KR100565071B1 - 광디스크용 기판 제작용 스탬퍼 제조방법 - Google Patents

광디스크용 기판 제작용 스탬퍼 제조방법 Download PDF

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Abstract

정보가 기록되지 않는 림(rim) 영역을 줄여 정보기록 영역을 확장 하면서도 사출 성형시의 외주부 전사성, 스핀 코팅시의 두께 균일도 확보 및 외주 마스크 영역을 확보할 수 있도록 된 광디스크용 기판 제작용 스탬퍼 제조방법이 개시되어 있다.
이 개시된 광디스크용 기판 제작용 스탬퍼 제조방법은 마스터 글래스를 준비하고, 이 마스터 글래스 상에 제1포토레지스트막을 도포하는 단계와; 광디스크용 기판의 림 영역에 대응되는 부분이 현상에 의해 제거될 수 있도록, 제1포토레지스트막을 노광하여 소정 형상의 레이텐트 패턴(latent pattern)을 형성하는 단계와; 제1포토레지스트막 상에 제2포토레지스트막을 도포하는 단계와; 제2포토레지스트막 상의 광디스크용 기판의 정보기록 영역에 대응되는 부분에 선택적으로 빔을 조사하여 소정 패턴의 정보를 기록하고, 현상하여 제2포토레지스트막에 정보 패턴을 형성하는 단계와; 노광 및 현상에 의해, 제2포토레지스트막의 림 영역에 대응되는 부분을 제거하는 단계와; 제1포토레지스트막을 현상하여, 림 영역에 대응되는 마스터 글래스의 일 면이 노출되도록 하는 단계와; 상기한 포토레지스트 패턴이 형성된 마스터 글래스를 이용하여 최종적인 스탬퍼 형상을 갖도록 처리하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 한다.

Description

광디스크용 기판 제작용 스탬퍼 제조방법{Method for making stamper for manufacturing substrate of optical disc}
도 1은 종래의 광디스크용 기판을 보인 개략적인 단면도.
도 2a 내지 도 2d 각각은 종래 광디스크용 기판의 내측 영역, 최외주부로부터 내측으로의 1.5mm 영역, 1.0mm 영역 및 0.4mm 영역 각각에서의 기판 전사성을 나타낸 도면.
도 3은 종래 광디스크의 최외주부로부터의 내경으로의 두께 균일도를 보인 그래프.
도 4는 종래의 광디스크용 기판 상에 박막 증착 과정을 보인 개략적인 단면도.
도 5는 종래 광디스크의 증착된 외주 마스크 영역을 보인 도면.
도 6은 종래 광디스크의 일부를 보인 개략적인 단면도.
도 7은 본 발명의 실시예에 따른 광디스크용 기판을 보인 개략적인 단면도 및 부분 확대도.
도 8은 본 발명의 실시예에 따른 광디스크의 일부를 보인 개략적인 단면도.
도 9는 본 발명의 실시예에 따른 광디스크용 기판 제조 공정을 보인 개략적인 단면도.
도 10 및 도 11은 본 발명의 실시예에 따른 광디스크용 기판 상에 박막 증착 과정을 보인 개략적인 단면도.
도 12a 내지 도 12i 각각은 본 발명의 제1실시예에 따른 광디스크용 기판 제작용 스탬퍼 제조 공정을 보인 개략적인 도면.
도 13a 내지 도 13f 각각은 본 발명의 제2실시예에 따른 광디스크용 기판 제작용 스탬퍼 제조 공정을 보인 개략적인 도면.
* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 *
11...광디스크용 기판 15...단차부
17...박막 30...스탬퍼
40...인젝션 머신 47...캐비티 링
51,61...마스터 글래스 53...제1포토레지스트막
55...제2포토레지스트막 63...포토레지스트막
본 발명은 기록용량이 향상된 정보기록매체를 제공할 수 있도록 된 광디스크용 기판 제작용 스탬퍼 제조방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 정보가 기록되지 않는 림(rim) 영역을 줄여 정보기록 영역을 확장 하면서도 사출 성형시의 외주부 전사성, 스핀 코팅시의 두께 균일도 확보 및 외주 마스크 영역을 확보할 수 있도록 된 광디스크용 기판 제작용 스탬퍼 제조방법에 관한 것이다.
