KR100613837B1 - 준위 감지 장치 및 이를 이용한 세정 장치 - Google Patents

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이태우
이선화
박미애
김진현
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주식회사 케이씨텍
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Abstract

본 발명은 준위 감지 장치 및 이를 이용한 세정 장치에 관한 것이다. 본 발명의 준위 감지 장치는 세정조 내에 설치되어 가스를 연속적으로 배출하는 가스 공급 라인과, 상기 가스에 의한 기포를 배기하기 위한 기포 배기부를 포함하며, 상기 기포 배기부는 가스 공급 라인의 하단부를 둘러싸는 기포 차단막과, 기포 차단막 상부면의 연결되어 있는 기포 배기 라인과, 기포를 배출하기 위해 상기 기포 배기 라인의 상단부와 연결되어 있는 배기 포트를 구비한다. 상기와 같은 발명은 가스에 의한 기포가 공정에 유입되지 않도록 할 수 있고, 기포가 세정조 외부로 배출되도록 재구성하여 기포를 안전하게 배기하여 세정 효율을 높일 수 있는 효과가 있다.
세정 장치, 세정조, 가스, 레벨 센서, 배기 포트

Description

준위 감지 장치 및 이를 이용한 세정 장치{LEVEL MEASURING APPARATUS AND CLEANING APPARATUS USING THE SAME}
도 1은 종래의 습식 세정 장치를 나타낸 개략 평면도이다.
도 2는 종래의 준위 감지 장치가 설치된 세정조의 단면도이다.
도 3은 본 발명에 따른 준위 감지 장치를 장착한 세정 장치를 나타낸 개략 평면도이다.
도 4는 본 발명에 따른 준위 감지 장치를 나타낸 단면도이다.
도 5 내지 도 7은 본 발명에 따른 준위 감지 장치의 다양한 변형 예를 나타낸 단면도이다.
도 8 및 도 9는 본 발명에 따른 준위 감지 장치를 장착한 세정조를 나타낸 단면도이다.
<도면 주요 부분에 대한 부호의 설명>
10, 110: 로딩부 12, 112: 언로딩부
14, 114: 세정 처리실 16, 116: 건조 처리실
18, 118: 세정액 공급원 20, 120: 세정조
22, 122: 카세트 24, 124: 준위 감지 장치
26: 레벨 센서 28: 보호관
144: 가스 공급 라인 146: 기포 배기 라인
148: 기포 차단막 150: 배기 포트
152: 지지대 158: 세정액 공급 펌프
본 발명은 준위 감지 장치 및 이를 이용한 세정 장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 세정조에 N2 가스를 이용한 준위 감지 장치를 구성하여, 기판을 세정하는 과정에서 사용되는 세정액 등의 약액을 세정조에 공급할 때 공급량을 정확하게 측정할 수 있는 준위 감지 장치 및 이를 이용한 세정 장치에 관한 것이다.
반도체 장치의 회로 패턴의 디자인 룰이 미세화됨에 따라서, 반도체 장치의 생산과정에서 사용되는 반도체 기판에 생성 또는 부착되는 각종 파티클, 금속 불순물, 유기물 등에 기인하는 오염이 제품의 수율이나 신뢰성을 주는 영향이 커지고 있으며, 반도체 장치의 제조과정 중 반도체 기판에 부착된 오염 물질을 세정하는 중요성이 더욱 높아지고 있다.
반도체 기판을 세정하는 방법에는, 플라즈마 처리나 자외선 조사 등에 의한 건식(Dry) 세정과, 세정액을 사용하는 습식(Wet) 세정이 있다. 건식 세정은 반도체 프로세스 전체의 건식화가 진행중에 제안된 기술이며, 균일성이 우수하고, 오염물질의 재부착이 적고, 다른 건식 프로세스와의 연속화가 가능하고, 건조가 불필요하다는 등의 이점을 가지고 있다.
