KR100719094B1 - 세정액 공급 장치와 이를 이용한 세정 장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명의 세정액 공급 장치는 다수의 측량 탱크와, 상기 측량 탱크로부터 다수의 세정액이 각각 유입되는 다수의 유입부와, 상기 다수의 유입부로부터 유입된 세정액을 혼합하는 몸체와, 상기 혼합된 세정액을 배출하기 위해 하나의 유출부를 포함하는 버퍼 용기와, 상기 버퍼 용기의 유출부와 상기 세정조를 연결하는 단일 배관을 포함한다.
상기와 같은 발명은, 세정 공정 중에 문제 발생 시 처리량의 큰 장애라고 할 수 있는 장비 수리 시간을 단축할 수 있고, 복잡한 배관로에 의한 공간 부족 문제를 획기적으로 해소할 수 있다.
세정 장치, 세정조, 카세트, 처리실, 건조실

Description

세정액 공급 장치와 이를 이용한 세정 장치{CLEANING LIQUID FEEDING APPARATUS AND CLEANING APPARATUS USING THE SAME}
도 1은 종래의 세정 장치를 나타낸 개략 평면도이다.
도 2는 종래의 세정 장치에 장착된 세정조를 나타낸 단면도이다.
도 3a는 본 발명에 따른 버퍼 용기를 장착한 세정 장치를 나타낸 개략 평면도이다.
도 3b는 본 발명에 따른 버퍼 용기를 장착한 세정액 공급 장치를 나타낸 개략 평면도이다.
도 4는 본 발명에 따른 버퍼 용기를 나타낸 단면도이다.
도 5 내지 도 8은 본 발명에 따른 버퍼 용기의 다양한 형상을 나타낸 단면도이다.
< 도면 주요 부분에 대한 부호의 설명 >
12, 112: 로딩부 14, 114: 언로딩부
16, 116: 세정 처리실 18, 118: 건조실
28, 128: 제 1 배관 30, 130: 제 2 배관
32a, 132a: 정량 펌프 34a, 134a: 유량 제어 장치
36, 136: 제 3 배관 38, 138: 제 4 배관
142: 기판 이송부 162; 궤도 레일
164: 캐리어 암 166: 수평암
168: 리프터 170: 버퍼 용기
172: 버퍼 용기 몸체 174: 배기 포트
176: 제 1 유입부 178: 제 2 유입부
180: 유출부
본 발명은 세정액 공급 장치 및 이를 이용한 세정 장치에 관한 것으로서, 보다 상세 하게는 세정액 용기부의 배관을 단일 배관으로 구성하는 세정액 공급 장치와 이를 이용한 세정 장치 및 세정액 공급 방법에 관한 것이다.
반도체 장치의 회로 패턴의 디자인 룰이 미세화됨에 따라서, 반도체 장치의 생산 과정에서 사용되는 반도체 기판에 생성 또는 부착되는 각종 파티클, 금속 불순물, 유기물 등에 기인하는 오염이 제품의 수율이나 신뢰성에 주는 영향이 커지고 있으며, 반도체 장치의 제조과정 중 반도체 기판에 부착된 오염 물질을 세정하는 중요성이 더욱 높아지고 있다.
반도체 기판을 세정하는 방법에는, 플라즈마 처리나 자외선 조사 등에 의한 건식(Dry) 세정과, 세정액을 사용하는 습식(Wet) 세정이 있다.
건식 세정은 반도체 프로세스 전체의 건식화가 진행중에 제안된 기술이며, 균일성이 우수하고, 오염물질의 재부착이 적고, 다른 건식 프로세스와의 연속화가 가능하고, 건조가 불필요하다는 등의 이점을 가지고 있다.
그러나 건식 세정은 다량의 오염물 제거에 적합하지 않고, 파티클 제거를 할 수 없으며, 또한 2차 오염의 염려를 완전히 불식할 수 없는 등의 문제를 갖는다. 건식 세정을 적용했다고 하더라도 이후에 습식 세정이나 순수 린스를 하지 않으면 안되는 것이 현상황이다.
이에 반해, 습식 세정은 장치 비용이 낮고, 처리량이 우수하고, 여러 종류의 오염을 동시에 제거 가능하며, 또한 방법에 따라서는 배치 처리나 전후면 동시 세정도 가능하다는 등의 이점을 가지고 있으므로, 현재 반도체 프로세스에서는 이들이 주류를 이루고 있다.