일반적으로 광디스크는 비접촉식으로 정보를 기록/재생하는 광픽업장치의 정보기록매체로 널리 이용된다. 이 광디스크는 정보기록용량에 따라 CD, DVD, BD(Blu-ray Disc) 등으로 구분된다.
이 광디스크는 통상 직경 120mm, 80mm의 규격을 가지며, 정보기록 영역과 이 정보기록 영역의 외주부에 마련되는 림(rim) 영역을 포함한다. 림 영역은 정보기록 영역 형성 과정에서 외측 마스크 설치 등을 위해 요구되는 영역으로, 이 림 영역에는 정보가 기록되지 않는다.
120mm 직경을 가지는 CD, DVD, BD는 모두 림 영역의 폭이 1.5mm로 규정되어 있다. 즉, 광디스크의 중심에서 외주방향으로 볼 때, 반경이 58.5 ∼ 60.0mm에 림 영역이 형성되어 있다.
이러한 광디스크 림 영역의 규격은 광디스크용 기판의 사출 성형시 기판 외주부의 전사성, 광디스크 두께 균일도 및 외주 마스크 영역을 고려하여 설정된 것이다.
상기한 광디스크를 채용하는 광디스크 드라이브의 경박단소(輕薄短小) 요구에 따라, 광디스크의 직경이 작아질 것이 요구된다. 이와 같이 그 크기가 감소하는 경우는 사용자 입장에서는 취급하기가 편리하나, 기록용량이 줄어들게 되는 문제가 있다. 따라서, 림 영역을 최대한 줄여 정보기록 영역을 최대로 확보할 필요가 있다.
한편, 종래의 광디스크용 기판 구조로는 림 영역을 0.5 mm 폭 이하로 줄이는 것이 어렵다. 이하에서 도 1 내지 도 6을 참조하면서 그 이유를 살펴보기로 한다.
도 1을 참조하면, 종래의 광디스크용 기판(1)은 정보기록 영역과, 림 영역을 포함한다. 상기한 바와 같이 상기 정보기록 영역과 림 영역의 결정은 기판 전사성, 기판 두께 균일도 및 외주 마스크 영역을 고려하여 결정된다.
우선 각 영역에 따른 기판 전사성을 살펴보기로 한다. 여기서, 기판 전사성은 기판 제조에 이용되는 스탬퍼에 기록된 정보 패턴이 기판에 전사되는 정도를 나타내는 것으로, 이 전사성을 결정하는 인자로는 정보 패턴의 깊이, 길이 및 형상 등이 있다.
도 2a 내지 도 2d 각각은 내측 영역, 최외주부로부터 내측으로의 1.5mm 영역, 1.0mm 영역 및 0.4mm 영역에서의 기판 전사성을 나타낸 것이다. 도 2a 내지 도 2d를 참조하면, 최외주부에서 0.4mm 영역까지 양호한 전사성을 가지므로, 이 기판 전사성은 림 영역을 최외주부에서 대략 0.5mm 폭으로 줄이는데 장애가 되지 않는다.
도 3은 최외주부로터 내측으로 20mm 반경까지의 두께 균일도 정도를 나타낸 그래프이다. 본 그래프는 일반적인 광디스크용 기판과 같은 구조의 반경 50.8 mm 테스트용 디스크 기판에 대해 스핀 경화법(spin curing 방법)으로 레진을 회전 도포하면서 경화하여 0.1mm 두께의 광투과층을 형성한 경우의 결과를 나타낸 것이다.
도 3은 어느 한 부분을 기준으로 잡아 각도를 45도 단위로 바꾸어 가면서 8군데에 걸쳐 균일도를 측정한 결과를 나타낸 것으로, 최외주부로터 내측으로 살펴볼 때 대략 0.9mm 반경의 내측에서는 대략 0.1mm 두께 균일도를 얻을 수 있음을 알 수 있다. 반면 0.9mm 보다 외주부에서는 균일도가 급격히 변화하므로, 종래의 디스 크 기판 구조로는 림 영역을 0.5mm 이내로 관리하는 것이 어렵다.
도 4는 광디스크용 기판의 정보면에 대해 박막을 증착하는 공정을 나타낸 도면이다. 이를 참조하면서 외주 마스크 영역에 의한 영향을 살펴보기로 한다.
