KR100721289B1 - Keeping apparatus capable of cleaning slit nozzle and method for cleaning slit nozzle using the same - Google Patents

Keeping apparatus capable of cleaning slit nozzle and method for cleaning slit nozzle using the same Download PDF

Info

Publication number
KR100721289B1
KR100721289B1 KR1020050105598A KR20050105598A KR100721289B1 KR 100721289 B1 KR100721289 B1 KR 100721289B1 KR 1020050105598 A KR1020050105598 A KR 1020050105598A KR 20050105598 A KR20050105598 A KR 20050105598A KR 100721289 B1 KR100721289 B1 KR 100721289B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
cleaning
slit nozzle
liquid
container
cleaning liquid
Prior art date
Application number
KR1020050105598A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20070048474A (en
Inventor
고영민
백기동
Original Assignee
세메스 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 세메스 주식회사 filed Critical 세메스 주식회사
Priority to KR1020050105598A priority Critical patent/KR100721289B1/en
Publication of KR20070048474A publication Critical patent/KR20070048474A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR100721289B1 publication Critical patent/KR100721289B1/en

Links

Images

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08—CLEANING
    • B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B9/00—Cleaning hollow articles by methods or apparatus specially adapted thereto 
    • B08B9/02—Cleaning pipes or tubes or systems of pipes or tubes
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05B—SPRAYING APPARATUS; ATOMISING APPARATUS; NOZZLES
    • B05B15/00—Details of spraying plant or spraying apparatus not otherwise provided for; Accessories
    • B05B15/50—Arrangements for cleaning; Arrangements for preventing deposits, drying-out or blockage; Arrangements for detecting improper discharge caused by the presence of foreign matter
    • B05B15/55—Arrangements for cleaning; Arrangements for preventing deposits, drying-out or blockage; Arrangements for detecting improper discharge caused by the presence of foreign matter using cleaning fluids
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08—CLEANING
    • B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B5/00—Cleaning by methods involving the use of air flow or gas flow
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment

Abstract

본 발명은 슬릿코터의 슬릿노즐을 세정할 수 있는 보관 장치 및 세정처리 방법에 관한 것으로, 슬릿노즐을 세정액에 침지시킬 수 있는 용기와, 상기 용기에 신규한 세정액을 공급하는 신액 탱크와, 상기 신액 탱크로부터 상기 용기로 공급되어 세정처리에 사용되고 배출되는 세정액을 회수하고 상기 회수된 세정액을 상기 용기로 공급하는 회수 탱크와, 상기 회수 탱크로부터 상기 용기로 공급되어 세정처리에 사용되고 배출되는 세정액을 저장하고 상기 저장된 세정액을 폐기하는 폐액 탱크를 포함하여 상기 세정액을 상기 슬릿노즐의 세정처리에 재사용하는 것을 특징으로 한다. 본 발명에 의하면, 슬릿노즐을 2차에 걸쳐 세정함으로써 세정효과를 증대시킬 수 있는 효과가 있으며, 아울러 세정액을 회수하여 재사용함으로써 세정액 소모량을 줄일 수 있는 효과가 있다. 게다가 세정노즐의 내부까지도 세정함으로써 세정효과를 극대화시킬 수 있는 효과가 있다.The present invention relates to a storage device capable of cleaning a slit nozzle of a slit coater and a cleaning treatment method, comprising a container capable of immersing a slit nozzle in a cleaning liquid, a new liquid tank for supplying a new cleaning liquid to the container, and the new liquid. Recovering the cleaning liquid supplied from the tank to the container for the cleaning process and discharged, and storing the recovery tank for supplying the recovered cleaning liquid to the container, and the cleaning liquid supplied from the recovery tank to the container for the cleaning process and discharged; The cleaning solution may be reused for cleaning the slit nozzle, including a waste liquid tank for discarding the stored cleaning solution. According to the present invention, the cleaning effect is increased by washing the slit nozzle in two steps, and the cleaning liquid consumption can be reduced by recovering and reusing the cleaning liquid. In addition, there is an effect that can maximize the cleaning effect by cleaning even inside the cleaning nozzle.

슬릿코터, 슬릿노즐, 세정 Slit Coater, Slit Nozzle, Cleaning

Description

슬릿노즐의 보관 세정 장치 및 세정처리 방법{KEEPING APPARATUS CAPABLE OF CLEANING SLIT NOZZLE AND METHOD FOR CLEANING SLIT NOZZLE USING THE SAME}Storage cleaning apparatus and cleaning treatment method of slit nozzle {KEEPING APPARATUS CAPABLE OF CLEANING SLIT NOZZLE AND METHOD FOR CLEANING SLIT NOZZLE USING THE SAME}

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 슬릿노즐을 보관하고 세정을 할 수 있는 장치를 도시한 구성도.1 is a block diagram showing a device capable of storing and cleaning the slit nozzle according to an embodiment of the present invention.

