KR100537316B1 - Steam transaction device - Google Patents

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KR100537316B1
KR100537316B1 KR10-2003-0092021A KR20030092021A KR100537316B1 KR 100537316 B1 KR100537316 B1 KR 100537316B1 KR 20030092021 A KR20030092021 A KR 20030092021A KR 100537316 B1 KR100537316 B1 KR 100537316B1
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이또우다꾸오
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알프스 덴키 가부시키가이샤
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Abstract

피처리물로부터 제거된 제거물이 피처리물에 재부착되는 것을 방지할 수 있고, 또한 배기량을 삭감할 수 있으며 저비용인 스팀 처리 장치를 제공하는 것을 과제로 한다.An object of the present invention is to provide a steam treatment device which can prevent the removed matter removed from the object to be reattached to the object, can reduce the amount of exhaust gas, and has a low cost.

상기 과제를 해결하기 위하여, 스팀 처리를 위한 증기 (G1) 를 피처리물 (A) 을 향해 분사하는 증기분사 노즐 (2) 과, 증기분사 노즐 (2) 근방에 설치되고, 스팀 처리에 제공된 후의 증기 (G2) 의 적어도 일부를 스팀 처리의 계외(系外)로 배출하는 배기 기구 (5) 와, 스팀 처리 후의 증기 (G2) 를 냉각시키는 냉각 기구 (6) 로 이루어지는 스팀 처리부 (10) 가 구비되고, 피처리물 (A) 의 표면과 스팀 처리부 (10) 의 극간에 냉각 기구 (6) 에 의해 냉각되어 응축된 증기인 응축액 (L2) 이 통과할 수 있는 유로 (15) 가 형성된 스팀 처리 장치.In order to solve the above problems, and a steam injection nozzle (2) for spraying toward the steam (G 1), the object to be treated (A) for the steam treatment, it is provided in the vicinity of the steam injection nozzle (2), provided in the steam treatment steam processing unit comprising at least a portion of the steam (G 2) to the exhaust mechanism (5), and a cooling mechanism (6) to cool the steam (G 2), and after steam treatment for discharging a off - system (系外) of the steam treatment after the (10 And a flow path 15 through which the condensed liquid L 2 , which is steam condensed and cooled by the cooling mechanism 6, is passed between the surface of the object A and the pole of the steam treatment unit 10. Formed steam treatment apparatus.

Description

스팀 처리 장치{STEAM TRANSACTION DEVICE}Steam Treatment Unit {STEAM TRANSACTION DEVICE}

본 발명은 피처리물의 표면에 증기를 분사하여 스팀 처리하는 스팀 처리 장치에 관한 것으로, 특히 반도체 디바이스, 액정 표시 패널 등의 제조 공정에서의 세정 (린스) 공정이나 포토 리소그래피 공정의 레지스트 박리 공정 등에 사용하기에 적합한 기술에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a steam treatment apparatus for injecting steam onto a surface of an object to be treated, and in particular, for use in a cleaning (rinsing) process in a manufacturing process such as a semiconductor device or a liquid crystal display panel, or a resist stripping process in a photolithography process. It relates to a technique suitable for the following.

반도체 디바이스, 액정 표시 패널 등의 전자 기기의 분야에서는 그 제조 프로세스 중에 반도체 기판이나 유리 기판 등의 피처리 기판을 세정 처리하는 공정이 필수이다.In the field of electronic devices, such as a semiconductor device and a liquid crystal display panel, the process of carrying out the washing process of to-be-processed substrates, such as a semiconductor substrate and a glass substrate, is essential during the manufacturing process.

이러한 세정 공정에 사용되는 세정 장치의 일종으로, 피처리 기판의 표면에 증기를 분사하여 세정하는 타입이 있다. 도 4 는 증기를 분사하는 타입인 종래의 세정 장치의 개략 구성을 나타낸 도면이다 (예를 들어 특허 문헌 1 참조).One type of cleaning apparatus used in such a cleaning process is a type of cleaning by spraying steam onto the surface of a substrate to be processed. 4 is a view showing a schematic configuration of a conventional washing apparatus of the type for injecting steam (see Patent Document 1, for example).

도 4 중의 부호 60 은 챔버이다. 이 챔버 (60) 에는 피처리 기판 (61) 을 반출하는 기구 (62) 와, 기판의 지지ㆍ회전 기구 (63) 와, 이 지지ㆍ회전 기구 (63) 에 지지된 기판 (61) 에 접촉시켜 기판 표면에 수증기를 공급하는 수증기도입구 (71) 와, 수증기를 기판 (61) 표면에 분사하는 수증기 분사 노즐 (72) 과, 기체를 기판 (61) 표면에 분사하는 기체 분사 노즐 (73) 과, 배기ㆍ배액 기구 (66) 가 구비되어 있다.Reference numeral 60 in FIG. 4 denotes a chamber. The chamber 60 is brought into contact with the mechanism 62 for carrying out the substrate 61 to be processed, the support / rotation mechanism 63 of the substrate, and the substrate 61 supported by the support / rotation mechanism 63. A water vapor inlet 71 for supplying water vapor to the substrate surface, a water vapor injection nozzle 72 for injecting water vapor onto the surface of the substrate 61, a gas injection nozzle 73 for injecting gas to the surface of the substrate 61, and And an exhaust / drainage mechanism 66.

도 4 의 세정 장치를 사용하여 피처리 기판을 세정하는 것은, 챔버 (60) 내로 반송한 피처리 기판 (61) 을 지지ㆍ회전 기구 (63) 에 의해 지지한 후, 이 피세정 기판 (61) 의 표면에 기체 분사 노즐 (73) 로부터 기체를 분사함과 동시에 수증기 분사 노즐 (72) 로부터 수증기를 분사함으로써 세정 처리하고 있다.To clean the substrate to be processed using the cleaning device of FIG. 4, after the substrate 61 to be conveyed into the chamber 60 is supported by the support / rotation mechanism 63, the substrate to be cleaned 61 is cleaned. The cleaning process is performed by injecting gas from the gas injection nozzle 73 onto the surface of the gas injector and spraying water vapor from the steam injection nozzle 72.

[특허 문헌][Patent Document]

일본 공개특허 공보 2001-252631호Japanese Laid-Open Patent Publication 2001-252631

그러나 도 4 와 같은 세정 장치에서는 세정에 제공된 후의 증기는 피처리 기판 (61) 으로부터 되튀거나 하여 챔버 (60) 내의 전 영역에 비산되고, 챔버 (60) 의 내벽 등에 부착되는 경우가 있다. 세정에 제공된 후의 증기에는 기판으로부터의 제거물이 함유되어 있는 경우가 많기 때문에 챔버 (60) 내벽 등에 상기 제거물이 부착되게 된다.However, in the cleaning apparatus as shown in FIG. 4, the vapor after being provided for cleaning may bounce off the substrate 61 to be scattered and spread to all regions within the chamber 60, and may adhere to the inner wall of the chamber 60 or the like. Since the vapor | steam after providing for washing | cleaning often contains the removal material from a board | substrate, the said removal material will adhere to the inner wall of the chamber 60, etc.

또한 챔버 (60) 의 배기는 배기ㆍ배액 기구 (66) 에 의한 일괄된 배기이므로, 세정에 제공된 후의 증기는 배기의 기류를 타기 전에 챔버 (60) 의 내벽 등에 부착되어 응축되는 경우가 있다. 이 응축액에는 챔버 (60) 의 내벽에 부착되어 있는 제거물이 용해되므로, 그것이 피세정 기판에 낙하되면 이미 세정된 면을 오염시키는 문제가 있었다. 또한 종래의 세정 장치에서는 챔버 (60) 내는 배기ㆍ배액 기구 (66) 에 의해 일괄적으로 행하므로 배기량이 많아지게 된다.In addition, since the exhaust of the chamber 60 is exhausted by the exhaust / drainage mechanism 66, the vapor after being provided for cleaning may adhere to the inner wall of the chamber 60 or the like before condensing the air flow of the exhaust. In this condensate, the remover adhering to the inner wall of the chamber 60 is dissolved, and when it falls on the substrate to be cleaned, there is a problem of contaminating the surface already cleaned. In the conventional cleaning apparatus, since the chamber 60 is collectively performed by the exhaust / drainage mechanism 66, the amount of exhaust gas increases.

또한 챔버 (60) 를 구성하는 재료에 따라서는 상기 내벽에 부착된 응축액에 용해되고, 이것이 피세정 기판에 낙화되어 오염시키는 문제가 있었다. 그 대책으로는 챔버를 청정화하는, 즉 피처리 기판을 오염시킬 우려가 없는 재료로 구성되면 되나 비용이 증가된다.In addition, depending on the material constituting the chamber 60, there is a problem in that it dissolves in the condensate attached to the inner wall, which falls and contaminates the substrate to be cleaned. The countermeasure may be made of a material that cleans the chamber, that is, does not cause contamination of the substrate to be processed, but increases the cost.

본 발명은 상기 사정을 감안하여 이루어진 것으로, 피처리물에서 제거된 제거물이 피처리물에 재부착되는 것을 방지할 수 있고, 또한 배기량을 삭감할 수 있으며, 저비용의 스팀 처리 장치를 제공하는 것을 과제로 한다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above circumstances, and it is possible to prevent the removal of the removed matter from being reattached to the to-be-processed object, to reduce the displacement, and to provide a low-cost steam treatment apparatus. It is a task.

