KR100596551B1 - Liquid supply device and substrate process device - Google Patents
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Abstract
기판에 대하여 공급되는 처리액에 다른 액체가 혼입하는 것을 방지한다.It is possible to prevent other liquids from mixing in the processing liquid supplied to the substrate.
액공급장치(30)에 슬릿노즐(31), 노즐 배관(32), 3방 밸브(33), 약액공급부(34), 약액 배관(35), 세정액 공급부(36), 세정액 배관(37) 및 배액기구(38)를 설치한다. 세정액 공급부(36)로부터 공급되는 세정액을 슬릿노즐(31)로부터 토출하는 것에 의해, 현상처리에 있어서 슬릿노즐(31) 및 노즐 배관(32) 등에 부착·잔류한 현상액을 세정한다. 그 후, 배액기구(38)에 의해 세정액 배관(37)으로부터 세정액을 배액하여 세정액 배관(37)을 빈 상태로 한다. 더욱이, 3방 밸브(33)를 제어하고, 노즐 배관(32)을 약액 배관(35)에 연통접속하고, 약액공급부(34)로부터 현상액의 공급을 행한다.The slit nozzle 31, the nozzle pipe 32, the three-way valve 33, the chemical liquid supply part 34, the chemical liquid pipe 35, the cleaning liquid supply part 36, the cleaning liquid piping 37, and the liquid supply device 30. The drainage mechanism 38 is installed. By discharging the cleaning liquid supplied from the cleaning liquid supply part 36 from the slit nozzle 31, the developing solution adhering to and remaining in the slit nozzle 31, the nozzle pipe 32, etc. in the developing process is cleaned. Thereafter, the washing liquid is drained from the washing liquid pipe 37 by the drainage mechanism 38 to make the washing liquid pipe 37 empty. Furthermore, the three-way valve 33 is controlled, the nozzle pipe 32 is connected to the chemical liquid pipe 35, and the developer is supplied from the chemical liquid supply part 34.
액공급장치, 현상액, 세정액, 배액기구, 슬릿노즐, 3방 밸브.Liquid supply device, developer, cleaning liquid, drainage mechanism, slit nozzle, 3-way valve.
Description
도 1은 본 발명에 관한 기판처리장치의 개략평면도;1 is a schematic plan view of a substrate processing apparatus according to the present invention;
도 2는 도 1의 실시형태에서의 기판처리장치의 액공급장치를 나타내는 개략도;FIG. 2 is a schematic view showing a liquid supply apparatus of a substrate processing apparatus in the embodiment of FIG. 1; FIG.
도 3은 도 2의 실시형태에서의 기판처리장치의 액공급장치를 나타내는 개략도;3 is a schematic view showing a liquid supply apparatus of a substrate processing apparatus in the embodiment of FIG. 2;
도 4는 도 3의 실시형태에서의 기판처리장치의 액공급장치를 나타내는 개략도;4 is a schematic view showing a liquid supply apparatus of a substrate processing apparatus in the embodiment of FIG. 3;
도 5는 도 4의 실시형태에서의 기판처리장치의 액공급장치를 나타내는 개략도;FIG. 5 is a schematic view showing a liquid supply apparatus of a substrate processing apparatus in the embodiment of FIG. 4; FIG.
도 6은 도 5의 실시형태에서의 기판처리장치의 액공급장치를 나타내는 개략도;FIG. 6 is a schematic view showing a liquid supply apparatus of a substrate processing apparatus in the embodiment of FIG. 5; FIG.
도 7은 변형예에서의 기판처리장치의 액공급장치를 나타내는 개략도이다.7 is a schematic view showing a liquid supply apparatus of a substrate processing apparatus in a modification.
* 도면의 부호 설명 *Explanation of Codes in Drawings
1 : 기판처리장치1: substrate processing apparatus
20 : 반송기구(유지수단)20: conveying mechanism (holding means)
30, 30a, 30b, 30c, 30d, 30e : 액공급장치30, 30a, 30b, 30c, 30d, 30e: liquid supply device
31 : 슬릿노즐31: slit nozzle
32 : 노즐 배관32: nozzle piping
33 : 3방 밸브33: 3-way valve
33a, 33b : 결합부33a, 33b: coupling portion
33c : 개폐 밸브33c: on-off valve
34, 34a, 34b, 34c : 약액공급부34, 34a, 34b, 34c: chemical supply unit
35 : 약액 배관35: chemical liquid piping
36 : 세정액 공급부36: cleaning liquid supply unit
37 : 세정액 배관37: cleaning liquid piping
38 : 배액기구38: drainage mechanism
39a, 39b : 역지 밸브39a, 39b: check valve
40 : 제어장치40: controller
90 : 기판90: substrate
본 발명은 기판에 처리액을 토출함으로써 약액처리를 행하는 기판처리장치에 관한 것이다. 보다 자세하게는, 처리액을 공급하는 기술에 관한 것이다.The present invention relates to a substrate processing apparatus for performing chemical liquid processing by discharging the processing liquid onto a substrate. More specifically, the present invention relates to a technique for supplying a treatment liquid.
기판의 제조 공정에 있어서는, 도포장치나 현상장치 등과 같이, 기판에 대하 여 약액처리를 실행하는 기판 처리장치를 사용할 수 있다. In the manufacturing process of a board | substrate, the substrate processing apparatus which performs chemical | medical solution process with respect to a board | substrate like a coating apparatus, a developing apparatus, etc. can be used.
예를 들어, 도포장치는 액체탱크 등의 액체 공급기구로부터 공급된 레지스트액(처리액)을 노즐로부터 기판에 대하여 토출하는 것에 의해, 해당 기판에 레지스트액을 도포한다. 도포장치에서는 이러한 처리를 행하는 것에 따라, 노즐에 레지스트액이 부착되고, 이것이 후에 기판처리에서 파티클의 원인이 된다. 또한, 대기 중에 배관 내의 레지스트액이 변질되는 등의 문제가 있다. 그 때문에, 적절하게, 노즐과 배관 내를 세정할 필요가 있고, 예컨대, 특허문헌 1에서는, 세정 기능을 갖춘 도포장치가 기재되어 있다.For example, the coating device applies the resist liquid to the substrate by discharging the resist liquid (processing liquid) supplied from a liquid supply mechanism such as a liquid tank to the substrate. In the coating apparatus, the resist liquid adheres to the nozzle as the treatment is performed, which later causes particles in the substrate treatment. In addition, there is a problem such as deterioration of the resist liquid in the pipe in the air. Therefore, it is necessary to wash | clean the nozzle and piping inside suitably, For example, in
특허문헌 1에는, 세정액(순수나 알칼리수 등)을 공급하는 기구를 도포장치의 액체 공급기구에 더 설치되고, 소정의 배관을 통하여 세정액을 노즐로부터 토출시키는 기술이 제안되어 있다. 즉, 도포장치가 기판에 대하는 처리를 행하지 않은 사이에, 노즐로부터 세정액을 토출하고, 노즐과 배관 내의 세정을 행하는 기술이 제안되어 있다. 그리고, 도포장치가 통상의 기판처리를 할 경우에는, 세정액의 유로를 폐쇄하고, 세정액이 노즐에 공급되지 않는 상태로 한 후에, 노즐에 레지스트액을 공급하도록 하고 있다. 또, 액체의 유로를 폐쇄하는 수법으로서는 개폐밸브나 역지(逆止) 밸브 등의 개폐기구를 사용하는 것이 일반적이다.In
[특허문헌 1][Patent Document 1]
특개 2000-150345 공보Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-150345
상기와 같은 개폐기구는, 차단부재를 개방위치와 폐쇄위치의 사이에서 이동 시키는 것에 의해 액체의 유로를 폐쇄하는 기구이다. 따라서, 유로를 폐쇄한 경우에, 차단부재를 통하여 2종류의 액체가 존재하는 상태(이하, 「접액상태」라고 함)가 생긴다. 이러한 접액상태에서는 차단부재의 실(seal)효과(액체를 차단하는 기능의 효과)의 정도에 따라서는, 노즐에 공급되는 액체에 차단되어야 할 액체가 혼입한다는 문제가 있었다. 특히, 차단부재의 실효과가 경년(經年)변화 등에 의해 열화하고 있는 경우나, 차단해야 할 액체의 점도가 낮아 모세관 현상을 일으키기 쉬운 경우 등에는, 이 혼입 현상은 현저해진다.The opening and closing mechanism as described above is a mechanism for closing the flow path of the liquid by moving the blocking member between the open position and the closed position. Therefore, when the flow path is closed, a state in which two kinds of liquids exist (hereinafter referred to as a "liquid state") occurs through the blocking member. In such a liquid contact state, there is a problem that liquid to be blocked is mixed in the liquid supplied to the nozzle depending on the degree of the sealing effect (the effect of the function of blocking the liquid) of the blocking member. In particular, this mixing phenomenon becomes remarkable when the actual effect of the blocking member is deteriorated due to secular variation, or when the viscosity of the liquid to be blocked is low to cause capillary phenomenon.
