KR100609943B1 - 투영노광용 마스크, 주사형 투영노광장치 및 주사형 투영노광방법 - Google Patents

투영노광용 마스크, 주사형 투영노광장치 및 주사형 투영노광방법 Download PDF

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Abstract

피노광부재에 연속형상 패턴과 불연속형상 패턴을 노광하기 위한 소형·저비용의 투영노광용 마스크를 개시한다. 투영노광용 마스크는, 피노광부재에 연속패턴을 노광하기 위한 제 1마스크 패턴과, 상기 피노광부재에 불연속패턴을 노광하기 위한 제 2마스크 패턴을 지닌다. 상기 제 1 및 제 2마스크 패턴중 한쪽의 마스크 패턴이 반사형 마스크 패턴이며, 다른 쪽의 마스크 패턴이 투과형 마스크 패턴이다.

Description

투영노광용 마스크, 주사형 투영노광장치 및 주사형 투영노광방법{PROJECTION EXPOSURE MASK, SCAN TYPE PROJECTION EXPOSURE APPARATUS, AND SCAN TYPE PROJECTION EXPOSURE METHOD}
도 1은 본 발명의 제 1실시형태인 투영노광용 마스크를 표면쪽에서부터 본 때의 도면
도 2는 도 1의 A부분의 확대도
도 3은 도 1에 표시한 마스크의 제조공정의 설명도
도 4는 도 1에 표시한 마스크를 사용한 투영노광장치의 구성을 표시한 도면
도 5는 도 1에 표시한 투영노광장치에 있어서의 노광제어를 나타내는 순서도
도 6은 도 1에 표시한 마스크에 미세마스크 패턴을 부가한 마스크를 표면쪽에서부터 본 때의 도면
도 7은 본 발명의 제 2실시형태인 투영노광장치의 구성을 표시한 도면
도 8은 본 발명의 제 3실시형태인 투영노광장치의 구성을 표시한 도면
도 9는 본 발명의 제 4실시형태인 투영노광장치의 구성을 표시한 도면
도 10은 도 9에 표시한 투영노광장치의 구성을 표시한 도면
도 11은 도 9에 표시한 투영노광장치에 있어서의 노광제어를 표시한 순서도
도 12는 도 9에 표시한 투영노광장치에 의해 패턴노광되어 있는 도중의 피노광기판을 표시한 도면
도 13은 도 12에 있어서의 B부분의 확대도
도 14는 본 발명의 제 5실시형태인 투영노광장치의 구성을 표시한 도면
도 15는 도 14에 표시한 투영노광장치에 사용되는 마스크를 표면쪽에서부터 본 때의 도면
도 16은 도 15에 있어서의 C부분의 확대도
도 17은 도 14에 표시한 투영노광장치에 의해 패턴노광되어 있는 도중의 피노광기판을 표시한 도면
도 18은 종래의 반사형 투영노광장치의 구성을 표시한 도면.
<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명>
1, 1", 101: 마스크 2, 102: 제 1마스크 패턴
3, 103: 제 2마스크 패턴 4, 104: 조사영역(조명영역)
5: 반사막 6, 7: 포토레지스트
8: 반사방지막 9: 직각프리즘
10, 45: 편광빔 스플리터 11: 보정프리즘
12a, 12b, 46a, 46b: λ/4판 13: 도광소자(프리즘)
14: 반사경 15, 15a, 41: 제 1조명계
15b, 20, 20': 제 2조명계 16: 광원
17: 타원경 18a ~18c: 구면경
19: 반사경 21: 엑시머레이저(광원)
22: 반사부재 24: 오목면경
25: 피노광기판 26, 26', 36: 제어회로
27: 위치계측기 28: 기판스테이지
32: 평행평면판 34: 구동기구
43: 인테그레이터 렌즈 44: 콘덴서 렌즈
47: 투영렌즈 48: 고정세반사형 마스크
본 발명은, 피노광부재에 대해서 패턴을 노광전사하는 포토마스크, 레티클 등의 투사노광용 마스크(원판) 및 이 마스크를 이용한 투영노광장치 및 투영노광방법에 관한 것이다.
도 18에서는, 액정디스플레이패널 등의 대형의 피노광기판에의 회로패턴의 노광전사에 이용되는 투영노광장치를 표시하고 있다.
상기 도면중, (51)은 마스크, (52)는 사다리꼴 미러(mirror), (53)은 볼록면경, (54)는 오목면경, (55)는 피노광기판이다.
이 노광장치에 있어서, 피노광기판(55) 위에 회로패턴을 전사할 경우, 사진에 있어서 네가티브필름에 상당하는 마스크(51)에 노광광(L)을 조사한다. 마스크(51)에 형성된 패턴(마스크 패턴)을 투과한 노광광(L)은 투영계로서의 사다리꼴 미러(52), 볼록면경(53) 및 오목면경(54)을 개재해서 해당 마스크 패턴의 상을 형성한다. 마스크 패턴상의 결상위치에는 피노광기판(55)이 배치되어 있고, 이것에 의해 피노광기판(55)에 회로패턴이 노광된다.
여기서, 대형의 피노광기판에 소망의 회로패턴을 일괄노광가능한 대구경의 투영계를 장비하는 것은, 장치의 면적, 중량, 안정성 및 비용적으로 불편이 많다. 이 때문에, 마스크 패턴의 일부의 상을 슬릿형상으로 결상시키는 투영계를 이용해서, 마스크와 피노광기판을 투영계에 대해서 동기시켜서 이동시킴(주사구동시킴)으로써, 마스크에 있어서의 노광광의 조사영역 및 피노광기판 위의 노광영역이 주사되도록 하여, 소규모의 투영계에 의해 대형 피노광기판에의 패턴노광을 행하는 일이 많다.
이 경우, 피노광기판(55) 위에 형성되는 마스크 패턴상의 크기 및 투영계의 투영배율을 가미한 크기의 마스크(51)와 피노광기판(55)을, 노광광량을 제어하면서 일정 속도로 도 18중의 테두리만 검게 표시된 흰색 화살표 방향으로 이동시켜서 주사노광을 행한다. 도 18에 표시한 노광장치의 경우, 마스크(51) 및 피노광기판(55)은 각각, 마스크스테이지(57) 및 기판스테이지(56) 위에 탑재되어 있고, 이들 스테이지(57), (56)가 테두리만 검게 표시된 흰색화살표 방향으로 구동됨으로써 마스크(51)에 있어서의 노광광(L)의 조사영역 및 피노광기판(55) 위의 노광영역이 주사된다.
또, 도 18에 표시한 바와 같은, 투광형 마스크를 이용한 투영노광장치는 많이 제품화되어 있고, 또, 마스크 패턴에 의해 반사된 노광광을 피노광기판에 인도해서, 이것을 노광하기 위한 반사형 마스크를 이용한 투영노광장치로서는, 일본국 공개특허 평 11-219900호 공보에 제안되어 있는 것이 있다.
이와 같이, 대형의 피노광기판에 대한 회로패턴의 노광시에 마스크 스테이지와 기판 스테이지를 이동시키는 주사형의 노광장치에서는, 이하의 문제가 있다.
① 피노광기판의 대형화에 따라서 마스크도 대형화되어, 마스크의 제작비용이 증대된다.
② 마스크가 대형화함으로써, 노광장치내에서의 마스크의 자체 중량에 의한 휨이 발생하여, 소요의 노광해상력을 얻는 일이 곤란해진다.
③ 노광장치 전체가 대형화 및 대중량화된다.
상기 ①의 문제에 대해서 상세히 설명한다. 액정디스플레이패널 등의 기판을 노광할 경우, 노광하는 회로패턴은, 신호선이나 게이트선 등의 연속형상을 지닌 패턴과, 예를 들면, 게이트, 소스, 드레인, 투명도트전극 및 축적콘덴서전극 등의 서로 독립한 패턴이 반복되는 불연속 주기패턴으로 구성되어 있다. 이 때문에, 소위 스티칭(stitching)노광방법의 채용은 연속패턴의 작성상 곤란하다. 따라서, 노광장치로서는, 1 대 1의 투영배율로 노광처리하는 것이 일반적으로 되어, 액정디스플레이패널용의 기판의 대형화에 따라서 마스크도 대형화된다. 이것은, 마스크제작에 걸리는 시간, 비용에 있어서도 큰 문제로 된다.
또, 연속패턴과 불연속 주기패턴을 분리한 공정에서 처리하면, 노광공정이 증가하여, 공정관리 및 얼라인먼트상의 불편이 발생하여, 이것도 마스크작성에 요하는 시간이나 비용을 증가시키는 요인으로 된다.
또, 상기 ②의 문제에 대해서 상세히 설명한다. 주사형의 노광장치에 있어서, 마스크는 그 주변부에서만 지지가능하다. 이 때문에, 마스크가 대형화하면, 마스크에 자체 중량에 의한 휨이 발생하고, 투영계의 초점심도의 마진(margin)을 마스크쪽에서 사용해버린다. 따라서, 피노광기판쪽의 평면도 등의 제작마진을 확보하는 것이 곤란해져, 결과로서, 소요의 노광해상력을 얻는 일이 곤란해진다.
본 발명은, 피노광부재에 연속형상 패턴과 불연속형상 패턴을 노광하기 위한 소형·저비용의 투영노광용 마스크, 그 마스크를 이용한 투영노광장치 및 투영노광방법을 제공하는 것을 목적으로 하고 있다. 또, 아울러서, 투영노광용 마스크의 제조방법을 제공하는 것도 목적으로 하고 있다.
