KR100607956B1 - 양친매성 공중합체를 포함하는 습식 전자사진용 토너조성물, 이의 제조 방법 및 이를 이용한 전자사진화상형성방법 - Google Patents
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Abstract
전자사진분야에 이용할 수 있는 습식 토너 조성물이 제공된다. 오가노졸 습식 토너 조성물은 비수성 액체 캐리어에 분산된 바인더 입자를 포함하며, 상기 입자는 하나 이상의 가교결합가능한 양친매성 공중합체를 포함하는 성분들로부터 유도된다. 오가노졸은 하나 이상의 시각개선첨가제와 기타 필요한 성분들과 같은 추가의 성분들과 용이하게 혼합되며, 혼합공정을 거쳐 습식 토너 조성물을 형성한다. 상기 오가노졸로부터 유도된 습식 토너를 제조하는 방법 및 전자사진법으로 프린팅하는 방법도 기재되어 있다.
Description
도 1a는 가교결합가능한 양친매성 공중합체를 포함하는 본 발명의 오가노졸의 일 구현예의 모식도이다.
도 1b는 가교결합가능한 양친매성 공중합체를 포함하는 본 발명의 오가노졸의 일 구현예의 모식도이다.
도 1c는 가교결합가능한 양친매성 공중합체를 포함하는 본 발명의 오가노졸의 일 구현예의 모식도이다.
도 1d는 가교결합가능한 양친매성 공중합체를 포함하는 본 발명의 오가노졸의 일 구현예의 모식도이다.
도 2a는 가교결합가능한 양친매성 공중합체의 조합물을 포함하는 본 발명에 따른 오가노졸의 일 구현예의 모식도이다.
도 2b는 가교결합가능한 양친매성 공중합체의 조합물을 포함하는 본 발명에 따른 오가노졸의 일 구현예의 모식도이다.
도 3은 본 발명의 습식 토너를 포함하는 성분을 사용하여 형성된 변조 방지(tamper-resistant) 화상을 포함하는 장치의 모식도이다.
도 4는 실시예 14, 15 및 19에서 얻은 데이타에 대한 내삭제성 대 크록 천(Crock cloth)의 통과횟수를 도시한 그래프이다.
본 발명은 전자사진법에 이용되는 습식 토너 조성물, 이의 제조 방법 및 이를 이용한 전자사진 화상형성방법에 관한 것이다. 더욱 상세하게는, 본 발명은 가교결합가능한 작용기를 포함하는 양친매성 공중합체 바인더 입자를 포함하는 오가노졸로부터 유도된 습식 전자사진용 토너, 이의 제조 방법 및 이를 이용한 전자사진 화상형성방법에 관한 것이다.
전자사진공정 및 정전 프린팅 공정에서(통칭적으로 전자기록 공정이라 함), 정전 화상은 각각 감광 요소 또는 유전 요소의 표면에 형성된다. 감광 요소 또는 유전 요소는 Schmidt, S.P. 및 Larson, J. R.에 의해 Handbook of Imaging Materials(Diamond, A. S., Ed: Marcel Dekker: New York; Chapter 6, pp227-252)에, 그리고 미국 특허출원 제 4,728,983호, 제 4,321,404호 및 제 4,268,598호에 기재된 것처럼, 중간 전사 드럼 또는 벨트, 또는 최종 톤 화상 자체의 기재일 수 있다.
정전 프린팅에서 잠상은 통상적으로 (1) 선택된 영역의 유전 요소(통상적으로 수용 기재)상에 정전 라이팅 스타일러스(electrostatic writing stylus) 또는 그 등가물로 전하 화상을 위치시켜 전하 화상을 형성하고, (2) 토너를 상기 전하 화상에 가한 다음, (3) 톤 화상을 정착시킴으로써 형성된다. 이러한 유형의 공정의 한 예는 미국 특허 제 5,262,259호에 기재되어 있다.
제로그래피(xerography)라고도 하는 전자사진 프린팅에서, 전자사진법은 종이, 필름 등과 같은 최종 화상 수용체상에 화상을 형성하는데 사용된다. 전자사진법은 사진복사기(photocopier), 레이저 프린터, 팩시밀리기 등을 포함하여 여러 장치에 사용된다.
전자사진법은 통상적으로 최종적인 영구 화상 수용체상에 전자사진 화상을 형성하는 공정에서, 감광체(photoreceptor)로 알려져 있는, 재사용가능하고 감광성인 일시적 화상 수용체를 사용하는 것을 포함한다. 대표적인 전자사진 공정은 대전, 노광, 현상, 전사, 정착 및 크리닝과 제전을 포함하여, 수용체상에 화상을 형성하기 위한 일련의 단계들을 포함한다.
대전 단계에서, 감광체는 통상적으로 코로나 또는 대전 롤러에 의해 (-)극성이든 (+)극성이든 원하는 극성의 전하로 도포된다. 노광 단계에서는, 광학 시스템, 통상적으로 레이저 스캐너 또는 다이오드 배열은 최종 화상 수용체상에 형성되는 목적 화상에 대응하는 화상 방식(imagewise manner)으로 감광체의 대전 표면을 선택적으로 방전시켜 잠상을 형성한다. 현상 단계에서는, 적당한 극성의 토너 입자는 일반적으로 토너 극성과 반대 극성의 전위로 전기적으로 바이어스된 현상기를 사용하여 감광체상의 잠상과 접촉하게 된다. 토너 입자는 감광체로 이동하고 정전기력에 의하여 잠상에 선택적으로 부착하여 감광체상에 톤 화상을 형성한다.
전사 단계에서는, 톤 화상은 감광체로부터 목적으로 하는 최종 화상 수용체로 전사된다; 톤 화상을 감광체로부터 최종 화상 수용체로 계속해서 전사하기 위해 중간 전사 요소가 사용되기도 한다. 정착 단계에서는, 최종 화상 수용체상의 톤 화상은 가열되어 토너 입자를 연화시키거나 용융시켜, 톤 화상을 최종 수용체에 정착시킨다. 다른 정착 방법은 열의 존재 또는 비존재하에 고압하에서 최종 수용체에 토너를 정착시키는 것을 포함한다. 크리닝 단계에서는, 감광체에 남아 있는 잔류 토너가 제거된다.
마지막으로 제전 단계에서는, 감광체 전하는 특정 파장 밴드의 광에 노출되어 실질적으로 균일하게 낮은 값으로 감소되어, 원래의 잠상의 잔류물이 제거됨으로써 감광체가 다음 화상 형성 사이클을 준비하도록 한다.
2가지 타입의 토너 즉, 습식 토너와 건식 토너가 광범위하게 상업적으로 사용된다.
"건식(dry)"이란 용어는 건식 토너가 액체 성분을 전적으로 가지지 않는다는 것을 의미하는 것은 아니고, 토너 입자가 의미있는 수준의 용매, 예를 들면 통상적으로 10중량% 미만의 용매를 함유한다는 것을 의미하며(일반적으로 건식 토너는 용매 함량으로 나타냈을 때 실질적으로 건식인 것이다), 마찰대전 전하(triboelectric charge)를 수반할 수 있다는 것을 의미한다. 이것은 건식 토너 입자를 습식 토너 입자와 구별시킨다.
통상적인 습식 토너 조성물은 일반적으로 액체 캐리어에 현탁 또는 분산된 토너 입자를 포함한다. 액체 캐리어는 통상적으로 비전도성 분산제이므로 정전 잠 상을 방전시키는 것을 피할 수 있다. 습식 토너 입자는 일반적으로 액체 캐리어(또는 캐리어 액체)에 어느 정도 용매화되는데, 통상적으로 저극성, 저유전상수의 실질적으로 비수성인 캐리어 용매의 50중량% 넘게 용매화된다. 습식 토너 입자는 통상적으로 건식 토너 입자보다 더 작다. 약 5 미크론 내지 서브미크론으로 입경이 작기 때문에 습식 토너는 매우 고해상도인 톤화상을 형성할 수 있다.
습식토너 조성물에 사용되는 대표적인 토너 입자는 일반적으로 중합체 바인더 및 선택적으로 하나 이상의 시각개선첨가제(visual enhancement additive), 예를 들면 유색 안료 입자(colored pigment particle)를 포함한다. 중합체 바인더는 전자사진공정 동안 및 그 공정 후 모두의 경우에 기능을 만족시킨다. 가공성 면에서는, 바인더 특성은 토너 입자의 대전 및 전하 안정성, 유동성 및 정착성에 영향을 준다. 이러한 특성은 현상, 전사 및 정착 공정 동안에 우수한 성능을 달성하는데 중요하다. 화상이 최종 수용체에 형성된 후, 바인더의 성질(예를 들면, 유리 전이 온도, 용융 점도, 분자량) 및 정착 조건(예를 들면, 온도, 압력 및 정착기 배치)은 내구성(예를 들면, 내블로킹성 및 내삭제성), 수용체에 대한 부착력, 광택 등에 영향을 준다.
습식토너입자에 사용하기에 적당한 중합체 바인더 재료는 건식 토너 입자에 사용되는 중합체 바인더에 통상적인 유리 전이온도(50-100℃)보다 낮은 약 -24 내지 55℃의 유리전이 온도를 나타낸다. 특히 몇몇 습식토너는 습식 전자사진 화상형성공정에서 예를들면 필름 형성에 의해 신속하게 자기정착 (self fix)하기 위해 실 온(25℃) 미만의 유리 전이 온도(Tg)를 나타내는 중합체 바인더를 포함하는 것으로 알려져 있다(미국특허 제 6,255,363호 참조). 그러나 이러한 습식토너는 또한 톤 화상을 최종 화상 수용체에 정착시킨 후 낮은 Tg로부터 초래되는 열악한 화상 내구성(예를 들면 열악한 내블로킹성 및 내삭제성)을 나타내는 것으로도 알려져 있다.
이러한 내구성 결함을 극복하기 위하여 건식 토너에 사용하기 위해 선택된 중합체 재료는 정착후 우수한 내블로킹성을 얻기 위해 더 통상적으로는 적어도 약 55-65℃의 Tg를 나타내지만, 토너 입자를 연화 또는 용융시켜 토너를 최종 화상 수용체에 적절히 정착시키기 위해 통상적으로는 약 200-250℃의 높은 정착 온도를 필요로 한다. 높은 정착 온도는 장시간의 워밍업 시간과 고온정착에 따른 과도한 에너지 소비 및 종이의 자연발화온도(233℃)에 가까운 온도에서 종이에 토너를 정착시키는데 따른 화재 위험때문에 건식토너에 불리하다.
몇몇 습식 토너는 유리전이온도가 더 높은(약 60℃ 이상) 중합체 바인더를 사용하는 것으로 알려져 있지만, 이러한 토너는 화상 형성공정에서 습식 토너가 신속하게 자기 정착할 수 없는 데 따른 화상 결함, 열악한 대전 및 대전 안정성, 저장시 응집 또는 집합에 대한 열악한 안정성, 저장시 열악한 침강 안정성 및 토너 입자를 연화 또는 용융시켜 토너를 최종 화상 수용체에 적절히 정착시키기 위해 약 200-250℃의 높은 정착 온도가 사용되어야 한다는 요건을 포함하여, 중합체 바인더의 선택과 관련하여 다른 문제들을 나타내는 것으로 알려져 있다.
또한 유리전이온도가 높은 중합체 바인더를 사용한 몇몇 습식 및 건식 토너 는 최적의 정착 온도 위 또는 아래의 온도에서는 최종 화상 수용체로부터 정착기 표면으로 톤 화상을 바람직하지 못하게 부분적으로 전사하므로(옵셋), 옵셋을 방지하기 위해 정착기 표면에 낮은 표면 에너지를 가진 재료를 사용하거나, 정착기 오일을 사용하는 것을 필요로 하는 것으로 알려져 있다. 다르게는, 제조시에 다양한 윤활제 또는 왁스를 건식 토너 입자에 물리적으로 혼합하여 이형제 또는 슬립제(slip agent)로 작용하도록 하여 왔다; 그러나 이러한 왁스는 중합체 바인더에 화학적으로 결합되어 있지 않으므로, 토너 입자가 마찰대전하는데 불리한 영향을 미치거나, 토너 입자로부터 이동하여 감광체, 중간 전사 요소, 정착기 요소 또는 기타 전자사진공정에 중요한 표면을 오염시킬 수 있다.
중합체 바인더와 시각개선첨가제 외에, 습식 토너 조성물은 선택적으로 다른 첨가제를 포함할 수 있다. 예를 들면 대전제어제는 토너 입자에 정전기적 전하를 부여하도록 첨가될 수 있다. 분산제는 콜로이드 안정성을 제공하고 화상 정착을 도우며 입자 표면에 대전된 사이트 또는 대전 사이트를 제공한다. 분산제는 통상적으로 습식 토너 조성물에 첨가되는데, 이는 토너입자 농도가 높고(입자간 거리가 작음) 전기적 이중층 효과(electrical double layer effect)만으로는 응집 또는 집합에 대해 분산액을 안정화시키는데 적합하지 않기 때문이다. 이형제는 정착기 롤이 사용될 때 이들에 토너가 달라붙는 것을 방지하도록 사용될 수 있다. 다른 첨가제로는 산화방지제, 자외선 안정화제, 살세균제(fungicides), 살진균제(bactericides), 흐름 제어제 등이 있다.
한가지 제조 방법은 액체 캐리어에 분산된 양친매성 공중합체 바인더를 합성 하여 오가노졸을 형성한 다음, 생성된 오가노졸을 다른 성분들과 혼합하여 습식 토너 조성물을 형성하는 것을 포함한다. 통상적으로 오가노졸은 중합가능한 화합물(예를 들면 모노머)을 비수성 분산 중합하여 저유전율의 탄화수소 용매(캐리어 액체)에 분산된 공중합체 바인더 입자를 형성함으로써 합성된다. 이러한 분산된 공중합체 입자는 입체적 안정화제(예를 들면 그래프트 안정화제)의 화학 결합에 의해 집합에 대해 입체적으로 안정화되고, 중합에서 형성될 때 캐리어 액체에 의해 용매화되어 분산된 코어 입자로 된다. 이러한 입체적 안정화 메카니즘에 대한 세부 사항은 "Polymeric Stabilization of Colloidal Dispersions"(Napper, D.H., Academic Press, New York, N.Y., 1983)에 기재되어 있다. 자기 안정성 오가노졸의 합성 방법은 "Dispersion Polymerization in Organic Media"(K.E.J. Barret, ed., John Wiley: New York, N.Y., 1975)에 기재되어 있다.
습식 토너 조성물은 전자사진 화상형성 공정에서 신속하게 자기 정착하는 비교적 낮은 유리 전이온도(Tg≤ 30℃)의 필름 형성 습식 토너를 만드는데 사용하기 위하여 저극성, 저유전 상수의 캐리어 용매에서 분산 중합으로 제조되어 왔다(미국특허 제 5,886,067호 및 제 6,103,781호 참조). 오가노졸은 정전기적 스타일러스 프린터에 사용하기 위한 중간 유리전이온도(Tg가 30-55 ℃)의 습식 정전 토너를 만드는데 사용하기 위해 제조되어 왔다(미국특허 제 6,255,363 B1 참조). 오가노졸을 제조하기 위한 대표적인 비수성 분산중합방법은, 탄화수소 매질에 용해되는 하나 이상의 에틸렌성 불포화 모노머를 미리 형성된 중합가능한 용액 중합체(예를 들 면 그래프트 안정화제 또는 "리빙(living)" 중합체")의 존재하에 중합할 때 수행되는 자유 라디칼 중합이다(미국특허 제 6,255,363호 참조).
오가노졸이 형성되면, 하나 이상의 첨가제가 필요한대로 포함될 수 있다. 예를 들면 하나 이상의 시각개선첨가제 및/또는 대전제어제가 포함될 수 있다. 그런 다음 조성물은 균질화, 마이크로유동화(microfluidization), 볼밀링, 분쇄기 밀링, 고에너지 비드(샌드) 밀링, 바스켓 밀링 또는 분산액에서 입자 크기를 감소 시키기 위한 당해 기술분야에서 공지된 다른 방법과 같은 하나 이상의 혼합 공정을 거칠 수 있다. 혼합 공정은 응집된 시각개선첨가제 입자가 존재하는 경우, 이것들을 1차 입자(직경이 0.05 내지 1.0미크론)로 분쇄하고, 분산된 공중합체 바인더를 시각개선첨가제 표면과 결합할 수 있는 단편으로 부분적으로 잘게 만든다.
상기 구현예에 따르면 분산된 공중합체 또는 공중합체로부터 유래한 단편들은 예를 들면 시각개선첨가제 표면에 흡착 또는 부착되어 시각개선첨가제와 결합됨으로써 토너 입자를 형성한다. 그 결과 약 0.1 내지 2.0미크론, 통상적으로는 토너 입자 직경이 0.1 내지 0.5 미크론인 크기를 가지는 입체적으로 안정화되고 비수성인 토너 입자 분산액을 얻는다. 몇몇 구현예에서 필요하다면 혼합후 하나 이상의 대전제어제를 첨가할 수 있다.
몇몇 습식 토너 조성물의 특성은 고품질의 화상을 제공하는데 중요하다. 토너 입경 및 대전 특성은 특히 우수한 해상도를 가진 고품질의 화상을 형성하는데 중요하다. 더우기 토너입자의 신속한 자기 정착은 예를 들면 프린팅 결함(스미어링(smearing) 또는 후면 꼬리끌림(trailing-edge tailing)) 및 고속 프린팅에서 불완전한 전사를 피하기 위하여 몇몇 습식 전자사진프린팅 분야에서 중요한 요건이다. 습식 토너 조성물을 제조하는데 또다른 중요한 고려사항은 최종 수용체상의 화상의 내구성 및 보관성(archivability)에 관한 것이다. 내삭제성, 예를 들면 마모, 특히 관련없는 연필 또는 펜 마킹을 제거하기 위해 흔히 사용되는 천연 또는 합성 고무 지우개에 의한 마모에 의한 톤 화상의 제거 또는 손상에 대한 내성은 습식 토너 입자의 바람직한 특성이다.
최종 화상 수용체상에서 수용체에 대한(또는 다른 톤 표면에 대한) 블로킹에 의한 손상에 대한 내성은 습식 토너 입자의 또다른 바람직한 특성이다. 따라서 습식 토너를 제조하는데 중요한 또하나의 고려 사항은 최종 수용체상에서의 화상의 점착성(tack)이다. 최종 수용체상의 화상은 본질적으로 상당히 넓은 온도 범위에서 점착성이 없는 것이 바람직하다. 화상에 잔여 점착성이 있으면 화상은 다른 표면과 접하게 될 때 울퉁불퉁해지거나 떼어질 수 있다(블로킹으로 언급되기도 함). 이것은 특히 프린팅된 시트가 더미로 놓여질 때 문제가 된다.
상기 문제를 해소시키기 위해 필름 라미네이트 또는 보호층이 화상 표면 위로 놓여질 수 있다. 상기 라미네이트는 흔히 화상의 유효 도트 게인(dot gain)을 증가시켜 색 복합체(color composite)의 연색성(color rendition)을 방해한다. 또한 최종 화상 표면 위에 보호층을 라미네이션하는 것은 보호층을 도포하기 위한 재료의 추가 비용 및 추가의 공정을 초래하고 몇몇 프린팅 분야(예를 들면 일반 용지(plain paper)복사 또는 프린팅)에서는 용인될 수 없다.
습식 톤 화상의 내구성을 개선시키고 라미네이션의 결점을 해소하는 또다른 방법은 미국특허 제6,103,781호에 기재되어 있다. 미국특허 제6,103,781호는 측쇄 또는 주쇄에 결정화가능한 중합체 부분을 가진 오가노졸을 함유한 습식 잉크 조성물을 기재하고 있다. 컬럼 6 제 53-60행에서 저자는 불용성, 열가소성 (공)중합체 코어에 공유결합된 고분자량 (공)중합체 입체 안정화제를 포함하는 액체 캐리어(오가노졸로도 알려져 있슴)에 분산된 양친매성 공중합체인 바인더 수지를 기재하고 있다. 입체 안정화제는 실온(22℃) 이상의 온도에서 독립적으로 및 가역적으로 결정화할 수 있는 결정화가능한 중합체 부분을 포함한다.
상기 특허의 저자에 따르면 분산된 토너 입자의 집합에 대한 우수한 안정성은, 적어도 하나의 중합체 또는 공중합체(안정화제로 표시함)가 액체 캐리어에 의해 가용화되는, 적어도 5,000의 중량평균분자량을 가진 올리고머 또는 중합체 성분을 함유한 양친매성 물질일 경우에 얻어진다. 바꿔말하면 선택된 안정화제는 독립된 분자로 존재하는 경우 액체 캐리어에 약간 한정된 용해도를 가질 것이다. 일반적으로 이러한 요건은 입체 안정화제와 용매간 힐데브란트(Hildebrand) 용해도 파라미터의 절대차가 3.0MPa1/2 이하일 때 충족된다.
미국특허 제 6,103,781호에 기재된 것처럼 상기 불용성 수지 코어의 조성물은 오가노졸이 22℃미만, 더욱 바람직하게는 6℃미만의 유효 유리전이온도(Tg)를 나타내도록 제조되는 것이 바람직하다. 유리전이온도를 조절하면 상기 수지를 주성분으로 함유하는 잉크 조성물이 코어 Tg보다 높은 온도, 바람직하게는 22℃ 이상의 온도에서 수행되는 옵셋 전사 공정을 사용하는 습식 전자사진 프린팅 또는 화상형 성공정에서 신속한 필름형성(신속한 자기정착)을 하도록 한다(컬럼 10,제36-46행).
