KR100589043B1 - 평판표시소자용 후처리 시스템 - Google Patents

Abstract

단일의 작업 영역에서 시일작업과 같은 후처리 공정을 간단하게 행할 수 있을 뿐만 아니라, 시일 지점에 대응하여 평판표시소자 모듈의 자세를 용이하게 변화시킬 수 있으므로 시일 품질은 물론이거니와 작업 능률 및 생산성 등을 대폭 향상시킬 수 있는 평판표시소자용 후처리 시스템에 관한 것이다.

이러한 후처리 시스템은, 평판표시소자 모듈의 시일 처리를 위한 작업공간을 제공하는 작업대와, 이 작업대에 회전 가능하게 위치하며 상기 모듈을 로딩하기 위한 로딩수단을 갖춘 회전테이블과, 상기 작업대에서 상기 회전테이블의 원주방향에 대응하여 위치하고 1개 또는 그 이상의 시일면에 대응하여 시일이 가능하도록 상기 모듈의 자세를 변화시킴과 아울러 시일 자세로 변화된 모듈에 시일재를 도포하는 수단을 포함하며,

상기 시일재 도포수단은, 시일재를 도포하는 유니트와, 이 도포유니트의 시일재 도포지점에 대응하여 회전에 의해 평판표시소자 모듈의 자세를 변화시키는 유니트를 포함한다.

평판표시소자 모듈, 글래스기판, 구동칩, 회로기판, 작업대, 회전테이블, 시일재를 도포하는 수단, 에폭시, 평판표시소자 모듈에 본딩된 회로기판 또는 구동칩의 접착력 및 내구성 향상을 위한 시일, 반전유니트, 도포유니트

Description

평판표시소자용 후처리 시스템{equipment for sealing to flat panel display}

도 1은 본 발명에 따른 평판표시소자용 후처리 시스템의 전체사시도.

도 2는 본 발명에 따른 평판표시소자용 후처리 시스템의 평면도.

도 3은 도 1의 제1시일부 구조를 설명하기 위한 부분 확대사시도.

도 4는 도 3의 작용에 의해 시일재가 도포된 상태를 나타내는 부분 확대사시도.

도 5는 도 1의 제2시일부 구조를 설명하기 위한 부분 확대사시도.

도 6은 도 5의 반전유니트 작용에 의해 평판표시소자 모듈이 시일을 위한 자세로 변화되는 상태를 설명하기 위한 정면도.

도 7은 도 6의 작용에 의해 자세가 변화된 평판표시소자 모듈의 일측면에 시일재가 도포된 상태를 나타내는 부분 확대사시도이다.

본 발명은 평판표시소자용 후처리 시스템에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 단일의 작업 영역에서 시일작업과 같은 후처리 공정을 간단하게 행할 수 있을 뿐만 아니라, 시일 지점에 대응하여 모듈의 자세를 용이하게 변화시킬 수 있으므로 시일 품질은 물론이거니와 작업 능률 및 생산성 등을 대폭 향상시킬 수 있는 평판표시소자용 후처리 시스템에 관한 것이다.

일반적으로 엘씨디(LCD)와 같은 평판표시소자들은 글래스기판의 전극 패턴 리드부에 연결되었던 구동칩(Drive Chip)이나 회로기판들이 상기 글래스기판의 패턴부에 직접 본딩된 후 소정의 후처리 공정을 거쳐서 양산된다.

상기 후처리 공정은 구동칩이나 회로기판이 본딩된 평판표시소자 모듈의 통전 상태를 테스트하는 공정과 본딩된 패턴부들이 서로 분리되거나 습기 등에 의해 접속 환경이 저하되는 것을 방지하기 위해 시일재 등을 도포하는 시일공정으로 이루어진다.

상기에서 통전 테스트 공정은 평판표시소자 모듈에 본딩된 회로기판의 신호 입력측 단자에 탐침(探針) 즉, 신호의 인가가 가능한 프로브 핀 등을 접속하여 시일 공정 전에 글래스기판과 회로기판 패턴부의 통전 환경을 테스트하는 것이다.

그리고, 이와 같은 패턴부의 통전 테스트가 완료되면 정상적인 평판표시소자 모듈에 한하여 패턴부 등을 시일처리하는 작업을 행하게 된다. 이러한 시일작업은 시일재의 도포가 가능한 도포유니트를 이용하여 예를들면, 평판표시소자 모듈의 표면측에서 구동칩 등을 덮는 형태로 시일재를 도포함과 아울러 평판표시소자 모듈의 배면측에서 회로기판의 접합부분 등에 시일재를 도포하는 것이다.