그러나 건식 세정은 다량의 오염물 제거에 적합하지 않고, 파티클 제거를 할 수 없으며, 또한 2차 오염의 염려를 완전히 불식할 수 없는 등의 문제를 갖는다. 건식 세정을 적용했다고 하더라도 이후에 습식 세정이나 순수 린스를 하지 않으면 안되는 것이 현상황이다.
이에 반해, 습식 세정은 장치 비용이 낮고, 처리량이 우수하고, 여러 종류의 오염을 동시에 제거 가능하며, 또한 방법에 따라서는 배치 처리나 전후면 동시 세정도 가능하다는 등의 이점을 가지고 있으므로, 현재 반도체 프로세스에서는 이들이 주류를 이루고 있다.
특히, 기판에 비해 통상 5배 이상 큰 디자인 룰이 적용되는 축소투영 노광용의 포토마스크 기판의 세정은 대략 습식 세정에 의해 행해지고 있다.
반도체 세정약품으로는 암모니아 과산화수소 혼합액(APM: Ammonia Peroxide Mixture)과 염산 과산화수소 혼합액(HPM: Hydrochloric acid Peroxide Mixture) 외에 황산 과산화수소 혼합액(SPM: Sulfuric acid Peroxide Mixture), 희석 불산(DHF: Diluted HF), BOE(Buffered Oxide Echant), 유기계 세정약품이 일반적으로 사용되고 있다.
여기서 상기 조성물은 세정액 중에서 희석 불소(DHF) 및 BOE를 주로 이용한다. 희석 불산은 보통 초순수와 혼합하여 50:1 ~ 1000:1 정도의 농도로 희석되어 사용되고 있다.
도 1은 종래의 습식 세정 장치를 나타낸 개략 평면도이다. 도면을 참조하면, 세정 장치는 로딩부 및 언로딩부(10, 12)와, 세정 처리실(14)과, 건조실(16)과, 세정액 공급원(18)으로 이루어져 있다.
로딩부 및 언로딩부(10, 12)는 세정 장치의 양쪽 끝단부에 설치되어 있으며, 이들 사이에 다수개의 세정조(20)가 일렬로 늘어선 처리실(14)과, 건조실(16)이 배치되어 있다.
기판 카세트(22)는 세정 전후의 기판을 보관하는 것으로, 로딩부(10)를 통해 로딩된 후, 기판이 세정 처리실(14) 내의 세정조로 기판이 이송되면 세정된 기판을 다시 보관하도록 언로딩부(12)에 보내진다.
즉, 로딩부(10)에서 반입된 카세트(22)의 기판은 (도시되지 않은) 캐리어에 의해 세정 처리실(14)로 이동하게 된다.
기판은 세정 처리실(14) 내의 다수의 세정조(20)로부터 세정을 마치고, 건조실(16)에서 건조를 끝낸 후, 언로딩부(12)를 통해 카세트(22)로 반입된다. 세정 장치 후면에는 세정액 공급원(18)이 설치되어, 세정 장치의 세정조(20)로 세정액을 공급하게 된다.
이때, 세정조(20) 내에는 준위 감지 장치(24)가 설치되어 세정액의 수위, 즉 준위를 감지한다. 일반적으로 (도시되지 않은) 정량 펌프를 사용하여 세정액의 준위를 감지한다. 그러나 측정하고자 하는 양이 많으면 많을수록, 측정 오차가 커지는 문제점이 있으므로 정량 펌프가 아닌 준위 감지 장치로 측정을 하여 공정의 수 율을 높인다.
도 2는 종래의 준위 감지 장치가 설치된 세정조의 단면도이다. 도면을 참조하면, 준위 감지 장치는 레벨 센서(26)와, 보호관(28)으로 구성되어 있다.
레벨 센서(26)는 N2 가스가 연속으로 공급되는 가스 공급원(30)이 연결되어 있고, 세정조(20) 일측에 설치하되 상기 레벨 센서(26)의 하부면은 세정조(26)의 저면에 근접되어 있다.
보호관(28)은 레벨 센서(26)의 외측을 감싸도록 설치되어 있으며, 연속적으로 공급되는 N2 가스에 의한 기포가 이동하는 것을 안내한다.