본 발명자는 상기 과제를 해결하기 위해 예의 검토 및 연구를 거듭한 결과, 피처리물에 부착되어 있는 파티클 등의 입자 또는 유기물 등의 부착물에 대해서는 액체보다도 증기가 제거하기 쉬우므로, 온도나 압력을 조정한 증기를 피처리물에 분사함으로써 효율적으로 제거할 수 있도록 하고, 또한 피처리물에서 제거된 것은 증기와 함께 배출하기보다도 액체와 함께 배출하는 것이 제거물의 운반 능력이 높기 때문에, 스팀 처리에 제공된 후의 증기는 냉각시켜 응축액으로 하고, 이 응축액과 함께 상기 제거물을 효율적으로 배출할 수 있도록 함으로써 상기 과제를 해결할 수 있는 것을 알아내고 본 발명을 완성하기에 이르렀다.MEANS TO SOLVE THE PROBLEM As a result of earnestly examining and researching in order to solve the said subject, as for a particle | grains, such as a particle, which adhere to the to-be-processed object, or an adherent, such as an organic substance, steam is easier to remove than a liquid, and therefore, temperature and pressure are adjusted. It is possible to efficiently remove a vapor by injecting it into the object, and since it is more transportable of the substance to be removed with the liquid than to be discharged with the vapor, it is necessary to The vapor was cooled to a condensate, and it was found that the above problems can be solved by allowing the removed product to be efficiently discharged together with the condensate.

즉 본 발명의 스팀 처리 장치는, 스팀 처리를 위한 증기를 피처리물을 향하여 분사하는 증기 분사 노즐과, 이 증기 분사 노즐 근방에 설치되고, 스팀 처리에 제공된 후의 증기의 적어도 일부를 스팀 처리의 계외로 배출하는 배기 기구와, 스팀 처리에 제공된 후의 증기를 냉각시키는 냉각 기구로 이루어지는 스팀 처리부가 구비되고, 상기 피처리물의 표면과 상기 스팀 처리부의 극간에 상기 냉각 기구에 의해 냉각되어 응축된 상기 증기의 응축액이 통과할 수 있는 유로가 형성된 것을 특징으로 한다.That is, the steam processing apparatus of this invention is provided with the steam injection nozzle which inject | pours the steam for steam processing toward a to-be-processed object, and this steam injection nozzle is installed in the vicinity of this steam injection nozzle, and at least one part of the steam provided to the steam process is based on a steam treatment system. A steam processing section comprising an exhaust mechanism for discharging to the outside and a cooling mechanism for cooling the steam after being provided to the steam processing, wherein the steam is cooled and condensed by the cooling mechanism between the surface of the object and the steam processing section. Characterized in that a flow path through which the condensate can pass.

증기 분사 노즐에서 분사되는 증기는 수증기에 한정되지 않고, 본 발명의 스팀 처리 장치의 용도에 따라서는 레지스트 박리액 등의 약액의 증기일 수도 있다.The steam injected from the steam injection nozzle is not limited to water vapor, and may be steam of a chemical liquid such as a resist stripping liquid depending on the use of the steam treatment apparatus of the present invention.

이러한 구성의 스팀 처리 장치에 의하면, 피처리물의 부착물은 증기 분사 노즐로부터 기판을 향하여 분사되는 증기의 온도 또는 압력을 조정함으로써 효율적으로 제거할 수 있다. 그리고 스팀 처리에 제공된 후의 증기의 적어도 일부는 상기 냉각 기구에 의해 냉각되어 응축액이 되므로, 스팀 처리에 제공된 후에 증기 상태로 계속 존재하는 것이 적어지고, 또한 이 증기 상태로 남아있는 것은 상기 배기 기구에 의해 신속하게 스팀 처리부의 계외로 배출할 수 있으므로, 종래의 장치에 비해 스팀 처리에 제공된 후의 증기가 비산되는 영역이 적어도 되며, 또한 피처리물로부터 제거된 유기물 또는 먼지 등의 제거물은 상기 응축액과 함께 상기 유로를 통과하여 스팀 처리의 계외로 효율적으로 배출할 수 있어, 피처리물로부터 제거된 제거물 (피처리물의 제거물) 이 피처리물에 재부착되는 것을 방지할 수 있다.According to the steam processing apparatus of such a structure, the deposit of a to-be-processed object can be efficiently removed by adjusting the temperature or the pressure of the steam sprayed toward a board | substrate from a steam spray nozzle. And since at least a part of the steam after being provided for the steam treatment is cooled by the cooling mechanism to become a condensate, it is less likely to continue to exist in the vapor state after being provided for the steam treatment, and it is further left by the exhaust mechanism that remains in this steam state. Since it can be quickly discharged to the outside of the steam treatment section, compared with the conventional apparatus, the area where the steam after the steam treatment is scattered is at least scattered, and the removed substances such as organic matter or dust removed from the workpiece are together with the condensate. It is possible to efficiently discharge to the outside of the steam treatment through the flow path, it is possible to prevent the removal (removed material) removed from the object to be reattached to the object.

추가로, 본 발명의 스팀 처리 장치에서는 스팀 처리에 제공된 후의 증기가 증기 상태로 계속 존재하는 것이 적어져 배기량을 삭감할 수 있다.In addition, in the steam treatment apparatus of the present invention, the amount of steam after the steam treatment is continuously kept in the vapor state can be reduced, so that the displacement can be reduced.

또한 본 발명의 스팀 처리 장치에서는, 스팀 처리에 제공된 후의 증기가 비산되는 영역이 적어도 되므로, 스팀 처리 장치 전체를 청정화할 필요가 없다. 예를 들어 배기 기구 부분을 피처리물을 오염시킬 우려가 없는 재료로 구성하면 되므로, 청정화에 필요한 재료비를 삭감할 수 있어 저비용으로 할 수 있다.Moreover, in the steam processing apparatus of this invention, since the area | region where the steam after provided for steam processing is scattered is at least, it is not necessary to clean the whole steam processing apparatus. For example, since the exhaust mechanism portion may be made of a material which does not have a risk of contaminating the object to be processed, the material cost required for cleaning can be reduced, and the cost can be reduced.

본 발명의 스팀 처리 장치에서, 상기 냉각 기구는 상기 배기 기구 유입 전의 증기를 냉각시키는 제 1 냉각 기구와, 상기 배출 기구를 통과하는 증기를 냉각시키는 제 2 냉각 기구로 이루어지는 것일 수도 있다.In the steam processing apparatus of this invention, the said cooling mechanism may consist of a 1st cooling mechanism which cools the steam before inflow of the said exhaust mechanism, and a 2nd cooling mechanism which cools the steam which passes through the said discharge mechanism.

이러한 구성의 스팀 처리 장치에 의하면, 스팀 처리에 제공된 후의 증기의 응축효과를 향상시킬 수 있으므로, 피처리물로부터 제거된 제거물을 이 응축액과 함께 상기 유로를 통과하여 스팀 처리의 계외로 더욱 효율적으로 배출할 수 있다. 상세하게는 스팀 처리에 제공된 후의 증기의 적어도 일부는 상기 배출 기구 유입 전에 상기 제 1 냉각 기구에 의해 냉각되어 응축액으로 되고, 피처리물로부터의 제거물은 이 응축액과 함께 상기 유로를 통과하여 스팀 처리의 계외로 효율적으로 배출할 수 있고, 또한 스팀 처리에 제공된 후의 증기로서 상기 배기 기구 내에 들어간 것은 상기 제 2 의 냉각 기구에 의해 냉각되어 응축액으로 되고, 피처리물로부터의 제거물은 이 응축액과 함께 상기 유로를 통과하여 스팀 처리의 계외로 효율적으로 배출할 수 있다.According to the steam treatment apparatus of this structure, the condensation effect of the steam after being provided to the steam treatment can be improved, so that the removed matter removed from the object to be processed is passed together with the condensate through the flow path more efficiently outside of the steam treatment system. Can be discharged. Specifically, at least a part of the steam after being provided to the steaming treatment is cooled by the first cooling mechanism to be a condensate before inflow of the discharge mechanism, and the removed material from the object to be treated is passed through the flow path along with the condensate and steamed. Can be efficiently discharged to the outside of the system, and what has entered the exhaust mechanism as steam after being provided to the steam treatment is cooled by the second cooling mechanism to form a condensate. Passing through the flow path can be efficiently discharged to the outside of the steam treatment system.

또한 본 발명의 스팀 처리 장치에서는, 상기 증기의 응축액을 스팀 처리의 계외로 배출하는 응축액 배출 기구가 상기 유로에 연통되어 있는 것이 바람직하다.Moreover, in the steam processing apparatus of this invention, it is preferable that the condensate discharge mechanism which discharges the condensate of the said steam out of the system of a steam process communicates with the said flow path.

이러한 구성의 스팀 처리 장치에 의하면, 상기 유로를 통과하는 응축액의 배출 효과를 향상시킬 수 있으므로, 이 응축액에 의하여 운반되는 피처리물의 제거물의 배출 효과도 향상시킬 수 있고, 피처리물의 제거물이 피처리물에 재부착되는 것을 방지하는 효과도 향상시킬 수 있다.According to the steam treatment apparatus of such a structure, since the discharge effect of the condensate liquid which passes through the said flow path can be improved, the discharge effect of the removal object of the to-be-processed object conveyed by this condensate can also be improved, and the removal object of the to-be-processed object can be improved. The effect of preventing reattachment to the processed material can also be improved.