혼입 현상의 폐해를 현상액에 의해 기판을 현상 처리하는 경우를 예로 검증한다. 현상장치에서, 현상액은 노즐로부터 수 L/min 정도의 유량에서 토출된다. 이 때, 1cc/min 정도의 세정액(순수)이 접액상태에 따라 혼입한다고 하면, 토출되는 현상액의 농도변화는 0.1%가 되고, 충분히 현상불량의 원인이 된다.The case where the development process of the board | substrate is developed with the developing solution is demonstrated by the example of the bad effect of mixing phenomenon. In the developing apparatus, the developing solution is discharged from the nozzle at a flow rate of several L / min. At this time, if the cleaning solution (pure water) of about 1 cc / min is mixed in the liquid contact state, the concentration change of the developing solution discharged is 0.1%, which sufficiently causes development failure.
본 발명은 상기 과제를 감안하여 이루어진 것이며, 기판을 대한 처리에 있어서, 2종류 이상의 액체의 혼입에 의한 처리 정밀도의 저하를 방지하는 것을 목적으로 한다.This invention is made | formed in view of the said subject, and an object of this invention is to prevent the fall of the processing precision by mixing two or more types of liquids in the process with respect to a board | substrate.
상기의 과제를 해결하기 위해서, 청구항 1의 발명은 기판에 대하여 적어도 1종류의 처리액을 공급하는 액공급장치에 있어서, 상기 적어도 1종류의 처리액을 포함한 복수 종류의 액체를 토출하는 토출수단과, 상기 복수 종류의 액체를 공급하는 공급수단과, 상기 복수 종류의 액체를 상기 토출수단으로 안내하는 공급유로와, 상기 복수 종류의 액체를 상기 공급수단으로부터 상기 공급유로까지 안내하는 복수의 유로와, 상기 공급유로와 상기 복수의 유로를 연통접속(連通接續)하는 접속수단과, 상기 복수의 유로 중 적어도 1개의 유로로부터 액체를 배액하는 배액수단을 가진다.In order to solve the above problems, the invention of
또한, 청구항 2의 발명은, 청구항 1의 발명에 관한 액공급장치에 있어서, 상기 복수의 유로를 개폐하는 개폐수단을 가지고, 상기 배액수단이 상기 적어도 1개의 유로에 대하여, 상기 개폐수단으로부터 상기 공급수단까지의 사이에 있어서 액체의 배액을 행한다.Further, the invention of claim 2, in the liquid supply apparatus according to the invention of
또한, 청구항 3의 발명은, 청구항 2의 발명에 관한 액공급장치에 있어서, 상기 개폐수단이 3방 밸브이다.Further, in the invention of claim 3, in the liquid supply apparatus according to the invention of claim 2, the opening and closing means is a three-way valve.
또한, 청구항 4의 발명은, 청구항 2의 발명에 관한 액공급장치에 있어서, 상기 개폐수단이 역지 밸브이다.Further, in the invention of claim 4, in the liquid supply apparatus according to the invention of claim 2, the opening and closing means is a check valve.
또한, 청구항 5의 발명은, 청구항 1의 발명에 관한 액공급장치에 있어서, 상기 복수 종류의 액체에 순수가 포함되고, 상기 배액수단이 상기 복수의 유로 중 순수를 안내하기 위해 사용되는 유로로부터 액체를 배액한다.Further, the invention of claim 5 is the liquid supply apparatus according to the invention of
또한, 청구항 6의 발명은, 청구항 1의 발명에 관한 액공급장치에 있어서, 상기 적어도 1종류의 처리액에 현상액이 포함된다.In the liquid supply apparatus according to the invention of claim 6, the developer is contained in the at least one kind of processing liquid.
또한, 청구항 7의 발명은, 청구항 1의 발명에 관한 액공급장치에 있어서, 상기 적어도 1종류의 처리액에 레지스트액이 포함된다.In the liquid supply apparatus according to the invention of claim 7, the resist liquid is contained in the at least one kind of processing liquid.
또한, 청구항 8의 발명은, 청구항 1의 발명에 관한 액공급장치에 있어서, 상기 배액수단은 상기 토출수단보다도 낮은 위치에 설치되어 있다.In the invention of claim 8, in the liquid supply apparatus according to the invention of
또한, 청구항 9의 발명은, 기판에 대하여 처리액에 의한 약액처리를 행하는 기판처리장치에 있어서, 기판을 유지하는 유지수단과, 상기 유지수단에 유지된 상기 기판에 대하여 처리액을 공급하는 청구항 1 내지 8 중 어느 하나에 기재된 액공급장치를 구비한다.In addition, the invention of claim 9 is a substrate processing apparatus which performs chemical liquid treatment with a processing liquid on a substrate, comprising: holding means for holding a substrate and supplying a processing liquid to the substrate held by the holding means; The liquid supply apparatus in any one of the Claims 8-8 is provided.
이하, 본 발명의 적절한 실시형태에 대해, 첨부한 도면을 참조하면서, 상세히 설명한다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, preferred embodiment of this invention is described in detail, referring an accompanying drawing.
