KR100625603B1 - 니트 디자인 방법 및 장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명의 목적은, 실제로 편성되는 편성포에 가까운 스티치의 시뮬레이션 화상을 신속하게 표시하는 것이다. 상측 레이어1과 하측 레이어2의 사이에서 대응하는 스티치의 위치에 화상이 존재하면, 우선도가 높은 상측 레이어1의 패턴용 스티치11이나 변형 스티치12, 13의 화상을 표시한다. 각 레이어 내에서는, 미리 모듈화 된 스티치의 조합을 라이브러리에서 선택하여 스티치 화상의 위치 및 형상을 변경하는 편집조작이 가능하다. 패턴용 스티치11 주위의 스티치는, 패턴용 스티치의 편성에 의한 영향이 반영되어 변형 스티치12, 13으로 치환할 수 있다. 기본 스티치10이나 패턴용 스티치11, 변형 스티치12, 13의 화상데이터는, 실제의 편성포 촬영이나 컴퓨터 그래픽을 이용하여 작성하여 기억한다. 기억되어 있는 화상데이터를 조합하여 실제로 편성되는 편성포에 가까운 스티치의 시뮬레이션 화상을 신속하게 표시할 수 있다.

Description

니트 디자인 방법 및 장치{KNIT DESIGN METHOD AND DEVICE}
본 발명은, 니트 제품(knit 製品)의 편성포 화상(編成布 畵像)을 시뮬레이션(simulation) 하여 표시할 수 있는 니트 디자인 방법 및 장치에 관한 것이다.
종래로부터 니트 제품의 편성포 디자인에는, 예를 들면 일본공업규격인 JISL0200에 규정되어 있는 스티치(stitch) 기호나 편성 기호 등 편성포 편성용 표시방법이 이용되고 있다. 스티치 기호는 프론트 스티치(front stitch)나 백 스티치(back stitch), 프론트 턱 스티치(front tuck stitch), 백 턱 스티치(back tuck stitch), 플로트 스티치(float stitch), 트랜스퍼 스티치(transfer stitch) 등 각종 스티치 조직을 나타내는 기호이다. 편성 기호는 각 스티치 기호에 대응하여 편침(編針)의 편성순서를 나타내는 기호이다. 편성포 편성용 표시방법은, 편성포를 구성하는 개개의 스티치를 지정하고, 이 지정에 따라 자동횡편기(自動橫編機)에 의하여 편성포를 편성하기 위한 편성데이터(編成 data)를 생성할 수 있다.
본건 출원인은 일본국 공개특허공보 특개소60-71748호 공보에서, 스티치 기호를 색 코드(色 code)로 치환하여 표시하고, 자동횡편기에 대한 편성데이터를 생성하는 기술을 제안하였다. 스티치 기호를 색 코드로 치환함으로써 컴퓨터(computer)에 의한 화상처리(畵像處理)에 의하여 편성포로서 디자인(design)하는 것이 용이하게 되어 더 많은 색을 사용하여 표시수단에 더 많은 종류의 스티치 조직을 표시할 수 있다.
본건 출원인은 또한 일본국 공개특허공보 특개평7-70890호 공보에서, 편성포 편성용 데이터를 이용하여 편성포를 구성하는 스티치의 루프 화상(loop 畵像)을 시뮬레이션 하여 생성함으로써 편물(編物)의 시뮬레이션 화상(simulation 畵像)을 표시하는 기술을 제안하였다. 또한 일본국 공개특허공보 특개평9-111617호 공보에서, 편성포 편성용 데이터를 생성하기 위한 니트 디자인을 할 때에 화상데이터(畵像 data)를 복수의 레이어(layer)로 분해하고, 레이어의 우선(優先) 표시와 그룹화를 가능하게 하여 디자인의 용이화를 도모하는 기술을 제안하였다.
니트 디자인을 할 때에 편성포 편성용 표시방법을 이용하면 표시되는 화상은, 그 편성포 편성용 데이터에 따라 편성되는 실제 편성포의 이미지(image)를 반드시 충실하게 반영한다고는 할 수 없다. 따라서 편성포 편성용 데이터를 사용하여 편성포의 디자인을 하는 디자이너(designer)는, 디자인을 할 때에 실제 편성포의 이미지를 상상하는 능력이 요구되어 편성포를 직감적(直感的)으로 디자인할 수 없다.
일본국 공개특허공보 특개평7-70890호 공보에서 제안하고 있는 스티치 루프의 시뮬레이션을 이용하면, 실제의 편성포를 직감적(直感的)으로 디자인할 수 있다. 이 기술에서는, 미리 편사(編絲)의 화상데이터를 기억하여 두고, 편성포 편성용 데이터를 기초로 스티치의 각 루프(loop)의 형상, 위치, 각 부의 명암(明暗) 등을 결정하여 복수의 세그먼트(segment)로 분할하고, 편사의 화상데이터를 분할한 세그먼트에 대응시켜서 루프로서 합성하는 화상처리를 한다. 이 때문에 처리에 시간이 걸려서 디자인 수정 등의 조작에 대한 화상표시의 추종성(追從成)이 충분하지 않다. 또한 실제의 횡편기에 의하여 편성되는 편성포에서는, 먼저 편성되는 코스의 스티치 형상이 뒤에서 편성되는 코스의 스티치 형상의 영향을 받아 변형되지만, 이러한 변형에 대하여 적절하게 반영시킬 수 없다.
본 발명의 목적은, 실제로 편성되는 편성포에 가까운 스티치의 화상을 신속하게 표시할 수 있는 니트 디자인 방법 및 장치를 제공하는 것이다.
본 발명은, 편성포(編成布)의 화상(畵像)을 표시하면서 편성포의 디자인을 하는 니트 디자인(knit design) 방법으로서,
미리 정하여진 기본적인 편성포를 편성하기 위한 기본 스티치(基本 stitch)의 형상을 나타내는 화상과 편성포의 스티치를 기본 스티치의 형상 으로부터 변화시켜서 조직패턴(structure pattern)을 형성하기 위한 패턴용 스티치의 형상을 나타내는 화상을 조합하여 편성포를 디자인하는 것을 가능하게 하고,
패턴용 스티치를 편성하는 영향에 의하여 그 패턴용 스티치 주위의 스티치가 위치에 따라 변형을 받는 형상을 나타내는 복수의 변형 스티치(變形 stitch)의 화상을 기본 스티치와 변형 스티치의 조합에 의거하여 복수 종류 생성 가능하게 하고,
기본 스티치와 패턴용 스티치를 조합하여 편성포의 디자인을 하면 패턴용 스티치 주위의 스티치를 미리 정하여진 대응관계에 의거하여 복수의 변형 스티치의 화상으로부터 스티치의 위치에 따라 선택되는 화상으로 치환하고,
기본 스티치, 패턴용 스티치 및 변형 스티치를 조합한 화상으로서 그 편성포의 화상을 표시하는 것을 특징으로 하는 니트 디자인 방법이다.
또한 본 발명에 있어서의 상기 편성포 디자인은, 상기 기본 스티치, 상기 패턴용 스티치 및 상기 변형 스티치를 조합하여 기본 스티치를 배열한 기본 편성포와 기본 스티치에 대하여 패턴용 스티치를 배치하여 주위를 변형 스티치로 치환한 패턴 편성포를 포함하는 패턴 디자인(pattern design)을 미리 라이브러리(library)에 등록하고, 라이브러리에 등록된 패턴 디자인을 선택하고, 선택된 패턴 디자인을 편집하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.
