KR100536136B1 - 표면 관능화된 단분산성 고분자 입자 및 그 제조방법 - Google Patents

표면 관능화된 단분산성 고분자 입자 및 그 제조방법 Download PDF

Info

Publication number
KR100536136B1
KR100536136B1 KR10-2002-0048886A KR20020048886A KR100536136B1 KR 100536136 B1 KR100536136 B1 KR 100536136B1 KR 20020048886 A KR20020048886 A KR 20020048886A KR 100536136 B1 KR100536136 B1 KR 100536136B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
meth
acrylate
dispersion
particles
peroxide
Prior art date
Application number
KR10-2002-0048886A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20040016623A (ko
Inventor
박진규
정필문
Original Assignee
제일모직주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 제일모직주식회사 filed Critical 제일모직주식회사
Priority to KR10-2002-0048886A priority Critical patent/KR100536136B1/ko
Publication of KR20040016623A publication Critical patent/KR20040016623A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100536136B1 publication Critical patent/KR100536136B1/ko

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J3/00Processes of treating or compounding macromolecular substances
    • C08J3/12Powdering or granulating
    • C08J3/16Powdering or granulating by coagulating dispersions
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F2/00Processes of polymerisation
    • C08F2/46Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
    • C08F2/48Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
    • C08F2/50Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light with sensitising agents
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00Use of organic ingredients
    • C08K5/0008Organic ingredients according to more than one of the "one dot" groups of C08K5/01 - C08K5/59
    • C08K5/0025Crosslinking or vulcanising agents; including accelerators
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L2201/00Properties
    • C08L2201/08Stabilised against heat, light or radiation or oxydation

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Dispersion Chemistry (AREA)
  • Graft Or Block Polymers (AREA)
  • Manufacturing Of Micro-Capsules (AREA)

Abstract

본 발명의 표면 관능화된 단분산성 고분자입자의 제조방법은 (A) 1-500.0 ㎛ 크기의 시드 입자를 0.1-0.5 %의 유화제가 녹아 있는 수상에 분산시키는 제1단계; (B) 상기 제1단계와 별도로 표면 관능화에 사용될 단량체, 개시제 및 가교제를 하이드로카본계 용매에 용해한 후, 이를 분산 안정제가 용해되어 있는 수상에서 교반시켜 분산체를 제조하는 제2단계; (C) 상기 제2단계에서 제조된 분산체를 제1단계의 분산체와 혼합, 교반하여 혼합 분산체를 제조하는 제3단계; (D) 상기 혼합 분산체를 중합하여 시드입자 표면에 고분자를 침적시키는 제4단계; 및 (E) 상기 침적 중합된 입자로부터 하이드로카본을 제거하는 제5단계로 이루어진다.