즉, 세정조(20) 내부에 세정액을 공급하면 세정액은 세정조(20)의 하부로부터 높이가 상승된다. 이 세정액은 보호관(28)의 하부를 통하여 상기 보호관(28) 내부로 유입되어 세정조(20)에 공급된 세정액과 보호관(28)의 내부로 유입된 세정액의 높이는 동일하게 유지된다. 이때, 가스 공급원(30)으로부터 N2 가스가 연속적으로 공급되어 레벨 센서(26) 하단부를 통해 가스가 배출된다.
N2 가스에 의해 기포가 생성되고, 기포는 보호관(28)을 통해 상승한다. 세정액의 준위가 상승할수록 N2 가스를 레벨 센서(26)를 통하여 레벨 센서(26)의 하단부까지 공급하기 위한 압력은 증가하게 된다. 레벨 센서(26)는 이를 통하여 세정액의 준위를 측정하여 그의 공급량을 결정한다.
하지만, 이러한 종래의 준위 감지 장치(24)는 N2 가스가 레벨 센서(26)의 하 부면에서 배출될 시, 공정 진행 중 기판에 N2 가스에 의한 기포가 기판 쪽으로 유입되어 세정 공정에 영향을 미칠 수 있다.
즉, 세정 공정 특성상 준위 감지 장치(24)에서 발생된 N2 가스에 의한 기포는 공정에 악영향을 미칠 수 있으며, 보호관(28)을 통해 상승된 기포가 세정조(20) 외부로 완전히 배출되지 못하고 세정조(20) 내에 잔류하여 공정에 영향을 미칠 수 있는 단점이 있다.
따라서, 본 발명은 상기의 문제점을 해결하기 위하여 도출된 것으로, 기포의 이동을 제한하기 위해 기포 차단막을 구성하여 공정상 유입되는 N2 가스에 의한 기포가 유입되지 않도록 하는 준위 감지 장치 및 이를 이용한 세정 장치를 제공함을 그 목적으로 한다.
또한, 세정조 내에서 배출되지 못한 N2 가스에 의한 기포를 처리하기 위해 기포 발생 라인에 새로운 배기 포트를 형성하여 기포를 안전하게 세정조 외부로 배기 시키는 준위 감지 장치 및 이를 이용한 세정 장치를 제공함을 그 목적으로 한다.
상술한 목적을 달성하기 위하여 본 발명은 세정조 내에 세정액 준위 감지 장치로서, 세정조 내에 설치되어 가스를 공급하는 가스 공급 라인과, 상기 가스에 의한 기포를 배기하기 위한 기포 배기부를 포함하며, 상기 기포 배기부는 가스 공급 라인의 하단부를 둘러싸는 기포 차단막과, 기포 차단막 상부면에 연결되어 있는 기포 배기 라인과, 기포를 배출하기 위해 상기 기포 배기 라인의 상단부와 연결되어 있는 배기 포트로 구성되어 있다.
상기 기포 차단막은 하단부의 적어도 일부가 개방된 용기의 형상이고, 가스 공급 라인의 하단부가 위치하지 않는 영역의 하단부가 개방될 수도 있다. 또한, 상기 기포 차단막은 원기둥, 다각기둥 또는 반구 형상으로 형성할 수 있다.
상기 가스 공급 라인은 상기 기포 배기부 내에 위치할 수 있다. 상기 가스 공급 라인과 기포 배기부를 상호 고정시키기 위해 지지대가 더 설치된다.
도 3은 본 발명에 따른 준위 감지 장치를 장착한 세정 장치를 나타낸 개략 평면도이다.
도면을 참조하면, 세정 장치는 로딩부 및 언로딩부(110, 112)와, 세정 처리실(114), 건조 처리실(116)과, 기판 이송부(140)로 구성되어 있다.
로딩부(110)는 세정 장치의 한쪽 끝단부에 배치되고, 기판 카세트(122)가 놓여지는 로더(111)가 설치된다. 로더(111)는 (도시되지 않은) 구동 기구에 의해 승하강이 가능하게 되어 있다.