상기 목적을 달성하기 위해, 본 발명의 제 1측면인 투영노광용 마스크는, 피노광부재에 연속패턴을 노광하기 위한 제 1마스크 패턴과, 상기 피노광부재에 불연속패턴을 노광하기 위한 제 2마스크 패턴을 지닌다. 여기서, 상기 제 1 및 제 2마스크 패턴중 한쪽의 마스크 패턴이 반사형 마스크 패턴이고, 다른쪽의 마스크 패턴이 투과형 마스크 패턴이다.
또, 본 발명의 제 2측면은, 투영노광용 마스크의 제조방법에 관한 것이다. 해당 마스크는, 피노광부재에 연속패턴을 노광하기 위한 제 1마스크 패턴과, 상기 피노광부재에 불연속패턴을 노광하기 위한 제 2마스크 패턴을 지니고, 상기 제 1 및 제 2마스크 패턴중, 한쪽의 마스크 패턴이 반사형 마스크 패턴이고, 다른쪽의 마스크 패턴이 투과형 마스크 패턴이다.
상기 제조방법은, 표면에 반사막이 형성된 투명기판을 준비하는 제 1공정과, 상기 반사막 위에 레지스트를 도포하고, 해당 레지스트에 대한 상기 반사형 마스크 패턴을 형성하기 위한 베이스부 및 상기 투과형 마스크 패턴의 형상의 노광과 현상을 행하는 제 2공정과, 상기 제 2공정에 의해 현상된 상기 베이스부 및 상기 투과형 마스크 패턴의 형상을 지닌 반사막 위에 레지스트를 도포해서, 상기 베이스부상의 레지스트에 상기 반사형 마스크 패턴의 형상을 노광하고, 현상을 행하는 제 3공정과, 상기 제 3공정에 의해 상기 레지스트가 제거된 부분의 반사막 위에 반사방지막을 형성하는 제 4공정과, 상기 제 3공정에서의 현상에 의해 잔존한 상기 반사형 마스크 패턴의 형상의 레지스트를 제거하는 제 5공정을 구비한다.
또, 본 발명의 제 3측면인 투영노광장치는, 상기 투영노광용 마스크와, 해당 마스크를 이용해서 피노광부재에 연속패턴과 불연속패턴을 노광하는 광학계를 포함한다.
또한, 본 발명의 제 4측면인 투영노광장치는, 피노광부재에 연속패턴을 노광하기 위한 제 1마스크 패턴과, 상기 피노광부재에 불연속패턴을 노광하기 위한 제 2마스크 패턴을 지니고, 상기 제 1 및 제 2마스크 패턴중 한쪽의 마스크 패턴이 반사형 마스크 패턴이고, 다른쪽의 마스크 패턴이 투과형 마스크 패턴인 투영노광용 마스크와, 상기 반사형 마스크 패턴 및 상기 투과형 마스크 패턴으로부터의 광을 상기 피노광부재에 투사하는 투영계와, 상기 반사형 마스크 패턴에, 상기 투영노광용 마스크의 한쪽으로부터의 광을 조사하는 제 1조명계와, 상기 투과형 마스크 패턴에, 상기 투영노광용 마스크를 사이에 두고 상기 한쪽과는 반대쪽으로부터 광을 조사하는 제 2조명계와, 상기 피노광부재를 상기 투영계의 투사광축에 대해서 대략 수직인 방향으로 이동시키는 기판스테이지를 구비한다.
또, 본 발명의 제 5측면인 투영노광방법은, 상기 투영노광용 마스크를 준비하는 공정과, 해당 마스크를 이용해서 피노광부재에 연속패턴과 불연속패턴을 노광하는 공정을 구비한다.
또한, 본 발명의 제 6측면인 투영노광방법은, 피노광부재에 연속패턴을 노광하기 위한 제 1마스크 패턴과, 상기 피노광부재에 불연속패턴을 노광하기 위한 제 2마스크 패턴을 지니고, 상기 제 1 및 제 2마스크 패턴중 한쪽의 마스크 패턴이 반사형 마스크 패턴이고, 다른쪽의 마스크 패턴이 투과형 마스크 패턴인 투영노광용 마스크를 준비하는 제 1공정과, 상기 투영노광마스크를 이용해서 투영계로부터 상기 피노광부재에 광을 투사하는 제 2공정과, 상기 피노광부재를 상기 투영계의 투사광축에 대해서 대략 수직인 방향으로 이동시키는 제 3공정을 구비하고, 여기서, 상기 제 2공정에 있어서, 상기 반사형 마스크 패턴에는, 상기 투영노광용 마스크의 한쪽으로부터 광을 조사하고, 상기 투과형 마스크 패턴에는 상기 투영노광용 마스크를 사이에 두고 상기 한쪽과는 반대쪽으로부터 광을 조사한다.
본 발명의 특징은, 도면을 참조한 이하의 구체적인 실시예의 설명에 의해 명확해질 것이다.
(제 1실시형태)
도 1에는, 본 발명의 제 1실시형태인 투영노광용 마스크의 구성(해당 마스크의 표면쪽에서부터 본 때의 구성)을 표시하고 있다. 또, 도 2에는, 도 1에 있어서의 A부를 확대해서 표시하고 있다.
이들 도면에 있어서, (1)은 마스크이다. (2)는 도 1 및 도 2에는 표시되지 않은 피노광기판에 연속패턴을 노광하기 위한 제 1마스크 패턴이고, 본 실시형태에서는, 마스크(1)의 이면쪽으로부터 조사된 조명광을 고반사율로 반사하는 반사형 마스크 패턴으로서 형성되어 있다. 또, 피노광기판이 액정디스플레이패널의 기판인 경우, 연속패턴은, 게이트라인이나 신호라인 등으로 된다.
(3)은 피노광기판에, 불연속 주기패턴(독립 반복패턴)을 노광하기 위한 제 2마스크 패턴이며, 본 실시형태에서는, 마스크(1)의 표면쪽으로부터 조사된 조명광을 투과시키는 투과형 마스크 패턴으로서 형성되어 있다. 또, 불연속 주기패턴(독립 반복패턴)은, 개개의 패턴이 상호 연결되지 않은 독립성을 지니고, 또 소정 간격으로 반복해서 나타나는 것이며, 피노광기판이 액정디스플레이패널의 기판인 경우, 화소패턴이나 게이트전극 등으로 된다.
(4)는 마스크(1)에 대한 조명광의 조사영역(조명영역)을 표시하고 있고, 도 1에서는, 거울주사형의 투영노광장치에 있어서 원호형 슬릿형상의 조명영역이 형성되는 경우를 표시하고 있다. 또, 렌즈주사형의 투영노광장치에 있어서는, 상기 조명영역은 직사각형 슬릿형상으로 된다.
도 2에 표시한 바와 같이, 제 1마스크 패턴(2)과 제 2마스크 패턴(3)은, 조명영역의 길이방향으로 교대로 배치되어 있다. 환언하면, 제 1마스크 패턴(2)의 각 라인사이에 제 2마스크 패턴(3)이 배치되어 있다.
또, 도 2에는 명확히 표시되어 있지 않지만, 실제로는, 제 2마스크 패턴(3)은 원호형 슬릿형상의 조명영역에 맞춰서 원호형상으로 배열되어 있다. 또, 조명영역이 직선형 슬릿형상인 경우, 제 2마스크 패턴(3)은 해당 조명영역에 맞춰서 직선상에 배열된다.
또한, 도 1에 표시한 바와 같이, 본 실시형태에서는, 제 1마스크 패턴(2)의 길이(L1)가 제 2마스크 패턴(3)이 형성되어 있는 영역의 폭(L2)보다도 도면중 왼쪽방향으로 길게 되어 있다. 이것은, 후술하는 투영노광장치에 있어서 광의 이용효율을 향상시키기 위한 일실시형태이며, 해당 투영노광장치에 의해서 이 제 1마스크 패턴(2)의 도면중 왼쪽의 부분에도 원호형상으로 조명광이 조사되고, 그곳에서의 반사광도 피노광기판의 노광에 이용된다.
도 3에는, 도 1에 표시한 마스크(1)를 포토리소그라피공정으로 제조하는 수순을 표시하고 있다.
도 3(a)에 표시한 바와 같이, 먼저, 후술하는 투영노광장치에서의 노광광에 대해서 실질적으로 투명한 마스크기판(예를 들면, 유리기판)(1a)의 표면에, 해당 노광광의 파장에 대해서 높은 반사율을 지닌 재료(예를 들면, Al, Cu, Au, Ag 등)가 증착되어 반사막(5)이 형성된 것을 준비한다(제 1공정).
다음에, 반사막(5)의 표면에 포토레지스트(6)를 코팅한다. 그리고, 마스크제조용 제 1마스크(M)를 이용해서, 포토레지스트(6) 위에, 반사형인 제 1마스크 패턴(2)의 토대로 되는 베이스부의 형상(상(像))과 제 2마스크 패턴(투과형 마스크 패턴)(3)의 형상(상)을 노광하고, 현상 및 에칭을 행한다(제 2공정). 이것에 의해, 도 3(b)에 표시한 바와 같이, 반사막(5)중 제 1마스크 패턴(2)의 베이스부(5a)와 제 2마스크 패턴(3)의 형상을 지닌 부분(5b)(최종적으로 이 부분이 제 2마스크 패턴(3)으로 됨)이 잔존한다.
다음에, 도 3(c)에 표시한 바와 같이, 잔존한 반사막(5)(5a, 5b) 위에 재차 포토레지스트(7)를 코팅하고, 도시하지 않은 마스크제조용의 제 2마스크를 이용해서, 포토레지스트(7) 위에 제 1마스크 패턴(2)의 형상을 노광하고, 현상한다(제 3공정). 이것에 의해, 도 3(d)에 표시한 바와 같이, 제 1마스크 패턴(2)의 형상을 지닌 포토레지스트(7a)가 잔존한다.