광디스크용 기판(1)의 정보면 상에 반사막 또는 기록막으로 이용되는 박막(3)을 증착 형성시 외주 마스크(7)를 필요로 한다. 즉, 외주 마스크(7)를 배제하고 박막(3)을 형성하는 경우, 기판의 가장자리 부분으로부터 산소, 수분 등이 침투하여 산화, 부식 등 신뢰성에 문제가 있게 된다.
그러므로, 상기 외주 마스크(7)를 통하여 기판(1)을 고정하고자 할 필요가 있으며, 이 경우 적어도 스퍼터용 외주 마스크 영역에 대응되는 폭 만큼의 림 영역을 필요로 한다. 또한, 종래의 기판 구조에 있어서는 외주 마스크(7)에 의한 섀도우 효과(shadow effect)에 의하여 도면번호 3a로 나타낸 바와 같이, 박막(3)이 들뜨거나 불균일하게 된다. 이를 위하여 림 영역은 도 5에 도시된 바와 같이 상기한 외주 마스크 영역 보다 큰 영역 즉, 최외주부로부터 0.84mm 정도의 영역을 필요로 한다. 따라서 종래의 광디스크용 기판의 경우 상기한 외주 마스크 영역 설정 문제로 림 영역을 0.5 mm 이내로 관리하는 것이 곤란하다는 문제점이 있다.
또한, 도 6을 참조하면 종래의 광디스크는 박막(3) 상에 스핀 코팅에 의하여 광투과층(5)을 형성한다. 이때, 광투과층(5)은 표면 장력 등에 의하여 그 가장자리 영역(5a)이 도시된 바와 같이 볼록하게 형성된다. 이 가장자리 영역(5a)의 형성으로 인하여, 림 영역을 1.5 mm 이하로 줄이는데 장애가 된다.
상기한 바와 같이 구성된 광디스크용 기판 및 이를 채용한 광디스크는 림 영 역을 대략 0.5 mm 이내로 최소화여 기록밀도를 향상시키고자 하는 경우, 고려할 사항 중 기판 전사성은 문제가 되지 않으나, 기판 두께의 균일도와 외주 마스크 영역 설정 및 스핀 코팅에 의한 광투과층 형성시 문제가 됨을 알 수 있다.
따라서, 본 발명은 상기한 바와 같은 문제점을 감안하여 안출된 것으로서, 림 영역의 폭을 대략 1.0mm 이내로 최소화할 수 있도록 그 구조가 개선된 광디스크용 기판 제조 방법을 제공하는데 목적이 있다.
상기한 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 광디스크 제작용 스탬퍼 제조방법은, 마스터 글래스를 준비하고, 이 마스터 글래스 상에 제1포토레지스트막을 도포하는 단계와; 광디스크용 기판의 림 영역에 대응되는 부분이 현상에 의해 제거될 수 있도록, 상기 제1포토레지스트막을 노광하여 소정 형상의 레이텐트 패턴(latent pattern)을 형성하는 단계와; 상기 제1포토레지스트막 상에 제2포토레지스트막을 도포하는 단계와; 상기 제2포토레지스트막 상의 상기 광디스크용 기판의 정보기록 영역에 대응되는 부분에 선택적으로 빔을 조사하여 소정 패턴의 정보를 기록하고, 현상하여 상기 제2포토레지스트막에 정보 패턴을 형성하는 단계와; 노광 및 현상에 의해, 상기 제2포토레지스트막의 상기 림 영역에 대응되는 부분을 제거하는 단계와; 상기 제1포토레지스트막을 현상하여, 상기 림 영역에 대응되는 상기 마스터 글래스의 일 면이 노출되도록 하는 단계와; 상기한 포토레지스트 패턴이 형성된 마스터 글래스를 이용하여 최종적인 스탬퍼 형상을 갖도록 처리하는 단 계;를 포함하는 것을 특징으로 한다.
또한, 본 발명에 따른 광디스크 제작용 스탬퍼 제조방법은 광디스크용 기판의 림 영역에 대응되는 부분이 단차지게 인입 형성된 마스터 글래스를 준비하는 단계와; 상기 마스터 글래스 상의 상기 광디스크용 기판의 정보기록 영역에 대응되는 부분에 포토레지스트막을 도포하는 단계와; 상기 포토레지스트막 상의 상기 광디스크용 기판의 정보기록 영역에 대응되는 부분에 선택적으로 빔을 조사하여 소정 패턴의 정보를 기록하고 현상하여, 상기 포토레지스트막에 정보 패턴을 형성하는 단계와; 최종적인 스탬퍼 형상을 갖도록 처리하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 한다.