또한 본 발명의 스팀 처리 장치에서는, 상기 피처리물을 경사지게 한 상태에서 반송시키는 경사 반송 기구가 구비되어 있는 것이 바람직하다. 이 경우, 증기 분사 노즐은 피처리물의 이동방향 측에 설치되는 것이 바람직하다.Moreover, in the steam processing apparatus of this invention, it is preferable that the inclination conveyance mechanism which conveys the said to-be-processed object in the inclined state is provided. In this case, it is preferable that the steam injection nozzle is provided on the moving direction side of the workpiece.

이러한 구성의 스팀 처리 장치에 의하면, 피처리물의 이동방향으로 피처리물이 상승되는 각도에서 경사 반송됨으로써, 스팀 처리에 제공된 후에 발생된 응축액을 피처리물로부터 효율적으로 멀어지게 할 수 있으므로, 응축액 및 피처리물의 제거물의 배출 효과를 더욱 향상시킬 수 있고, 피처리물의 제거물이 피처리물에 재부착되는 것을 방지하는 효과도 더욱 향상시킬 수 있어 스팀 처리를 효율적으로 실시할 수 있다.According to the steam treatment apparatus having such a configuration, the condensate generated after being provided to the steam treatment can be efficiently separated from the object by being conveyed obliquely at an angle at which the object is raised in the moving direction of the object. The effect of discharging the removal of the workpiece can be further improved, and the effect of preventing the removal of the removal of the workpiece to be reattached to the workpiece can be further improved, so that the steam treatment can be performed efficiently.

또한 본 발명의 스팀 처리 장치에서는, 상기 제 1 냉각 기구와 상기 제 2 냉각 기구는 일체화된 것일 수도 있다.Moreover, in the steam processing apparatus of this invention, the said 1st cooling mechanism and the said 2nd cooling mechanism may be integrated.

이러한 구성의 스팀 처리 장치에 의하면, 제 1 냉각 기구와 상기 제 2 냉각 기구를 별개로 설치하는 경우와 비교하여, 스팀 처리 장치를 소형화할 수 있다는 이점이 있다.According to the steam processing apparatus of such a structure, compared with the case where a 1st cooling mechanism and a said 2nd cooling mechanism are provided separately, there exists an advantage that a steam processing apparatus can be miniaturized.

발명의 실시형태Embodiment of the invention

이하에서 본 발명의 실시형태를 도면을 참조하여 설명한다. 또한 이하에서 기술하는 실시형태에서는, 본 발명의 스팀 처리 장치를 피처리물로서 가로세로 수백 ㎜ 정도, 바람직하게는 가로세로 1 ~ 2 m 의 대형 유리기판 등의 피처리 기판에 웨트 에칭 처리한 후, 세정 처리 (린스 처리) 하는 공정을 실시하는 경우에 바람직하게 사용되는 스팀 처리 장치에 적용하는 경우에 대해 설명한다.Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. In the embodiment described below, after the wet etching treatment of the steam treatment apparatus of the present invention on a substrate to be treated, such as a large glass substrate, which is about several hundred mm in width and preferably 1 to 2 m in width, as the object to be treated, The case where it applies to the steam treatment apparatus used suitably when performing the process of washing process (rinse process) is demonstrated.

[제 1 실시형태][First embodiment]

도 1 은 본 발명의 제 1 실시형태의 스팀 처리 장치의 개략 구성을 나타내는 단면도이다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is sectional drawing which shows schematic structure of the steam processing apparatus of 1st Embodiment of this invention.

제 1 실시형태의 스팀 처리 장치는 본체 (1) 와 이 본체 (1) 의 측방에 설치된 복수 개의 증기 분사 노즐 (2) 을 주체로 하는 스팀 처리부 (10) 와, 복수의 반송 롤러 (25: 반송 기구) 가 구비되어 이루어지는 것이다.The steam processing apparatus of the first embodiment includes a steam processing unit 10 mainly comprising a main body 1 and a plurality of steam injection nozzles 2 provided on the side of the main body 1, and a plurality of conveying rollers 25. Mechanism) is provided.

본체 (1) 에는 스팀 처리에 제공된 후의 증기의 적어도 일부를 스팀 처리의 계외로 배출하는 배기 기구 (5) 와, 스팀 처리에 제공된 후의 증기를 냉각시키는 냉각 기구 (6) 와, 이 냉각 기구 (6) 에 의해 냉각되어 응축된 증기의 응축액을 스팀 처리의 계외로 배출하는 응축액 배출 기구 (8) 가 설치되어 있다. 스팀 처리부 (10) 의 본체 (1) 의 저면은 평탄면을 구비하고 있다. 또한 본체 (1) 의 측면 중 증기 분사 노즐 (2) 이 설치되는 측의 측면은 비스듬하게 경사져 있다.The main body 1 includes an exhaust mechanism 5 for discharging at least a part of the steam after the steam treatment to the outside of the steam treatment, a cooling mechanism 6 for cooling the steam after the steam treatment, and this cooling mechanism 6 The condensate discharge mechanism 8 which discharges the condensed liquid of the steam condensed by condensation | cooling and condensed out of the steam processing system is provided. The bottom face of the main body 1 of the steam processing part 10 is provided with the flat surface. Moreover, the side surface of the side in which the steam injection nozzle 2 is installed among the side surfaces of the main body 1 is inclined obliquely.

본 실시형태의 스팀 처리 장치의 스팀 처리부 (10) 는 스팀 처리 시에 피처리 기판 (A) 의 상측에 배치되는데, 이때 스팀 처리부 (10) 와 피처리 기판 (A) 의 표면 간에 극간이 형성되도록 배치된다. 또한 이 피처리 기판 (A) 의 표면과 스팀 처리부 (10) 의 극간에 냉각 기구 (6) 에 의해 냉각되어 응축된 증기의 응축액이 통과할 수 있는 유로 (15) 가 형성된다.The steam processing part 10 of the steam processing apparatus of this embodiment is arrange | positioned above the to-be-processed board | substrate A at the time of a steaming process, so that a clearance gap may be formed between the steam processing part 10 and the surface of the to-be-processed board | substrate A. FIG. Is placed. Moreover, the flow path 15 through which the condensed liquid of the vapor cooled and condensed by the cooling mechanism 6 is formed between the surface of this to-be-processed substrate A and the pole of the steam process part 10 is formed.

복수의 반송 롤러 (25: 반송 기구) 는 웨트 에칭 처리 후의 피처리 기판 (A) 을 반송하여 스팀 처리부 (10) 의 하방을 통과시킬 수 있는 것이다. 또한 도면 중 부호 S 는 피처리 기판 (A) 의 반송방향 (이동방향) 이다.The several conveyance roller 25 can convey the to-be-processed board | substrate A after a wet etching process, and can pass the steam processing part 10 below. In addition, in the figure, the code | symbol S is a conveyance direction (moving direction) of the to-be-processed substrate A. FIG.

증기 분사 노즐 (2) 은 본체 (1) 의 측면을 따라 복수 개 구비됨으로써, 스팀 처리부 (10) 의 하측에 피처리 기판 (A) 이 반송되었을 때, 이들 복수 개의 증기 분사 노즐 (2) 이 피처리 기판 (A) 의 상측에서 또한 피처리 기판 (A) 의 이동방향과 교차되는 방향으로 나열되는 배치로 되어 있다. 각 증기 분사 노즐 (2) 의 선단은 스팀 처리부 (10) 의 하측에 피처리 기판 (A) 이 반송되었을 때 피처리 기판 (A) 의 표면을 향하는 배치로 되어 있다. 또한 도 1 에서는 앞 쪽에 있는 증기 분사 노즐 (2) 에 의해 다른 증기 분사 노즐 (2) 이 가려져 보이지 않기 때문에 1 개의 증기 분사 노즐 (2) 밖에 도시되어 있지 않다.The plurality of steam injection nozzles 2 are provided along the side surface of the main body 1, so that when the substrate A to be processed is conveyed below the steam processing unit 10, the plurality of steam injection nozzles 2 are avoided. It is arrange | positioned above the process board | substrate A and arrange | positioned in the direction which cross | intersects the movement direction of the process board | substrate A. FIG. The tip of each steam injection nozzle 2 is an arrangement | positioning toward the surface of the to-be-processed substrate A, when the to-be-processed substrate A is conveyed below the steam process part 10. In addition, in FIG. 1, only one steam injection nozzle 2 is shown since the other steam injection nozzle 2 is not covered by the steam injection nozzle 2 in the front.

각 증기 분사 노즐 (2) 에는 이 증기 분사 노즐 (2) 에 증기를 공급하기 위한 증기 공급원 (2a) 이 접속관 (2b) 을 통하여 접속되어 있다. 본 실시형태의 스팀 처리 장치가 상기와 같은 세정 공정에 사용되는 경우에는 증기 공급원 (2a) 으로부터 각 증기 분사 노즐 (2) 로 수증기가 공급되도록 되어 있다. 또한 증기 공급원 (2a) 에는 이 증기 공급원 (2a) 으로 공급된 액체 (L1) 를 가열하여 기화시키는 가열수단 (도시 생략) 이 구비되어 있다.Each steam injection nozzle 2 is connected with the steam supply source 2a for supplying steam to this steam injection nozzle 2 via the connection pipe 2b. When the steam treatment apparatus of this embodiment is used in the above washing process, water vapor is supplied from the steam supply source 2a to each steam injection nozzle 2. In addition, the steam supply 2a is provided with heating means (not shown) which heats and vaporizes the liquid L 1 supplied to this steam supply 2a.

추가로 이 증기 공급원 (2a) 에는 상기 액체 (L1) 를 가열하여 발생시킨 증기의 온도, 증기의 압력, 증기 포화도, 증기 발생량을 제어하는 제어 기구 (도시 생략) 가 구비되어 있다.In addition, the steam supply source 2a is provided with a control mechanism (not shown) for controlling the temperature of the steam generated by heating the liquid L 1 , the pressure of the steam, the steam saturation, and the amount of steam generated.