다음에, 반사막(5)(5a, 5b) 위 중에서 포토레지스트(7a)가 잔존하고 있는 부분을 제외한 부분 및 마스크기판(1a) 중 도 3(b)의 상태에서 노출된 부분에, 반사방지막(8)을 증착한다(제 4공정).
그 후, 잔존하고 있던 포토레지스트(7a)를 제거한다(제 5공정). 이상에 의해, 도 3(e)에 표시한 바와 같이, 반사막으로 구성되는 제 1마스크 패턴(2)만이 노출되어, 제 2마스크 패턴(3)을 포함하는 다른 부분이 반사방지막(8)으로 코팅된 마스크(1)를, 마스크기판(1a)의 한쪽면 위에서의 공정만으로 용이하게 제조하는 것이 가능하다.
상기 제조공정에서 제조된 마스크(1)에서는, 도 3(e)에서의 윗쪽(이면쪽)으로부터 조사된 광중, 반사방지막(8)이 형성되어 있지 않은(노출된) 제 1마스크 패턴(2)에 입사한 광만이 높은 반사율로 윗쪽으로 반사한다. 또, 도 3(e)에서의 아래쪽(표면쪽)으로부터 마스크기판(1a)에 조사되어서 마스크기판(1a)을 투과한 광중, 마스크기판(1a)에 접하고 있는 반사방지막(8)의 부분(반사막(5a)과 (5b)의 사이의 부분)을 투과한 광만이 윗쪽으로 진행한다.
도 4에서는, 상술한 마스크(1)를 이용한 거울주사형 투영노광장치를 표시하고 있다. 도 4에 있어서, (23), (24) 및 (25)는 각각 볼록면경, 오목면경 및 피노광기판(대면적 액정디스플레이패널용 기판)이다.
(9)는 직각프리즘이고, 반사면(9a)과 2개의 투과면(9b), 투과면(9c)을 지닌다. 반사면(9a)에는 노광광의 파장에 대해서 높은 반사율을 지니는 반사막이 형성되어 있다.
(10)은 편광빔 스플리터이고, 직각프리즘(9)의 투과면(9c)에 접합된 아래쪽의 투과면에는 편광분리막이 형성되어 있다.
(11)은 수차보정을 위한 보정프리즘이고, 편광빔 스플리터(10)의 윗쪽의 투과면에 접합된 투과면(11a)과, 2개의 투과면(11b), (11c)을 지닌다.
(13)은 도광소자(프리즘)이며, 직각프리즘(9)의 투과면(9b)의 상부에 접합된 투과면(13a)과, 반사면(13b) 및 투과면(13c)을 지닌다. 반사면(13b)에는, 노광광의 파장에 대해서 높은 반사율을 지닌 반사막이 형성되어 있다.
(12a), (12b)는 λ/4판이며, 각각 보정프리즘(11)의 상부면의 투과면(11b)과 도광프리즘(13)의 상부면의 투과면(13c)에 접합되어 있다.
(14)는 반사경이며, 반사면(14a)에는, 노광광의 파장에 대해서 높은 반사율을 지닌 반사막이 형성되어 있다.
이상의 직각프리즘(9)으로부터 반사경(14)까지의 광학소자는 상호 접합되어서 일체적으로 구성되어 있다. 또, 이들 광학소자와 볼록면경(23) 및 오목면경(24)에 의해 투영계가 구성되어 있다.
또, (15)는 제 1조명계이며, 초고압수은등을 광원으로서 지니고, 마스크(1)의 연속조명을 행한다. 이 제 1조명계(15)는, 광원(16)과, 타원경(17)과, 구면경(18a) ~(18c)과, 반사경(19)에 의해 구성되어 있다.
한편, (20)은 플래쉬조명 또는 펄스조명이 가능한 제 2조명계이다.
또, (28)은, 액정디스플레이패널용의 기판이나 반도체기판 등의 피노광기판(25)을 탑재하는 기판 스테이지이며, 투영계로부터의 투사광축에 대략 직교하는 방향으로 구동된다. 이 기판스테이지(28)의 위치는, 위치계측기(27)에 의해 계측된다.
(26)은 제 1 및 제 2조명계에 있어서의 조명광의 조사동작이나, 기판 스테이지(28)의 주사구동 등을 제어하는 제어회로이다.
도 4에 있어서, 마스크(1)가 투영노광장치내의 마스크설치위치에 고정된 후, 제어회로(26)의 제어에 의한 제 1조명계(15)로부터의 조명광의 조사가 개시된다.
제 1조명계(15)의 광원(16)으로부터 발사된 광의 성질은, 시간적으로도 공간적으로도 간섭성의 광이다. 광원(16)으로부터 발사된 광속의 일부는, 타원경(17)에서 반사되어, 공중에 2차광원을 형성한다. 이 2차광원으로부터의 광속은, 구면경(18a)~(18c)에서 반사됨으로써, 단면이 원호형상인 슬릿조명광속으로 된다. 또, 복수의 평면경(19)은 조명광속을 투영계에 있어서의 직각프리즘(9)의 측면투과면(9b)의 하부에 도광한다.
직각프리즘(9)의 측면투과면(9b)의 하부에 입사한 슬릿조명광속은, 이 직각프리즘(9)의 반사면(반사막)(9a)에 의해서 마스크(1)를 향하는 방향(윗쪽)으로 반사된다. 그리고, 이 반사후의 조명광속은, 직각프리즘(9)의 투과면(9c)으로부터 사출되는 동시에 편광빔 스플리터(10)의 편광분리막에 의해서 S편광광과 P편광광으로 분리된다. S편광광과 P편광광중 편광분리막을 투과한 편광광은 편광빔 스플리터(10)를 투과하고, 또, 보정프리즘(11) 및 λ/4판(12a)을 투과해서, 마스크(1)의 이면에 원호형상의 제 1조명영역(도 1에 표시한 조명영역(4)에 겹치는 영역)을 형성하도록 조사된다.
또, S편광광과 P편광광중 편광분리막에 의해 반사된 편광광은, 편광빔 스플리터(10)에서 반사되어서 도광프리즘(13)에 입사하고, 이 도광프리즘(13)의 반사면(13b)(반사막)에서 반사되어, λ/4판(12b)을 투과해서, 마스크(1)의 이면중 도 1의 왼쪽 부분에 원호형상의 제 2조명영역을 형성하도록 조사된다.
여기서, 마스크(1)의 제 1마스크 패턴(2)은 고반사특성을 지니므로, 마스크(1)의 이면에 2개의 조명영역을 형성한 편광광의 일부는 각각 제 1마스크 패턴(2)에서의 반사에 의해 재차 λ/4판(12a), (12b)을 개재해서 보정프리즘(11) 및 도광프리즘(13)에 입사해서, 전술한 광로를 편광빔 스플리터(10)까지 복귀한다.
단, 마스크(1)에서의 반사전후(왕로(往路) 및 복로(復路))에 있어서, 각 편광광은 λ/4판(12a), (12b)을 2회 통과하므로, 그들의 편광방향은 앞의 편광분리막에서의 반사 및 투과시의 상태로부터 90°변화한다. 이 때문에, 왕로에 있어서 편광빔 스플리터(10)의 편광분리막을 투과한 편광광은, 복로에서는 편광분리막에 의해서 대략 100% 반사된다. 또, 왕로에 있어서 편광분리막에서 반사된 편광광은, 복로에서는 편광분리막을 투과한다.
이와 같이 해서 제 1마스크 패턴(2)에 의해 반사된 2개의 편광광이 합성되어서 1개의 노광광속으로 된다. 이 노광광속은, 보정프리즘(11)의 투과면(11c)으로부터 출사해서, 오목면경(24)의 상부에 입사한다. 오목면경(24)의 상부에서 반사한 노광광속은, 볼록면경(23)에서 반사되어, 재차 오목면경(24)의 하부에서 반사된 후, 반사경(14)의 반사면(14a)에 의해서 반사되어서, 해당 광속의 초점위치에 배치된 피노광기판(25)의 표면 위에 투사된다. 이것에 의해, 피노광기판(25)의 표면에 제 1마스크 패턴(2)의 상이 투영되어, 피노광기판(25)이 노광된다.
여기서, 피노광기판(25)은, 기판스테이지(28) 위에 설치되어 있고, 이 기판스테이지(28)에 의해서, 반사경(14)으로부터의 노광광속의 광축(투사광축)에 대해서 대략 직교하는 방향(단, 제 1마스크 패턴(2)의 상의 길이방향)에 주사구동된다. 그리고, 이 주사구동중에도 피노광기판(25)의 표면에 제 1마스크 패턴(2)의 상이 투영되므로, 피노광기판(25) 위에 이 주사구동방향으로 양호한 연속성을 지닌 연속패턴이 노광된다.
한편, 제어회로(26)에 의해서 제어되는 제 2조명계(20)로부터는, 피노광기판(25)의 소정의 주사구동량마다, 원호형상의 플래쉬조명광속 또는 펄스조명광속이 마스크(1)의 표면에 조사된다. 이것에 의해, 도 1에 부호(4)로 표시한 조명광속영역이 형성된다.
여기서, 제 2조명계(20)에는, 엑시머레이저 등, 직선 편광광을 발생시킬 수 있고, 또 펄스조사가능한 광원을 사용해도 된다. 또, 초고압수은등을 광원으로 하고, EO소자나 편향경과 고속셔터를 조합해서 조명광을 고속으로 간헐조사가능하 게 한 데다가, 제 2조명계(20)의 내부에 편광판을 설치하고, 조명광을 직선 편광광으로 하도록 해도 된다.
