KR200349821Y1 - 평판표시소자용 후처리 시스템 - Google Patents

Abstract

구동칩이나 회로기판이 본딩된 평판표시소자 모듈의 통전 테스트는 물론이거니와 시일 등과 같은 후처리 작업을 단일의 작업영역내에서 용이하게 행할 수 있는 평판표시소자용 후처리 시스템에 관한 것이다.

이러한 평판표시소자용 후처리 시스템은, 단일의 작업영역에서 구동칩 또는 회로기판이 본딩된 평판표시소자의 후처리 공정이 행하여지는 시스템으로서,

평판표시소자 모듈의 후처리를 위한 작업공간을 제공하는 작업대와, 이 작업대에 회전 가능하게 위치하며 상기 모듈이 로딩되는 회전테이블과, 상기 작업대에서 상기 회전테이블의 원주방향에 대응하여 위치하고 상기 모듈의 통전을 확인하기 위하여 상기 모듈의 신호입력단과 접촉하는 프로브를 갖는 통전 확인부와, 이 통전 확인부와 이격되어 상기 회전테이블에 원주방향에 대응하여 위치하고 상기 모듈의 구동칩 또는 회로기판 접합부에 시일재를 도포하는 도포부와, 이 시일재 도포부와 이격되어 상기 회전테이블의 원주방향에 대응하여 위치하고 상기 모듈에 도포된 시일재를 경화시키는 경화부를 포함한다.

Description

평판표시소자용 후처리 시스템{equipment for electric testing and sealing to flat panel display}

본 고안은 평판표시소자용 후처리 시스템에 관한 것으로, 더욱 상세하게는구동칩이나 회로기판이 본딩된 평판표시소자 모듈의 통전 테스트는 물론이거니와 시일 등과 같은 후처리 작업을 단일의 작업영역내에서 용이하게 행할 수 있는 평판표시소자용 후처리 시스템에 관한 것이다.

일반적으로 엘씨디(LCD)와 같은 평판표시소자들는 글래스기판의 전극 패턴 리드부에 연결되었던 구동칩(Drive Chip)이나 회로기판들이 상기 글래스기판의 패턴부에 직접 본딩된 후 소정의 후처리 공정을 거쳐서 양산된다.

상기 후처리 공정은 평판표시소자 모듈의 통전 상태를 테스트하는 공정과 본딩된 패턴부들이 서로 분리되거나 습기 등에 의해 접속 환경이 저하되는 것을 방지하기 위해 시일재 등을 도포하는 시일공정으로 이루어진다.

상기에서 통전 확인공정은 예를들면, 평판표시소자 모듈에 본딩된 회로기판의 신호 입력측에 탐침(探針) 즉, 신호의 인가가 가능한 프로브 핀 등을 접속하여 본딩된 글래스기판과 회로기판 패턴부의 통전 환경을 테스트하는 것이다, 즉, 상기 프로브 핀을 이용하여 영상신호를 인가한 후 평판표시소자 모듈의 디스플레이면을 통해 디스플레이되는 화상의 상태에 따라 패턴부의 통전 환경을 테스트 및 확인하는 것이다.

그리고, 이와 같은 패턴부의 통전 테스트가 완료되면 정상적인 평판표시소자 모듈에 한하여 패턴부에 시일을 행하는 작업을 행하게 된다. 이러한 시일작업은 시일재의 도포가 가능한 도포유니트를 이용하여 예를들면, 평판표시소자 모듈의 표면측에서 구동칩을 덮는 형태로 시일재를 도포하고, 평판표시소자 모듈의 배면측에서 평판표시소자 모듈과 회로기판의 접합부분에 시일재를 도포하는 것이다.

상기와 같은 통전 확인공정과 시일공정은 별도의 작업 영역에서 예를들면, 인라인 구조의 장치들에 의해 순차적으로 평판표시소자 모듈의 통전 테스트 및 시일 작업등이 이루어진다. 이때, 상기 시일공정은 평판표시소자 모듈의 양측면에서 시일 작업이 이루어지므로 2개의 작업영역으로 다시 나뉘어져서 글래스기판의 표면측과 배면측에 대응하여 각각 시일이 행하여진다.