로더(111)는 기판 카세트(122)를 상하로 이동시키고, 뒤에 설명하는 캐리어(132)가 기판을 카세트(122)에서 제거하는 역할을 한다. 카세트(122)에서 기판이 제거되면 빈 카세트(122)는 (도시되지 않은) 이송 수단에 의해 언로딩부(112)로 이송된다.
또한, 세정 장치의 다른 끝단부에는 카세트(122)가 얹어 놓여지는 언로딩부 (112)가 설치되고, 카세트(122)를 언로딩부(112)의 선반 상에 오도록 하여 세정 처리된 기판이 카세트(122) 내에 삽입될 수 있게 한다.
세정 장치의 상부면에는 카세트(122)를 세정 및 이동하기 위한 (도시되지 않은) 통로가 설치되어, 카세트(122)는 세정 장치 상부 통로를 통해 언로딩부(112)로 옮겨진다.
세정 처리실(114)의 언로더부(112) 쪽으로 건조 처리실(116)이 설치되어 있다.
건조 처리실(116)에는 기판을 건조하기 위한 건조 장치(134)가 배치되어 있다. 건조 장치(134)는 세정 장치의 수직 방향으로 운동하며 세정 처리실(114)에서 세정 및 린스 작업을 마친 기판을 건조시키는 역할을 한다.
로딩부(110)와, 세정 처리실(114)과, 건조실(116)과, 언로딩부(112) 사이에는 셔터(136)가 설치되어 각각을 분리하고 있다.
로딩부(110)와, 세정 처리실(114)과, 건조실(116)과, 언로딩부(112)에 인접하여, 기판 이송부(140)가 설치되어 있다.
기판 이송부(140)는 궤도 레일(138)과 궤도 레일(138) 상부면에 다수개의 캐리어(132)가 설치되어 있다. 궤도 레일(138)은 일방향으로 형성되어 있으며, 다수개의 캐리어(132)의 이동을 안내하는 역할을 한다.
세정 장치 후방에는 세정액을 공급하기 위한 세정액 공급원(118)이 설치된다. 세정액 공급원(118)으로부터 세정액이 배관(142)을 통해 세정 장치 내의 세정조(120)로 공급되게 된다.
로딩부(110)와 언로딩부(112) 사이에는 세정 처리실(114)이 설치되고, 예를 들어 6개의 세정조(120), 즉 3개의 세정액 세정조와 3개의 린스조가 세정 처리실(114) 내에 설치된다.
각 세정액 세정조 및 린스조는 로딩부(110)쪽으로부터 교대로 배열되어 순서대로 설치되어 있다. 세정액 세정조 및 린스조는 각각 세정액 세정과 순수로 린스를 담당한다. 각 세정조(120)는 세정 장치의 아래쪽으로 수직으로 뻗어 있으며, 기판을 수직한 상태로 수납하도록 한다. 세정조(120)는 본 발명에 따른 준위 감지 장치(124)가 설치되어 있어서, 세정액의 공급량을 감지 제어한다.
일반적으로 세정액을 사용한 세정을 행한 후, 순수 린스가 행해지지만, 세정액에 의한 세정과 순수에 의한 린스를 한 사이클로 하고, 사이클을 복수회 반복함으로써, 세정 효율을 개선할 수도 있다.
도 4는 본 발명에 따른 준위 감지 장치를 나타낸 단면도이다. 도면을 참조하면, 준위 감지 장치는 가스 공급 라인(144)과, 기포 배기부로 구성되어 있으며, 기포 배기부는 기포 배기 라인(146)과, 기포 차단막(148)과, 배기 포트(150)로 구성되어 있다.
가스 공급 라인(144)은 외부의 (도시되지 않은) N2 가스 공급원으로부터 가스를 연속적으로 공급받아 배출하는 역할을 한다.
기포 차단막(148)은 하단부가 개방된 용기 형상으로 도시된 실시예에서는 하단이 개방된 중공의 원기둥 형상을 띄고 있으며 가스 공급 라인(144)의 하부가 상 기 기포 차단막(148)을 관통하여 가스 공급 라인(144)의 하단이 기포 차단막(148) 내부에 위치된다.