특히 기판에 비해 통상 5배 이상 큰 디자인 룰이 적용되는 축소투영 노광용의 포토마스크 기판의 세정은 대략 습식 세정에 의해 행해지고 있다.
도 1은 종래의 세정 장치를 나타낸 평면도이다. 도면을 참조하면, 세정 장치는 로딩 및 언로딩부(12, 14)와, 처리실(16)과, 건조실(18)로 이루어져 있다.
로딩부 및 언로딩부(12, 14)는 세정 장치의 양쪽 끝단부에 설치되어 있으며, 이들 사이에 다수개의 세정조(22)가 일렬로 늘어선 처리실(16)과, 건조실(18)이 배치되어 있다.
기판 카세트(10)는 세정 전후의 기판을 보관하는 것으로, 카세트(10)는 로딩부(12)를 통해 로딩된 후, 기판이 처리실(16) 내의 세정조로 기판이 이송되면 언로딩부(14)로 세정된 기판을 다시 보관하도록 언로딩부(14)에 보내진다.
즉, 로딩부(12)에서 반입된 카세트(10)의 기판은 (도시되지 않은) 캐리어암에 의해 처리실(16)로 이동하게 된다.
기판은 처리실(16) 내의 다수의 세정조(22)로부터 세정을 마치고, 건조실(18)에서 건조를 끝낸 후, 언로딩부(14)를 통해 카세트(10)로 반입된다.
세정 장치의 후면에는 세정액을 공급받기 위해 각각의 측량탱크(25)와 배관로(23)가 배치되어 있다. 여기에서는 황산-과산화수소-물을 세정액으로 사용하는 경우에 대해서 설명하고자 한다.
도 2는 종래 세정 장치에 장착된 세정조를 나타낸 평면도이다. 도면을 참조하면, 세정조는 측량탱크와 배관이 연결되어 있다.
측량탱크로서 과산화수소 측량탱크(24)와 황산 측량탱크(26)가 마련된다. 일반적으로, 반도체용 기판 세정액으로는 황산-과산화수소-물(SPM), 암모니아수-과산화수소-물(SC-1), 염산-과산화수소-물(SC-2), 묽은 불소산 등이 있고, 목적에 따라 각 세정액이 단독 또한 조합되어 사용되고 있다.
과산화수소 측량탱크(24)에는 제 1 배관(28)과 제 2 배관(30)이 연결되어 있고, 상기 제 1 배관(28)에는 제 2 배관(30)이 분기된다.
제 1 배관(28)에는 공급 제어 장치(40a)가 연결되어 세정 장치에 연결되어 있으며, 세정액의 공급을 제어한다. 제 2 배관(30)은 정량 펌프(32a)와, 유량 제어 장치(34a)가 연결되어 있다.
또한 황산 측량탱크(26)에는 제 3 배관(36)과 제 4 배관(38)이 연결되어 있고, 상기 제 3 배관(36)에는 제 4 배관(38)이 분기된다.
제 3 배관(36)에는 공급 제어 장치(40b)가 연결되어 있으며, 제 4 배관(38)은 정량 펌프(32b)와, 유량 제어 장치(34b)가 연결되어 있다. 제 1 및 제 3 배관(28, 36)에 연결되어 있는 공급 제어 장치(40a, 40b)는 세정액의 공급을 제어하는 역할을 하고, 제 2 및 제 4 배관(30, 38)에 연결되어 있는 정량 펌프(32a, 32b)는 사용도중 세정액이 증발하거나 기타 다른 이유로 농도계의 프로세스 범위를 충족시키지 못할 때 적정 농도를 유지하기 위해 동작된다.
또한, 정량 펌프(32a, 32b)를 제어하기 위한 제어 밸브로 유량이 조절되면서 제어가 가능한 유량 제어 장치(34a, 34b)가 준비된다. 제 1 내지 제 4 배관(28, 30, 36, 38)은 세정 장치를 통해 각각의 세정조(22)로 연결되어 있다.
하지만, 종래 세정 장치는 측량조를 통해 공급되는 세정액로가 별도의 개별 공급로를 가지고 있어 세정 장치에 도달하기까지 여러 가닥의 복잡한 배관구조를 갖게 된다. 이러한 배관은 공정을 진행하기 위해 세정조 상부로 집결하게 되며 결국 세정조의 배관이 많은 까닭에 세정액들의 누출 위험성 및 복잡한 배관구조로 인해 장비유지보수가 어렵다.