그러나, 상기한 종래의 평판표시소자의 후처리 공정은 서로 다른 작업영역에서 인라인 형태로 전기테스트 및 시일작업 등을 행함으로서 공정이 복잡할 뿐만 아니라, 공정상 과다한 시간 및 인원이 소요되므로 만족할 만한 작업능률 및 생산성 등을 기대하기 어렵다.

게다가, 상기와 같이 평판표시소자 모듈의 후처리를 위한 공정이 2개의 영역으로 나뉘어져서 각각의 영역에서 단일의 작업만 행하는 작업 구조는 작업장내에서 과다한 작업 영역을 확보하여야 하므로 공간의 활용성 및 호환성을 저하시키는 한 요인이 되며, 이로 인하여 예를들면, 평판표시소자 모듈의 본딩공정 등과 연계된 공정의 자동화를 구현하기에는 공정 구조상 한계가 있다.

그리고, 상기와 같이 서로 다른 영역에서 후처리 공정을 행하는 장치들은 단일의 기능만을 갖는 구조이므로 만족할 만한 설비의 효율성을 기대하기 어렵고, 장치의 제작 및 유지보수 등에 과다한 비용이 소요되는 문제가 있다.

본 고안은 상기한 바와 같은 종래의 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 본 고안의 목적은 통전 테스트나 시일작업과 같은 후처리 공정이 간단할 뿐만 아니라, 후처리를 위한 공정이 단일의 작업영역내에서 이루어지므로 작업능률과 생산성 등을 대폭 향상시킬 수 있는 평판표시소자용 후처리 시스템을 제공하는데 있다.

상기한 바와 같은 본 고안의 목적을 실현하기 위하여, 단일의 작업영역에서 구동칩 또는 회로기판이 본딩된 평판표시소자의 후처리 공정이 행하여지는 시스템으로서,

평판표시소자 모듈의 후처리를 위한 작업공간을 제공하는 작업대와, 이 작업대에 회전 가능하게 위치하며 상기 모듈이 로딩되는 회전테이블과, 상기 작업대에서 상기 회전테이블의 원주방향에 대응하여 위치하고 상기 모듈의 통전을 확인하기 위하여 상기 모듈의 신호입력단과 접촉하는 프로브를 갖는 통전 확인부와, 이 통전 확인부와 이격되어 상기 회전테이블에 원주방향에 대응하여 위치하고 상기 모듈의 구동칩 또는 회로기판 접합부에 시일재를 도포하는 도포부와, 이 시일재 도포부와 이격되어 상기 회전테이블의 원주방향에 대응하여 위치하고 상기 모듈에 도포된 시일재를 경화시키는 경화부를 포함하는 평판표시소자용 후처리 시스템을 제공한다.

도 1은 본 고안에 따른 평판표시소자용 후처리 시스템의 전체사시도.

도 2는 본 고안에 따른 평판표시소자용 후처리 시스템의 평면도.

도 3은 도 1의 통전 확인부 구조를 설명하기 위한 부분 확대사시도.

도 4는 도 3의 측면도.

도 5는 도 1의 제1시일부에서 시일재가 도포되는 상태를 나타내는 부분 확대사시도.

도 6은 도 1의 제2시일부 구조를 설명하기 위한 부분 확대사시도.

도 7은 도 6의 반전유니트 작용에 의해 평판표시소자 모듈의 자세가 변화되는 상태를 나타내는 정면도.

도 8은 도 7의 작용에 의해 자세가 변환된 평판표시소자 모듈에 시일재가 도포되는 상태를 나타내는 부분 확대사시도이다.

이하, 본 고안의 바람직한 실시예를 첨부한 도면을 참조하여 더욱 상세히 설명하면 다음과 같다.