이러한 구성에 의해 가스 공급 라인(144)을 통해 배출되는 N2 기포를 기포 차단막(148)의 내부에 모이게 하는 역할을 한다. 이때, 기포 차단막(148)은 발생 기포를 내부에 담아 기포 차단막(148)의 개방된 하단부를 통해서 외부로 빠져나가지 않도록 충분히 큰 것이 바람직하다.
기포 배기 라인(146)은 기포 차단막(148)의 상부에 연결되어 기포 차단막(148) 내에 모인 기포의 출구로 이동시키는 역할을 한다. 배기 포트(150)는 기포 배기 라인(146) 상단에 연통되게 설치되어 있다.
즉, 배기 포트(150)는 배출된 기포를 기포 배기 라인(146)을 통해 세정조(120) 외부로 내보내는 역할을 한다. 이는 종래 기술의 기포가 세정조(120) 내부에 적체되어 공정에 영향을 미치는 단점을 해결하기 위함이다. 배기 포트(150)의 배기 방향은 세정조(120)의 외부를 향하는 방향으로 설치된다.
또한, 가스 공급 라인(144)과 기포 배기 라인(146) 사이에는 지지대(152)가 설치되어 가스 공급 라인(144)과 기포 배기 라인(146)이 일정 간격을 유지하도록 서로를 고정한다. 또한, 가스 공급 라인(144)은 기포 배기 라인(146)의 내측에도 설치될 수 있음은 물론이다.
도 5 내지 도 8은 준위 감지 장치의 다양한 변형 예를 나타낸 단면도이다.
도 5에 도시한 바와 같이, 기포 차단막(148)의 상부를 반구 형상으로 형성하 고, 기포 배기 라인(146)을 정점에 형성시킨다. 이는 가스 공급 라인(144)에서 배출된 기포가 기포 차단막(148)에 적체되지 않도록 더 효율적으로 기포를 이동시킬 수 있는 장점이 있다.
전술된 원기둥 및 반구 형상 이외에 사각, 육각 기둥, 타원 기둥, 타원 반구 등 다양한 형상도 가능하다. 또한 도 6과 같이, 기포 차단막(148)의 개방된 하부는 가스 공급 라인(144)의 하단부가 위치하지 않는 영역의 일부만을 개방할 수 있다. 이는 가스 공급 라인(144)에서 배출된 기포가 기포 차단막(148)의 개방된 하부를 통하여 빠져나가지 못하게 하여 기포가 더욱 안전하게 배기될 수 있다.
또한 도 7 및 도 8과 같이, 배기 포트(150)의 방향을 상측으로 향하거나, 하측을 향해 설치될 수 있다.
도면에 나타난 바와 같이, 배기 포트(150)가 상측 및 하측을 향하는 경우, 배기 포트(150)의 선단부는 세정조(120)에서 소정 높이로 연장되거나 세정조(120) 측벽을 넘어 설치한다. 이는 세정조(120)로 N2 가스가 유입되지 않는다는 이점이 있다.
또한, 세정조(120)의 측벽을 넘어 설치할 수 없다면, 배출된 기포가 세정조(120) 내에 영향을 미치지 않게 하기 위해 다양한 형상의 보호지지대를 더 추가하여 설치할 수 있다.
도 9 및 도 10는 본 발명에 따른 준위 감지 장치를 장착한 세정조를 나타낸 단면도이다.
도 9를 참조하면, 세정조(120)는 내부 세정조(154)와, 외부 세정조(156)와, 세정액 공급원(118)과, 세정액 공급 펌프(158)와, 준위 감지 장치(124)로 구성된다.
내부 세정조(154)는 세정할 기판을 수납하여, 세정 및 린스를 한다. 외부 세정조(156)는 내부 세정조(154) 외부를 둘러싸고 있으며, 내부 세정조(154)과 세정액 공급원(118)을 연결하는 공급관로(159)에는 세정액 공급 펌프(158)가 설치되어 있다.