이하, 첨부된 도면들을 참조하면서 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 광디스크용 기판 제작용 스탬퍼 제조방법을 상세히 설명하기로 한다.
도 7을 참조하면, 본 발명의 광디스크용 기판(11)은 정보기록 영역과, 그 테두리에 소정 폭으로 형성되는 림(rim) 영역을 포함한다. 또한, 상기 림 영역의 기판 두께는 광디스크용 기판의 전체 두께(d) 보다 상대적으로 얇다. 여기서, 정보기록 영역이 형성된 부분의 기판 두께는 광디스크용 기판(11)의 전체 두께에 해당한다.
상기 림 영역은 상기 정보기록 영역의 정보가 기록되는 면(12)과 동일한 면에 단차지게 형성된 단차부(15)인 것이 바람직하다. 이 단차부(15)는 폭 a와 깊이b를 가지는 것으로, 상기 폭 a와 깊이 b는 광디스크 기판의 림 영역을 얼마로 설정하느냐에 따라 가변 가능하다. 여기서, 상기 단차부(15)의 폭 a는 1.0 mm 이내인 것이 바람직하다. 또한, 상기 단차부(15)의 깊이 b는 기판 두께(d)의 대략 1/100 내지 1/3 범위의 값을 가진다.
이와 같은 폭 a와 깊이 b의 범위는 기판 두께 균일도 및 외주 마스크 영역을 고려하여 결정되는 값으로, 상기한 단차부(15)를 마련함으로써 종래 광디스크 기판에 있어서의 림 영역의 최소폭 한계를 극복하여 1.0mm 이내의 폭으로 림 영역을 형성할 수 있다.
상기 단차부(15)는 도시된 바와 같은 사각 형상에 한정되는 것이 아니며, 라운드 형상 등의 다른 형상으로 변형 가능하다.
도 8 내지 도 11을 참조하면서, 본 발명의 실시예에 따른 광디스크 및 그 제조방법을 설명하기로 한다.
도 8을 참조하면, 본 실시예에 따른 광디스크는 정보기록 영역과 림 영역을 가지는 기판(11)과, 이 기판(11) 상의 정보가 기록되는 면(12) 상에 소정 두께로 형성되는 박막(17) 및 상기 박막(17) 상에 형성되는 광투과층(19)을 포함한다.
상기 기판(11)은 단차부(15)가 림 영역을 이루도록 된 구조를 가지는 것으로, 도 7을 참조하여 설명된 기판과 동일하므로 그 자세한 설명은 생략한다. 상기 박막(17)은 광디스크가 재생전용일 경우와 기록/재생용일 경우로 나누어 다르게 설정될 수 있다. 즉, 상기 박막(17)은 재생 전용일 경우는 반사막이고, 기록/재생용일 경우는 상변화층 등의 기록막이다. 상기 반사막 및 기록막 그 자체의 구성 및 재질은 광디스크 분야에서 널리 알려져 있으므로 그 자세한 설명을 생략한다. 상기 광투과층(19)은 정보 기록용 광 및/또는 정보 재생용 광이 입사되는 층으로, 상기 박막(17)을 보호하는 역할을 한다.
이와 같이 구성된 광디스크의 제조방법은 정보기록 영역과 림 영역을 가지는 기판을 형성하고, 상기 정보기록 영역의 일면 즉, 정보기록면에 소정 두께로 박막을 증착 형성한 후, 상기 박막 상에 스핀 코팅에 의해 소정 두께로 광투과층을 형성하는 단계로 이루어진다.