상기와 같은 시일공정은 평판표시소자 모듈의 양측면에서 시일 작업이 이루어지므로 2개의 작업 영역 즉, 인라인 구조를 갖는 2개의 시일 장치에 의해 예를들 면, 1개의 시일장치로 상기 모듈의 표면측에 시일을 행한 후 다른 시일 장치에 모듈을 재셋팅하여 글래스기판의 배면측에 시일이 행하는 공정으로 이루어진다.

그러나, 상기한 종래의 평판표시소자의 시일 공정은 서로 다른 작업영역에서 인라인 형태로 시일 작업을 행함으로서 공정이 복잡할 뿐만 아니라, 공정상 과다한 시간 및 인원이 소요되므로 만족할 만한 작업능률 및 생산성 등을 기대하기 어렵다.

게다가, 상기와 같이 평판표시소자 모듈의 시일을 위한 공정이 2개의 영역으로 나뉘어져서 2개의 시일장치로 각각의 영역에서 모듈의 일측면에만 시일을 행하는 시일 공정으로 이루어지면 작업장내에서 과다한 작업 영역을 확보하여야 하므로 공간의 활용성 및 호환성을 저하시키는 한 요인이 되며, 이로 인하여 예를들면, 평판표시소자 모듈의 본딩공정 등과 연계된 공정의 자동화를 구현하기에는 그 공정 구조상 한계가 있다.

그리고, 상기와 같이 서로 다른 영역에 설치되어 모듈의 일측면에만 시일이 가능한 단일의 기능을 갖는 장치들은 그 구조상 만족할 만한 설비의 효율성을 기대하기 어렵다.

본 발명은 상기한 바와 같은 종래의 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 본 발명의 목적은 단일의 작업 영역에서 시일작업과 같은 후처리 공정을 간단하게 행할 수 있을 뿐만 아니라, 시일 지점에 대응하여 모듈의 자세를 용이하게 변화시킬 수 있으므로 시일 품질은 물론이거니와 작업 능률 및 생산성 등을 대폭 향상시킬 수 있는 평판표시소자용 후처리 시스템을 제공하는데 있다.

상기한 바와 같은 본 발명의 목적을 실현하기 위하여, 평판표시소자 모듈의 시일 처리를 위한 작업공간을 제공하는 작업대와, 이 작업대에 회전 가능하게 위치하며 상기 모듈을 로딩하기 위한 로딩수단을 갖춘 회전테이블과, 상기 작업대에서 상기 회전테이블의 원주방향에 대응하여 위치하고 1개 또는 그 이상의 시일면에 대응하여 시일이 가능하도록 상기 모듈의 자세를 변화시킴과 아울러 시일 자세로 변화된 모듈에 시일재를 도포하는 수단을 포함하며,

상기 시일재 도포수단은, 시일재를 도포하는 유니트와, 이 도포유니트의 시일재 도포지점에 대응하여 회전에 의해 평판표시소자 모듈의 자세를 변화시키는 유니트를 포함하는 평판표시소자용 후처리 시스템을 제공한다.

이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부한 도면을 참조하여 더욱 상세히 설명하면 다음과 같다.

도 1 내지 도 2를 참조하면, 본 발명에 따른 평판표시소자용 후처리 시스템은, 평판표시소자 모듈(G)의 시일처리를 위한 작업공간을 제공하는 작업대(2)와, 이 작업대(2)에 회전 가능하게 위치하며 상기 모듈(G)을 로딩하기 위한 로딩수단을 갖춘 회전테이블(4)과, 상기 작업대(2)에서 상기 회전테이블(4)의 원주방향에 대응하여 위치하고 1개 또는 그 이상의 시일면에 대응하여 시일이 가능하도록 상기 모듈(G)의 자세를 변화시킴과 아울러 시일 자세로 변화된 모듈(G)에 시일재를 도포하는 수단(6)을 포함한다.

본 실시예에서는 시일처리를 위한 평판표시소자 모듈(G)에 도 1에서와 같이 구동칩(C)과 회로기판(B)이 본딩된 구조로 이루어지고, 상기 시일재 도포수단(6)이 상기 모듈(G)의 양측면에 대응하여 구동칩(C)과 회로기판(B) 접합부분에 각각 시일을 행할 수 있도록 제1시일부(S1)와 제2시일부(S2)로 이루어지는 것을 일예로 나타내고 있다.