< 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 ><Description of Symbols for Major Parts of Drawings>

100; 슬릿노즐의 보관 세정 장치 110; 슬릿노즐100; Storage cleaning apparatus 110 for the slit nozzle; Slit Nozzle

111; 토출로 120; 용기111; Discharge furnace 120; Vessel

130; 신액 탱크 140; 회수 탱크130; New tank 140; Recovery tank

150; 폐액 탱크150; Waste liquid tank

본 발명은 기판 처리 장치 및 방법에 관한 것으로, 보다 구체적으로는 슬릿코터의 슬릿노즐을 보관하고 세정할 수 있는 슬릿노즐의 보관 세정장치 및 슬릿노즐의 세정처리 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a substrate processing apparatus and a method, and more particularly, to a storage cleaning apparatus for a slit nozzle and a cleaning treatment method for the slit nozzle capable of storing and cleaning the slit nozzle of the slit coater.

슬릿코터(SlIT COATER)는 유리기판이나 실리콘 웨이퍼와 같은 평판기판에 레지스트와 같은 도포액을 슬릿 노즐을 이용하여 도포하는 기판 처리 장치의 일종이 다. 슬릿코터를 이용하여 연속적으로 다수매의 기판에 도포액을 도포하는 경우, 도포작업과 도포작업 사이의 대기시간 동안 슬릿노즐과 공기와의 접촉에 의해 슬릿노즐에 잔존하는 도포액이 경화된다. 이 상태 그대로 다음 기판에 계속해서 도포액을 공급하게 되면 경화된 도포액에 의해 도포막의 불량이 생기게 된다. 이에 따라, 슬릿노즐을 보관하는 경우 세정할 수 있는 장치의 필요성이 대두된다.Slit coater (SlIT COATER) is a type of substrate processing apparatus for applying a coating liquid such as a resist to a flat substrate such as a glass substrate or a silicon wafer using a slit nozzle. When the coating liquid is continuously applied to a plurality of substrates using a slit coater, the coating liquid remaining in the slit nozzle is cured by contact between the slit nozzle and air during the waiting time between the coating operation and the coating operation. If the coating liquid is continuously supplied to the next substrate in this state, defects in the coating film are caused by the cured coating liquid. Accordingly, there is a need for an apparatus that can be cleaned when the slit nozzle is stored.

이에 본 발명은 종래기술에서의 요구 내지는 필요를 충족시키기 위하여 안출된 것으로, 본 발명의 목적은 대기중이거나 보관중인 슬릿노즐에 잔존하는 도포액을 제거할 수 있는 슬릿노즐의 보관 세정 장치 및 이를 이용한 세정처리 방법을 제공함에 있다.Accordingly, the present invention has been made in order to meet the requirements or needs in the prior art, an object of the present invention is a storage cleaning apparatus for a slit nozzle that can remove the remaining coating liquid in the slit nozzle in the air or storage and using the same A cleaning treatment method is provided.

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 슬릿코터의 슬릿노즐을 세정할 수 있는 보관 세정 장치 및 세정처리 방법은 슬릿노즐을 보관할 수 있는 용기에 세정액을 순환 방식으로 공급시켜 보관중인 슬릿노즐을 2차에 걸쳐 세정하는 것을 특징으로 한다.Storage cleaning apparatus and cleaning treatment method capable of cleaning the slit nozzle of the slit coater according to the present invention for achieving the above object is to supply the cleaning liquid to the container that can hold the slit nozzle in a circulating manner secondary storage It is characterized by washing over.

상기 특징을 구현할 수 있는 본 발명의 실시예에 따른 슬릿노즐의 보관 세정 장치는, 슬릿노즐을 세정액에 침지시킬 수 있는 용기와, 상기 용기에 신규한 세정액을 공급하는 신액 탱크와, 상기 신액 탱크로부터 상기 용기로 공급되어 세정처리에 사용되고 배출되는 세정액을 회수하고 상기 회수된 세정액을 상기 용기로 공급하는 회수 탱크와, 상기 회수 탱크로부터 상기 용기로 공급되어 세정처리에 사용되 고 배출되는 세정액을 저장하고 상기 저장된 세정액을 폐기하는 폐액 탱크를 포함하여 상기 세정액을 상기 슬릿노즐의 세정처리에 재사용하는 것을 특징으로 한다.The storage cleaning apparatus for a slit nozzle according to an embodiment of the present invention capable of implementing the above features includes a container capable of immersing the slit nozzle in a cleaning liquid, a new liquid tank for supplying a new cleaning liquid to the container, and the new liquid tank. Recovering the cleaning liquid supplied to the container and used for the cleaning process, and storing a cleaning tank for supplying the recovered cleaning liquid to the container, and a cleaning liquid supplied from the recovery tank to the container for the cleaning process and discharged; The cleaning solution may be reused for cleaning the slit nozzle, including a waste liquid tank for discarding the stored cleaning solution.

본 실시예의 장치에 있어서, 상기 세정액은 상기 용기에 공급되는 경우 상기 슬릿노즐의 내부 토출로에 공급된다.In the apparatus of this embodiment, the cleaning liquid is supplied to the internal discharge passage of the slit nozzle when supplied to the container.

