 레지스트막이 형성된 고착면측으로부터 에칭액을 분무하고, 풀에칭을 실시한다. 이에 따라 상기 노출부(17)에 에칭액이 침수하고, 이 부분의 금속박막(15)이 제거되며, 소망의 문자, 도형패턴이 형성되고, 도 9에 나타내는 바와 같이 모양부착금속박편(1)이 얻어진다.Next, etching liquid is sprayed from the fixing surface side in which the resist film was formed, and full etching is performed. As a result, an etching solution is immersed in the exposed portion 17, the metal thin film 15 in this portion is removed, a desired letter and figure pattern is formed, and the shaped metal foil 1 is formed as shown in FIG. Obtained.

에칭액, 에칭조건은 금속박막(15)의 재질, 두께를 고려하여 공지의 범위에서 적절히 선택된다. 에칭은 고착면측으로부터 진행하기 때문에 고착면측이 크게 에칭되고, 모양면측이 약간 에칭될 뿐으로 된다. 이 때문에 금속박편(1)의 측면은 테이퍼상으로 에칭되게 되어 고착면측으로부터 에칭을 실시한 경우에는 도 1에 나타낸 단면형상의 모양부착금속박편이 얻어진다. 또 모양면측으로부터 에칭을 실시한 경우에는 도 2에 나타낸 단면형상의 모양부착금속박편이 얻어진다. 그러나 에칭시간이 너무 길면, 과잉하게 사이드에칭되는 일이 있다. 따라서 소망의 단면형상을 달성하기 위해 에칭시간을 적절히 조정하는 것이 바람직하다.The etching solution and the etching conditions are appropriately selected in a known range in consideration of the material and thickness of the metal thin film 15. Since the etching proceeds from the fixing surface side, the fixing surface side is largely etched, and the shape surface side is only slightly etched. For this reason, the side surface of the metal foil 1 is etched in taper shape, and when the etching is performed from the fixing surface side, the shaped metal foil with a cross-sectional shape shown in FIG. 1 is obtained. Moreover, when etching is performed from the surface side, the cross-sectional shaped metal foil with a cross section shown in FIG. 2 is obtained. However, when etching time is too long, it may be excessively side etched. Therefore, it is desirable to adjust the etching time appropriately in order to achieve a desired cross-sectional shape.

그 후, 박리액에 침지시켜서 고착면상에 잔착하고 있는 포토레지스트를 제거하면 도 10에 나타내는 바와 같이, 점착시트(18)상에 모양부착금속박편(1)과 필요 에 따라서 형성되는 공정관리용 금속박편(21, 22)이 잔류한다. 도 11에 도 10의 평면도의 한 예를 나타낸다. 이 예에서는 목표로 하는 모양부착금속박편(1)은 문자패턴「XYZ」이고, 공정관리용 위치결정패턴(21) 및 공정관리용 마스크패턴(22)이 형성되어 있다. 문자패턴인 XYZ는 고착면측이 나타내어져 있기 때문에 반전패턴으로 된다.Subsequently, when the photoresist remaining on the fixing surface by removing the photoresist is immersed in the stripping solution, as shown in FIG. 10, the metal-clad metal foil 1 and the process control metal formed as necessary on the adhesive sheet 18. The flakes 21 and 22 remain. An example of the top view of FIG. 10 is shown in FIG. In this example, the target metal foil 1 as a target is a letter pattern " XYZ ", and a process control positioning pattern 21 and a process control mask pattern 22 are formed. XYZ, which is a character pattern, is a reversed pattern because the fixing surface side is shown.

다음으로 고착면측에 고착용 접착제층(2)을 형성한다. 고착용 접착제의 구체예는 상기한 바와 같다. 고착용 접착제층(2)은 피착체에 불필요한 접착제가 부착하는 것을 방지하기 위해 모양부착금속박편(1)의 고착면에만 형성하는 것이 바람직하다. 따라서 고착용 접착제층(2)을 형성할 때에 문자패턴형상의 개구부를 갖는 별도 준비한 마스크를 문자패턴상으로 위치맞춤하여 얹어서 고착용 접착제층을 형성하고, 그 후 해당 마스크를 제거하는 것이 추천된다. 그러나 도 11에 나타낸 바와 같이, 공정관리용 마스크패턴(22)을 형성한 경우에는 별도 마스크를 준비할 필요는 없다. 이 경우 모양부착금속박편(1) 및 공정관리용 마스크패턴(22)의 노출면 전면에 고착용 접착제층을 형성하고, 그 후 공정관리용 마스크패턴(22)을 제거하면 모양부착금속박편(1)의 고착면에만 고착용 접착제층(2)이 형성되게 된다.Next, the fixing adhesive layer 2 is formed on the fixing surface side. Specific examples of the fixing adhesive are as described above. The fixing adhesive layer 2 is preferably formed only on the fixing surface of the shaped metal foil 1 in order to prevent unnecessary adhesive from adhering to the adherend. Therefore, when the fixing adhesive layer 2 is formed, it is recommended that a separately prepared mask having an opening having a letter pattern shape is placed on the letter pattern to form a fixing adhesive layer, and then the mask is removed. However, as shown in FIG. 11, when the process control mask pattern 22 is formed, it is not necessary to prepare a mask separately. In this case, when the adhesive bonding layer is formed on the entire exposed surface of the shaped metal foil 1 and the process control mask pattern 22, and then the process control mask pattern 22 is removed, the shaped metal foil 1 The adhesive layer 2 for fixing is formed only on the fixing surface of the).