또한 본 발명에 있어서, 상기 편성포의 화상의 표시는, 복수의 레 이어(layer)로 나누어서 할당하는 상기 패턴 디자인의 화상을 합성함으로써 이루어지고,
각 레이어에는 우선도(優先度)를 할당하여 레이어 사이에서 대응하는 스티치의 위치에 화상이 존재하면 우선도가 가장 높은 레이어의 스티치 화상을 표시하고,
상기 편집으로서 각 레이어 내에서는, 스티치 화상의 위치 및 형상을 변경하는 조작이 가능한 것을 특징으로 한다.
또한 본 발명에 있어서, 상기 기본 스티치, 상기 패턴용 스티치 또는 상기 변형 스티치의 화상 중 적어도 일부는, 미리 실제의 편성포를 촬영하여 화상데이터(畵像 data)로서 기억하는 것을 특징으로 한다.
또한 본 발명에 있어서, 상기 기본 스티치, 상기 패턴용 스티치 또는 상기 변형 스티치의 화상 중 적어도 일부는, 미리 컴퓨터 그래픽(computer graphic)을 이용하여 작성하여 화상데이터로서 기억하는 것을 특징으로 한다.
또한 본 발명에 있어서, 상기 화상으로서 표시되는 편성포는, 상기 기본 스티치 및 상기 패턴용 스티치와 미리 설정되는 편성포 편성용 스티치 표시방법과의 대응관계에 의거하여 그 편성포 편성용 정보에 대하여 상호 변환 가능한 것을 특징으로 한다.
또한 본 발명은, 상기의 어느 하나에 기재된 니트 디자인 방법을 컴퓨터에 실행시키기 위한 프로그램(program)이다.
또한 본 발명은, 화상표시수단(畵像表示手段)에 편성포의 화상을 표시하면서 편성포의 디자인을 하기 위한 니트 디자인 장치(knit design 裝置)로서,
미리 정하여진 기본적인 편성포를 편성하기 위한 기본 스티치의 형상을 나타내는 화상, 편성포의 스티치를 기본 스티치의 형상으로부터 변화시켜서 조직패턴을 형성하기 위한 패턴용 스티치의 형상을 나타내는 화상 및 패턴용 스티치를 편성하는 영향에 의하여 그 패턴용 스티치 주위의 스티치가 위치에 따라 변형을 받는 형상을 나타내는 복수의 변형 스티치의 화상을 각각 나타내는 화상데이터를 미리 기억하는 스티치 화상기억수단(stitch 畵像記憶手段)과,
스티치 화상기억수단에 기억되어 있는 기본화상(基本畵像)과 패턴화상(pattern 畵像)을 조합하여 편성포의 화상을 형성하기 위한 정보를 입력하는 편성포 정보입력수단(編成布 情報入力手段)과,
편성포 정보입력수단으로의 정보입력에 응답하여 그 편성포에서 패턴화상의 주위에 편성되는 스티치를 나타내는 화상을 미리 정하여진 대응관계에 의거하여 스티치 화상기억수단에 기억되어 있는 복수의 변형 스티치의 화상으로부터 스티치의 위치에 따라 선택되는 화상으로 치환하는 스티치 화상변형수단(stitch 畵像變形手段)과,
기본 스티치, 패턴용 스티치 및 변형 스티치의 화상을 조합하여 그 편성포의 화상을 그 화상표시수단에 표시하는 편성포 화상표시수단(編成布 畵像表示手段)을 포함하는 것을 특징으로 하는 니트 디자인 장치이다.
또한 본 발명은, 상기 기본 스티치, 상기 패턴용 스티치 및 상기 변형 스티치를 조합하여 기본 스티치를 배열한 기본 편성포와 기본 스티치에 대하여 패턴용 스티치를 배치하여 주위를 변형 스티치로 치환한 패턴 편성포를 포함하는 패턴 디자인을 미리 모듈화(modularization) 하여 등록하는 것이 가능한 라이브러리 등록수단(library 登錄手段)을 더 포함하고,
상기 편성포 정보입력수단은, 라이브러리 등록수단에 등록된 패턴 디자인을 선택하고, 선택된 패턴 디자인의 사이즈(size) 및/또는 반복회수의 변경을 포함하는 편집작업이 가능한 편성포 편집수단(編成布 編輯手段)을 구비하는 것을 특징으로 한다.
또한 본 발명에 있어서, 상기 편성포 화상표시수단에 의한 편성포 화상의 표시는, 스티치의 화상을 복수의 레이어로 나누고, 각 레이어에는 우선도를 할당하여 레이어 사이에서 대응하는 스티치의 위치에 화상이 존재하면 우선도가 가장 높은 레이어의 스티치 화상을 표시함으로써 이루어지고,
상기 편성포 편집수단은, 각 레이어 내에서 스티치 화상의 생성과 삭제, 생성되는 스티치의 위치 및 형상을 변경하는 편집조작이 가능한 것을 특징으로 한다.
또한 본 발명은, 상기 화상표시수단에 의하여 표시되는 편성포를 상기 기본 스티치 및 상기 패턴용 스티치와 미리 설정되는 편성포 편성용 스티치 표시방법과의 대응관계에 의거하여 그 편성포 편성용 정보로 변환하는 합성편성포 변환수단(合性編成布 變換手段)을 더 포함하고,
상기 편성포 정보입력수단은, 그 스티치 표시방법을 따르는 편성포 편성용 정보를 기본 스티치와 패턴용 스티치의 조합으로 변환하는 편성포 정보변환수단(編成布 情報變換手段)을 구비하는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 목적, 특색 및 이점은 다음의 상세한 설명과 도면으로부터 더 명확하게 될 것이다.
도1은 본 발명의 실시에 있어서의 하나의 예인 니트 디자인 방법의 시뮬레이션에 관하여 기본적인 개념을 나타내는 도면이다.
도2는 도1의 개념에 의거하여 편성포의 화상을 시뮬레이션 하는 순서를 나타내는 플로우 차트이다.
도3은 도1의 니트 디자인 방법을 실행하는 니트 디자인 장치20의 개략적인 기능적 구성을 나타내는 블럭도이다.
도4는 도3의 니트 디자인 장치20으로서 기능시킬 수 있는 컴퓨터 장치30의 개략적인 전기적 구성을 나타내는 블럭도이다.
도5는 도3의 니트 디자인 장치20을 이용하여 편성포 디자인을 할 때의 개략적인 순서를 나타내는 플로우 차트이다.
도6은 도3의 스티치 화상기억수단22에 미리 준비되는 스티치의 엘리먼트 화상을 나타내는 도면이다.
도7은 도3의 스티치 화상기억수단22에 미리 준비되는 스티치의 엘리먼 트 화상을 나타내는 도면이다.
도8은 본 실시예에서 시뮬레이션 표시되는 편성포의 화상을 스티치편성데이터와 비교하여 나타내는 도면이다.
도9는 본 실시예에서 시뮬레이션 표시되는 편성포의 화상을 스티치편성데이터와 비교하여 나타내는 도면이다.
도10은 본 실시예에서 시뮬레이션 표시되는 편성포의 화상을 스티치편성데이터와 비교하여 나타내는 도면이다.
도11은 본 실시예에서 시뮬레이션 표시되는 편성포의 화상을 스티치편성데이터와 비교하여 나타내는 도면이다.
도12는 본 실시예에서 시뮬레이션 표시되는 편성포의 화상을 스티치편성데이터와 비교하여 나타내는 도면이다.
도13은 본 실시예에서 시뮬레이션 표시되는 편성포의 화상을 스티치편성데이터와 비교하여 나타내는 도면이다.