마스크(1)의 표면에 조사된 조명광속(직선 편광광)중 제 2마스크 패턴(3)을 투과한 노광광속은, λ/4판(12a) 및 보정프리즘(11)을 투과해서 편광빔 스플리터(10)에 입사해서, 편광분리막에서 반사된다.
편광분리막에서 반사된 제 2마스크 패턴(3)으로부터의 노광광속은, 보정프리즘(11)의 투과면(11c), 오목면경(24)의 상부, 볼록면경(23), 오목면경(24)의 하부 및 반사경(14)의 반사면(14a)을 통해서, 해당 광속의 초점위치에 배치된 피노광기판(25)의 표면 위에 투사된다. 이것에 의해, 피노광기판(25)의 표면에 제 2마스크 패턴(3)의 상이 간헐적으로 투영되어, 피노광기판(25) 위에, 제 2마스크 패턴(3)과 등배(또는 유사형상)의 불연속 주기패턴이 노광된다.
도 5는, 본 실시형태의 투영노광장치(제어회로(26))의 노광제어방법을 표시한 순서도이다.
먼저, 제어회로(26)는, 기판스테이지(28)의 주사구동을 개시한다. 피구동기판(25)(기판스테이지(28))의 구동위치는 위치계측기(27)에 의해서 상시 계측되고, 제어회로(26)는 이 계측결과에 의거해서 기판스테이지(28)를 제어한다.
또, 원호형 슬릿조명을 주사하는 경우에 있어서는, 도시하지 않았으나, 제 1조명계(15)내에 마스크(1)와 공액인 면을 만들어, 그 공액면 위에 마스킹블레이드를 설치함으로써, 제 1마스크 패턴(2)의 조사타이밍을 취해, 피노광기판(25)상의 연속패턴을 일치시키는 것이 가능하다. 제 2조명계(20)에 대해서도 마찬가지이다.
스텝(도면에서는 S로 약칭함) 1에 있어서, 피노광기판(25) 위의 노광개시목표위치가 제 1마스크 패턴상의 투영위치와 일치하면, 제어회로(26)는, 스텝 2에서, 제 1조명계(15)를 조사(온(on))동작시켜, 조명광을 제 1마스크 패턴(2)에 조사한다. 이것에 의해, 피노광기판(25)에의 연속패턴의 노광이 개시된다. 또, 제어회로(26)는 기판스테이지(28)의 일정속도에서의 주사구동을 속행한다.
다음에, 스텝 3에 있어서, 제어회로(26)는, 상기 위치계측기(27)의 계측결과에 의거해서, 피노광기판(25)이 제 2마스크 패턴상의 투영위치에 도달하였는지의 여부를 판별한다. 제 2마스크 패턴상의 투영위치에 도달하면, 제어회로(26)는, 스텝 4에서, 제 2조명계(20)를 조사(온)동작시켜, 조명광을 제 2마스크 패턴(3)에 조사한다. 이것에 의해, 피노광기판(25)에, 불연속 주기패턴(25b)의 노광이 행해진다.
다음에, 제어회로(26)는, 스텝 5에서, 불연속 주기패턴의 노광 회수(回數)가 목표회수에 도달하고 있는 지의 여부(다음의 불연속 주기패턴의 노광이 있는 지의 여부)를 판별한다. 이것은, 미리 투영노광장치의 입력조작부 등을 통해서 입력된 불연속 주기패턴의 목표노광회수에 대해서, 불연속 주기패턴의 노광이 행해진 때마다 가산된 계수치가 도달하였는지의 여부에 의해서 판별된다.
스텝 5에 있어서, 다음의 불연속 주기패턴의 노광이 있을 경우에는, 제어회로(25)는, 스텝 3으로 되돌아가, 피노광기판(25) 위의 다음의 불연속 주기패턴의 노광위치가 제 2마스크 패턴(3)의 투영위치에 도달한 시점에서부터, 제 2조명계(20)의 광원을 재차 조사(온)동작시켜, 조명광을 제 2마스크 패턴(3)에 조사함으로써, 피노광기판(25)에 다음의 불연속 주기패턴의 노광이 행해진다. 또, 이 사이에도 제 1조명계(15)로부터는, 조명광이 제 1마스크 패턴(2)에 조사되고 있고, 피노광기판(25)에는 연속패턴이 노광되고 있다.
그리고, 불연속 주기패턴의 노광이 반복되어, 스텝 5에서, 다음의 불연속 주기패턴의 노광이 없게 된 때에는, 스텝 6으로 진행하여, 제어회로(26)는 제 1조명계(15)의 광원을 온으로 해서, 일련(1개)의 노광공정으로서의 연속패턴과 불연속 주기패턴의 피노광부재(25)에의 노광을 종료한다.
이상에 의해, 피노광기판(25) 위에의 연속패턴의 노광과 불연속 주기패턴의 노광을 일련(1개)의 노광공정으로 완결하는 것이 가능하다.
본 실시형태에서는, 상술한 바와 같이 마스크(1)는 투영노광장치내의 마스크설치위치에 고정지지되어 있고, 피노광기판(25)과 같이 주사구동되지 않는다. 이 때문에, 마스크(1)에 있어서의 피노광기판(25)의 주사구동방향의 길이를 짧게 하는 것이 가능하다. 따라서, 마스크(1)의 주변영역(마스크 패턴(2), (3)의 형성영역외)을 지지해도, 마스크(1)는 자체 중량변형을 거의 일으키지 않는다. 따라서, 투영계의 초점심도마진을 상면쪽(피노광기판(25)의 평면도 등의 제조마진)에 반영시키는 것이 가능하여, 신뢰성이 높은 기판노광을 실현하는 것이 가능하다.
도 6에는, 상기 마스크의 변형예를 표시한다. 도 6에 표시한 마스크(1')에서는 도 1에 표시한 마스크(1)에 있어서의 제 1마스크 패턴(2)만이 형성되어 있는 영역(도면의 왼쪽의 부분)에서, 도광프리즘(13)에 의해서 제 1조명계(15)로부터의 조명광이 조사되는 영역에, 투영계의 해상력한계에 가까운 고주파수의(다시 말하면, 제 1마스크 패턴(2)의 최소패턴폭보다도 작은 최소패턴폭을 지닌 미세패턴노광용의) 반사형의 제 3마스크 패턴(2a)을 구성하고 있다.
이것은, 소위 다중노광(예를 들면, 일본국 공개특허 제 2000-91221호 공보 참조)을, 도 4에 표시한 투영노광장치에 의해서 실현하기 위한 것이다.
이것에 의해, 종래의 다중노광공정이 2단계의 노광공정을 필요로 하고 있던 것을, 일련(1개)의 노광공정에서 완결시키는 것이 가능하다. 또한, 이와 같이 마스크(1') 위에서 미세패턴을 노광하기 위한 마스크 패턴과 불연속 주기패턴을 노광하기 위한 마스크 패턴을 반사형과 투과형으로 분리함으로써, 불연속 주기패턴의 노광프로파일을 개선할 수 있어, 액정디스플레이패널용 기판의 고화소화 대응이나 수율향상 등에 유효하다.
(제 2실시형태)
도 7에는, 본 발명의 제 2실시형태인 투영노광장치의 구성을 표시하고 있다. 제 1실시형태에서는, 제 1조명계로부터의 조명광을 투영계의 일부를 이용해서 마스크의 제 1마스크 패턴(반사형 마스크 패턴)에 도달하도록 한 경우에 대해서 설명하였으나, 본 실시형태에서는, 제 1조명계로부터의 조명광을 투영계밖으로부터 제 1마스크 패턴에 도달하도록 하고 있다.
또, 본 실시형태에 있어서, 제 1실시형태와 공동인 구성요소에는 제 1실시형태와 마찬가지의 부호를 붙인다.
도 7에 있어서, (1")는 제 1실시형태에서 설명한 마스크(1)와 마찬가지로, 반사형의 제 1마스크 패턴과 투과형의 제 2마스크 패턴을 지니는 마스크이다. 단, 본 실시형태의 마스크(1")는, 도 1에 표시한 마스크(1)와 같이 제 1마스크 패턴이 제 2마스크 패턴의 영역보다도 길게 된 영역을 지니지 않고, 제 1마스크(1)의 오른쪽(조명영역(4)이 형성되는 쪽) 부분만을 지닌다.
또, 도 7에 있어서, (15a)는 제 1조명계이며, 초고압수은등을 광원으로서 지니고, 마스크(1")의 제 1마스크 패턴을 투영계쪽으로부터 조명한다. 이 제 1조명계(15a)는, 제 1실시형태의 제 1조명계와 마찬가지의 구성요소에 의해 구성되어 있다. 또, (15b)는 제 2조명계이며, 초고압수은등을 광원으로서 지니고, 마스크(1")의 제 2마스크 패턴을, 마스크(1")와는 반대쪽으로부터 투영계에 대해서 조명한다. 이 제 2조명계(15b)도, 제 1조명계(15a)와 마찬가지 구성요소에 의해 구성되어 있다. 이들 제 1 및 제 2조명계(15a), (15b)는 제어회로(26')에 의해 조사제어된다.
(22)는 마스크(1")로부터의 노광광을 오목면경(24)의 상부를 향해서 반사하는 반사면(22a)과, 오목면경(24)의 상부로부터 볼록면경(23) 및 오목면경(24)의 하부를 개재해서 입사한 노광광을 반사해서 피노광기판(25)에 투사하는 반사면(22b)을 지닌 반사부재이다.