Description

표면 관능화된 단분산성 고분자 입자 및 그 제조방법 {Surface-functionalized Monodisperse Polymer Particle and Method for Preparing the Same}
발명의 분야
본 발명은 화학적 환경에 대하여 매우 안정하면서 균일한 쉘 두께를 갖는 표면 관능화된 단분산성 고분자 입자에 관한 것이다. 보다 구체적으로 본 발명은 분체 형태의 입자 표면에 특수 중합을 행함으로서, 화학적 환경에 대하여 매우 안정할 뿐만 아니라, 균일한 쉘 두께를 갖는 다기능성 단분산성 고분자 입자 및 그 제조방법에 관한 것이다.
발명의 배경
단분산성 고분자 입자는 액정 표시 소자용 스페이서, 내열성 입자, 다공질 입자 등에 응용되고 있으며, 고기능, 고부가가치의 재료로 각광을 받고 있다. 최근에는 한 입자체 내에 여러 기능성을 동시에 부여한 코어-쉘 또는 다층 구조의 단분산성 다기능성 고분자 입자체의 중요성이 새롭게 인식되고 있으며, 이에 대한 연구가 활발히 진행되고 있다.
이러한 입자는 일반적으로 시드 에멀젼(seeded emulsion)중합으로 얻어질 수 있는데, 이는 0.1-1.0 ㎛크기의 고분자 시드 라텍스(seed latex)에 이종(異種)의 단량체를 적하시키면서 중합하는 방법이다. 시드 에멀젼(seeded emulsion)중합은 코어-쉘 또는 다층구조의 캡슐화된 입자를 얻는 방법으로 널리 알려져 있으며, 또한 상기 코어-쉘 또는 다층 구조의 복합 입자 이외에, 중합 변수를 적절히 조절함으로써 다양한 형태의 복합입자를 얻을 수 있다. 이러한 시드 에멀젼 중합에 의해 얻어진 코어-쉘화된, 또는 캡슐화된 입자는 그 중합 특성상, 표면 극성이 매우 높다.
이와는 달리, 다소 큰 크기의 5-100 ㎛ 영역에 위치하는 입자의 코어-쉘화, 또는 다층구조화는 코아세르베이션(coacervation) 등이 적용된다. 이는 쉘(shell)에 도입하고자 하는 고분자를 그 고분자에 대한 양용매에 용해시켜 이를 캡슐화할 입자 분산체와 혼합한 후, 다시 빈용매 처리를 행함으로서, 양용매에 용해되었던 고분자를 입자 분산체 표면에 침적시켜 캡슐을 얻는 방법이다.
그러나, 이러한 방법은 단순한 물리적인 침적 방법으로서, 빈용매 처리 시에 입자의 응집 등이 야기될 수 있으며, 캡슐화된 입자가 일정 화학적 환경에 노출될 경우, 캡슐 부분의 용해에 의한 내부 인시피언트(incipient)의 손실, 용출된 쉘(shell) 고분자가 불순물로 작용을 하는 등의 문제점이 있다.
따라서, 쉘 부분의 고분자 입자에 대하여 가교 반응 등에 의한 화학적 후처리 도입이 필수 불가결하며, 또한 쉘층의 두께가 매우 균일하게 요구되는 이상적인 재료의 설계에 있어서는 그 응용에 한계가 있다.
따라서, 본 발명자는 상기의 문제점을 극복하기 위하여, 분체 형태의 입자 표면에 분산 및 침적 중합을 행함으로서, 화학적 환경에 대하여 매우 안정하여 별도의 화학적 후처리 공정이 불요할 뿐만 아니라 또한 쉘 층의 두께가 매우 균일하여 액정 표시소자용 스페이서(spacer)의 제조, 단분산성 중공입자의 제조 및 진단시약 제조 공정 등에 다양하게 응용될 수 있는 표면 관능화된 단분산 고분자 입자 및 그의 제조방법을 개발하기에 이른 것이다.