본 실시예의 장치에 있어서, 상기 세정액은 상기 신액 탱크 및 상기 회수 탱크 중에서 적어도 어느 하나의 탱크를 가압하는 방식으로 상기 적어도 어느 하나의 탱크로부터 상기 용기로 공급된다.In the apparatus of this embodiment, the cleaning liquid is supplied from the at least one tank to the vessel in such a manner as to pressurize at least one of the new liquid tank and the recovery tank.

본 실시예의 장치에 있어서, 상기 세정액은 상기 신액 탱크 및 상기 회수 탱크 중에서 적어도 어느 하나의 탱크를 가압하는 방식으로 상기 적어도 어느 하나의 탱크로부터 상기 슬릿노즐의 내부 토출로로 공급된다.In the apparatus of this embodiment, the cleaning liquid is supplied from the at least one tank to the internal discharge passage of the slit nozzle in such a manner as to pressurize at least one of the new liquid tank and the recovery tank.

본 실시예의 장치에 있어서, 상기 폐액 탱크는 진공 탱크를 포함한다.In the apparatus of this embodiment, the waste liquid tank comprises a vacuum tank.

본 실시예의 장치에 있어서, 상기 용기에 가압된 기체를 불어넣어 상기 용기에 공급된 세정액을 와류시켜 상기 슬릿노즐을 세정처리한다.In the apparatus of this embodiment, the pressurized gas is blown into the container to vortex the cleaning liquid supplied to the container to clean the slit nozzle.

상기 특징을 구현할 수 있는 본 발명의 실시예에 따른 슬릿노즐 세정처리 방법은, 제1 세정액이 채워진 용기에 제1 슬릿노즐을 침지시키는 단계와, 상기 제1 세정액을 와류시켜 상기 제1 슬릿노즐을 1차 세정처리하는 단계와, 상기 제1 세정액을 상기 용기로부터 폐기시키는 단계와, 상기 용기에 제2 세정액을 공급하는 단계와, 상기 제2 세정액을 와류시켜 상기 제1 슬릿노즐을 2차 세정처리하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.In the slit nozzle cleaning processing method according to an embodiment of the present invention which can implement the above features, the step of immersing the first slit nozzle in a container filled with a first cleaning liquid, and vortexing the first cleaning liquid to the first slit nozzle Performing a first cleaning process, disposing the first cleaning liquid from the container, supplying a second cleaning liquid to the container, and vortexing the second cleaning liquid to subject the first slit nozzle to a second cleaning process. Characterized in that it comprises a step.

본 실시예의 방법에 있어서, 상기 제2 세정액을 와류시켜 상기 제1 슬릿노즐 을 2차 세정처리하는 단계 이후에 상기 제2 세정액이 채워진 용기에 제2 슬릿노즐을 침지시키는 단계와, 상기 제2 세정액을 와류시켜 상기 제2 슬릿노즐을 1차 세정처리하는 단계와, 상기 제2 세정액을 상기 용기로부터 폐기시키는 단계와, 상기 용기에 제3 세정액을 공급하는 단계와, 상기 제3 세정액을 와류시켜 상기 제2 슬릿노즐을 2차 세정처리하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.In the method of the present embodiment, after the step of vortexing the second cleaning liquid to perform the second cleaning treatment of the first slit nozzle, immersing the second slit nozzle in the container filled with the second cleaning liquid, and the second cleaning liquid Vortexing to first wash the second slit nozzle, discarding the second cleaning liquid from the container, supplying a third cleaning liquid to the container, and vortexing the third cleaning liquid to And further cleaning the second slit nozzle.

본 실시예의 방법에 있어서, 상기 제1 세정액을 와류시켜 상기 제1 슬릿노즐을 1차 세정처리하는 단계는 상기 제1 슬릿노즐의 내부 토출로에 상기 제1 세정액을 공급하는 단계를 포함한다.In the method of this embodiment, the first cleaning of the first slit nozzle by vortexing the first cleaning liquid includes supplying the first cleaning liquid to an internal discharge passage of the first slit nozzle.

본 실시예의 방법에 있어서, 상기 제2 세정액을 와류시켜 상기 제1 슬릿노즐을 2차 세정처리하는 단계는 상기 제1 슬릿노즐의 내부 토출로에 상기 제2 세정액을 공급하는 단계를 포함한다.In the method of this embodiment, the step of vortexing the second rinse liquid and subjecting the first slit nozzle to the second rinsing process includes supplying the second rinse liquid to an internal discharge passage of the first slit nozzle.

본 발명에 의하면, 세정액을 용기에 공급하고 세정액을 와류시켜 슬릿노즐을 세정한 후 세정액을 회수 탱크로 저장한다. 회수탱크로 저장된 세정액을 다시 용기로 재공급하여 슬릿노즐을 재세정한 후 폐액 탱크를 통해 폐기한다.According to the present invention, the cleaning liquid is supplied to the container, the cleaning liquid is vortexed to clean the slit nozzle, and then the cleaning liquid is stored in the recovery tank. The slit nozzle is rewashed by re-supplying the cleaning liquid stored in the recovery tank to the container, and then disposed of through the waste tank.