본 실시형태에서는, 종래 이용되고 있는 거울반사형의 슬릿주사노광장치와 거의 마찬가지의 투영계를 지니나, 마스크(1")는, 투영계의 입사·투사광축과 일치한 제 2조명계(15b)의 조사광축에 직교하는 면에 대해서 각도(θ)를 이루도록 설치되어 있다. 이것에 의해, 제 1조명계(15a)로부터의 조명광을 무리없이 투영계밖으로 마스크(1")에 조사하는 것이 가능해져, 투영계의 구성을 간단화하는 것이 가능하다.
여기서, 제 1조명계(15a)의 조명광축은, 물점위치에서 투영계의 광축과 소정의 각도(2θ)로 교차하고 있다. 그리고, 마스크(1")의 경사각(θ)은, 제 1조명계(15a)의 조명광축과 투영계의 입사광축이 이루는 각도(2θ)의 1/2로 설정되어 있다.
또, 마스크(1")의 경사각(θ)은, 투영계의 초점심도마진을 저해하지 않을 정도의 작은 각도이다.
또한, 본 실시형태에서는, 제어회로(26')는, 피노광기판(25)이 놓인 기판스테이지(28)를, 스텝 앤드 리피트 구동하고, 이 기판스테이지(28)가 정지할 때마다 제 1 및 제 2조명계(15a), (15b)로부터 마스크(1")에 조명광을 조사시킨다. 본 실시형태에 의하면, 특히 불연속 주기패턴의 노광시간을 용이하게 확보하는 것이 가능하다. 또, 본 실시형태에서도, 각 분할노광영역에 있어서, 피노광영역(25) 위에 연속패턴과 불연속 주기패턴을 일련(1개)의 노광공정에서 노광하는 것이 가능하다.
(제 3실시형태)
도 8에는, 본 발명의 제 3실시형태인 투영노광장치의 구성을 표시하고 있다. 본 실시형태는, 상기 제 2실시형태의 투영노광장치의 제 2조명계(15b) 대신에, ArF 등의 엑시머레이저(21)를 광원으로 한 제 2조명계를 채용한 경우를 나타내고 있다. 또, 본 실시형태에 있어서, 제 2실시형태와 공통인 구성요소에는 제 2실시형태와 마찬가지 부호를 붙인다.
본 실시형태에서도, 도시하지 않은 제어회로는, 피노광기판(25)이 놓여 있는 기판스테이지(28)를, 스텝 앤드 리피트 구동하고, 이 기판스테이지(28)가 정지할 때마다 제 1 및 제 2조명계(15a), (20)로부터 마스크(1")에 조명광을 조사시킨다.
또, 본 실시형태에서는, 제 2조명계(20)의 광원으로서 엑시머레이저를 사용함으로써, 초고압수은등을 광원으로 하는 제 2실시형태에 비해서, 그 조명광의 파장이 짧은 것에 의해, 투영계의 개구수(NA)가 동일해도, 불연속 주기패턴의 노광해상력을 향상시키는 것이 가능하다.
(제 4실시형태)
도 9 및 도 10에는, 본 발명의 제 4실시형태인 투영노광장치중 투영계의 구성을 표시하고 있다. 상기 제 2 및 제 3실시형태에서는, 피노광기판(25)을 스텝 앤드 리피트 구동해서 피노광기판(25)에 연속패턴 및 불연속 주기패턴을 순차 노광하고 있는 경우에 대해서 설명하였으나, 이들 실시형태의 투영계를 이용해서, 제 1실시형태에서 설명한 바와 같이 피노광기판(25)을 주사구동하면서 피노광기판(25)에 연속패턴 및 불연속 주기패턴을 노광하는 것도 가능하다.
애초, 주사형의 투영노광장치는, 주사구동속도를 가능한 한 높여, 수율의 쓰루풋(throughput)을 향상시키는 것이 커다란 목적의 하나이다. 단, 피노광기판의 주사구동속도를 높이면, 불연속 주기패턴의 노광시간을 확보하는 것이 곤란해지게 된다. 그래서, 본 실시형태는, 피노광기판의 주사구동속도를 높여도, 불연속 주기패턴의 노광시간을 확보하는 것이 가능하도록 한 투영노광장치를 나타내고 있다.
본 실시형태에서는, 상기 제 2 및 제 3실시형태에서 설명한 것과 마찬가지의 투영계에, 본 실시형태에서 특유의, 요동가능한 평행평면판(32)을 추가한 투영계를 표시하고 있다. 또, 제 2 및 제 3실시형태와 마찬가지로, 본 실시형태에서도 제 1 및 제 2조명계를 설치하고 있으나, 도 9 및 도 10에서는 생략하고 있다. 또, 평행평면판(32)은, 제 1실시형태에서 설명한 투영계에도 이용하는 것이 가능하다.
평행평면판(32)은, 노광광에 대해서 실질적으로 투명한(투과율이 높은) 재료로 형성되어 있고, 구동회로를 포함한 구동기구(34)에 의해서, 피노광기판(25)의 주사구동속도에 맞는 속도로 해당 주사구동방향으로 요동구동된다. 또, 구동기구(34)는, 도시하지 않은 제 1 및 제 2조명계의 광원 등 및 기판스테이지(28)의 주사구동도 제어하는 제어회로(36)에 의해서 제어된다.
여기서, 피노광기판(25)에 불연속 주기패턴을 확실히 간헐노광하기 위해서는, 각 간혈노광시에 최적의 노광시간을 확보하는 일이 필요하다. 이 때문에, 본 실시형태에서는, 피노광기판(25)의 주사구동속도를 올려서 쓰루풋을 향상시키는 동시에, 이 주사구동중에도 불연속 주기패턴의 노광에 필요한 노광시간이 얻어질 수 있도록, 마스크(1")의 제 1마스크 패턴의 상을, 소요의 노광시간 사이에, 피노광기판(25) 위의 동일 위치에 유지할 수 있도록 한다.
구체적으로는, 평행평면판(32)을, 제 2마스크 패턴의 상이 피노광기판(25)의 주사구동속도와 등속도로 주사구동방향으로 이동하도록 요동시킨다. 이것에 의해, 평행평면판(32)이 상기 방향으로 요동하고 있는 사이에는, 제 2마스크 패턴의 상을 피노광기판(25) 위의 동일 위치에 유지하는 것이 가능하며, 불연속 주기패턴의 노광에 필요한 노광시간을 확보하는 것이 가능하다.
단, 불연속 주기패턴이 노광되고 있는 사이에, 평행평면판(32)의 요동에 의해 연속패턴을 노광하기 위한 제 1마스크 패턴의 상도 피노광기판(25) 위의 동일 위치에 유지되므로, 연속패턴의 연속성이 손상되어 버린다. 그래서, 본 실시형태에서는, 이하의 노광방법에 의해서 상기 불편을 해소한다.
도 11의 순서도는, 본 실시형태의 투영노광장치(제어회로(36))의 노광제어방법을 표시한 것이다. 또, 도 12 및 도 13에는, 이 노광제어방법에 의해서 패턴이 노광되고 있는 피노광기판(25)을 표시하고 있다.
먼저, 제어회로(36)는, 기판스테이지(28)의 주사구동을 개시한다. 피구동기판(25)(기판스테이지(28))의 구동위치는 위치계측기(27)에 의해서 상시 계측되고, 제어회로(36)는 이 계측결과에 의거해서 기판스테이지(28)를 제어한다.
또, 원호형 슬릿조명을 주사하는 경우에 있어서는, 도시하지 않았으나, 제 1조명계 내에 마스크(1")와 공액인 면을 만들고, 그 공액면 위에 마스킹블레이드를 설치함으로써, 제 1마스크 패턴(2)의 조사타이밍을 취해, 피노광기판(25) 위의 연속패턴을 일치시키는 것이 가능하다. 제 2조명계에 대해서도 마찬가지이다.
스텝(도면에서는 S로 약칭함) 11에 있어서, 피노광기판(25) 위의 노광개시목표위치가 제 1마스크 패턴상의 투영위치와 일치하면, 제어회로(36)는, 스텝 12에서, 제 1조명계를 조사(온(on))동작시켜, 조명광을 제 1마스크 패턴에 조사한다. 이것에 의해, 피노광기판(25)에의 연속패턴(25a)의 노광이 개시된다. 또, 제어회로(36)는 기판스테이지(28)의 일정속도에서의 주사구동을 속행한다.
다음에, 스텝 13에 있어서, 제어회로(36)는, 상기 위치계측기(27)의 계측결과에 의거해서, 피노광기판(25)이 제 2마스크 패턴상의 투영위치에 도달하였는지의 여부를 판별한다. 제 2마스크 패턴상의 투영위치에 도달하면, 제어회로(36)는, 스텝 14에서, 제 2조명계(20)를 조사(온)동작시켜, 조명광을 제 2마스크 패턴에 조사한다. 이것에 의해, 피노광기판(25)에, 도 13에 표시한 불연속 주기패턴(25b)의 노광이 행해진다.
그리고, 이 불연속 주기패턴의 노광개시타이밍에 맞춰서, 제어회로(36)는, 스텝 15에서, 평행평면판(32)의 초기위치로부터의 왕로(피노광기판(25)의 주사구동방향과 동일한 방향으로의) 요동을 개시시킨다. 평행평면판(32)을 왕로요동시키면, 평행평면판(32)의 두께 t, 굴절률 n, 노광광파장 λ 및 요동각 θ의 변화에 의해서, 피노광기판(25)에 대한 투영광속의 입사각도를 유지한 채로, 양 마스크 패턴상을 해당 왕로요동방향으로 이동시키는 것이 가능하다. 그리고, 이 평행평면판(32)의 왕로요동속도를, 주사구동중의 피노광기판(25) 위에서의 양 마스크 패턴상의 투영위치가 일정하게 유지되도록 제어하고, 또 불연속 주기패턴의 소요노광시간 사이, 평행평면판(32)의 왕로요동을 행함으로써, 주사구동되고 있는 피노광기판(25) 위에서 불연속 주기패턴의 적정한 노광시간을 확보하는 것이 가능하다.