도 1 내지 도 2를 참조하면, 본 고안에 따른 평판표시소자용 후처리 시스템은, 평판표시소자 모듈(G)의 후처리를 위한 작업공간을 제공하는 작업대(2)와, 이작업대(2)에 회전 가능하게 위치하며 상기 모듈(G)이 로딩되는 회전테이블(4)과, 상기 작업대(2)에서 상기 회전테이블(4)의 원주방향에 대응하여 위치하고 로딩된 모듈(G)의 통전을 확인하는 통전 확인부(6)와, 이 통전 확인부(6)와 이격되어 위치하고 상기 모듈(G)의 구동칩(C) 및 회로기판(B) 접합부에 시일재를 도포하는 도포부(8)와, 상기 작업대(2)에서 상기 시일재 도포부(8)와 이격되어 위치하고 상기 모듈(G)에 도포된 시일재를 경화시키는 경화부(10)를 포함한다.

본 실시예에서는 후처리를 위한 평판표시소자 모듈(G)이 도 1에서와 같이 구동칩(C)과 회로기판(B)이 본딩된 구조로 이루어지고, 상기 시일재 도포부(8)가 구동칩(C)과 회로기판(B) 접합부분의 시일을 위한 2개의 영역 즉, 제1시일부(8a)와 제2시일부(8b)로 이루어지는 것을 일예로 나타내고 있다.

상기 작업대(2)는 상기 모듈(G)의 후처리를 위한 작업공간을 제공하기 위한 일종의 테이블 역할을 하는 것으로서, 도 1에서와 같은 프레임이 형태로 제작되어 상측면에 도면에서와 같은 평면의 작업 영역을 제공하는 구조로 제작될 수 있다.

상기 회전테이블(4)은 도 1에서와 같이 일정한 지름을 갖는 원판 모양으로 제작되어 상기 작업대(2)에서 도면에서와 같은 자세로 회전 가능하게 고정된다. 이와 같은 회전테이블(4)의 구조는 로딩된 모듈(G)을 일정한 회전반경내에서 이동시키면서 후술하는 통전 확인부(6)와 제1시일부(8a), 제2시일부(8b) 그리고 시일재 경화부(10)의 영역에서 해당 작업이 가능하도록 평판표시소자 모듈(G)을 공급하는 구조이다.

상기 회전테이블(4)에는 상기 평판표시소자 모듈(G)을 로딩하기 위한 스테이지(12)가 도 1에서와 같은 모양으로 제작되어 후술하는 공정 영역들에 대응하는 자세로 이격 설치될 수 있다. 본 실시예에서는 상기 스테이지(12)가 도 2에서와 같이 상기 회전테이블(4) 원주방향으로 등분된 4개의 지점에서 도면에서와 같이 2개가 1조로 이격 설치되는 것을 일예로 나타내고 있다.

상기 회전테이블(4)의 회전을 위한 동력을 발생하는 구동원은 도면에는 나타내지 않았지만 상기 작업대(2)와 회전테이블(4) 사이에 회전동력을 발생하는 예를들면, 서보모터 등이 설치되고 이 모터의 동력에 의해 상기 회전테이블(4)이 회전하는 구조로 셋팅될 수 있다.

상기 작업대(2)에서 상기 회전테이블(4)의 원주방향 일측에는 로딩된 평판표시소자 모듈(G)의 통전을 확인하기 위한 통전 확인부(6)가 설치되는데, 본 실시예에서는 도 3 및 도 4에서와 같이 2개의 탐침(探針) 즉, 프로브핀(14, probe)이 실린더와 같은 구동원(M1)에 도면에서와 같은 자세로 고정되고, 이 프로브핀(14)들의 선단에는 상기 모듈(G)에 본딩된 회로기판(B)의 신호 입력측 패턴부 단자에 영상신호의 입력이 가능한 접속구(16)가 설치된 구조로 이루지는 것을 일예로 나타내고 있다.