이하, 본 발명에 따른 슬릿노즐의 보관 세정 장치 및 세정처리 방법을 첨부한 도면을 참조하여 상세히 설명한다.Hereinafter, a storage cleaning apparatus and a cleaning treatment method for a slit nozzle according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

본 발명과 종래 기술과 비교한 이점은 첨부된 도면을 참조한 상세한 설명과 특허청구범위를 통하여 명백하게 될 것이다. 특히, 본 발명은 특허청구범위에서 잘 지적되고 명백하게 청구된다. 그러나, 본 발명은 첨부된 도면과 관련해서 다음의 상세한 설명을 참조함으로써 가장 잘 이해될 수 있다.Advantages over the present invention and prior art will become apparent through the description and claims with reference to the accompanying drawings. In particular, the present invention is well pointed out and claimed in the claims. However, the present invention may be best understood by reference to the following detailed description in conjunction with the accompanying drawings.

(실시예)(Example)

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 슬릿노즐의 보관 세정 장치를 도시한 구성도이다.1 is a block diagram showing a storage cleaning apparatus for a slit nozzle according to an embodiment of the present invention.

도 1을 참조하면, 본 실시예의 슬릿노즐의 보관 세정 장치(100)는 슬릿코터(SLIT COATER)에서 도포액을 기판으로 토출하는 슬릿노즐(110)이 침지되는 용기(120)가 구비된다. 이 용기(120)는 슬릿노즐(110)의 보관 기능 및 세정 기능을 겸한다. 슬릿노즐(110)의 내부에는 도포액의 토출경로가 되는 토출로(111)가 구비된다.Referring to FIG. 1, the storage cleaning apparatus 100 of the slit nozzle of the present exemplary embodiment includes a container 120 in which the slit nozzle 110 for discharging the coating liquid from the slit coater to the substrate is immersed. The container 120 also serves as a storage function and a cleaning function of the slit nozzle 110. In the slit nozzle 110, a discharge path 111 serving as a discharge path of the coating liquid is provided.

용기(120)는 특히 도포액이 토출되는 슬릿노즐(110)의 선단부가 충분히 침지되도록 세정액(S)이 채워진다. 용기(120)에 채워지는 세정액(S)은 신규한 세정액(S1, 이하 신액)이 저장된 신액 탱크(130)으로부터 공급된다. 신액 탱크(130)에 저장된 신액(S1)은 배관(162)을 통해 신액 탱크(130)에 가해지는 질소 가압에 의해 배관(131,132)을 통해 용기(110)로 이동된다. 또한, 신액 탱크(130)에 저장된 신액(S1)은 배관(162)을 통해 신액 탱크(130)에 가해지는 질소 가압에 의해 배관(131,133)을 통해 슬릿노즐(110)의 토출로(111)로 이동된다. 신액 탱크(130)의 용적은 임의적이나 가령 약 50 ℓ정도로 설계할 수 있다.In particular, the container 120 is filled with the cleaning liquid S such that the tip portion of the slit nozzle 110 through which the coating liquid is discharged is sufficiently immersed. The cleaning liquid S filled in the container 120 is supplied from the new liquid tank 130 in which the new cleaning liquid S 1 (hereinafter referred to as a new liquid) is stored. The new liquid S 1 stored in the new liquid tank 130 is moved to the container 110 through the pipes 131 and 132 by nitrogen pressurization applied to the new liquid tank 130 through the pipe 162. In addition, the new liquid S 1 stored in the new liquid tank 130 is discharged from the slit nozzle 110 through the pipes 131 and 133 by nitrogen pressure applied to the new liquid tank 130 through the pipe 162. Is moved to. The volume of the fresh liquid tank 130 may be arbitrarily designed, for example, about 50 l.

용기(120)에 신액(S1)이 채워지게 되면 배관(164)을 통해 유입되는 가압된 질소에 의해 와류가 발생하고, 신액(S1)의 와류에 의해 슬릿노즐(110)의 외부, 특히 슬릿노즐(110)의 선단부에 경화된 도포액이 제거된다. 이와 아울러, 슬릿노즐(110)의 토출로(111)에 잔존하는 도포액은 배관(133)을 통해 유입된 신액(S1)에 의해 묽어지거나 제거되고, 배관(165)을 통해 유입되는 질소의 가압에 의해 토출로(111)로부터 용기(120)로 배출된다. 용기(120)에서 슬릿노즐(110)을 세정처리한 신액(S1)은 배관(141)을 통해 회수 탱크(140)로 회수된다. 회수 탱크(140)의 용적은 임의적이나 가령 약 10 ℓ정도로 설계할 수 있다.When the fresh liquid S 1 is filled in the container 120, vortices are generated by pressurized nitrogen flowing through the pipe 164, and the outside of the slit nozzle 110 is caused by the vortex of the fresh liquid S 1 . The coating liquid cured at the tip of the slit nozzle 110 is removed. In addition, the coating liquid remaining in the discharge passage 111 of the slit nozzle 110 is diluted or removed by the fresh liquid S 1 introduced through the pipe 133, and the nitrogen flowed through the pipe 165. It discharges from the discharge path 111 to the container 120 by pressurization. The fresh liquid S 1 having the slit nozzle 110 cleaned in the container 120 is recovered to the recovery tank 140 through the pipe 141. The volume of the recovery tank 140 may be arbitrarily designed, for example, about 10 l.