< 1. 제 1 실시형태 ><1st embodiment>
도 1은 본 발명에 관한 기판처리장치(1)의 개략도이다. 또, 도 1에 있어서, 도시 및 설명의 형편상, Z축 방향이 연직방향을 나타내고, XY평면이 수평면을 표시하는 것으로서 정의하지만, 그것들은 위치관계를 파악하기 위해서 편의상 정의하는 것이며, 이하에서 설명하는 각 방향을 한정하는 것은 아니다. 이하의 도면에 대해서도 동일하다.1 is a schematic diagram of a
기판처리장치(1)는 기판처리장치(1)에 대하는 기판(90)의 반출입을 행하는 인덱서(10, 11), 기판(90)을 반송하는 반송기구(20), 액공급장치(30) 및 제어장치(40)로 구성된다. 기판처리장치(1)는 액정표시장치의 화면채널을 제조하기 위한 각형(角形) 유리기판을 피처리기판(90)으로 하고, 기판(90)의 표면에 형성된 전극층 등을 선택적으로 에칭하는 프로세스에 있어서, 노광처리가 행해진 기판(90)을 현상하는 장치로서 구성되어 있다. 따라서, 이 실시형태에서는, 슬릿노즐(31)은 처리액으로서 현상액을 토출하도록 되어 있다.The
또, 기판처리장치(1)는 액정표시장치용의 유리기판 뿐만 아니라, 여러가지의 기판에 형상액을 토출하는 것에 의해 현상처리를 행하는 장치로서 변형 이용하는 것도 가능하다. 또, 기판(90)에 대하여 약액처리를 행하는 액체는 현상액으로 한정되는 것은 아니고, 예컨대, 현상액과 동일하게 약액처리에 있어서 농도관리에 대해서 높은 정밀도가 요구되는 레지스트액 등이라도 좋다. 그 경우, 기판처리장치(1)는 기판(90)에 대하여 레지스트액을 도포하는 도포장치로서 기능하게 된다.The
인덱서(10)는 도시하지 않은 장치 밖의 반송기구로부터 기판(90)을 받아들이고, 소정의 위치에서 소정의 시간을 유지한 후, 반송기구(20)로 기판(90)을 넘긴다. 또, 인덱서(11)는 반송기구(20)로부터 반출된 기판(90)을 도시하지 않은 장치 밖의 반송기구로 불출한다. 또, 인덱서(10, 11)는 FOUP 카세트 등을 재치하기 위하여 재치대나, 반송기구(20)와의 사이에서 기판(90)을 주고 받는 것을 행하는 반송로봇 등을 구비해도 좋다.The
반송기구(20)는 기판(90)을 소정의 위치에 유지한 상태에서, 인덱서(10)에서 인덱서(11)를 향하여 반송하는 기능을 가진다. 상세는 후술하지만, 기판처리장치(1)에서는 반송기구(20)가 기판(90)을 유지한 상태에서 기판(90)에 대하는 각종 처리가 행해진다.The
도 2는 제 1의 실시형태에 있어서 액공급장치(30)의 구성을 나타내는 개략도이다. 액공급장치(30)는 슬릿노즐(31), 노즐 배관(32), 3방 밸브(33), 약액공급부(34), 약액 배관(35), 세정액 공급부(36), 세정액 배관(37) 및 배액기구(38)를 구비하고, 약액공급부(34)에서 공급하는 현상액을 슬릿노즐(31)에서 토출하는 것에 의해, 반송기구(20)에 유지된 기판(90)에 현상액을 공급한다. 상세는 후술하지만, 이것에 의해 기판처리장치(1)는 기판(90)에 대하여 현상처리를 실행하는 장치로서 기능한다.2 is a schematic view showing the configuration of a
슬릿노즐(31)은 주로 Y축 방향으로 신장하는 직선상의 부재로 구성되고, 반송기구(20)에 유지된 기판(90)에 대향하는 위치에, 액체를 토출하기 위한 슬릿(도시되지 않음)이 설치되어 있다. 슬릿노즐(31)에는 노즐 배관(32)이 설치되어 있다. 슬릿노즐(31)은 약액공급부(34)로부터 공급되는 현상액을 전술의 슬릿으로부터 기판(90)에 대하여 토출한다. 또, 슬릿노즐(31)은 세정액 공급부(36)로부터 공급되는 세정액에 대해서도 토출하는 것이 가능하게 되어 있다.The
도 2에 나타내는 바와 같이 본 실시형태에 있어서 슬릿노즐(31)에는 Y축 방향에 따르는 3개소에 노즐 배관(32)이 연통접속된다. 이것에 의해, 슬릿노즐(31)에는 3개소로부터 현상액 등의 액체가 공급되기 때문에, Y축 방향의 토출정밀도가 균일화된다. 또, 슬릿노즐(31)의 액체 공급개소의 수는 3개소에 한정되는 것은 아니다.As shown in FIG. 2, the
3방 밸브(33)는 노즐 배관(32)에 약액 배관(35) 및 세정액 배관(37)을 접속하는 기능을 가진다. 즉, 3방 밸브(33)가 주로 본 발명에 있어서 접속수단에 해당한다. 또, 노즐 배관(32)에 대하여, 약액 배관(35) 및 세정액 배관(37) 중 어느 한쪽을 선택적으로 연통시키고, 다른 쪽을 폐쇄하는 기능을 가지고 있어, 본 발명에 있어서 개폐수단에도 상당한다.The three-
더욱이, 3방 밸브(33)는 제어장치(40)에 접속되어 있고, 제어장치(40)로부터의 제어신호에 따라, 개폐동작(유로선택동작)이 결정된다. 예를 들어, 슬릿노즐 (31)에 공급하는 액체로서 현상액이 제어장치(40)에 의해 선택된 경우는 약액 배관(35)을 노즐 배관(32)에 연통접속시킨다. 그것에 의해, 세정액 배관(37)은 폐쇄된다.Moreover, the three-
약액공급부(34)는 약액 탱크(340), 송액 펌프(341), 및 개폐 밸브(342)를 구비하고 있다. 약액 탱크(340)는 현상액을 모아두는 저류조의 기능을 가지고 있으며, 송액 펌프(341) 및 개폐 밸브(342)를 통하여 약액 배관(35)에 연통접속되어 있다. 약액 공급부(34)는, 개폐 밸브(342)를 개방 상태로 함과 동시에, 송액 펌프(341)를 구동함으로써, 약액 탱크(340)에 저류한 현상액을 3방 밸브(33)를 향하여 송출한다. 이 때, 3방 밸브(33)가 노즐 배관(32)과 약액 배관(35)을 연통시키는 상태로 되어 있으면, 현상액은 슬릿노즐(31)에 공급된다. 즉, 약액공급부(34)는 현상액을 슬릿노즐(31)에 공급하는 기능을 갖는다.The chemical
세정액 공급부(36)는 개폐 밸브(360)가 개방되는 것에 의해, 도시하지 않는 장치 밖의 세정액 탱크로부터 소정의 압력에 의해 세정액을 3방 밸브(33)를 향해서 송출한다. 이 때, 3방 밸브(33)가 노즐 배관(32)과 세정액 배관(37)을 연통시키는 상태로 되어 있으면, 세정액은 슬릿노즐(31)로 공급된다. 즉, 세정액 공급부(36)는 세정액을 슬릿노즐(31)에 공급하는 기능을 갖는다. 또, 본 실시형태에 있어서의 기판처리장치(1)는 세정액으로서 순수를 사용하기 때문에, 세정액을 장치 밖의 세정액 탱크로부터 공급하는 구성을 채용하지만, 세정액을 공급하는 기구는 이것에 한정되는 것은 아니다. 예를 들어, 세정액 공급부(36)에 송액 펌프와 세정액 탱크를 설치하고, 해당 송액 펌프의 구동력에 의해 슬릿노즐(31)로 세정액을 공급하도록 구성해도 좋다. 또한, 세정액은 순수에 한정되는 것은 아니고, 알칼리수 등, 더 세정력이 있는 액체가 선택되어도 좋다.The opening /
본 실시형태에 있어서의 기판처리장치(1)는, 약액공급부(34) 및 세정액 공급부(36)를 구비하는 것에 의해, 복수 종류의 액체(본 실시형태에 있어서는 현상액과 세정액)을 슬릿노즐(31)로 공급할 수 있다. 즉, 약액공급부(34) 및 세정액 공급부(36)가 주로 본 발명에 있어서의 공급수단에 상당한다.The
배액기구(38)는 도2에 나타내는 바와 같이, 슬릿노즐(31)의 높이 위치보다도 낮은 위치에 배치되는 개폐 밸브(380)를 구비하고 있어, 제어장치(40)로부터의 제어신호에 따라 개폐 밸브(380)를 개방하는 것에 의해, 세정액 배관(37) 내의 액체(주로 세정액)를 배액한다.As shown in FIG. 2, the
기판처리장치(1)에서는, 노즐 배관(32), 약액 배관(35) 및 세정액 배관(37)이 슬릿노즐(31)로 액체를 안내하는 유로를 형성하고 있다. 노즐 배관(32)은 슬릿노즐(31)에 공급되는 액체를 안내하는 기능을 가지고, 본 발명에 있어서의 공급유로에 상당한다. 또한, 약액 배관(35) 및 세정액 배관(37)이 본 발명에 있어서의 복수의 유로에 상당한다. 또, 이것들의 유로에 있어서, 유량조정용의 밸브, 파티클 제거용의 필터 및 수동 밸브 등이 적절히 설치되어도 좋다.In the