제어회로(36)는, 스텝 16에서, 평행평면판(32)의 왕로요동시간(불연속 주기패턴의 노광시간)이 소요노광시간에 도달하였는지의 여부를 판별하고, 소요노광시간에 도달한 때에는, 스텝 17에서, 제 2조명계로부터의 조명광의 조사를 온으로 하고, 또, 스텝 18에서, 평행평면판(32)의 원래의 요동위치(초기위치)를 향해서 복로요동시킨다. 이 복로요동중에도, 제 1조명계에 의한 제 1마스크 패턴에의 조명광의 조사(즉, 피노광기판(25)에의 연속패턴의 노광)는 계속된다. 이것에 의해, 제 1마스크 패턴상은 피노광기판(25) 위를 그 주사구동방향과 역방향으로 이동하는 것으로 되어, 피노광기판(25) 위에 노광되는 연속패턴이, 다음에 불연속 주기패턴과 함께 노광개시되는 위치까지 뻗게 된다. 따라서, 연속패턴의 연속성이 확보된다.
또, 평행평면판(32)의 복로요동은, 피노광기판(25) 위의 다음의 불연속 주기패턴의 노광위치가, 평행평면판(32)의 초기위치에 있을 때의 제 2마스크 패턴의 투영위치에 도달하기 전까지 완료한다. 이와 같이 해서, 스텝 19에서, 평행평면판(32)이 초기위치로 되돌아간 것이 확인되면, 제어회로(36)는 스텝 20에서 평행평면판(32)의 복로요동을 정지시킨다.
그리고, 스텝 21에서, 제어회로(36)가 불연속 주기패턴의 노광회수(回數)가 목표회수에 도달하고 있는 지의 여부(다음의 불연속 주기패턴의 노광이 있는 지의 여부)를 판별한다. 이것은, 미리 투영노광장치의 입력조작부 등을 통해서 입력된 불연속 주기패턴의 목표노광회수에 대해서, 불연속 주기패턴의 노광이 행해진 때마다 가산된 계수치가 도달하였는지의 여부에 의해서 판별된다.
스텝 21에 있어서, 다음의 불연속 주기패턴의 노광이 있을 경우에는, 제어회로(36)는, 스텝 13으로 되돌아가, 피노광기판(25) 위의 다음의 불연속 주기패턴의 노광위치가 평행평면판(32)이 초기위치에 있는 상태에서의 제 2마스크 패턴의 투영위치에 도달한 시점에서부터, 제 2조명계의 광원을 재차 조사(온)동작시켜, 조명광을 제 2마스크 패턴에 조사하는 동시에, 평행평면판(32)의 왕로요동을 개시시킨다(스텝 14, 15) 이것에 의해, 피노광기판(25)에 다음의 불연속 주기패턴과 연속패턴의 노광이 개시된다. 또, 평행평면판(32)의 왕로요동시간이 소요노광시간에 도달한 때에(스텝 16), 제 2조명계의 광원의 발광을 오프로 하고(스텝 17), 평행평면판(32)을 초기위치로 복로요동(스텝 18)시킨다. 이 때에도, 제 1조명계로부터 제 1마스크 패턴에 대한 조명광의 조사, 즉, 연속패턴의 노광이 계속된다.
그리고, 스텝 21에서, 다음의 불연속 주기패턴의 노광이 없어진 때에는, 스텝 22로 진행하여, 제어회로(36)는 제 1조명계의 광원을 오프로 해서, 일련(1개)의 노광공정으로서의 연속패턴과 불연속 주기패턴의 피노광부재(25)에의 노광을 종료한다.
이상 설명한 노광공정의 도중의 상태에 있어서, 스텝 20까지 완료한 상태를, 도 12 및 도 13(도 12에 있어서의 B부분의 확대도)에 표시하고 있다.
이들 도면에 있어서, 피노광기판(25) 위의 노광완료된 복수의 불연속 주기패턴(25b)으로 표시하고 있고, 이 복수의 노광완료된 불연속 주기패턴(25b)으로부터 도 13중의 오른 쪽(피노광기판(25)의 주사구동방향과는 반대방향)으로 뻗은, 노광완료된 연속패턴(25a)은, 스텝 18 내지 스텝 20에 있어서의 평행평면판(32)의 복로요동 중에 노광된 것이다. 그리고, 이 뻗은 연속패턴(25a)에 연결되도록, 평행평면판(32)의 왕로요동중에서의 노광이 행해짐으로써, 연속패턴(25)의 연속성이 확보된다.
(제 5실시형태)
도 14에는, 본 발명의 제 5실시형태인 투영노광장치의 구성을 표시하고 있다. 상기 각 실시형태에서는, 반사투영계를 이용하고 있으나, 본 실시형태에서는, 렌즈투영계를 이용하고 있다. 즉, 본 발명의, 반사형 마스크 패턴과 투과형 패턴을 구비한 마스크는, 반사투영계를 구바한 투영노광장치뿐만 아니라, 렌즈투영계를 구비한 투영노광장치에도 사용하는 것이 가능하다.
또, 본 실시형태에 있어서, 전술한 각 실시형태의 투영노광장치와 공통인 구성요소에는 동일한 부호를 붙이고 설명을 대신한다.
도 14에 있어서, (101)은 본 발명의 일실시형태로서의 투영노광용 마스크이다. 이 마스크(101)의 구성을 도 15 및 도 16(도 14의 C부분의 확대도)에 표시한다.
이 마스크(101)에는, 상기 제 2 내지 제 4실시형태에서 설명한 마스크(1")와 마찬가지로, 이면쪽에 피노광기판에 연속패턴을 노광하기 위한 반사형의 제 1마스크 패턴(102)이, 표면쪽에 피노광기판에 불연속 주기패턴을 노광하기 위한 투과형의 제 2마스크 패턴(103)이 형성되어 있다. 또, 제 1마스크 패턴(102)과 제 2마스크 패턴(103)은, 조명광의 조사영역(104)의 길이방향에 교대로 배치되어 있다.
투영계를 거울에 의해 구성한 상기 각 실시형태의 마스크에서는, 조명영역이 원호형 슬릿형상으로 되므로, 이것에 맞춰서 제 2마스크 패턴이 원호형상으로 배열되어 있으나, 본 실시형태의 마스크(101)는, 투영계를 렌즈에 의해 구성하고, 이것에 따라서 조명영역이 직선형(직사각형) 슬릿형상으로 되므로, 이것에 맞춰서 제 2마스크 패턴(103)이 직사각형모양으로 배열되어 있다.
또, 도 14에 있어서, (47)은 투영렌즈이며, 본 실시형태의 경우, 마스크쪽이 텔레센트릭인 쪽이 유리하다. 또, 피노광기판쪽은 텔레센트릭이 아니어도 된다. 본 실시형태에서는, 투영렌즈(47)로서, n배의 한쪽 텔레센트릭 렌즈를 채용한 경우에 대해서 설명한다.
(45)는 편광빔 스플리터이다. (46a), (46b)는 λ/4판이며, 편광빔 스플리터(45)에 있어서의 마스크(101) 및 후술하는 고정세 반사형 마스크(48)와 대향하는 면에 설치되어 있다.
(41)은 제 1조명계이며, 초고압수은등으로 이루어진 광원(16)과, 타원경(17)과, 인테그레이터 렌즈(43)와, 콘덴서 렌즈(44)를 지니고 구성되어 있다. 제 1조명계(41)는, 편광빔 스플리터(45)를 개재해서, 투사계쪽으로부터 마스크(101)에 설치된 반사형의 제 1마스크 패턴(102)에 조명광을 조사한다.
또, 제 2조명계(20')는, 투사계에 대해서 마스크(101)와는 반대쪽으로부터 마스크(101)에 형성된 투과형의 제 2마스크 패턴에 조명광을 조사한다. 이들 제 1 및 제 2조명계(41), (20')는, 피노광기판(25')을 탑재한 기판스테이지(28)의 주사구동을 제어하는 제어회로(도시생략)에 의해, 주사구동과 동기해서 조사제어된다.
도 17에는, 본 실시형태의 투영노광장치에 의해, 패턴이 노광되고 있는 도중의 피노광기판(25')의 상태를 표시하고 있다.
도 17에 있어서, 피노광기판(25') 위의 노광완료된 연속패턴(25a')과 복수회 노광된 불연속 주기패턴(25b')을 표시하고 있고, 이 노광완료된 불연속 주기패턴(25b')로부터 도 17중의 기판(25)의 오른쪽(피노광기판(25')의 주사구동방향과는 반대방향)으로 뻗은, 노광완료된 연속패턴(25a') 사이에 다음의 불연속 주기패턴이 노광된다.
여기서, 본 실시형태의 제 1 및 제 2조명계(41), (20')로부터 마스크(101)에 조사되는 조명광은, 전술한 바와 같이, 직선(직사각형)형상의 슬릿조명광으로 되고 있고, 이 슬릿조명광의 길이방향은, 투영노광장치를 표시하는 도 14의 지면에 대해서 수직인 방향이다.