특히, 세정조를 들어내야 하는 문제가 발생될 때에는 수많은 세정액로들을 각각 봉합하면서 정비를 해야 하기 때문에 작업시간이 증가하고, 작업 효율이 떨어진다.
따라서, 본 발명은 상기의 문제점을 해결하기 위하여 도출된 것으로, 세정액 장치부의 배관을 단일 배관으로 구성시켜 공간 부족에 따른 문제점을 해결하기 위 한 버퍼 용기 및 이를 이용한 세정 장치를 제공함을 그 목적으로 한다.
상술한 목적을 달성하기 위하여 본 발명의 세정액 공급 장치는 다수의 측량 탱크와, 상기 측량 탱크로부터 다수의 세정액이 각각 유입되는 다수의 유입부와, 상기 다수의 유입부로부터 유입된 세정액을 혼합하는 몸체와, 상기 혼합된 세정액을 배출하기 위해 하나의 유출부를 포함하는 버퍼 용기와, 상기 버퍼 용기의 유출부와 상기 세정조를 연결하는 단일 배관을 포함한다.
상기 몸체는 밀폐 용기를 포함하고, 상부에 배기 포트가 형성된 것을 특징으로 한다.
상기 유입부 및 유출부는 상기 몸체의 상부 및 하부에 각각 형성된 것을 특징으로 한다.
상기 몸체의 하부는 라운드 형상을 포함하는 것을 특징으로 한다.
상기 몸체의 재질은 테프론 또는 수정을 포함하는 것을 특징으로 한다.
상기 몸체 내부에는 배플이 형성된 것을 특징으로 한다.
상술한 목적을 달성하기 위하여 본 발명의 세정 장치는 기판을 로딩 및 언로딩하기 위한 로딩부 및 언로딩부와, 세정 처리를 하기 위한 세정조를 포함하는 처리실과, 기판을 이송하는 기판 이송부와, 각각에 세정액이 저장된 다수개의 측량탱크와, 상기 측량탱크에서 공급된 세정액을 혼합하여 단일 배관을 통해 상기 처리실의 세정조로 공급하는 버퍼 용기를 포함한다.
상기 버퍼 용기는 몸체와, 상기 몸체에 형성되어 다수의 세정액이 각각 유입되는 다수의 유입부와, 상기 몸체 내에서 혼합된 세정액을 배출하기 위한 하나의 유출부를 포함하는 것을 특징으로 한다.
상기 버퍼 용기 몸체는 밀폐 용기를 포함하고, 상부에 배기 포트가 형성된 것을 특징으로 한다.
상술한 목적을 달성하기 위하여 본 발명에 따른 세정조에 세정액을 공급하는 방법에 있어서, 다수의 배관을 통해 서로 다른 세정액을 버퍼 용기에 공급하는 단계와, 상기 버퍼 용기 내의 세정액을 기판을 침지하는 세정조에 공급하는 단계를 포함하되, 상기 버퍼 용기 내의 세정액은 단일 배관을 통해 세정조에 공급되는 것을 특징으로 한다.
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도 3a는 본 발명에 따른 버퍼 용기를 장착한 세정 장치를 나타낸 개략 평면도이다. 도면을 참조하면, 세정 장치는 로딩부(112)와, 언로딩부(114)와, 세정 처리실(116)과, 건조실(118)과, 기판 이송부(142)와, 세정액 공급 장치(113)로 구성되어 있다.
로딩부(112)는 세정 장치의 한쪽 끝단부에 배치되고, 기판 카세트(110)가 놓여지는 로더(144)가 수직 배열 설치되고, 로더(144)는 (도시되지 않은) 구동 기구에 의해 승강이 가능하게 되어 있다.
로더(144)는 기판 카세트(110)를 상하로 이동시켜, 뒤에 설명하는 캐리어 암이 세정 처리될 기판을 카세트(110)에서 빼내는 위치로 카세트(110)를 소정의 선반상에 오도록 하여 기판이 카세트에서 제거될 수 있게 한다. 카세트(110)에서 기판이 제거되면 빈 카세트(110)는 (도시되지 않은) 카세트(110) 이송 수단에 의해 언로딩부(114)로 이송된다.
또한, 세정 장치의 다른 끝단부에는 기판 카세트(110)가 얹어 놓여지는 언로딩부(114)가 설치되고, 언로딩부(114)에는 언로더(146)가 설치된다.