제어장치(40)는 일반적인 컴퓨터의 기능을 가지는 장치이며, 주로, 연산 처리를 행하는 CPU 및 데이터를 기억하는 기억부로 구성된다(어느 것도 도시하지 않음). 제어장치(40)는 기판처리장치(1)의 각 구성과 신호의 송수신이 가능한 상태에서 접속되어 있고, 전술의 CPU가 생성한 제어신호를 기초로 하여, 각 구성을 제어 하는 기능을 갖는다. 특히, 제어장치(40)는, 액공급장치(30)가 슬릿노즐(31)에 공급하는 액체(현상액 또는 세정액)를 선택하고, 3방 밸브(33)를 제어함으로써, 선택된 액체 이외의 유로를 폐쇄한다. 이러한 제어에 의해, 기판처리장치(1)는 슬릿노즐(31)로부터 처리에 대응한 액체(선택된 액체)을 토출할 수 있도록 되어 있다.The
이상이, 본 실시형태에 있어서의 기판처리장치(1) 구성의 설명이다. 다음에, 기판처리장치(1)의 동작에 대해서 설명한다. 기판처리장치(1)에 있어서의 처리는 현상 처리와 세정 처리로 크게 나뉜다. 또, 이하의 기판처리장치(1)의 동작은 특히 단정하지 않는 한, 제어장치(40)로부터의 제어신호에 따라 각 구성이 제어되는 것에 의해 실현되는 것이다.The above is description of the structure of the
우선, 세정 처리의 동작에 대해서 설명한다. 기판처리장치(1)에서는, 전술한 바와 같이 현상 처리가 행하여지는 것에 따라 슬릿노즐(31) 및 노즐 배관(32)내에 현상액이 잔류한다. 이 잔류한 현상액은 경시(經時) 변화 등에 의해 변질되기 때문에, 오염물로 된 파티클의 원인이 되거나, 또는 후(後)의 처리에 있어서 현상액의 농도에 영향을 주는 원인이 된다. 따라서, 기판처리장치(1)는 현상 처리를 실행하기 전에, 주로 슬릿노즐(31) 및 노즐 배관(32)에 잔류하는 현상액을 제거하기 위한 세정 처리를 실행한다.First, the operation of the cleaning process will be described. In the
우선, 기판처리장치(1)에서는 세정 처리를 개시하는 데 앞서고, 약액공급부(34)가 송액 펌프(341)을 정지 상태로 함과 동시에, 개폐 밸브(342)를 폐쇄 상태로 한다. 이것에 의해, 슬릿노즐(31)에 대한 현상액의 공급이 정지된다. 또, 현상액의 공급정지 처리는 실제로는 후술하는 현상 처리의 종료와 함께 실행된다.또한, 배액 기구(38)가 개폐 밸브(380)를 폐쇄 상태로 한다.First, in the
다음에, 제어장치(40)는 세정 처리에 있어서 슬릿노즐(31)에 공급해야 할 액체는 세정액이기 때문에, 3방 밸브(33)에 대하여, 노즐 배관(32)과 세정액 배관(37)을 연통접속하도록 제어한다. 이 제어에 따라 3방 밸브(33)가 노즐 배관(32)과 세정액 배관(37)을 선택적으로 연통접속시켜, 약액 배관(35)은 폐쇄된다.Next, since the liquid to be supplied to the
다음에, 세정액 공급부(36)가 개폐 밸브(360)를 개방 상태로 하는 것에 의해, 슬릿노즐(31)에 세정액을 공급한다. 슬릿노즐(31)에 세정액이 공급되면, 슬릿노즐(31)로부터 세정액이 토출된다. 이 때, 세정액이 슬릿노즐(31) 및 노즐 배관(32)을 통과하기 위해서, 이것들의 내부에 잔류하고 있었던 현상액 등은 흘러가게 되어, 슬릿노즐(31) 및 노즐 배관(32)이 세정된다.Next, the washing | cleaning
소정의 시간이 경과하고, 슬릿노즐(31) 및 노즐 배관(32)의 세정이 충분히 행하여졌다고 제어장치(40)가 판단하면, 제어장치(40)는 세정액 공급부(36)의 개폐 밸브(360)를 폐쇄하도록 세정액 공급부(36)에 제어신호를 출력한다. 이 제어신호 에 따라, 세정액 공급부(36)가 개폐 밸브(360)을 폐쇄 상태로 하는 것에 의해, 슬릿노즐(31)에 대하는 세정액의 공급이 정지되어, 슬릿노즐(31)로부터의 세정액의 토출이 정지한다.When the
다음에, 배액기구(38)가 제어장치(40)로부터의 제어신호에 따라 개폐 밸브(380)를 개방 상태로 한다. 개폐 밸브(380)는 슬릿노즐(31)보다도 낮은 위치에 설치되어 있다. 따라서, 개폐 밸브(380)를 개방 상태로 하면, 주로 중력의 작용에 의해, 슬릿노즐(31), 노즐 배관(32), 3방 밸브(33) 및 세정액 배관(37) 내의 세정액 이 도 2에 화살표에서 나타내는 방향으로 유출한다. 즉, 별도 흡인기구 등을 필요로 하지 않고, 세정액이 배액기구(38)에 의해 장치 밖으로 배액된다. 이것에 의해, 세정액 배관(37) 내에 세정액이 잔류하는 것이 방지되어, 세정액 배관(37)은 거의 빈 상태가 된다.Next, the
본 실시형태에 있어서의 기판처리장치(1)와 같이, 세정액으로서 순수를 사용할 경우, 장시간 순수이 체류하면 순수 중에 박테리아가 발생하여, 파티클의 원인이 된다는 문제가 있다. 그러나, 기판처리장치(1)에서는 비교적 장시간 장치가 정지하는 경우에도, 배액기구(38)에 의해 순수의 체류를 방지하고 있으므로, 박테리아의 발생을 방지할 수 있다.When pure water is used as the cleaning liquid, as in the
배액기구(38)에 의한 배액이 종료하면, 기판처리장치(1)에 있어서의 세정 처리는 종료하고, 기판처리장치(1)은 대기 상태가 된다.When the drainage by the
다음에, 기판처리장치(1)에 있어서의 현상 처리의 동작에 대해서 설명한다. 현상 처리는 기판(90)의 제조공정에 있어서, 기판(90)에 대하여 실행되는 액체에 의한 처리의 일공정이다. 구체적으로는, 기판(90) 상의 노광 처리된 감광 재료(레지스트)를 현상하기 위한 처리이다.Next, operation | movement of the development process in the
현상 처리는, 대기 상태의 기판처리장치(1)에, 장치 밖의 반송 장치에 의해 노광 처리된 기판(90)이 반입되는 것에 의해 개시된다. 장치 밖의 반송 장치는 인덱서(10)에 대하여 기판(90)의 반입을 행한다.The development process is started by carrying in the
인덱서(10)는 반입된 기판(90)을 소정의 위치에 유지하면서, 타이밍 조정을 행한 후 반송 기구(20)로 넘긴다. 이 때, 인덱서(10)가 기판(90)을 회전시키는 것 에 의해 기판(90)의 방향을 조정하도록 해도 좋다.The
반송 기구(20)는 수취한 기판(90)을 거의 수평방향으로 유지하면서, (+X)방향으로 반송한다. 도시하지 않는 센서에 의해, 기판(90)이 소정의 위치에까지 반송된 것을 검출하면, 제어장치(40)는 현상 처리에서 슬릿노즐(31)에 공급해야 할 액체는 현상액이기 때문에, 노즐 배관(32)과 약액 배관(35)을 연통접속하도록 3방 밸브(33)를 제어한다. 이것에 의해 3방 밸브(33)가 노즐 배관(32)과 약액 배관(35)을 선택적으로 연통접속시켜, 세정액 배관(37)은 폐쇄된다.The
다음에, 약액공급부(34)가 개폐 밸브(342)를 개방하는 동시에, 송액 펌프(341)를 구동함으로써, 슬릿노즐(31)에 현상액이 공급되어, 기판(90)에 대하여 슬릿노즐(31)로부터의 현상액의 토출이 개시된다.Next, the chemical
이 때, 세정액 배관(37)내는 배액기구(38)에 의해 액체가 거의 존재하지 않는 상태(빈 상태)로 되어 있다. 따라서, 본 실시형태에 있어서의 기판처리장치(1)에서는, 현상 처리 중에 3방 밸브(33)에 있어서, 현상액과 세정액이 접액상태로 되지 않는다. 따라서, 기판(90)에 대하여 토출되는 현상액에 대해서 세정액의 혼입이 방지된다. 이것에 의해, 현상액의 희석화 등을 방지할 수 있기 때문에, 현상액의 농도관리의 정밀도가 향상하고, 현상 불량을 방지할 수 있다.At this time, the