도14는 본 실시예에서 시뮬레이션 표시되는 편성포의 화상을 스티치편성데이터와 비교하여 나타내는 도면이다.
도15는 본 실시예에서 시뮬레이션 표시되는 편성포의 화상을 스티치편성데이터와 비교하여 나타내는 도면이다.
도16은 본 실시예에서 시뮬레이션 표시되는 편성포의 화상을 스티치편성데이터와 비교하여 나타내는 도면이다.
도17은 본 실시예에서 시뮬레이션 표시되는 편성포의 화상을 스티치 편성데이터와 비교하여 나타내는 도면이다.
도18은 본 실시예에서 시뮬레이션 표시되는 편성포의 화상을 스티치편성데이터와 비교하여 나타내는 도면이다.
도19는 본 실시예에서 시뮬레이션 표시되는 편성포의 화상을 스티치편성데이터와 비교하여 나타내는 도면이다.
도20은 본 실시예에서 시뮬레이션 표시되는 편성포의 화상을 스티치편성데이터와 비교하여 나타내는 도면이다.
도21은 본 실시예에서 시뮬레이션 표시되는 편성포의 화상을 스티치편성데이터와 비교하여 나타내는 도면이다.
도22는 본 실시예에서 시뮬레이션 표시되는 편성포의 화상을 스티치편성데이터와 비교하여 나타내는 도면이다.
도23은 본 실시예에서 시뮬레이션 표시되는 편성포의 화상을 스티치편성데이터와 비교하여 나타내는 도면이다.
도24는 본 실시예에서 시뮬레이션 표시되는 편성포의 화상을 스티치편성데이터와 비교하여 나타내는 도면이다.
도25는 도3의 스티치 화상기억수단22에 미리 준비되는 스티치의 엘리먼트 화상을 나타내는 도면이다.
도26은 본 실시예에서 시뮬레이션 표시되는 편성포의 화상을 스티치편성데이터와 비교하여 나타내는 도면이다.
도27은 도3의 편성포 편집수단26에 의한 편집작업시에 화상표시수단19 에 표시되는 화면의 예를 나타내는 도면이다.
도28은 도3의 편성포 편집수단26에 의한 편집작업시에 화상표시수단19에 표시되는 화면의 예를 나타내는 도면이다.
도29는 도3의 편성포 편집수단26에 의한 편집작업의 패턴 디자인 선택시에 화상표시수단19에 표시되는 화면의 예를 나타내는 도면이다.
도30은 도3의 편성포 편집수단26에 의한 편집작업의 패턴 디자인 선택시에 화상표시수단19에 표시되는 화면의 예를 나타내는 도면이다.
도31은 도3의 편성포 편집수단26에 의한 편집작업의 패턴 디자인 선택시에 화상표시수단19에 표시되는 화면의 예를 나타내는 도면이다.
도32는 도3의 편성포 편집수단26에 의한 편집작업의 패턴 디자인 선택시에 화상표시수단19에 표시되는 화면의 예를 나타내는 도면이다.
도33은 도3의 편성포 편집수단26에 의한 편집작업의 패턴 디자인 선택시에 화상표시수단19에 표시되는 화면의 예를 나타내는 도면이다.
이하 도면을 참고로 하여 본 발명의 적합한 실시예에 대하여 상세하게 설명한다.
도1은 본 발명의 실시에 있어서의 하나의 예인 니트 디자인(knit design) 방법의 시뮬레이션(simulation)에 관하여 기본적인 개념을 나타낸다. 본 실시예에서는 도1(a)에 나타나 있는 바와 같이 복수의 레이어(layer), 예를 들면 상측 레이어(上側 layer)1과 하측 레이어(下側 layer)2로 나누어서 스티치(stitch)의 화상(畵像)을 묘화(描畵 : drawing) 처리하고, 도1(b)에 나타나 있는 바와 같이 편성포 화상(編成布 畵像)3을 표시하면서 편성포의 디자인을 한다. 복수의 레이어는, 각 레이어에는 우선도(優先度)를 할당하여 레이어 사이에서 대응하는 스티치의 위치에 화상이 존재하면 우선도가 가장 높은 레이어의 스티치 화상을 표시하여, 각 레이어 내에서는 스티치 화상의 위치 및 형상을 변경하는 편집조작이 가능하다. 각 레이어에 배치되는 스티치 화상은, 미리 준비하여 두고, 패턴(pattern)을 형성하기 위하여 선택하여 배치되면 패턴을 배치한 스티치 영역의 주변에도 패턴에 의한 변형상태가 시뮬레이트(simulate) 되어 변형된 화상이 선택되어 배치된다.
여기에서 도면의 좌우방향을 횡편기(橫編機)에 의하여 편성하는 편성포의 코스(course) 방향으로 하여 하측으로부터 상측으로 순차적으로 편성을 하는 경우를 상정한다. 하측 레이어2에 프론트 니트(front knit)에 의한 프론트 플레인 편성(front plain knitting) 등의 기본 스티치10을 선택하여 일정하게 배치하고, 상측 레이어1에, 예를 들면 1피치(pitch)만 우측으로 이동시키는 패턴용 스티치11을 배치한다. 패턴용 스티치11에 의하여 스티치 루프(stitch loop)가 1피치만 우측으로 어긋나면, 이미 편성되어 있는 선행(先行)하는 코스의 스티치와 뒤에서 편성되는 코스의 스티치는, 편사(編絲)가 횡(橫)으로 끌리기 때문에 기본 스티치10 등의 형상으로부터 변형 을 받는다. 본 실시예에서는 변형을 받는 스티치의 형상도 변형 스티치12, 13 등으로서 미리 준비한다. 상측 레이어1과 하측 레이어2의 스티치 화상을 합성하면, 상측 레이어의 패턴용 스티치11 및 변형 스티치12, 13의 화상이 하측 레이어2의 기본 스티치10의 화상에 우선하여 도1(b)에 나타나 있는 바와 같은 편성포 화상3이 얻어진다.
기본 스티치10, 패턴용 스티치11 또는 변형 스티치12, 13 중 적어도 일부의 화상은, 미리 실제의 편성포를 촬영하여 화상데이터(畵像 data)로서 기억시킬 수 있다. 또한 기본 스티치10, 패턴용 스티치11 또는 변형 스티치12, 13 중 적어도 일부의 화상은, 미리 컴퓨터 그래픽(computer graphic)을 이용하여 작성하여 화상데이터로서 기억시킬 수도 있다. 또한 실제로 촬영한 화상데이터를 컴퓨터 그래픽을 이용하여 변형하거나 수정함으로써 형성할 수도 있다.
도2는 도1의 기본적인 개념에 의거하여 도1(b)에 나타나 있는 바와 같은 편성포 화상3을 시뮬레이션 하는 순서를 나타낸다. 스텝a0에서 순서를 시작하고, 스텝a1에서는 기본 스티치10을 선택한다. 기본 스티치10으로서는, 도1에 나타나 있는 바와 같은 프론트 니트에 의한 프론트 플레인(front plain)이나 백 플레인(back plain), 리브(rib), 링크스 패턴(links pattern) 등, 프론트 스티치(front stitch) 또는 백 스티치(back stitch)의 일방(一方) 또는 양방(兩方)이 동등하게 존재하는 것을 선택할 수 있다. 스텝a2에서는 선택된 기본 스티치10을 하측 레이어2에 묘화처리한다. 스텝a3에서는 패턴용 스티치11을 선택한다. 스텝a4에서는, 선택된 패턴용 스티치11이 상측 레이어1에 배치된다. 스텝a5에서는, 상측 레이어1에 패턴용 스티치11을 배치한 영역의 주위에 대응하는 하측 레이어2에서의 기본 스티치10을 참조하여, 상측 레이어1에 패턴용 스티치11이 배치된 영역 주위의 일부 또는 전부에 미리 설정되는 관계에 의거하여 변형 스티치12, 13을 배치한다. 스텝a6에서는, 상측 레이어1과 하측 레이어2의 화상을 합성하고, 상측 레이어1을 우선시켜서 도1(b)에 나타나 있는 바와 같은 편성포 화상3을 표시한다.