본 발명의 목적은 1-500.0 ㎛ 영역의 입자체 표면에 전혀 다른 성질의 고분자 도메인 또는 기능성을 지닌 고분자 층이 도입된 다관능성 단분산성 복합 입자 및 그 제조방법을 제공하기 위한 것이다.
본 발명의 다른 목적은 화학적 환경에 대하여 매우 안정한 표면 관능화된 단분산성 복합 입자 및 그 제조방법을 제공하기 위한 것이다.
본 발명의 또 다른 목적은 균일한 쉘 두께를 갖는 표면 관능화된 단분산성 복합 입자 및 그 제조방법을 제공하기 위한 것이다.
발명의 상기 목적 및 기타의 목적들은 하기 설명되는 본 발명에 의해 모두 달성될 수 있다.
이하 본 발명의 내용을 하기에 상세히 설명한다.
본 발명의 다층 구조의 고분자 복합입자는 (A) 1-500.0 ㎛ 크기의 시드 입자를 0.1-0.5 %의 유화제가 녹아 있는 수상에 분산시키는 제1단계; (B) 상기 제1단계와 별도로 표면 관능화에 사용될 단량체, 개시제 및 가교제를 하이드로카본계 용매에 용해한 후, 이를 분산 안정제가 용해되어 있는 수상에서 교반시켜 분산체를 제조하는 제2단계; (C) 상기 제2단계에서 제조된 분산체를 제1단계의 분산체와 혼합, 교반하여 혼합 분산체를 제조하는 제3단계; (D) 상기 혼합 분산체를 중합하여 시드입자 표면에 고분자를 침적시키는 제4단계; 및 (E) 상기 침적 중합된 입자로부터 하이드로카본을 제거하는 제5단계로 이루어진다. 이하, 첨부도면을 참고로 하여 본 발명의 내용을 하기에 상세히 설명한다.
(A) 제1단계: 시드 입자의 분산
제1단계에서는 캡슐화 하고자 하는 시드 입자(1)를 0.1-0.5 %의 유화제가 녹아 있는 수상에 분산시킨다. 분산은 초음파를 이용하며, 시드 입자(1)는 분산에 의해 입자 분산체(S-1)의 상태가 된다.
본 발명에서는 시드 입자(1)로 1-500 ㎛ 영역의 어떠한 입자도 가능하다. 구체적으로, 단분산성의 고분자 입자, 가교 고분자 입자, 실리카 입자, 기타 무기 분체 등이 포함되며, 반드시 이에 한정되는 것은 아니다.
본 발명에서 입자 분산체(S-1)의 제조를 위하여 사용되는 유화제로는 음이온성 유화제가 바람직하다. 구체적으로 알킬, 아릴, 알카릴 설페이트, 설포네이트, 포스페이트, 혹은 석시네이트 등과 이들의 에톡시 유도체들이 포함된다. 본 발명에서는 폴리옥시에틸렌 알킬 에테르, 폴리옥시에틸렌 알킬 페놀 에테르 또는 폴리에틸렌 글리콜 등의 비이온성 유화제를 상기 음이온성 유화제와 혼합하여 사용될 수 있으며, 상기 열거된 비이온성 유화제 이외 에 어떤 안정화제라도 사용 가능하다. 상기 유화제는 중합 중 분산 안정제와 함께 입자의 침적 및 응집을 억제시키는 작용을 한다.
본 발명에서 유화제는 전체 분산체 조성에 대하여 0.1-0.5 중량%로 사용하는 것이 바람직하다.
(B) 제2단계: 표면 관능화에 사용되는 분산체(2)의 제조
상기 제1단계와 별도로 캡슐(또는 쉘)에 도입하고자 하는 고분자의 단량체, 개시제 및 가교제를 하이드로카본계 용매에 용해한 후, 이를 분산 안정제가 용해되어 있는 수상에서 교반시켜 분산체(2)를 제조한다. 이때 교반 조건은 3,000-5,000 rpm의 기계식 교반이 바람직하다.