이때, 상기 2개의 프로브핀(14)을 고정하는 구동원(M1) 즉, 실린더는 도 3에서와 같은 지지대(18)에 설치되며 상기 프로브핀(14)들을 상기 작업대(2)에서 상기 회전테이블(4)에 대응하여 도면에서와 같은 자세로 신호 인가를 위한 동작이 이루어지도록 고정하는 구조이다.

상기 접속구(16)는 도면에는 나타내지 않았지만 영상 신호발신기와 연결되어이 발신기로부터 발생된 영상 신호를 상기 평판표시소자 모듈(G)에 본딩된 회로기판(B)의 입력측 단자에 인가가 가능하도록 셋팅된다. 이때, 상기 작업대(2)에는 상기 접속구(16)의 신호 인가시 회로기판(B)의 저면부를 지지하기 위한 플레이트(20)가 도 4에서와 같이 설치된다.

그리고, 상기 통전 확인부(6)에서 상기 접속구(16)의 신호 인가시 작업자가 상기 모듈(G)의 디스플레이면을 통해 화상을 용이하게 식별할 수 있도록 이루어진다. 본 실시예에서는 도 3에서와 같이 상기 지지대(18)에 2개의 카메라(22)가 설치되고, 이 카메라(22)는 상기 작업대(2)에 설치된 모니터(24)와 연결되어 상기 모듈(G)에 디스플레이되는 화상이 상기 모니터(24)를 통해 통상적인 방법으로 디스플레이되도록 한 구조를 일예로 나타내고 있다.

상기한 구조로 이루어지는 통전 확인부(6)는 상기 프로브핀(14)들이 상기 구동원(C)에 의해 하측으로 이동하여 상기 접속구(16)들이 상기 회전테이블(4)에 로딩된 모듈(G)의 회로기판(B) 신호 입력측 단자에 물리적으로 접촉하여 영상신호를 인가하면 인가된 신호에 의해 상기 모듈(G)의 디스플레이면을 통해서 화상이 디스플레이 되며, 이때, 디스플레이되는 화상 품질을 작업자가 모니터링하면서 평판표시소자 모듈(G)의 통전 상태를 용이하게 확인하는 것이다.

상기에서는 평판표시소자 모듈(G)에서 디스플레이되는 화상이 모니터(24)를 통해 작업자에게 식별 가능하도록 제공하는 구조를 일예로 설명 및 도면에 나타내고 있지만 이에 한정되는 것은 아니다.

예를들면, 상기 통전 확인부(6)에서 작업자가 상기 모듈(G)에서 디스플레이되는 화상을 직접 육안으로 확인이 가능하도록 셋팅될 수도 있다. 이때, 상기 평판표시소자 모듈(G)의 디스플레이면은 일정한 시야각을 가지므로 작업자의 위치를 감안하여 평판표시소자 모듈(G)의 디스플레이면이 최적의 시야각을 제공할 수 있도록 상기 스테이지(12)에서 작업자를 향하여 경사진 자세로 로딩될 수 있다.

그리고, 상기에서는 프로브핀(14)이 상기 작업대(2)에서 지지대(18)에 의해 도 3에서와 같은 자세로만 고정되는 것을 일예로 설명 및 도면에 나타내고 있지만 이에 한정되는 것은 아니다.

도면에는 나타내지 않았지만 상기 작업대(2)에서 위치 변화가 가능하도록 예를들면, 상기 지지대(18)가 슬라이더와 가이더로 이루어지는 한쌍의 "LM 가이드장치"에 의해 2방향 또는 그 이상으로 미끄럼 이동하는 구조로 설치될 수 있다. 이와 같이 상기 프로브핀(14)이 상기 작업대(2)에서 위치 변화가 가능하게 고정되면 로딩되는 평판표시소자 모듈(G)의 크기나 패턴 형태에 따라 접속구(16)의 접촉 위치를 용이하게 변화시킬 수 있다.