스팀 처리를 실시할 때, 스팀 처리부 (10) 는 증기 분사 노즐 (2) 이 피처리 기판 (A) 의 반송방향 (S) 측이 되도록 배치된다.When performing a steam process, the steam process part 10 is arrange | positioned so that the steam injection nozzle 2 may become the conveyance direction S side of the to-be-processed substrate A. FIG.

스팀 처리 시에는 본체 (1) 의 저면과 피처리 기판 (A) 표면의 극간에서, 또한 피처리 기판 (A) 의 표면을 향해 복수의 증기 분사 노즐 (2) 로부터 증기 (G1) 가 분사되고, 이 증기 (G1) 에 의해 세정되도록 되어 있다. 따라서 본체 (1) 의 저면과 피처리 기판 (A) 표면의 극간에 스팀 처리 영역 (14) 이 형성된다. 또한 이 스팀 처리 영역 (14) 은 후술하는 냉각용 파이프 (6a) 보다도 증기 분사 노즐 (2) 측의 본체 (1) 의 저면 (1a: 노즐 측의 저면) 과 피처리 기판 (A) 표면의 극간 영역에 주로 형성된다.In the steam treatment, steam G 1 is injected from the plurality of steam injection nozzles 2 between the bottom of the main body 1 and the gap between the surface of the substrate A and the surface of the substrate A. This steam G 1 is washed. Therefore, the steam process area | region 14 is formed between the bottom face of the main body 1 and the pole of the to-be-processed substrate A surface. In addition, this steam process area | region 14 has a space | interval between the bottom face (1a: bottom face of nozzle side) and the to-be-processed substrate A surface of the main body 1 by the steam injection nozzle 2 side rather than the cooling pipe 6a mentioned later. It is mainly formed in the area.

배기 기구 (5) 는 본체 (1) 에 설치된 복수의 증기 배기 파이프 (5a) 와, 각 증기 배기 파이프 (5a) 에 접속된 배기 펌프 (5b) 로 구성되어 있다.The exhaust mechanism 5 is comprised from the several steam exhaust pipe 5a provided in the main body 1, and the exhaust pump 5b connected to each steam exhaust pipe 5a.

본체 (1) 에 설치되는 복수의 증기 배기 파이프 (5a) 는 스팀 처리부 (10) 의 하측에 피처리 기판 (A) 이 반송되었을 때, 이들 복수 개의 증기 배기 파이프 (5a) 가 피처리 기판 (A) 의 상측에서, 또한 피처리 기판 (A) 의 이동방향 (S) 과 교차하는 방향으로 나열되는 배치로 되어 있다. 각 증기 배기 파이프 (5a) 는 본체 (1) 의 상면 측으로부터 저면측에 걸쳐 비스듬하게 경사지도록 설치되어 있다. 또한 각 증기 배기 파이프 (5a) 의 일 단부는 본체 (1) 의 저면에 개구되고, 각 증기 배기 파이프 (5a) 는 본체 (1) 의 저면과 피처리 기판 (A) 표면의 극간과 연통되어 있다. 증기 배기 파이프 (5a)의 개구부 (5c) 는 증기 분사 노즐 (2) 근방의 위치에 형성되어 있다. 또한 도 1 에서는 앞쪽의 증기 배기 파이프 (5a) 에 의해 다른 증기 배기 파이프 (5a) 가 가려져 보이지 않기 때문에 1 개의 증기 배기 파이프 (5a) 밖에 도시되어 있지 않다.When the to-be-processed board | substrate A is conveyed below the steam process part 10, when the to-be-processed board | substrate A is conveyed to the some steam exhaust pipe 5a provided in the main body 1, these some steam exhaust pipes 5a are the to-be-processed board | substrate A ) And arranged in a direction intersecting with the movement direction S of the substrate A to be processed. Each vapor exhaust pipe 5a is provided so that it may incline obliquely from the upper surface side of the main body 1 to the bottom surface side. One end of each of the steam exhaust pipes 5a is opened at the bottom of the main body 1, and each of the steam exhaust pipes 5a is in communication with a gap between the bottom of the main body 1 and the surface of the substrate A to be processed. . The opening 5c of the steam exhaust pipe 5a is formed at a position near the steam injection nozzle 2. In addition, in FIG. 1, since only the other steam exhaust pipe 5a is not obscured by the front steam exhaust pipe 5a, only one steam exhaust pipe 5a is shown.

스팀 처리에 제공된 후의 증기 (G2) (스팀 처리 후의 증기로 기재하는 경우도 있음) 는 본체 (1) 의 저면과 피처리 기판 (A) 간에 존재하는데, 배기 펌프 (5b) 를 작동시킴으로써 스팀 처리 후의 증기 (G2) 의 적어도 일부를 증기 배기 파이프 (5a) 내를 통하여 스팀 처리의 계외로 배출할 수 있도록 되어 있다.The steam G 2 (sometimes described as steam after steam treatment) after being provided for the steam treatment is present between the bottom face of the main body 1 and the substrate to be processed A. The steam treatment is performed by operating the exhaust pump 5b. At least a part of the subsequent steam G 2 can be discharged to the outside of the steam treatment system through the steam exhaust pipe 5a.

냉각 기구 (6) 는 증기 배기 파이프 (5a) 보다도 증기 분사 노즐 (2) 근처의 본체 (1) 에 형성된 냉각용 파이프 (6a) 와, 이 냉각용 파이프 (6a) 에 접속된 냉각수 저류조 (6b) 로 구성되어 있다. 이 냉각용 파이프 (6a) 의 연장 방향은 복수의 증기 분사 노즐 (2) 의 배열 방향과 평행이 되는 방향으로 되어 있다. 또한 이 냉각용 파이프 (6a) 는, 증기 배기 파이프 (5a) 보다도 증기 분사 노즐 (2) 측의 본체 (1) 의 저면 (1a: 노즐 측의 저면) 과, 증기 배기 파이프 (5a) 의 측면에 접촉하도록 설치되어 있다.The cooling mechanism 6 includes a cooling pipe 6a formed in the main body 1 near the steam injection nozzle 2 than the steam exhaust pipe 5a, and a cooling water storage tank 6b connected to the cooling pipe 6a. Consists of The extending direction of this cooling pipe 6a becomes a direction parallel to the arrangement direction of the some steam injection nozzle 2. In addition, the cooling pipe 6a has a lower surface (1a: bottom surface of the nozzle side) of the main body 1 on the steam injection nozzle 2 side and a side surface of the steam exhaust pipe 5a than the steam exhaust pipe 5a. It is installed to be in contact.

이 냉각 기구 (6) 에는 스팀 처리 시에 냉각수 저류조 (6b) 로부터 냉각용 파이프 (6a) 내로 냉각수 (6c) 가 공급되는데, 이 냉각용 파이프 (6a) 는 노즐 측의 저면 (1a) 에 접촉되어 있으므로, 냉각용 파이프 (6a) 에서 스팀 처리된 후의 증기 (G2) 중 증기 배기 파이프 (5a) 에 유입 전의 것을 냉각시켜 증기의 응축액 (L2) 으로 할 수 있도록 되어 있다. 이 응축액 (L2) 은 피처리 기판 (A) 의 표면과 노즐 측의 저면 (1a) 의 극간에 존재한다.The cooling mechanism 6 is supplied with cooling water 6c from the cooling water storage tank 6b into the cooling pipe 6a at the time of steam treatment, and this cooling pipe 6a is in contact with the bottom face 1a of the nozzle side. Therefore, in the steam G 2 after the steam treatment in the cooling pipe 6a, the one before the inflow to the steam exhaust pipe 5a is cooled to form a condensed liquid L 2 of steam. This condensate L 2 exists between the surface of the substrate A to be processed and the gap between the bottom face 1a on the nozzle side.

또한 이 냉각용 파이프 (6a) 는 증기 배기 파이프 (5a) 의 측면에 접촉하고 있기 때문에, 증기 배기 파이프 (5a) 내를 통과하는 스팀 처리 후의 증기 (G2) 의 적어도 일부를 냉각시켜 증기의 응축액 (L2) 으로 할 수 있도록 되어 있다. 이 증기 배기 파이프 (5a) 는 앞서 기술한 바와 같이 비스듬하게 경사져 있기 때문에, 증기 배기 파이프 (5a) 에서 발생된 증기의 응축액 (L2) 은 파이프 내면을 따라서 피처리 기판 (A) 의 표면과 본체 (1) 의 저면의 극간에 낙하된다. 따라서 스팀 처리 후의 증기 (G2) 의 대부분은 냉각용 파이프 (6a) 근방에서 냉각되어 증기의 응축액 (L2) 이 된다.In addition, since the cooling pipe 6a is in contact with the side surface of the steam exhaust pipe 5a, at least a part of the steam G 2 after the steaming treatment passing through the steam exhaust pipe 5a is cooled to condense the steam. (L 2 ). Since the steam exhaust pipe 5a is inclined obliquely as described above, the condensate L 2 of steam generated in the steam exhaust pipe 5a is formed along the inner surface of the substrate A and the body of the substrate A to be processed. It falls between the poles of the bottom face of (1). Therefore, most of the steam G 2 after steam treatment is cooled near the cooling pipe 6a to become the condensate L 2 of the steam.