기판(90)은, 반송 기구(20)에 의해 (+X)방향으로 반송되면서, 슬릿노즐(31)로부터의 현상액의 토출을 받는다. 즉, 기판(90)은 슬릿노즐(31)에 의해 X축방향에 따라 주사되어, 기판(90) 상의 노광된 감광 재료의 현상 처리가 진행한다.The board |
슬릿노즐(31)에 의한 기판(90)의 주사가 종료하면, 약액공급부(34)는 개폐 밸브(342)를 폐쇄 상태로 함과 동시에, 송액 펌프(341)를 정지한다. 이것에 의해, 약액공급부(34)로부터의 현상액의 공급이 정지되어, 슬릿노즐(31)로부터의 현상액의 토출이 정지한다.When the scanning of the board |
다음에, 제어장치(40)가 노즐 배관(32)과 세정액 배관(37)이 연통접속되도록 3방 밸브(33)를 제어한다. 이것에 의해 3방 밸브(33)가 노즐 배관(32)과 세정액 배관(37)을 선택적으로 연통접속시킴과 동시에, 약액 배관(35)이 폐쇄 상태로 된다. 더욱이, 배액기구(38)가 개폐 밸브(380)를 개방 상태로 하여, 슬릿노즐(31) 및 노즐 배관(32)내의 현상액을 세정액 배관(37)을 통하여 배액한다.Next, the
이것에 의해, 현상 처리는 종료한다. 그 후, 다시 전술의 세정 처리가 실행되어, 슬릿노즐(31) 및 노즐 배관(32) 내의 세정이 행하여진다. 또, 세정 처리는 현상 처리가 행하여질 때마다 할 필요는 없고, 예컨대, 소정 횟수의 현상 처리가 반복된 후에, 세정 처리를 행하도록 해도 좋다.This completes the development process. Thereafter, the above-described cleaning process is performed again, and cleaning in the
이상과 같이, 본 실시형태에 있어서의 기판처리장치(1)는 기판(90)에 대하여 처리액을 공급하기 전에, 배액기구(38)가 처리액의 유로에 대하여 접액상태가 되는 유로(세정액 배관(37))내의 액체를 미리 배액해 두는 것에 의해, 처리액에 다른 액체가 접액함을 방지할 수 있다. 따라서, 3방 밸브(33)의 경시변화 등에 의해 차단 기능이 저하된 경우와, 세정액으로서 사용되는 액체의 점도가 낮은 경우에도, 종래의 장치와 같이, 슬릿노즐(31)로 공급되는 처리액에 다른 액체가 혼입하는 것을 방지할 수 있다.As described above, the
또한, 세정액 배관(37)내에 잔류하는 세정액을 배액기구(38)가 배액하는 것 에 의해, 세정액 배관(37)내의 세정액의 체류를 방지할 수 있다. 따라서, 특히, 세정액으로서 순수를 사용할 수 있어, 기판처리장치(1)가 비교적 장시간 정지하는 경우라도, 파티클의 원인이 되는 박테리아가 발생하는 것을 방지할 수 있다. 이것에 의해서도, 기판처리장치(1)의 처리 정밀도를 향상시킬 수 있다.In addition, by the
또, 현상액과 세정액이 접액상태가 되는 것을 방지하기 위해서는, 슬릿노즐(31)에 현상액이 공급되어 있는 상태에 있어서, 세정액의 액면이 3방 밸브(33)에 접촉하지 않으면 좋다. 따라서, 배액기구(38)가 세정액 배관(37) 내의 세정액을 전부 배액할 필요는 없다. 단지, 세정액이 순수인 경우 등, 세정액의 체류를 방지하기 위해서는, 본 실시형태에 있어서의 기판처리장치(1)와 같이, 세정액 배관(37) 내의 세정액을 전부 배액하도록 구성하는 것이 바람직하다.In addition, in order to prevent the developing solution and the cleaning solution from contacting with each other, in the state where the developing solution is supplied to the
< 2. 제 2 실시형태 ><2. Second Embodiment>
제 1 실시형태에서는, 노즐 배관(32), 약액 배관(35) 및 세정액 배관(37)을 3방 밸브(33)에서 연통접속하도록 구성했지만, 이것들의 배관을 연통접속하는 구성으로서는, 3방 밸브(33)에 한정되는 것은 아니다. 즉, 유로를 개폐하는 기능을 가지지 않는 부재여도 좋다.In the first embodiment, the
도 3은 이러한 원리를 기초로 하여 구성한 제 2 실시형태에 있어서의 기판처리장치(1)의 액공급장치(30a)를 나타내는 개략도이다. 액공급장치(30a)는 제 1 실시형태에 있어서의 액공급장치(30)의 3방 밸브(33)를 결합부(33a)로 교체한 구성을 가지고 있다. 또, 액공급장치(30a)는 결합부(33a) 이외의 구성은 액공급장치(30)와 동일하기 때문에, 도시 및 설명을 적당히 생략한다.3 is a schematic view showing the
이상과 같은 구성을 가지는 제 2 실시형태에 있어서의 기판처리장치(1)의 세정 처리 및 현상 처리에 있어서의 동작을 설명한다.The operation | movement in the washing process and image development process of the
우선, 세정 처리에 대하여 설명한다. 본 실시형태에 있어서의 기판처리장치(1)에서는 세정 처리를 개시하기 전에, 약액공급부(34)에 의해 송액 펌프(341)의 구동이 정지되어, 개폐 밸브(342)가 폐쇄 상태로 된다. 또한, 배액기구(38)가 개폐 밸브(380)를 폐쇄 상태로 한다.First, the washing process will be described. In the
다음에, 제어장치(40)로부터의 제어신호에 따라, 세정액 공급부(36)가 개폐 밸브(360)를 개방 상태로 한다. 이것에 의해, 장치 밖의 세정액 탱크로부터 세정액이 세정액 배관(37)으로 공급되고 결합부(33a) 및 노즐 배관(32)을 통과하고, 슬릿노즐(31)로 공급된다. 이것에 의해, 슬릿노즐(31)로부터 세정액이 토출된다.Next, in accordance with the control signal from the
소정의 시간이 경과하고, 슬릿노즐(31) 및 노즐 배관(32)의 세정이 종료하면, 세정액 공급부(36)가 개폐 밸브(360)를 폐쇄 상태로 한다. 또한, 배액기구(38)가 개폐밸브(380)를 개방하는 것에 의해, 슬릿노즐(31), 노즐 배관(32), 결합부(33a) 및 세정액 배관(37)내에 잔류한 세정액을 배액한다. 이 때, 결합부(33a)는 3방 밸브(33)와 비교하여 내부구조 등이 단순하기 때문에, 액빠짐이 양호하고 현상액의 잔류가 효과적으로 방지된다.When the predetermined time has elapsed and cleaning of the
배액기구(38)에 의한 세정액의 배액이 종료하면, 배액기구(38)는 개폐 밸브(380)를 폐쇄 상태로 한다. 이것에 의해, 본 실시형태에 있어서의 기판처리장치(1)의 세정 처리가 종료하고, 기판처리장치(1)는 대기 상태가 된다. 즉, 본 실시형태에 있어서의 기판처리장치(1)에 있어서도 대기 중에 세정액 배관(37)내에 순수의 체류가 생기는 것이 방지된다.When the drainage of the washing | cleaning liquid by the
다음에, 현상 처리에 대하여 설명한다. 기판(90)이 반송 기구(20)에 의해 소정의 위치까지 반송되면, 제어장치(40)가 사용하는 액체로서 현상액을 선택하고, 약액공급부(34)에 제어신호를 출력한다. 이 제어신호에 따라, 약액공급부(34)가 송액 펌프(341)의 구동을 개시함과 동시에, 개폐 밸브(342)를 개방 상태로 한다.Next, development processing will be described. When the board |