언로더(146) 또한 (도시되지 않은) 승강 장치에 의해 승하강이 가능하게 되어 있다. 언로더(146)는 기판 카세트(110)를 상하로 이동시켜, 캐리어 암(164)에 의해 세정 처리된 기판을 카세트(110)에 삽입하는 위치로 카세트를 소정의 선반 상에 오도록 하여 세정 처리된 기판이 카세트(110) 내에 삽입될 수 있게 한다.
또한, 세정 장치의 상부면에는 카세트(110)를 세정 및 이동하기 위한 (도시되지 않은) 통로가 설치되어 있다. 기판을 로딩후, 카세트(110)는 세정 장치 상부면을 통해 언로딩부(114)로 옮겨진다.
로딩부(112)와 언로딩부(114) 사이에는 세정 처리실(116)이 설치되고, 예를 들어 6개의 처리조, 즉 세정액 세정조와 린스조가 세정 처리실(116) 내에 설치된다.
각 세정액 세정조 및 린스조는 로딩부(112)쪽으로부터 교대로 배열되어 순서대로 설치되어 있다. 세정액 세정조 및 린스조는 각각 세정액 세정과 순수로 린스를 담당한다. 각 세정조(122)는 세정 장치의 아래쪽으로 수직으로 뻗어 있으며, 기판을 수직한 상태로 수납하도록 한다.
일반적으로 세정액을 사용한 세정을 행한 후, 일반적으로 순수 린스가 행해지지만, 본 세정 장치에서는 세정액에 의한 세정과 순수에 의한 린스를 한 사이클로 하고, 사이클을 복수회 반복함으로써, 세정 효율을 개선한다. 또한, 세정액을 흘려 버블링 시켜 세정하므로 더욱 세정효과가 높다.
세정 처리실(116)의 언로더부(114) 쪽으로 건조실(118)이 설치되어 있다. 건조실(118)에는 기판을 건조하기 위한 건조 장치(158)가 배치되어 있다. 건조 장치(158)는 세정 장치의 수직 방향으로 운동하며 처리실(116)에서 세정 및 린스 작업을 마친 기판을 건조시키는 역할을 한다.
로딩부(112)와, 처리실(116)과, 건조실(118)과, 언로딩부(114) 사이에는 셔터(160)가 설치되어 각각을 분리하고 있다.
로딩부(112)와, 처리실(116)과, 건조실(118)과, 언로딩부(114)에 인접하여, 기판 이송부(142)가 설치되어 있다.
기판 이송부(142)는 궤도 레일(162)과 궤도 레일(162) 상부면에 다수개의 캐리어 암(164)이 설치되어 있다. 궤도 레일(162)은 일방향으로 형성되어 있으며, 다수개의 캐리어 암(164)의 이동을 안내하는 역할을 한다. 캐리어 암(164)의 각각은 수평암(166)과, 리프터(168)와 이들을 연결하는 지지대(167)로 구성되어 있다.
수평암(166)은 궤도 레일(162)을 따라 움직이는 역할을 하고, 리프터(168)에는 기판을 파지 및 보유하는 2개의 핑거(169)가 설치된다. 세정 장치 후면에는 세정액을 공급하기 위해 세정액 공급 장치(113)가 세정조(122)의 개수에 대응하도록 복수개 설치되어 있다.
도 3b는 본 발명에 따른 세정조에 연결된 세정액 공급 장치를 나타낸 평면도이다. 도면을 참조하면, 세정액 공급 장치(113)는 버퍼 용기(170)와, 측량탱크(124, 126)와, 측량탱크(124, 126)와 버퍼 용기(170)를 연결하는 복수개의 배관으로 구성되어, 세정조(122)와 연결된다.
과산화수소 측량탱크(124)에는 제 1 배관(128)이 연결되고, 상기 제 1 배관에는 제 2 배관이 분기된다. 제 1 배관(128)에는 공급 제어 장치(140a)가 연결되어 버퍼 용기(170)에 연결되어 있으며, 과산화수소의 공급을 제어한다.
제 1 배관(128)에서 분리 형성된 제 2 배관(130)에는 정량 펌프(132a)와, 유 량 제어 장치(134a)가 연결되어 있다. 제 2 배관(130)은 다시 제 1 배관(128)으로 합체되어 버퍼 용기에 연결된다.