다음으로 고착용 접착제층(2)을 통하여 모양부착금속박편(1)을 소망의 피착체(3)에 고착한다. 고착용 접착제로서 상기 점착시트(18)의 접착력보다도 큰 접착력을 갖는 접착제를 선택하면 점착시트(18)상에 정렬가착된 모양부착금속박편(1)을 고착용 접착제층(2)을 통하여 피착체(3)에 고착하고, 그 후 점착시트(18)를 제거하면 모양부착금속박편(1)은 피착체측에 전사고착된다. 또 점착시트(18)가 자외선경 화형 점착시트인 경우에는 자외선조사에 의해 점착시트(18)의 접착력이 격감하기 때문에 모양부착금속박편(1)의 피착체로의 전사를 확실하게 실시할 수 있게 된다.Next, the shaped metal foil 1 is fixed to the desired adherend 3 through the fixing adhesive layer 2. When the adhesive having a larger adhesive strength than the adhesive force of the adhesive sheet 18 is selected as the adhesive for fixing, the adhered body is formed by attaching the shape-attached metal foil 1 adhered onto the adhesive sheet 18 through the adhesive layer 2. When the adhesive sheet 18 is removed after fixing to (3), the shaped metal foil 1 is transferred and fixed to the adherend side. Moreover, when the adhesive sheet 18 is an ultraviolet curing adhesive sheet, since the adhesive force of the adhesive sheet 18 decreases by ultraviolet irradiation, transfer of the shaped metal foil 1 to the to-be-adhered body can be performed reliably. .

이와 같은 공정을 거쳐서 도 1에 나타낸 바와 같은 모양부착금속박편(1)의 피착체(3)로의 고착이 실시된다.Through such a process, fixing to the adherend 3 of the shaped metal foil 1 as shown in FIG. 1 is performed.

또한 모양면측으로부터 에칭을 실시한 경우에는 점착시트(18)상에 정렬가착된 모양부착금속박편(1) 및 공정관리용 패턴을 일단 다른 점착시트에 전사하고, 고착면측을 노출시켜서 고착용 접착제층(2)을 형성한다. 그 밖의 공정은 상기와 마찬가지이다.In the case where etching is performed from the shape surface side, the shape-attached metal foil 1 and the process control pattern aligned on the adhesive sheet 18 are once transferred to another adhesive sheet, and the adhesive surface for fixing is exposed by exposing the fixing surface side. 2) form. Other processes are the same as above.

본 발명에 따르면, 고착면이 평면이고, 충분한 양의 접착제를 도공할 수 있는 모양부착금속박편 및 그 제법이 제공된다. 또 본 발명의 제법에 따르면, 모양면에 내부식성 도금층을 간편하게 형성할 수 있다.According to the present invention, there is provided a shaped metal foil and a manufacturing method thereof, wherein the fixing surface is flat and capable of coating a sufficient amount of adhesive. Moreover, according to the manufacturing method of this invention, a corrosion-resistant plating layer can be easily formed in a shaped surface.

Claims (6)