본 발명은 내삭제성 및 내블로킹성이 뛰어난 습식 전자사진용 토너 조성물, 이의 제조 방법 및 이를 이용한 전자사진 화상형성 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명은 전자사진 분야에 사용하는 습식 토너 조성물에 관한 것이다. 특히 본 발명은 비수성 액체 캐리어에 분산된 바인더 입자를 포함하는 오가노졸 습식 토너 조성물에 관한 것이고, 상기 입자는 하나 이상의 가교결합가능한 양친매성 공중합체를 포함하는 성분들로부터 유도된다. 상기 오가노졸은 하나 이상의 시각개선첨가제 및 다른 필요한 성분들과 같은 추가의 성분들과 용이하게 혼합되며, 혼합공정을 거쳐 습식 토너 조성물을 형성하게 된다.
본 발명의 조성물은 유리전이온도가 높은 또는 낮은 습식 토너 조성물 둘 다에 기인하는 유리한 성능을 제공하는데, 이러한 이점은 종래에는 여러면에서 상호 배타적이었다. 가교결합되기전에 본 발명의 공중합체의 몇몇 구현예는 높은 고형분 함량에서 제조되도록 하고 향상된 자기 정착, 고해상도의 화상형성, 신속한 건조, 더 낮은 정착 온도 등이 가능하도록 하는 더 낮은 Tg 특성을 가질 수 있다. 이러한 성능상 이점은 일반적으로 유리전이온도가 높은 재료를 사용할 때는 용이하게 얻을 수 없는 것이다. 가교결합된 후, 예를 들면 화상 현상후 어떤 시점에서 생성 된 화상은 우수한 내구성, 가교결합을 통한 기재, 다른 화상층, 커버층 등에의 고정(anchoring), 내블로킹성 및 내열성(temperature resistance)을 제공한다. 이러한 성능상 이점은 일반적으로 가교결합가능한 작용기가 없는 더 낮은 Tg의 재료를 사용할 때는 용이하게 얻을 수 없다.
본원에 사용되는 것처럼, "양친매성"이라 함은 공중합체를 제조하는데 사용되고 및/또는 습식토너 입자를 제조하는 과정에서 사용되는, 목적 액체 캐리어에서 구별되는 용해도 및 분산성을 가진 부분이 조합된 공중합체를 의미한다. 바람직하게는 액체 캐리어는 공중합체의 적어도 한 부분(본원에서 S 재료 또는 부분이라 칭함)이 캐리어에 의해 용매화되는 반면, 공중합체의 적어도 하나의 다른 부분(본원에서 D 재료 또는 부분이라 칭함)은 캐리어에서 분산된 상을 구성하도록 선택된다.
바람직한 구현예에서, 양친매성 공중합체는 목적으로 하는 액체 캐리어에서 인-시튜(in-situ) 중합되는데, 이에 의하여 후속의 분쇄 또는 분급의 필요가 있다고 하더라도 거의 없는, 습식 토너 조성물에 사용하기에 적당한 실질적으로 단분산된 공중합체 입자가 생성되기 때문이다. 그런 다음 생성된 오가노졸은 하나 이상의 시각개선첨가제 및 다른 필요 성분과 혼합되어 토너 입자로 변환된다. 이와 같은 혼합을 하는 동안, 시각 개선 첨가제 입자와 양친매성 공중합체를 포함하는 성분들은 자기 집합(self-assemble)하여 복합 토너 입자로 될 것이다. 구체적으로는, 공중합체의 D 부분은 물리적으로 및/또는 화학적으로 시각개선첨가제 표면과 상호작용하는 반면, S 부분은 별도의 계면활성제 또는 분산제를 사용하지 않고서 캐리어에서의 분산을 촉진시킨다.
또한, 여러 가지의 액체 캐리어에 가용성 또는 분산성인 모노머를 사용하여 다양한 실질적으로 비수성의 중합법으로 오가노졸을 형성할 수 있다. 바람직하게는 실질적으로 비수성의 분산중합법을 사용하여 목적으로 하는 자유라디칼 중합법을 사용하여 모노머를 중합한다. 본원에 사용되는 것처럼 "실질적으로 비수성의 중합법"은 많아야 소량의 물을 함유한 유기 용매에서 중합하는 방법을 의미한다.
한가지 태양에서 본 발명은 카우리 부탄올 넘버(Kauri-Butanol number)가 30 미만인 액체 캐리어를 포함하는 습식 전자사진용 토너 조성물을 제공한다. 복수개의 토너 입자가 액체 캐리어에 분산되어 있다. 토너 입자는 하나 이상의 S 재료 부분과 하나 이상의 D 재료 부분을 포함하는 적어도 하나의 양친매성 공중합체를 포함한다. 토너 입자는 상보적으로 가교결합가능한 작용기를 포함하는데, 이는 동일하거나 상이할 수 있으며, 상기 가교결합가능한 작용기의 적어도 일부는 양친매성 공중합체에 통합되어 있다.
또다른 태양에서 본 발명은 카우리 부탄올 넘버가 30 미만인 액체 캐리어를 포함하는 습식 전자사진용 토너 조성물에 관한 것이다. 액체 캐리어에 분산된 제 1의 복수개의 토너 입자는 하나 이상의 S 재료 부분과 하나 이상의 D 재료 부분을 포함하는 제 1 양친매성 공중합체를 포함하고, 상기 제 1 양친매성 공중합체는 제 1 가교결합가능한 작용기를 포함한다. 액체 캐리어에 분산된 제 2의 복수개의 토너 입자는 하나 이상의 S 재료 부분과 하나 이상의 D 재료 부분을 포함하는 제 2 양친매성 공중합체를 포함한다. 제 2 양친매성 공중합체는 제 2 가교결합가능한 작용기를 포함하며, 제 1 및 제 2 가교결합가능한 작용기는 상보적이다.
또다른 태양에서, 본 발명은 습식 전자사진용 토너 조성물을 제조하는 방법에 관한 것이다. 액체 캐리어에 분산된 복수개의 토너 입자를 포함하는 오가노졸이 제공되는데, 상기 토너 입자는 적어도 하나의 양친매성 공중합체를 포함한다. 상기 양친매성 공중합체는 하나 이상의 S 재료 부분과 하나 이상의 D 재료부분을 포함한다. 상기 양친매성 공중합체는 또한 가교결합가능한 작용기를 포함한다. 상기 오가노졸은 분산액을 형성하는데 효과적인 조건하에서 하나 이상의 첨가제와 혼합된다.
또 다른 태양에서 본 발명은 기재 표면에 전자사진법으로 화상을 형성하는 방법에 관한 것이다. 습식 토너 조성물이 제공되며, 상기 습식 토너 조성물은 오가노졸을 포함한다. 상기 오가노졸은 액체 캐리어에 분산된 복수개의 토너 입자를 포함하는데, 상기 토너 입자는 하나 이상의 S 재료 부분과 하나 이상의 D 재료 부분을 포함하는 적어도 하나의 양친매성 공중합체를 포함한다. 상기 양친매성 공중합체는 가교결합가능한 작용기를 포함한다. 토너 입자를 포함하는 화상은 기재 표면에 형성된다. 상기 양친매성 공중합체는 가교결합된다.
이하 기재할 본 발명의 구현예는 완전한 것은 아니며, 하기 상세한 설명에 개시된 세세한 형태에 본 발명을 한정하려는 것은 아니다. 오히려 구현예는 당해 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 다른 자가 본 발명의 원리와 실시 내용을 평가하고 이해하도록 선택되고 기재된 것이다.
본 발명의 오가노졸 습식 토너 조성물은 일반적으로 비수성 액체 캐리어에 분산된 토너 입자를 포함하며, 상기 입자는 양친매성 공중합체를 포함하는 성분들로부터 유도된다. 바람직하게는 오가노졸의 비수성 액체 캐리어는 양친매성 공중합체의 적어도 한 부분(본원에서 S 재료 또는 S 부분이라 칭함)이 캐리어에 의해 용매화되는 반면, 상기 공중합체의 적어도 하나의 다른 부분(본원에서 D 재료 또는 D 부분이라 칭함)이 캐리어내에 분산층을 구성하도록 선택된다. 즉, 본 발명의 바람직한 공중합체는 원하는 액체 캐리어에서 서로 충분히 다른 각각의 용해도를 가진 S 및 D 재료를 포함하기 때문에, S 블록은 캐리어에 의해 용매화되는 경향이 있는 반면, D 블록은 캐리어에 분산되는 경향이 있다. 더욱 바람직하게는, S 블록은 액체 캐리어에 가용성인 반면, D 블록은 불용성이다. 특히 바람직한 구현예에서, D 재료상(相)은 액체 캐리어로부터 분리되어 분산 입자를 형성한다.
한가지 관점에서 중합체 입자는 액체 캐리어에 분산될 때 D 재료가 코어에 있는 경향이 있는 반면, S 재료는 쉘에 있는 경향이 있는 코어/쉘 구조를 가지는 것으로 볼 수 있다. 따라서 S 재료는 분산 조제, 입체 안정화제 또는 그래프트 공중합체 안정화제로 작용하여, 액체 캐리어에서의 공중합체 입자의 분산액을 안정화 시킨다. 결론적으로, S 재료는 본원에서 "그래프트 안정화제(graft stabilizer)"로 언급될 수 있다. 바인더 입자의 코어/쉘 구조는 상기 입자가 건식 토너 입자에 포함될 때 건조되는 경우에도 유지되는 경향이 있다.
재료, 또는 공중합체 부분과 같은 재료의 일부분의 용해도는 힐데브란트(Hildebrand) 용해도 파라미터로 정성적 및 정량적으로 특징지울 수 있 다. 힐데브란트 용해도 파라미터는 (압력)1/2의 단위를 가진, 재료의 부착 에너지 밀도의 제곱근으로 나타내는 용해도 파라미터를 의미하며, (ΔH/RT)1/2/V1/2과 같다. 여기서 ΔH는 재료의 몰 증발 엔탈피를 나타내고, R은 일반 기체 상수(universal gas constant)이고, T는 절대 온도이고, V는 용매의 몰부피이다. 힐데브란트 용해도 파라미터는 용매에 대해서는 Barton, A.F.M., Handbook of Solubility and Other Cohesion Parameters, 2d Ed. CRC Press, Boca Raton, Fla.,(1991)에, 모노머와 대표적인 중합체에 대해서는 Polymer Handbook, 3rd Ed., J. Brandrup & E.H. Immergut, Eds. John Wiley, N.Y., pp 519-557(1989)에, 및 다수의 상업적으로 구입가능한 중합체에 대해서는 Barton, A.F.M., Handbook of Polymer-Liquid Interaction Parameters and Solubility Parameters, CRC Press, Boca Raton, Fla., (1990)에 표로 만들어져 있다.
액체 캐리어에서의 상기 재료 또는 그 일부분의 용해도는 상기 재료 또는 그 일부분과 액체 캐리어간의 힐데브란트 용해도 파라미터에 있어서의 절대적인 차이로부터 예상될 수 있다. 재료 또는 그 일부분은 재료 또는 그 일부분과 액체 캐리어간의 힐데브란트 용해도 파라미터에서의 절대적인 차이가 약 1.5MPa1/2 미만인 경우, 충분히 가용성이거나 적어도 매우 용매화된 상태일 것이다. 한편, 힐데브란트 용해도 파라미터간 절대적인 차이가 약 3.0MPa1/2를 넘는 경우, 재료 또는 그 일부분은 액체 캐리어로부터 상분리되어 분산액을 형성하는 경향을 보인다. 힐데브란 트 용해도 파라미터에서의 절대적 차이가 1.5MPa1/2 내지 3.0MPa1/2인 경우, 재료 또는 그 일부분은 액체 캐리어에 약간 용매화될 수 있거나, 약간 불용성이라고 여겨진다.
따라서, 바람직한 구현예에서 공중합체의 S 부분(들)과 액체 캐리어의 각 힐데브란트 용해도 파라미터간 절대적 차이는 3.0MPa1/2 미만, 바람직하게는 약 2.0MPa1/2 미만, 더욱 바람직하게는 약 1.5 MPa1/2미만이다. 또한 공중합체의 D 부분(들)과 액체 캐리어의 각 힐데브란트 용해도 파라미터간 절대적 차이는 2.3MPa1/2 초과, 바람직하게는 약 2.5MPa1/2 초과, 더욱 바람직하게는 약 3.0 MPa
1/2초과인데, 단 S와 D 부분(들)의 각 힐데브란트 용해도 파라미터간 차이는 적어도 약 0.4MPa1/2, 더욱 바람직하게는 적어도 약 1.0MPa1/2이다. 재료의 힐데브란트 용해도는 온도에 따라 변하므로, 이러한 용해도 파라미터는 25℃와 같은 원하는 기준 온도에서 측정하는 것이 바람직하다.
당해 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자는, 공중합체 또는 그 일부의 힐데브란트 용해도 파라미터가 Barton A.F.M., Handbook of Solubility Parameters and Other Cohesion Parameters, CRC Press, Boca Raton, p12(1990)에 이성분 공중합체에 대해 기재되어 있는 것처럼, 공중합체 또는 그 일부를 구성하는 각 모노머에 대한 각각의 힐데브란트 용해도 파라미터의 부피 분율 중량계수(volume fraction weighing)를 사용하여 계산할 수 있음을 알 것이다. 중합체 재료의 힐데 브란트 용해도 파라미터의 크기는 Barton pp 446-448에 기재되어 있는 것처럼 중합체의 중량평균 분자량에 약간 좌우된다고 알려져 있다. 따라서 원하는 용매화 또는 분산 특성을 얻기 위해서는 주어진 중합체 또는 그 일부분에 대해 바람직한 분자량 범위가 있을 것이다. 마찬가지로 혼합물에 대한 힐데브란트 용해도 파라미터는 혼합물 각 성분에 대한 각각의 힐데브란트 용해도 파라미터에 대한 부피 분율 중량계수를 사용하여 계산할 수 있다.
또한, 폴리머 핸드북(Polymer Handbook, 3rd Ed., J. Brandrup & E.H. Immergut, Eds. John Wiley, New York,(1989))의 VII/525 페이지의 표 2.2에 열거된 스몰 그룹 기여값을 이용하여, 스몰이 개발한 그룹 기여법(group contribution method)으로(Small, P.A., J. Appl. Chem., 3,71(1953)), 얻은 모노머 및 용매의 계산된 용해도 파라미터에 의하여 본 발명을 정의하였다. 본 발명자는 다른 실험 방법으로 얻은 용해도 파라미터 값을 사용하는데서 초래될 수 있는 모호함을 피하기 위해, 본 발명을 정의하는데 상기 방법을 선택하였다. 또한 스몰 그룹 기여값은 증발 엔탈피를 측정하여 얻는 데이터와 일치하는 용해도 파라미터를 얻게 하므로, 힐데브란트 용해도 파라미터를 정의하는 표현과 완전히 일치한다. 중합체의 증발열을 측정하는 것이 실용적이지 않으므로 모노머로 대체하는 것이 합리적이다.
설명을 위해, 표 1은 전자사진용 토너에 사용된 몇가지 통상적인 용매에 대한 힐데브란트 용해도 파라미터와, 오가노졸을 합성하는데 사용되는 몇가지 통상적인 모노머에 대한 힐데브란트 용해도 파라미터 및 유리 전이 온도(고분자량 호모폴리머 기준)를 열거하고 있다.
| 힐데브란트 용해도 파라미터 25℃에서의 용매 값 | ||
| 용매 명칭 | 카우리-부탄올 넘버(ASTM Method D1133-54T(ml)) | 힐데브란트 용해도 파라미터(MPa1/2) |
| NorparTM 15 | 18 | 13.99 |
| NorparTM 13 | 22 | 14.24 |
| NorparTM 12 | 23 | 14.30 |
| IsoparTM V | 25 | 14.42 |
| IsoparTM G | 28 | 14.60 |
| ExxsolTM D80 | 28 | 14.60 |
| 출처: 폴리머 핸드북(Polymer Handbook, 3rd Ed., J. Brandrup E.H. Immergut, Eds. John Wiley, NY, p. VII/522(1989)의 31번 방정식으로부터 계산 | ||
| 힐데브란트 용해도 파라미터 25℃에서의 모노머 값 | ||
| 모노머 명칭 | 힐데브란트 용해도 파라미터(MPa1/2) | 유리전이 온도(℃)* |
| 3,3,5-트리메틸 시클로헥실 메타크릴레이트 | 16.73 | 125 |
| 이소보닐 메타크릴레이트 | 16.90 | 110 |
| 이소보닐 아크릴레이트 | 16.01 | 94 |
| n-베헤닐 아크릴레이트 | 16.74 | <-55(58m.p.)** |
| n-옥타데실 메타크릴레이트 | 16.77 | -100(45m.p.)** |
| n-옥타데실 아크릴레이트 | 16.82 | -55 |
| 라우릴 메타크릴레이트 | 16.84 | -65 |
| 라우릴 아크릴레이트 | 16.95 | -30 |
| 2-에틸헥실 메타크릴레이트 | 16.97 | -10 |
| 2-에틸헥실 아크릴레이트 | 17.03 | -55 |
| n-헥실 메타크릴레이트 | 17.13 | -5 |
| t-부틸 메타크릴레이트 | 17.16 | 107 |
| n-부틸 메타크릴레이트 | 17.22 | 20 |
| n-헥실 아크릴레이트 | 17.30 | -60 |
| n-부틸 아크릴레이트 | 17.45 | -55 |
| 에틸 메타크릴레이트 | 17.62 | 65 |
| 에틸 아크릴레이트 | 18.04 | -24 |
| 메틸 메타크릴레이트 | 18.17 | 105 |
| 스티렌 | 18.05 | 100 |
| 스몰 그룹 기여법(Small, P.A., Journal of Applied Chemistry 3 p.71(1953)으로 계산함. 폴리머 핸드북(Polymer Handbook, 3rd Ed., J. Brandrup E.H. Immergut, Eds. John Wiley, NY, p. VII/525(1989)의 그룹 기여값을 사용함. * 폴리머 핸드북(Polymer Handbook, 3rd Ed., J. Brandrup E.H. Immergut, Eds. John Wiley, NY, p. VII/209-277(1989). 열거된 Tg는 각 모노머의 호모폴리머에 대한 것이다. ** m.p.는 선택된 중합가능하고 결정화가능한 화합물의 융점이다. | ||
액체 캐리어는 실질적으로 비수성 용매 또는 용매 혼합물이다. 즉 액체 캐리어의 단지 소량 성분(일반적으로 25중량% 미만)만이 물을 포함한다. 바람직하게는 실질적으로 비수성인 액체 캐리어는 20중량% 미만, 더욱 바람직하게는 10중량% 미만, 더욱 더 바람직하게는 3중량% 미만, 가장 바람직하게는 1중량% 미만의 물을 포함한다.
실질적으로 비수성인 캐리어 액체는 당해 기술 분야에서 공지되어 있는 다양한 재료, 또는 이들의 조합으로부터 선택될 수 있지만, 30ml 미만의 카우리-부탄올 넘버(Kauri-buthanol number)를 가지는 것이 바람직하다. 상기 액체는 바람직하게는 친유성이고, 다양한 조건하에서 화학적으로 안정하고, 전기절연성이다. 전기절연성은 유전 상수가 낮고 전기적 비저항이 큰 액체 캐리어를 의미한다. 바람직하게는 액체 캐리어는 유전상수가 5 미만; 더욱 바람직하게는 3 미만이다. 캐리어 액체의 전기적 비저항은 통상적으로 109 Ohm-cm보다 크고; 더욱 바람직하게는 1010
Ohm-cm보다 크다. 또한, 액체 캐리어는 토너 입자를 배합하는데 사용되는 성분들에 대해 대부분의 경우에 화학적으로 비활성이다.
적당한 액체 캐리어의 예로는 지방족 탄화수소류(n-펜탄, 헥산, 헵탄 등), 환상지방족 탄화수소류(시클로펜탄, 시클로헥산 등), 방향족 탄화수소류(벤젠, 톨루엔, 크실렌 등), 할로겐화 탄화수소 용매(염소화 알칸, 플루오르화 알칸, 클로로플루오로카본 등), 실리콘 오일 및 이들 용매의 혼합물을 포함한다. 바람직한 캐리어 액체는 IsoparTM G, IsoparTM H, IsoparTM K, IsoparTM
L, IsoparTM M 및 IsoparTM
V(미국 뉴저지 소재, Exxon Corporation으로부터 구입 가능)와 같은 분지형 파라핀계 용매 혼합물을 포함하고, 가장 바람직한 캐리어는 NorparTM 12, NorparTM 13 및 NorparTM 15(미국 뉴저지 소재, Exxon Corporation으로부터 구입)와 같은 지방족 탄화수소 용매 화합물이다.
본원에서 사용되는 것처럼, "공중합체"란 용어는 올리고머 재료 및 중합체 재료 모두를 포함하고, 2 이상의 모노머를 포함하는 공중합체를 포함한다. 본원에서 사용되는 것처럼 "모노머"란 용어는 하나 이상의 중합가능한 기를 가진, 비교적 저분자량의 재료(즉 일반적으로 약 500 Dalton 미만의 분자량을 가짐)를 의미한다. "올리고머"라 함은 2 이상의 모노머를 포함하고, 일반적으로 약 500 내지 약 10,000 Dalton의 분자량을 가진 비교적 중간 크기의 분자를 의미한다. "중합체"라 함은 2이상의 모노머, 올리고머 및/또는 중합체 성분으로 된 하위 구조를 포함하고, 일반적으로 약 10,000 Dalton보다 큰 분자량을 가진 비교적 큰 재료를 의미한다.