상기 기판 형성 공정은 도 9를 참조하면서 상세히 설명하기로 한다. 도시된 바와 같이, 레진을 주입하는 인젝션 머신(40)을 준비한다. 이 인젝션 머신(40)은 가동판(41)과 고정판(45)으로 구성되며, 상기 가동판(41)과 고정판(45) 사이에 공간이 형성되어 있다. 그리고 상기 인젝션 머신(40)의 내측에 스탬퍼(30)를 설치한다. 상기 스탬퍼(30)는 후술하는 방법에 의해 제조되는 것으로서, 상기 정보기록 영역에 대응되는 부분(31)과 림 영역에 대응되는 부분(32)으로 구분된다. 도면에서는 상기 스탬퍼(30)가 상기 고정판(45)의 내측에 설치된 예를 나타내었으나, 이는 예시적인 것에 불과한 것으로, 상기 스탬퍼(30)가 상기 가동판(41)의 내측에 설치되는 것도 가능하다.
그리고, 형성될 기판(11)의 형성에 대응되는 공간이 확보되도록, 기판(11)이 형성될 공간의 둘레를 감싸는 캐비티 링(47)을 가동판(41)과 고정판(45) 사이의 공간에 마련한다.
이어서, 상기 인젝션 머신(40)의 주입구(44)를 통하여 내부 공간에 레진(11a)을 주입하고, 이를 경화하여 정보기록 영역과 림 영역을 형성한 후, 그 중앙부를 소정 직경으로 천공하여, 중공(도 7의 13)을 형성함으로써 기판(도 7의 11)을 완성한다. 이와 같이, 형성된 기판은 림 영역이 단차지게 형성된 것으로, 도 7을 참조하여 설명된 기판과 동일하므로 그 자세한 설명은 생략한다.
상기 박막 형성 공정을 도 10 및 도 11을 참조하면서 살펴보기로 한다. 우선, 상기 기판(11)의 림 영역을 이루는 단차부(15)에 외주 마스크(21)를 장착한다. 상기 외주 마스크(21)는 상기 기판(11)의 외주를 가압하는 것으로, 상기한 바와 같이 단차지게 형성된 림 영역에 형성함으로써, 기판(11)의 정보기록 영역과의 간섭을 줄일 수 있다. 이어서, 스퍼터링 공정을 통하여 완성된 기판(11)의 정보기록면(12)에 소정 두께로 박막(17)을 증착 형성한다. 상기 박막(17)의 재질 및 기능은 광디스크의 유형에 따라 반사막 또는 기록막의 역할을 한다. 여기서, 박막(17) 그 자체의 재질 및 기능은 잘 알려져 있으므로 자세한 설명은 생략한다.
상기한 바와 같이 기판(11)에 단차부(15)를 마련하고, 이 단차부(15)에 대해 외주 마스크(21)를 설치함으로써, 외주 마스크(21)에 의한 섀도우 효과(shadow effect)를 없애거나 최소화 할 수 있다. 따라서, 외주 마스크 영역 설정에 따른 림 영역 관리의 제약을 근본적으로 해결할 수 있어서, 림 영역을 1.0mm 이내 바람직하게는 0.5 mm이내로 관리할 수 있다.
도 8을 참조하면, 상기 광투과층(19)은 상기 박막(17) 상에 스핀 코팅에 의하여 소정 두께로 형성되는 것으로, 림 영역이 단차지게 형성되어 있으므로 스핀 코팅시 가장자리 부분에서의 표면 장력 등의 영향을 받더라도 가장자리 부분이 볼록하게 되지 않는다. 따라서, 스핀 코팅을 통한 광투과층 형성시, 림 영역을 1.5mm 이하로 줄일 수 있다.
한편, 상기한 광디스크 기판은 림 영역을 1.0mm 이내의 폭으로 단차지게 형성하는 공정은 종래의 기술로는 어려우므로, 이를 형성하기 위한 새로운 형태의 스탬퍼가 필요하다.
이하, 본 발명의 제1실시예에 따른 광디스크 기판 제작용 스탬퍼 제조방법을 상세히 설명하기로 한다.
도 12i를 참조하면, 본 발명의 실시예에 따른 광디스크 기판 제작용 스탬퍼(30)는 제1 및 제2영역(31)(32)으로 구분된다. 상기 제1영역(31)은 광디스크용 기판의 정보기록 영역에 대응되는 소정 패턴을 가진다. 상기 제2영역(32)은 상기 광디스크용 기판의 단차지게 형성된 림 영역에 대응되는 형상을 가진다.
이와 같이 구성된 광디스크 기판용 스탬퍼는 도 12a 내지 도 12h에 도시된 바와 같은 순서를 통하여 제조된다. 이하 스탬퍼 제조방법을 제조 순서대로 살펴보기로 한다.