모양을 갖는 도전성 주형에 전기주조를 실시하여 모양부착금속박막을 형성하고, 해당 모양부착금속박막을 해당 도전성 주형으로부터 박리하며, 해당 모양부착금속박막의 모양면의 반대면에 소망하는 문자 또는 도형패턴에 대응하는 레지스트막을 형성하고, 해당 레지스트막으로부터 모양부착금속박막이 노출되어 있는 노출부에 에칭액을 침수시켜서 해당 노출부의 모양부착금속박막을 테이퍼상으로 에칭하여 상기 소망하는 문자 또는 도형패턴상으로 형성된 모양부착금속박편을 제조하는 방법.Electroforming is performed on a conductive mold having a shape to form a metal foil with a shape, the metal foil with a shape is peeled off from the conductive mold, and a desired character or figure pattern on the opposite side of the shape face of the metal foil with the shape. Forming a resist film, and immersing the etchant in an exposed portion where the shaped metal thin film is exposed from the resist film, and etching the shaped metal thin film of the exposed portion into a tapered shape to form the desired character or figure pattern. Method of manufacturing a shaped metal foil. 모양을 갖는 도전성 주형에 전기주조를 실시하여 모양부착금속박막을 형성하고, 해당 모양부착금속박막을 해당 도전성 주형으로부터 박리하며, 해당 모양부착금속박막의 모양면에 소망하는 문자 또는 도형패턴에 대응하는 레지스트막을 형성하며, 해당 레지스트막으로부터 모양부착금속박막이 노출되어 있는 노출부에 에칭액을 침수시켜서 해당 노출부의 모양부착금속박막을 테이퍼상으로 에칭하여 상기 소망하는 문자 또는 도형패턴상으로 형성된 모양부착금속박편을 제조하는 방법.Electroforming on a conductive mold having a shape to form a shaped metal thin film, peeling the shaped metal thin film from the conductive mold, and corresponding to a desired character or figure pattern on the shaped surface of the shaped metal thin film. A resist film is formed, and the etching solution is immersed in an exposed portion where the shaped metal thin film is exposed from the resist film, and the shaped metal thin film is etched in a tapered shape to form the desired shaped character or figure pattern. How to prepare flakes. 모양을 갖는 도전성 주형에 전기주조를 실시하여 모양부착금속박막을 형성하고, 해당 모양부착금속박막을 해당 도전성 주형으로부터 박리하며, 해당 모양부착금속박막의 모양면에 내부식성 도금을 행하고, 해당 모양부착금속박막의 모양면의 반대면에 소망하는 문자 또는 도형패턴에 대응하는 레지스트막을 형성하며, 해당 레지스트막으로부터 모양부착금속박막이 노출되어 있는 노출부에 에칭액을 침수시켜서 해당 노출부의 모양부착금속박막을 테이퍼상으로 에칭하여 상기 소망하는 문자 또는 도형패턴상으로 형성된 모양부착금속박편을 제조하는 방법.Electroforming is performed on a conductive mold having a shape to form a shaped metal thin film, the shaped metal thin film is peeled from the conductive mold, and a corrosion-resistant plating is performed on the shaped surface of the shaped metal thin film. A resist film corresponding to a desired character or figure pattern is formed on the opposite side of the shape surface of the metal thin film, and the etching solution is immersed in the exposed portion where the shape-attached metal thin film is exposed from the resist film, thereby forming the shape-shaped metal thin film of the exposed portion. A method of manufacturing a shape-attached metal foil formed by etching in a tapered shape on the desired character or figure pattern. 모양을 갖는 도전성 주형에 전기주조를 실시하여 모양부착금속박막을 형성하고, 해당 모양부착금속박막을 해당 도전성 주형으로부터 박리하며, 해당 모양부착금속박막의 모양면에 내부식성 도금을 행하고, 해당 모양부착금속박막의 모양면에 소망하는 문자 또는 도형패턴에 대응하는 레지스트막을 형성하며, 해당 레지스트막으로부터 모양부착금속박막이 노출되어 있는 노출부에 에칭액을 침수시켜서 해당 노출부의 모양부착금속박막을 테이퍼상으로 에칭하여 상기 소망하는 문자 또는 도형패턴상으로 형성된 모양부착금속박편을 제조하는 방법.Electroforming is performed on a conductive mold having a shape to form a shaped metal thin film, the shaped metal thin film is peeled from the conductive mold, and a corrosion-resistant plating is performed on the shaped surface of the shaped metal thin film. A resist film corresponding to a desired character or figure pattern is formed on the shape surface of the metal thin film, and the etching solution is immersed in the exposed portion where the shape-attached metal thin film is exposed from the resist film to taper the shape-shaped metal thin film of the exposed portion. Etching to form a shaped metal foil formed into the desired character or figure pattern. 제 1 항 또는 제 3 항에 기재한 제조방법에 의해서 얻어지는 것을 특징으로 하는 모양부착금속박편.It is obtained by the manufacturing method of Claim 1 or 3, The shaped metal foil characterized by the above-mentioned. 제 2 항 또는 제 4 항에 기재한 제조방법에 의해서 얻어지는 것을 특징으로 하는 모양부착금속박편.It is obtained by the manufacturing method of Claim 2 or 4, The shaped metal foil characterized by the above-mentioned.
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