본 실시형태의 냉각 기구 (6) 는, 배기 기구 유입 전의 증기를 냉각시키는 제 1 냉각 기구와, 배기 기구를 통과하는 증기를 냉각시키는 제 2 냉각 기구가 일체화된 타입의 것이다.The cooling mechanism 6 of this embodiment is a type in which the 1st cooling mechanism which cools the steam before inflow of an exhaust mechanism, and the 2nd cooling mechanism which cools the steam which passes through an exhaust mechanism are integrated.

응축액 배출 기구 (8) 는 본체 (1) 의 증기 분사 노즐 (2) 이 설치된 측과 반대 측의 측면 근방에 설치된 복수의 응축액 배출 파이프 (8a) 와, 각 응축액 배출 파이프 (8a) 에 접속된 배액 펌프 (8b) 로 구성되어 있다.The condensate discharge mechanism 8 includes a plurality of condensate discharge pipes 8a provided near the side of the main body 1 on the side opposite to the side on which the steam injection nozzle 2 is installed, and drainage connected to each condensate discharge pipe 8a. It consists of the pump 8b.

본체 (1) 에 설치되는 복수의 응축액 배출 파이프 (8a) 는 스팀 처리부 (10) 의 하측에 피처리 기판 (A) 을 반송했을 때, 이들 복수 개의 응축액 배출 파이프 (8a) 가 피처리 기판 (A) 의 상측에서, 또는 피처리 기판 (A) 의 이동 방향과 교차하는 방향으로 나열된 배치로 되어 있다. 또한 각 응축액 배출 파이프 (8a) 의 일 단부는 본체 (1) 의 저면에 개구되고, 이 응축액 배출 파이프 (8a) 가 본체 (1) 의 저면과 피처리 기판 (A) 표면의 극간과 연통되어 있다. 또한 도 1 에서는 앞 쪽의 응축액 배출 파이프 (8a) 에 의해 다른 응축액 배출 파이프 (8a) 가 가려져 보이지 않기 때문에 1 개의 응축액 배출 파이프 (8a) 밖에 도시되어 있지 않다.When the several condensate discharge pipe 8a provided in the main body 1 conveyed the to-be-processed board | substrate A below the steam processing part 10, these several condensate discharge pipes 8a are the to-be-processed board | substrate A ), Or arranged in a direction intersecting with the movement direction of the substrate A to be processed. Moreover, one end of each condensate discharge pipe 8a is opened in the bottom face of the main body 1, and this condensate discharge pipe 8a is in communication with the space | interval of the bottom face of the main body 1, and the to-be-processed substrate A surface. . 1, only one condensate discharge pipe 8a is shown since the other condensate discharge pipe 8a is not hidden by the front condensate discharge pipe 8a.

응축액 배출 기구 (8) 는 스팀 처리 시에는 배액 펌프 (8b) 를 작동시키면, 증기 배기 파이프 (5a) 또는 냉각용 파이프 (6a) 근방에서 발생된 증기의 응축액 (L2) 은, 증기 배기 파이프 (5a) 보다도 응축액 배출 파이프 (8a) 측의 본체 (1) 의 저면 (1b: 배출 파이프 측의 저면) 과 피처리 기판 (A) 표면의 극간을 통과하여 응축액 배출 파이프 (8a) 내로 들어가고, 이 응축액 배출 파이프 (8a) 내를 통과하여 스팀 처리의 계외로 배출할 수 있도록 되어 있다. 따라서 배출 파이프 측의 저면 (1b) 과 피처리 기판 (A) 표면의 극간이 증기의 응축액의 유로 (15) 가 된다. 이 유로 (15) 는 스팀 처리 영역 (14) 보다도 후방 (피처리 기판의 진행 방향과 반대 방향) 에 형성된다.When the condensate discharge mechanism 8 operates the drainage pump 8b during steam treatment, the condensate L 2 of steam generated near the steam exhaust pipe 5a or the cooling pipe 6a is a steam exhaust pipe ( It enters into the condensate discharge pipe 8a through the gap between the bottom face (1b: bottom face of the discharge pipe side) of the main body 1 by the side of the condensate discharge pipe 8a, and the to-be-processed substrate A surface rather than 5a), and this condensate It passes through the discharge pipe 8a, and can discharge | emit out of a steam processing system. Therefore, the clearance gap between the bottom face 1b of the discharge pipe side and the surface of the substrate A to be processed becomes the flow path 15 of the condensate of steam. This flow path 15 is formed behind the steam processing region 14 (direction opposite to the traveling direction of the substrate to be processed).

도 1 에 나타낸 바와 같은 스팀 처리 장치 (10) 를 사용하여 피처리 기판 (A) 에 스팀 처리를 실시하여 기판 표면을 세정하는 것은 아래와 같이 실시된다.The steam treatment is performed on the substrate A by using the steam treatment apparatus 10 as shown in FIG. 1 to clean the substrate surface as follows.

냉각용 파이프 (6a) 에 냉각수 저류조 (6b) 로부터 냉각수 (6c) 가 공급되고 있음과 동시에, 배기 펌프 (5b) 및 배액 펌프 (8b) 가 작동되고 있는 스팀 처리부 (10) 의 하측에, 반송 롤러 (25) 에 의해 피처리 기판 (A) 을 소정 속도로 반송하면서 복수의 증기 분사 노즐 (2) 로부터 증기를 피처리 기판 (A) 의 표면에 분사하여 스팀 처리를 실시하고, 기판 (A) 표면의 부착물을 제거한다. 스팀 처리 시에 복수의 증기 분사 노즐 (2) 로부터 분사되는 증기는, 기판 (A) 에 부착되어 있는 부착물의 종류에 따라서 상기 제어 기구에 의해 증기압 또는 온도 등의 조건이 제어됨으로써, 부착물을 효율적으로 제거할 수 있도록 콘트롤되어 있다.At the same time as the cooling water 6c is supplied to the cooling pipe 6a from the cooling water storage tank 6b, and the exhaust pump 5b and the drainage pump 8b are operated, a conveying roller Steam is sprayed on the surface of the to-be-processed substrate A from several steam injection nozzles 2, conveying the to-be-processed substrate A by a predetermined | prescribed speed by 25, and steaming is performed, and the surface of the board | substrate A is carried out. Remove attachments from The steam injected from the plurality of steam injection nozzles 2 during the steam treatment is controlled by the control mechanism according to the type of deposit adhered to the substrate A so that the vapor deposit or the temperature is controlled. Controlled to be removed.

스팀 처리 후의 증기 (G2) 는 본체 (1) 의 저면과 피처리 기판 (A) 간에 존재하는데, 스팀 처리 후의 증기 (G2) 의 적어도 일부는 증기 배기 파이프 (5a) 내를 통과하여 스팀 처리의 계외로 배출되고, 또한 스팀 처리 후의 증기 (G2) 중 증기 배기 파이프 (5a) 에 유입 전인 증기 (G2) 의 일부와 증기 배기 파이프 (5a) 에 유입된 증기 (G2) 의 일부는 냉각용 파이프 (6a) 근방에서 냉각되어 증기의 응축액 (L2) 이 된다. 이들 증기의 응축액 (L2) 은 유로 (15) 를 통과하여 응축액 배출 파이프 (8a) 내로 들어가고, 응축액 배출 파이프 (8a) 내를 통과하여 스팀 처리의 계외로 배출된다.The steam G 2 after steaming is present between the bottom surface of the main body 1 and the substrate A to be processed, and at least a part of the steam G 2 after steaming passes through the steam exhaust pipe 5a to steam the steaming. the system being discharged outside, and a portion of the steam (G 2) flowing into the part and vapor exhaust pipe (5a) of the steam (G 2), before flowing into the steam exhaust pipe (5a) of the steam (G 2) after the steam treatment It cools in the vicinity of the cooling pipe 6a, and becomes the condensate L 2 of steam. The condensate L 2 of these vapors passes through the flow path 15 into the condensate discharge pipe 8a and passes through the condensate discharge pipe 8a to be discharged out of the steam treatment system.

본 실시형태의 스팀 처리 장치에 의하면, 피처리 기판 (A) 의 부착물은 증기 분사 노즐로부터 기판을 향하여 분사되는 증기 (G1) 에 의해 효율적으로 제거할 수 있다.According to the steam treatment unit of the present embodiment, the attachment of the substrate (A) can be efficiently removed by the steam (G 1) is injected toward the substrate from the vapor spray nozzle.

그리고 스팀 처리 후의 증기 (G2) 의 대부분은 냉각용 파이프 (6a) 에 의해 냉각되어 증기의 응축액 (L2) 이 되므로, 스팀 처리에 제공된 후에 증기 상태로 계속 존재하는 것이 적어지고, 또한 이 증기 상태로 남아있는 것은 배기 기구 (5) 에 의해 신속하게 스팀 처리부의 계외로 배출할 수 있으므로, 종래의 장치에 비해 스팀 처리 후의 증기가 비산되는 영역이 적어도 되고, 또한 피처리 기판 (A) 으로부터 제거된 유기물이나 먼지 등의 제거물 (피처리 기판의 제거물) 은, 증기의 응축액 (G2) 과 함께 유로 (15) 와 응축액 배출 파이프 (8a) 를 순서대로 통과하여 스팀 처리의 계외로 효율적으로 배출할 수 있어 피처리 기판의 제거물이 피처리 기판에 재부착되는 것을 방지할 수 있다.Since most of the steam G 2 after the steam treatment is cooled by the cooling pipe 6a to become the condensate L 2 of the steam, the steam G 2 is less likely to continue to exist in the steam state after being provided to the steam treatment. What remains in the state can be quickly discharged out of the steam treatment section by the exhaust mechanism 5, so that the area where steam after steam treatment is scattered is reduced compared with the conventional apparatus, and removed from the substrate A to be processed. Removed substances such as organic matters and dust (removed substrates to be processed) pass through the flow path 15 and the condensed liquid discharge pipe 8a in order together with the condensed liquid G 2 of the vapor in order, and efficiently out of the system of steam treatment. It can discharge, and it can prevent that the removal of the to-be-processed board | substrate reattaches to a to-be-processed board.