디자이너(designer)는, 스텝a7에서는 표시된 편성포 화상3을 보고 더 편집을 할 것인가 아닌가를 판단한다. 또한 편집을 할 때에는 소정의 편집조작 등을 하고, 스텝a8로 이동하여 변형 스티치12, 13이 상측 레이어1로부터 삭제된다. 스텝a9에서는, 상측 레이어1에서 패턴용 스티치11에 대한 위치나 형상 수정 등의 편집조작이 이루어지고 스텝a5로 되돌아 간다. 스텝a5에서는, 수정된 패턴용 스티치11의 주위에 변형 스티치12, 13이 다시 배치된다. 스텝a7에서 디자이너가 편성포 화상3을 보고 편집하지 않는다고 판단할 때에는, 스텝a10에서 순서를 종료한다. 기본 스티치10이 배치되어 있는 하측 레이어2와는 다른 상측 레이어1에서 패턴용 스티치11에 대한 편집조작을 하기 때문에 상측 레이어1에 대한 편집의 영향은 하측 레이어2에는 미치지 못하여 편집과 합성의 변환(變換)을 신속하게 할 수 있다.
도3은 도1의 기본적인 개념에 의거하는 니트 디자인 방법을 실행하여 화상표시수단19에 표시하는 편성포 화상3을 생성하는 니트 디자인 장치(knit design 裝置)20의 개략적인 기능적 구성을 나타낸다. 니트 디자인 장치20에는, 라이브러리 등록수단(library 登錄手段)21, 스티치 화상기억수단(stitch 畵像記憶手段)22, 편성포 정보입력수단(編成布 情報入力手段)23, 스티치 화상변형수단(stitch 畵像變形手段)24, 편성포 화상표시수단(編成布 畵像表示手段)25, 편성포 편집수단(編成布 編輯手段)26, 화상 메모리(畵像 memory)27, 합성편성포 변환수단(合性編成布 變換手段)28 및 편성데이터 처리수단(編成 data 處理手段)29가 포함된다.
라이브러리 등록수단21에는, 기본 스티치10, 패턴용 스티치11 및 변형 스티치12, 13을 조합하여 기본 스티치10을 배열한 기본 편성포와 기본 스티치10에 대하여 패턴용 스티치11을 배치하여 주위를 변형 스티치12, 13으로 치환(置換)한 패턴 편성포를 포함하는 패턴 디자인을 미리 모듈화(modularization) 하여 등록할 수 있다. 스티치 화상기억수단22에는, 미리 정하여진 기본적인 편성포를 편성하기 위한 기본 스티치10의 형상을 나타내는 기본화상, 편성포의 스티치를 기본 스티치10의 형상으로부터 변화시켜서 조직패턴(structure pattern)을 형성하기 위한 패턴용 스티치11의 형상을 나타내는 패턴 화상 및 패턴용 스티치11을 편성하는 영향에 의하여 그 패턴용 스티치11의 주위에 편성되는 스티치가 변형을 받는 형상을 나타내는 변형 스티치12, 13의 화상을 각각 화상데이터의 엘리먼트(element)로서 미리 기억시켜 둔다. 편성포 정보입력수단23에는, 스티치 화상기억수단22에 기억되어 있는 기본 스티치10과 패턴용 스티치11을 조합하여 편성포를 형성하기 위한 정보를 입력한다. 스티치 화상변형수단24는, 편성포 정보입력수단23으로의 정보입력에 응답하여 편성포에서 패턴용 스티치11의 영역 주위에 편성되는 스티치를 미리 정하여진 대응관계에 의거하여 스티치 화상기억수단22에 기억되어 있는 변형 스티치12, 13으로 치환한다. 편성포 화상표시수단25는, 기본 스티치10의 화상, 패턴용 스티치11의 화상 및 변형 스티치12, 13의 화상을 조합하여 편성포 화상3을 화상표시수단19에 표시한다.
편성포 화상표시수단25에 의한 편성포 화상3의 표시는, 상기한 바와 같이 스티치의 화상을 복수의 레이어로 나누어서 배치하고, 각 레이어에는 우선도를 할당하여 레이어 사이에서 대응하는 스티치의 위치에 화상이 존재하면 우선도가 가장 높은 레이어의 스티치 화상을 표시함으로써 이루어진다. 레이어의 수는, 상측 레이어1과 하측 레이어2의 2개 뿐만 아니라 더 많은 수를 사용할 수 있다. 편성포 편집수단26은, 화상 메모리27에 레이어 구조로 묘화되는 스티치의 화상을 편집할 수 있다. 스티치편집수단26은, 각 레이어 내에서 스티치 화상의 위치 및 형상을 변경하는 편집조작이 가능하고 또한 각 레이어 사이에서의 화상이나 우선도의 재설정 등도 가능하다.
또한 합성편성포 변환수단28은, 기본 스티치10 및 패턴용 스티치11과 미리 설정되는 편성포 편성용 스티치 표시방법과의 대응관계에 의거하여 편성포 화상합성수단25에 의하여 합성되는 편성포 화상3을 편성포 편성용 정보로 변환한다. 또한 편성포 정보입력수단23에는, 스티치 표시방법을 따르는 편성포 편성용 정보를, 기본 스티치10의 화상과 패턴용 스티치11의 화상을 조합하여 편성포의 화상을 형성하기 위한 정보로 변환한다. 따라서 기본 스티치10 및 패턴용 스티치11과 미리 설정되는 편성포 편성용 스티치 표시방법과의 대응관계에 의거하여 편성포의 시뮬레이션 화상과 편성포 편성용 정보를 상호 변환하여 디자인이나 편성포 편성용 정보작성을 용이하게 할 수 있다.
도4는 도3의 니트디자인 장치20으로서 기능시킬 수 있는 컴퓨터 장치30의 개략적인 전기적 구성을 나타낸다. 컴퓨터 장치30은, CPU31이 ROM32에 미리 저장되어 있는 프로그램(program)이나 RAM33에 전개(展開)되는 프로그램에 따라 도3에 나타나 있는 니트 디자인 장치20으로서 기능을 한다. 입력장치34는 디자이너로부터의 지시나 조작을 받는다. 입력장치34로서는 키보드(key board)나 마우스(mouse), 트랙 볼(track ball), 펜 타블렛(pen tablet) 등의 포인팅 디바이스(pointing device) 등이 사용된다. 스티치나 편성포의 화상은 화상처리장치(畵像處理裝置)35에 의하여 처리된다. 하드디스크 장치(hard disk 裝置)36은, RAM33에 전개되는 프로그램을 기억하고, 도3의 라이브러리 등록수단21이나 스티치 화상기억수단22로서 스티치의 화상을 기억한다. 외부기억장치(外部記憶裝置)37은, 기록매체를 착탈(着脫)하여 편성포 편성용 데이터의 주고 받기, 프로그램이나 화상데이터의 주고 받기 등에 이용된다. 데이터나 프로그램은, 통신 어댑터(通信 adaptor)38을 통하여 인터넷(internet) 등의 정보통신 네트워크(情報通信 network)로부터 다운로드(down load)할 수도 있다. 화상처리수단35가 출력하는 화상은, 도3의 화상표시수단19에 상당하는 디스플레이 장치(display 裝置)39에 표시된다.