여기서, 배관들(131,132,133,141,165) 각각에는 신액(S1)이나 질소의 흐름을 단속하는 밸브들(131a,132a,133a,141a,165a)이 각각 설치되어 있다. 또한, 신액 탱크(130)에는 내부 압력을 측정하고 표지하는 압력계(135)가 구비되어 있다.Here, each of the pipes 131, 132, 133, 141, and 165 is provided with valves 131a, 132a, 133a, 141a, and 165a to control the flow of the fresh liquid S 1 or nitrogen, respectively. In addition, the new liquid tank 130 is provided with a pressure gauge 135 for measuring and labeling the internal pressure.

회수 탱크(140)로 회수된 세정액(S2, 이하, 회수액)은 배관(163)통해 유입되는 가압된 질소에 의해 배관(142,143)을 타고 용기(120)로 이동된다. 또한, 회수 탱크(140)에 저장된 회수액(S2)은 배관(163)을 통해 회수 탱크(140)에 가해지는 질소 가압에 의해 배관(142,144)을 통해 슬릿노즐(110)의 토출로(111)로 이동된다.The cleaning liquid S 2 , hereinafter, recovered liquid recovered to the recovery tank 140 is moved to the vessel 120 through the pipes 142 and 143 by pressurized nitrogen introduced through the pipe 163. In addition, the recovery liquid S 2 stored in the recovery tank 140 is discharged from the slit nozzle 110 through the pipes 142 and 144 by nitrogen pressure applied to the recovery tank 140 through the pipe 163. Is moved to.

용기(120)에 회수액(S2)이 채워지게 되면 배관(164)을 통해 유입되는 가압된 질소에 의해 와류가 발생하고, 회수액(S2)의 와류에 의해 슬릿노즐(110)의 외부, 특히 슬릿노즐(110)의 선단부에 경화된 도포액이 제거된다. 이와 아울러, 슬릿노즐 (110)의 토출로(111)에 잔존하는 도포액은 배관(144)을 통해 유입된 회수액(S2)에 의해 묽어지거나 제거되고, 배관(165)을 통해 유입되는 질소의 가압에 의해 토출로(111)로부터 용기(120)로 배출된다.When the recovery liquid S 2 is filled in the container 120, vortices are generated by pressurized nitrogen flowing through the pipe 164, and the outside of the slit nozzle 110 is caused by the vortex of the recovery liquid S 2 . The coating liquid cured at the tip of the slit nozzle 110 is removed. In addition, the coating liquid remaining in the discharge passage 111 of the slit nozzle 110 is diluted or removed by the recovery liquid S 2 introduced through the pipe 144, and the nitrogen flowing into the pipe 165 is removed. It discharges from the discharge path 111 to the container 120 by pressurization.

용기(120)에서 슬릿노즐(110)을 세정처리한 회수액(S2), 즉 폐액(S3)은 배관(151)을 통해 폐액 탱크(150)로 저장된다. 폐액 탱크(150)는 배관(152)을 통한 펌핑으로 진공상태로 초기화되고, 저장된 폐액(S3)은 배관(153)을 통해 외부로 배출되어 폐기된다. 폐액 탱크(150)의 용적은 임의적이나 가령 약 50 ℓ정도로 설계할 수 있다.The recovery liquid S 2 , that is, the waste liquid S 3 , in which the slit nozzle 110 is cleaned in the vessel 120 is stored as the waste liquid tank 150 through the pipe 151. The waste liquid tank 150 is initialized in a vacuum state by pumping through the pipe 152, and the stored waste liquid S 3 is discharged to the outside through the pipe 153 and disposed of. The volume of the waste liquid tank 150 may be arbitrarily designed, for example, about 50 liters.

배관들(142,143,144,151,152,153) 각각에는 회수액(S1)이나 폐액(S3)의 흐름을 단속하는 밸브들(142a,143a,144a,151a,152a,153a)이 각각 설치되어 있다. 또한, 회수 탱크(140)와 폐액 탱크(150) 각각에는 내부 압력을 측정하고 표지하는 압력계(145,155)가 각각 구비되어 있다.Each of the pipes 142, 143, 144, 151, 152, and 153 is provided with valves 142a, 143a, 144a, 151a, 152a, and 153a to control the flow of the recovery liquid S 1 or the waste liquid S 3 , respectively. In addition, each of the recovery tank 140 and the waste liquid tank 150 is provided with pressure gauges 145 and 155 for measuring and labeling the internal pressure.

상기와 같이 구성된 슬릿노즐의 보관 세정 장치(100)를 이용한 세정처리 방법은 다음과 같다.The cleaning treatment method using the storage cleaning device 100 of the slit nozzle configured as described above is as follows.