이것에 의해, 약액 배관(35)에 현상액이 공급되어, 약액 배관(35)으로부터 결합부(33a)에 공급된 현상액은 세정액 배관(37)에도 유입한다. 그러나, 세정액 공급부(36)의 개폐 밸브(360) 및 배액기구(38)의 개폐 밸브(380)가 폐쇄 상태이기 때문에, 현상액의 세정액 배관(37)으로의 유입은 일정량에서 정지하고, 이 후, 약액 배관(35)으로부터 공급되는 현상액은 결합부(33a) 및 노즐 배관(32)을 통하여 슬릿노즐(31)로 공급된다. 이것에 의해, 슬릿노즐(31)로부터 현상액의 토출이 개시된다.Thereby, the developing solution is supplied to the chemical
이 때, 세정액 배관(37) 내의 현상액은 개폐 밸브(360)에 있어서, 세정액과 접액상태가 되기 때문에, 세정액 배관(37)내에는 세정액이 혼입한다. 그러나, 세정액 배관(37)은 현상액의 유로로 공간적으로는 접속되어 있지만, 직접적으로는 현상액의 유로로는 되지 않기 때문에, 세정액 배관(37)내의 액체는 거의 유동하지 않는다. 따라서, 결합부(33a)(현상액의 실질적인 유로)로부터 비교적 떨어진 위치에 있는 개폐 밸브(360)에 있어서, 현상액과 세정액이 접액상태로 되어, 세정액 배관(37)내의 현상액이 일부 희석된 것으로 하여도, 현상 처리에 주는 영향은 거의 없다.At this time, since the developing solution in the cleaning
슬릿노즐(31)에 의한 기판(90)의 주사가 종료하면, 약액공급부(34)는 개폐 밸브(342)를 폐쇄 상태로 함과 동시에, 송액 펌프(341)를 정지한다. 이것에 의해, 약액공급부(34)로부터의 현상액의 공급이 정지되어, 슬릿노즐(31)로부터의 현상액의 토출이 정지한다.When the scanning of the board |
다음에, 배액기구(38)가 개폐 밸브(380)를 개방 상태로 해서, 슬릿노즐(31), 노즐 배관(32), 결합부(33a) 및 세정액 배관(37)내의 현상액을 배액하고, 현상 처리는 종료한다.Next, the
이상과 같이, 제 2 실시형태에 있어서의 기판처리장치(1)는 기판(90)에 대한 약액처리에 사용하는 처리액과 다른 액과의 접액상태가 생기는 위치를 해당 처리액의 유로로부터 충분히 떨어진 위치가 되도록 구성함과 동시에, 접액 상태에 따라서 희석된 처리액을 적당히 배액하는 배액기구(38)를 설치하는 것에 의해, 슬릿노즐(31)로부터 토출되는 처리액에 다른 액체가 혼입하는 것을 억제할 수 있다. 따라서, 본 실시형태에 있어서의 기판처리장치(1)는 기판(90)에 대하여 공급되는 처리액의 농도관리의 정밀도를 향상시킬 수 있기 때문에, 기판(90)에 대한 약액처리의 처리 정밀도를 향상시킬 수 있다.As described above, in the
< 3. 제 3 실시형태 >3. Third Embodiment
액체의 유로를 개폐하는 수단으로서는 액체를 한 방향으로만 통과시키는 일반적인 역지 밸브를 사용하여 실현하도록 구성하여도 좋다.As means for opening and closing the flow path of the liquid, it may be configured to realize by using a general check valve for passing the liquid only in one direction.
도 4는 이러한 원리를 기초로 하여 구성한 제 3 실시형태에 있어서의 기판처리장치(1)의 액공급장치(30b)를 나타내는 개략도이다. 액공급장치(30b)는 약액 배 관(35) 및 세정액 배관(37)을 개폐하는 기구로서, 역지 밸브(39a, 39b)를 구비하고 있는 점이 상기의 실시형태와 다르게 되어 있다.4 is a schematic view showing the
역지 밸브(39a)는 약액공급부(34)의 송액 펌프(341)가 구동된 경우에, 약액 배관(35)으로부터 노즐 배관(32)을 향해서 현상액을 통과시킨다. 또한, 역지 밸브(39a)는 노즐 배관(32)로부터 약액 배관(35)에 액체(현상액 및 세정액)가 역류하는 것을 방지하는 기능을 가진다.The check valve 39a lets the developer flow from the chemical
역지 밸브(39b)는 세정액 공급부(36)의 개폐 밸브(360)가 개방된 경우에, 세정액 배관(37)으로부터 노즐 배관(32)을 향해서 세정액을 통과시킨다. 또한, 역지 밸브(39b)는 노즐 배관(32)로부터 세정액 배관(37)에 액체(현상액 및 세정액)가 역류하는 것을 방지한다.The
즉, 제어장치(40)는 역지 밸브(39a, 39b)의 약액 배관(35) 및 세정액 배관(37) 측의 액체의 압력의 증감을 제어하는 것에 의해, 역지 밸브(39a, 39b)의 개폐를 제어할 수 있다.That is, the
이러한 구성을 구비하는 제 3 실시형태에 있어서의 기판처리장치(1)의 세정 처리 및 현상 처리에 있어서의 동작에 대해서 설명한다.The operation | movement in the washing process and image development process of the
우선, 세정 처리를 개시하기 전에, 약액공급부(34)는 송액 펌프(341)의 구동을 정지 상태라고 함과 동시에, 개폐 밸브(342)를 폐쇄 상태라고 한다. 또한, 배액기구(38)가 개폐 밸브(380)를 폐쇄 상태라고 한다.First, before starting the cleaning process, the chemical
다음에, 제어장치(40)로부터의 제어신호에 따라, 세정액 공급부(36)가 개폐 밸브(360)를 개방 상태로 한다. 이것에 의해, 장치 밖의 세정액 탱크로부터 세정액 이 세정액 배관(37)에 공급되어, 세정액 배관(37)내의 세정액의 압력이 상승한다.따라서, 역지 밸브(39b)가 개방 상태로 되고, 세정액이 역지 밸브(39b) 및 노즐 배관(32)을 통과하고, 슬릿노즐(31)에 공급되어, 슬릿노즐(31)로부터 세정액이 토출된다.Next, in accordance with the control signal from the
소정의 시간이 경과하고, 슬릿노즐(31) 및 노즐 배관(32)의 세정이 종료하면, 세정액 공급부(36)가 개폐 밸브(360)를 폐쇄 상태로 한다. 또한, 배액기구(38)가 개폐 밸브(380)을 개방하는 것에 의해, 세정액 배관(37)내에 잔류한 세정액을 배액한다. 또, 배액기구(38)가 세정액 배관(37)내의 세정액을 배액하는 것에 의해, 세정액 배관(37)내의 압력은 저하하지만, 역지 밸브(39b)에 의해 노즐 배관(32)내의 액체가 세정액 배관(37)내에 역류하는 일은 없다.When the predetermined time has elapsed and cleaning of the
이상에 의해, 본 실시형태에 있어서의 기판처리장치(1)의 세정 처리가 종료하고, 기판처리장치(1)는 대기 상태가 된다.By the above, the washing | cleaning process of the
다음에, 현상 처리에 대하여 설명한다. 기판(90)이 반송 기구(20)에 의해 소정의 위치까지 반송되면, 제어장치(40)가 사용하는 액체로서 현상액을 선택하고, 약액공급부(34)에 제어신호를 출력한다. 이 제어신호에 따라, 약액공급부(34)가 송액 펌프(341)의 구동을 개시함과 동시에, 개폐 밸브(342)를 개방 상태로 한다.Next, development processing will be described. When the board |
이것에 의해, 약액 배관(35)에 현상액이 공급되어, 약액 배관(35) 내의 현상액의 압력이 증가하기 때문에, 역지 밸브(39a)가 개방 상태가 된다. 따라서, 현상액은 역지 밸브(39a) 및 노즐 배관(32)을 통과하여 슬릿노즐(31)로 공급되고 슬릿노즐(31)로부터 현상액의 토출이 개시된다.Thereby, the developing solution is supplied to the chemical
이 때, 세정액 배관(37)내의 세정액은 배액기구(38)에 의해 미리 배액되어 있기 때문에, 역지 밸브(39b)에 있어서, 현상액이 세정액과 접액상태가 되는 일은 없다.At this time, since the cleaning liquid in the cleaning