도5는 디자이너가 도3의 니트 디자인 장치20의 편성포 편집수단26을 이용하여 편성포 디자인을 할 때의 개략적인 순서를 나타낸다. 스텝b0에서 순서를 시작하고, 스텝b1에서는, 라이브러리 등록수단21에 모듈화 되어 등록되어 있는 패턴 디자인의 일부가 화상표시수단19의 표시화면에 표시된다. 표시되는 패턴 디자인은, 포인팅 디바이스를 이용하여 커서(cursor)를 화면 내에서 이동시켜서 클릭(click) 조작 등에 의하여 선택할 수 있다. 표시를 다른 패턴 디자인으로 변경시킬 수도 있다. 스텝b2에서는, 디자이너가 패턴 디자인을 선택한다. 스텝b3에서는, 선택한 패턴 디자인에 대하여 디자이너로부터 편집조작이 이루어진다. 편집은 패턴 디자인의 사이즈(size)나 반복회수, 위치 등을 임의로 변경하여 할 수 있다. 예를 들면 이동 스티치의 스티치 수 등을 변경하면, 패턴용 스티치의 선택이나 치환 또한 패턴용 스티치 주위의 일부 또는 전부로의 변형 스티치의 치환이 자동으로 이루어져서 화상으로서 표시된다. 상기한 바와 같이 스티치의 화상은 복수의 레이어로 나누어서 묘화처리되기 때문에 이동이나 복사, 삭제 등의 편집작업을 용이하게 하는 것이 가능하다.
패턴 디자인의 편집이 종료되면, 스텝b4에서는, 편집한 패턴 디자인을 라이브러리 등록수단21에 등록할 것인가 아닌가를 판단한다. 등록하겠다고 판단하는 때에는 스텝b5에서 등록을 한다. 등록의 지시는, 예를 들면 화 면의 일부에 표시되는 버튼(button) 등을 커서로 선택하여 클릭하는 것 등으로 할 수 있다. 라이브러리수단21에의 등록은, 신규로 작성하는 편성포의 일부 혹은 전부에 관하여도 모듈화 하여 할 수 있다. 또한 이미 등록되어 있는 패턴 디자인을 조합하여 새로운 패턴 디자인으로서 등록할 수도 있다. 등록을 종료한 후 또는 스텝b4에서 등록하지 않는다고 판단한 후에는 스텝b6에서 라이브러리로부터 새로운 패턴 디자인을 선택할 것인가 아닌가를 판단한다. 새로운 패턴 디자인을 선택할 때에는 스텝b1로 되돌아 간다. 새로운 패턴 디자인을 선택하지 않을 때에는 스텝b7에서 편성포의 디자인을 종료한다.
도6 및 도7은 도3의 스티치 화상기억수단22에 미리 준비되는 스티치의 엘리먼트 화상(element 畵像)의 예를 나타낸다. 도6은 프론트 스티치를 나타내고, 도7은 백 스티치를 나타낸다. (a)는 우측으로 이동하는 경우, (b)는 좌측으로 이동하는 경우에 사용할 수 있는 스티치의 화상을 각각 나타낸다. 도7(c)는, F로 프론트 스티치, B로 백 스티치, M으로 미스(miss)를 각각 나타내고, 스티치가 이행하는 부분에서 받는 변형에 대응하는 상태의 스티치의 엘리먼트 화상을 각각 나타낸다. 또한 도1에 기본 스티치10으로서 나타나 있는 스티치는, 도6(a)의 ①에 나타나 있는 1번 스티치의 엘리먼트 화상에 대응한다. 도1의 패턴용 스티치11은, ③에 나타나 있는 3번 스티치의 엘리먼트 화상에 상당한다. 변형 스티치12, 13은, ② 및 ④에 나타나 있는 2번 스티치 및 4번 스티치의 엘리먼트 화상에 각각 상당한 다.
도6 및 도7에서는, 플레인 스티치, 리브, 링크스, 1피치 이동 등의 기본적인 편성포의 패턴을 표시하는 데에도 필요한 스티치를 엘리먼트 화상으로서 나타내고 있다. 편성포 화상의 최소단위인 엘리먼트 화상을 조합함으로써 다양한 패턴의 편성포를 표시할 수 있어 화상을 기억하여 두는 메모리(memory) 등의 기억용량도 절약할 수 있다. (b)의 좌측으로 이동하는 경우에는, (a)의 우측으로 이동하는 경우와 거울상의 관계에 있기 때문에 생략하여서 필요할 때에 미러화상처리(mirror 畵像處理)에 의하여 좌우를 반전(反戰)시켜 형성하도록 할 수도 있다.
도6(a)는 플레인 프론트 스티치에서 1피치 우측으로 이동하는 편성포를 표시하는 데에도 필요한 최소한의 엘리먼트 화상을 18개 준비하고 있는 것을 나타낸다. 이에는 1피치 이동의 인접부가 미스인 편성포의 표시에 사용되는 14번 스티치, 15번 스티치, 16번 스티치의 패턴용 스티치와 성형(成型)을 위한 이동을 표시하는 데에도 사용되는 17번 스티치의 변형 스티치와 18번 스티치의 패턴용 스티치도 포함된다.
도6(b)는 플레인 프론트 스티치에서 1피치 좌측으로 이동하는 편성포를 표시하는 데에도 필요한 최소한의 엘리먼트 화상을 18개 준비하고 있는 것을 나타낸다.
도7(a)는 플레인 백 스티치에서 1피치 우측으로 이동하는 편성포를 표시하는 데에도 필요한 최소한의 엘리먼트 화상을 13개 준비하고 있는 것을 나타낸다. 도7(b)는 플레인 백 스티치에서 1피치 좌측으로 이동하는 편성포를 표시하는 데에도 필요한 최소한의 엘리먼트 화상을 13개 준비하고 있는 것을 나타낸다. 도7(a) 및 도7(b)에서 준비하는 엘리먼트 화상의 수가 도6(a) 및 도6(b)에 비하여 적은 것은, 공유 가능한 엘리먼트 화상에 관하여는 공유하여 메모리의 기억용량을 절약하고 있기 때문이지만, 중복하여 엘리먼트 화상을 준비할 수도 있다.
도6(a), (b)의 엘리먼트 화상은, 다음과 같이 기본 스티치, 패턴용 스티치 및 변형 스티치로 분별할 수 있다. 숫자는 몇 번 스티치의 엘리먼트 화상인가를 나타낸다.
·기본 스티치 : 1
·패턴용 스티치 : 3, 6, 8, 14, 15, 16, 18
·변형 스티치 : 2, 4, 5, 7, 9, 10, 11, 12, 13, 17
도8∼도24는 본 실시예에서 합성되는 편성포의 화상을 스티치편성데이터와 비교하여 나타내는 도면이다. 도8은 이동이 1개만 있는 경우를 나타낸다. 도8(a)는 도1과 동일한 편성포를 나타낸다. 도8(b)는 백 스티치에 대한 예를 나타낸다. 도8(b)에서 도1의 기본 스티치10에 상당하는 스티치로서 도7(a)의 1번 스티치의 엘리먼트 화상을 이용하고, 패턴용 스티치11 및 변형 스티치12, 13에 상당하는 스티치로서 3번 스티치, 2번 스티치 및 4번 스티치의 엘리먼트 화상을 각각 이용하는 점은, 도7(a)의 프론트 스티치의 경우와 대응하고 있다. 도9는 도8의 (a) 및 (b)를 조합한 편성포를 나타 낸다.