세정액 공급 펌프(158)는 세정액 공급원(118)으로부터 세정액의 공급을 제어하는 역할을 한다. 준위 감지 장치(124)는 외부 세정조(156) 내에 설치되고, 외부 세정조(156) 바닥에서 소정간격 예를 들어 3-5mm 의 간격을 두어 설치한다.
세정액 공급원(118)으로부터 세정액이 세정조(120)에 공급되면, 지속적으로 공급된 세정액은 내부 세정조(154)를 거쳐 외부 세정조(156)로 유입된다. 이때, 기포 차단막(148) 하부는 외부 세정조(156) 바닥으로부터 3-5mm 의 간격을 둠으로써 기포 차단막(148) 내부에 세정액이 흘러들어 가도록 유도한다.
가스 공급원(130)으로부터 N2 가스가 가스 공급 라인(144)으로 공급되며, N2 기포는 기포 차단막(148) 내부로 모이게 되며 기포 배기 라인(146)을 따라 배기 포트(150)를 통해 배출된다. 이때, 준위 감지 장치(124)는 N2 가스에 의한 압력을 측정하여 세정액의 공급량을 결정하게 된다.
또한, 준위 감지 장치(124)는 도 10에 도시한 바와 같이 이중 세정조가 아닌 단일 세정조에서도 설치 가능하다. 즉, 세정조(120) 내부에 세정액을 공급하면 세정액은 세정조(120)의 하부로부터 높이가 상승된다. 이때, 도 8과 같이 동작하는 준위 감지 장치(124)는 세정액의 압력을 측정하여 세정액의 준위를 측정하여 공급량을 결정한다.
다음은 세정 장치를 이용한 기판의 세정 공정을 설명한다. 기판이 수납된 카세트(122)가 로딩부(110)에 로딩되면, 캐리어(132)는 궤도 레일(138) 위를 수평이동한다. 캐리어(132)가 로딩부(110) 앞에 위치되면, 캐리어(132)는 기판을 파지하여 기판을 수평으로 빼낸다.
이때, 카세트(122)는 세정 장치 상부면에 형성된 (도시되지 않은) 통로를 통해 언로딩부(112)로 이동한다. 다음에 캐리어(132)는 궤도 레일(138) 위를 통해 첫 번째 세정조(120)의 인접 위치까지 이동한다. 또한, 이와 병행하여 세정 처리실(114)의 셔터(136)가 개방되고, 기판이 캐리어(132)에 보호 지지된 상태에서, 세정 처리실(114)로 삽입된다.
세정 공급원(118)으로부터 세정조(120)로 유입된 세정액은 준위 감지 장치(124)의 기포 차단막(148) 하부로 세정액이 흘러들어간다. 가스 공급원(130)으로부터 N2 가스가 가스 공급 라인(144)으로 공급하며, N2 가스는 가스 공급 라인(144)의 하부를 통하면서 기포를 배출한다. N2 기포는 기포 차단막(148) 내부로 모이게 되며, 기포 배기 라인(146)을 통해 배기 포트(150)로 배출된다.
이때, 준위 감지 장치(124)는 N2 가스를 공급하는 압력을 측정하여 세정액의 높이 즉 공급량을 감지 제어한다. 이와 같이, 정확한 공급량 제어는 정확한 세정액의 공급량으로 오동작 및 공정의 수율을 높일 수 있다.
캐리어(132)는 기판을 세정액 세정조(120)에 침지시키고 기판이 놓여 있던 원래의 위치, 즉 로딩부(110)로 돌아가 지금까지의 동작을 반복한다. 기판이 세정액 세정조(120)를 거쳐 린스조에 침지된 상태에서 다른 캐리어(132)가 기판을 파지하여 세정 및 린스를 반복한다.
세정 처리실(114)에서의 동작이 끝난 후, 마지막에 위치한 캐리어(132)는 기판을 건조 처리실(116)로 이동시킨다. 건조 처리실(116)의 건조 장치(134)가 세정 장치 아래쪽 수직 방향으로 이동하여 세정 작업을 마친 기판을 건조시킨다. 건조된 기판은 캐리어(132)에 의해 언로딩부(112)로 옮겨지며, 대기하고 있던 카세트(122)에 기판이 반입되어 공정을 마친다.