상기 작업대(2)는 상기 모듈(G)의 시일을 위한 일종의 테이블 역할을 하는 것으로서, 도 1에서와 같은 프레임이 형태로 제작되어 상측면에 도면에서와 같은 평면의 작업 영역을 제공하는 구조로 제작될 수 있다.

상기 회전테이블(4)은 도 1에서와 같이 일정한 지름을 갖는 원판 모양으로 제작되어 상기 작업대(2)에서 도면에서와 같은 자세로 회전 가능하게 고정된다. 이와 같은 회전테이블(4)의 구조는 로딩측에서 로딩된 모듈(G)을 일정한 회전반경내에서 후술하는 제1시일부(S1)와 제2시일부(S2) 그리고 언로딩 영역으로 이동시킴과 아울러 이들 영역에서 해당 작업이 가능하도록 평판표시소자 모듈(G)을 공급하는 구조이다.

상기 회전테이블(4)에는 상기 평판표시소자 모듈(G)을 로딩하기 위한 수단을 갖는 구조로 이루어진다. 본 실시예에서는 도 1에서와 같은 스테이지(8)가 상기 회전테이블(4)에서 후술하는 공정 영역들에 대응하는 자세를 갖으며 도 2에서와 같이 상기 회전테이블(4) 원주방향으로 등분된 4개의 지점에서 2개가 1조로 이격 설치되는 것을 일예로 나타내고 있다.

상기 회전테이블(4)의 작동은 도면에는 나타내지 않았지만 예를들면, 회전 동력을 발생하는 서보모터와 같은 구동원이 상기 작업대(2)에서 상기 회전테이블(4)에 동력 전달이 가능하게 설치되어 이 구동원의 회전 동력에 의해 상기 회전테이블(4)이 단일의 회전 축심을 갖으며 회전하는 구조로 이루어질 수 있다.

상기 제1시일부(S1)는 상기 작업대(2)에서 모듈(G)의 로딩측과 이격되어 도 2에서와 같이 상기 회전테이블(4)의 원주방향 일측에 대응하도록 형성되는데, 본 실시예에서는 평판표시소자 모듈(G)의 표면측에서 구동칩(C)에 대응하여 시일재의 도포가 가능하도록 도면에서와 같은 도포유니트(U1)가 설치된 것을 일예로 나타내고 있다.

도 3을 참조하여 상기 도포유니트(U1)의 구조를 간략하게 설명하면, 시일재 도포를 위한 노즐(N)이 상하 이동이 가능하게 설치되어 이 노즐(N)을 통해 도 4에서와 같이 구동칩(C)에 대응하여 시일재를 도포하는 통상의 구조로 이루어진다. 이때, 시일재는 상기 평판표시소자 모듈(G)에서 구동칩(C)이 분리되거나 이들의 접촉면에 습기 등이 스며드는 것을 방지할 수 있도록 도면에서와 같이 구동칩(C) 전체 표면을 덮는 형태로 도포되거나 구동칩(C)의 테두리부분에만 도포될 수 있다

그리고, 상기 도포유니트(U1)는 시일재 도포를 위해 상기 노즐(N)이 상기 작업대(2)에서 위치 변화가 가능하게 셋팅될 수 있다. 예를들면, 도 3에서와 같이 상기 도포유니트(U1)가 한쌍의 슬라이더와 가이더로 이루어지는 슬라이딩장치(10)에 의해 상기 작업대(2)에서 요구되는 시일지점에 대응하여 상기 노즐(N)이 2방향 또는 그 이상으로 이동 가능한 구조로 제작될 수 있다.

상기 도포노즐(N)은 도면에는 나타내지 않았지만 별도의 시일재 공급장치와 연결되어 이 장치로부터 공급되는 시일재를 도포하는 구조이며, 이때, 사용되는 시일재는 에폭시(epoxy) 또는 실리콘과 같이 해당 분야에서 널리 사용되는 통상의 시일 용제(溶劑)가 사용될 수 있다.