또한 황산 측량탱크(126)에는 제 3 배관(136)이 연결되고, 상기 제 3 배관(136)에는 제 4 배관(138)이 분기된다. 제 3 배관(136)에는 공급 제어 장치(140b)가 연결되어 있으며, 제 4 배관로(138)는 제 3 배관로(136)에서 분리 형성되어 있으며, 정량 펌프(132b)와, 유량 제어 장치(134b)가 연결되어 있다.
제 4 배관(138)은 다시 제 3 배관(136)과 합체되어 버퍼 용기(170)에 연결된다. 제 1 및 제 3 배관(128, 136)에 연결되어 있는 공급 제어 장치(140a, 140b)는 세정액의 공급을 제어하는 역할을 하고, 제 2 및 제 4 배관(130, 138)에 연결되어 있는 정량 펌프(132a, 132b)는 사용도중 약액이 증발하거나 기타 다른 이유로 농도계의 프로세스 범위를 충족시키지 못할 때 적정 농도를 유지하기 위해 동작된다.
또한, 정량 펌프(132a, 132b)를 제어하기 위한 제어 밸브로 유량이 조절되면서 제어가 가능한 유량 제어 장치(134a, 134b)가 마련된다. 제 1 배관(128) 및 제 3 배관(136)은 1/2인치 배관이나 3/8인치의 배관구조가 적절하다.
버퍼 용기(170)는 각각의 측량탱크에서 유입된 과산화수소와 황산 및 물을 혼합하여 단일 배관을 통하여 세정 장치를 통해 세정조(122)로 공급한다. 즉 버퍼 용기(170)와 세정 장치의 후면 및 세정조(122)는 단일 배관으로 연결되어 있다.
다시 말해 온도나 외부 환경적인 요소에 의해 농도에 지장이 있을 시 농도비를 충족시켜주기 위해 동작되는 과산화수소 및 황산의 정량 펌프(132a, 132b)를 구비한 제 2 및 제 4 배관(130, 138)이 개별적으로 세정조에 연결된 종래 기술과는 달리 단일 배관으로 구성되어 있다.
세정액은 각각의 측량탱크로부터 개별적인 제 1 및 제 3 배관(128, 136)를 통해 버퍼 용기(170)에 도달하게 되고, 버퍼 용기(170)에서 세정액이 혼합되면서 최종적으로 버퍼 용기(170)의 단일 배관을 통해 세정조(122)로 공급하게 된다.
이때, 버퍼 용기(170)의 단일 배관에는 밸브가 더 설치될 수 있다. 이는 세정조(122)를 들어내야 할 때 세정액의 공급을 중단하기 위해 밸브를 잠금으로서, 작업 시간이 줄어들고, 작업 효율을 높일 수 있는 장점이 있다. 버퍼 용기(170) 단일 배관은 세정조(122)의 후면 일측 또는 하부면 일측에 설치될 수 있다.
도 4는 본 발명에 따른 버퍼 용기를 나타낸 단면도이다. 도면을 참조하면, 버퍼 용기(170)는 몸체(172)와, 제 1 유입부(176) 및 제 2 유입부(178)와, 세정액 유출부(180)로 구성되어 있다.
버퍼 용기 몸체(172)는 상부가 개방된 형태일 수도 있으나 통상 밀폐된 용기로 이루어져, 이 경우 배기 포트(174)가 상부에 형성될 수 있다. 버퍼 용기의 몸체(172)의 하부면은 라운드가 형성된 구조를 채택하였으며, 이는 세정액이 흘러내림에 있어 저항이 발생되지 않도록 하기 위함이다.
버퍼 용기(170)의 세정액 수용량은 세정 장치의 크기보다 작은 1~40 리터 사이의 용기로 구성함이 바람직하며, 버퍼 용기(170)의 재질은 테프론(Teflon) 또는 수정(quartz)으로 제작될 수 있다.
그러나, 테프론 및 수정 외에도 세정액을 견딜수 있는 모든 재질도 가능하다. 제 1 유입부(176) 및 제 2 유입부(178)는 도 2의 제 1 배관 및 제 3 배관(128, 136)과 같이 1/2인치의 배관이나 3/8인치의 배관 구조에 맞게 구성된다.
제 1 유입부 및 제 2 유입부(176, 178)는 버퍼 용기 몸체(172) 상부면에 설치된다. 제 1 유입부 및 제 2 유입부(176, 178)는 원기둥 및 다각기둥 형상 등 다양한 형상이 형성 가능하다.