나아가 본 실시형태의 스팀 처리 장치에서는, 스팀 처리에 제공된 후의 증기 (G2) 가 증기 상태로 계속 존재하는 것이 적어져 배기량을 삭감할 수 있다.Furthermore, in the steam processing apparatus of this embodiment, it is less likely that the steam G 2 provided after the steam processing continues to exist in the steam state, and the displacement can be reduced.

또한 본 실시형태의 스팀 처리 장치에서는, 스팀 처리에 제공된 후의 증기 (G2) 가 비산되는 영역이 적어도 되므로 스팀 처리 장치 전체를 청전화할 필요가 없다. 예를 들어 증기 배기 파이프 (5a) 의 내면이나 본체 (1) 의 저면을, 피처리 기판 (A) 을 오염시킬 우려가 없는 재료로 구성하면 되므로 청정화에 필요한 재료비를 삭감할 수 있어 저비용으로 할 수 있다.In addition, the steam treatment apparatus of the present embodiment, the steam (G 2) so that a region in which scattering at least there is no need to call the entire blue steaming device provided after the steam treatment. For example, since the inner surface of the steam exhaust pipe 5a and the bottom surface of the main body 1 may be made of a material which does not contaminate the substrate A to be processed, the material cost required for cleaning can be reduced, resulting in low cost. have.

또한 본 실시형태의 스팀 처리 장치에서는, 스팀 처리부 (10) 에 구비되는 냉각 기구 (26) 는 제 1 냉각 기구와 제 2 냉각 기구를 겸하는 것이므로, 제 1 의 냉각 기구와 제 2 냉각 기구를 별개로 설치하는 경우에 비하여 스팀 처리 장치를 소형화할 수 있다는 이점이 있다.Moreover, in the steam processing apparatus of this embodiment, since the cooling mechanism 26 with which the steam processing part 10 is equipped also serves as a 1st cooling mechanism, and a 2nd cooling mechanism, a 1st cooling mechanism and a 2nd cooling mechanism are separated separately. Compared with the installation, there is an advantage that the steam treatment apparatus can be miniaturized.

[제 2 실시형태]Second Embodiment

도 2 는 본 발명의 제 2 실시형태의 스팀 처리 장치의 개략 구성을 나타내는 단면도이다.It is sectional drawing which shows schematic structure of the steam processing apparatus of 2nd Embodiment of this invention.

제 2 실시형태의 스팀 처리 장치가, 도 1 에 나타낸 제 1 실시형태의 스팀 처리 장치와 특별히 다른 것은, 스팀 처리부 (10a) 에 구비되는 냉각 기구가 제 1 냉각 기구 (26) 와, 이 제 1 냉각 기구 (26) 와는 별개로 설치된 제 2 냉각 기구 (36) 로 구성되어 있는 점이다.The steam processing apparatus of the second embodiment is particularly different from the steam processing apparatus of the first embodiment shown in FIG. 1. The cooling mechanism provided in the steam processing unit 10a includes the first cooling mechanism 26 and the first cooling mechanism. It is a point comprised from the 2nd cooling mechanism 36 provided separately from the cooling mechanism 26. FIG.

제 1 냉각 기구 (26) 는, 증기 배기 파이프 (5a) 보다도 증기 분사 노즐 (2) 근처의 본체 (1) 에 형성된 냉각용 파이프 (26a) 와, 이 냉각용 파이프 (26a) 에 접속된 냉각수 저류조 (26b) 로 구성되어 있다. 이 냉각용 파이프 (26a) 의 연장 방향은 복수의 증기 분사 노즐 (2) 의 배열 방향과 평행이 되는 방향으로 되어 있다. 또한 이 냉각용 파이프 (26a) 는 증기 배기 파이프 (5a) 보다도 증기 분사 노즐 (2) 측의 본체 (1) 의 저면 (1a: 노즐 측의 저면) 에 접촉하도록 설치되어 있다.The 1st cooling mechanism 26 is the cooling pipe 26a formed in the main body 1 near the steam injection nozzle 2 rather than the steam exhaust pipe 5a, and the cooling water storage tank connected to this cooling pipe 26a. It consists of 26b. The extension direction of this cooling pipe 26a becomes a direction parallel to the arrangement direction of the some steam injection nozzle 2. Moreover, this cooling pipe 26a is provided so that it may contact the bottom face 1a (bottom face of a nozzle side) of the main body 1 by the steam injection nozzle 2 side rather than the vapor exhaust pipe 5a.

제 2 냉각 기구 (36) 는, 증기 배기 파이프 (5a) 보다도 응축액 배출 파이프 (8a) 근처의 본체 (1) 에 형성된 냉각용 파이프 (36a) 와, 이 냉각용 파이프 (36a) 에 접속된 냉각수 저류조 (36b) 로 구성되어 있다. 이 냉각용 파이프 (36a) 의 연장 방향은 복수의 증기 분사 노즐 (2) 의 배열 방향과 평행이 되는 방향으로 되어 있다. 또한 이 냉각용 파이프 (36a) 는 증기 배기 파이프 (5a) 의 측면과 배출 파이프 측의 저면 (1b) 에 접촉하도록 설치되어 있다.The 2nd cooling mechanism 36 is the cooling pipe 36a formed in the main body 1 near the condensate discharge pipe 8a rather than the vapor exhaust pipe 5a, and the cooling water storage tank connected to this cooling pipe 36a. It consists of 36b. The extension direction of this cooling pipe 36a becomes a direction parallel to the arrangement direction of the some steam injection nozzle 2. Moreover, this cooling pipe 36a is provided in contact with the side surface of the steam exhaust pipe 5a and the bottom face 1b of the discharge pipe side.

이 냉각 기구 (26) 에는, 스팀 처리 시에 냉각수 저류조 (26b) 로부터 냉각용 파이프 (26a) 내로 냉각수 (26c) 가 공급되는데, 이 냉각용 파이프 (26a) 는 노즐 측의 저면 (1a) 에 접촉되어 있으므로, 냉각용 파이프 (26a) 에 의해 스팀 처리 후의 증기 (G2) 중 증기 배기 파이프 (5a) 에 유입 전의 것을 냉각시켜 증기의 응축액 (L2) 으로 할 수 있도록 되어 있다. 이 응축액 (L2) 은 피처리 기판 (A) 의 표면과 노즐 측의 저면 (1a) 의 극간에 존재한다.The cooling mechanism 26 is supplied with cooling water 26c from the cooling water storage tank 26b into the cooling pipe 26a at the time of steam treatment, and this cooling pipe 26a contacts the bottom face 1a on the nozzle side. Since the cooling pipe 26a is used, the condensate L 2 of the steam can be cooled by cooling the one before the inflow to the steam exhaust pipe 5a in the steam G 2 after the steam treatment. This condensate L 2 exists between the surface of the substrate A to be processed and the gap between the bottom face 1a on the nozzle side.

이 냉각 기구 (36) 에는 스팀 처리 시에 냉각수 저류조 (36b) 로부터 냉각용 파이프 (36a) 내로 냉각수 (36c) 가 공급되는데, 냉각용 파이프 (36a) 는 증기 배기 파이프 (5a) 의 측면에 접촉하고 있으므로, 증기 배기 파이프 (5a) 내를 통과하는 스팀 처리 후의 증기 (G2) 의 적어도 일부를 냉각시켜 증기의 응축액 (L2) 으로 할 수 있도록 되어 있다. 이 증기 배기 파이프 (5a) 는 앞서 설명한 바와 같이 비스듬하게 경사져 있기 때문에, 증기 배기 파이프 (5a) 에서 발생된 증기의 응축액 (L2) 은 파이프 내면을 따라서 피처리 기판 (A) 표면과 본체 (1) 저면의 극간에 낙하된다. 또한 냉각용 파이프 (36a) 는 배출 파이프 측의 저면 (1b) 에 접촉하고 있기 때문에, 증기 배기 파이프 (5a) 내에 들어가지 않고 배출 파이프 측의 저면 (1b) 과 피처리 기판 (A) 의 극간에 도달한 증기 (G2) 가 있을 경우, 이 증기 (G2) 를 냉각시켜 증기의 응축액 (L2) 으로 할 수 있도록 되어 있다. 따라서 스팀 처리 후의 증기 (G2) 의 대부분은 냉각용 파이프 (26a 및 36a) 근방에서 냉각되어 증기의 응축액 (L2) 으로 된다.The cooling mechanism 36 is supplied with cooling water 36c from the cooling water storage tank 36b into the cooling pipe 36a at the time of steam treatment, and the cooling pipe 36a is in contact with the side surface of the steam exhaust pipe 5a. Therefore, at least a part of the steam G 2 after the steam treatment passing through the steam exhaust pipe 5a can be cooled to form a condensed liquid L 2 of steam. Since the steam exhaust pipe 5a is inclined obliquely as described above, the condensed liquid L 2 of the steam generated in the steam exhaust pipe 5a passes along the inner surface of the substrate A to be processed and the body 1. ) Falls between poles of the bottom. In addition, since the cooling pipe 36a is in contact with the bottom face 1b on the discharge pipe side, the cooling pipe 36a does not enter the vapor exhaust pipe 5a and is disposed between the bottom face 1b on the discharge pipe side and the substrate A to be processed. If the vapor has been reached (G 2), by cooling the steam (G 2) it is to be condensed with (L 2) of the steam. Therefore, most of the steam G 2 after the steam treatment is cooled near the cooling pipes 26a and 36a to become the condensate L 2 of the steam.