도10 및 도11은, 우측 이동이 우측 상방으로 연속되어 있는 경우를 나타낸다. 또한 1개의 코스 내에서는, 1피치 우측 이동이 3개 연속되어 있다. 3개 연속되어 있는 좌단(左端)의 스티치에 관하여는, 도8(a), (b)와 각각 마찬가지로 2번 스티치 및 4번 스티치의 엘리먼트 화상을 변형 스티치로서 부가한다. 우측의 2개의 우측 이동에 대하여는, 도6(a) 및 도7(a)의 6번 스티치의 엘리먼트 화상을 패턴용 스티치로서 배치한다. 이 2개 스티치의 앞 코스인 하측에는, 도6(a) 및 도7(a)의 5번 스티치의 엘리먼트 화상을 변형 스티치로서 배치한다. 이렇게 하여 얻어지는 합계 7개의 스티치 영역은, 대략 L자형의 형상을 구비하고, 이 영역을 단위로 하여 우측 상방으로 반복함으로써 연속하는 조직패턴(structure pattern)의 화상이 얻어진다.
도12∼도14는 이동이 상방으로 연속하는 편성포의 예를 나타낸다. 도12는 우측 이동이 상방으로 연속하는 경우를 나타낸다. 하측의 우측 이동에 대응하는 패턴용 편성포로서 도6(a)의 3번 스티치의 엘리먼트 화상을 사용하고, 그 상방의 패턴용 편성포로서는 8번 스티치의 엘리먼트 화상을 사용한다. 8번 스티치와 3번 스티치의 사이에는, 변형 스티치로서 7번 스티치의 엘리먼트 화상을 사용한다. 8번 스티치 상방의 변형 스티치로서는, 4번 스티치의 엘리먼트 화상을 사용한다. 도13에서는, 우측 이동의 상방에 좌측 이동이 연속하는 편성포의 예를 나타낸다. 상측의 좌측 이동의 스티 치의 앞 코스가 하측의 우측 이동의 스티치의 다음 코스로 되어 있기 때문에 중간의 변형 스티치로서 도6(a)의 9번 스티치의 엘리먼트 화상을 사용한다. 도14에서는, 도13의 각 이동 스티치가 각각 우측으로 이미 1개씩 추가되어 있다. 패턴 형성용 스티치에는, 3번 스티치 및 6번 스티치의 엘리먼트 화상을 사용한다. 도13에서 9번 스티치의 엘리먼트 화상을 사용한 스티치는, 10번 스티치의 엘리먼트 화상을 변형 스티치로서 사용한다. 다른 변형 스티치는, 2번 스티치 및 5번 스티치의 엘리먼트 화상을 각각을 사용한다.
도15∼도18은 이동을 조합하여 형성할 수 있는 조직패턴의 예를 나타낸다. 도15는 나뭇잎 패턴을 나타낸다. 플레인 프론트 스티치인 프론트 니트의 기본 스티치에 대응하는 도6(a)의 1번 스티치의 엘리먼트 화상에 의한 편성포에 1피치 좌측 이동의 스티치와 우측 이동의 스티치를 코스방향으로 1∼5개 나란하게 순차적으로 비키어 놓았다. 이동하는 방향의 반대측의 끝에는, 도10 등과 마찬가지로 편사가 없는 스티치가 발생한다. 도16 및 도17은, 이동의 끝 부분이 프론트·백의 역(逆)이 되는 예를 나타낸다. 도16에서는, 프론트 니트에서 1피치 우측으로 이동하는 스티치를 코스방향으로 3개 연속시키고, 그 양측에는 백 니트에 의한 백 플레인의 스티치를 배치한다. 프론트 니트에서 1피치 좌측으로 이동하는 스티치의 양측에도 백 플레인의 스티치를 배치한다. 도17에서는, 도16에 대하여 프론트 스티치와 백 스티치의 관계를 반전(反轉)시켰다. 도18은 도16을 응용한 패턴을 나타 낸다.
도19∼도21은 이동의 인접부가 미스인 경우의 예를 나타낸다. 도19 및 도20에서는, 코스방향의 양측에서 1피치 우측 또는 좌측으로 이동하고, 그 사이의 스티치를 무니들실렉션(無 needle selection)의 미스로 한다. 이동하는 방향은, 도면의 상측에서는 서로 근접하는 방향, 하측에서는 서로 멀어지는 방향이다. 도19는 프론트 스티치, 도20은 백 스티치의 경우를 각각 나타낸다. 도21에서는, 프론트 니트에 대하여 코스방향으로 나란한 미스의 스티치의 일부에, 일방단(一方端)에만 1피치 우측 이동의 스티치를 배치하고 있는 것을 포함하는 경우를 나타낸다.
도22∼도24는 성형을 위한 이동을 나타낸다. 도22는 1피치씩 이동하는 예를 나타낸다. 도23은 2피치씩 이동하는 경우를 나타낸다. 도24는, 2피치씩 이동하는 코스와 프론트 니트의 코스를 반복하는 예를 나타낸다. 도22는, 도6(a)에 나타나 있는 엘리먼트 화상을 조합하여 표시할 수 있다. 도23 및 도24의 편성포 화상을 시뮬레이트 할 때에는, 2피치의 이동에 대응하는 스티치 화상이나 바인드 오프(bind off)에 대응하는 엘리먼트 화상이 필요하게 되어 도6 및 도7에서 준비하는 기본 스티치, 패턴용 스티치, 변형 스티치의 엘리먼트 화상에서는 적절하게 표시할 수 없다.
도25는, 도23 및 도24에 나타나 있는 바와 같은 2피치 이동에 대응하는 스티치의 엘리먼트 화상과 바인드 오프에 대응하는 스티치의 엘리먼트 화상의 예를 나타낸다. 이들 엘리먼트 화상을 조합함으로써 도26에 나타 나 있는 바와 같은 편성포의 단부(端部)에서 편성시작처리를 하면서 가로로 길게 연장되는 편성포도 시뮬레이션 화상으로서 생성할 수 있다. 가로로 길게 연장되는 스티치의 수를 증가시킬 때에는, 점선으로 둘러싸여 있는 부분을 스티치 수에 따라 리피트(repeat)시키면 좋다.
도27∼도33은, 도3의 편성포 편집수단26을 이용하여 편집작업을 할 때에 화상표시수단19의 표시화면40에 표시되는 화상의 예를 나타낸다. 도27 및 도28은, 편성포를 편집하고 있을 때의 화면을 나타낸다. 편성포의 줌 화상(zoom 畵像)41은, 줌 지시영역(zoom 指示領域)42에서 이루어지는 범위지정(範圍指定)43에 대응하여 표시된다. 편집대상이 되는 줌 편성포41에는, 루프 편집영역(loop 編輯領域)44에서 지시 테두리45a에 의하여 지시되는 스티치 루프를 부가할 수 있다. 또한 리피트 등을 지시하는 편집기능45b를 이용하여 지시 테두리45a에 의하여 지시되는 스티치 루프를 반복하여 부가할 수도 있다.