"매크로머(macromer)" 또는 "매크로모노머(macromonomer)"란 용어는 말단에 중합가능한 부분을 가진 올리고머 또는 중합체를 의미한다. "중합가능하고 결정화가능한 화합물(Polymerizable crystallizable compound)" 또는 "PCC"는 적어도 공중합체의 일부가 재생가능하고 잘 한정된 온도 범위에서 가역적으로 결정화될 수 있는 공중합체(예를 들면 공중합체가 시차 주사 열량계로 측정하였을 때 융점 및 빙점을 나타냄)를 제조하기 위해 중합될 수 있는 화합물을 의미한다. PCC는 중합 을 행하여 공중합체를 형성할 수 있는 모노머, 기능성 올리고머, 기능성 프리폴리머, 매크로머 또는 기타 화합물을 포함한다. 본 명세서에서 사용된 "분자량"이란 용어는 달리 표현하지 않으면 중량평균 분자량을 의미한다.
본 발명의 양친매성 공중합체의 중량평균 분자량은 넓은 범위에 걸쳐 변화하고 화상형성 성능에 영향을 줄 수도 있다. 공중합체의 다분산성도 생성된 습식 토너 재료의 화상 형성 성능 및 전사 성능에 영향을 미칠 수도 있다. 양친매성 공중합체의 분자량을 측정하기 어려우므로, 대신에 분산된 공중합체(오가노졸)의 입자 크기를 생성된 습식 토너 재료의 화상형성 성능 및 전사 성능에 연관시킬 수 있다. 일반적으로 레이저 회절 입자크기 측정법으로 측정된 분산 그래프트 공중합체 입자의 부피 평균 입경(Dv)은 0.1-100 미크론, 더욱 바람직하게는 0.5-50 미크론, 더욱 더 바람직하게는 1.0-20 미크론, 가장 바람직하게는 2-10 미크론이어야 한다.
또한, 그래프트 공중합체의 용매화성 또는 가용성 S 부분의 분자량과, 생성된 토너의 화상 형성 및 전사 성능간에는 상호관계가 존재한다. 일반적으로, 공중합체의 S 부분은 중량 평균 분자량이 1000 내지 약 1,000,000 Dalton, 바람직하게는 5000 내지 400,000 Dalton, 더욱 바람직하게는 50,000 내지 300,000Dalton이다. 또한, 공중합체의 S 부분의 다분산성(수평균 분자량에 대한 중량평균 분자량의 비)은 15 미만, 더욱 바람직하게는 5 미만, 가장 바람직하게는 2.5 미만으로 유지되는 것이 바람직하다. 본 발명의 뚜렷한 이점은, 이러한 S 부분의 다분산성이 낮은 공중합체 입자는 본원에 기재된 실시 방법에 따라, 특히 공중합체가 액체 캐리어에서 인-시튜 형성되는 구현예에서 용이하게 만들어진다는 것이다.
공중합체에서 S와 D 부분의 상대적인 양은 이들 부분의 용매화 특성 및 분산성에 영향을 줄 수 있다. 예를 들면, S 부분이 너무 적으면, 공중합체는 안정화 효과가 너무 작아서 필요로 하는 만큼 부착에 대해 오가노졸을 입체적으로 안정화시킬 수 없다. D 부분이 너무 적으면, 이 소량의 D 재료가 액체 캐리어에 지나치게 가용성이어서, 액체 캐리어에서 뚜렷하고 분산된 상(phase)을 형성하기 위한 구동력이 불충분할 수 있다. 용매화되고 분산된 상의 존재는 입자의 성분들이 분리된 입자들끼리 특히 균일하게 인-시튜 자기-집합되도록 한다. 이러한 관계에 균형을 맞추기 위해, D 재료 대 S 재료의 바람직한 중량비는 1:20 내지 20:1, 바람직하게는 1:1 내지 15:1, 더욱 바람직하게는 2:1 내지 10:1, 가장 바람직하게는 4:1 내지 8:1이다.
유리 전이온도(Tg)란 (공)중합체 또는 그 일부분이 경질의 유리질 재료로부터 고무상 또는 점성 재료로 변화하는 온도를 뜻하며, (공)중합체가 가열됨에 따라 자유 부피가 극적으로 증가하는 것에 해당한다. Tg는 고분자량의 호모폴리머에 대한 기지의 Tg 값(예를 들면 표 1 참조)과, 이하의 폭스 방정식(Fox equation)을 이용하여 (공)중합체 또는 그 일부분에 대하여 계산할 수 있다:
상기 식에서 각 wn은 모노머 "n"의 중량 분율이고, 각 Tgn은 Wicks, A.W., F.N. Jones & S.P. Pappas, Organic Coatings 1, John Wiley, NY, pp 54-55(1992)에 기재된 것처럼 모노머 "n"의 고분자량 호모폴리머의 절대 유리전이 온도(˚K)이다.
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본 발명의 실시에 있어서, 공중합체의 Tg는 전체적으로 예를 들면 시차 주사 열량계를 사용하여 실험적으로 측정할 수 있지만, 공중합체의 D 또는 S 부분의 Tg 값은 상기한 폭스 방정식을 이용하여 측정하였다. S와 D 부분의 유리 전이 온도(Tg)는 넓은 범위에 걸쳐 변화할 수 있고, 얻어진 습식 토너 입자의 생산성 및/또는 성능을 향상시키기 위해 독립적으로 선택될 수 있다. S 및 D 부분의 Tg는 상기 부분을 구성하는 모노머의 타입에 크게 좌우될 것이다. 따라서, 더 높은 Tg를 가진 공중합체 재료를 제공하기 위하여, 모노머가 사용될 공중합체 부분(D 또는 S)의 타입에 대해 적당한 용해도 특성을 가진 하나 이상의 더 높은 Tg의 모노머를 선택할 수 있다. 반대로, 더 낮은 Tg를 가진 공중합체 재료를 제공하기 위하여, 모노머가 사용될 공중합체 부분의 타입에 대해 적당한 용해도 특성을 가진 하나 이상의 더 낮은 Tg의 모노머를 선택할 수 있다.
D 부분이 공중합체의 주요 부분을 이루는 공중합체에 있어서, D 부분의 Tg는 전체적으로 공중합체의 Tg를 지배할 것이다. 습식 토너에 유용한 공중합체로는 D 부분의 Tg가 -25 - 105 ℃, 더욱 바람직하게는 0-85℃, 가장 바람직하게는 8-65℃이다. 낮은 Tg의 D 재료를 사용하면 건조성능, 습식 토너중의 높은 고형분 함량, 자기 정착, 감소된 정착 온도 등과 같은 성능을 향상시키는데 바람직하다. 그러나 이러한 장점에도 불구하고 너무 낮은 Tg를 가진 D 재료를 사용하면 내블로킹성, 내삭제성 등에 관해서는 성능에 문제를 일으킬 수 있다. 본 발명 특유의 이점은 낮은 Tg, 예를 들면 약 50℃ 미만, 더욱 바람직하게는 약 30℃ 미만의 Tg를 가진 가교결합가능한 D 재료를 습식 토너에 사용할 수 있다는 점이다. 낮은 Tg의 가교결합가능한 D 재료를 포함하는 본 발명에 따른 습식 토너를 사용하여 화상이 형성되면, 상기 D 재료가 가교결합되어 내구성, 내열성이 있고, 내블로킹성이 큰 화상이 만들어질 수 있다. 실제적인 결과로 본 발명은 동일한 습식 토너 조성물로부터 낮은 Tg와 높은 Tg의 D 재료의 이점을 모두 달성할 수 있게 된다.
S 재료는 가장 통상적으로 비교적 낮은 Tg특성을 가지는데, S 재료를 형성하는데 유용한 다수의 모노머가 낮은 Tg의 모노머이기 때문이다. 그러나 S 부분 재료에 있어서 블로킹은 바람직한 공중합체가 대부분의 D 부분 재료를 포함하는 한 중요한 쟁점이 되지 않는다. 따라서 D 부분 재료의 Tg가 전체적으로 공중합체의 유효 Tg를 지배할 것이다.
또한 본 발명의 S 재료는 가교결합가능하므로, 미경화 S 재료와 관련된 블로 킹 문제는 가교결합에 의해 용이하게 경감된다. 그러나 S 부분의 Tg가 너무 낮으면 입자들은 응집할 수도 있다. 한편, Tg가 너무 높으면, 필요한 정착 온도가 너무 높을 수 있다. 이러한 관계의 균형을 맞추기 위해, S 부분 재료는 적어도 -65℃ 내지 약 60℃, 바람직하게는 적어도 -10℃ 내지 약 50℃, 더욱 바람직하게는 적어도 0℃ 내지 약 50℃의 Tg를 가지도록 설계되는 것이 바람직하다.
습식 토너의 자기 정착 특성에 대한 바람직한 성능 기준은 화상형성 공정의 특성에 크게 좌우될 것이다. 예를 들면 부착성 필름을 형성하기 위한 토너의 신속한 자기 정착은, 화상이 계속해서 최종 수용체에 전사되지 않거나, 일시적인 화상 수용체(예를 들면 감광체)에 필름으로 형성된 토너를 요구하지 않는 수단(예를 들면 정전기적 전사)에 의해 전사가 행해지면, 전자사진 화상형성 공정에서 요구되지 않거나 심지어는 바람직하지 않을 수도 있다. 마찬가지로 최종 토너 수용체 재료로 작용하는 유전 수용체상에 직접 잠상 정전 화상을 만드는데 스타일러스가 사용되는 다색(또는 다수의 통과횟수)의 정전 프린팅에서, 신속하게 자기정착되는 토너 필름은 스타일러스하에서 통과할 때 바람직하지 못하게 제거될 수도 있다. 이러한 헤드 긁힘(head scraping)은 오가노졸의 유효 유리전이온도를 조작함으로써 감소되거나 제거될 수 있다. 습식 전자사진(정전기적) 토너, 특히 직접 정전 프린팅 공정에 사용하기위해 개발된 습식 토너에 있어서, 오가노졸의 D 부분은 바람직하게는 충분히 높은 Tg를 가져서 생성된 공중합체가 약 15℃ 내지 약 55℃의 유효 유리전이온도를 나타내도록 한다.
다양한 하나 이상의 상이한 모노머, 올리고머 및/또는 중합체 재료가 독립적으로 S 및 D 부분에 필요한 대로 포함될 수 있다. 적당한 재료의 대표적인 예로는 자유 라디칼 중합된 재료(몇몇 구현예에서는 비닐 공중합체 또는 (메타)아크릴 공중합체로도 언급됨), 폴리우레탄, 폴리에스테르, 에폭시류, 폴리아미드, 폴리이미드, 폴리실록산, 플루오로 중합체, 폴리술폰, 이들의 조합 등을 포함한다. 바람직한 S 및 D 부분은 자유 라디칼 중합가능한 재료로부터 유도된다. 본 발명의 실시에서 "자유 라디칼 중합가능한" 재료라 함은 자유 라디칼 메카니즘을 통해 중합 반응에 참여하는 모노머, 올리고머 또는 중합체 백본(backbone)(실정에 따라)에 직접 또는 간접적으로 결합된 측쇄 작용기를 가진 모노머, 올리고머 및/또는 중합체를 의미한다. 이러한 작용기의 대표적인 예는 (메타)아크릴레이트기, 올레핀계 탄소-탄소 이중결합, 알릴옥시기, 알파-메틸 스티렌기, (메타)아크릴아미드기, 시아네이트 에스테르기, 비닐에테르기, 이들의 조합 등을 포함한다. "(메타)아크릴"이라 함은 본원에 기재된 것처럼 아크릴 및/또는 메타크릴을 포함한다.
자유 라디칼 중합가능한 모노머, 올리고머 및/또는 중합체는, 여러 상이한 타입이 상업적으로 입수될 수 있고, 하나 이상의 원하는 성능을 제공하도록 하는 여러가지 원하는 특성을 가진 것을 선택할 수 있으므로, 공중합체를 형성하는데 유리하게 사용된다. 본 발명을 실시하는데 적당한 자유 라디칼 중합가능한 모노머, 올리고머 및/또는 중합체는 하나 이상의 자유 라디칼 중합가능한 부분을 포함할 수 있다.
단일 작용기의 자유 라디칼 중합가능한 모노머의 대표적인 예는 스티렌, 알 파-메틸스티렌, 치환된 스티렌, 비닐 에스테르, 비닐 에테르, N-비닐-2-피롤리돈, (메타)아크릴아미드, 비닐 나프탈렌, 알킬화 비닐 나프탈렌, 알콕시 비닐 나프탈렌, N-치환 (메타)아크릴아미드, 옥틸 (메타)아크릴레이트, 노닐페놀 에톡실레이트 (메타)아크릴레이트, N-비닐 피롤리돈, 이소노닐 (메타)아크릴레이트, 이소보닐 (메타)아크릴레이트, 2-(2-에톡시에톡시)에틸 (메타)아크릴레이트, 2-에틸헥실 (메타)아크릴레이트, 베타-카르복시에틸 (메타)아크릴레이트, 이소부틸 (메타)아크릴레이트, 시클로지방족 에폭사이드, 알파-에폭사이드, 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트, (메타)아크릴로니트릴, 말레산 무수물, 이타콘산, 이소데실 (메타)아크릴레이트, 라우릴(도데실) (메타)아크릴레이트, 스테아릴(옥타데실) (메타)아크릴레이트, 베헤닐 (메타)아크릴레이트, n-부틸 (메타)아크릴레이트, 메틸 (메타)아크릴레이트, 에틸 (메타)아크릴레이트, 헥실 (메타)아크릴레이트, (메타)아크릴산, N-비닐카프로락탐, 스테아릴 (메타)아크릴레이트, 히드록시 작용기를 가진 카프로락톤 에스테르 (메타)아크릴레이트, 이소옥틸 (메타)아크릴레이트, 히드록시에틸 (메타)아크릴레이트, 히드록시메틸 (메타)아크릴레이트, 히드록시프로필(메타)아크릴레이트, 히드록시이소프로필(메타)아크릴레이트, 히드록시부틸 (메타)아크릴레이트, 히드록시이소부틸 (메타)아크릴레이트, 테트라히드로푸르푸릴 (메타)아크릴레이트, 이소보닐 (메타)아크릴레이트, 글리시딜 (메타)아크릴레이트 비닐 아세테이트 및 이들의 조합 등을 포함한다.
본 발명의 바람직한 공중합체는 자유 라디칼 중합가능한 조성물 및/또는 생성된 경화 조성물이 하나 이상의 바람직한 성능 기준을 만족하도록 하는 하나 이상 의 광경화가능한 모노머 또는 이들의 조합물과 배합될 수 있다. 유리하게는 예를 들면 본 발명의 양친매성 공중합체는, 생성된 공중합체에 가교결합가능한 작용기를 제공하는 모노머, 올리고머 및/또는 중합체 성분을 포함한다. 가교결합가능한 작용기는 공중합체가 열경화, 예를 들면 화학적으로 가교결합가능하도록 한다.
가교결합가능한(열경화성) 양친매성 공중합체를 포함하는 습식 토너 조성물은 가교결합이 내부적으로 및/또는 외부적으로 될 수 있도록 설계될 수 있다. 본원에 사용되는 것처럼, 내부적으로 가교결합가능하다는 것은 양친매성 공중합체에 통합된 가교결합가능한 작용기가 개시제, 촉매 및/또는 가교결합제의 존재 또는 비존재하에 동일한 공중합체상의 상보적이고 가교결합가능한 작용기와 화학적으로 가교결합한다는 것을 의미한다. 외부적으로 가교결합가능하다는 것은 특정한 양친매성 공중합체상의 가교결합가능한 작용기가 상이한 중합체 재료상의 상보적인 가교결합가능한 작용기와 화학적으로 가교결합하는 것을 의미하는데, 이 때 상이한 중합체 재료는 다른 양친매성 공중합 재료이거나 아닐 수 있으며, 하나 이상의 개시제, 촉매, 및/또는 가교결합제가 존재하거나 존재하지 않을 수 있다. 이러한 작용기를 가진 공중합체가 습식 토너에 통합되어 화상을 형성하는데 사용되는 경우, 가교결합은 동일한 화상층내에 및/또는 2이상의 화상층 사이에 용이하게 형성된다. 예를 들면 도3(이하 기재함)은 층간 가교결합이 변조방지 화상을 제공하는데 사용되는 본발명의 한 구현예를 모식적으로 도시하고 있다.
가교결합가능한 작용기는 가교결합시에 상보적이고 화학적으로 반응하는 부분과 화학적으로 반응할 수 있는 1종 이상의 측쇄 화학적 반응기를 포함할 수 있 다. 상보적이고 화학적으로 반응하는 부분은 부분의 특성 및 가교결합 결과로 형성되는 목적으로 하는 화학적 연결에 따라 동일 또는 상이할 수 있다. 상보적인 부분은 화학적으로 반응하여(선택적으로 개시제, 촉매, 가교결합제 등의 존재하에) 우레탄 연결, 에스테르 연결, 우레아 연결, 아미드 연결, 에폭시 연결, 술폰 연결, 실록산 연결, 이미드 연결, 올레핀 연결, 아크릴 연결, 이들의 조합 등과 같은 다양한 중합체내 및/또는 중합체간 연결을 형성한다. 특히 바람직한 상보적 화학적 반응성 부분은 가교결합하여 우레탄 연결을 형성하는 OH 및 NCO 부분, 가교결합하여 에스테르 연결을 형성하는 OH 및 카르복실산 또는 산염 부분, 가교결합하여 아미드 연결을 형성하는 아민(2차 또는 1차)및 NCO 부분, 가교결합하여 아미드 연결을 형성하는 아민 및 카르복실산 또는 염 부분, 함께 반응하는 에폭시 및 아민(2차 또는 1차)부분, 이들의 조합 등을 포함한다.
특히 바람직한 상보적 화학적 반응성 부분은 특정한 가교결합 경우에만 원하는 정도 및 속도로 화학적으로 가교결합하는 것들이다. 이러한 경우는 조성물을 특정한 문턱 온도(예를 들면 50℃ 초과, 바람직하게는 80℃ 초과, 더욱 바람직하게는 100℃ 초과)로 가열하고, 전자 빔 조사에 노광시키고, 자외선광에 노광시키고, 마이크로파 에너지에 노광시키고, 적외선 에너지에 노광시키는 것 등을 포함한다. 상보적 화학적 반응성 부분은 바람직하게는 에폭시 부분과 아민 부분을 포함하는데, 이들 부분은 실온에서 서로 비교적 느리게 반응하지만 문턱 온도보다 높은 온도로 가열될 때는 매우 빠르게 반응하기 때문이다. 이것은 이러한 조성물이 합당한 저장성(shelf life)과 조절가능한 가교결합 특성을 갖도록 한다.
가교결합가능한 작용기는 본 발명의 조성물에 포함된 하나 이상의 양친매성 공중합체의 S 및/또는 D 재료에 통합될 수 있다. 바람직하게는 가교결합가능한 작용기는 조성물에 포함된 적어도 하나의 양친매성 공중합체의 적어도 D 재료에 포함된다.
유리하게는 이것은 D 재료가 비교적 낮은 Tg 성분으로 배합될 수 있도록 한다. 낮은 Tg 특성을 가진 D 재료는 몇몇 구현예에서는 바람직한데, 이러한 재료는 우수한 건조 특성을 가지고 더 높은 고형분 함량을 가지도록 제조될 수 있으며, 우수한 화상 형성 해상도를 위해 점착성이고 자기 정착하며 더 높은 Tg를 가진 대응물(counterpart)보다 더 낮은 온도에서 정착될 수 있기 때문이다. 또한 이러한 재료는 가교결합될 때 매우 견고하고 내열성 및 내블로킹성을 가지게 된다. S 재료의 바람직한 구현예는 어느 경우에나 낮은 Tg 특성을 가지는 경향이 있지만, S 재료를 경화시키는 능력은 더 내구성이 있고 내온도성 및 내블로킹성이 있는 화상을 형성하는데 또한 유리하다.
이러한 작용기는 경우에 따라 원하는 공중합가능한 작용기 외에 원하는 가교결합가능한 작용기를 함유한 공중합가능한 모노머, 올리고머 및/또는 중합체를 사용하여 용이하게 S 및/또는 D 재료에 포함된다. 예를 들면 자유 라디칼 중합된 S 재료 또는 D 재료에 용이하게 통합되는 에폭시 작용기를 가진 공중합가능한 모노머는 글리시딜 (메타)아크릴레이트, 에폭시-9-디엔, 에폭시-7-옥텐, 에폭시-6-헥센, 이들의 조합 등을 포함한다.
공중합체의 측쇄 히드록실기는 가교결합을 촉진할 뿐 아니라 분산 및 조성물에서 안료와의 상호작용을 촉진하는데 사용될 수 있다. 히드록시기는 1차, 2차 또는 3차 일 수 있지만 1차 및 2차 히드록실기가 바람직하다. 자유 라디칼 중합된 S 또는 D 재료에 용이하게 통합되는 히드록실 작용기를 가진 공중합가능한 모노머는 α,β-불포화 카르복실산과 디올의 에스테르, 예를 들면 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 또는 2-히드록시프로필(메타)아크릴레이트; 1,3-디히드록시프로필-2-(메타)아크릴레이트; 2,3-디히드록시프로필-1-(메타)아크릴레이트; α,β-불포화 카르복실산과 카프로락톤의 부가체; 2-히드록시에틸 비닐 에테르와 같은 알칸올 비닐 에테르; 알릴 알코올; p-메틸올 스티렌; 이들의 조합 등을 들 수 있다.