따라서, 제 1조명계(41)에 설치된 콘덴서 렌즈(44)는, 2개의 불필요한 부분을 제거하는 소위 타원형 형상을 지닌다. 이 제 1조명계(41)의 광원(16)으로부터 발사된 조명광은, 타원경(17)에 의해 반사되어 2차광원을 형성하도록 일단 결상한 후, 인테그레이터 렌즈(43)에 의해서 그 조명강도의 분포가 균일화된다. 콘덴서 렌즈(44)에는, 직선형 슬릿형상으로 광속이 입사하고, 집광되어서 편광빔 스플리터(45)에 입사한다.
편광빔 스플리터(45)에 입사한 조명광속중, 특정의 편광성분(P편광광 또는 S편광광)이 이 편광빔 스플리터(45)의 편광분리막에 의해서 마스크(101)쪽에 반사되어, λ/4판(46a)을 통과해서 마스크(101)의 이면쪽(투영렌즈쪽)의 제 1마스크 패턴(102)을 조명한다. 제 1마스크 패턴(102)에서 반사한 노광광은, 재차 λ/4판(46a)을 통과해서 편광빔 스플리터(45)에 재입사한다. 이와 같이, 노광광(조명광)은, λ/4판(46a)을 왕복(2회)통과함으로써, 그 편광방향이 편광분리막에서의 반사시에 대해서 90°변화한다.
이것에 의해, 편광빔 스플리터(45)에 입사한 노광광은, 편광분리막을 투과해서, 투영렌즈(47)를 투과해서, 소정의 투영배율의 제 1마스크 패턴상이 상면쪽의 초점위치에 결상한다.
상기 상면쪽의 초점위치에는 피노광기판(25')의 표면이 배치되어 있고, 투영렌즈(47)에 의해 투영된 제 1마스크 패턴상이 노광된다. 그리고, 피노광기판(25')을, 투영렌즈(47)의 투영광축에 대해서 대략 직교하는 방향으로 주사구동함으로써, 피노광기판(25') 위에, 해당 주사구동방향으로 뻗은 연속패턴이 끊어지는 일없이 노광된다.
또, 제 2조명계(20')가 피노광기판(55)의 소정 구동량마다 마스크(101)의 제 2마스크 패턴(103)을 플래시 또는 펄스조명함으로써, 제 2마스크 패턴(103)을 투과한 노광광은, λ/4판(46a), 편광빔 스플리터(45) 및 투영렌즈(47)를 통과해서, 피노광기판(25') 위에 불연속 주기패턴을 노광한다.
이것에 의해, 피노광기판(25')에는, 연속한 연속패턴(25a')과 소정간격을 지닌 불연속 주기패턴이 소정의 간격으로 일련(1개)의 노광공정으로 노광된다.
또, 도 14중의 괄호로 표시한 바와 같이, 본 실시형태에 있어서도, 제 4실시형태와 마찬가지로, 투영계의 가장 상면쪽에 평행평면판(32)을 요동가능하게 배치하는 것이 가능하다.
이 경우, 도시하지 않은 제어회로에 의해, 상기 제 4실시형태에서 도 11의 순서도를 이용해서 설명한 것과 마찬가지로, 기판스테이지(28), 제 1, 제 2조명계(41), (20') 및 평행평면판(32)이 제어된다.
또, 본 실시형태에서는, 제 1조명계(41)는, 광원(16)으로부터의 간섭성 광속중, 편광빔 스플리터(45)의 편광분리면에서 반사된 특정의 편광방향의 편광광만을 이용해서 노광광으로서 이용하고 있으나, 편광분리면을 투과하는 편광광을 이용해서, 제 1실시형태의 변형예로서 설명한 다중노광을 행하는 것이 가능하다.
이 경우, 도 14에 표시한 바와 같이, 편광빔 스플리터(45)의 편광분리면을 투과한 편광광을 λ/4판(46b)을 개재해서 고정세 반사형 마스크(48)에 조사한다. 이 고정세 반사형 마스크(48)에는, 도 6에 부호 (2a)로 표시한 제 3마스크 패턴과 마찬가지로, 제 1마스크 패턴(102)의 최소패턴폭보다도 작은 최소패턴폭을 지닌 미세패턴노광용의 반사형 마스크 패턴이 형성되어 있다.
이 고정세 반사형 마스크(48)에서 반사한 노광광은, λ/4판(46b)을 개재해서 편광빔 스플리터(47)로 되돌아가나, λ/4판(46b)을 왕복(2회)통과함으로써, 편광방향이 먼저 편광분리면을 투과한 때에는 90°변한다. 이것에 의해, 고정세 반사형 마스크(48)로부터의 노광광은, 편광빔 스플리터(45)의 편광분리막에서 반사되어, 투영렌즈(47)로 인도된다.
이 고정세 반사형 마스크(48)의 패턴상은, 마스크(101)의 제 1마스크 패턴(102)의 상 및 제 2마스크 패턴(103)의 상에 중첩되어, 투영렌즈(47)의 초점위치에 설치된 피노광기판(25')의 표면 위에 결상한다. 이것에 의해, 제 1마스크 패턴(102)에 의한 연속패턴 및 제 2마스크 패턴(103)에 의한 불연속 주기패턴과 함께, 고정세 반사형 마스크(48)의 미세패턴이 피노광기판(25')에 일련(1개)의 노광공정으로 노광된다.
연속패턴과 불연속 주기패턴의 노광프로파일의 향상에, 미세패턴이 기여하는 점은, 많은 다중노광에 관한 제안에 있어서 설명되어 있는 것과 마찬가지이다.
또, 이상 설명한 제 1 내지 제 5실시형태에 있어서는, 마스크에 있어서의 연속패턴노광용의 제 1마스크 패턴을 반사형 마스크 패턴으로서 구성하고, 불연속 주기패턴노광용의 제 2마스크 패턴을 투과형 마스크 패턴으로서 구성한 경우에 대해서 설명하였으나, 제 1마스크 패턴을 투과형 마스크 패턴으로 하고, 제 2마스크 패턴을 반사형 마스크 패턴으로 해도 된다.
또, 상기 각 실시형태에서는, 피노광기판에 연속패턴과, 일정 주기로 반복되는 불연속 주기패턴(독립 반복패턴)을 노광하기 위한 마스크에 대해서 설명하였으나, 본 발명에서 말하는 불연속 주기패턴에 대해서는, 반드시 일정 주기로 반복될 필요는 없고, 개개가 독립한(불연속의) 패턴이면 된다.
또, 상기 각 실시형태에서는, 주사형 및 스텝 앤드 리피트형 투영노광장치에 대해서 설명하였으나, 본 발명은, 스텝 앤드 스캔형 등 기타 유형의 투영노광장치에도 적용가능하다.
이상 설명한 바와 같이, 상기 각 실시형태에 의하면, 마스크의 구동을 행하지 않고도 연속패턴의 노광과 불연속패턴의 노광을 일련의 노광공정으로 완결하는 것이 가능하다.
또, 마스크의 구동을 행하지 않고 피노광부재의 구동만을 행함으로써, 마스크에 있어서의 피노광부재의 구동방향에서의 길이를 짧게 하는 것이 가능해져, 마스크를 그 주변영역에서 지지한 경우에도 마스크의 자체 중량에 의한 변형을 억제 하는 것이 가능하다.
또한, 피노광부재만 구동제어하면 되므로, 마스크와 피노광부재의 쌍방을 동기시켜서 구동제어할 경우에 비해서 제어가 간소화되어, 노광성능의 신뢰성을 높이는 것이 가능하다. 나아가서는, 마스크의 소형화에 따라서 마스크를 저비용화하는 것도 가능하다.

Claims (27)

  1. 피노광부재만을 소정 방향으로 주사구동해서, 상기 피노광부재의 표면에, 연속패턴 및 불연속 패턴을 포함하는 노광패턴을 노광하는 주사형 투영노광장치에 이용되는 투영노광용 마스크에 있어서,
    피노광부재에 대해서, 상기 피노광부재의 주사방향으로 상기 연속패턴을 노광하기 위한 제 1마스크 패턴; 및
    상기 피노광부재에 대해서, 상기 주사방향으로 상기 불연속패턴을 노광하기 위한 제 2마스크 패턴을 지니고,
    상기 제 1 및 제 2마스크 패턴 중 한쪽의 마스크 패턴이 반사형 마스크 패턴이고, 다른쪽의 마스크 패턴이 투과형 마스크 패턴인 것을 특징으로 하는 투영노광용 마스크.
  2. 제 1항에 있어서, 상기 반사형 마스크 패턴은, 상기 투영노광용 마스크의 한쪽의 표면 쪽으로부터 입사한 광을 반사하고, 상기 투과형 마스크 패턴은 상기 투영노광용 마스크의 다른 쪽의 표면 쪽으로부터 입사한 광을 투과시키는 것을 특징으로 하는 투영노광용 마스크.
  3. 제 1항에 있어서, 상기 반사형 및 투과형 마스크 패턴에 조사되는 광의 조사영역이, 직선형 또는 원호형의 슬릿형상을 지니고,
    상기 양 마스크 패턴이, 상기 조사영역의 길이방향으로 교대로 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 투영노광용 마스크.
  4. 제 1항에 있어서, 상기 투영노광용 마스크중, 상기 제 1마스크 패턴이 형성되어 있는 영역의 일부에, 해당 제 1마스크 패턴의 최소패턴폭보다도 작은 최소패턴폭을 지닌 제 3마스크 패턴이 형성되어 있고,
    상기 제 3마스크 패턴은, 반사형 및 투과형 중 상기 제 1마스크 패턴과 동일한 형태의 마스크 패턴인 것을 특징으로 하는 투영노광용 마스크.