용기(120)에는 전회의 세정처리에서 회수되어 사용되었던 세정액(S2)이 미리 채워져 있다고 가정한다. 용기(120)에 채워져 있던 회수액(S2)을 와류시켜 슬릿노즐(110)을 세정(1차 세정)한다. 1차 세정처리에 사용된 회수액(S2)인 폐액(S3)은 폐액 탱크(150)로 저장된다. 폐액 탱크(150)에 저장된 폐액(S3)은 외부로 배출되어 폐기 된다.It is assumed that the container 120 is prefilled with the cleaning liquid S 2 that has been recovered and used in the previous cleaning treatment. The recovery liquid S 2 filled in the vessel 120 is vortexed to clean the slit nozzle 110 (primary cleaning). The waste liquid S 3 , which is the recovery liquid S 2 used in the primary cleaning process, is stored in the waste liquid tank 150. The waste liquid S 3 stored in the waste liquid tank 150 is discharged to the outside and disposed of.

1차 세정처리가 완료되면 신액 탱크(130)로부터 신액(S1)이 용기(120)로 새로이 공급된다. 신액(S1)이 용기(120)로 채워지면 와류 발생으로 슬릿노즐(110)을 세정(2차 세정)한다. 2차 세정처리에 사용된 신액(S1)은 회수 탱크(140)로 회수된다. 2차 세정처리에 사용되어 회수 탱크(140)로 회수된 신액(S1), 즉 회수액(S2)은 용기(120)에 재공급되어 새로운 슬릿노즐(110)을 세정(1차 세정)처리에 사용된 후 폐기된다.When the primary cleaning process is completed, the fresh liquid S 1 is newly supplied from the fresh liquid tank 130 to the container 120. When the fresh liquid S 1 is filled with the container 120, the slit nozzle 110 is cleaned (secondary cleaning) by vortex generation. The fresh liquid S 1 used in the secondary cleaning process is recovered to the recovery tank 140. The new liquid S 1 , which is used in the secondary cleaning process and recovered to the recovery tank 140, that is, the recovery liquid S 2 is resupplied to the container 120 to clean the new slit nozzle 110 (primary cleaning). After use, it is discarded.

이와 같이, 슬릿노즐(11)은 먼저의 세정처리에 사용되어 회수된 세정액에 의해 먼저 1차 세정처리된 다음, 새로이 공급되는 세정액에 의해 2차로 세정된다. 2차 세정처리에 사용된 세정액은 회수되어 새로운 슬릿노즐의 1차 세정처리에 재사용된다. 그리고, 세정액은 질소 가압 방식에 의해 강제로 용기로 공급되고 회수된다.In this way, the slit nozzle 11 is first washed by the washing liquid recovered and used for the first washing treatment, and then secondly washed by the newly supplied washing liquid. The cleaning liquid used in the secondary cleaning treatment is recovered and reused for the primary cleaning treatment of the new slit nozzle. Then, the cleaning liquid is forcibly supplied to and recovered from the container by the nitrogen pressurization method.

이상의 상세한 설명은 본 발명을 예시하는 것이다. 또한 전술한 내용은 본 발명의 바람직한 실시 형태를 나타내고 설명하는 것에 불과하며, 본 발명은 다양한 다른 조합, 변경 및 환경에서 사용할 수 있다. 그리고, 본 명세서에 개시된 발명의 개념의 범위, 저술한 개시 내용과 균등한 범위 및/또는 당업계의 기술 또는 지식의 범위 내에서 변경 또는 수정이 가능하다. 전술한 실시예들은 본 발명을 실시하는데 있어 최선의 상태를 설명하기 위한 것이며, 본 발명과 같은 다른 발명을 이용하는데 당업계에 알려진 다른 상태로의 실시, 그리고 발명의 구체적인 적용 분야 및 용 도에서 요구되는 다양한 변경도 가능하다. 따라서, 이상의 발명의 상세한 설명은 개시된 실시 상태로 본 발명을 제한하려는 의도가 아니다. 또한 첨부된 청구범위는 다른 실시 상태도 포함하는 것으로 해석되어야 한다.The foregoing detailed description illustrates the present invention. In addition, the foregoing description merely shows and describes preferred embodiments of the present invention, and the present invention can be used in various other combinations, modifications, and environments. And, it is possible to change or modify within the scope of the concept of the invention disclosed in this specification, the scope equivalent to the written description, and / or the skill or knowledge in the art. The foregoing embodiments are intended to illustrate the best state in carrying out the invention, and to utilize other inventions, such as the invention, to other conditions known in the art, and to the specific fields and applications of the invention. Various changes are possible. Accordingly, the detailed description of the invention is not intended to limit the invention to the disclosed embodiments. Also, the appended claims should be construed to include other embodiments.

이상에서 상세히 설명한 바와 같이, 본 발명에 의하면, 세정액을 보관용기에 공급하고 세정액을 와류시켜 슬릿노즐을 세정한 후 세정액을 회수 탱크로 저장한다. 회수탱크로 저장된 세정액을 다시 용기로 재공급하여 슬릿노즐을 재세정한 후 폐액 탱크를 통해 폐기한다.As described in detail above, according to the present invention, the cleaning liquid is supplied to the storage container, the cleaning liquid is vortexed to clean the slit nozzle, and then the cleaning liquid is stored in the recovery tank. The slit nozzle is rewashed by re-supplying the cleaning liquid stored in the recovery tank to the container, and then disposed of through the waste tank.