자유 라디칼 중합된 S 또는 D 재료에 용이하게 통합되는 아민 작용기를 가진 공중합가능한 모노머는 DMAEMA(2-디메틸아미노에틸 메타크릴레이트), DAAM(디아세톤 아크릴아미드), 이들의 조합 등을 포함한다.
자유 라디칼 중합된 S 또는 D 재료에 용이하게 통합되는 이소시아네이트 작용기를 가진 공중합가능한 모노머는 TMI(디메틸-m-이소프레닐 벤질 이소시아네이트; 오르소 및 파라 형태도 사용가능), IEM(이소시아네이토에틸 메타크릴레이트), 이들의 조합 등을 포함한다.
자유 라디칼 중합된 S 또는 D 재료에 용이하게 통합되는 카르복실산 또는 염 작용기를 가진 공중합가능한 모노머는 메틸렌 숙신산, MAA(메타크릴산), 아크릴산, 2-카르복시에틸, 이들의 조합 등을 포함한다.
양친매성 공중합체의 S 및/또는 D 재료에 통합되는 가교결합가능한 작용기의 양은 넓은 범위에 걸쳐 달라질 수 있다. 그러나 S 재료에 너무 많은 양이 사용되면 원하는 정도의 S 재료의 용해도가 불리한 영향을 받을 수 있다. D 재료에 너무 많은 양이 사용되면, 생성된 입자는 응집하는 경향이 너무 커질 수 있다. 이와 같은 점에 균형을 맞추기 위해 경우에 따라 S 및/또는 D 재료 각각은 필요한 가교결합가능한 작용기를 가진 0.5 내지 10, 바람직하게는 약 3 내지 약 6중량%의 모노머, 올리고머 및/또는 중합체를 포함하는 것이 바람직하다.
본 발명의 가교결합가능한 양친매성 공중합체의 대표적인 구현예는 도 1a 내지 도 1d에 모식적으로 도시되어 있다. 도 1a에서 양친매성 공중합체(10)는 S 재료(S1)와 D 재료 (D1)를 포함한다. 가교결합가능한 부분(R1)은 S
1 재료의 측쇄이다. 도 1b에서 양친매성 공중합체(20)는 S 재료(S1)와 D 재료(D1)를 포함한다. 가교결합가능한 부분(R1)은 D1 재료의 측쇄이다. 도 1c에서 양친매성 공중합체(30)는 S 재료(S1)와 D 재료(D1)를 포함한다. 가교결합가능한 부분(R1)은 S
1 및 D1 재료의 측쇄이다. 도 1d에서 양친매성 공중합체(40)는 S 재료(S1)와 D 재료(D1)를 포함한다. 제 1 가교결합가능한 부분(R1)은 S1 재료의 측쇄이고 제 2 가교결합가능한 부분(R2)은 D1 재료의 측쇄이다.
본 발명의 바람직한 구현예는 필요한 성능을 가진 목적물을 더 용이하게 얻기 위해 2 이상의 상이한 가교결합가능한 양친매성 공중합체의 조합물을 포함할 수 있다. 예를 들면, 도 2a는 용매(56)에 분산된 제 1 양친매성 공중합체(52)와 제 2 양친매성 공중합체(54)를 포함하는, 용기(51)내에 있는 오가노졸(50)을 도시하고 있다. 제 1 양친매성 공중합체(52)는 용매화된 재료(S1)와 분산된 재료(D1)를 함유한다. 제 1 가교결합가능한 부분(R1)은 D1 재료의 측쇄이다. 제 2 양친매성 공중합체(54)는 용매화된 재료(S2)와 분산된 재료(D2)를 함유한다. 제 2 가교결합가능한 부분(R2)은 D1 재료의 측쇄이다. R1 및 R2 부분은 상보적이어서 이들은 선택적으로 하나 이상의 개시제, 촉매, 가교결합제 등의 도움으로 화학적으로 함께 가교결합할 것이다. R1과 R2는 분산된 재료 D1과 D2 각각의 측쇄이므로, 상보적인 반응성 부분은 본질적으로 서로 분리되어 있어서, 있다고 하더라도 서로 비교적 천천히 반응할 것이다. 그러나 건조가 D1 및 D2 재료의 Tg보다 높은 온도에서 일어나면, 이들은 합체되어 필름으로 되며, R1 및 R2기가 가교결합된다. 압력을 사용하여 R
1 및 R2 부분이 충분히 근접하여 가교결합이 잘 일어나도록 해줄 수 있다. 압력과 열의 조합도 사용될 수 있다. 오가노졸(50)은, R1과 R2부분이 그렇지 않으면 상호 작용이 초래되거나 상호작용되므로 가열되고 가압될 때까지는 분리되어 있기 때문에, 주위 조건하에서조차도 상호 반응하는 경우 유리하게 사용된다. 물론 오가노졸(50)은 본원에 기재된 것처럼 양친매성 공중합체(52 및 54) 외에도 다른 성분들을 포함할 수도 있지만, 이들은 오가노졸(50)에 사용되는 공중합체 조합물의 상보적 특성을 더 명확히 설명하기 위해 생략하였다.
도 2b는 용매(66)중에 제 1 및 제 2 양친매성 공중합체(62 및 64)를 포함하는 용기(61)내에 있는 오가노졸(60)의 또다른 구현예를 모식적으로 도시한다. 제 1 양친매성 공중합체(62)는 용매화된 재료(S1)와 분산된 재료(D1)를 함유한다. 제 1 가교결합가능한 부분(R1)은 D1 및 S1 재료의 측쇄이다. 제 2 양친매성 공중합체(64)는 용매화된 재료(S2)와 분산된 재료(D2)를 함유한다. 제 2 가교결합가능한 부분(R2)은 D2와 S2 재료의 측쇄이다. R1과 R
2 부분은 상보적이어서, 이들은 선택적으로 하나 이상의 개시제, 촉매, 가교결합제 등의 도움으로 화학적으로 서로 가교결합할 것이다. 도 2b의 배합 계획은 R1과 R2가 실온 또는 액체 조성물이 화상을 형성하기 위해 사용되기전에 저장되는 다른 조건에서 매우 천천히 반응하지만, 더욱 바람직하게는 실질적으로 비반응성이지만, 그런 다음 열, 조사 및/또는 다른 경화 에너지를 받으면 용이하게 가교결합하는 경우에 유리하게 사용된다. 예를 들면 R1이 에폭시부분을 포함하고 R2가 아민 부분을 포함하는 경우, 제 1 및 제 2 양친매성 공중합체(62 및 64)는 저장시에 실질적으로 비반응성이고, 오가노졸(60)이 우수한 저장성을 가지도록 한다. 그러나 오가노졸(60)이 약 100℃를 넘는 온도로 가열되는 경우, 에폭시와 아민은 신속하게 가교결합할 것이다. 이것은 내구성 및 내열성을 위해 화상 형성후에 용이하게 경화되는 화상을 형성하기 위하여 낮은 Tg의 S 및 D 재료를 사용하는데 매우 적당한 구현예이다.
본 발명의 양친매성 공중합체의 측쇄인 반응성 작용기의 가교결합은 습식토 너를 배합, 저장, 화상을 형성하기 위해 토너를 사용하는 과정 등의 동안에 임의의 원하는 시점에서 실질적으로 전체로 또는 부분적으로 달성될 수 있다. 바람직하게는 가교결합은 화상 현상에 후속하여 일어나고, 예를 들면 전사 벨트, 기타 중간 기재, 최종 기재 등 위에서 일어날 수 있다.
가교결합가능한 작용기를 가진 양친매성 공중합체를 제공하는 모노머, 올리고머 및/또는 중합체 성분을 사용하는 외에도 다른 종류의 성분들도 원하는 성능을 제공하는데 사용될 수 있다. 예를 들면 경도 및 내마모성을 촉진시키기 위하여, 포뮬레이터는 중합되는 재료 또는 그 일부가, 유리전이온도가 높은 성분이 없는 것을 제외하고는 동일한 재료와 비교하였을 때 더 높은 유리 전이온도를 가지도록 하는 하나 이상의 자유라디칼 중합가능한 모노머(이하 "유리전이온도가 높은 성분"이라 함)를 포함할 수도 있다. 유리전이온도가 높은 성분의 바람직한 모노머 성분은 그것의 호모폴리머가 경화상태에서 적어도 약 50℃, 바람직하게는 적어도 약 60℃, 더욱 바람직하게는 적어도 약 75℃의 Tg를 가지는 모노머를 일반적으로 포함한다.
유리전이온도가 높은 성분에 통합시키기에 적당한 비교적 높은 유리전이온도를 가지는 경향이 있는 광경화성 모노머의 예시적인 계열은 일반적으로 적어도 하나의 광경화성 (메타)아크릴레이트 부분과 적어도 하나의 비방향족, 지환족 및/또는 비방향족 헤테로시클릭 부분을 포함한다. 이소보닐(메타)아크릴레이트는 이러한 모노머의 구체적인 예이다. 예를 들면 이소보닐 아크릴레이트로부터 형성된 경화 호모폴리머 필름은 Tg가 110℃이다. 모노머 그 자체는 분자량이 222g/mole이 고, 실온에서 투명한 액체로 존재하며, 점도가 25 ℃에서 9센티포이즈이고, 표면 장력이 25℃에서 31.7dyne/cm이다. 또한 1,6-헥산디올 디(메타)아크릴레이트는 높은 Tg 특성을 가진 모노머의 또다른 예이다.
트리메틸시클로헥실 메타크릴레이트 (TCHMA)는 본 발명을 실시하는데 유용한 유리전이온도가 높은 모노머의 또다른 예이다. TCHMA는 125℃의 Tg를 가지고 친유성 용매에 용해되는 경향이 있다. 따라서 TCHMA는 S 재료에 용이하게 통합된다. 그러나 D 재료의 불용성을 과도하게 손상시키지 않도록 제한된 양으로 사용된다면 약간의 TCHMA는 D 재료에 통합될 수도 있다.
유리전이온도가 높은 모노머를 공중합체에 통합시키는 이점은 본출원인의 공동계류중인 2002년 11월 12일 출원된 미국특허출원 제 60/425,466호(제임스 에이. 베이커 등, ORGANOSOL INCLUDING HIGH Tg AMPHIPATHIC COPOLYMERIC BINDER AND LIQUID TONERS FOR ELECTOPHOTOGRAPHIC APPLICATIONS)에 더 상세히 기재되어 있다. 가용성의 유리전이온도가 높은 모노머를 공중합체에 통합시키는 이점은 본출원인의 2002년 11월 12일 출원된 제60/425,467호(제임스 에이. 베이커 등, ORGANOSOL INCLUDING AMPHIPATHIC COPOLYMERIC BINDER MADE WITH SOLUBLE HIGH Tg MONOMER AND LIQUID TONERS FOR ELECTROPHOTOGRAPHIC APPLICATIONS)에 더 상세히 기재되어 있다. 상기출원 둘다 전체가 본원에 참조로 통합되어 있다. 니트릴 작용기는 개선된 내구성, 시각개선첨가제, 예를 들면 착색제 입자와의 향상된 상용성 등을 포함하여 여러가지 이유로 공중합체에 유리하게 통합될 수 있다. 측쇄 니트릴기를 가진 공중합체를 제공하기 위하여, 하나 이상의 니트릴 작용기를 가진 모노머를 사용할 수 있다. 이러한 모노머의 대표적인 예는 (메타)아크릴로니트릴, β-시아노에틸-(메타)아크릴레이트, 2-시아노에톡시에틸 (메타)아크릴레이트, p-시아노스티렌, p-(시아노메틸)스티렌, N-비닐피롤리돈 등을 포함한다.
몇몇 바람직한 구현예에서 중합가능하고 결정화가능한 화합물, 예를 들면 결정화가능한 모노머는 공중합체에 화학적으로 통합된다. 결정성 재료의 융점 위에서 상기 결정성 재료는 양친매성 공중합체의 Tg를 억제하도록 하여 화상 형성에 사용되는 정착 온도를 더 낮출 수 있다. 그러나 결정성 재료의 융점 미만에서는 양친매성 공중합체의 높은 Tg 특성은 실제적인 문제로 본질적으로 영향을 받지 않는다. "결정화가능한 모노머"란 용어는 상기 모노머의 호모폴리머 유사체가 실온 이상의 온도(예를 들면 22℃)에서 독립적으로 및 가역적으로 결정화할 수 있는 모노머를 의미한다.
만일 사용된다면, 하나 이상의 상기 결정화가능한 모노머는 공중합체의 D 재료에 통합될수 있다. 적당한 결정화가능한 모노머는 알킬쇄의 탄소수가 13을 넘는 알킬 (메타)아크릴레이트(예를 들면 테트라데실 (메타)아크릴레이트, 펜타데실 (메타)아크릴레이트, 헥사데실 (메타)아크릴레이트, 헵타데실 (메타)아크릴레이트, 옥타데실 (메타)아크릴레이트 등)를 포함한다. 호모폴리머의 융점이 22℃를 넘는 다른 적당한 결정화가능한 모노머는 아릴 아크릴레이트와 메타크릴레이트; 고분자량의 알파 올레핀류; 직선형 또는 분지형 장쇄 알킬 비닐에테르류 또는 비닐에스테르 류; 장쇄 알킬 이소시아네이트류; 불포화 장쇄 폴리에스테르류, 폴리실록산류 및 폴리실란류; 융점이 22℃를 넘는 중합가능한 천연 왁스; 융점이 22℃를 넘는 중합가능한 합성 왁스; 및 당해 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 알려져 있는 다른 유사한 타입의 재료를 포함한다.
실온보다 높은 온도이지만 상기 결정화가능한 모노머 또는 다른 중합가능하고 결정화가능한 화합물을 포함하는 중합체 부분의 결정화 온도 미만인 온도에서는 내블로킹성이 관찰될 수 있다는 것을 당해 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 이해할 것이다. 다수의 결정화가능한 모노머가 오가노졸중의 액체 캐리어 재료로 흔히 사용되는 친유성 용매에 용해되는 경향이 있다. 따라서 결정성 재료는 원하는 용해도 특성을 손상시키지 않고서 S 재료에 비교적 용이하게 포함된다. 그러나 이러한 결정성 재료가 너무 많이 D 재료에 포함되는 경우, 얻어진 D 재료는 오가노졸에 지나치게 용해성일 수 있다. 그러나 D 재료중의 가용성, 결정성 재료의 양이 제한되는 한, 어느 정도의 결정성 재료는 원하는 불용성을 지나치게 손상시키지 않고서 D 재료에 유리하게 포함될 수 있다. 따라서 D 재료중에 결정성 재료가 존재하는 경우 상기 결정성 재료는 공중합체에 포함되는 총 D 재료에 대하여 바람직하게는 약 30% 이하의 양, 더욱 바람직하게는 약 20% 이하의 양, 가장 바람직하게는 약 5 내지 10% 이하의 양으로 제공되는 것이 바람직하다.
결정화가능한 모노머 또는 PCC가 D 재료에 화학적으로 통합될 경우, PCC와 함께 사용될 수 있는 적당한 공중합가능한 화합물은 2-에틸헥실 아크릴레이트, 2-에틸헥실 메타크릴레이트, 라우릴 아크릴레이트, 라우릴 메타크릴레이트, 옥타데실 아크릴레이트, 옥타데실 메타크릴레이트, 이소보닐 아크릴레이트, 이소보닐 메타크릴레이트, 히드록시 에틸메타크릴레이트, 기타 아크릴레이트류 및 메타크릴레이트류와 같은 모노머(다른 PCC를 포함)를 포함한다.
양친매성 공중합체에 결정성 재료를 사용하여 습식 및 건식 토너 조성물을 제조하는 것에 대하여는 2002년 11월 12일 출원된 미국특허출원 제60/425,515호(제임스 에이. 베이커 등, ORGANOSOL LIQUID TONER INCLUDING AMPHIPATHIC COPOLYMERIC BINDER HAVING CRYSTALLINE COMPONENT)에 더 상세히 기재되어 있다.
다작용기의 자유 라디칼 반응성 재료도 필요하다면 가교결합 밀도, 경도, 점착성, 내표면손상성(mar resistance) 등을 포함하여 생성된 토너 입자의 하나 이상의 특성을 향상시키기 위해 본 발명의 양친매성 공중합체에 통합될 수 있다. 이러한 다작용성 모노머의 예로는 에틸렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 헥산디올 디(메타)아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 테트라에틸렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 트리메틸올프로판 트리(메타)아크릴레이트, 에톡실화 트리메틸올프로판 트리(메타)아크릴레이트, 글리세롤 트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨 트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨 테트라(메타)아크릴레이트 및 네오펜틸 글리콜 디(메타)아크릴레이트, 디비닐 벤젠, 이들의 조합물 등을 포함한다.
본 발명에 사용하기에 적당한 자유 라디칼 반응성 올리고머 및/또는 중합체 재료는 (메타)아크릴화 우레탄류(즉 우레탄 (메타)아크릴레이트류), (메타)아크릴화 에폭시류(즉 에폭시(메타)아크릴레이트), (메타)아크릴화 폴리에스테르류(즉 폴 리에스테르 (메타)아크릴레이트), (메타)아크릴화 (메타)아크릴류, (메타)아크릴화 실리콘류, (메타)아크릴화 폴리에테르류(즉 폴리에테르 (메타)아크릴레이트류), 비닐 (메타)아크릴레이트류 및 (메타)아크릴화 오일을 포함하는데, 이에 제한되는 것은 아니다.
본 발명의 공중합체는 제한되지는 않지만 벌크, 용액 및 분산 중합법을 포함하여 당해 기술분야에서 공지된 자유 라디칼 중합법으로 제조될 수 있다. 생성된 공중합체는 직선형, 분지형, 3차원의 망상 구조, 그래프트 구조, 이들의 조합 등을 포함하여 다양한 구조를 가질 수 있다. 바람직한 구현예는 올리고머 또는 중합체의 백본에 부착된 하나 이상의 올리고머 및/또는 중합체 가지를 포함하는 그래프트 공중합체이다. 그래프트 공중합체의 구현예에서, S 부분 또는 D 부분 재료는 경우에 따라 가지 및/또는 백본에 포함될 수 있다.
당해 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 공지되어 있는 임의의 수의 반응들을 사용하여 그래프트 구조를 가진 자유 라디칼 중합된 공중합체를 제조할 수 있다. 통상적인 그래프팅 방법은 다작용성 자유 라디칼의 랜덤 그래프팅; 모노머와 매크로모노머의 공중합; 시클릭 에테르, 에스테르, 아미드 또는 아세탈의 개환 중합; 에폭시화; 히드록시 또는 아미노 사슬전달제(chain transfer agent)와 말단이 불포화된 말단기와의 반응; 에스테르화 반응(즉 글리시딜 메타크릴레이트는 메타크릴산과 3차 아민 촉매에 의해 에스테르화됨); 및 축중합을 포함한다.
대표적인 그래프트 공중합체 제조 방법은 본원에 인용에 의하여 통합된 미국 특허 제 6,255,363호; 제 6,136,490호; 및 5,384,226호; 및 일본 공개 특허공보 평 05-119529호에 기재되어 있다. 대표적인 그래프팅 방법의 예는 본원에 인용에 의하여 통합된 Dispersion Polymerization in Organic Media, K.E.J. Barrett, ed., (John Wiley; New York, 1975) pp. 79-106의 섹션 3.7 및 3.8에 기재되어 있다.
그래프팅 방법의 대표적인 예는 고정을 촉진하기 위한 고정기(anchoring group)를 사용하는 것이다. 고정기의 기능은 공중합체의 코어부(D 재료)와 가용성 쉘 성분(S 재료) 사이에 공유결합된 연결부(link)를 제공하는 것이다. 고정기를 함유한 적당한 모노머로는 2-히드록시에틸 메타크릴레이트, 3-히드록시프로필 메타크릴레이트, 2-히드록시에틸 아크릴레이트, 펜타에리스리톨 트리아크릴레이트, 4-히드록시부틸비닐에테르, 9-옥타데센-1-올, 신나밀 알코올, 알릴 머캡탄(allyl mercaptan), 메탈릴아민(methallylamine)과 같은 히드록시, 아미노 또는 머캡탄기를 함유한 불포화 친핵성 화합물과 2-알케닐-4,4-디알킬아즈락톤과 같은 알케닐아즈락톤 공모노머의 부가물을 포함한다.
상기한 바람직한 방법은 자유 라디칼 반응성 고정기를 제공하기 위해 히드록시기에 에틸렌성 불포화 이소시아네이트(예를 들면 디메틸-m-이소프로페닐 벤질이소시아네이트, TMI, CYTEC Industries, West Paterson, NJ로부터 구입가능; 또는 IEM으로도 알려진 이소시아네이토에틸 메타크릴레이트)를 부착시켜 그래프팅을 달성한다.
본 발명의 그래프트 공중합체를 제조하는 바람직한 방법은, 생성된 S 재료는 가용성이지만 D 재료는 분산되거나 불용성인 적당한 실질적으로 비수성인 액체 캐리어에서 수행되는 3개의 반응단계를 포함한다.
제 1 바람직한 단계에서, 히드록시 작용기를 가진 자유 라디칼 중합된 올리고머 또는 중합체는 하나 이상의 모노머로부터 제조되는데, 여기서 적어도 하나의 상기 모노머는 측쇄 히드록시 작용기를 가진다. 바람직하게는 히드록시 작용기를 가진 모노머는 상기 제 1 단계의 올리고머 또는 중합체를 제조하는데 사용되는 모노머의 약 1 내지 약 30, 바람직하게는 약 2 내지 약 10, 가장 바람직하게는 3 내지 약 5중량%를 이룬다. 상기 제 1 단계는 모노머와 생성된 중합체가 용해되는 실질적으로 비수성인 용매에서 용액중합을 통해 수행되는 것이 바람직하다. 예를 들면, 표 1에 있는 힐데브란트 용해도 데이타를 사용하여, 헵탄 등과 같은 친유성 용매를 사용하는 경우 옥타데실 메타크릴레이트, 옥타데실 아크릴레이트, 라우릴 아크릴레이트 및 라우릴 메타크릴레이트와 같은 모노머가 상기 제 1 반응 단계에 적당하다.