배기 포트(174)는 전술된 바와 같이, 버퍼 용기 몸체(172)가 통상 밀폐 용기로 이루어진 경우 상부면에 설치된다. 배기 포트(174)는 측량탱크에서 동시에 세정액이 공급될 때 좁은 버퍼 용기(172)에 순간적으로 형성될 수 있는 압력을 배기할 수 있다. 배기 포트(174)는 압력 배기 외에도 세정액의 증기에 대한 배기도 가능하다.
버퍼 용기 몸체(172) 하부면에는 세정액 유출부(180)가 마련된다. 세정액 유출부(180)는 많은 양을 소화할 수 있는 배관 구조인 1인치 배관로로 구성함이 바람직하다. 세정액 유출부(180)는 원기둥 및 다각기둥 형상 등 다양한 형상이 형성 가능하다.
도 5 내지 도 8은 본 발명에 따른 버퍼 용기의 다양한 형상을 나타낸 도면이다.
도 5에 도시된 바와 같이, 버퍼 용기 몸체(172) 상부면에 세정액의 유입로를 세정액의 종류에 따라 2개 이상 형성할 수 있다.
또한, 도 6과 같이, 버퍼 용기 몸체(172) 상부면에 배기 포트(174)를 2개 이상 형성할 수 있으며, 제 1 및 제 2 유입부(176, 178)를 버퍼 용기 몸체(172)의 양측면 상부에 설치할 수 있다. 이는 복잡한 배관을 양측면으로 배분시킬 수 있는 장 점이 있다.
또한, 도 7과 같이, 제 1 및 제 2 유입부(176, 178)와 배기 포트(174)를 버퍼 용기 몸체(172) 양측면 상부에 설치할 수 있으며, 배기 포트(174)의 형상을 "ㄴ" 자 형상으로도 가능하다.
더욱이, 도 8과 같이, 버퍼 용기 몸체(172) 후면 상부면에 배기 포트(174)와 제 1 및 제 2 유입부(176, 178)를 형성할 수 있다. 지금까지 설명한 바와 같이, 제 1 및 제 2 유입부(176, 178)와 배기 포트(174)는 배관에 따른 공간 부족을 해결할 수 있는 어느 위치에도 설치 가능하다.
한편, 비록 도시되지는 않았으나, 상기 버퍼 용기 몸체(172)의 내부에는 배플이 형성되어 유입된 세정액의 혼합을 촉진시킬 수 있다. 이때, 배플의 크기, 형상 및 위치에 따라 혼합 정도가 달라질 수 있다. 이러한 배플은 공지된 기술로서 이에 대한 상세한 설명은 생략하고자 한다.
상기 세정 장치의 작동은 컴퓨터에 의하여 제어되고, 캐리어 암(164)과, 개폐 기구(160)의 동작 및 처리실(116, 118) 내에서의 세정 또는 건조 처리는 미리 짜여진 소정의 프로그램에 따라 자동적으로 행하여 진다.
본 발명은 반도체 기판만이 아니라, LCD기판, 프린터 기판 등의 세정 장치에도 적용 가능하며, 또한 연속처리하도록 여러개의 처리부를 갖춘 각종 처리장치, 예를 들어 반도체 기판 에칭 장치에도 적용 가능하다.
다음은 세정 장치를 이용한 처리 동작을 설명한다. 기판이 수납된 카세트(110)가 로딩부(112)에 로딩되면, 제 1 캐리어 암(164a)은 궤도 레일(162) 위를 수 평이동한다. 제 1 캐리어 암(164a)이 로딩부(112) 앞에 위치되면, 제 1 캐리어 암(164a)은 하강된 리프터(168)에 연결되어 있는 핑거(169)로 기판을 파지하여 기판을 수평으로 빼낸다.
이때, 카세트(110)는 세정 장치 상부면에 형성된 (도시되지 않은) 통로를 통해 언로딩부(114)로 이동한다. 다음에 제 1 캐리어 암(164a)은 궤도 레일(162) 위를 통해 첫번째 세정조의 인접 위치까지 이동한다.
또한, 이와 병행하여 처리실(116)의 셔터(160)가 개방되고, 기판이 제 1 캐리어 암(164a)의 핑거(169)에 보호 지지된 상태에서, 처리실(116)로 삽입된다. 세정 장치 후면에는 측량탱크(124, 126)의 세정액이 배관(128, 136)을 거쳐 유입부(176, 178)를 통해 버퍼 용기(170)에 유입된다.