도29∼도33은, 도3의 라이브러리 등록수단21에 미리 모듈화 되어 등록되어 있는 패턴 디자인을 선택할 때의 루프 선택화면(loop 選擇畵面)46을 나타낸다. 패턴 디자인은, 기본적으로 링크스, 교차, 이동, 프론트·백 교차 및 턱으로 분류하고, 리스트 표시영역(list 表示領域)47에서 선택 테두리48에 의하여 선택할 수 있다. 선택 테두리48에서 선택된 패턴 디자인은, 모듈 표시영역(module 表示領域)49에 표시된다. 도29는 링크스, 도30은 교차, 도31은 이동, 도32는 프론트·백 교차, 도33은 턱에 대하여 각각 등록되어 있 는 패턴 디자인을 표시하고 있는 예를 나타낸다. 또 모쥴 표시영역49에 표시되는 패턴 디자인은, 도29에 나타나 있는 바와 같이 편성용 색 코드(色 code)로 표시할 수도 있고, 도30∼도33에 나타나 있는 바와 같이 시뮬레이션 한 편성포 화상으로서 표시할 수도 있다. 이들의 표시는 적당하게 변환할 수 있다.
본 발명은, 그 기술적 사상 또는 주요한 특징으로부터 일탈하지 않고 다른 여러 가지의 형태로 실시할 수 있다. 따라서 상기의 실시예는 모든 점에서 단순한 예시에 지나지 않고, 본 발명의 범위는 특허청구범위에 나타나 있는 것으로서, 명세서의 본문에는 조금도 구속되지 않는다. 또한 특허청구범위에 속하는 변형이나 변경은 모두 본 발명의 범위 내의 것이다.
이상과 같이 본 발명에 의하면, 편성포의 화상을 표시하면서 기본 스티치와 패턴용 스티치를 조합하여 편성포의 디자인을 할 때에, 그 편성포에서 패턴용 스티치의 주위에 편성되는 스티치를 미리 정하여진 대응관계에 의거하여 변형 스티치로 치환하고, 기본 스티치, 패턴용 스티치 및 변형 스티치의 화상을 조합하여 편성포의 화상을 형성한다. 기본 스티치는 미리 정하여진 기본적인 편성포를 편성하기 위한 스티치이며, 패턴용 스티치는 편성포의 스티치를 기본 스티치의 형상으로부터 변화시켜서 조직패턴 등을 형성하기 위한 스티치로서, 변형 스티치에 의하여 패턴용 스티치를 편성하는 영향으로 그 패턴용 스티치의 주위에 편성되는 스티치가 변형을 받는 영향을 반영시킬 수 있다. 패턴용 스티치의 주위에 변형 스티치를 배치하기 때문에 실제로 편성되는 편성포에 가까운 스티치의 조합을 얻을 수 있다. 기본 스티치, 패턴용 스티치 및 변형 스티치의 화상은, 미리 생성 가능하도록 되어 때문에 스티치를 조합하는 편성포의 화상을 신속하게 시뮬레이션 화상으로서 표시할 수 있다.
또한 본 발명에 의하면, 기본 스티치를 배열한 기본 편성포나 기본 스티치에 대하여 패턴용 스티치를 배치하여 주위를 변형 스티치로 치환한 패턴 편성포를 포함하는 패턴 디자인을 미리 라이브러리에 등록하여 두고, 라이브러리에 등록된 패턴 디자인을 선택하여 편집함으로써 편성포의 디자인을 할 수 있기 때문에, 디자이너는 기본 스티치와 패턴용 스티치를 직접 선택하여 편성포의 디자인을 할 필요가 없어 편성포의 디자인을 효율적으로 할 수 있다.
또한 본 발명에 의하면, 편성포의 화상으로서 표시하기 위한 편성포의 화상은, 복수의 레이어로 나누어서 할당하여 레이어 사이에서 대응하는 스티치의 위치에 화상이 존재하면, 우선도가 가장 높은 레이어의 스티치 화상을 표시하여 각 레이어 내에서 스티치 화상의 위치 및 형상을 변경하는 편집조작이 가능하기 때문에 스티치를 조합하는 편성포의 디자인을 용이하게 할 수 있다.
또한 본 발명에 의하면, 기본 스티치, 패턴용 스티치 또는 변형 스티치의 화상 중 적어도 일부에 실제의 편성포를 촬영한 실사(實寫)의 화상데이터를 이용하여 리얼(real)한 화상을 표시할 수 있다.
또한 본 발명에 의하면, 기본 스티치, 패턴용 스티치 또는 변형 스티치 중 적어도 일부를 미리 컴퓨터 그래픽을 이용하여 작성하기 때문에 실제로는 존재하지 않는 편성포를 구성하는 스티치의 화상데이터도 작성하여 기억시킬 수 있다.
또한 본 발명에 의하면, 화상으로서 표시되는 편성포는, 기본 스티치 및 패턴용 스티치와 미리 설정되는 편성포 편성용 스티치 표시방법과의 대응관계에 의거하여 편성포 편성용 정보와 상호 변환 가능하기 때문에, 편성포 편성용 데이터로부터 편성포의 이미지(image)를 화상으로서 시뮬레이션 표시하거나 시뮬레이션 화상으로부터 편성포 편성용 데이터를 생성할 수 있다.
또한 본 발명에 의하면, 상기의 어느 하나에 기재된 니트 디자인 방법을 컴퓨터를 이용하여 실행시켜서 이용할 수 있다.
또한 본 발명에 의하면, 화상표시수단에 편성포의 화상을 표시하면서 편성포의 디자인을 하기 위한 니트 디자인 장치는, 스티치 화상기억수단에 기본 편성포, 패턴용 편성포 및 변형 편성포를 각각 나타내는 화상데이터를 미리 기억시켜 두기 때문에 필요한 화상을 신속하게 이용할 수 있다. 편성되는 편성포에 관한 편성포 정보입력수단으로의 정보입력에 응답하여, 그 편성포에서 패턴용 스티치의 주위에 편성되는 스티치가 받는 영향을 미리 정하여진 대응관계에 의거하여 스티치 화상기억수단에 기억되어 있는 변형 스티치로 치환함으로써 반영시켜서 기본 스티치, 패턴용 스티치 및 변형 스티치의 화상을 조합하여, 그 편성포의 화상을 그 화상표시수단에 표시하기 때문에 조직패턴 등을 실제의 편성포에 가까운 상태에서 시뮬레이션 하여 표시할 수 있다.
또한 본 발명에 의하면, 라이브러리 등록수단에 기본 스티치를 배열한 기본 편성포나 기본 스티치에 대하여 패턴용 스티치를 배치하여 주위를 변형 스티치로 치환한 패턴 편성포를 포함하는 패턴 디자인을 미리 모듈화 하여 라이브러리에 등록하고, 편성포 정보입력수단이 구비되는 편성포 편집수단에서 라이브러리에 등록된 패턴 디자인을 선택하고, 선택된 패턴 디자인의 사이즈 및/또는 반복회수의 변경을 포함하는 편집작업을 하여 용이하게 편성포의 디자인을 할 수 있다.
또한 본 발명에 의하면 편성포 화상의 합성은, 스티치를 복수의 레이어로 나누고, 레이어 사이에서 우선도가 가장 높은 레이어의 스티치 화상을 표시함으로써 이루어져서 각 레이어 내에서 스티치 화상의 위치 및 형상을 변경하는 편집조작이 가능하기 때문에 편성포의 시뮬레이션 화상을 표시시키면서 용이하게 편집조작을 할 수 있다.
또한 본 발명에 의하면, 기본 스티치 및 패턴용 스티치와 미리 설정되는 편성포 편성용 스티치 표시방법과의 대응관계에 의거하여 편성포의 시뮬레이션 화상과 편성포 편성용 정보를 상호 변환하여 디자인이나 편성포 편성용 정보작성을 용이하게 할 수 있다.