제 2 반응 단계에서, 가용성 중합체의 히드록시기의 전부 또는 일부는 에틸렌성 불포화 지방족 이소시아네이트(예를 들면 TMI로 알려진 메타-이소프로페닐디메틸벤질 이소시아네이트 또는 IEM으로 통상적으로 알려진 이소시아네이토에틸 메타크릴레이트)와 촉매적으로 반응하여 폴리우레탄 연결을 통해 올리고머 또는 중합체에 부착되는 측쇄 자유 라디칼 중합가능한 작용기를 형성한다. 상기 반응은 동일한 용매에서 수행될 수 있으므로, 제 1 단계에서와 동일한 반응 용기에서 수행될 수 있다. 생성된 이중 결합 작용기를 가진 중합체는 일반적으로 반응 용매에서 가용성인 채로 있고, 생성된 공중합체의 S 부분의 재료를 구성하는데, 이는 궁극적으로 생성된 마찰 대전된 입자의 용매화 부분의 적어도 일부를 구성한다.
생성된 자유 라디칼 반응성 작용기는 D 재료 및 선택적으로 부가적인 S 재료를 중합체에 부착시키기 위한 그래프팅 위치를 제공한다. 세번째 단계에서, 상기 그래프팅 위치는 처음에는 용매에 가용성이지만 그래프트 공중합체의 분자량이 증가함에 따라 불용성이 되는 하나 이상의 자유 라디칼 반응성 모노머, 올리고머 및/또는 중합체와의 반응을 통해 상기 재료를 중합체에 공유적으로 그래프트시키는데 사용된다. 예를 들면, 표 1의 힐데브란트 용해도 파라미터를 참고하면, 헵탄 등의 친유성 용매를 사용할 때 메틸 (메타)아크릴레이트, 에틸 (메타)아크릴레이트, t-부틸 메타크릴레이트 및 스티렌과 같은 모노머가 상기 제 3 반응단계에 적당하다.
제 3 반응단계의 생성물은 일반적으로 반응 용매에 분산된 생성 공중합체를 포함하는 오가노졸인데, 상기 반응 용매는 실질적으로 오가노졸에 대해 비수성 액체 캐리어를 구성한다. 이 단계에서 공중합체는 분산된(예를 들면 실질적으로 불용성이고 상분리된) 부분과 용매화된(예를 들면 실질적으로 용해성인) 부분을 가진 분리되고 단분산된 입자로 액체 캐리어내에 존재하는 경향이 있다고 여겨진다. 그 자체로, 용매화된 부분은 액체 캐리어중의 상기 입자의 분산액을 입체적으로 안정화시키는데 도움이 된다. 따라서 공중합체는 액체 캐리어중에서 인-시튜로 유리하게 제조된다는 것을 알 수 있다.
추후의 공정을 행하기 전에, 공중합체 입자는 반응 용매중에 유지될 수 있다. 또는, 상기 입자는 상기 공중합체가 새로운 용매에서 가용화되고 분산되는 한, 임의의 적당한 방법으로 동일하거나 상이한 새로운 용매로 옮겨질 수도 있다. 어느 경우에도 생성된 오가노졸은 적어도 하나의 시각 개선 첨가제와 혼합되어 토 너입자로 변환된다. 선택적으로, 하나 이상의 다른 원하는 성분들도 시각 개선 첨가제 입자와 혼합하기 전 및/또는 후에 오가노졸에 혼합될 수도 있다. 이와 같이 혼합하는 동안, 시각 개선 첨가제와 공중합체를 포함하는 성분들은, 분산 상(相) 부분이 일반적으로 시각 개선 첨가제 입자와 결합하는 반면(예를 들면 입자 표면과 물리적 및/또는 화학적 상호작용을 함으로써) 용매화 상(相) 부분은 캐리어에서의 분산을 촉진시키는 구조를 가지는 복합 입자로 자기 집합(self-assemble)되는 것으로 믿어진다.
1종 이상의 양친매성 공중합체가 액체 토너에 포함되는 경우, 이들은 별도로 만들어진 다음 함께 혼합될 수 있다. 이것은 예를 들어 하나 이상의 양친매성 공중합체상의 가교결합가능한 작용기가 예상되는 저장 조건하에서 충분히 비반응성이면 패키징 전에 행해질 수 있다. 또한, 2 이상의 양친매성 공중합체의 가교결합가능한 작용기가 예상되는 저장 조건하에서 지나치게 반응성이면 상기 성분들을 별도로 패키징한 다음 혼합하거나 사용시에 연속적으로 공급될 수 있다.
선택적인 시각개선첨가제는 일반적으로 상기 재료를 포함하는 토너 입자가 수용체에 프린트될 때 원하는 시각 효과를 제공하는 하나 이상의 유체 및/또는 입상 재료를 포함할 수 있다. 그 예로는 하나 이상의 착색제, 형광 재료, 진주 광택 재료, 무지개빛 재료, 금속성 재료, 플립-플롭(flip-flop) 안료, 실리카, 중합체 비드, 반사 및 비반사 유리 비드, 운모, 이들의 조합 등을 포함한다. 토너 입자에 혼입되는 시각개선첨가제의 양은 넓은 범위에 걸쳐 달라질 수 있다. 대표적인 구현예에서, 시각개선첨가제에 대한 공중합체의 적당한 중량비는 1/1 내지 20/1, 바 람직하게는 2/1 내지 10/1, 가장 바람직하게는 4/1 내지 8/1이다.
유용한 착색제는 당해 기술분야에 공지되어 있으며, 염료, 스테인(stain) 및 안료를 포함하여 칼라 인덱스(Colour Index, the Society of Dyers and Colourists(Bradford, England) 발행)에 열거되어 있는 재료를 포함한다. 바람직한 착색제는 공중합체를 포함하는 성분들과 조합되어 상기 공중합체의 D 부분과 상호작용하여 본원에 기재된 구조를 가진 습식 토너 입자를 형성할 수 있고, 캐리어 액체에 적어도 명목상 불용성이고 비반응성이며, 정전기적 잠상을 가시화하는데 유용하고 효과적인 안료이다. 시각개선첨가제는 또한 물리적 및/또는 화학적으로 서로 상호 작용하여 공중합체의 D 부분과도 상호작용하는 시각개선첨가제의 집합물 및/또는 응집물을 형성한다. 적당한 착색제의 예는 프탈로시아닌 블루 (C.I. Pigment Blue 15:1, 15:2, 15:3 및 15:4), 모노아릴리드 옐로우(C.I. Pigment Yellow 1, 3, 65, 73 및 74), 디아릴리드 옐로우(C.I. Pigment Yellow 12, 13, 14, 17 및 83), 아릴아미드(한자)옐로우(C.I. Pigment Yellow 10, 97, 105 및 111), 이소인돌린 옐로우(C.I. Pigment Yellow 138), 아조 레드(C.I. Pigment Red 3, 17, 22, 23, 38, 48:1, 48:2, 52:1 및 52:179), 퀴나크리돈 마젠타(C.I. Pigment Red 122, 202 및 209), 레이크 로다민 마젠타(C.I. Pigment Red 81:1, 81:2, 81:3 및 81:4) 및 미분 카본과 같은 블랙 안료(Cabot Monarch 120, Cabot Regal 300R, Cabot Regal 350R, Vulcan X72 및 Aztech ED 8200) 등을 포함한다.
시각개선첨가제 외에도 다른 첨가제들이 선택적으로 습식 토너 조성물에 배합될 수 있다. 특히 바람직한 첨가제는 적어도 하나의 대전제어제(대전제어첨가제 또는 전하디렉터, CCA)를 포함한다. 전하 디렉터로도 알려져 있는 대전제어제는 별도 성분으로 포함되거나 및/또는 양친매성 공중합체에 통합되는 S 및/또는 D 재료의 하나 이상의 작용성 부분으로 포함될 수 있다. 대전제어제는 대전성을 향상시키거나 및/또는 전하를 토너 입자에 부여하는 역할을 한다. 토너 입자는 입자 재료와 대전제어제의 조합에 따라 (+) 또는 (-)의 전하를 가질 수 있다.
대전제어제는 적당한 모노머를 공중합체를 형성하는데 사용되는 다른 모노머와 공중합하거나, 대전제어제를 토너 입자와 화학적으로 반응시키거나, 대전제어제를 토너 입자(수지 또는 안료)상에 화학적 또는 물리적으로 흡착시키거나, 또는 대전제어제를 토너 입자에 포함된 작용기에 킬레이팅하는 것과 같은 다양한 방법을 사용하여 토너 입자에 포함시킬 수 있다. 한가지 바람직한 방법은 공중합체의 S 재료에 내재된 작용기에 의한 것이다.
대전제어제는 선택된 극성의 전하를 토너 입자에 부여하는 작용을 한다. 당해 기술분야에서 기재된 다수의 대전제어제가 사용될 수 있다. 예를 들면 대전제어제는 다가 금속 이온 및 카운터 이온으로서 유기 음이온으로 이루어지는 금속염 형태를 갖출 수 있다. 적당한 금속 이온으로는 Ba(Ⅱ), Ca(Ⅱ), Mn(Ⅱ), Zn(Ⅱ), Zr(Ⅳ), Cu(Ⅱ), Al(Ⅲ), Cr(Ⅲ), Fe(Ⅱ), Fe(Ⅲ), Sb(Ⅲ), Bi(Ⅲ), Co(Ⅱ), La(Ⅲ), Pb(Ⅱ), Mg(Ⅱ), Mo(Ⅲ), Ni(Ⅱ), Ag(I), Sr(Ⅱ), Sn(Ⅳ), V(V), Y(Ⅲ), 및 Ti(Ⅳ)를 들 수 있으며, 이에 제한되는 것은 아니다. 적당한 유기 음이온은 지방족 또는 방향족 카르복실산 또는 술폰산, 바람직하게는 스테아르산, 베헨산, 네오데칸산, 디이소프로필살리실산, 옥탄산, 아비에트산(abietic acid), 나프텐산, 라 우르산, 탈산(tallic acid) 등과 같은 지방족 지방산으로부터 유도된 카르복실레이트 또는 술포네이트를 포함한다.
바람직한 (-)대전제어제는 레시틴과 염기성 바륨 페트로네이트이다. 바람직한 (+)대전제어제는 예를 들면 미국특허 제3,411,936호(본원에 인용에 의해 통합됨)에 기재된 금속 카르복실레이트(비누)를 포함한다. 특히 바람직한 (+)대전제어제는 지르코늄 테트라옥토에이트(OMG Chemical Company(Cleveland, OH)로부터 Zirconium HEX-CEM으로 구입가능)이다.
주어진 토너 배합물에 바람직한 대전제어제 수준은 S 부분과 오가노졸의 조성, 오가노졸의 분자량, 오가노졸의 입경, 중합체 바인더의 D:S 비, 토너 조성물을 만드는데 사용되는 안료 및 오가노졸 대 안료의 비를 포함하여 다수의 인자에 좌우된다. 또한 바람직한 대전제어제 수준은 전자사진 화상형성 공정의 특성에 좌우된다. 대전제어제의 수준은 당해 기술분야에서 공지되어 있는 것처럼 본원에 열거된 파라미터에 기초하여 조절될 수 있다. 대전제어제의 양은 토너 고형분 100중량부 기준으로 일반적으로 0.01 내지 10중량부, 바람직하게는 0.1 내지 5중량부이다.
습식 토너 조성물의 전도도는 전자사진화상을 현상하는데 있어서의 토너의 효율을 기술하는데 사용될 수 있다. 1x10-11mho/cm 내지 3x10-10mho/cm 범위의 값은 당해기술분야 전문가들에게 유리한 것으로 여겨진다. 높은 전도도는 일반적으로 토너 입자상의 전하들의 비효율적인 결합을 나타내고, 이는 전류 밀도와 현상하는 동안 부착된 토너간의 낮은 관련성에서 알 수 있다. 낮은 전도도는 토너 입자가 거의 또는 전혀 대전되지 않았음을 나타내고, 매우 낮은 현상 속도를 초래한다. 토너 입자상의 흡착 부위에 매치되는 대전제어제를 사용하는 것은 각 토너 입자와 결합하는 충분한 전하를 보장하기 위한 통상적인 실무이다.
다른 첨가제도 종래의 실무에 따라 토너 배합물에 첨가될 수 있다. 이러한 것들로는 하나 이상의 UV 안정화제, 방미제(mold inhibitor), 살세균제, 살진균제, 대전방지제, 광택 개질제, 다른 중합체 또는 올리고머 재료, 산화방지제 등을 포함한다.
생성된 대전 토너 입자의 입자 크기는 이러한 입자를 포함하는 토너 조성물의 화상 형성, 정착, 해상도 및 전사 특성에 영향을 줄 수도 있다. 바람직하게는 토너 입자의 부피 평균 입경(레이저 회절법으로 측정)은 약 0.05 내지 약 50.0미크론, 더욱 바람직하게는 약 3 내지 약 10미크론, 가장 바람직하게는 약 1.5 내지 약 5미크론이다.
전자사진법 및 전자기록법에서, 정전 화상은 감광 요소 또는 유전 요소의 표면에 각각 형성된다. 감광 요소 또는 유전 요소는 Schmidt, S.P. 및 Larson, J.R.이 기재한 것처럼(Handbook of Imaging Materials Diamond, A.S., Ed: Marcel Dekker: New York; Chapter 6, pp 227-252 및 미국특허 제 4,728,983호;제 4,321,404호; 및 제4,268,598호) 중간 전사 드럼 또는 벨트 또는 최종 톤 화상 자체의 기재일 수 있다.
전자기록법에서 잠상은 통상적으로 (1) 정전 라이팅 스타일러스 또는 그 등가물로 선택된 영역의 유전 요소(통상적으로 수용 기재)상에 전하 화상을 위치시켜 전하 화상을 형성하고, (2) 토너를 전하 화상에 가하고, (3) 상기 톤 화상을 정착시키는 단계로 형성된다. 이러한 유형의 방법의 예는 미국 특허 제 5,262,259호에 기재되어 있다. 본 발명에 의해 형성된 화상은 단색 또는 다색으로 이루어질 수 있다. 다색 화상(multicolor image)은 대전 및 토너 적용 단계를 반복하여 얻을 수 있다.
전자사진법에서 정전 화상은 (1) 감광요소를 인가 전압으로 균일하게 대전시키고, (2) 감광 요소의 부분을 광원으로 노광 및 방전시켜 잠상을 형성하고, (3) 토너를 잠상에 가하여 톤 화상을 형성하고, (4) 상기 톤 화상을 하나 이상의 단계를 거쳐 최종 수용체 시트로 전사하는 단계에 의해, 감광성 요소로 코팅된 드럼 또는 벨트 상에 통상적으로 형성된다. 몇몇 응용에서, 가열된 압력 롤러 또는 당해 기술분야에서 공지되어 있는 기타 정착 방법으로 톤 화상을 정착시키는 것이 때때로 바람직하다.
토너 입자 또는 감광 요소의 정전하가 (+) 또는 (-)인 반면, 본 발명에 사용된 전자사진법은 바람직하게는 정대전된 감광 요소상의 전하를 소산시켜 수행된다. 그런 다음 정대전된 토너는 습식 토너 현상법을 사용하여 상기 (+)전하가 소산된 영역으로 가해진다.
감광 요소로부터 화상을 수용하는 기재는 종이, 코팅된 종이, 중합체 필름 및 프라이밍된 또는 코팅된 중합체 필름과 같은 통상적으로 사용되는 수용체 재료일 수 있다. 중합체 필름은 폴리에스테르 및 코팅된 폴리에스테르, 폴리에틸렌 또는 폴리프로필렌과 같은 폴리올레핀, 가소화 및 콤파운딩된 폴리비닐 클로라이드(PVC), 아크릴류, 폴리우레탄류, 폴리에틸렌/아크릴산 공중합체, 및 폴리비닐 부티랄을 포함한다. 중합체 필름은 코팅되거나 프라이밍되어 예를 들어 토너 부착을 촉진시킬 수 있다.
도 3은 본 발명의 원리가 어떻게 변조 방지 화상을 가진 구조물에 구체화될 수 있는지를 모식적으로 도시하고 있다. 설명을 위해, 도 3은 고용인 뱃지, 운전면허증 등과 같은 식별장치(70)의 단면도를 도시한다. 상기 장치(70)는 기재(74) 위에 형성된 화상(72)을 포함한다. 상기 화상(72)은 명칭 R1으로 표시된 한가지 타입 이상의 가교결합가능한 작용기를 가진 본 발명의 습식 토너 조성물을 포함하고 있다. 기재(74)는 명칭 R2로 표시된 상보적인 가교결합가능한 작용기를 포함한다. 투명한 커버레이(coverlay)(76)는 화상(72) 위에 놓이고 R1 및/또는 R2, 바람직하게는 적어도 R1에 상보적인 가교결합가능한 작용기 R3를 포함한다. 가교결합가능한 작용기 R2는 가교결합가능한 작용기의 특성에 따라 R1과 R2중 하나 또는 둘 다와 동일하거나 상이할 수 있다. 특히 바람직한 구현예에서 R2 및 R3는 동일하고 R1에 상보적이다. 장치(70)가 가교결합되면 화상(72)은 경우에 따라 기재(74) 및/또는 커버레이(76)에 공유결합된다. 장치(70)가 끊어질 경우 화상(72)은 찢어지거나 그렇지 않으면 파손되어 장치(70)의 화상(72)이 장치(70) 제조후에는 수정될 수 없다. 화상(72)의 신빙성 및 변조방지가 이렇게 해서 향상된다.
본 발명의 상기 태양 및 다른 태양은 하기 실시예에서 설명된다.
하기 실시예에 나타낸 것처럼 본 발명을 실시하는데 있어 공중합체 용액 및 오가노졸과 잉크분산액의 고형분 백분율은 정밀 분석 저울(Mettler Instruments, Inc., Highstown, N.J.)에 부착된 할로겐 램프 건조 오븐을 사용하여 할로겐 램프 건조법으로 중량법에 의해 측정하였다. 상기 샘플 건조법을 사용하여 고형분 백분율을 각각 측정하는데 약 2그램의 샘플을 사용하였다.
본 발명을 실시하는데 있어서, 분자량은 중량평균 분자량으로 통상적으로 표현되는데 반하여, 분자량 다분산성은 중량평균 분자량 대 수평균 분자량의 비로 주어진다. 분자량 파라미터는 캐리어 용매로 테트라히드로푸란을 사용하여 겔투과 크로마토그래피(GPC)로 측정하였다. 절대 중량평균 분자량은 Dawn DSP-F 광산란 검출기(Wyatt Technology Corp., Santa Barbara, Calif.)를 사용하여 측정한 반면, 다분산성은 중량평균 분자량을 Optilab 903 시차 굴절율 검출기(Wyatt Technology Corp., Santa Barbara, Calif.)로 측정한 수평균 분자량 값에 대한 비로 평가하였다.
오가노졸과 토너 입자 크기 분포는 Horiba LA-900 레이저 회절 입자 크기 분석기(Horiba Instruments, Inc., Irvine, Calif.)를 사용하여 레이저 회절 광산란방법으로 측정하였다. 샘플을 약 1/500 부피로 희석하고, 측정에 앞서 150watt 및 20kHz에서 1 분동안 초음파 처리하였다. 입자 크기는 기본(1차) 입자 크기 및 집합물 또는 응집물의 존재에 대한 표시를 하기 위하여 수평균 직경(Dn)과 부피 평균직경(Dv) 모두로 표현되었다.
습식 토너 전도도(벌크 전도도, kb)는 Scientifica Model 627 전도도계(Scientifica Instruments, Inc., Princeton, N.J.)를 사용하여 약 18Hz 에서 측정하였다. 또한 토너 입자가 없는 상태에서 자유(액체 분산된)상 전도도(kf)도 측정하였다. 토너 입자는 Jouan MR1822 원심분리기(Winchester, VA)에서 6,000rpm(6,100 상대 원심력)에서 1-2 시간동안 5℃에서 원심분리하여 액체 매질로부터 제거하였다. 그런 다음 상징액을 조심스럽게 따라내고, 상기 액체의 전도도를 Scientifica Model 627 전도도계를 사용하여 측정하였다. 벌크 토너 전도도에 대한 자유 상 전도도의 백분율을 100%(kf/kb)로 측정하였다.
토너 입자 전기영동 이동도(동적 이동도)는 Matec MBS-8000 동전기(electrokinetic) 초음파 진폭 분석기(Matec Applied Sciences, Inc., Hopkinton, MA)를 사용하여 측정하였다. 미세전기영동에 기초한 동전기적 측정과는 달리 MBS-8000 장치는 이동도 값을 얻기 위해 토너 샘플을 희석할 필요가 없다는 이점이 있다. 따라서 실제로 프린팅하는데 바람직한 고형분 농도에서 토너 입자의 동적 이동도를 측정할 수 있었다. MBS-8000은 고주파(1.2MHz) 교류(AC) 전기장에 대한 대전입자의 반응을 측정한다. 고주파 AC 전기장에서, 대전 토너 입자와 주위의 분산액 매질(카운터 이온 포함)간의 상대적 움직임은 인가된 전기장과 동일한 주파수의 초음파를 발생시킨다. 1.2 MHz에서 상기 초음파의 진폭은 압전 석영 변환기(piezoelectric quartz transducer)를 사용하여 측정될 수 있다; 이 동전기적 음파 진폭(ESA: electrokinetic sonic amplitude)은 입자의 저전기장 AC 전기영동 이동도에 직접 비례한다. 그런 다음 입자 제타(zeta) 전위는 측정된 동적 이동도와 기지의 토너 입자 크기, 액체 분산제 점도 및 액체 유전 상수로부터 상기 장치에 의해 계산될 수 있다.