버퍼 용기(170)에 유입된 세정액들은 혼합된 후 하나의 유출부(180)를 통하여 세정 장치의 세정조(122)에 연속적으로 공급된다. 기판은 수직 상태로 세정조 내에 세정액 세정조(150)와 린스조(152)에 침지된다. 세정액 세정조(150)에 침지된 상태에서 제 1 캐리어 암(164a)의 핑거(169)는 기판을 놓은 상태로 원래의 위치, 즉 로딩부(112)로 돌아가 지금까지의 동작을 반복한다.
기판이 첫번째 세정조의 린스조에 침지된 상태에서 제 2 캐리어 암(164b)이 기판을 파지하여 세정 및 린스를 반복하고, 제 3 캐리어 암(164c)도 세정 및 린스를 반복한다. 처리실(116)에서의 동작이 끝난 후, 마지막에 위치한 제 4 캐리어 암(164a)은 기판을 건조실(118)로 이동시킨다.
건조실(118)의 건조 장치(158)가 세정 장치 아래쪽 수직 방향으로 이동하여 세정 작업을 마친 기판을 건조시킨다. 건조된 기판은 제 5 캐리어 암(164e)에 의해 언로딩부(114)로 옮겨지며, 대기하고 있던 카세트(110)에 기판이 반입되어 공정을 마친다.
상술한 바와 같이, 본 발명에 따른 세정액 공급 장치 및 이를 이용한 세정 장치는 버퍼 용기 및 세정 장치의 배관로를 연결 구조가 간단한 단일 배관로로 형성하여, 공정중 처리량의 가장 큰 장애라고 할 수 있는 장비 수리시간을 단축할 수 있는 효과가 있다.
또한, 본 발명은 세정 장치에 연결된 배관의 개수를 감소시킴으로써 많은 여유 공간을 확보하고 보다 빠른 유지보수가 가능한 효과가 있다.

Claims (11)

  1. 세정조 내에 혼합된 세정액을 공급하는 공급 장치로서,
    다수의 측량 탱크와,
    상기 측량 탱크로부터 다수의 세정액이 각각 유입되는 다수의 유입부와, 상기 다수의 유입부로부터 유입된 세정액을 혼합하는 몸체와, 상기 혼합된 세정액을 배출하기 위해 하나의 유출부를 포함하는 버퍼 용기와,
    상기 버퍼 용기의 유출부와 상기 세정조를 연결하는 단일 배관
    을 포함하는 것을 특징으로 하는 세정액 공급 장치.
  2. 청구항 1에 있어서, 상기 몸체는 밀폐 용기를 포함하고, 상부에 배기 포트가 형성된 것을 특징으로 하는 세정액 공급 장치.
  3. 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서, 상기 유입부 및 유출부는 상기 몸체의 상부 및 하부에 각각 형성된 것을 특징으로 하는 세정액 공급 장치.
  4. 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서, 상기 몸체의 하부는 라운드 형상을 포함하는 것을 특징으로 하는 세정액 공급 장치.
  5. 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서, 상기 몸체의 재질은 테프론 또는 수정을 포함하는 것을 특징으로 하는 세정액 공급 장치.
  6. 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서, 상기 몸체 내부에는 배플이 형성된 것을 특징으로 하는 세정액 공급 장치.
  7. 삭제
  8. 기판을 습식 세정하기 위한 세정 장치에 있어서,
    기판을 로딩 및 언로딩하기 위한 로딩부 및 언로딩부와,
    세정 처리를 하기 위한 세정조를 포함하는 처리실과,
    기판을 이송하는 기판 이송부와,
    각각에 세정액이 저장된 다수개의 측량탱크와,
    상기 측량탱크에서 공급된 세정액을 혼합하여 단일 배관을 통해 상기 처리실의 세정조로 공급하는 버퍼 용기를 포함하고,
    상기 버퍼 용기는 몸체와, 상기 몸체에 형성되어 다수의 세정액이 각각 유입되는 다수의 유입부와, 상기 몸체 내에서 혼합된 세정액을 배출하기 위한 하나의 유출부를 포함하는 것을 특징으로 하는 세정 장치.
  9. 삭제
  10. 청구항 8에 있어서, 상기 버퍼 용기 몸체는 밀폐 용기를 포함하고, 상부에 배기 포트가 형성된 것을 특징으로 하는 세정 장치.
  11. 삭제
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