이에 따라, 슬릿노즐을 2차에 걸쳐 세정함으로써 세정효과를 증대시킬 수 있는 효과가 있으며, 아울러 세정액을 회수하여 재사용함으로써 세정액 소모량을 줄일 수 있는 효과가 있다. 게다가 세정노즐의 내부까지도 세정함으로써 세정효과를 극대화시킬 수 있는 효과가 있다.Accordingly, the cleaning effect is increased by washing the slit nozzle in two steps, and the cleaning liquid consumption is reduced by recovering and reusing the cleaning liquid. In addition, there is an effect that can maximize the cleaning effect by cleaning even inside the cleaning nozzle.

Claims (10)

슬릿노즐을 세정액에 침지시킬 수 있는 용기와;A container capable of immersing the slit nozzle in a cleaning liquid; 상기 용기에 신규한 세정액을 공급하는 신액 탱크와;A new liquid tank for supplying a new cleaning liquid to the container; 상기 신액 탱크로부터 상기 용기로 공급되어 세정처리에 사용되고 배출되는 세정액을 회수하고, 상기 회수된 세정액을 상기 용기로 공급하는 회수 탱크와;A recovery tank supplied from the new liquid tank to the container for recovering the cleaning liquid used for the cleaning process and discharged, and supplying the recovered cleaning liquid to the container; 상기 회수 탱크로부터 상기 용기로 공급되어 세정처리에 사용되고 배출되는 세정액을 저장하고, 상기 저장된 세정액을 폐기하는 폐액 탱크를 포함하여,Including a waste liquid tank for storing the cleaning liquid supplied to the vessel from the recovery tank to the cleaning process and discharged, and discarding the stored cleaning liquid, 상기 세정액을 상기 슬릿노즐의 세정처리에 재사용하는 것을 특징으로 하는 슬릿노즐의 보관 세정 장치.The cleaning device for storage and storage of slit nozzles, wherein the cleaning solution is reused for cleaning the slit nozzles. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 세정액은 상기 용기에 공급되는 경우 상기 슬릿노즐의 내부 토출로에 공급되는 것을 특징으로 하는 슬릿노즐의 보관 세정 장치.And the cleaning liquid is supplied to the internal discharge path of the slit nozzle when the cleaning liquid is supplied to the container. 제1항 또는 제2항에 있어서,The method according to claim 1 or 2, 상기 세정액은 상기 신액 탱크를 가압하는 방식으로 상기 신액 탱크로부터 상기 토출로를 통해 상기 용기로 공급되는 것을 특징으로 하는 슬릿노즐의 보관 세정 장치.And the cleaning liquid is supplied from the new liquid tank to the container through the discharge path in such a manner as to pressurize the new liquid tank. 제1항 또는 제2항에 있어서,The method according to claim 1 or 2, 상기 세정액은 상기 회수 탱크를 가압하는 방식으로 상기 회수 탱크로부터 상기 토출로를 통해 상기 용기로 공급되는 것을 특징으로 하는 슬릿노즐의 보관 세정 장치.And the cleaning liquid is supplied from the recovery tank to the container through the discharge path in such a manner as to pressurize the recovery tank. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 폐액 탱크는 진공 탱크를 포함하는 것을 특징으로 하는 슬릿노즐의 보관 세정 장치.The waste liquid tank storage cleaning device, characterized in that it comprises a vacuum tank. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 용기에 가압된 기체를 불어넣어 상기 용기에 공급된 세정액을 와류시켜 상기 슬릿노즐을 세정처리하는 것을 특징으로 하는 슬릿노즐의 보관 세정 장치.And cleaning the slit nozzle by blowing the pressurized gas into the container to vortex the cleaning liquid supplied to the container. 제1 세정액이 채워진 용기에 제1 슬릿노즐을 침지시키는 단계와;Dipping the first slit nozzle into a container filled with the first cleaning liquid; 상기 제1 세정액을 와류시켜 상기 제1 슬릿노즐을 1차 세정처리하는 단계와;Vortexing the first cleaning liquid to perform a first cleaning treatment on the first slit nozzle; 상기 제1 세정액을 상기 용기로부터 폐기시키는 단계와;Discarding the first cleaning liquid from the container; 상기 용기에 제2 세정액을 공급하는 단계와;Supplying a second cleaning liquid to the container; 상기 제2 세정액을 와류시켜 상기 제1 슬릿노즐을 2차 세정처리하는 단계;Vortexing the second cleaning liquid to perform secondary cleaning of the first slit nozzle; 를 포함하는 것을 특징으로 하는 슬릿노즐의 세정처리 방법.Slit nozzle cleaning treatment method comprising a. 제7항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 제2 세정액을 와류시켜 상기 제1 슬릿노즐을 2차 세정처리하는 단계 이후에,After the step of vortexing the second cleaning liquid to perform the second cleaning treatment of the first slit nozzle, 상기 제2 세정액이 채워진 용기에 제2 슬릿노즐을 침지시키는 단계와;Immersing a second slit nozzle in a container filled with the second cleaning liquid; 상기 제2 세정액을 와류시켜 상기 제2 슬릿노즐을 1차 세정처리하는 단계와;Vortexing the second cleaning liquid to perform a first cleaning treatment of the second slit nozzle; 상기 제2 세정액을 상기 용기로부터 폐기시키는 단계와;Discarding the second cleaning liquid from the container; 상기 용기에 제3 세정액을 공급하는 단계와;Supplying a third cleaning liquid to the container; 상기 제3 세정액을 와류시켜 상기 제2 슬릿노즐을 2차 세정처리하는 단계;Vortexing the third cleaning liquid to perform secondary cleaning of the second slit nozzle; 를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 슬릿노즐의 세정처리 방법.The slit nozzle cleaning process characterized in that it further comprises. 제7항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 제1 세정액을 와류시켜 상기 제1 슬릿노즐을 1차 세정처리하는 단계는,Vortexing the first cleaning liquid to perform the first cleaning treatment on the first slit nozzle, 상기 제1 슬릿노즐의 내부 토출로에 상기 제1 세정액을 공급하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 슬릿노즐의 세정처리 방법.And supplying the first cleaning liquid to the internal discharge passage of the first slit nozzle. 제7항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 제2 세정액을 와류시켜 상기 제1 슬릿노즐을 2차 세정처리하는 단계는,Vortexing the second cleaning liquid to perform the second cleaning treatment of the first slit nozzle, 상기 제1 슬릿노즐의 내부 토출로에 상기 제2 세정액을 공급하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 슬릿노즐의 세정처리 방법.And supplying the second cleaning liquid to the internal discharge passage of the first slit nozzle.
KR1020050105598A 2005-11-04 2005-11-04 Keeping apparatus capable of cleaning slit nozzle and method for cleaning slit nozzle using the same KR100721289B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020050105598A KR100721289B1 (en) 2005-11-04 2005-11-04 Keeping apparatus capable of cleaning slit nozzle and method for cleaning slit nozzle using the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020050105598A KR100721289B1 (en) 2005-11-04 2005-11-04 Keeping apparatus capable of cleaning slit nozzle and method for cleaning slit nozzle using the same