상기 제1시일부(8a)는 상기 작업대(2)에서 상기 통전 확인부(6)와 이격되어 도 2에서와 같이 상기 회전테이블(4)의 원주방향에 대응하도록 형성되는데, 본 실시예에서는 평판표시소자 모듈(G)의 표면측에서 구동칩(C)에 대응하여 시일재의 도포가 가능하도록 도면에서와 같은 도포유니트(26)가 설치된 것을 일예로 나타내고 있다.

상기 도포유니트(26)의 구조를 간략하게 설명하면, 시일재 도포를 위한 노즐(N)이 상하 이동 가능하게 설치되어 이 노즐(N)을 통해 도 5에서와 같이 구동칩(C)에 대응하여 시일재를 도포하는 통상의 구조로 이루어진다. 이때, 시일재는 상기 평판표시소자 모듈(G)에서 구동칩(C)이 분리되거나 이들의 접촉면에 습기 등이 스며드는 것을 방지할 수 있도록 도면에서와 같이 구동칩(C) 전체 표면을 덮는 형태로 도포되거나 구동칩(C)의 테두리부분에만 도포될 수 있다

그리고, 상기와 같은 시일재 도포를 위해 상기 노즐(N)이 상기 작업대(2)에서 위치 변화가 가능하게 셋팅될 수 있다. 예를들면, 도 1에서와 같이 상기 도포유니트(26)가 한쌍의 슬라이더와 가이더로 이루어지는 슬라이딩장치(28)에 의해 상기 작업대(2)에서 요구되는 시일지점에 대응하여 상기 노즐(N)이 2방향 또는 그 이상으로 이동 가능한 구조로 제작될 수 있다.

상기 도포노즐(N)은 도면에는 나타내지 않았지만 별도의 시일재 공급장치와 연결되어 이 장치로부터 공급되는 시일재를 도포하는 구조이며, 이때, 사용되는 시일재는 에폭시(epoxy) 또는 실리콘과 같은 해당 분야에서 시일을 위해 널리 사용되는 통상의 시일 용제가 사용될 수 있다.

상기 작업대(2)에는 상기 회전테이블(4)의 원주방향에 대응하여 상기 제1시일부(8a)와 이격되어 제2시일부(8b)가 형성되는데, 이러한 제2시일부(8b)는 상기 작업대(2) 단일의 작업 영역에서 상기 제1시일부(8a)를 통해서 구동칩(C) 즉, 평판표시소자 모듈(G)의 표면측 시일이 완료되면, 이 모듈(G)의 자세를 변화시켜서 배면측의 회로기판(B)을 시일하기 위한 것이다.

도 1 및 도 6을 참조하면, 상기 제2시일부(8b)는, 평판표시소자 모듈(G)의 자세를 변화시키는 반전유니트(30)와, 이 반전유니트(30)에 의해 자세가 변화된 모듈(G)의 시일면에 시일재를 도포하는 유니트(32)를 포함한다. 본 실시예에서는 상기 반전유니트(30)가 도 6에서와 같이 2개의 아암(34)이 1조로 이루어지고, 이들 아암(34)은 도면에서와 같은 하우징(36)에서 상기 모듈(G)의 자세 변화를 위한 회전 동작이 가능하게 설치된 것을 일예로 나타내고 있다.

상기 반전유니트(30) 즉, 아암(34)은 상기 하우징(36)에 설치된 스탭모터와 같은 구동원(M2)과 동력 전달이 가능하게 연결되며, 이 구동원(M2)의 회전동력에 의해 도 7에서와 같이 상기 하우징(36)을 중심으로 회전하면서 도면에서와 같이 평판표시소자 모듈(G)의 배면측이 시일 가능한 자세가 되도록 변화시키는 구조이다.

상기 아암(34)의 자유단측에는 상기 모듈(G)을 용이하게 흡착할 수 있도록 도면에서와 같은 흡착판(38)이 설치되며, 이 흡착판(38)은 예를들면, 공기의 부압으로 상기 모듈(G)의 표면을 흡착하는 고무흡착판이 사용될 수 있다.