본 발명에서 상기 단량체로는 라디칼 중합이 가능한 단량체로서, 구체적으로는 스티렌, p-혹은 m-메틸스티렌, p-혹은 m-에틸스티렌, p-혹은 m-클로로스티렌, p-혹은 m-클로로메틸스티렌, 스티렌설포닉 에시드, p-혹은 m-t-부톡시스티렌, 메틸 (메타)아크릴레이트, 에틸 (메타)아크릴레이트, 프로필 (메타)아크릴레이트, n-부틸 (메타)아크릴레이트, 이소부틸 (메타)아크릴레이트, t-부틸 (메타)아크릴레이트, 2-에틸헥실 (메타)아크릴레이트, 헥실 (메타)아크릴레이트, n-옥틸 (메타)아크릴레이트, 라우릴 (메타)아크릴레이트, 스테아릴(메타)아크릴레이트, 2-히드록시에틸 (메타)아크릴레이트, 폴리에틸렌 글리콜 (메타)아크릴레이트, 메톡시폴리에틸렌 글리콜 (메타)아크릴레이트, 글리시딜 (메타)아크릴레이트, 디메틸아미노에틸 (메타)아크릴레이트, 디에틸아미노에틸 (메타)아크릴레이트, 비닐 아세테이트, 비닐 프로피오네이트, 비닐 부티레이트, 비닐 에테르, 알릴 부틸 에테르, 알릴 글리시틸 에테르, (메타)아크릴 산, 말레 산과 같은 불포화 카복시 산, 알킬(메타) 아크릴아마이드 및 (메타)아크릴로니트릴 등을 들 수 있다.
본 발명에서는 침적층의 화학적 안정화를 위하여 단량체의 도입시, 가교제를 함께 도입한다. 본 발명의 가교화에 적용될 수 있는 가교제는 라디칼 중합이 가능한 것으로서 구체적으로는, 디비닐벤젠, 1,4-디비닐옥시부탄, 디비닐술폰, 디알릴 프탈레이트, 디알릴아크릴아미드, 트리알릴 (이소)시아누레이트, 트리알리 트리멜리테이트 등의 알릴 화합물과, (폴리)에틸렌 글리콜 디(메타)아크릴레이트, (폴리)프로필렌 글리콜 디(메타)아크릴레이트, 펜타에릴트리톨 테트라(메타)아크릴레이트, 펜타에릴트리톨 트리(메타)아크릴레이트, 펜타에릴트리톨 디(데타)아크릴레이트, 트리메틸올프로판 트리(메타)아크릴레이트, 디펜타에릴트리톨 헥사(메타)아크릴레이트, 이펜타에릴트리톨 펜타(메타)아크릴레이트, 글리세롤 트리(메타)아크릴레이트 등의 (폴리)아킬렌 글리콜 디(메타)아크릴레이트 등을 포함한다.
본 발명에서 캡슐화에 이용되는 용매로는 기본적으로 n-헥산, 사이클로헥산, n-헵탄, iso-옥탄 등의 하이드로카본계가 바람직하며, 이에 한정되는 것은 아니다.
상기 개시제는 기존의 유용성 개시제로서, 구체적으로는 벤조일 퍼록시드, 라우릴 퍼록시드, o-클로로벤조일 퍼록시드, o-메톡시벤조일 퍼록시드, t-부틸퍼록시-2-에틸헥사노에이트, t-부틸 퍼록시이소부티레이트, 1,1,3-3- 테트라메틸부틸퍼록시 -2- 에틸헥사노에이트, 디옥타노일 퍼록시드, 디데카노일 퍼록시드 등과 같은 퍼록시드 계와 2,2'-아조비스이소부티로니트릴, 2,2'-아조비스(2-메틸부티로니트릴), 2,2'-아조비스(2,4-디메틸발레로니트릴) 등과 같은 아조 화합물을 포함한다.
본 발명에서 단량체와 하이드로카본 혼합물의 분산체(2)를 위해 사용되는 분산 안정제는 알콜상 또는 수상, 혹은 이 두 용매의 혼합상에 녹을 수 있는 고분자로서, 구체적으로는 젤라틴, 스타치, 히드록시에틸셀룰로오즈, 카복시메틸셀룰-로오즈, 폴리비닐피롤리돈, 폴리비닐 알킬 에테르, 폴리비닐 알코올, 폴리디메틸실록산/폴리스티렌 블록공중합체 등이 포함된다. 상기 분산 안정제는를 1-10 중량% 의 범위로 사용하는 것이 입자가 중력에 의한 침적이나 입자간 응집을 억제할 수 있다.