상기 작업대(2)에는 상기 회전테이블(4)의 원주방향에 대응하여 상기 제1시일부(S1)와 이격되어 도 2에서와 같이 제2시일부(S2)가 형성되는데, 이러한 제2시일부(S2)는 상기 작업대(2) 단일의 작업 영역에서 상기 제1시일부(S1)를 통해서 구동칩(C) 즉, 평판표시소자 모듈(G)의 표면측 시일이 완료되면, 이 모듈(G)의 자세를 변화시켜서 배면측의 회로기판(B) 등에 대응하는 시일 지점을 시일하기 위한 것이다.

도 1 및 도 5를 참조하면, 상기 제2시일부(S2)는, 평판표시소자 모듈(G)의 자세를 변화시키는 반전유니트(12)와, 이 반전유니트(12)에 의해 자세가 변화된 모듈(G)의 시일면에 시일재를 도포하는 유니트(U2)를 포함한다. 본 실시예에서는 상기 반전유니트(12)가 도 5에서와 같이 2개의 아암(14)이 1조로 이루어지고, 이들 아암(14)은 도면에서와 같은 하우징(16)에서 상기 모듈(G)의 자세 변화를 위한 회전 동작이 가능하게 설치된 것을 일예로 나타내고 있다.

상기 반전유니트(12) 즉, 아암(14)은 상기 하우징(16)에 설치된 스탭모터 또는 로터리 실린더와 같은 구동원(M)과 동력 전달이 가능하게 연결되며, 이 구동원(M)의 회전동력에 의해 도 6에서와 같이 상기 하우징(16)을 중심으로 회전하면서 도면에서와 같이 평판표시소자 모듈(G)의 배면측이 시일 가능한 자세가 되도 록 변화시키는 구조이다.

상기 아암(14)의 자유단측에는 상기 모듈(G)의 자세 전환시 용이하게 흡착할 수 있도록 도면에서와 같은 흡착판(18)이 설치되며, 이 흡착판(18)은 예를들면, 공기의 부압으로 상기 모듈(G)의 표면을 흡착하는 이미 잘 알려진 통상의 고무흡착판이 사용될 수 있다.

상기 도포유니트(U2)는 상기 제1시일부(S1)에 설치된 유니트(U1)와 동일 또는 유사한 구조로 이루어져서 상기 아암(14)에 의해 자세가 변화된 모듈(G)의 배면측에 대응하여 도 7에서와 같이 도포노즐(N)을 이용하여 회로기판(B)의 접합부 등에 대응하여 도면에서와 같이 시일재를 도포하는 것이다.

그리고, 상기 제1 및 제2시일부(S1,S2)에서 양측 표면에 시일이 완료된 모듈(G)은 상기 회전테이블(4)에서 언로딩되어 예를들면, 시일재를 경화(cure)하기 위한 공정으로 공급되도록 이루어진다. 본 실시예서는 도 1에서와 같이 상기 작업대(2) 외측에서 시일재 경화를 위한 장치(20)가 도면에서와 같이 설치되어 도 2의 회전테이블(4)을 기준으로 할 때에 상기 제2시일부(S2)와 로딩영역 사이에서 모듈(G)이 언로딩되어 공급되는 것을 일예로 나타내고 있다. 이때, 상기 회전테이블(4)에 로딩되어 시일재 경화장치(20)에 대응하는 영역에 위치하는 모듈(G)은 이재장치(22)에 의해 언로딩되어 상기 경화장치(20) 측에 다시 로딩되도록 셋팅된다.

상기 경화장치(20)는 시일재 경화를 위해 도 1에서와 같은 컨베이어에 의해 상기 모듈(G)을 일정 구간 이동시킴과 아울러 이 구간상에서 예를들면, 자외선을 조사하여 시일재를 경화시키는 통상의 UV오븐 컨베이어 구조로 이루어질 수 있다. 이때, 상기 컨베이어는 상기 모듈(G)이 로딩될 때에 배면측에 도포된 시일재가 접촉하지 않도록 이루어진다.

따라서, 상기한 구조로 이루어지는 본 발명에 따른 평판표시소자용 후처리 시스템은, 상기 작업대(2)의 작업영역에서 평판표시소자 모듈(G)이 회전테이블(4)에 로딩되어 이 테이블(4)의 회전에 의해 일정한 회전 반경 범위내로 이동하면서 시일을 위한 2개의 영역 즉, 상기 제1 및 제2시일부(S1,S2)에서 구동칩(C)이나 회로기판(B)에 대응하는 시일 지점에 따라 상기 모듈(G)을 시일 가능한 자세로 변화시켜서 표면측은 물론이거니와 배면측에 대응하여 용이하게 시일을 행할 수 있는 것이다.