이상과 같이, 제 3 실시형태에서의 기판처리장치(1)에서는, 액체의 유로를 개폐하는 기구로서 역지 밸브(39a, 39b)를 사용하는 액공급장치(30b)에 의해, 제 1 실시형태에 있어서의 기판처리장치(1)와 동일한 효과를 얻을 수 있다.As described above, in the
또한, 역지 밸브(39a, 39b)를 사용하는 것에 의해, 제어장치(40)가 이것들을 직접 제어하는 일 없이, 약액공급부(34) 및 세정액 공급부(36)를 제어하는 것만으로, 원하는 동작을 시킬 수 있다. 따라서, 제어장치(40)에 의한 제어를 간소화 할 수 있다.In addition, by using the
또, 슬릿노즐(31) 및 노즐 배관(32) 내에 현상액과 세정액이 잔류하는 것을 방지하기 위해서, 슬릿노즐(31)의 Z축 방향의 높이 위치를 역지 밸브(39a, 39b)의 Z축 방향의 높이 위치보다도 낮게 되도록 배치하는 것이 바람직하다.In order to prevent the developer and the cleaning solution from remaining in the
< 4 .제 4 실시형태 ><4th embodiment>
제 2 실시형태에 있어서의 액공급장치(30a)는 약액 배관(35)이 거의 수평상태로 결합부(33a)에 연통접속되어 있었다. 이러한 배치에 의해 노즐 배관(32)과 약액 배관(35)이 접속될 경우, 배액기구(38)에 의해 배액을 행하였다고 해도, 약액 배관(35)내의 현상액의 잔류가 걱정된다.In the
제 1 실시형태에 있어서의 3방 밸브(33)와 같이, 유로 접속기구에 유로 개폐기구가 조립되어 있는 경우에는, 세정 처리 중에 약액 배관(35)을 폐쇄할 수 있다. 따라서, 약액 배관(35) 내의 현상액의 잔류가 문제가 되는 일은 별로 없다. 이것은 세정 처리는 기판(90)에 대하여 행하여지는 처리가 아니라, 그 정도의 정밀도가 요구되지 않는 것과, 세정 처리 중에 슬릿노즐(31)로부터 토출되는 세정액에는 3방 밸브(33)에 있어서 현상액과 접액상태가 되는 것에 의해 현상액이 혼입하지만, 이 정도의 혼입이면 세정액의 세정력이 현저하게 떨어지는 일은 없는 것에 의한다.Like the three-
그러나, 제 2 실시형태에 있어서의 결합부(33a)는 세정 처리 중에 약액 배관(35)을 폐쇄할 수 없다. 따라서, 약액 배관(35)내에 현상액이 잔류했을 경우, 제 2 실시형태에 있어서의 기판처리장치(1)는 제 1 실시형태에 있어서의 기판처리장치(1)와 비교하여, 세정 처리 중의 세정액에 현상액이 많이 혼입해버린다. 즉, 이것에 의해 세정액에 의한 세정 효과가 저하하는 경우에는, 세정 처리를 개시하기 전에, 약액 배관(35)내에 잔류하는 현상액을 가능한 한 감소시켜 두는 것이 바람직하다.However, the engaging
도 5는 이러한 원리를 기초로 하여 구성한 제 4 실시형태에 있어서의 기판처리장치(1)의 액공급장치(30c)를 나타내는 개략도이다. 액공급장치(30c)에서는 도 5에 나타낸 것처럼 경사를 갖고 약액 배관(35)이 결합부(33a)에 접속되어 있다. 즉, 약액 배관(35)이 결합부(33a)를 향해서 아래쪽으로 경사지면서 접속된다.FIG. 5 is a schematic view showing the liquid supply device 30c of the
이것에 의해, 배액기구(38)가 개폐 밸브(380)를 개방해서 세정액 배관(37) 내의 배액을 행한 경우에, 약액 배관(35)내의 액체도 스무스하게 배액되어, 약액 배관(35)내에 잔류하는 액체의 양이 감소한다. 또, 이외의 액공급장치(30c)의 구성·동작은, 제 2 실시형태에 있어서의 액공급장치(30a)와 동일하기 때문에 설명을 생략한다.As a result, when the
이상과 같이, 제 4 실시형태에 있어서의 기판처리장치(1)와 같은 구성을 사용하여도, 제 2 실시형태와 같은 효과를 얻을 수 있다.As mentioned above, even if it uses the same structure as the
또한, 액공급장치(30c)에 있어서, 약액 배관(35)이 결합부(33a)를 향하여 아래쪽으로 경사지면서, 결합부(33a)에 접속되는 구조로 되어 있는 것에 의해, 약액 배관(35)으로부터의 액빠짐이 향상한다. 따라서, 약액 배관(35)내에 잔류하는 액체의 양이 감소하기때문에, 예컨대, 세정 처리에 있어서의 세정액에 혼입하는 현상액의 양을 감소시킬 수 있다.In addition, in the liquid supply device 30c, the chemical
< 5. 제 5 실시형태 >5. Fifth Embodiment
상기 실시형태에 있어서의 기판처리장치(1)에서는 기판(90)에 대하여 처리를 행하는 처리액으로서 1종류의 액체(현상액)를 사용하는 경우에 대해서 설명했지만, 처리액은 1종류에 한정되는 것은 아니고, 2종류 이상이어도 좋다.In the
도 6은 이러한 원리를 기초로 하여 구성한 제 5 실시형태에 있어서의 기판처리장치(1)의 액공급장치(30d)를 나타내는 개략도이다.6 is a schematic view showing a liquid supply device 30d of the
액공급장치(30d)는 도 6에 나타내는 바와 같이, 3개의 약액공급부(34a, 34b, 34c)를 구비하고 있고, 각각이 결합부(33b)에 연통접속되어 있다. 각 약액공급부(34a, 34b, 34c)는 각각 상기 실시형태에 있어서의 약액공급부(34)와 동일한 구성을 가지고 있고, 각각의 약액 탱크(340)에는 서로 다른 처리액을 저류하고 있다.As shown in FIG. 6, the liquid supply apparatus 30d is provided with three chemical | medical
결합부(33b)는 복수의 약액 배관(35)이 연통접속 가능하게 되어 있는 이외는, 결합부(33a)와 동일한 기능·구성을 가지는 부재이다. 또, 본 실시형태에 있어 서는 도 6에 나타내는 바와 같이, 각 약액 배관(35)이 Z축 방향에 따라 결합부(33b)에 설치되지만, 예컨대, 결합부(33b)의 주위를 둘러싸는 위치에 설치되어도 좋다.The coupling portion 33b is a member having the same function and configuration as the
제어장치(40)는 기판처리장치(1)가 실행하는 처리에 맞추어, 슬릿노즐(31)로부터 토출하는 처리액을 선택하고, 약액공급부(34a, 34b, 34c) 중에서, 선택된 처리액을 저류하고 있는 것을 특정하여, 슬릿노즐(31)에 공급한다. 또, 사용하는 처리액을 전환할 때는, 배액기구(38)에 의해 슬릿노즐(31), 노즐 배관(32) 및 결합부(33b)내의 액체의 배액을 행하고, 더욱, 세정액 공급부(36)가 세정액을 공급하여 세정 처리를 행하도록 해도 좋다.The
이상과 같이, 제 5 실시형태에 있어서의 기판처리장치(1)에 있어서도, 상기실시형태와 같은 효과를 얻을 수 있다.As mentioned above, also in the
또한, 액공급장치(30d)가 복수의 약액공급부(34a, 34b, 34c)를 구비하는 것에 의해, 기판처리장치(1)에 의해 실행되는 처리의 변동을 증가시킬 수 있다.In addition, since the liquid supply apparatus 30d includes a plurality of chemical
< 6. 변형예 ><6. Modifications>
이상, 본 발명의 실시형태에 대해서 설명했지만, 본 발명은 상기 실시형태에 한정되는 것은 아니고 여러가지 변형이 가능하다.As mentioned above, although embodiment of this invention was described, this invention is not limited to the said embodiment, A various deformation | transformation is possible.