상기 세정 장치의 작동은 컴퓨터에 의하여 제어되고, 캐리어와, 개폐 기구의 동작 및 처리실 내에서의 세정 또는 건조 처리는 미리 짜여진 소정의 프로그램에 따라 자동적으로 행하여진다.
본 발명은 반도체 기판만이 아니라, LCD기판, 프린터 기판 등의 세정 장치에도 적용 가능하며, 연속처리하도록 여러개의 처리부를 갖춘 각종 처리 장치 예를 들어 반도체 기판 에칭 장치에도 적용 가능하다.
또한, 본 발명은 상기의 실시예에 한정되지 않으며, 본 발명이 속한 기술적 사상 내에서 당 분야의 통상의 지식을 가진자에 의해 많은 변형이 가능함은 명백하다.
상술한 바와 같이, 본 발명에 따른 준위 감지 장치 및 이를 이용한 세정 장치는 준위 감지 장치를 재구성하여, N2 가스에 의한 기포가 공정에 유입되지 않는 효과가 있다.
또한, N2 가스에 의한 기포가 세정조 외부로 배출될 수 있도록 준위 감지 장치를 재구성하여, 세정 효율을 높일 수 있는 효과가 있다.

Claims (9)

  1. 세정조 내의 세정액 준위 감지 장치에 있어서,
    세정조 내에 설치되어 가스를 공급하는 가스 공급 라인과,
    상기 가스에 의한 기포를 배기하기 위한 기포 배기부를 포함하며,
    상기 기포 배기부는 가스 공급 라인의 하단부를 둘러싸는 기포 차단막과, 기포 차단막 상부면에 연결되어 있는 기포 배기 라인과, 기포를 배출하기 위해 상기 기포 배기 라인의 상단부와 연결되어 있는 배기 포트를 구비한 것을 특징으로 하는 준위 감지 장치.
  2. 청구항 1에 있어서, 상기 기포 차단막은 하단부의 적어도 일부가 개방된 용기 형상으로 형성된 것을 특징으로 하는 준위 감지 장치.
  3. 청구항 2에 있어서, 상기 기포 차단막은 가스 공급 라인의 하단부가 위치하지 않는 영역의 하단부가 개방된 것을 특징으로 하는 준위 감지 장치.
  4. 청구항 2 또는 청구항 3에 있어서, 상기 기포 차단막은 원기둥, 다각기둥 또는 반구 형상인 것을 특징으로 하는 준위 감지 장치.
  5. 청구항 1 내지 청구항 3 중 어느 한 항에 있어서, 상기 가스 공급 라인은 상 기 기포 배기부 내에 위치한 것을 특징으로 하는 준위 감지 장치.
  6. 청구항 1 내지 청구항 3 중 어느 한 항에 있어서, 상기 가스 공급 라인과 기포 배기부를 상호 고정시키기 위해 지지대가 더 설치되는 것을 특징으로 하는 준위 감지 장치.
  7. 기판을 습식 세정하기 위한 세정 장치에 있어서,
    세정 처리를 하기 위한 세정조 및 상기 세정조 내에 일측에 가스를 공급하는 가스 공급 라인과, 상기 가스 공급 라인의 하단부를 둘러싸는 기포 차단막과, 기포 배기 라인을 구비하여 가스에 의한 기포를 배기하기 위한 기포 배기부를 구비한 준위 감지 장치를 포함하는 것을 특징으로 하는 세정 장치.
  8. 청구항 7에 있어서, 상기 기포 차단막은 하단부의 적어도 일부가 개방된 용기 형상으로 형성된 것을 특징으로 하는 세정 장치.
  9. 청구항 7에 있어서, 상기 기포 배기부는 세정조의 외부로 연장 형성되어 기포를 배기하는 배기 포트를 포함하는 것을 특징으로 하는 세정 장치.
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