(C) 제3단계: 혼합 분산체의 제조
상기 제2단계에서 제조된 분산체(2)를 제1단계에서 제조된 분산체(S-1)과 혼합, 교반하여 혼합 분산체(S-2)를 제조한다.
분산체(2)와 분산체(S-1)를 혼합한 후, 24시간 동안 교반하여 하이드로카본에 의해 포집된 입자의 분산체를 얻게 되며, 준안정상태에 이르게 된다.
(D) 제4단계: 혼합 분산체의 중합
상기 혼합 분산체에 온도를 가하여 중합함으로써, 시드입자(1)에 고분자(3)을 침적시킨다. 이렇게 하면, 하이드로카본 내에 용해되어 있던 단량체의 중합이 진행됨과 동시에 시드입자(1)의 표면에 침적층이 형성된다.
침적층 형성에 대해 좀 더 구체적으로 설명하면, 도입되는 하이드로카본은 생성되는 고분자에 대해 용해도가 매우 낮기 때문에 일정 중합도 이상에서는 빠르게 핵을 형성하게 된다. 이렇게 빠르게 형성된 핵들은 스스로의 안정화 기재가 없기 때문에 응집현상이 일어나게 되는데, 이 응집이 바로 하이드로카본 내에 포집된 입자 표면에서 일어나게 되는 것이다.
성장 반응 또한 매우 빠르게 진행되며, 이는 침적 중합에서 일반적으로 나타나는 현상중의 하나인 겔효과(gel-effect)이다. 기본적으로, 이러한 침적층의 화학적 안정화를 위하여 단량체의 선택시, 일정 함량의 가교제를 도입하는 것이다.
(E) 제5단계: 하이드로카본 용매의 제거
제4단계에서 제조된 입자로부터 하이드로카본 용매를 제거한다. 용매 제거 방법은 증발 건조(evaporation)등에 의한 방법이 사용되며, 기타 당업자에게 알려진 통상의 방법이 사용될 수 있다. 침적 중합된 입자로부터 용매인 하이드로 카본을 제거함으로써, 최종적으로 다층구조의 복합입자(S-4)를 얻을 수 있다.
상기의 방법으로 제조된 다층 구조의 복합입자는 효과적인 쉘 두께의 조절 및 특수 기능성 단량체의 도입에 의한 표면 선택적 기능화 등의 장점에 의해 액정 표시 소자용 스페이서로 유용하게 사용될 수 있다.
본 발명에서는 상기 코아-쉘 혹은 다층 구조의 형태 외에도 시드 입자를 제거하여 중공 형태의 입자도 제조할 수 있다. 상기 단분산 중공입자는 광학굴절 특성 등을 이용한 디스플레이 핵심 소재, 의료용 진단 시약 및 토너 등에 직, 간접적으로 응용될 수 있다.
본 발명은 하기의 실시예에 의하여 보다 구체화될 것이며, 하기의 실시예는 본 발명의 구체적인 예시에 불과하고 본 발명의 보호범위를 한정하거나 제한하고자 하는 것이 아니다.
실시예 1-2: 다층구조의 복합입자 제조
실시예 1