본 실시형태의 냉각 기구는, 배기 기구 유입 전의 증기를 냉각시키는 제 1 냉각 기구 (26) 와, 배기 기구를 통과하는 증기를 냉각시키는 제 2 냉각기구 (36) 가 별개로 설치된 타입의 것이다.The cooling mechanism of this embodiment is of the type provided separately from the 1st cooling mechanism 26 which cools the steam before inflow of exhaust mechanism, and the 2nd cooling mechanism 36 which cools the steam which passes through the exhaust mechanism.

도 2 에 나타낸 바와 같은 스팀 처리 장치를 사용하여 피처리 기판 (A) 에 스팀 처리를 실시하여 기판 표면을 세정하는 것은 아래와 같이 실시된다.The steam treatment is performed on the substrate A to be treated using the steam treatment apparatus as shown in FIG. 2 to clean the substrate surface as follows.

냉각용 파이프 (26a, 36a) 에 대응하는 냉각수 저류조에서 냉각수가 공급되고 있음과 동시에, 배기 펌프 (5b) 및 배액 펌프 (8b) 가 작동되고 있는 스팀 처리부 (10a) 의 하측에 반송 롤러 (25) 에 의해 피처리 기판 (A) 을 소정 속도로 반송하면서 복수의 증기 분사 노즐 (2) 로부터 증기압 또는 온도 등의 조건이 제어된 증기를 피처리 기판 (A) 의 표면에 분사하여 스팀 처리를 실시하고, 기판 (A) 표면의 부착물을 제거한다.While the cooling water is supplied from the cooling water storage tanks corresponding to the cooling pipes 26a and 36a, the conveying roller 25 is located below the steam treatment section 10a in which the exhaust pump 5b and the drainage pump 8b are operated. Steam by subjecting the surface of the substrate A to be treated with the vapor controlled by the conditions such as the vapor pressure or the temperature from the plurality of steam injection nozzles 2 while conveying the substrate A to be processed at a predetermined speed. The deposit on the surface of the substrate (A) is removed.

스팀 처리 후의 증기 (G2) 는 본체 (1) 의 저면과 피처리 기판 (A) 간에 존재하는데, 스팀 처리 후의 증기 (G2) 의 적어도 일부는 증기 배기 파이프 (5a) 내를 통과하여 스팀 처리의 계외로 배출되고, 또한 스팀 처리 후의 증기 (G2) 중 증기 배기 파이프 (5a) 에 유입 전인 증기 (G2) 의 일부는 냉각용 파이프 (26a) 근방에서 냉각되어 증기의 응축액 (L2) 이 된다. 또한 스팀 처리 후의 증기 (G2) 중 증기 배기 파이프 (5a) 에 유입된 증기 (G2) 의 일부는 냉각용 파이프 (36a) 근방에서 냉각되어 증기의 응축액 (L2) 이 된다. 또한 스팀 처리 후의 증기 (G2) 중 증기 배기 파이프 (5a) 내로 유입되지 않고 배출 파이프 측의 저면 (1b) 과 피처리 기판 (A) 의 극간에 도달한 증기가 있을 경우, 이들 증기 (G2) 는 냉각용 파이프 (36a) 근방에서 냉각되어 증기의 응축액 (L2) 이 된다. 이들 증기의 응축액 (L2) 은 유로 (15) 를 통과하여 응축액 배출 파이프 (8a) 내로 들어가고, 응축액 배출 파이프 (8a) 내를 통과하여 스팀 처리의 계외로 배출된다.The steam G 2 after steaming is present between the bottom surface of the main body 1 and the substrate A to be processed, and at least a part of the steam G 2 after steaming passes through the steam exhaust pipe 5a to steam the steaming. the system being discharged outside, and a part of the steam (G 2), before flowing into the steam exhaust pipe (5a) of the steam (G 2) after the steam treatment is cooled in the vicinity of the cooling pipe (26a) for the condensate of the vapor (L 2) Becomes In addition, a part of the steam G 2 introduced into the steam exhaust pipe 5a of the steam G 2 after steam treatment is cooled near the cooling pipe 36a to become a condensate L 2 of steam. In addition, if there is a vapor it reaches the gap of the steam treatment after the steam (G 2) of the steam exhaust pipe (5a) discharging the bottom surface (1b) of the pipe-side without being introduced into the target substrate (A), these vapor (G 2 ) Is cooled near the cooling pipe 36a to become a condensate L 2 of steam. The condensate L 2 of these vapors passes through the flow path 15 into the condensate discharge pipe 8a and passes through the condensate discharge pipe 8a to be discharged out of the steam treatment system.

본 실시형태의 스팀 처리 장치에 의하면, 스팀 처리 후의 증기 (G2) 의 응축 효과를 향상시킬 수 있기 때문에, 피처리 기판으로부터 제거된 제거물을 응축액 (L2) 과 함께 유로 (15) 를 통과하여 스팀 처리의 계외로 더욱 효율적으로 배출할 수 있다.According to the steam processing apparatus of this embodiment, since the condensation effect of the steam G 2 after steam processing can be improved, the remove | eliminated material removed from the to-be-processed board | substrate passes through the flow path 15 with the condensate L 2 . Therefore, it can be discharged more efficiently outside of the steam treatment system.

[제 3 실시형태][Third Embodiment]

도 3 은 본 발명의 제 3 실시형태의 스팀 처리 장치의 개략 구성을 나타내는 단면도이다.It is sectional drawing which shows schematic structure of the steam processing apparatus of 3rd Embodiment of this invention.

제 3 실시형태의 스팀 처리 장치가, 도 1 에 나타낸 제 1 실시형태의 스팀 처리 장치와 특별히 상이한 것은, 피처리 기판을 경사지게 한 상태에서 반송시키는 복수의 반송 롤러 (35: 경사 반송 기구) 가 구비되어 있고, 또한 스팀 처리부 (10b) 에는 응축액 배출 기구 (8) 는 설치되어 있지 않은 점이다.The steam processing apparatus of the third embodiment is particularly different from the steam processing apparatus of the first embodiment illustrated in FIG. 1, including a plurality of conveying rollers 35 (inclined conveying mechanism) for conveying the substrate to be processed in an inclined state. Moreover, the condensate discharge | release mechanism 8 is not provided in the steam process part 10b.

복수의 반송 롤러 (35: 경사 반송 기구) 는, 웨트 처리 후의 피처리 기판 (A) 을 경사지게 한 상태에서 반송하여 스팀 처리부 (10b) 의 하방을 통과시킬 수 있는 것이다. 상세하게는 복수의 반송 롤러 (35) 는 피처리 기판 (A) 이 이동방향 (S: 반송방향) 으로 상승하는 각도에서 반송 가능하도록 배치되어 있다.The some conveyance roller 35 (inclined conveyance mechanism) can convey in the state which inclined the to-be-processed substrate A after a wet process, and can pass below the steam process part 10b. Specifically, the some conveyance roller 35 is arrange | positioned so that conveyance is possible at the angle which the to-be-processed substrate A raises to a movement direction (S: conveyance direction).

도 3 에 나타낸 바와 같은 스팀 처리 장치를 사용하여 피처리 기판 (A) 에 스팀 처리를 실시하여 기판 표면을 세정하는 것은 아래와 같이 실시된다.The steam treatment is performed on the substrate A to be treated using the steam treatment apparatus as shown in FIG. 3 to clean the substrate surface as follows.

냉각용 파이프 (6a) 에 냉각수 저류조 (6b) 로부터 냉각수 (6c) 가 공급되고 있음과 동시에, 배기 펌프 (5b) 가 작동되고 있는 스팀 처리부 (10b) 의 하측에 반송 롤러 (35) 에 의해 피처리 기판 (A) 을 이동방향 (반송방향) 으로 상승하는 각도로 소정 속도로 반송하면서 복수의 증기 분사 노즐 (2) 로부터 증기압 또는 온도 등의 조건이 제어된 증기를 피처리 기판 (A) 의 표면에 분사하여 스팀 처리를 실시하고, 기판 (A) 표면의 부착물을 제거한다. 스팀 처리 시에 상기와 같이 하여 피처리 기판 (A) 을 경사 반송하면 스팀 처리 영역 (14) 보다도 낮은 위치에 유로 (15) 가 형성된다.The cooling water 6c is supplied to the cooling pipe 6a from the cooling water storage tank 6b, and is treated by the conveying roller 35 under the steam treatment section 10b where the exhaust pump 5b is operated. The vapor | steam in which conditions, such as steam pressure or temperature, were controlled from the some steam injection nozzle 2 was conveyed to the surface of the to-be-processed substrate A, conveying the board | substrate A at the predetermined speed by the angle which raises to a moving direction (conveying direction). It sprays and performs a steaming process, and removes the deposit on the surface of the board | substrate (A). At the time of steam processing, when the to-be-processed substrate A is inclinedly conveyed as mentioned above, the flow path 15 is formed in the position lower than the steam process area | region 14. FIG.