Claims (11)

  1. 편성포(編成布)의 화상(畵像)을 표시하면서 편성포의 디자인을 하는 니트 디자인(knit design) 방법으로서,
    미리 정하여진 기본적인 편성포를 편성하기 위한 기본 스티치(基本 stitch)의 형상을 나타내는 화상과 편성포의 스티치를 기본 스티치의 형상으로부터 변화시켜서 조직패턴(structure pattern)을 형성하기 위한 패턴용 스티치의 형상을 나타내는 화상을 조합하여 편성포를 디자인하는 것을 가능하게 하고,
    패턴용 스티치를 편성하는 영향에 의하여 그 패턴용 스티치 주위의 스티치가 위치에 따라 변형을 받는 형상을 나타내는 복수의 변형 스티치(變形 stitch)의 화상을 기본 스티치와 변형 스티치의 조합에 의거하여 복수 종류 생성 가능하게 하고,
    기본 스티치와 패턴용 스티치를 조합하여 편성포의 디자인을 하면 패턴용 스티치 주위의 스티치를 미리 정하여진 대응관계에 의거하여 복수의 변형 스티치의 화상으로부터 스티치의 위치에 따라 선택되는 화상으로 치환하고,
    기본 스티치, 패턴용 스티치 및 변형 스티치를 조합한 화상으로서 그 편성포의 화상을 표시하는 것을 특징으로 하는 니트 디자인 방법.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 편성포 디자인은, 상기 기본 스티치, 상기 패턴용 스티치 및 상기 변형 스티치를 조합하여 기본 스티치를 배열한 기본 편성포와 기본 스티치에 대하여 패턴용 스티치를 배치하여 주위를 변형 스티치로 치환한 패턴 편성포를 포함하는 패턴 디자인(pattern design)을 미리 라이브러리(library)에 등록하고, 라이브러리에 등록된 패턴 디자인을 선택하고, 선택된 패턴 디자인을 편집하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 니트 디자인 방법.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 편성포의 화상의 표시는, 복수의 레이어(layer)로 나누어서 할당하는 상기 패턴 디자인의 화상을 합성함으로써 이루어지고,
    각 레이어에는 우선도(優先度)를 할당하여 레이어 사이에서 대응하는 스티치의 위치에 화상이 존재하면 우선도가 가장 높은 레이어의 스티치 화상을 표시하고,
    상기 편집으로서 각 레이어 내에서는, 스티치 화상의 위치 및 형상을 변경하는 조작이 가능한 것을 특징으로 하는 니트 디자인 방법.
  4. 제1항 내지 제3항 중 어느 하나의 항에 있어서,
    상기 기본 스티치, 상기 패턴용 스티치 또는 상기 변형 스티치의 화상 중 적어도 일부는, 미리 실제의 편성포를 촬영하여 화상데이터(畵像 data)로서 기억하는 것을 특징으로 하는 니트 디자인 방법.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 기본 스티치, 상기 패턴용 스티치 또는 상기 변형 스티치의 화상 중 적어도 일부는, 미리 컴퓨터 그래픽(computer graphic)을 이용하여 작성하여 화상데이터로서 기억하는 것을 특징으로 하는 니트 디자인 방법.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 화상으로서 표시되는 편성포는, 상기 기본 스티치 및 상기 패턴용 스티치와 미리 설정되는 편성포 편성용 스티치 표시방법과의 대응관계에 의거하여 그 편성포 편성용 정보에 대하여 상호 변환 가능한 것을 특징으로 하는 니트 디자인 방법.
  7. 제1항에 기재된 니트 디자인 방법을 컴퓨터에 실행시키기 위한 프로그램을 기록한 컴퓨터로 읽을 수 있는 매체.
  8. 화상표시수단(畵像表示手段)에 편성포의 화상을 표시하면서 편성포의 디자인을 하기 위한 니트 디자인 장치(knit design 裝置)로서,
    미리 정하여진 기본적인 편성포를 편성하기 위한 기본 스티치의 형상을 나타내는 화상, 편성포의 스티치를 기본 스티치의 형상으로부터 변화시켜서 조직패턴을 형성하기 위한 패턴용 스티치의 형상을 나타내는 화상 및 패턴용 스티치를 편성하는 영향에 의하여 그 패턴용 스티치 주위의 스티치가 위치에 따라 변형을 받는 형상을 나타내는 복수의 변형 스티치의 화상을 각각 나타내는 화상데이터를 미리 기억하는 스티치 화상기억수단(stitch 畵像記憶手段)과,
    스티치 화상기억수단에 기억되어 있는 기본화상(基本畵像)과 패턴화상(pattern 畵像)을 조합하여 편성포의 화상을 형성하기 위한 정보를 입력하는 편성포 정보입력수단(編成布 情報入力手段)과,
    편성포 정보입력수단으로의 정보입력에 응답하여 그 편성포에서 패턴화상의 주위에 편성되는 스티치를 나타내는 화상을 미리 정하여진 대응관계에 의거하여 스티치 화상기억수단에 기억되어 있는 복수의 변형 스티치의 화상으로부터 스티치의 위치에 따라 선택되는 화상으로 치환하는 스티치 화상변형수단(stitch 畵像變形手段)과,
    기본 스티치, 패턴용 스티치 및 변형 스티치의 화상을 조합하여 그 편성포의 화상을 그 화상표시수단에 표시하는 편성포 화상표시수단(編成布 畵像表示手段)을 포함하는 것을 특징으로 하는 니트 디자인 장치.
  9. 제8항에 있어서,
    상기 기본 스티치, 상기 패턴용 스티치 및 상기 변형 스티치를 조합하여 기본 스티치를 배열한 기본 편성포와 기본 스티치에 대하여 패턴용 스티치를 배치하여 주위를 변형 스티치로 치환한 패턴 편성포를 포함하는 패턴 디자인을 미리 모듈화(modularization) 하여 등록하는 것이 가능한 라이브러리 등록수단(library 登錄手段)을 더 포함하고,
    상기 편성포 정보입력수단은, 라이브러리 등록수단에 등록된 패턴 디자인을 선택하고, 선택된 패턴 디자인의 사이즈(size) 및/또는 반복회수의 변경을 포함하는 편집작업이 가능한 편성포 편집수단(編成布 編輯手段)을 구비하는 것을 특징으로 하는 니트 디자인 장치.
  10. 제9항에 있어서,
    상기 편성포 화상표시수단에 의한 편성포 화상의 표시는, 스티치의 화상을 복수의 레이어로 나누고, 각 레이어에는 우선도를 할당하여 레이어 사이에서 대응하는 스티치의 위치에 화상이 존재하면 우선도가 가장 높은 레이어의 스티치 화상을 표시함으로써 이루어지고,
    상기 편성포 편집수단은, 각 레이어 내에서 스티치 화상의 생성과 삭제, 생성되는 스티치의 위치 및 형상을 변경하는 편집조작이 가능한 것을 특징으로 하는 니트 디자인 장치.
  11. 제8항 내지 제10항 중 어느 하나의 항에 있어서,
    상기 화상표시수단에 의하여 표시되는 편성포를 상기 기본 스티치 및 상기 패턴용 스티치와 미리 설정되는 편성포 편성용 스티치 표시방법과의 대응관계에 의거하여 그 편성포 편성용 정보로 변환하는 합성편성포 변환수단(合性編成布 變換手段)을 더 포함하고,
    상기 편성포 정보입력수단은, 그 스티치 표시방법을 따르는 편성포 편성용 정보를 기본 스티치와 패턴용 스티치의 조합으로 변환하는 편성포 정보변환수단(編成布 情報變換手段)을 구비하는 것을 특징으로 하는 니트 디자인 장치.
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