5.0 ㎛의 단분산 폴리디비닐벤젠 입자 10.0 g을 0.25 % SLS(염화 라우릴 설페이트) 수용액 300.0 g에 초음파를 30 분간 조사하여 유리 반응기에서 재분산시켰다. 이어서, 메틸메타크릴레이트 5.0 g, 글리시딜메타크릴레이트 4.0 g, 헥산디올디메타크릴레이트 1.0 g, 아조비스아이소부티로나이트릴(AIBN) 0.1 g 을 n-헥산 50.0 g 에 완전히 용해한 후, 이 혼합물을 10 %의 폴리비닐피롤리돈 수용액 200 g과 약 4,000 rpm으로 교반하여 분산시켰다. 상기 분산체를 상기 입자 분산체와 300 rpm 으로 24 시간동안 교반한 후, 62.5 ℃로 승온하여 8시간 동안 중합하였다. 중합 반응 후, 다시 75℃에서 2시간 동안 가열 후, 입자를 얻었다. 캡슐화된 입자는 원심분리기를 이용하여 미반응물과 분산 안정제를 반복하여 제거한 후, 진공 오븐에서 24 시간 건조시켜 분말 형태로 얻었다.
실시예 2
동일한 폴리디비닐벤젠 입자를 30.0 g 사용한 것을 제외하고는 상기 실시예 1과 동일하게 수행하였다.
실시예 3: 캡슐화 공정을 이용한 미크론 크기의 단분산 중공구조의 입자 제조
5.0 ㎛의 단분산 폴리스티렌 입자 10.0 g을 상기 실시예 1과 동일하게 재분산하였다. 이어서, 스티렌 5.0 g, 디비닐벤젠 5.0 g을 아조비스아이소뷰티로나이트릴(AIBN) 0.1 g 와 함께 n-헥산 50.0 g 에 완전 용해 후, 이 혼합물을 10%의 폴리비닐피롤리돈 수용액 200 g과 약 4,000 rpm으로 교반하여 분산시켰다. 상기 분산체를 상기 폴리스티렌 입자 분산체와 300 rpm 으로 24시간동안 교반한 후, 62.5℃로 승온하여 8시간 동안 중합하였다. 중합 반응 후, 다시 75℃에서 2시간 동안 가열 후, 입자를 얻었다. 캡슐화된 입자는 상기 실시예 1과 동일한 후처리 방법을 통하여 얻었으며, 이 입자를 톨루엔을 이용, 24시간동안 Soxhelt 하여 선형 폴리스티렌 입자를 제거, 중공 입자를 얻었다.
상기 실시예 1-3에서 제조된 입자의 크기 및 모폴러지는 광학 현미경(Optical Microscope)과 주사 광학 현미경 (Scanning Electron Microscope)의 사진 결과를 이용하여 측정하였으며, 쉘 부분의 두께는 투과전자현미경을 이용하여 측정하였다. 측정 결과는 표 1에 나타내었다.
실시예 평균입경(㎛) 입경분산지수 쉘 두께(㎛) 구조 void fraction
1 6.25 1.010 0.425 다층 -
2 5.49 1.002 0.145 다층 -
3 6.07 1.02 0.54 중공 44.1 %
상기의 결과로부터, 중합 변수의 조절을 통하여, 쉘 두께 조절이 매우 용이함을 알 수 있었다.
본 발명은 캡슐화하고자 하는 시드 입자 분산체에 단량체, 개시제, 가교제 및 하이드로카본 혼합물의 분산체를 혼합하고 이를 분산 및 침적 중합함으로서, 화학적 환경에 대하여 매우 안정하여 별도의 화학적 후처리 공정이 불요할 뿐만 아니라 또한 쉘 층의 두께가 매우 균일하여 액정 표시소자용 spacer의 제조, 단분산성 중공입자의 제조 및 진단시약 제조 공정 등에 다양하게 응용될 수 있는 표면관능화된 단분산 고분자 입자 및 그의 제조방법을 제공하는 발명의 효과를 갖는다.
본 발명의 단순한 변형 내지 변경은 이 분야의 통상의 지식을 가진 자에 의하여 용이하게 실시될 수 있으며, 이러한 변형이나 변경은 모두 본 발명의 영역에 포함되는 것으로 볼 수 있다.
제1도는 본 발명의 표면 관능화된 단분산성 고분자 입자가 형성되는 과정을 나타내는 개략도이다.