스팀 처리 후의 증기 (G2) 는 본체 (1) 의 저면과 피처리 기판 (A) 간에 존재하는데, 스팀 처리 후의 증기 (G2) 의 적어도 일부는 증기 배기 파이프 (5a) 내를 통과하여 스팀 처리의 계외로 배출되고, 또한 스팀 처리 후의 증기 (G2) 중 증기 배기 파이프 (5a) 에 유입 전의 증기 (G2) 의 일부와 증기 배기 파이프 (5a) 에 유입된 증기 (G2) 의 일부는 냉각용 파이프 (6a) 근방에서 냉각되어 증기의 응축액 (L2) 이 된다. 이들 증기의 응축액 (L2) 은 유로 (15) 를 통과하여 피처리 기판 (A) 의 단부에 도달하고 여기에서 하방으로 낙하하여 스팀 처리의 계외로 배출된다.The steam G 2 after steaming is present between the bottom surface of the main body 1 and the substrate A to be processed, and at least a part of the steam G 2 after steaming passes through the steam exhaust pipe 5a to steam the steaming. the system being discharged outside, and a portion of the steam (G 2) flowing into the part and vapor exhaust pipe (5a) of the steam (G 2) prior to flowing into the steam exhaust pipe (5a) of the steam (G 2) after the steam treatment It cools in the vicinity of the cooling pipe 6a, and becomes the condensate L 2 of steam. The condensate L 2 of these vapors passes through the flow path 15 to reach an end portion of the substrate A to be processed and falls downward from the discharged to the outside of the steam treatment system.

본 실시형태의 스팀 처리 장치에서도 피처리 기판 (A) 으로부터 제거된 제거물이 피처리 기판 (A) 에 재부착되는 것을 방지할 수 있고, 나아가 배기량을 삭감할 수 있어 저비용의 스팀 처리 장치를 실현할 수 있다.Also in the steam processing apparatus of this embodiment, it is possible to prevent the removed matter removed from the processing target substrate A from being reattached to the processing target substrate A, further reducing the displacement and realizing a low cost steam processing apparatus. Can be.

또한 제 1 ~ 제 3 실시형태에서는 세정 처리를 실시하기 위한 장치에 본 발명을 적용하는 경우에 대해 설명하였으나, 세정 공정뿐만 아니라 레지스트 박리 공정 등과 같이 피처리물의 부착물을 제거하는 1 종류 이상의 공정을 실시하기 위한 장치에 적용할 수도 있다.Further, in the first to third embodiments, the case where the present invention is applied to the apparatus for performing the cleaning treatment has been described, but not only the cleaning process but also one or more kinds of processes for removing the adherends of the target object, such as a resist stripping process, are performed. It can also be applied to an apparatus for

또한 제 1 ~ 제 3 실시형태에서는 피처리물이 가로세로 수백 ㎜ 정도, 바람직하게는 가로세로 1 ~ 2 m 의 대형 유리기판 등의 피처리 기판인 경우에 대해 설명하였으나, 반도체 웨이퍼와 같이 원형인 것일 수도 있다.In addition, in the first to third embodiments, the case where the object to be processed is a substrate to be processed such as a large glass substrate having a width of several hundreds of mm, preferably 1 to 2 m in width, has been described. It may be.

이상에서 설명한 바와 같이 본 발명에 의하면, 피처리물로부터 제거한 제거물이 피처리물에 재부착되는 것을 방지할 수 있고, 또한 배기량을 삭감할 수 있어 저비용의 스팀 처리 장치를 실현할 수 있다.As described above, according to the present invention, it is possible to prevent the removed matter removed from the object to be reattached to the object, and to reduce the amount of exhaust gas, thereby achieving a low cost steam treatment apparatus.

도 1 은 본 발명의 제 1 실시형태의 스팀 처리 장치를 나타내는 개략 구성도.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The schematic block diagram which shows the steam processing apparatus of 1st Embodiment of this invention.

도 2 는 본 발명의 제 2 실시형태의 스팀 처리 장치를 나타내는 개략 구성도.2 is a schematic configuration diagram showing a steam treatment apparatus according to a second embodiment of the present invention.

도 3 은 본 발명의 제 3 실시형태의 스팀 처리 장치를 나타내는 개략 구성도.3 is a schematic configuration diagram showing a steam treatment apparatus according to a third embodiment of the present invention.

도 4 는 기판의 세정에 증기를 사용하는 타입인 종래의 세정 장치의 개략 구성을 나타낸 도면.4 is a diagram showing a schematic configuration of a conventional cleaning device which is a type of using steam for cleaning a substrate.

*도면의 주요부분에 대한 부호의 설명* * Description of the symbols for the main parts of the drawings *

1 …본체One … main body

1a …노즐 측의 저면1a. Bottom of nozzle side

1b …배출 파이프 측의 저면1b. Bottom of the discharge pipe side

2 …증기 분사 노즐2 … Steam jet nozzle

5 …배기 기구5... Exhaust mechanism

5a …증기 배기 파이프5a... Steam exhaust pipe

5b …배기 펌프5b... Exhaust pump

5c …개구부5c... Opening

6 …냉각 기구 (제 1 및 제 2 냉각 기구) 6. Cooling mechanism (first and second cooling mechanism)

6a, 26a, 36a …냉각용 파이프6a, 26a, 36a... Cooling pipe

6b, 26b, 36b …냉각수 저류조6b, 26b, 36b... Cooling water reservoir

6c, 26c, 36c …냉각수6c, 26c, 36c... cooling water

8 …응축액 배출 기구8 … Condensate Discharge Mechanism

8a …응축액 배출 파이프8a. Condensate Discharge Pipe

8b …배액(排液) 펌프8b. Drainage pump

10, 10a, 10b …스팀 처리부10, 10a, 10b... Steam treatment

14 …스팀 처리 영역14. Steam treatment area

15 …유로15... Euro

25 …반송 롤러(roller:반송 기구) 25…. Conveying roller

26 …제 1 냉각 기구26. 1st cooling mechanism

36 …제 2 냉각 기구36. 2nd cooling mechanism

35 …반송 롤러(경사 반송 기구) 35. Conveying roller (incline conveying mechanism)

A …피처리 기판 (피처리물)A… Substrate to be processed (Treatment)

G1 …증기G 1 . steam

G2 …스팀 처리에 제공된 후의 증기 (스팀 처리 후의 증기)G 2 . Steam after steam treatment (steam after steam treatment)

L2 …증기의 응축액L 2 . Condensate of steam

S …반송방향S… Conveying direction

Claims (7)

스팀 처리를 위한 증기를 피처리물에 향하여 분사하는 증기 분사 노즐과, 이 증기 분사 노즐 근방에 설치되고, 스팀 처리에 제공된 후의 증기의 적어도 일부를 스팀 처리의 계외(系外)로 배출하는 배기 기구와, 스팀 처리에 제공된 후의 증기를 냉각시키는 냉각 기구로 이루어지는 스팀 처리부가 구비되고, 상기 피처리물의 표면과 상기 스팀 처리부의 극간에 상기 냉각 기구에 의해 냉각되어 응축된 상기 증기의 응축액이 통과할 수 있는 유로가 형성된 것을 특징으로 하는 스팀 처리 장치.A steam injection nozzle for injecting steam for steam treatment toward the object to be treated and an exhaust mechanism provided near the steam injection nozzle and discharging at least a portion of the steam provided to the steam treatment to the outside of the steam treatment; And a steam treatment section comprising a cooling mechanism for cooling the steam after being provided to the steam treatment, wherein a condensate of the steam cooled and condensed by the cooling mechanism can pass between the surface of the object and the gap of the steam treatment portion. Steam processing device, characterized in that the flow path is formed. 제 1 항에 있어서, 상기 냉각 기구가 상기 배기 기구 유입 전의 증기를 냉각시키는 제 1 냉각 기구와, 상기 배기 기구를 통과하는 증기를 냉각시키는 제 2 냉각 기구로 이루어지는 것을 특징으로 하는 스팀 처리 장치.The steam processing apparatus according to claim 1, wherein the cooling mechanism comprises a first cooling mechanism for cooling the steam before the exhaust mechanism is introduced, and a second cooling mechanism for cooling the steam passing through the exhaust mechanism. 제 1 항에 있어서, 상기 증기의 응축액을 스팀 처리의 계외로 배출하는 응축액 배출 기구가 상기 유로에 연통된 것을 특징으로 하는 스팀 처리 장치.The steam processing apparatus according to claim 1, wherein a condensate discharging mechanism for discharging the condensate of said steam out of the system of steam processing is in communication with said flow path. 제 1 항에 있어서, 상기 피처리물을 경사진 상태에서 반송시키는 경사 반송 기구가 구비된 것을 특징으로 하는 스팀 처리 장치.The steam treatment apparatus according to claim 1, wherein an inclined conveying mechanism for conveying the object to be processed in an inclined state is provided. 제 2 항에 있어서, 상기 증기의 응축액을 스팀 처리의 계외로 배출하는 응축액 배출 기구가 상기 유로에 연통된 것을 특징으로 하는 스팀 처리 장치.The steam processing apparatus according to claim 2, wherein a condensate discharging mechanism for discharging the condensate of said steam out of the system of steam processing is in communication with said flow path. 제 2 항에 있어서, 상기 피처리물을 경사진 상태에서 반송시키는 경사 반송 기구가 구비된 것을 특징으로 하는 스팀 처리 장치.The steam treatment apparatus according to claim 2, wherein an inclined conveying mechanism for conveying the object to be processed is inclined. 제 2 항에 있어서, 상기 제 1 냉각 기구와 상기 제 2 냉각 기구는 일체화된 것인 것을 특징으로 하는 스팀 처리 장치.The steam treatment apparatus according to claim 2, wherein the first cooling mechanism and the second cooling mechanism are integrated.
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