질량 당 전하(Q/M)를 도전성 금속판, 인듐 주석 산화물(ITO)로 코팅한 유리판, 고전압 전원, 전위계, 및 데이타를 얻기 위한 퍼스널 컴퓨터(PC)로 이루어지는 장치를 사용하여 측정하였다. 1% 잉크 용액을 도전성 판과 ITO 코팅된 유리판 사이에 놓았다. 기지의 극성과 크기의 전위를 ITO 코팅된 유리판과 금속판 사이에 인가하고 상기 판 사이와 고전압 전원에 연결된 와이어를 통해 전류를 발생시켰다. 전류는 20초 동안 1초에 100회 측정하고 PC를 사용하여 기록하였다. 인가된 전위는 대전된 토너 입자가 대전된 토너 입자와 반대 극성을 가진 판(전극)쪽으로 이동하도록 한다. ITO 코팅된 유리판에 인가되는 전압의 극성을 조절함으로써 토너 입자를 상기 판으로 이동하도록 할 수 있다.
ITO 코팅된 유리판을 장치로부터 제거하여 50℃의 온도에서 약 30분동안 오븐에 두어 도포된 잉크를 완전히 건조시켰다. 건조 후, 건조된 잉크 필름을 함유한 ITO 코팅된 유리판의 무게를 달았다. 그런다음 NorparTM 12로 함침된 천 와이프로 ITO 코팅된 유리판으로부터 잉크를 제거하고, 깨끗해진 ITO 유리판을 다시 무게를 달았다. 건조된 잉크 코팅된 유리판과 깨끗해진 유리판 사이의 질량의 차이는 20초의 도포 시간동안 부착된 잉크 입자의 질량(m)으로 본다. 전류값을 사용하여 커브 피팅 프로그램(예를 들면 System Software Inc.의 TableCurve 2D)으로 전류 대 시간의 플롯 아래의 면적을 적분하여 20초의 도포 시간동안 토너 입자(Q)에 의해 운반되는 총 전하를 얻었다. 그런 다음 토너 입자에 의해 운반되는 총 전하를 건조된 도포 잉크 질량으로 나눔으로써 질량당 전하(Q/m)를 결정하였다.
하기 실시예에서 토너는 하기 방법(습식 전자사진 프린팅법으로 실시예에서 언급됨)을 사용하여 최종 화상 수용체 위에 프린트되었다.
감광성 임시 화상 수용체(유기 감광체 또는 "OPC")를 약 850volt로 균일하게 정대전시켰다. OPC의 정대전된 표면을 레이저가 표면을 때릴 때마다 전하를 감소시키기 위하여, 주사 적외선 레이저 모듈로 화상을 따라 조사하였다. 통상적인 전하 감소값은 50볼트 내지 100볼트였다.
그런 다음 현상장치를 사용하여 토너 입자를 OPC 표면에 인가하였다. 현상 장치는 하기 요소들을 포함하였다: OPC와 접촉해 있는 도전성 고무 현상 롤, 액체 토너, 도전성 부착 롤, 현상롤 표면과 접촉해 있는 절연성 포옴 세정 롤, 및 현상롤과 접촉해 있는 도전성 스카이빙 블레이드(스카이브). 현상롤과 OPC간의 접촉 영역은 "현상 닙"으로 언급된다. 현상롤과 도전성 부착롤은 둘 다 부분적으로 액체 토너에 부유되었다. 현상 롤은 습식 토너를 OPC 표면에 공급하는 반면 도전성 부착롤은 그것의 롤축이 현상롤 축과 평행하고 그것의 표면은 현상롤의 표면으로부터 약 150미크론 떨어져 배열되어 부착 갭을 형성하도록 되었다.
현상하는 동안, 약 500볼트의 전압을 도전성 현상롤에 가하고 600볼트의 전압을 부착롤에 인가함으로써 현상롤 표면에 먼저 토너를 전사하였다. 이것은 현상롤과 부착롤 사이에 100볼트의 전위를 만들어 부착 갭에서 토너 입자(정대전됨)가 현상롤의 표면으로 이동하고, 현상롤 표면이 습식 토너로부터 공기중으로 나감에 따라 현상롤 표면에 유지되도록 한다.
도전성 금속 스카이브는 적어도 600볼트(또는 그 이상)로 바이어스되고 부착 갭에 부착된 토너층을 벗겨냄이 없이 현상롤 표면으로부터 액체 토너를 벗겨내었다. 이 단계에서 현상롤 표면은 약 25%의 고형분을 가진 균일한 두께의 토너층을 함유하였다. 상기 토너층이 현상 닙을 통과할 때 토너는 현상롤 표면으로부터 OPC의 모든 방전 영역에서(전하 화상) OPC표면으로 전사되는데, 이는 토너 입자가 정대전되었기 때문이다. 현상닙에서 나갈 때 OPC는 토너 화상을 함유하고, 현상롤은 회전하는 포옴 세정롤과 만남으로써 현상롤 표면으로부터 계속해서 세정되는 부대전된 토너 화상을 함유하였다.
감광체상의 현상된 잠상(톤 화상)을 OPC상에 토너의 필름을 형성하지 않고서 최종 화상 수용체에 계속해서 전사하였다. 최종 화상 수용체에 직접 전사되거나, 정전기적으로 보조된 옵셋 전사를 사용하여 중간 전사 벨트(ITB: intermediate transfer belt)로, 계속해서 정전기적으로 보조된 옵셋 전사를 사용하여 최종 화상 수용체로 간접적으로 최종 화상 수용체에 전사된다. 부드럽고 클레이로 코팅된 종이가 감광체로부터 비-필름 형성 토너를 직접 전사하는 최종 화상수용체로 바람직한 반면, 코팅되지 않은 20 파운드의 일반 본드지가 정전기적 어시스트를 사용한 옵셋 전사를 위한 최종 화상 수용체로 바람직하다.
비-필름 형성 토너를 정전기적으로 보조된 전사를 하는 것은 전사 전위(OPC상의 토너와 직접 전사를 위한 종이 백업 롤러 사이의 전위차; 또는 OPC상의 토너와 옵셋 전사를 위한 ITB사이의 전위차)가 200-1000V, 또는 800-2000V 범위로 유지될 때 가장 효과적이다.
재료
하기 약어들이 실시예에서 사용된다:
BHA: 베헤닐 아크릴레이트(Ciba Specialty Chemical Co., Suffolk, VA로부터 구입가능한 PCC)
BMA: 부틸 메타크릴레이트(Aldrich Chemical Co., Milwaukee, WI로부터 구입가능)
DAAM: 디아세톤 아크릴아미드(Aldrich Chemical Co., Milwaukee, WI로부터 구입가능)
DMAEMA: 2-디메틸아미노에틸 메타크릴레이트(Aldrich Chemical Co., Milwaukee, WI로부터 구입가능)
EMA: 에틸 메타크릴레이트(Aldrich Chemical Co., Milwaukee, WI로부터 구입가능)
Exp 61: 아민 작용기를 가진 실리콘 왁스(Genesee Polymer Corporation, Flint, MI로부터 구입가능한 PCC)
GMA: 글리시딜 메타크릴레이트(Aldrich Chemical Co., Milwaukee, WI로부터 구입가능)
HEMA: 2-히드록시에틸 메타크릴레이트(Aldrich Chemical Co., Milwaukee, WI로부터 구입가능)
LMA: 라우릴 메타크릴레이트(Aldrich Chemical Co., Milwaukee, WI로부터 구입가능)
MAA: 메타크릴산(Aldrich Chemical Co., Milwaukee, WI로부터 구입가능)
ODA: 옥타데실 아크릴레이트(Aldrich Chemical Co., Milwaukee, WI로부터 구입가능한 PCC)
TCHMA: 트리메틸 시클로헥실 메타크릴레이트(Ciba Specialty Chemical Co., Suffolk, Virginia로부터 구입가능)
St: 스티렌(Aldrich Chemical Co., Milwaukee, WI로부터 구입가능)
TMI: 디메틸-m-이소프로페닐 벤질 이소시아네이트(CYTEC Industries, West Paterson, NJ로부터 구입가능)
AIBN: 아조비스이소부티로니트릴(DuPont Chemical Co., Wilmington, DE로부터 VAZO-64로 구입가능한 개시제)
V-601: 디메틸 2,2'-아조비스이소부티레이트(WAKO Chemicals U.S.A., Richmind, VA로부터 V-601로 구입가능한 개시제)
DBTDL: 디부틸 틴 디라우레이트( Aldrich Chemical Co., Milwaukee, WI로부터 구입가능한 촉매)
지르코늄 HEX-CEM: (OMG Chemical Company, Cleveland, OH로부터 구입가능한 금속 비누, 지르코늄 테트라옥토에이트)
하기 실시예에서 각 공중합체의 조성의 상세는 공중합체를 만드는데 사용되는 모노머의 중량 백분율 비로 요약될 것이다. 그래프팅 사이트 조성(grafting site composition)은 경우에 따라 공중합체 또는 공중합체 전구체를 구성하는 모노머의 중량 백분율로 표현된다. 예를 들면 TCHMA/HEMA-TMI(97/3-4.7)로 명시된 그 래프트 안정화제(공중합체의 S 부분의 전구체)는 상대적 기준으로 97중량부의 TCHMA와 3중량부의 HEMA를 공중합하여 만들어지고, 상기 히드록시 작용기를 가진 중합체는 4.7중량부의 TMI와 반응시켰다.
마찬가지로 TCHMA/HEMA-TMI//EMA(97/3-4.7//100)로 명시된 그래프트 공중합체 오가노졸은 실시예에 기재된 상대적인 중량으로 결정된 D/S(코어/쉘)의 명기된 비에서, 명시된 코어 모노머 EMA(D 부분 또는 코어, 100% EMA)와 명시된 그래프트 안정화제(TCHMA/HEMA-TMI(97/3-4.7)를 공중합하여 만들어진다.
실시예 1(비교)
컨덴서, 디지탈 온도 조절기에 연결된 써모커플, 건조 질소 공급원에 연결된 질소 주입 튜브 및 자기 교반기를 구비한 5000ml 용량의 3구 둥근 바닥 플라스크에 2561g의 NorparTM 15, LMA 849g, 26.8g의 98% HEMA 및 8.75g의 V601의 혼합물을 채웠다. 상기 혼합물을 교반하면서, 반응 플라스크를 건조 질소로 약 2리터/분의 유속으로 30분 동안 퍼지하였다. 그런 다음 중공 유리 마개를 컨덴서의 개방 단부에 삽입하고, 질소 유속을 약 0.5리터/분으로 감소시켰다. 상기 혼합물을 16시간동안 70℃로 가열하였다. 전환(conversion)은 정량적이었다.
상기 혼합물을 90℃로 가열하고, 이 온도로 1시간동안 유지하여 잔류 V601을 파괴시킨 다음, 다시 70℃로 냉각시켰다. 그런 다음 질소 주입 튜브를 제거하고, 13.6g의 95% DBTDL를 상기 혼합물에 첨가한 다음, 41.1g의 TMI를 가하였다. 반응 혼합물을 교반하면서 약 5분에 걸쳐 TMI를 적가하였다. 질소 주입 튜브를 원래 위 치에 놓은 다음, 컨덴서에 있는 중공 유리 마개를 제거하고, 반응 플라스크를 건조 질소로 약 2리터/분의 유속으로 30분동안 퍼지하였다. 중공 유리 마개를 다시 컨덴서의 개방 단부에 삽입하고, 질소 유속을 약 0.5리터/분으로 감소시켰다. 상기 혼합물을 70℃에서 6시간동안 두었는데, 그 시간동안 전환은 정량적이었다.
그런 다음 상기 혼합물을 실온으로 냉각시켰다. 냉각된 혼합물은 눈으로 볼 수 있는 불용성 재료를 함유하지 않은 점성의 투명 액체였다. 상기 액체 혼합물중의 고형분 백분율은 상기한 할로겐 램프 건조법을 사용하여 25.64%로 측정되었다. 계속해서 상기한 GPC법으로 분자량을 측정하였다; 상기 공중합체는 2개의 독립적인 측정에 기초하여, 231,350Da의 Mw와 3.2의 Mw/Mn을 가졌다. 생성물은 TMI의 랜덤한 측쇄를 함유한 LMA와 HEMA의 공중합체이고, 여기서는 LMA/HEMA-TMI(97/3-4.7% w/w)로 명시되고, 쉘에 비반응성 기를 함유한 오가노졸을 만드는데 적당하다.
실시예 2
실시예 1의 방법 및 장치를 사용하여, 2561g의 NorparTM15, 823g의 LMA, 26g의 DAAM, 26.8g의 98% HEMA 및 8.75g의 V601을 혼합하고, 생성된 혼합물을 70℃에서 16시간동안 반응시켰다. 그런 다음 상기 혼합물을 90℃에서 1시간동안 가열하여 잔류 V601을 파괴시킨 다음, 다시 70℃로 냉각시켰다. 냉각된 혼합물에 13.6g의 95% DBTDL과 41.1g의 TMI를 첨가하였다. 반응 혼합물을 교반하면서 약 5분에 걸쳐 TMI를 적가하였다. 실시예 1의 과정에 따라 상기 혼합물을 70℃에서 약 6시간동안 반응시켰으며, 그 동안 반응은 정량적이었다. 그런 다음 상기 혼합물을 실 온으로 냉각시켰다. 냉각된 혼합물은 눈으로 볼 수 있는 불용성 재료를 함유하지 않은 점성의 투명한 용액이었다.
상기 액체 혼합물중의 고형분 백분율은 상기한 할로겐 램프 건조법을 사용하여 24.47%로 측정되었다. 계속해서 상기한 GPC법으로 분자량을 측정하였다; 상기 공중합체는 2개의 독립적인 측정에 기초하여, 278,800Da의 Mw와 2.50의 Mw/M
n을 가졌다. 생성물은 TMI의 랜덤한 측쇄를 함유한 LMA, DAAM과 HEMA의 공중합체이고, 여기서는 LMA/DAAM/HEMA-TMI(94/3/3-4.7% w/w)로 명시되고, 쉘에 2차 아민 반응기를 함유한 오가노졸을 만드는데 적당하다.
실시예 3
실시예 1의 방법 및 장치를 사용하여, 2561g의 NorparTM15, 823g의 LMA, 26g의 MAA, 26.8g의 98% HEMA 및 8.75g의 V601을 혼합하고, 생성된 혼합물을 70℃에서 16시간동안 반응시켰다. 그런 다음 상기 혼합물을 90℃에서 1시간동안 가열하여 잔류 V601을 파괴시킨 다음, 다시 70℃로 냉각시켰다. 냉각된 혼합물에 13.6g의 95% DBTDL과 41.1g의 TMI를 첨가하였다. 반응 혼합물을 교반하면서 약 5분에 걸쳐 TMI를 적가하였다. 실시예 1의 과정에 따라 상기 혼합물을 70℃에서 약 6시간동안 반응시켰으며, 그 동안 반응은 정량적이었다. 그런 다음 상기 혼합물을 실온으로 냉각시켰다. 냉각된 혼합물은 눈으로 볼 수 있는 불용성 재료를 함유하지 않은 점성의 투명한 용액이었다.
상기 액체 혼합물중의 고형분 백분율은 상기한 할로겐 램프 건조법을 사용하 여 25.10%로 측정되었다. 계속해서 상기한 GPC법으로 분자량을 측정하였다; 상기 공중합체는 2개의 독립적인 측정에 기초하여, 330,300Da의 Mw와 2.34의 Mw/M
n을 가졌다. 생성물은 TMI의 랜덤한 측쇄를 함유한 LMA, MAA와 HEMA의 공중합체이고, 여기서는 LMA/MAA/HEMA-TMI(94/3/3-4.7% w/w)로 명시되고, 쉘에 카르복실 반응기를 함유한 오가노졸을 만드는데 적당하다.
실시예 4
실시예 1의 방법 및 장치를 사용하여, 2561g의 NorparTM15, 796g의 LMA, 53g의 GMA, 26.8g의 98% HEMA 및 8.75g의 V601을 혼합하고, 생성된 혼합물을 70℃에서 16시간동안 반응시켰다. 그런 다음 상기 혼합물을 90℃에서 1시간동안 가열하여 잔류 V601을 파괴시킨 다음, 다시 70℃로 냉각시켰다. 냉각된 혼합물에 13.6g의 95% DBTDL과 41.1g의 TMI를 첨가하였다. 반응 혼합물을 교반하면서 약 5분에 걸쳐 TMI를 적가하였다. 실시예 1의 과정에 따라 상기 혼합물을 70℃에서 약 6시간동안 반응시켰으며, 그 동안 반응은 정량적이었다. 그런 다음 상기 혼합물을 실온으로 냉각시켰다. 냉각된 혼합물은 눈으로 볼 수 있는 불용성 재료를 함유하지 않은 점성의 투명한 용액이었다.
상기 액체 혼합물중의 고형분 백분율은 상기한 할로겐 램프 건조법을 사용하여 25.85%로 측정되었다. 계속해서 상기한 GPC법으로 분자량을 측정하였다; 상기 공중합체는 2개의 독립적인 측정에 기초하여, 251,350Da의 Mw와 3.54의 Mw/M
n을 가졌다. 생성물은 TMI의 랜덤한 측쇄를 함유한 LMA, GMA와 HEMA의 공중합체이고, 여 기서는 LMA/GMA/HEMA-TMI(91/6/3-4.7% w/w)로 명시되고, 쉘에 에폭시 반응기를 함유한 오가노졸을 만드는데 적당하다.
실시예 5
실시예 1의 방법 및 장치를 사용하여, 2561g의 NorparTM15, 823g의 LMA, 54g의 98% HEMA 및 8.75g의 V601을 혼합하고, 생성된 혼합물을 70℃에서 16시간동안 반응시켰다. 그런 다음 상기 혼합물을 90℃에서 1시간동안 가열하여 잔류 V601을 파괴시킨 다음, 다시 70℃로 냉각시켰다. 냉각된 혼합물에 13.6g의 95% DBTDL과 41.1g의 TMI를 첨가하였다. 반응 혼합물을 교반하면서 약 5분에 걸쳐 TMI를 적가하였다. 실시예 1의 과정에 따라 상기 혼합물을 70℃에서 약 6시간동안 반응시켰으며, 그 동안 반응은 정량적이었다. 그런 다음 상기 혼합물을 실온으로 냉각시켰다. 냉각된 혼합물은 눈으로 볼 수 있는 불용성 재료를 함유하지 않은 점성의 투명한 용액이었다.
상기 액체 혼합물중의 고형분 백분율은 상기한 할로겐 램프 건조법을 사용하여 25.43%로 측정되었다. 계속해서 상기한 GPC법으로 분자량을 측정하였다; 상기 공중합체는 2개의 독립적인 측정에 기초하여, 270,765Da의 Mw와 3.26의 Mw/M
n을 가졌다. 생성물은 TMI의 랜덤한 측쇄를 함유한 LMA와 HEMA의 공중합체이고, 여기서는 LMA/HEMA-TMI(94/6-4.7% w/w)로 명시되고, 쉘에 히드록시 반응기를 함유한 오가노졸을 만드는데 적당하다.
실시예 1 내지 5의 그래프트 안정화제의 조성은 하기 표에 요약하였다.
| 실시예 번호 | 그래프트 안정화제 조성(%w/w) | 고형분(%) | 분자량 | |
| Mw | Mw/Mn | |||
| 1(비교) | LMA/HEMA-TMI (97/3-4.7) | 25.64 | 231,350 | 3.24 |
| 2 | LMA/DAAM/HEMA-TMI (94/3/3-4.7) | 24.47 | 278,800 | 2.50 |
| 3 | LMA/MAA/HEMA-TMI (94/3/3-4.7) | 25.10 | 330,300 | 2.34 |
| 4 | LMA/GMA/HEMA-TMI (91/6/3-4.7) | 25.85 | 251,350 | 3.54 |
| 5 | LMA/HEMA-TMI (94/6-4.7) | 25.43 | 270,765 | 3.26 |
실시예 6-13: 오가노졸의 제조
실시예 6(비교)
본 실시예는 코어/쉘 비가 8/1인 비반응성 기를 함유한 오가노졸을 제조하기 위해 실시예 1의 그래프트 안정제를 사용한 비교예이다. 컨덴서, 디지탈 온도 조절기에 연결된 써모커플, 건조 질소 공급원에 연결된 질소 주입 튜브 및 자기 교반기를 구비한 5000ml 용량의 3구 둥근 바닥 플라스크에 2751g의 NorparTM 15, 399.9g의 EMA, 97.9g의 BHA, 25.64%의 중합체 고형분 함량의 실시예 1의 그래프트 안정제 혼합물 242.7g 및 8.40g의 V601의 혼합물을 채웠다. 상기 혼합물을 교반하면서, 반응 플라스크를 건조 질소로 약 2리터/분의 유속으로 30분 동안 퍼지하였다. 그런 다음 중공 유리 마개를 컨덴서의 개방 단부에 삽입하고, 질소 유속을 약 0.5리터/분으로 감소시켰다. 상기 혼합물을 16시간동안 70℃로 가열하였다. 전환(conversion)은 정량적이었다.