보다 구체적으로 살펴보면, 도 12a에 도시된 바와 같이 소정 두께의 평판형 마스터 글래스(51)를 준비한다. 그리고 도 12b에 도시된 바와 같이 상기 마스터 글래스(51) 상면에 제1포토레지스트막(53)을 도포한다.
이어서, 도 12c에 도시된 바와 같이, 림 영역에 대응되는 부분이 현상에 의하여 제거될 수 있도록, 상기 제1포토레지스트막(53)을 노광하여 소정 형상의 레이텐트 패턴(latent pattern)을 형성한다. 여기서, 레이텐트 패턴은 제1포토레지스트막(53)의 종류에 따라 림 영역에 대응되는 부분(AR) 또는 정보가 기록되는 영역에 대응되는 부분(AI)에 형성될 수 있다. 도 12c에 있어서는 제1포토레지스트막(53)이 네거티브 포토레지스트로 된 것을 예로 들어 나타낸 것이다. 이 경우, 제1포토레지스트막(53)은 노광되지 않은 부분이 현상에 의해 제거되므로, 레이저 빔(L1)을 상기한 부분 AI에 조사하여 노광함으로써, 레이턴트 패턴을 형성하고 후공정을 통하여 부분 AR을 제거하여 림 영역에 대응되는 부분을 단차지게 할 수 있다.
비록 도시되지는 않았지만, 상기 제1포토레지스트막(53)은 포지티브 포토레지스트로 된 것도 가능하다. 이 경우는 앞서 설명된 네거티브 포토레지스트와 달리 제1포토레지스트막은 노광된 부분이 현상에 의해 제거되므로, 레이저 빔을 부분 AR 의 전체에 조사하여 그 부분을 노광시킴으로써, 레이텐트 패턴을 형성하고 후공정을 통하여 림 영역에 대응되는 부분을 단차지게 할 수 있다.
도 12d에 도시된 바와 같이, 상기 제1포토레지스트막(53) 상부에 소정 두께의 제2포토레지스트막(55)을 도포한다. 상기 제2포토레지스트막(55)은 광디스크용 기판의 정보기록 영역에 대해 정보 기록패턴을 형성하기 위하여 마련된 막으로서, 노광된 부분이 현상에 의해 제거되는 포지티브 포토레지스트로 형성된 것이 바람직하다.
이어서, 도 12e 및 도 12f에 도시된 바와 같이, 상기 제2포토레지스트막(55) 상의 상기 정보기록영역에 대응되는 부분 AI에 선택적으로 빔(L2)을 조사하여 정보를 기록하고, 현상에 의해 빔(L2)이 조사된 부분을 제거함으로써, 정보 패턴을 포함 하는 제2포토레지스트막(55')을 형성한다.
이어서, 노광 및 현상에 의해 부분 AR 상의 제2포토레지스트막을 제거한다. 이 제거 단계는 상기 제2포토레지스트막(55)에 대해 정보 패턴을 형성하는 단계와 동시 또는 때를 달리하여 수행할 수 있다.
그리고, 상기 제1포토레지스트막(53)에 형성된 레이덴트 패턴(latent pattern) 을 현상함으로써, 도 12g에 도시된 바와 같이, 부분 AR 상에 형성된 부분이 현상 및 세정 공정을 통하여 제거된 제1포토레지스트막(53')을 형성한다. 이때, 상기 림 영역에 대응되는 상기 마스터 글래스(51)의 일면이 노출된다.
이후, 도 12h에 도시된 바와 같이, 상기한 제1 및 제2포토레지스트막(53')(55')이 소정 패턴을 이룬 상태로 형성된 상기 마스터 글래스(51)를 이용하여 최종적인 스탬퍼 형상을 갖도록 처리함으로써, 도 12i에 도시된 바와 같은 구조의 기판 제작용 스탬퍼(30)를 제조할 수 있다.
보다 구체적으로 살펴보면, 최종적인 스탬퍼(30) 형상을 갖도록 처리하는 단계는 포토레지스트 패턴이 형성된 마스터 글래스(51) 상에 도금 코팅에 의해 스탬퍼(30)를 형성하고, 이를 마스터 글래스(51)로부터 분리하는 공정으로 이루어진다. 여기서, 도금 코팅은 니켈을 이용한 전기도금 또는 무전해 도금을 통하여 이루어진다.