상기 도포유니트(32)는 상기 제1시일부(8a)에 설치된 유니트(26)와 동일 또는 유사한 구조로 이루어져서 상기 아암(34)에 의해 자세가 변화된 모듈(G)의 배면측에 대응하여 도 8에서와 같이 도포노즐(N)을 이용하여 회로기판(B)의 접합부에 도면에서와 같이 시일재를 도포하는 것이다.

상기 작업대(2)에는 상기 제1 및 제2시일부(8a,8b)에서 모듈(G)의 양측 표면에 도포된 시일재를 경화(cure)하기 위한 경화부(10)가 설치된다. 본 실시예서는 도 1에서와 같이 상기 작업대(2) 외측에 시일재 경화를 위한 장치(40)가 설치된 것을 일예로 나타내고 있다. 이때, 상기 작업대(2)에서 상기 회전테이블(4)에 로딩되어 시일재 경화부(10) 영역에 위치하는 모듈(G)들은 이재장치(42)에 의해 언로딩되어 상기 경화장치(40) 측에 다시 로딩되도록 셋팅된다.

상기 경화장치(40)는 시일재 경화를 위해 도 1에서와 같은 컨베이어에 의해 상기 모듈(G)을 일정 구간 이동시킴과 아울러 이 구간상에서 예를들면, 자외선을 조사하여 시일재를 경화시키는 통상의 UV오븐 컨베이어 구조로 이루어질 수 있다. 이때, 상기 컨베이어는 상기 모듈(G)이 로딩될 때에 배면측에 도포된 시일재가 접촉하지 않도록 이루어진다.

따라서, 상기한 구조로 이루어지는 본 고안에 따른 평판표시소자용 후처리 시스템은, 상기 작업대(2)의 작업영역에서 평판표시소자 모듈(G)이 회전테이블(4)에 로딩되어 이 테이블(4)의 회전에 의해 후처리를 위한 영역 즉, 통전 확인부(6)에서 통전 상태를 확인함과 아울러 상기 제1 및 제2시일부(8a,8b)에서 구동칩(C)이나 회로기판(B)에 대응하여 시일이 가능하도록 평판표시소자 모듈(G)의 자세를 변화시키면서 용이하게 시일을 행할 수 있는 것이다.

그리고, 상기와 같이 시일이 완료된 평판표시소자 모듈(G)은 상기 작업대(2)의 시일재 경화부(10) 즉, 경화장치(40)에서 일정한 구간을 따라 이동하면서 상기 모듈(G)에 도포된 시일재들을 용이하게 경화시킬 수 있다. 이와 같은 후처리 구조는 작업대(2)에 제공되는 단일의 영역에서 처리가 가능하므로 작업능률과 생선성 등을 대폭 향상시킬 수 있다.

상기에서는 작업대(2)의 작업 영역에서 후처리를 위한 각각의 공정에 대응하여 2개의 모듈(G)이 회전테이블(4)에 의해 공급되는 구조로 이루어지는 것을 일예로 설명 및 도면에 나타내고 있지만 이에 한정되는 것은 아니다. 예를들면, 요구되는 작업 환경에 따라 1개 또는 그 이상의 모듈(G)이 공급 및 처리 가능하도록 셋팅될 수 있다.

상기에서는 본 고안에 따른 평판표시소자용 후처리 시스템의 바람직한 실시예에 대하여 설명하였지만, 본 고안은 이에 한정되는 것은 아니고 실용신안등록청구범위와 고안의 상세한 설명 및 첨부한 도면의 범위 안에서 여러 가지로 변형하여 실시하는 것이 가능하고, 이 또한 본 고안의 범위에 속한다.