약 350g의 n-헵탄을 냉각된 오가노졸에 첨가하고, 결과의 혼합물을 드라이아이스/아세톤 컨덴서가 구비되고 90℃의 온도 및 약 15mmHg의 진공에서 작동하는 회전 증발기를 사용하여 잔류 모노머를 제거하였다. 스트리핑된 오가노졸을 실온으로 냉각시켜 불투명한 백색 분산액을 얻었다.
상기 오가노졸은 LMA/HEMA-TMI//EMA/BHA(97/3-4.7//80/20)로 명시하였고 반응기가 없는 잉크 조성물에 사용될 수 있다. 스트리핑 후 오가노졸 분산액의 고형분 함량은 상기한 할로겐 건조법을 사용하여 15.27%로 측정되었다. 계속해서 상기한 레이저 회절법으로 평균 입자 크기를 측정하였다; 오가노졸은 부피 평균 직경이 32.6㎛이었다.
실시예 7
본 실시예는 코어/쉘 비가 8/1이고 코어 및 쉘 모두에 2차 아민기를 함유한 오가노졸을 제조하기 위하여 실시예 2의 그래프트 안정화제를 사용하는 것을 예시하고 있다. 실시예 6의 방법 및 장치를 사용하여, 2928g의 NorparTM 15, EMA 289.96g, BHA 72.49g, DAAM 10.9g, 24.47%의 중합체 고형분 함량의 실시예 2의 그래프트 안정화제 혼합물 190.7g 및 V601 8.4g을 혼합하였다. 상기 혼합물을 16시간동안 70℃로 가열하였다. 전환은 정량적이었다. 그런 다음 상기 혼합물을 실온으로 냉각시켰다. 잔류 모노머를 제거하기 위해 실시예 6의 방법을 사용하여 오가노졸을 스트리핑한 후 스트리핑된 오가노졸을 실온으로 냉각시켜 불투명한 백색 분산액을 얻었다. 상기 오가노졸은 LMA/DAAM/HEMA-TMI//EMA/DAAM/BHA(94/3/3- 4.7//77/3/20% w/w)로 명시되고, 고온에서 정착될 때 반응하여 가교결합된 필름을 형성하는 잉크 조성물을 제조하는데 사용될 수 있다. 정착된 잉크 필름은 개선된 내블로킹성 및 내삭제성을 나타내었다. 스트리핑후 오가노졸 분산액의 고형분 함량은 상기한 할로겐 건조법을 사용하여 12.15%로 측정되었다. 계속해서 상기한 레이저회절법으로 평균 입자크기를 측정하였다; 오가노졸은 부피 평균직경이 11.5㎛이었다.
실시예 8
본 실시예는 코어/쉘 비가 8/1이고 코어 및 쉘 모두에 카르복실기를 함유한 오가노졸을 제조하기 위하여 실시예 3의 그래프트 안정화제를 사용하는 것을 예시하고 있다. 실시예 6의 방법 및 장치를 사용하여 2932g의 NorparTM 15, EMA 289.96g, BHA 72.49g, MAA 10.9g, 25.10%의 중합체 고형분 함량의 실시예 3의 그래프트 안정화제 혼합물 185.9g 및 V601 8.4g을 혼합하였다. 상기 혼합물을 16시간동안 70℃로 가열하였다. 전환은 정량적이었다. 그런 다음 상기 혼합물을 실온으로 냉각시켰다. 잔류 모노머를 제거하기 위해 실시예 6의 방법을 사용하여 오가노졸을 스트리핑한 후, 스트리핑된 오가노졸을 실온으로 냉각시켜 불투명한 백색 분산액을 얻었다. 상기 오가노졸은 LMA/MAA/HEMA-TMI//EMA/MAA/BHA(94/3/3-4.7//77/3/20% w/w)로 명시되고, 고온에서 정착될 때 반응하여 가교결합된 필름을 형성하는 잉크 조성물을 제조하는데 사용될 수 있다. 정착된 잉크 필름은 개선된 내블로킹성 및 내삭제성을 나타내었다. 스트리핑후 오가노졸 분산액의 고형분 함 량은 상기한 할로겐 건조법을 사용하여 11.31%로 측정되었다. 계속해서 상기한 레이저회절법으로 평균 입자크기를 측정하였다; 오가노졸은 부피 평균직경이 102.7㎛이었다.
실시예 9
본 실시예는 코어/쉘 비가 8/1이고 코어 및 쉘 모두에 에폭시기를 함유한 오가노졸을 제조하기 위하여 실시예 4의 그래프트 안정화제를 사용하는 것을 예시하고 있다. 실시예 6의 방법 및 장치를 사용하여 2938g의 NorparTM 15, EMA 289.96g, BHA 72.49g, GMA 10.9g, 25.85%의 중합체 고형분 함량의 실시예 4의 그래프트 안정화제 혼합물 180.5g 및 V601 8.4g을 혼합하였다. 상기 혼합물을 16시간동안 70℃로 가열하였다. 전환은 정량적이었다. 그런 다음 상기 혼합물을 실온으로 냉각시켰다. 잔류 모노머를 제거하기 위해 실시예 6의 방법을 사용하여 오가노졸을 스트리핑한 후, 스트리핑된 오가노졸을 실온으로 냉각시켜 불투명한 백색 분산액을 얻었다. 상기 오가노졸은 LMA/GMA/HEMA-TMI//EMA/GMA/BHA(91/6/3-4.7//77/3/20% w/w)로 명시되고, 고온에서 정착될 때 반응하여 가교결합된 필름을 형성하는 잉크 조성물을 제조하는데 사용될 수 있다. 정착된 잉크 필름은 개선된 내블로킹성 및 내삭제성을 나타내었다. 스트리핑후 오가노졸 분산액의 고형분 함량은 상기한 할로겐 건조법을 사용하여 11.68%로 측정되었다. 계속해서 상기한 레이저회절법으로 평균 입자크기를 측정하였다; 오가노졸은 부피 평균직경이 15.5㎛이었다.
실시예 10
본 실시예는 코어/쉘 비가 8/1이고 코어 및 쉘 모두에 히드록실기를 함유한 오가노졸을 제조하기 위하여 실시예 5의 그래프트 안정화제를 사용하는 것을 예시하고 있다. 실시예 6의 방법 및 장치를 사용하여 2937g의 NorparTM 15, EMA 284.15g, BHA 71.04g, 98% HEMA 18.1g, 25.43%의 중합체 고형분 함량의 실시예 5의 그래프트 안정화제 혼합물 183.5g 및 V601 6.3g을 혼합하였다. 상기 혼합물을 16시간동안 70℃로 가열하였다. 전환은 정량적이었다. 그런 다음 상기 혼합물을 실온으로 냉각시켰다. 잔류 모노머를 제거하기 위해 실시예 6의 방법을 사용하여 오가노졸을 스트리핑한 후, 스트리핑된 오가노졸을 실온으로 냉각시켜 불투명한 백색 분산액을 얻었다. 상기 오가노졸은 LMA/HEMA-TMI//EMA/HEMA/BHA(94/6-4.7//75/5/20% w/w)로 명시되고, 고온에서 정착될 때 반응하여 가교결합된 필름을 형성하는 잉크 조성물을 제조하는데 사용될 수 있다. 정착된 잉크 필름은 개선된 내블로킹성 및 내삭제성을 나타내었다. 스트리핑후 오가노졸 분산액의 고형분 함량은 상기한 할로겐 건조법을 사용하여 11.04%로 측정되었다. 계속해서 상기한 레이저회절법으로 평균 입자크기를 측정하였다; 오가노졸은 부피 평균직경이 37.9㎛이었다.
실시예 11
본 실시예는 코어/쉘 비가 8/1이고 코어에 이소시아네이트기를 함유한 오가노졸을 제조하기 위하여 실시예 1의 그래프트 안정화제를 사용하는 것을 예시하고 있다. 실시예 6의 방법 및 장치를 사용하여 2349g의 NorparTM 15, EMA 591.99g, BHA 148.0g, TMI 37.8g, 25.64%의 중합체 고형분 함량의 실시예 1의 그래프트 안정화제 혼합물 364.9g 및 V601 8.75g을 혼합하였다. 상기 혼합물을 16시간동안 70℃로 가열하였다. 전환은 정량적이었다. 그런 다음 상기 혼합물을 실온으로 냉각시켰다. 잔류 모노머를 제거하기 위해 실시예 6의 방법을 사용하여 오가노졸을 스트리핑한 후, 스트리핑된 오가노졸을 실온으로 냉각시켜 불투명한 백색 분산액을 얻었다. 상기 오가노졸은 LMA/HEMA-TMI//EMA/TMI/BHA(94/3-4.7//75/5/20% w/w)로 명시되고, 고온에서 정착될 때 반응하여 가교결합된 필름을 형성하는 잉크 조성물을 제조하는데 사용될 수 있다. 정착된 잉크 필름은 개선된 내블로킹성 및 내삭제성을 나타내었다. 스트리핑후 오가노졸 분산액의 고형분 함량은 상기한 할로겐 건조법을 사용하여 24.54%로 측정되었다. 계속해서 상기한 레이저회절법으로 평균 입자크기를 측정하였다; 오가노졸은 부피 평균직경이 21.7㎛이었다.
실시예 12
본 실시예는 코어/쉘 비가 8/1이고 쉘에 카르복실기를, 코어에 이소시아네이트기를 함유한 오가노졸을 제조하기 위하여 실시예 3의 그래프트 안정화제를 사용하는 것을 예시하고 있다.실시예 6의 방법 및 장치를 사용하여, 2322g의 NorparTM 15, EMA 591.99g, BHA 148.0g, TMI 37.8g, 25.10%의 중합체 고형분 함량의 실시예 3의 그래프트 안정화제 혼합물 364.9g 및 V601 13.13g을 혼합하였다.상기 혼합물을 16시간동안 70℃로 가열하였다.전환은 정량적이었다.그런 다음 상기 혼합물을 실온으로 냉각시켰다. 잔류 모노머를 제거하기 위해 실시예 6의 방법을 사용하여 오가 노졸을 스트리핑한 후, 스트리핑된 오가노졸을 실온으로 냉각시켜 불투명한 백색 분산액을 얻었다.상기 오가노졸은 LMA/MAA/HEMA-TMI//EMA/TMI/BHA(94/3/3-4.7//75/5/20% w/w)로 명시되고, 고온에서 정착될 때 반응하여 가교결합된 필름을 형성하는 잉크 조성물을 제조하는데 사용될 수 있다.정착된 잉크 필름은 개선된 내블로킹성 및 내삭제성을 나타내었다.스트리핑후 오가노졸 분산액의 고형분 함량은 상기한 할로겐 건조법을 사용하여 25.26%로 측정되었다.계속해서 상기한 레이저회절법으로 평균 입자크기를 측정하였다; 오가노졸은 부피 평균직경이 5.0㎛이었다.
실시예 13
본 실시예는 코어/쉘 비가 8/1이고 코어에 3차 아민기를 함유한 오가노졸을 제조하기 위하여 실시예 1의 그래프트 안정화제를 사용하는 것을 예시하고 있다. 실시예 6의 방법 및 장치를 사용하여 2945g의 NorparTM 15, EMA 362.5g, DMAEMA 10.9g, 25.64%의 중합체 고형분 함량의 실시예 1의 그래프트 안정화제 혼합물 175.2g 및 V601 6.3g을 혼합하였다. 상기 혼합물을 16시간동안 70℃로 가열하였다. 전환은 정량적이었다. 그런 다음 상기 혼합물을 실온으로 냉각시켰다. 잔류 모노머를 제거하기 위해 실시예 6의 방법을 사용하여 오가노졸을 스트리핑한 후, 스트리핑된 오가노졸을 실온으로 냉각시켜 불투명한 백색 분산액을 얻었다. 상기 오가노졸은 LMA/HEMA-TMI//EMA/DMAEMA(97/3-4.7//97/3%w/w)로 명시되고, 고온에서 정착될 때 반응하여 가교결합된 필름을 형성하는 잉크 조성물을 제조하는데 사용될 수 있다. 정착된 잉크 필름은 개선된 내블로킹성 및 내삭제성을 나타내었다. 스 트리핑후 오가노졸 분산액의 고형분 함량은 상기한 할로겐 건조법을 사용하여 11.67%로 측정되었다. 계속해서 상기한 레이저회절법으로 평균 입자크기를 측정하였다; 오가노졸은 부피 평균직경이 23.7㎛이었다.
실시예 6-13에서 제조한 오가노졸 공중합체의 조성을 하기표에 요약하였다.
| 실시예 번호 | 오가노졸 조성(%w/w) | 반응기 |
| 6(비교) | LMA/HEMA-TMI//EMA-BHA (97/3-4.7//80/20) | 없음 |
| 7 | LMA/DAAM/HEMA-TMI//EMA/DAAM/BHA (94/3/3-4.7//77/3/20) | 2차 아민 |
| 8 | LMA/MAA/HEMA-TMI//EMA/MAA/BHA (94/3/3-4.7//77/3/20) | 카르복실 |
| 9 | LMA/GMA/HEMA-TMI//EMA/GMA/BHA (91/6/3-4.7//77/3/20) | 에폭시 |
| 10 | LMA/HEMA-TMI//EMA/HEMA/BHA (94/6-4.7//75/5/20) | 히드록시 |
| 11 | LMA/HEMA-TMI//EMA/TMI/BHA (97/3-4.7//75/5/20) | 이소시아네이트 |
| 12 | LMA/MAA/HEMA-TMI//EMA/TMI/BHA (94/3/3-4.7//75/5/20) | 카르복실 및 이소시아네이트 |
| 13 | LMA/HEMA-TMI//EMA/DMAEMA (97/3-4.7//97/3) | 3차 아민 |
실시예 14-18: 습식 토너 조성물의 제조
이들 실시예에서 제조된 습식 토너조성물의 특정을 위하여, 하기의 것들을 측정하였다: 크기 관련 성질(입자 크기); 전하 관련 성질(벌크 및 자유 상 전도도, 동적 이동도 및 제타 전위) 및 토너 전하/질량(Q/M)에 직접 비례하는 파라미터인 전하/현상된 반사광밀도(Z/ROD).
실시예 14(비교)
이것은 실시예 6에서 코어/쉘 비 8로 제조한 오가노졸을 사용하여 오가노졸 안료비가 8.5인 시안 습식 토너를 제조하는 비교예이다. NorparTM15중의 15.27%(w/w) 고형분 함량의 오가노졸 279g을 14g의 NorparTM15, 5g의 Pigment Blue 15:4(Sun Chemical Company, Cincinnati, Ohio) 및 0.90g의 5.91% 지르코늄 HEX-CEM 용액(OMG Chemical Company, Cleveland, Ohio)과 8온스의 유리병(glass jar)에서 혼합하였다. 그런 다음 상기 혼합물을 직경이 1.3mm인 포터즈 유리 비이드(Potters Industries, Inc., Parsippany, NJ) 390g이 충전된 0.5리터 수직 비드 밀(모델 6TSG-1/4, Amex Co., Ltd., Tokyo, Japan)에서 밀링하였다. 상기 밀은 밀링 챔버의 냉각 자켓을 통해 냉각수를 순환시키지 않고서 1.5시간동안 2,000RPM에서 작동되었다.
16%(w/w) 고형분 함량을 가진 토너 농축액은 상기한 테스트 방법으로 측정하였을 때 하기 특성을 나타내었다:
부피 평균입자 크기: 1.2미크론
Q/M: 324μC/g
벌크 전도도: 115picoMhos/cm
자유 상 전도도 백분율: 10.5%
동적 이동도: 4.46E-12(m2/Vsec)
상기 토너는 전술한 프린팅 장치에서 테스트하였다. 반사 광밀도(OD)는 450볼트보다 큰 플레이팅 전압(plating voltage)에서 1.3이었다.
실시예 15
이것은 고온에서 정착하였을 때 반응하는 에폭시 및 2차 아민기를 함유한 시안 습식 토너를 제조하는 실시예이다. 실시예 7과 9에서 코어/쉘 비 8로 제조한 오가노졸을 혼합하여 오가노졸 안료 비 8의 토너를 제조하였다. NorparTM15중의 12.15%(w/w) 고형분 함량의 실시예 7의 오가노졸 126g 및 NorparTM15중의 11.68%(w/w) 고형분 함량의 실시예 9의 오가노졸 131g을 38g의 NorparTM15, 4g의 Pigment Blue 15:4(Sun Chemical Company, Cincinnati, Ohio) 및 0.69g의 5.91% 지르코늄 HEX-CEM 용액(OMG Chemical Company, Cleveland, Ohio)과 8온스의 유리병에서 혼합하였다. 그런 다음 상기 혼합물을 직경이 1.3mm인 포터즈 유리 비이드(Potters Industries, Inc., Parsippany, NJ) 390g이 충전된 0.5리터 수직 비드 밀(모델 6TSG-1/4, Amex Co., Ltd., Tokyo, Japan)에서 밀링하였다. 상기 밀은 밀링 챔버의 냉각 자켓을 통해 냉각수를 순환시키지 않고서 1.5시간동안 2,000RPM에서 작동시켰으며, 챔버 온도는 35℃로 유지하였다.
12%(w/w)의 고형분 함량을 가진 토너 농축액은 상기한 테스트 방법을 사용하여 측정하였을 때 하기 특성을 나타내었다:
부피 평균입자 크기: 4.2미크론
Q/M: 259μC/g
벌크 전도도: 75picoMhos/cm
자유 상 전도도 백분율: 5.5%
동적 이동도: 4.46E-12(m2/Vsec)
상기 토너는 전술한 프린팅 장치에서 테스트하였다. 반사 광밀도(OD)는 450볼트보다 큰 플레이팅 전압에서 1.3이었다.
실시예 16
이것은 고온에서 정착하였을 때 반응하는 카르복실 및 2차 아민기를 함유한 시안 습식 토너를 제조하는 실시예이다. 실시예 7과 8에서 코어/쉘 비 8로 제조한 오가노졸을 혼합하여 오가노졸 안료 비 8의 토너를 제조하였다. NorparTM15중의 12.15%(w/w) 고형분 함량의 실시예 7의 오가노졸 126g 및 NorparTM15중의 11.31%(w/w) 고형분 함량의 실시예 8의 오가노졸 136g을 33g의 NorparTM15, 4g의 Pigment Blue 15:4(Sun Chemical Company, Cincinnati, Ohio) 및 1.73g의 5.91% 지르코늄 HEX-CEM 용액(OMG Chemical Company, Cleveland, Ohio)과 8온스의 유리병에서 혼합하였다. 그런 다음 상기 혼합물을 직경이 1.3mm인 포터즈 유리 비이드(Potters Industries, Inc., Parsippany, NJ) 390g이 충전된 0.5리터 수직 비드 밀(모델 6TSG-1/4, Amex Co., Ltd., Tokyo, Japan)에서 밀링하였다. 상기 밀은 밀링 챔버의 냉각 자켓을 통해 냉각수를 순환시키지 않고서 1.5시간동안 2,000RPM에서 작동시켰으며, 챔버 온도는 35℃로 유지하였다.
12%(w/w)의 고형분 함량을 가진 토너 농축액은 상기한 테스트 방법을 사용하여 측정하였을 때 하기 특성을 나타내었다:
부피 평균입자 크기: 3.6미크론
Q/M: 609μC/g
벌크 전도도: 114picoMhos/cm
자유 상 전도도 백분율: 5.3%
동적 이동도: 1.78E-11(m2/Vsec)
상기 토너는 전술한 프린팅 장치에서 테스트하였다. 반사 광밀도(OD)는 450볼트보다 큰 플레이팅 전압에서 1.0이었다.
실시예 17
이것은 고온에서 정착하였을 때 반응하는 히드록시 및 이소시아네이트기를 함유한 시안 습식 토너를 제조하는 실시예이다. 실시예 10과 11에서 코어/쉘 비 8로 제조한 오가노졸을 혼합하여 오가노졸 안료 비 8의 토너를 제조하였다. NorparTM15중의 11.04%(w/w) 고형분 함량의 실시예 10의 오가노졸 139g 및 NorparTM15중의 24.54%(w/w) 고형분 함량의 실시예 11의 오가노졸 62g을 93g의 NorparTM15, 4g의 Pigment Blue 15:4(Sun Chemical Company, Cincinnati, Ohio) 및 1.39g의 5.91% 지르코늄 HEX-CEM 용액(OMG Chemical Company, Cleveland, Ohio)과 8온스의 유리병에서 혼합하였다. 그런 다음 상기 혼합물을 직경이 1.3mm인 포터즈 유리 비이드(Potters Industries, Inc., Parsippany, NJ) 390g이 충전된 0.5리터 수직 비드 밀(모델 6TSG-1/4, Amex Co., Ltd., Tokyo, Japan)에서 밀링하였다. 상 기 밀은 밀링 챔버의 냉각 자켓을 통해 냉각수를 순환시키지 않고서 1.5시간동안 2,000RPM에서 작동시켰으며, 챔버 온도는 35℃로 유지하였다.
12%(w/w)의 고형분 토너 농축액은 상기한 테스트 방법을 사용하여 측정하였을 때 하기 특성을 나타내었다:
부피 평균입자 크기: 2.4미크론
Q/M: 664μC/g
벌크 전도도: 151picoMhos/cm
자유 상 전도도 백분율: 7.0%
동적 이동도: 1.67E-11(m2/Vsec)
상기 토너는 전술한 프린팅 장치에서 테스트하였다. 반사 광밀도(OD)는 450볼트보다 큰 플레이팅 전압에서 1.1이었다.