Claims (7)

  1. (A) 1-500.0 ㎛ 크기의 시드 입자를 0.1-0.5 중량%의 유화제가 녹아 있는 수상에 분산시키는 제1단계;
    (B) 상기 제1단계와 별도로 표면 관능화에 사용될 단량체, 개시제 및 가교제를 하이드로카본계 용매에 용해한 후, 이를 분산 안정제가 용해되어 있는 수상에서 교반시켜 분산체를 제조하는 제2단계;
    (C) 상기 제2단계에서 제조된 분산체를 제1단계의 분산체와 혼합, 교반하여 혼합 분산체를 제조하는 제3단계;
    (D) 상기 혼합 분산체를 중합하여 시드입자 표면에 고분자를 침적시키는 제4단계; 및
    (E) 상기 침적 중합된 입자로부터 하이드로카본을 제거하는 제5단계;
    로 이루어지는 것을 특징으로 하는 표면 관능화된 단분산성 고분자입자의 제조방법.
  2. 제1항에 있어서, 상기 단량체는 스티렌, p-혹은 m-메틸스티렌, p-혹은 m-에틸스티렌, p-혹은 m-클로로스티렌, p-혹은 m-클로로메틸스티렌, 스티렌설포닉 에시드, p-혹은 m-t-부톡시스티렌, 메틸 (메타)아크릴레이트, 에틸 (메타)아크릴레이트, 프로필 (메타)아크릴레이트, n-부틸 (메타)아크릴레이트, 이소부틸 (메타)아크릴레이트, t-부틸 (메타)아크릴레이트, 2-에틸헥실 (메타)아크릴레이트, 헥실 (메타)아크릴레이트, n-옥틸 (메타)아크릴레이트, 라우릴 (메타)아크릴레이트, 스테아릴(메타)아크릴레이트, 2-히드록시에틸 (메타)아크릴레이트, 폴리에틸렌 글리콜 (메타)아크릴레이트, 메톡시폴리에틸렌 글리콜 (메타)아크릴레이트, 글리시딜 (메타)아크릴레이트, 디메틸아미노에틸 (메타)아크릴레이트, 디에틸아미노에틸 (메타)아크릴레이트, 비닐 아세테이트, 비닐 프로피오네이트, 비닐 부티레이트, 비닐 에테르, 알릴 부틸 에테르, 알릴 글리시틸 에테르, (메타)아크릴 산, 말레 산, 알킬(메타) 아크릴아마이드 및 (메타)아크릴로니트릴로 이루어진 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 표면 관능화된 단분산성 고분자입자의 제조방법.
  3. 제1항에 있어서, 상기 가교제는 디비닐벤젠, 1,4-디비닐옥시부탄, 디비닐술폰, 디알릴 프탈레이트, 디알릴아크릴아미드, 트리알릴 (이소)시아누레이트, 트리알리 트리멜리테이트의 알릴 화합물과, (폴리)에틸렌 글리콜 디(메타)아크릴레이트, (폴리)프로필렌 글리콜 디(메타)아크릴레이트, 펜타에릴트리톨 테트라(메타)아크릴레이트, 펜타에릴트리톨 트리(메타)아크릴레이트, 펜타에릴트리톨 디(데타)아크릴레이트, 트리메틸올프로판 트리(메타)아크릴레이트, 디펜타에릴트리톨 헥사(메타)아크릴레이트, 이펜타에릴트리톨 펜타(메타)아크릴레이트 및 글리세롤 트리(메타)아크릴레이트의 (폴리)아킬렌 글리콜 디(메타)아크릴레이트로 이루어진 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 표면 관능화된 단분산성 고분자입자의 제조방법.
  4. 제1항에 있어서, 상기 개시제는 벤조일 퍼록시드, 라우릴 퍼록시드, o-클로로벤조일 퍼록시드, o-메톡시벤조일 퍼록시드, t-부틸퍼록시-2-에틸헥사노에이트, t-부틸 퍼록시이소부티레이트, 1,1,3-3-테트라메틸부틸퍼록시-2-에틸헥사노에이트, 디옥타노일 퍼록시드, 디데카노일 퍼록시드의 퍼록시드 계 또는 2,2'-아조비스이오부티로니트릴, 2,2'-아조비스(2-메틸부티로니트릴), 2,2'-아조비스(2.4-디메틸발레로니트릴)의 아조 화합물인 것을 특징으로 하는 표면 관능화된 단분산성 고분자입자의 제조방법.
  5. 제1항에 있어서, 상기 분산 안정제는 알콜상 또는 수상, 혹은 이 두 용매의 혼합상에 녹을 수 있는 고분자로서, 젤라틴, 스타치, 히드록시에틸셀룰로오즈, 카복시메틸셀룰-로오즈, 폴리비닐피롤리돈, 폴리비닐 알킬 에테르, 폴리비닐 알코올 및 폴리디메틸실록산/폴리스티렌 블록공중합체로 이루어진 군으로부터 선택되며, 1-10 중량% 의 범위로 사용하는 것을 특징으로 하는 표면 관능화된 단분산성 고분자입자의 제조방법.
  6. 제1항에 있어서, 상기 하이드로카본계 용매는 n-헥산, 사이클로헥산, n-헵탄 및 iso-옥탄으로 이루어진 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 표면 관능화된 단분산성 고분자입자의 제조방법.
  7. 제1항 내지 제6항의 어느 한 항의 방법에 의해 제조되는 표면 관능화된 단분산성 고분자입자.
KR10-2002-0048886A 2002-08-19 2002-08-19 표면 관능화된 단분산성 고분자 입자 및 그 제조방법 KR100536136B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR10-2002-0048886A KR100536136B1 (ko) 2002-08-19 2002-08-19 표면 관능화된 단분산성 고분자 입자 및 그 제조방법