이상 설명한 바와 같이 본 고안에 따른 평판표시소자용 후처리 시스템은, 구동칩 또는 회로기판이 본딩된 평판표시소자 모듈의 통전 확인 및 시일 등과 같은 후처리 작업이 용이할 뿐만 아니라, 단일의 영역에서 모듈이 회전테이블을 따라 이동하면서 각각의 공정영역 즉, 통전 확인부, 시일재 도포부, 시일재 경화부 등에 공급 및 처리되는 구조이므로 모듈의 후처리를 위한 작업 영역은 물론이거니와 시간을 대폭 줄일 수 있으므로 작업능률과 생산성 그리고, 공간 효율성 등을 더욱 향상시킬 수 있다.

게다가, 상기 도포부는 상기 작업대 단일이 작업 영역에서 시일을 위한 지점에 대응하여 평판표시소자 모듈의 자세를 변화시키는 반전유니트와 도포유니트로 이루어져서 예를들면, 평판표시소자 모듈의 표면 또는 배면측에서 구동칩 및 회로기판 등의 접합부에 대응하여 시일재를 용이하게 도포할 수 있으므로 더욱 향상된 작업호환성 및 기능성을 얻을 수 있다.

Claims (8)

1. 단일의 작업영역에서 구동칩 또는 회로기판이 본딩된 평판표시소자의 후처리 공정이 행하여지는 시스템으로서,

   평판표시소자 모듈의 후처리를 위한 작업공간을 제공하는 작업대;

   상기 작업대에 회전 가능하게 위치하며 상기 모듈이 로딩되는 회전테이블;

   상기 작업대에서 상기 회전테이블의 원주방향에 대응하여 위치하고 상기 모듈의 통전을 확인하기 위하여 상기 모듈의 신호입력단과 접촉하는 프로브를 갖는 통전 확인부;

   상기 통전 확인부와 이격되어 상기 회전테이블에 원주방향에 대응하여 위치하고 상기 모듈의 구동칩 또는 회로기판 접합부에 시일재를 도포하는 도포부;

   상기 시일재 도포부와 이격되어 상기 회전테이블의 원주방향에 대응하여 위치하고 상기 모듈에 도포된 시일재를 경화시키는 경화부를 포함하는 평판표시소자용 후처리 시스템.
2. 청구항 1에 있어서, 상기 통전 확인부는, 상기 회전테이블에 로딩된 평판표시소자 모듈의 회로기판 패턴부에 대응하여 프로브의 접속구가 물리적인 접촉 동작에 의해 영상신호를 인가하는 평판표시소자용 후처리 시스템.
3. 청구항 1에 있어서, 상기 회전테이블은 상기 작업대에서 후처리를 위한 영역에 대응하여 1개 또는 그 이상의 평판표시소자 모듈을 회전에 의해 공급하는 평판표시소자용 후처리 시스템.
4. 청구항 1에 있어서, 상기 시일재 도포부는, 시일재를 도포하는 유니트와, 이 유니트의 시일재 도포지점에 대응하여 구동원의 동력으로 평판표시소자 모듈의 자세를 변화시키는 유니트를 포함하며, 상기 작업대의 작업영역에 1개 또는 그 이상이 이격 형성되는 평판표시소자용 후처리 시스템.
5. 청구항 4에 있어서, 상기 모듈의 자세를 변화시키는 유니트는, 평판표시소자 모듈의 표면 또는 배면이 상측을 향하는 자세에서 시일이 이루어지도록 회전에 의해 자세를 변화시키는 평판표시소자용 후처리 시스템.
6. 청구항 4에 있어서, 상기 구동원은 회전동력을 발생하는 스탭모터로 이루어지는 평판표시소자용 후처리 시스템.
7. 청구항 1에 있어서, 상기 시일재 경화부는, 상기 모듈이 일정한 구간을 따라 이동하면서 이 구간상에서 시일재를 경화시키는 UV오븐 컨베이어로 이루어지는 평판표시소자용 후처리 시스템.
8. 청구항 1에 있어서, 상기 통전 확인부는, 영상신호의 인가 후 상기 모듈의디스플레영역 또는 이 영역을 스캔하는 장치에 의해 디스플레이되는 화상을 통해서 모듈의 통전 상태를 확인하는 평판표시소자용 후처리 시스템.