실시예 18
이것은 고온에서 정착하였을 때 반응하는 카르복실, 이소시아네이트 및 히드록시기를 함유한 시안 습식 토너를 제조하는 실시예이다. 실시예 10과 12에서 코어/쉘 비 8로 제조한 오가노졸을 혼합하여 오가노졸 안료 비 8의 토너를 제조하였다. NorparTM15중의 11.04%(w/w) 고형분 함량의 실시예 10의 오가노졸 139g 및 NorparTM15중의 25.26%(w/w) 고형분 함량의 실시예 12의 오가노졸 61g을 94g의 NorparTM15, 4g의 Pigment Blue 15:4(Sun Chemical Company, Cincinnati, Ohio) 및 1.39g의 5.91% 지르코늄 HEX-CEM 용액(OMG Chemical Company, Cleveland, Ohio)과 8온스의 유리병에서 혼합하였다. 그런 다음 상기 혼합물을 직경이 1.3mm인 포터즈 유리 비이드(Potters Industries, Inc., Parsippany, NJ) 390g이 충전된 0.5리터 수직 비드 밀(모델 6TSG-1/4, Amex Co., Ltd., Tokyo, Japan)에서 밀링하였다. 상기 밀은 밀링 챔버의 냉각 자켓을 통해 냉각수를 순환시키지 않고서 1.5시간동안 2,000RPM에서 작동시켰으며, 챔버 온도는 35℃로 유지하였다.
12%(w/w)의 고형분 토너 농축액은 상기한 테스트 방법을 사용하여 측정하였을 때 하기 특성을 나타내었다:
부피 평균입자 크기: 3.0미크론
Q/M: 405μC/g
벌크 전도도: 80picoMhos/cm
자유 상 전도도 백분율: 6.0%
동적 이동도: 1.66E-11(m2/Vsec)
상기 토너는 전술한 프린팅 장치에서 테스트하였다. 반사 광밀도(OD)는 450볼트보다 큰 플레이팅 전압에서 1.0이었다.
실시예 19(비교)
이것은 에폭시기만 가지고 반응기가 없는 시안 습식 토너를 제조하는 비교예이다. 실시예 9에서 코어/쉘 비 8로 제조한 오가노졸을 사용하여 오가노졸 안료 비 8의 토너를 제조하였다. NorparTM15중의 11.68%(w/w) 고형분 함량의 오가노졸 274g을 21g의 NorparTM15, 4g의 Pigment Blue 15:4(Sun Chemical Company, Cincinnati, Ohio) 및 0.72g의 5.91% 지르코늄 HEX-CEM 용액(OMG Chemical Company, Cleveland, Ohio)과 8온스의 유리병에서 혼합하였다. 그런 다음 상기 혼합물을 직경이 1.3mm인 포터즈 유리 비이드(Potters Industries, Inc., Parsippany, NJ) 390g이 충전된 0.5리터 수직 비드 밀(모델 6TSG-1/4, Amex Co., Ltd., Tokyo, Japan)에서 밀링하였다. 상기 밀은 밀링 챔버의 냉각 자켓을 통해 냉각수를 순환시키지 않고서 1.5시간동안 2,000RPM에서 작동시켰다.
12%(w/w)의 고형분 토너 농축액은 상기한 테스트 방법을 사용하여 측정하였을 때 하기 특성을 나타내었다:
부피 평균입자 크기: 3.8미크론
Q/M: 235μC/g
벌크 전도도: 73picoMhos/cm
자유 상 전도도 백분율: 2.9%
동적 이동도: 1.43E-11(m2/Vsec)
상기 토너는 전술한 프린팅 장치에서 테스트하였다. 반사 광밀도(OD)는 450볼트보다 큰 플레이팅 전압에서 1.3이었다.
실시예 20
내삭제성 데이타
하기 표의 데이타를 얻기위해 샘플의 내삭제성을 측정하였다.
| 실시예 | 반응기 | 광학 밀도 | 내삭제성 |
| 14(비교) | 없음 | 1.3 | 상당함 |
| 15 | 에폭시-2차 아민 | 1.3 | 개선됨 |
| 16 | 카르복실-2차 아민 | 1.0 | 개선됨 |
| 17 | 히드록시-이소시아네이트 | 1.1 | 개선됨 |
| 18 | 히드록시-카르복실-이소시아네이트 | 1.0 | 개선됨 |
| 19(비교) | 에폭시 | 1.3 | 상당함 |
화상의 내삭제성 시험 방법
화상의 내삭제성은 ASTM F1319-94에 따라 테스트하였다. 화상은 전술한 프린팅 장치에서 형성하였다. 화상의 광학 밀도(OD)는 시안, 마젠타 및 블랙에 대해서는 1.3으로, 옐로우에 대해서는 0.8로 유지하였다.
프린팅된 화상은 마찰견뢰도 시험기(Crockmeter; Atlas Electric Devices Co., Chicago, IL에서 구입가능)에 놓았다. 마찰견뢰도 시험기 테스트 천(Testfabrics Inc., Middlesex, NJ에서 구입가능)을 제조자가 제안한대로 핑거의 단부 위로 탑재하였다. 천 통과 횟수를 기록하고 천 위에서의 해당하는 OD를 측정하였다. 화상의 내삭제성은 하기 식을 사용하여 계산하였다:
내삭제성= OD(삭제전 화상)-OD(삭제후 천)/OD(삭제전 화상)
결과는 도 4에 도시하였다.
본 발명의 다른 구현예는 본 명세서 및 본원에 개시된 실시예를 고려하면 당해 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명백할 것이다. 본원에 기재된 구현예 및 원리에 대한 다양한 삭제, 수정 및 변경은 하기 청구범위로 표시한 본 발명 의 범위 및 의도를 벗어나지 않고서 당해 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 가능하다.
본원에 인용된 모든 특허, 특허 문서 및 공보는 개별적으로 통합된 것처럼 본원에 인용에 의해 통합되어 있다.
본 발명에 따르면 내삭제성 및 내블로킹성이 우수한 습식 전자사진용 토너 조성물을 얻을 수 있다.
Claims (20)
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- (a) 카우리-부탄올 넘버가 30 미만인 액체 캐리어;(b) 상기 액체 캐리어에 분산된 복수개의 토너 입자; 및 하나 이상의 시각개선첨가제를 포함하는 습식 전자사진용 토너 조성물로서, 상기 토너 입자는 상보적인 가교결합가능한 작용기와 하나 이상의 S 재료 부분과 하나 이상의 D 재료 부분을 포함하는 적어도 하나의 양친매성 공중합체를 포함하고, 상기 가교결합가능한 작용기는 적어도 D 재료 부분의 측쇄인 것을 특징으로 하는 습식 전자사진용 토너 조성물.
- (a) 카우리-부탄올 넘버가 30 미만인 액체 캐리어;(b) 상기 액체 캐리어에 분산된 복수개의 토너 입자; 및 하나 이상의 시각개선첨가제를 포함하는 습식 전자사진용 토너 조성물로서, 상기 토너 입자는 상보적인 가교결합가능한 작용기와 하나 이상의 S 재료 부분과 하나 이상의 D 재료 부분을 포함하는 적어도 하나의 양친매성 공중합체를 포함하고, 상기 가교결합가능한 작용기는 적어도 S 재료 부분의 측쇄인 것을 특징으로 하는 습식 전자사진용 토너 조성물.
- (a) 카우리-부탄올 넘버가 30 미만인 액체 캐리어;(b) 상기 액체 캐리어에 분산된 복수개의 토너 입자; 및 하나 이상의 시각개선첨가제를 포함하는 습식 전자사진용 토너 조성물로서, 상기 토너 입자는 상보적인 가교결합가능한 작용기와 하나 이상의 S 재료 부분과 하나 이상의 D 재료 부분을 포함하는 적어도 하나의 양친매성 공중합체를 포함하고, 상기 제 1 가교결합가능한 작용기는 S 재료 부분의 측쇄이고, 제 2 가교결합가능한 작용기는 D 재료 부분의 측쇄인 것을 특징으로 하는 습식 전자사진용 토너 조성물.
- 제 6항에 있어서, 상기 제 1 및 제 2 가교결합가능한 작용기는 동일한 것을 특징으로 하는 습식 전자사진용 토너 조성물.
- 제 6항에 있어서, 상기 제 1 및 제 2 가교결합가능한 작용기는 상이한 것을 특징으로 하는 습식 전자사진용 토너 조성물.
- 제 6항에 있어서, 상기 제 1 및 제 2 가교결합가능한 작용기는 상보적인 것을 특징으로 하는 습식 전자사진용 토너 조성물.
- 제 4항에 있어서, 상기 가교결합가능한 작용기는 에폭시 부분을 포함하는 것을 특징으로 하는 습식 전자사진용 토너 조성물.
- 제 4항에 있어서, 상기 가교결합가능한 작용기는 아민 부분을 포함하는 것을 특징으로 하는 습식 전자사진용 토너 조성물.
- 제 4항에 있어서, 상기 D 재료는 40℃미만의 Tg를 가지는 것을 특징으로 하는 습식 전자사진용 토너 조성물.
- (a) 카우리 부탄올 넘버가 30 미만인 액체 캐리어; 및(b) 하나 이상의 S 재료 부분과 하나 이상의 D 재료 부분을 포함하고, 제 1 가교결합가능한 작용기를 포함하는 제 1의 양친매성 공중합체를 포함하는, 상기 액체 캐리어에 분산된 제 1의 복수개의 토너 입자; 및(c) 하나 이상의 S 재료 부분과 하나 이상의 D 재료 부분을 포함하고 제 2 가교결합가능한 작용기를 포함하는 제 2의 양친매성 공중합체를 포함하는, 상기 액체 캐리어에 분산된 제 2의 복수개의 토너 입자를 포함하는 습식 전자사진용 토너 조성물.
- 제 13항에 있어서, 상기 제 1 가교결합가능한 작용기는 상기 제 1 양친매성 공중합체의 D 재료의 측쇄이고, 상기 제 2 가교결합가능한 작용기는 상기 제 2 양친매성 공중합체의 D 재료의 측쇄인 것을 특징으로 하는 습식 전자사진용 토너 조성물.
- 제 13항에 있어서, 상기 제 1 가교결합가능한 작용기는 상기 제 1 양친매성 공중합체의 S 재료의 측쇄이고, 상기 제 2 가교결합가능한 작용기는 상기 제 2 양친매성 공중합체의 S 재료의 측쇄인 것을 특징으로 하는 습식 전자사진용 토너 조성물.
- 제 13항에 있어서, 상기 제 1 가교결합가능한 작용기는 상기 제 1 양친매성 공중합체의 S 및 D 재료의 측쇄이고, 상기 제 2 가교결합가능한 작용기는 상기 제 2 양친매성 공중합체의 S 및 D 재료의 측쇄인 것을 특징으로 하는 습식 전자사진용 토너 조성물.
- 제 13항에 있어서, 상기 제 1 가교결합가능한 작용기는 에폭시 부분을 포함하고, 상기 제 2 가교결합가능한 작용기는 아민 부분을 포함하는 것을 특징으로 하는 습식 전자사진용 토너 조성물.
- 제 16항에 있어서, 상기 제 1 가교결합가능한 작용기는 에폭시 부분을 포함 하고, 상기 제 2 가교결합가능한 작용기는 아민 부분을 포함하는 것을 특징으로 하는 습식 전자사진용 토너 조성물.
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| US7220811B2 (en) * | 2004-03-04 | 2007-05-22 | Basf Corporation | Acrylic composition and a curable coating composition including the same |
| US20050220518A1 (en) * | 2004-03-31 | 2005-10-06 | Eastman Kodak Company | Treatment of preprinted media for improved toner adhesion |
| US7405027B2 (en) * | 2004-10-31 | 2008-07-29 | Samsung Electronics Company | Liquid toners comprising toner particles prepared in a solvent other than the carrier liquid |
| US7318987B2 (en) * | 2004-10-31 | 2008-01-15 | Samsung Electronics Company | Dry toner comprising entrained wax |
| US7229736B2 (en) * | 2004-10-31 | 2007-06-12 | Samsung Electronics Company | Liquid electrophotographic toners comprising amphipathic copolymers having acidic or basic functionality and wax having basic or acidic functionality |
| US7354687B2 (en) * | 2004-10-31 | 2008-04-08 | Samsung Electronics Company | Dry toner blended with wax |
| US7432033B2 (en) * | 2004-10-31 | 2008-10-07 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Printing systems and methods for liquid toners comprising dispersed toner particles |
| US7306886B2 (en) * | 2004-10-31 | 2007-12-11 | Samsung Electronics Company | Dry toner comprising wax |
| US20060093953A1 (en) * | 2004-10-31 | 2006-05-04 | Simpson Charles W | Liquid toners comprising amphipathic copolymeric binder and dispersed wax for electrographic applications |
| US8940469B2 (en) * | 2006-10-13 | 2015-01-27 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Liquid developer with an incompatible additive |
| EP1973003A1 (en) * | 2007-03-20 | 2008-09-24 | AEG Elektrofotografie GmbH | Liquid developer composition and method of its preparation |
| JP5146824B2 (ja) * | 2008-06-09 | 2013-02-20 | 株式会社リコー | 粘着転写用液体現像剤 |
| JP5277800B2 (ja) * | 2008-09-03 | 2013-08-28 | セイコーエプソン株式会社 | 液体現像剤 |
| WO2011063380A1 (en) * | 2009-11-23 | 2011-05-26 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Inks jet ink comprising crosslinked pigment dispersion based on structured vinyl polymeric dispersants |
| JP2013511605A (ja) * | 2009-11-23 | 2013-04-04 | イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー | 構造化ビニルポリマー分散剤に基づく架橋顔料分散系 |
| US9441123B2 (en) | 2012-08-15 | 2016-09-13 | Penn Color, Inc. | Cationic water based polymers for ink, coating, and film applications |
| US9434849B2 (en) | 2012-10-19 | 2016-09-06 | Penn Color, Inc. | Water based anionic polymers for ink, coating, and film applications |
Family Cites Families (54)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3411936A (en) | 1965-03-01 | 1968-11-19 | Interchem Corp | Developing electrostatic images with a liquid developer containing tetraphenyl tin or zirconyl 2-ethylhexoate |
| US3753760A (en) * | 1970-01-30 | 1973-08-21 | Hunt P | Liquid electrostatic development using an amphipathic molecule |
| US4268598A (en) | 1979-10-15 | 1981-05-19 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Developing powder composition containing fluoroaliphatic sulfonamido surface active agent |
| US4321404A (en) | 1980-05-20 | 1982-03-23 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Compositions for providing abherent coatings |
| US4476210A (en) | 1983-05-27 | 1984-10-09 | Xerox Corporation | Dyed stabilized liquid developer and method for making |
| US4794651A (en) | 1984-12-10 | 1988-12-27 | Savin Corporation | Toner for use in compositions for developing latent electrostatic images, method of making the same, and liquid composition using the improved toner |
| US4613559A (en) | 1985-04-01 | 1986-09-23 | Xerox Corporation | Process for colored toner compositions with controlled charges thereon |
| US4727011A (en) | 1986-10-16 | 1988-02-23 | Xerox Corporation | Processes for encapsulated toner compositions with interfacial/free-radical polymerization |
| US4762764A (en) | 1986-12-23 | 1988-08-09 | Xerox Corporation | Liquid developer |
| US4728983A (en) | 1987-04-15 | 1988-03-01 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Single beam full color electrophotography |
| JP2774530B2 (ja) | 1988-10-18 | 1998-07-09 | 株式会社リコー | 電子写真用トナー |
| US4978598A (en) | 1988-12-02 | 1990-12-18 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Process for producing a liquid electrophotographic toner |
| WO1992017825A1 (en) | 1989-01-04 | 1992-10-15 | Spectrum Sciences B.V. | Imaging system with intermediate transfer members |
| US4937167A (en) | 1989-02-21 | 1990-06-26 | Xerox Corporation | Process for controlling the electrical characteristics of toners |
| US4965161A (en) | 1989-05-31 | 1990-10-23 | Nashua Corporation | Non-crosslinked electrographic copolymer composition and imaging process |
| US5023159A (en) | 1989-10-10 | 1991-06-11 | Xerox Corporation | Encapsulated electrophotographic toner compositions |
| US5262259A (en) | 1990-01-03 | 1993-11-16 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Toner developed electrostatic imaging process for outdoor signs |
| US4988602A (en) | 1990-04-18 | 1991-01-29 | Minnesota Mining And Manufacturing Co. | Liquid electrophotographic toner with acid containing polyester resins |
| JPH04151671A (ja) | 1990-10-15 | 1992-05-25 | Nippon Paint Co Ltd | トナーの製法 |
| EP0577597B1 (en) | 1991-03-26 | 1996-05-15 | Indigo N.V. | Imaging system with intermediate transfer members |
| US5115277A (en) | 1991-05-17 | 1992-05-19 | Hewlett-Packard Company | Electrostatically assisted transfer roller and method for directly transferring liquid toner to a print medium |
| JPH05119529A (ja) | 1991-10-30 | 1993-05-18 | Minolta Camera Co Ltd | 静電荷像現像用トナー |
| US5232811A (en) * | 1991-12-19 | 1993-08-03 | Olin Corporation | Easy cleaning liquid electrophotographic developer |
| US5264315A (en) | 1992-04-20 | 1993-11-23 | Xerox Corporation | Process for the continuous preparation of encapsulated toner |
| US5529873A (en) | 1993-04-20 | 1996-06-25 | Canon Kabushiki Kaisha | Toner for developing electrostatic images and process for producing toner |
| US5482809A (en) | 1994-06-16 | 1996-01-09 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Liquid toners from soluble polymeric dispersants with reactive groups |
| US6255363B1 (en) | 1995-09-29 | 2001-07-03 | 3M Innovative Properties Company | Liquid inks using a gel organosol |
| US5652282A (en) | 1995-09-29 | 1997-07-29 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Liquid inks using a gel organosol |
| US5650253A (en) | 1995-09-29 | 1997-07-22 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Method and apparatus having improved image transfer characteristics for producing an image on a receptor medium such as a plain paper |
| JP4087444B2 (ja) | 1995-09-29 | 2008-05-21 | スリーエム カンパニー | 制御された結晶性オルガノゾルを使用する液体インク |
| JP2000515254A (ja) | 1995-09-29 | 2000-11-14 | イメイション・コーポレイション | 電子写真システムにおいて多色画像を形成する方法および装置 |
| US6103781A (en) | 1996-09-26 | 2000-08-15 | 3M Innovative Properties Company | Liquid inks using a controlled crystallinity organosol |
| US5744269A (en) | 1996-11-25 | 1998-04-28 | Specialty Toner Corporation | Method for protecting developed electrostatic images using an amphipathic toner |
| US6136490A (en) | 1996-12-05 | 2000-10-24 | Nippon Zeon Co., Ltd. | Polymerized toner |
| US5965314A (en) | 1997-04-03 | 1999-10-12 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Intermediate transfer element for liquid electrophotography |
| US6037090A (en) | 1997-07-03 | 2000-03-14 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Toner for electrophotography and method of preparation thereof |
| US6102526A (en) | 1997-12-12 | 2000-08-15 | Array Printers Ab | Image forming method and device utilizing chemically produced toner particles |
| US6088560A (en) | 1998-07-07 | 2000-07-11 | Imation Corp. | Liquid ink replenishment system for liquid electrographic imaging devices |
| JP4174105B2 (ja) | 1998-08-20 | 2008-10-29 | ティコナ・ゲゼルシャフト・ミット・ベシュレンクテル・ハフツング | 静電荷像現像用トナー |
| US6248494B1 (en) | 1998-12-02 | 2001-06-19 | Konica Corporation | Toner for developing an electrostatic image and a production method thereof, and an image forming method |
| JP3706790B2 (ja) | 1999-07-05 | 2005-10-19 | キヤノン株式会社 | 非磁性ブラックトナー及び画像形成方法 |
| US6221545B1 (en) | 1999-09-09 | 2001-04-24 | Imation Corp. | Adhesives for preparing a multilayer laminate featuring an ink-bearing surface bonded to a second surface |
| US6475685B2 (en) | 2000-02-28 | 2002-11-05 | Konica Corporation | Electrostatically charged image developing toner, production method of the same, and an image forming method |
| WO2001079318A1 (en) | 2000-04-14 | 2001-10-25 | Imation Corp. | Liquid inks using an organosol prepared from 3,3,5-trimethylcyclohexyl methacrylate |
| WO2001079316A1 (en) | 2000-04-14 | 2001-10-25 | Imation Corp. | Hydrogen-bonded gel organosol |
| WO2001079364A2 (en) | 2000-04-14 | 2001-10-25 | Imation Corp. | Liquid inks using a covalently crosslinked gel organosol |
| WO2001079363A2 (en) | 2000-04-14 | 2001-10-25 | Imation Corp. | Liquid ink using an acid-base crosslinked organosol |
| US7098265B2 (en) | 2000-12-29 | 2006-08-29 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Liquid inks comprising a stable organosol |
| KR100739664B1 (ko) | 2001-02-15 | 2007-07-13 | 삼성전자주식회사 | 정전 전사형 습식 전자사진방식 프린터 |
| US6352810B1 (en) | 2001-02-16 | 2002-03-05 | Xerox Corporation | Toner coagulant processes |
| EP1251406A3 (en) | 2001-04-20 | 2003-08-20 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Phase change developer for liquid electrophotography and method for electrophotographic imaging using the same |
| KR100438721B1 (ko) | 2001-04-20 | 2004-07-05 | 삼성전자주식회사 | 전자사진 현상제 저장 및 전달 시스템 |
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