그리고, 상기와 같이 시일이 완료된 평판표시소자 모듈(G)은 시일재의 경화를 위한 공정 예를들면, 도 1에서와 같은 시일재 경화장치(20)에 모듈(G)이 공급되도록 셋팅하면 시일 공정 후 상기 경화장치(20)에 의해 상기 모듈(G)에 도포된 시일재를 용이하게 경화시킬 수 있다. 이와 같이 본 발명에 따른 시일 처리를 위한 시스템의 구조는 상기 작업대(2)에 제공되는 단일의 작업영역에서 처리가 가능하므로 작업능률과 생산성 등을 대폭 향상시킬 수 있다.

상기에서는 작업대(2)의 작업 영역에서 각각의 공정에 대응하여 시일 처리를 위한 2개의 모듈(G)이 상기 회전테이블(4)에 로딩되어 공급 및 처리되는 구조를 일예로 설명 및 도면에 나타내고 있지만 이에 한정되는 것은 아니다. 예를들면, 요구되는 작업 환경에 따라 각각의 공정영역에 1개 또는 그 이상의 모듈(G)이 동시에 공급 및 처리가 가능하도록 셋팅될 수도 있다.

상기에서는 본 발명에 따른 평판표시소자용 후처리 시스템의 바람직한 실시예에 대하여 설명하였지만, 본 발명은 이에 한정되는 것은 아니고 특허청구범위와 발명의 상세한 설명 및 첨부한 도면의 범위 안에서 여러 가지로 변형하여 실시하는 것이 가능하고, 이 또한 본 발명의 범위에 속한다.

이상 설명한 바와 같이 본 발명에 따른 평판표시소자용 후처리 시스템은, 단일의 작업영역에서 평판표시소자 모듈을 일정한 회전반경내로 이동시키면서 용이하게 시일을 행할 수 있을 뿐만 아니라, 1개 이상의 시일 지점에 대응하여 도포수단 즉, 반전유니트를 이용하여 모듈의 자세를 변화시킨 상태로 시일을 행할 수 있으므로 시일 품질은 물론이거니와 작업 능률 및 생산성, 공간 효율성 등을 대폭 향상시킬 수 있다.

Claims (5)

1. 평판표시소자 모듈의 시일 처리를 위한 작업공간을 제공하는 작업대와, 이 작업대에 회전 가능하게 위치하며 상기 모듈을 로딩하기 위한 로딩수단을 갖춘 회전테이블과, 상기 회전테이블의 원주방향을 따라 2군데 지점에 시일재 도포유니트가 각각 위치하고 이 2개의 시일재 도포유니트로 상기 모듈의 양측면에 대응하여 시일재를 도포하기 위한 시일재 도포수단과, 상기 2개의 시일재 도포유니트 중에서 어느 하나의 도포유니트와 연계되어 위치하고 상기 로딩수단에 로딩된 모듈의 저면이 상측을 향하도록 자세를 반전시키기 위한 반전유니트를 포함하는 평판표시소자용 후처리 시스템.
2. 청구항 1에 있어서, 상기 회전테이블은 상기 작업대에서 시일재 도포를 위한 영역에 대응하여 1개 또는 그 이상의 평판표시소자 모듈을 회전에 의해 공급하는 평판표시소자용 후처리 시스템.
3. 삭제
4. 청구항 1에 있어서, 상기 반전유니트는, 하우징과, 이 하우징에 일측단이 회전 가능하게 설치되며 회전에 의해 상기 모듈의 자세를 반전시키는 아암과, 이 아암의 회전 동작을 위한 동력을 발생하는 구동원과, 상기 아암의 자유단측에서 상기 모듈을 분리 가능하게 고정하는 흡착구를 포함하며,

   상기 아암은 상기 구동원의 동력에 의해 상기 하우징을 중심으로 회전하면서 상기 어느 하나의 도포유니트의 도포 영역에 대응하여 평판표시소자 모듈의 저면이 상측을 향하는 자세가 되도록 반전시키는 평판표시소자용 후처리 시스템.
5. 청구항 4에 있어서, 상기 구동원은 회전동력의 발생 및 회전 각도의 제어가 가능한 스탭모터 또는 로터리 실린더 중에서 어느 하나로 이루어지는 평판표시소자용 후처리 시스템.

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