상기한 바와 같은 공정을 통하여, 제1영역(31)과, 대략 1.0mm 이내의 폭과 광디스크용 기판 두께에 대해 1/00 내지 1/3 범위의 값을 갖는 기판의 단차부에 대 응되는 제2영역(32)을 가지는 스탬퍼(30)를 제작할 수 있다.
이하, 본 발명의 제2실시예에 따른 광디스크 기판 제작용 스탬퍼 제조방법을 상세히 설명하기로 한다.
도 13f를 참조하면, 본 발명의 실시예에 따른 광디스크 기판 제작용 스탬퍼(30)는 제1 및 제2영역(31)(32)으로 구분된다. 상기 제1영역(31)은 광디스크용 기판의 정보기록 영역에 대응되는 소정 패턴을 가진다. 상기 제2영역(32)은 상기 광디스크용 기판의 단차지게 형성된 림 영역에 대응되는 형상을 가진다.
이와 같이 구성된 광디스크 기판용 스탬퍼는 도 13a 내지 도 13f에 도시된 바와 같은 순서를 통하여 제조된다. 이하 스탬퍼 제조방법을 제조 순서대로 살펴보기로 한다.
보다 구체적으로 살펴보면, 도 13a에 도시된 바와 같이 소정 두께의 평판형 마스터 글래스(61)를 준비한다. 여기서, 상기 마스터 글래스(61)는 광디스크용 기판의 림 영역에 대응되는 부분(61a)이 단차지게 인입 형성되어 있다.
도 13b에 도시된 바와 같이, 상기 마스터 글래스(61)의 부분(61a) 이외의 부분 상면에 포토레지스트막(63)을 도포한다. 이 포토레지스트막(63)은 정보기록 영역에 대해 정보 기록패턴을 형성하기 위하여 마련된 막으로서, 노광된 부분이 현상에 의해 제거되는 포지티브 포토레지스트로 형성된 것이 바람직하다.
이어서, 도 13c 및 도 13d에 도시된 바와 같이, 상기 포토레지스트막(63) 상에 선택적으로 빔(L3)을 조사하여 정보를 기록하고, 현상에 의해 빔(L3)이 조사된 부분을 제거함으로써, 정보 패턴을 포함하는 포토레지스트막(63')을 형성한다.
이후, 도 13e에 도시된 바와 같이, 상기한 포토레지스트막(63')이 소정 패턴을 이룬 상태로 형성된 상기 마스터 글래스를 이용하여 최종적인 스탬퍼 형상을 갖도록 처리함으로써, 도 13f에 도시된 바와 같은 구조의 기판 제작용 스탬퍼를 제조할 수 있다. 보다 구체적으로 살펴보면, 최종적인 스탬퍼 형상을 갖도록 처리하는 단계는 포토레지스트 패턴이 형성된 마스터 글래스(61) 상에 도금 코팅에 의해 스탬퍼(30)를 형성하고, 이를 마스터 글래스(61)로부터 분리하는 공정으로 이루어진다. 여기서, 도금 코팅은 니켈을 이용한 전기도금 또는 무전해 도금을 통하여 이루어진다.
상기한 바와 같은 공정을 통하여, 제1영역(31)과, 대략 1.0mm 이내의 폭과 광디스크용 기판 두께에 대해 1/00 내지 1/3 범위의 값을 갖는 기판의 단차부에 대응되는 제2영역(32)을 가지는 스탬퍼(30)를 제작할 수 있다.
상기한 바와 같이 구성된 본 발명의 실시예에 따른 광디스크 기판 제조용 스태퍼 제조방법은 림 영역의 구조가 바뀐 광디스크 기판 제조에 이용되는 스탬퍼를 용이하게 제작할 수 있다는 이점이 있다. 따라서, 상기한 제조방법에 의해 제조된 스탬퍼를 이용하는 경우, 림 영역을 1.5mm 보다 작은 폭으로 축소 가능하여 기록 영역이 확장된 광디스크를 제조할 수 있다.
상기한 실시예들은 예시적인 것에 불과한 것으로, 당해 기술분야의 통상을 지식을 가진자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다. 따라 서, 본 발명의 진정한 기술적 보호범위는 하기의 특허청구범위에 기재된 발명의 기술적 사상에 의해 정해져야만 할 것이다.