예컨대, 기판처리장치(1)는 반입되는 기판(90)에 대하여 항상 현상 처리를 행할 필요는 없다. 즉, 기판처리장치(1)가 다중 노광 프로세스를 행하는 라인에 조립되어 있는 경우 등에 있어서는 복수 회의 노광 처리가 반복되는 동안, 기판처리장치(1) 위를 기판(90)이 스루되어도 좋다. 상기 실시형태에 있어서의 기판처리장 치(1)는 세정 처리에 의해 슬릿노즐(31)에 부착된 현상액이 제거되어 있기 때문에, 이렇게 현상 처리를 행하지 않고 기판처리장치(1)를 통과하는 기판(90)에 대하여 슬릿노즐(31)로부터 현상액이 낙하하는 일은 없어, 처리 불량이 방지된다.For example, the
또한, 상기 실시형태에서는 배액기구(38)가 세정액 배관(37)에서만 배액을 행하였지만, 약액 배관(35)에 대해서도 배액기구(38)와 같은 기구를 설치하여 배액을 행하도록 구성해도 좋다.In addition, in the said embodiment, although the
또한, 상기 실시형태에서는 배액기구(38)는 흡인 기구를 설치하는 일없이, 배액을 행하였지만, 별도 흡인기구를 마련하여 세정액 배관(37)내의 액체를 흡인하면서 배액하도록 구성해도 좋다.In addition, in the said embodiment, although the
또한, 유로를 개폐하는 기구나, 해당 기구를 설치하는 위치 등은 상기 실시형태에서 나타낸 것에 한정되는 것은 아니다. 예컨대, 제 3 실시형태에 있어서의 액공급장치(30b)의 역지 밸브(39a, 39b)를 개폐 밸브로 바꿔 놓고, 해당 개폐 밸브를 제어장치(40)에 의해 제어하도록 해도 좋다.In addition, the mechanism which opens and closes a flow path, the position which installs the said mechanism, etc. are not limited to what was shown by the said embodiment. For example, the
또한, 제 2·제 4·제 5 실시형태에 있어서의 액공급장치(30a, 30c, 30d)에서는 현상액과 세정액과의 접액상태가 현상액의 유로에 가까운 위치에서 발생하지 않도록 구성하고 있었다. 그러나, 세정액 배관(37)의 결합부(33a(33b)) 측에 개폐 밸브를 설치하는 구성으로 해도 좋다. 도 7은 이러한 원리를 기초로 하여 구성한 변형예에 있어서의 액공급장치(30e)를 나타내는 도면이다. 액공급장치(30e)는 제 2 실시형태에 있어서의 액공급장치(30a)에 개폐 밸브(33c)를 추가한 구성을 가지고 있다. 이 변형예에 있어서의 배액기구(38)는 개폐 밸브(33c)가 폐쇄된 상태에 있어 서 세정액 배관(37) 내의 액체의 배액을 행한다. 이것에 의해, 단순 구조의 결합부(33a, 33b)를 사용하여 약액 배관(35)과 세정액 배관(37)을 연통접속한 경우에라도 현상액과 세정액과의 접액상태를 방지할 수 있다. 또, 도 5에 나타내는 제 4 실시형태에 있어서의 액공급장치(30c) 및 도 6에 나타내는 제 5 실시형태에 있어서의 액공급장치(30d)에 대해서도 동일하다.In addition, in the
청구항 1 내지 8에 기재된 발명에서는, 복수의 유로 중의 적어도 1개의 유로로부터 액체를 배액하는 배액수단을 구비하는 것에 의해, 토출수단으로부터 토출되는 액체에 다른 액체가 혼입하는 것을 억제할 수 있다.In the inventions of
청구항 2에 기재된 발명에서는, 배액수단이 적어도 1개의 유로에 대해서, 개폐 수단으로부터 공급수단까지의 사이에 있어서 액체의 배액을 행하는 것에 의해, 처리액과 다른 액체와의 접액상태를 방지할 수 있으므로, 토출수단으로부터 토출되는 처리액에 다른 액체가 혼입하는 것을 방지할 수 있다.In the invention according to claim 2, since the liquid draining means discharges the liquid from at least one flow path to the supply means for at least one flow path, the liquid contact state between the processing liquid and the other liquid can be prevented. It is possible to prevent the mixing of other liquids in the processing liquid discharged from the discharge means.
청구항 4에 기재된 발명에서는, 개폐 수단이 역지 밸브인 것에 의해, 제어를 간소화 할 수 있다.In the invention according to claim 4, the control can be simplified by the opening and closing means being a check valve.
청구항 5에 기재된 발명에서는, 배액수단이 복수의 유로 중 순수를 안내하기 위해서 사용되는 유로로부터 액체를 배액하는 것에 의해, 순수의 체류를 방지함으로써, 파티클의 원인이 되는 박테리아의 발생을 방지할 수 있다.In the invention as set forth in claim 5, by discharging the liquid from the flow path used for guiding the pure water in the plurality of flow paths, it is possible to prevent the generation of bacteria that cause particles by preventing the retention of the pure water. .
청구항 6에 기재된 발명에서는, 적어도 1종류의 처리액에 현상액이 포함되는 것에 의해, 공급되는 현상액의 농도관리의 정밀도를 향상시킬 수 있어, 현상 처리 정밀도의 향상을 도모할 수 있다.In the invention according to claim 6, by including the developer in at least one kind of the treatment liquid, the accuracy of the density management of the developer to be supplied can be improved, and the development treatment accuracy can be improved.
청구항 7에 기재된 발명에서는, 적어도 1종류의 처리액에 레지스트액이 포함되는 것에 의해, 공급되는 레지스트액의 농도관리의 정밀도를 향상시킬 수 있어, 도포 처리 정밀도의 향상을 도모할 수 있다.In the invention according to claim 7, the resist liquid is contained in at least one kind of the processing liquid, so that the accuracy of the concentration management of the supplied resist liquid can be improved, and the coating processing accuracy can be improved.
청구항 8에 기재된 발명에서는, 배액수단은 토출수단보다도 낮은 위치에 설치되어 있는 것에 의해, 흡인 기구 등을 설치하는 일없이, 액체를 배액할 수 있다.In the invention according to claim 8, the drainage means is provided at a position lower than the discharge means, so that the liquid can be drained without providing a suction mechanism or the like.
청구항 9에 기재된 발명에서는, 청구항 1 내지 8 중 어느 한 항에 기재된 액공급장치를 구비하는 것에 의해, 기판에 공급되는 처리액의 농도관리의 정밀도가 향상하는 것에 의해, 약액처리 정밀도의 향상을 도모할 수 있다.
In the invention according to claim 9, by providing the liquid supply device according to any one of
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