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR10-2002-0048886A KR100536136B1 (ko) 2002-08-19 2002-08-19 표면 관능화된 단분산성 고분자 입자 및 그 제조방법

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20040016623A KR20040016623A (ko) 2004-02-25
KR100536136B1 true KR100536136B1 (ko) 2005-12-12

Family

ID=37322556

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR10-2002-0048886A KR100536136B1 (ko) 2002-08-19 2002-08-19 표면 관능화된 단분산성 고분자 입자 및 그 제조방법

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR100536136B1 (ko)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100837515B1 (ko) * 2005-08-29 2008-06-12 주식회사 엘지화학 음이온 분산 중합법을 이용한 단분산 공중합체 입자의제조방법
KR101952696B1 (ko) * 2017-04-06 2019-02-27 세종대학교산학협력단 광결정성 입자 분산액 및 이의 제조 방법, 및 이를 포함하는 광결정 표시 장치

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61215604A (ja) * 1985-03-22 1986-09-25 Japan Synthetic Rubber Co Ltd ポリマ−粒子の製造方法
US5216096A (en) * 1991-09-24 1993-06-01 Japan Synthetic Rubber Co., Ltd. Process for the preparation of cross-linked polymer particles
JPH07238105A (ja) * 1994-08-19 1995-09-12 Japan Synthetic Rubber Co Ltd 高架橋ポリマー粒子およびその製造方法
JPH08120005A (ja) * 1994-10-21 1996-05-14 Soken Chem & Eng Co Ltd ポリマー粒子の製造方法

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61215604A (ja) * 1985-03-22 1986-09-25 Japan Synthetic Rubber Co Ltd ポリマ−粒子の製造方法
US5216096A (en) * 1991-09-24 1993-06-01 Japan Synthetic Rubber Co., Ltd. Process for the preparation of cross-linked polymer particles
JPH07238105A (ja) * 1994-08-19 1995-09-12 Japan Synthetic Rubber Co Ltd 高架橋ポリマー粒子およびその製造方法
JPH08120005A (ja) * 1994-10-21 1996-05-14 Soken Chem & Eng Co Ltd ポリマー粒子の製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
KR20040016623A (ko) 2004-02-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0190886A2 (en) Process for preparing large-sized polymer particles
CN102718910B (zh) 交联聚苯乙烯微球的制备方法
JPH0326724A (ja) 中空重合体粒子を含有するラテックス及びその製造方法
JP2004109178A (ja) コロイド結晶体及びその製造方法
EP0695769A1 (en) Methods of preparing hollow polymeric particles
KR100536136B1 (ko) 표면 관능화된 단분산성 고분자 입자 및 그 제조방법
JPS61215602A (ja) 重合体粒子の製造方法
JP2004348000A (ja) 光拡散シート
JPS61215603A (ja) 重合体粒子の製造方法
JP2000191818A (ja) 多孔質微粒子の製造方法
JPS61215604A (ja) ポリマ−粒子の製造方法
KR101190990B1 (ko) 구형 수지 미립자, 구형 수지 미립자의 제조 방법, 및 액정표시 소자용 스페이서
KR20040067374A (ko) 화학적 침적법에 의한 고분자/금속나노입자 복합 구형체의제조
KR100729173B1 (ko) 단분산 씨드 입자를 이용한 단분산성 가교 폴리머 비드의제조 방법
JPS62121701A (ja) 重合体粒子の製造方法
JP3298215B2 (ja) 屈折率分布を有する重合体粒子の製造方法
JPS61190504A (ja) ポリマ−粒子の製造方法
KR100511194B1 (ko) 캡슐화 또는 표면 관능화된 단분산성 고분자 미립자 및 그제조방법
KR100556628B1 (ko) 저분자량의 단분산성 고분자 미립자 및 그 제조방법
JP3130437B2 (ja) 大きさの揃った重合体粒子の製造方法
KR100506862B1 (ko) 캡슐화 또는 표면 관능화된 단분산성 고분자 미립자 및 그제조방법
JP6308033B2 (ja) 中空粒子およびその製造方法
KR100658455B1 (ko) 단분산 가교 고분자 입자 및 그의 제조방법
KR101426532B1 (ko) 고분자 공극 입자의 제조방법
KR101056188B1 (ko) 단분산 하이브리드 입자 및 이의 제조방법

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20121114

Year of fee payment: 8

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20130913

Year of fee payment: 9

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20140917

Year of fee payment: 10

LAPS Lapse due to unpaid annual fee