Claims (8)

  1. 마스터 글래스를 준비하고, 이 마스터 글래스 상에 제1포토레지스트막을 도포하는 단계와;
    광디스크용 기판의 림 영역에 대응되는 부분이 현상에 의해 제거될 수 있도록, 상기 제1포토레지스트막을 노광하여 소정 형상의 레이텐트 패턴(latent pattern)을 형성하는 단계와;
    상기 제1포토레지스트막 상에 제2포토레지스트막을 도포하는 단계와;
    상기 제2포토레지스트막 상의 상기 광디스크용 기판의 정보기록 영역에 대응되는 부분에 선택적으로 빔을 조사하여 소정 패턴의 정보를 기록하고, 현상하여 상기 제2포토레지스트막에 정보 패턴을 형성하는 단계와;
    노광 및 현상에 의해, 상기 제2포토레지스트막의 상기 림 영역에 대응되는 부분을 제거하는 단계와;
    상기 제1포토레지스트막을 현상하여, 상기 림 영역에 대응되는 상기 마스터 글래스의 일 면이 노출되도록 하는 단계와;
    상기 제1 및 제2포토레지스트막이 소정 패턴을 이룬 상태로 형성된 마스터 글래스를 이용하여 상기 마스터 글래스에 형성된 소정 패턴에 대응되는 스탬퍼 형상을 갖도록 처리하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 광디스크 기판 제작용 스탬퍼 제조방법.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 제1포토레지스트막은 노광되지 않은 부분이 현상에 의해 제거되는 네거티브 포토레지스트로 형성되고,
    상기 레이텐트 패턴은 상기 림 영역에 대응되지 않는 부분 전체를 노광함에 의해 형성되는 것을 특징으로 하는 광디스크 기판 제작용 스탬퍼 제조방법.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 제1포토레지스트막은 노광된 부분이 현상에 의해 제거되는 포지티브 포토레지스트로 형성되고,
    상기 레이텐트 패턴은 상기 림 영역에 대응되는 부분을 노광함에 의해 형성되는 것을 특징으로 하는 광디스크 기판 제작용 스탬퍼 제조방법.
  4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제2포토레지스트막은 노광된 부분이 현상에 의해 제거되는 포지티브 포토레지스트로 형성된 것을 특징으로 하는 광디스크 기판 제작용 스탬퍼 제조방법.
  5. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 스탬퍼 형상을 갖도록 처리하는 단계는,
    포토레지스트 패턴이 형성된 마스터 글래스 상에 도금에 의해 스탬퍼를 형성하는 단계와;
    마스터 글래스로부터 상기 스탬퍼를 분리하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 광디스크 기판 제작용 스탬퍼 제조방법.
  6. 광디스크용 기판의 림 영역에 대응되는 부분이 단차지게 인입 형성된 마스터 글래스를 준비하는 단계와;
    상기 마스터 글래스 상의 상기 광디스크용 기판의 정보기록 영역에 대응되는 부분에 포토레지스트막을 도포하는 단계와;
    상기 포토레지스트막 상의 상기 광디스크용 기판의 정보기록 영역에 대응되는 부분에 선택적으로 빔을 조사하여 소정 패턴의 정보를 기록하고 현상하여, 상기 포토레지스트막에 정보 패턴을 형성하는 단계와;
    상기 포토레지스트막이 소정 패턴을 이룬 상태로 형성된 마스터 글래스를 이용하여 상기 마스터 글래스에 형성된 소정 패턴에 대응되는 스탬퍼 형상을 갖도록 처리하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 광디스크 기판 제작용 스탬퍼 제조방법.
  7. 제6항에 있어서,
    상기 포토레지스트막은 노광된 부분이 현상에 의해 제거되는 포지티브 포토레지스트로 형성된 것을 특징으로 하는 광디스크 기판 제작용 스탬퍼 제조방법.
  8. 제6항 또는 제7항에 있어서,
    상기 스탬퍼 형상을 갖도록 처리하는 단계는,
    포토레지스트 패턴이 형성된 마스터 글래스 상에 도금에 의해 스탬퍼를 형성하는 단계와;
    마스터 글래스로부터 상기 스탬퍼를 분리하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 광디스크 기판 제작용 스탬퍼 제조방법.
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