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20070048474A KR20070048474A (en) 2007-05-09
KR100721289B1 true KR100721289B1 (en) 2007-05-25

Family

ID=38272913

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020050105598A KR100721289B1 (en) 2005-11-04 2005-11-04 Keeping apparatus capable of cleaning slit nozzle and method for cleaning slit nozzle using the same

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR100721289B1 (en)

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20040081336A (en) * 2003-03-14 2004-09-21 다이닛뽕스크린 세이조오 가부시키가이샤 Substrate processing apparatus and liquid feeding apparatus
KR20040104914A (en) * 2003-06-04 2004-12-13 다이닛뽕스크린 세이조오 가부시키가이샤 Liquid supply device and substrate process device

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20040081336A (en) * 2003-03-14 2004-09-21 다이닛뽕스크린 세이조오 가부시키가이샤 Substrate processing apparatus and liquid feeding apparatus
KR20040104914A (en) * 2003-06-04 2004-12-13 다이닛뽕스크린 세이조오 가부시키가이샤 Liquid supply device and substrate process device

Also Published As

Publication number Publication date
KR20070048474A (en) 2007-05-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN106104762B (en) Base plate processing system and pipeline cleaning method
KR20040080980A (en) Substrate processing method and substrate processing apparatus
CN104617018B (en) A kind of substrate board treatment and substrate processing method using same
KR100579536B1 (en) Cleaning apparatus and substrate processing apparatus
US8361240B2 (en) Substrate processing apparatus and substrate processing method
JP4723398B2 (en) Spin cleaning device
US9117854B2 (en) Substrate processing apparatus, substrate processing method, and storage medium storing a computer program for performing substrate processing method
WO1995028235A1 (en) Washing method and washing device
KR100721289B1 (en) Keeping apparatus capable of cleaning slit nozzle and method for cleaning slit nozzle using the same
KR102440321B1 (en) method for treating substrate
JP2008272674A (en) Container washing machine and container washing method
KR20100046785A (en) Unit and method for providing chemical liquid, and substrate treating apparatus using the same
JP2020043127A (en) Substrate processing method, substrate processing apparatus, and combined processing apparatus
KR102113433B1 (en) Repairing Apparatus for Inkjet Printer
KR102113432B1 (en) Repairing Apparatus for Inkjet Printer
KR20070090378A (en) Device for washing substrate and method to supply washing solution
KR20090072355A (en) Air vent device and method for nozzle
KR20110133280A (en) Cleaning device of a semiconductor wafer and cleaning method of the semiconductor wafer using the same
JP3081485B2 (en) Cleaning equipment
KR100868364B1 (en) Apparatus for generating supersonic and apparatus for cleaning a substrate having the same
KR100812096B1 (en) Apparatus and method for glass etching
JP4621051B2 (en) Substrate cleaning device
JP2016146440A (en) Liquid processing apparatus and liquid processing method
CN215785223U (en) Cleaning and drying mechanism for wafer conveying arm of photoresist removing machine table
JPH0517887A (en) Work washing method and washing device

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20130513

Year of fee payment: 7

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20140516

Year of fee payment: 8

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20150515

Year of fee payment: 9

LAPS Lapse due to unpaid annual fee