  5. 주사구동되는 피노광부재에 대해서 해당 피노광부재의 주사방향으로 연속패턴을 노광하기 위한 제 1마스크 패턴과, 상기 피노광부재에 대해서 불연속패턴을 노광하기 위한 제 2마스크 패턴을 지니고, 상기 제 1 및 제 2마스크 패턴중 한쪽의 마스크 패턴이 반사형 마스크 패턴이고, 다른쪽의 마스크 패턴이 투과형 마스크 패턴인 투영노광용 마스크의 제조방법에 있어서,
    ·표면에 반사막이 형성된 투명기판을 준비하는 제 1공정;
    ·상기 반사막 위에 레지스트를 도포하고, 해당 레지스트에 대한 상기 반사형 마스크 패턴을 형성하기 위한 베이스부 및 상기 투과형 마스크 패턴의 형상의 노광과 현상을 행하는 제 2공정;
    ·상기 제 2공정에 의해 현상된 상기 베이스부 및 상기 투과형 마스크 패턴의 형상을 지닌 반사막 위에 레지스트를 도포해서, 상기 베이스부 위의 레지스트에 상기 반사형 마스크 패턴의 형상을 노광하고, 현상을 행하는 제 3공정;
    ·상기 제 3공정에 의해 상기 레지스트가 제거된 부분의 반사막 위에 반사방지막을 형성하는 제 4공정; 및
    ·상기 제 3공정에서의 현상에 의해 잔존한 상기 반사형 마스크 패턴의 형상의 레지스트를 제거하는 제 5공정을 구비한 것을 특징으로 하는 투영노광용 마스크의 제조방법.
  6. 삭제
  7. 피노광부재만을 소정방향으로 주사구동해서, 상기 피노광부재의 표면에, 연속패턴 및 불연속 패턴을 포함하는 노광패턴을 노광하는 주사형 투영노광장치에 있어서,
    ·상기 피노광부재에 대해서, 해당 피노광부재의 주사방향으로 상기 연속패턴을 노광하기 위한 제 1마스크 패턴과, 상기 피노광부재에 대해서 상기 주사방향으로 상기 불연속패턴을 노광하기 위한 제 2마스크 패턴을 지니고, 상기 제 1 및 제 2마스크 패턴 중 한쪽의 마스크 패턴이 반사형 마스크 패턴이고, 다른쪽의 마스크 패턴이 투과형 마스크 패턴인 투영노광용 마스크;
    ·상기 반사형 마스크 패턴 및 상기 투과형 마스크 패턴으로부터의 광을 상기 피노광부재에 투사하는 투영계;
    ·상기 반사형 마스크 패턴에, 상기 투영노광용 마스크의 한쪽으로부터 광을 조사하는 제 1조명계;
    ·상기 투과형 마스크 패턴에, 상기 투영노광용 마스크를 사이에 두고 상기 한쪽과는 반대쪽으로부터 광을 조사하는 제 2조명계; 및
    ·상기 피노광부재를 상기 투영계의 투사광축에 대해서 수직인 방향으로 이동시키는 기판스테이지를 구비하고,
    상기 제 1 및 제 2조명계 중, 한쪽의 조명계가 연속조명형의 조명계이고, 다른 쪽의 조명계가 간헐조명형의 조명계인 것을 특징으로 하는 주사형 투영노광장치.
  8. 제 7항에 있어서, 상기 투영계는, 상기 반사형 마스크 패턴으로부터의 광과 상기 투과형 마스크 패턴으로부터의 광을 합성해서 상기 피노광부재에 투사하는 것을 특징으로 하는 주사형 투영노광장치.
  9. 삭제
  10. 제 7항에 있어서, 상기 제 1 및 제 2조명계중 적어도 한쪽의 조명계로부터 상기 투영노광용 마스크에 대해서, 직선형 또는 원호형의 슬릿형상으로 광을 조사하는 것을 특징으로 하는 주사형 투영노광장치.
  11. 제 7항, 제 8항 및 제 10항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 제 1조명계로부터의 광은, 상기 투영계를 개재해서 상기 반사형 마스크 패턴에 조사되는 것을 특징으로 하는 주사형 투영노광장치.
  12. 제 11항에 있어서, 상기 투영계는 광분리소자를 지니고, 해당 광분리소자는, 상기 제 1조명계로부터 상기 반사형 마스크 패턴에 조사되는 광의 광로와, 해당 반사형 마스크 패턴에 의해 반사되어 상기 피노광부재에 투사되는 광의 광로를 분리하고, 또, 상기 반사형 마스크 패턴으로부터의 광과 상기 투과형 마스크 패턴으로부터의 광을 합성하는 것을 특징으로 하는 주사형 투영노광장치.
  13. 제 12항에 있어서, 상기 광분리소자는 편광빔 스플리터이고,
    해당 편광빔 스플리터와 상기 투영노광용 마스크와의 사이에, λ/4판이 배치되어 있는 것을 특징으로 하는 주사형 투영노광장치.
  14. 제 7항, 제 8항 및 제 10항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 제 1조명계는, 상기 투영계의 밖으로부터 상기 투영노광용 마스크에 광을 조사하고, 상기 반사형 마스크 패턴에 의해 반사된 상기 광이 상기 투영계에 의해 상기 피노광부재에 조사되는 것을 특징으로 하는 주사형 투영노광장치.
  15. 제 7항, 제 8항 및 제 10항 중 어느 한 항에 있어서,
    ·상기 투영계에 설치되어, 상기 피노광부재에 투영되는 광을 투과하고, 또한 왕복요동하는 평행평면판을 또 구비하고,
    상기 평행평면판의 요동의 왕로 또는 복로에 있어서 상기 제 2마스크 패턴에 광이 조사되는 것을 특징으로 하는 주사형 투영노광장치.
  16. 제 15항에 있어서, 상기 평행평면판의 요동중에 상기 제 1마스크 패턴에 광을 조사하는 것을 특징으로 하는 주사형 투영노광장치.
  17. 삭제
  18. 피노광부재만을 소정 방향으로 주사구동해서, 상기 피노광부재의 표면에 연속 패턴 및 불연속 패턴을 포함하는 노광패턴을 노광하기 위한 주사형 투영노광방법에 있어서,
    ·상기 피노광부재에 대해서 해당 피노광부재의 주사방향으로 상기 연속패턴을 노광하기 위한 제 1마스크 패턴과, 상기 피노광부재에 대해서 상기 주사방향으로 상기 불연속패턴을 노광하기 위한 제 2마스크 패턴을 지니고, 상기 제 1 및 제 2마스크 패턴중 한쪽의 마스크 패턴이 반사형 마스크 패턴이고, 다른쪽의 마스크 패턴이 투과형 마스크 패턴인 투영노광용 마스크를 준비하는 제 1공정;
    ·상기 투영노광마스크를 이용해서 투영계로부터 상기 피노광부재에 광을 투사하는 제 2공정; 및
    ·상기 피노광부재를 상기 투영계의 투사광축에 대해서 수직인 방향으로 이동시키는 제 3공정을 구비하고,
    상기 제 2공정에 있어서, 상기 반사형 마스크 패턴에는, 상기 투영노광용 마스크의 한쪽으로부터 광을 조사하고, 상기 투과형 마스크 패턴에는 상기 투영노광용 마스크를 사이에 두고 상기 한쪽과는 반대쪽으로부터 광을 조사하고,
    상기 반사형 마스크 패턴 및 상기 투과형 마스크 패턴에 조사되는 광중, 한쪽 광이 연속적으로 조사되는 광이고, 다른 쪽 광이 간헐적으로 조사되는 광인 것을 특징으로 하는 주사형 투영노광방법.
  19. 제 18항에 있어서, 상기 제 2공정에 있어서, 상기 반사형 마스크 패턴으로부터의 광과 상기 투과형 마스크 패턴으로부터의 광을 합성해서 상기 피노광부재에 투사하는 것을 특징으로 하는 주사형 투영노광방법.
  20. 삭제
  21. 제 18항에 있어서, 상기 제 2공정에 있어서, 상기 투영노광용 마스크에 대해서, 직선형 또는 원호형의 슬릿형상으로 광을 조사하는 것을 특징으로 하는 주사형 투영노광방법.
  22. 제 18항에 있어서, 상기 제 2공정에 있어서, 상기 반사형 마스크 패턴에 상기 투영계를 개재해서 광을 조사하는 것을 특징으로 하는 주사형 투영노광방법.
  23. 제 22항에 있어서, 상기 제 2공정에 있어서, 상기 투영계에 의해, 상기 반사형 마스크 패턴에 조사되는 광의 광로와, 해당 반사형 마스크 패턴에서 반사해서 상기 피노광부재에 투사되는 광의 광로를 분리하고, 또, 상기 반사형 마스크 패턴으로부터의 광과 상기 투과형 마스크 패턴으로부터의 광을 합성해서 상기 피노광부재에 조사하는 것을 특징으로 하는 주사형 투영노광방법.
  24. 제 18항에 있어서, 상기 제 2공정에 있어서, 상기 투영계에 설치된, 상기 피노광부재에 투영되는 광을 투과하는 평행평면판을 왕복요동시키고,
    상기 평행평면판의 요동의 왕로 또는 복로에 있어서 상기 제 2마스크 패턴에 광을 조사하는 것을 특징으로 하는 주사형 투영노광방법.
  25. 제 24항에 있어서, 상기 제 2공정에 있어서, 상기 평행평면판의 요동중에 상기 제 1마스크 패턴에 광을 조사하는 것을 특징으로 하는 주사형 투영노광방법.
  26. 삭제
  27. 삭제
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